JP2012063598A - Roll-state film base material - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、巻内および巻外での寸法ずれがないロール状フィルム基材、寸法精度高く形成されたパターン形成体を有するロール状パターン付フィルム基材、上記ロール状フィルム基材を製造するロール状フィルム基材の製造方法、パターン形成体の製造方法、高精度の寸法精度を有する画像表示素子、およびカラーフィルタを提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明においては、フィルム基材、および上記フィルム基材上に部分的に配置された支持部材を有し、上記フィルム基材をパターン形成体の基材に用いた際に、上記フィルム基材のパターンが設けられるパターン形成領域外に上記フィルム基材を貫通する貫通孔が設けられている支持部材積層フィルム基材が巻回されてなることを特徴とするロール状フィルム基材を提供することにより、上記課題を解決する。
【選択図】図1The present invention relates to a roll-shaped film substrate having no dimensional deviation in and out of winding, a film substrate with a roll-shaped pattern having a pattern forming body formed with high dimensional accuracy, and the roll-shaped film substrate. The main object is to provide a method for producing a roll-shaped film substrate to be produced, a method for producing a pattern-formed body, an image display element having high dimensional accuracy, and a color filter.
In the present invention, when a film base material and a supporting member partially disposed on the film base material are used and the film base material is used as a base material of a pattern forming body, A roll-shaped film base material comprising a support member laminated film base material provided with a through-hole penetrating the film base material outside a pattern forming region where a film base material pattern is provided. By providing, the above-mentioned problems are solved.
[Selection] Figure 1
Description
本発明は、カラーフィルタおよび配線パターン等の各種の用途に使用可能なパターン形成体に用いられるロール状フィルム基材に関する。 The present invention relates to a roll-shaped film substrate used for a pattern forming body that can be used for various applications such as a color filter and a wiring pattern.
近年、液晶表示素子の薄型軽量化および耐衝撃性の向上等が目指されており、カラーフィルタ、TFTアレイ等を構成する基材として、従来使用されてきたガラス基板の代わりに、可撓性を有するフィルム基材が巻回されてなるロール状フィルム基材を用いる試みがなされている。ロール状フィルム基材をこのような基材に用いた場合、基材上に所望の精度で、例えば、着色層およびブラックマトリックスが形成されたカラーフィルタを得ることが困難であるといった問題があった。具体的には、ロール状フィルム基材から巻き出されたフィルム基材上に着色層、ブラックマトリックスが形成される工程において、フォトリソグラフィー法やインクジェット法等の微細加工手段を用いてパターンが形成されるが、その工程中に熱や水分等の影響を受けたロール状フィルム基材に寸法ずれが生じてしまい、カラーフィルタを精度良く作製することが困難であるといった問題があった。 In recent years, liquid crystal display elements have been reduced in thickness and weight and improved in impact resistance. As a base material for constituting color filters, TFT arrays, etc., instead of the conventionally used glass substrate, flexibility has been achieved. Attempts have been made to use a roll-shaped film base material in which a film base material is wound. When a roll-shaped film base material is used for such a base material, there is a problem that it is difficult to obtain a color filter in which, for example, a colored layer and a black matrix are formed on the base material with a desired accuracy. . Specifically, in the process of forming a colored layer and a black matrix on a film substrate unwound from a roll-shaped film substrate, a pattern is formed using a fine processing means such as a photolithography method or an inkjet method. However, there is a problem that a dimensional shift occurs in the roll-shaped film substrate affected by heat, moisture, etc. during the process, and it is difficult to produce a color filter with high accuracy.
これに対して、例えば、特許文献1においては、基材を乾燥後、高温高湿環境下に放置し、所定の温湿度環境における含水率の±10%以内の含水率となるように吸湿処理を行うことによって、基材の寸法を制御する方法が開示されている。
On the other hand, for example, in
しかしながら、この方法では、ロール状フィルム基材の巻内は吸水や脱水がしにくいため、所望の含水率に達するまでには長時間が必要であり、巻内と巻外とで含水率が均一にならず、ロール状フィルム基材の巻内および巻外で寸法ずれが生じるという問題がある。 However, in this method, since the inside of the roll film substrate is difficult to absorb or dehydrate, it takes a long time to reach the desired moisture content, and the moisture content is uniform between the inside and outside of the roll. However, there is a problem that dimensional deviation occurs in and outside the roll film substrate.
一方、例えば、特許文献2においては、基材の加熱脱水後から露光開始までの時間を運搬手段により管理し、かつ、温度・湿度を調整することによって、基材の寸法を再現性良く制御する方法が開示されている。
On the other hand, for example, in
しかしながら、この方法では、精密な時間管理が必要であり、ロール状フィルム基材の巻内と巻外とでは、所要時間が異なるという問題がある。 However, this method requires precise time management, and there is a problem that the required time differs between the inside and outside of the roll-shaped film substrate.
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、巻内および巻外での寸法ずれがないロール状フィルム基材、寸法精度高く形成されたパターンを有するロール状パターン付フィルