JP2012096920A - ガラス基板欠陥検査装置及びガラス基板欠陥検査方法並びにガラス基板欠陥検査システム - Google Patents

Abstract

【課題】分ガラス基板の全面亘って平坦性を確保し、精度よく検査できるガラス基板欠陥検査装置またはガラス基板欠陥検査方法あるいはガラス基板欠陥検査システムを提供する。
【解決手段】ガラス基板をエアで浮上力を発生させて浮上させ、前記浮上力のない検査領域に搬送し、前記検査領域において前記ガラス基板を撮像し検査するガラス基板欠陥検査装置またはガラス基板欠陥検査方法において、前記検査領域の周囲において、前記浮上力を発生する前記ガラス基板面と反対側の面に前記ガラス基板をエアで挟み込む挟込力を発生させる。
【選択図】図４

Description

本発明は、ガラス基板欠陥検査装置及びガラス基板欠陥検査方法並びにガラス基板欠陥検査システムに係わり、精度よく検査できるガラス基板欠陥検査装置及びガラス基板欠陥検査方法並びにガラス基板欠陥検査システムに関する。

液晶表示パネルや太陽電池パネルの製造は、フォトリソグラフィ技術等によりガラス基板上にパターンを形成して行なわれる。その際に、ガラス基板の表面の傷や異物等の欠陥が存在すると、パターンが良好に形成されず、不良の原因となる。このため、従来から、欠陥検査装置を用いてガラス基板の表面の傷や異物等の欠陥検査が行なわれている。

欠陥検査を実施するためには、ガラス基板を欠陥検査装置に搬送し検査する必要がある。従来は、ロボットやローラコンベアなどが用いられているが、搬送の際にロボットの吸着パット、ローラコンベアのローラに使用されている材料がガラス基板に付着、あるいは割れたガラス破片の付着により傷や異物の欠陥の要因になる。このために、ガラス基板を非接触にて搬送する技術として、ガラス基板の端部を吸着保持し、エア浮上させてガラス基板を搬送する構成が、特許文献１に記載されている。また、ガラス基板上の傷または異物の検査方法が特許文献２に記載されている。

特開２００６−１８８３１３号公報 特開平９−２５７６４２号公報

前述したエア浮上でガラス基板を搬送する方式では、搬送するときの状態によりガラス基板の端部の跳ね上がり(上昇)や垂れ下がり(下降)が発生し、ガラス基板の平坦性が失われ、全面に亘って検査を精度よくできないという課題がある。この課題は、昨今のガラス基板の大型化と薄型化に伴い、基板製作時の残存内部応力による歪の影響が大きくなり、さらに顕著になってきている。

特許文献１には、ガラス基板を搬送し、停止して処理することが開示しているが、搬送中に検査するときの上記課題についての認識はなく、まして課題に対する解決策についての開示もない。また、特許文献２についても、光学式の検査装置を開示されているが、搬送中に検査することの上記課題についての認識もなく、解決策に対する開示もない。

本発明は、上記の課題を鑑みてなされたものであり、ガラス基板の全面亘って平坦性を確保し、基板全面を一方向送りにより、精度よく検査できるガラス基板欠陥検査装置またはガラス基板欠陥検査方法あるいはガラス基板欠陥検査システムを提供することにある。

本発明は、上記の目的を達成するために、少なくとも下記の特徴を有する。
本発明は、ガラス基板をエアで浮上力を発生させて浮上させ、前記浮上力のない検査領域に搬送し、前記検査領域において前記ガラス基板を撮像し検査するガラス基板欠陥検査装置またはガラス基板欠陥検査方法において、前記検査領域の周囲において、前記浮上力を発生する前記ガラス基板面と反対側の面に前記ガラス基板をエアで挟み込む挟込力を発生させることを第１の特徴とする。

また、本発明は、前記浮上力を発生させるエア浮上手段は、前記周囲において前記エアを噴出しガラス基板を浮上させる噴出口と、エアを吸引しガラス基板を前記ステージ側に引込む吸引口とを交互にマトリックス状に配置していることを第２の特徴とする。
さらに、本発明は、前記挟込力を発生させる前記エア挟込手段は、前記エアを噴出しガラス基板Ｐを前記ステージ側に押付ける噴出口と、前記エアを吸引し前記ガラス基板を前記ステージ側から引き離す吸引口とを交互にマトリックス状に配置していることを第３の特徴とする。

さらに、本発明は、前記エア浮上手段の噴出口と吸引口は、前記エア浮上手段の噴出口及び吸引口と同じ位置にならないようにずらして配置されていることを第４の特徴とする。
また、本発明は、前記エア浮上手段と前記エア挟込手段は前記検査をするための検査開口部を有し、前記開口部の形状は、丸形又は楕円或は菱形または角形等の形状を有していることを第５の特徴とする。

さらに、本発明は、前記挟込力を発生させる前記エア挟込手段は、前記検査をするための検査開口部と、前記ガラス基板の前記浮上手段の反対側面において、前記開口部に向ってあるいは前記開口部から、前記ガラス基板に平行なエアの流れを形成する手段とを有することを第６の特徴とする。
また、本発明は、前記ガラス基板の傷、汚れ、異物、前記ガラス基板表面のクレータ形状及び前記ガラス基板内部の気泡のうち少なくとも一つを検査することを第７の特徴とする。

さらに、本発明は、前記検査する検査部を前記搬送する方向にずらして複数設けたことを第８の特徴とする。
また、本発明は、第１乃至第８の特徴のいずれかを有する複数のガラス基板欠陥検査装置と、前記複数のガラス基板欠陥検査装置間を前記ガラス基板を搬送する搬送装置とを有し、前記複数のガラス基板欠陥検査装置のうち少なくとも２台は、前記ガラスにおいて前記搬送する方向にずれた前記検査領域を検査することを特徴とするガラス基板欠陥検査システムであることを第９の特徴とする。

本発明によれば、ガラス基板の全面亘って平坦性を確保し、基板全面を一方向送りにより、精度よく検査できるガラス基板欠陥検査装置またはガラス基板欠陥検査方法あるいはガラス基板欠陥検査システムを提供できる。

本発明の第１の実施形態を示すブロック図である。 本発明の第１の実施形態であるガラス基板欠陥装置の搬送部を上部から見た概略構成を示した図である。 図１に示す検査部を含めた図２におけるＡ−Ａ断面図である。 図４(ａ)は精密浮上ステージの構成を、図４(ｂ)は高浮上部ステージ構成をさらに詳細に示した図である。 上部精密浮上ステージの第２の実施例を示す図である。 １台のガラス基板欠陥装置に検査部を複数個所設けた実施例を示す図である。 本発明の第２の実施形態を示す図である。 従来のガラス基板欠陥装置の構成と課題を示す図である。

以下、図面に基づいて本発明のガラス基板欠陥装置の実施形態を説明する。
図１は、本発明の第１の実施形態を示すブロック図である。本発明の第１の実施形態は１台のガラス基板検査装置１００からなる。ガラス基板検査装置１００は、大別して、ガラス基板Ｐを検査する検査部１０と、エア浮上ステージ２０とガラス基板Ｐを保持し浮かしながらエア浮上ステージ２０上を搬送する駆動部３０とを具備する搬送部４０と、搬送部４０に圧搾エアを供給する圧搾エア供給源５１と空気を吸気する真空供給源５２とを具備するエア供給吸気部５０と、各部の状態を監視し、各部を制御する全体制御部６０とを有する。

図２は、本発明の第１の実施形態の搬送部４０を上部から見た概略構成を示した図である。図３は、図１に示す検査部１０を含めた図２におけるＡ−Ａ断面図である。
図３に示すように、検査部１０はガラス基板Ｐの傷や汚れを検査する第１検査部１０Ａと、ガラス基板Ｐの異物や汚れ、ガラス基板表面のクレータ形状、ガラス基板内部の気泡を検査する第２検査部１０ＢとをそれぞれＹ方向に３組有し、Ｙ方向の検査をこの３組で分担して検査する。基板サイズによって、３組より以下またはそれ以上でもよい。

第１検査部１０Ａは、光源ユニット１６Ａと撮像ユニット１１Ａとに分かれる。光源ユニット１６Ａは、１０μｍ程度の傷を検出するために、線状光源を形成できるレーザ光源１７Ａと、レーザ光を斜方照射するためのミラー１８Ａと、安定した線状光を形成するシリンドリカルレンズ１９Ａとを有する。一方、撮像ユニット１１Ａは、ガラス基板Ｐの表面または裏面から散乱光を受光する受光レンズ１３Ａと、受光レンズ１３からの散乱光をＰ偏光光、Ｓ偏光光に分離する偏光ビームスプリッタ１４Ａまたは無偏光ハーフミラーと、ガラス基板Ｐの搬送に伴いガラス基板の所定幅を撮像するラインＣＣＤ１２Ａ１、１２Ａ２とを有する。

一方、第２検査部１０Ｂは撮像手段１２Ｂによる撮像結果の輝度分布又は波高値(パターン)によりクレータ形状、気泡、異物または汚れを検出する。そのために、光源１７Ｂとして広範囲に照射できるＬＥＤや蛍光灯を用い、ガラス基板Ｐから透過光を検出する。撮像手段１２Ｂは、ガラス基板Ｐに移動に伴い所定幅を効率よく撮像するために、第１検査部１０Ａと同様にラインＣＣＤ１２Ｂを用いる。

上記の例では、第１検査部１０Ａと第２検査部１０Ｂを搬送(Ｘ)方向に異なる位置に設けたが、第１の検査部と第２検査部をＹ方向に隣接して設け、さらに第１検査部１０Ａと第２検査部１０ＢとをＸ方向に交互に設けてもよい。

図２に示すように、駆動部３０は、エア浮上ステージ２０の搬送(Ｘ)方向に沿って設けられたリニアガイド３１と、リニアガイド３１に沿って走行するリニアアクチュエータ３２と、リニアアクチュエータ３２に固定されガラス基板Ｐを保持するグリッパ３３と、リニアアクチュエータ３２のリニアガイド３１上(搬送(Ｘ)方向)の位置を検出するリニアスケール３４とを有する。
図１に示す全体制御部６０は、リニアスケール３４の位置情報を読み込み、搬送速度やグリッパ３３を制御する。

次に、本実施形態の特徴であるエア浮上ステージ２０の構成及び動作を説明する。エア浮上ステージ２０は、図２に示すように、搬送(Ｘ)方向と垂直なＹ方向に複数配列された長方形の分割ステージ２１を有する。分割ステージ２１は、検査領域Ｒ１、Ｒ２(図３も参照)を挟んで両側に設けられた精密浮上ステージ部２１Ｓと、精密浮上ステージ部２１Ｓの両側に設けられた高浮上部ステージ２１Ｈとを有する。なお、検査領域Ｒ１、Ｒの幅は分割ステージ２１の幅より小さいものとする。

高浮上部ステージ２１Ｈは、図４(ｂ)に示すように、ガラス基板Ｐを浮上させる圧搾エアを噴出す噴出口ＰＡのみを有し、ガラス基板Ｐを安定して浮上し搬送速度を低下させる負荷とならないようにしている。なお、分割ステージ２１は搬送(Ｘ)方向に対して長さを有するときは、所定の長さで分割されているものとする。

一方、精密浮上ステージ部２１Ｓは、図３に示すように、エア浮上ステージ２０上に設けられた下部精密浮上ステージ２１Ｓｄと、搬送されてきたガラス基板Ｐを挟んで下部精密浮上ステージ２１Ｓｄの上部に設けられた上部精密浮上ステージ２１Ｓｕとを有する。

図４(ａ)は精密浮上ステージ２１Ｓの構成を、図４(ｂ)は高浮上部ステージ２１Ｈの構成をさらに詳細に示した図である。下部精密浮上ステージ２１Ｓｄは、検査領域Ｒ１、Ｒ２に対応した検査開口部Ｋ１ｄ、Ｋ２ｄを有し、その検査開口部Ｋ１ｄ、Ｋ２ｄ以外の領域において、圧搾エアを噴出しガラス基板Ｐを浮上させる噴出口ＰＡと、エアを吸引しガラス基板Ｐを浮上ステージ２０側に引込む吸引口ＰＶとを交互にマトリックス状に配置している。下部精密浮上ステージ２１Ｓｄは全体としてガラス基板Ｐを浮上ステージ２０から浮上させる浮上力を発生させる。

一方、上部精密浮上ステージ２１Ｓｕは、検査領域Ｒ１、Ｒ２に対応した検査開口部Ｋ１ｕ、Ｋ２ｕを有し、その検査開口部Ｋ１ｕ、Ｋｕｄ以外の領域において、圧搾エアを噴出しガラス基板Ｐをエア浮上ステージ２０側に押付ける噴出口ＰＡと、エアを吸引しガラス基板Ｐを浮上ステージ２０側から引き離す吸引口ＰＶとを交互にマトリックス状に配置している。上部精密浮上ステージ２１Ｓｕは全体としてガラス基板Ｐを浮上ステージ２０側に押さえ込み、下部精密浮上ステージ２１Ｓｄとの間にガラス基板を挟みこむ挟込力を発生させる。

この浮上力と挟込力のバランスを取ることによって、図２に示すガラスが板Ｐの先端部Ｐｔ、又は後端部Ｐｂにおいて跳ね上がり(上昇)や垂れ下がり(下降)を防止するガラス基板の矯正力をもたらすことができる。
また、図４(ａ)に示すように、下部精密浮上ステージ２１Ｓｄの噴出口ＰＡと吸引口ＰＶは、上部精密浮上ステージ２１Ｓｕの噴出口ＰＡ及び吸引口ＰＶと同じ位置にならないようにずらして配置されている。さらに、検査開口部Ｋ１ｄ、Ｋ２ｄ、Ｋ１ｕ、Ｋ２ｕの形状としては、検査の障害にならず検査開口部を小さくできガラス基板の矯正力の急激な低下を防止することができる丸形または楕円或いは菱形または角形でもよい。

このような構成によれば、精密浮上ステージ２１Ｓにガラス基板Ｐが存在すると、ガラス基板Ｐの上面及び下面において噴出口項ＰＡから吸引口ＰＶに向かってガラス基板に平行なエア流れが生じ、ガラス基板Ｐの先端部Ｐｔや後端部Ｐｂも含めて全領域において平坦性(平坦度)を保つことができる。

また、本実施形態では、下部精密浮上ステージ２１Ｓｄと上部精密浮上ステージ２１Ｓｕの噴出口ＰＡ及び吸引口ＰＶは互いにずらして配置されているので、即ち噴出口ＰＡ及び吸引口ＰＶがガラス基板Ｐの上面、下面で重なることがないので、噴射や吸引がある箇所に偏在することなく一様に行われ、ガラス基板の平坦性をより実現できる。
さらに、高浮上部ステージ２１Ｈから精密浮上ステージ２１Ｓにスムーズにガラス基板Ｐを移行するために、下部精密浮上ステージ２１Ｓｄは上部精密浮上ステージ２１Ｓｕに比べ長くするほうが望ましい。

図５は上部精密浮上ステージ２１Ｓｕの第２の実施例を示す。図５では右から左にガラス基板が搬送されている。第２の実施例では上部精密浮上ステージ２１Ｓｕ´の搬送上流側にガラス基板Ｐと上部精密浮上ステージ２１Ｓｕ´との間に横方向のエア流れを形成するように圧搾エアを噴出する噴出口ＰＡ´を搬送(Ｘ)方向と垂直なＹ方向に複数個設ける。その他の構成は図４に示す第１の実施例を同じである。このエア流れによってガラス基板Ｐを挟み込む挟込力を発生させることができるので、第１の実施例と同様な効果を奏することができる。図５では噴出口ＰＡ´を搬送(Ｘ)方向に一つ設けたが複数個設けてもよい。

上記の実施形態では、１台のガラス基板欠陥装置に検査部１０を１箇所設けたが、ガラス基板のＹ方向の幅に応じて、図６に示すように検査部１０を複数個所(図６では２箇所１０−Ｉ、１０−II)に設け、検査領域Ｒ１、Ｒ２をＹ方向にずらしてガラス基板Ｐの全面を検査してもよい。図６では各破線より紙面上側を検査部１０−Ｉが、各破線より紙面下側を検査部１０−IIが検査する。
また、上記実施形態では１箇所の検査部１０にＹ方向の同じ検査をする検査部を３組設けた。そこで、ガラス基板のＹ方向の幅に応じて検査部を選択し、ガラス基板Ｐを浮上させる範囲を、例えば、分割ステージ２１単位に選択して検査することもできる。
さらに、上記実施形態では、エア浮上ステージ２０をＹ方向に３つの分割ステージ２１に分割したが、一つのステージで構成してもよい。

上記の実施形態の効果をより理解するために、従来の構成と再度本発明の課題を詳細に説明する。
図８(ａ)は第１の実施形態に図２に相当する図で、従来の搬送部４０を上部から見た概略構成を示した図である。図８(ｂ)は第１の実施形態の図４(ａ)に相当する図で、本実施形態の下部精密浮上ステージ２１Ｓｄに相当する部分の概略構成図である。図８において、基本的に同じ機能又は構成を有するものは、図２又は図４(ａ)と同じ符号を付している。

まず、大きく違う点は、従来は、上部精密浮上ステージ２１Ｓｕがなく下部精密浮上ステージ２１Ｓｄのみで構成されている点である。そのために、図８(ｂ)に示すよう、下部精密浮上ステージ２１Ｓｄ上を圧縮、吸引による周波数的な力を受けて、下部精密浮上ステージ２１Ｓｄに端部においてガラス基板の歪が強調されたり弱められたりして、ガラス基板の先端部Ｐｔまたは後端部ＰＢで跳ね上がり(上昇)や垂れ下がり(下降)が発生しやすい。しかしながら、歪の少ないガラス基板では下部精密浮上ステージ２１Ｓｄのみで構成してもよい。

一方、本実施形態では、図４(ｂ)に示すように、ガラス基板Ｐを上下から押さえ込む矯正力によって検査領域Ｒ１、Ｒ２に達してもガラス基板Ｐの先端部Ｐｔ及び後端部Ｐｂ跳ね上がり(上昇)や垂れ下がり(下降)が生じることなく、エア浮上ステージ２０に安定して平行にガラス基板Ｐを搬送することができる。特に、部精密浮上ステージ２１Ｓｄと上部精密浮上ステージ２１Ｓｕの噴出口ＰＡ及び吸引口ＰＶは互いにずらして配置されているので、矯正力の主因であるガラス基板Ｐの上下に発生するガラス基板Ｐに平行な流れをより安定して生じさせることで、ガラス基板Ｐをより安定して搬送できる。

第２に違う点は、検査領域Ｒ１、Ｒ２は、従来は両端が開放された長方形であるのに対し、本実施形態では、矯正の範囲を広げる検査開口部を有し、特に矯正力の高い丸形または楕円或いは菱形または角形等の形状にすることにより、より安定してガラス基板Ｐを平行に搬送できる。

以上説明したように、第１の実施形態によれば、ガラス基板Ｐを検査開口部Ｋ１、Ｋ２においてガラス基板の端部の跳ね上がり(上昇)や垂れ下がり(下降)が発生することなく、少なくとも気泡や傷などの検査に必要な平坦性、例えば±５０μｍ程度以内に収めることができる。また、ガラス基板Ｐの中央部においても、図４(ａ)に示すエアの横方向の流れとガラス基板Ｐの重量または剛性とのバランスにより確実に平坦性を保つことができる。この結果、ガラス基板の全面亘って平坦性を確保し、精度よく検査できる。

図７は本発明の第２の実施形態を示す図である。第２の実施形態は、第１の実施形態で説明したガラス基板欠陥装置１００を複数台(図７では２台１００Ａ、１００Ｂ)直列に設けたガラス基板欠陥システム２００を構成している。ガラス基板欠陥システム２００は、複数台のガラス基板欠陥装置１００Ａ、１００Ｂとそれらの間を接続する搬送部４０とを有し、それぞれのガラス基板欠陥装置の検査領域Ｒ１、Ｒ２をＹ方向にずらして２台のガラス基板欠陥装置１００Ａ、１００Ｂでガラス基板Ｐの全面を検査する。

さらに、図７に第２の実施形態の変形として、ガラス基板欠陥装置を偶数台設け、ガラス基板欠陥装置１００Ａは第１検査部１０Ａを有し、ガラス基板欠陥装置は第２検査部１０Ｂを有するというように装置単位で検査内容が異なる構成としてしてもよい。

以上説明した第２の実施形態においても、複数台のガラス基板欠陥装置で検査を分担することにより、第１の実施形態同様に、ガラス基板の全面亘って平坦性を確保し、精度よく検査できる。

１０、１０−Ｉ、１０−II：検査部 １０Ａ：第１検査部
１０Ｂ：第２検査部 １１Ａ、１１Ｂ；撮像ユニット
１２Ａ１，１２Ａ２、１２Ｂ：ラインＣＣＤ(撮像手段)
１３Ａ、１３Ｂ；受光レンズ １４Ａ：偏光ビームスプリッタ
１６Ａ、１６Ｂ：光源ユニット １７Ａ；レーザ光源
１８Ａ：ミラー １９Ａ：シリンドリカルレンズ
２０：エア浮上ステージ ２１：分割ステージ
２１Ｓ：精密浮上ステージ ２１Ｓｄ：下部精密浮上ステージ
２１Ｓｕ、２１Ｓｕ´：上部精密浮上ステージ
２１Ｈ：高浮上部ステージ ３０：駆動部
３１：リニアガイド ３２：リニアアクチュエータ
３３：グリッパ ３４：リニアスケール
４０：搬送部 ５０：エア供給吸気部
５１：圧搾エア供給源 ５２：真空供給源
６０：全体制御部
１００、１００Ａ、１００Ｂ：ガラス基板欠陥装置
Ｋ１ｄ、Ｋ２ｄ、Ｋ１ｕ、Ｋ２ｕ：検査開口部
Ｐ：ガラス基板 ＰＡ、ＰＡ´：圧搾エアの噴出口
ＰＶ：エアの吸引口 Ｐｂ：ガラス基板の後端部
Ｐｔ：ガラス基板の先端部 Ｒ１、Ｒ２：検査領域。

Claims (11)

1. ガラス基板を保持し搬送するステージ上でガラス基板をエアで浮上させるエア浮上手段を有するエア浮上装置と、前記エア浮上手段がない検査領域に前記ガラス基板を搬送する搬送装置と、前記検査領域において前記ガラス基板を撮像し検査する光学式検査装置とを有するガラス基板欠陥検査装置において、
   前記エア浮上装置は、前記検査領域の周囲において、前記ガラス基板を挟んで前記エア浮上手段の反対側から前記ガラス基板をエアで挟み込むエア挟込手段を有することを特徴とするガラス基板欠陥検査装置。
2. 前記エア浮上手段は、前記検査領域の周囲において前記エアを噴出しガラス基板を浮上させる噴出口と、エアを吸引しガラス基板を前記ステージ側に引込む吸引口とを交互にマトリックス状に配置していることを特徴とする請求項１に記載のガラス基板欠陥検査装置。
3. 前記エア挟込手段は、前記エアを噴出しガラス基板Ｐを前記ステージ側に押付ける噴出口と、前記エアを吸引し前記ガラス基板を前記ステージ側から引き離す吸引口とを交互にマトリックス状に配置していることを特徴とする請求項２に記載のガラス基板欠陥検査装置。
4. 前記エア浮上手段の噴出口と吸引口は、前記エア浮上手段の噴出口及び吸引口と同じ位置にならないようにずらして配置されていること特徴とする請求項３に記載のガラス基板欠陥検査装置。
5. 前記エア浮上手段と前記エア挟込手段は前記検査をするための検査開口部を有し、前記開口部の形状は、丸形又は楕円或は菱形又は角形の形状を有していることを特徴とする請求項１に記載のガラス基板欠陥検査装置。
6. 前記エア挟込手段は、前記検査をするための検査開口部と、前記ガラス基板の前記浮上手段の反対側面において、前記開口部に向ってあるいは前記開口部から、前記ガラス基板に平行なエアの流れを形成する手段とを有することを特徴とする請求項１に記載のガラス基板欠陥検査装置
7. 前記光学式検査装置は、前記ガラス基板の傷、汚れ、異物、前記ガラス基板表面のクレータ形状及び前記ガラス基板内部の気泡のうち少なくとも一つを検査する検査部を有することを特徴とする請求項１または２に記載のガラス基板欠陥検査装置。
8. 前記検査部を前記搬送する方向にずらして複数設けたことを特徴とする請求項７に記載のガラス基板欠陥検査装置。
9. ガラス基板をエアで浮上力を発生させて浮上させ、前記浮上力のない検査領域に搬送し、前記検査領域において前記ガラス基板を撮像し検査するガラス基板欠陥検査方法において、
   前記検査領域の周囲において、前記浮上力を発生する前記ガラス基板面と反対側の面に前記ガラス基板をエアで挟み込む挟込力を発生させること特徴とするガラス基板欠陥検査方法。
10. 前記検査は前記ガラス基板の傷、汚れ、異物、前記ガラス基板表面のクレータ形状及び前記ガラス基板内部の気泡のうち少なくとも一つを検査すること特徴とする請求項９に記載のガラス基板欠陥検査方法。
11. 請求項１乃至８のいずれかに記載の複数のガラス基板欠陥検査装置と、前記ガラス基板を前記複数のガラス基板欠陥検査装置間を搬送させる搬送装置とを有し、前記複数のガラス基板欠陥検査装置のうち少なくとも２台は、前記ガラス基板において前記搬送する方向と垂直方向に互いにずれた前記検査領域を検査することを特徴とするガラス基板欠陥検査システム。

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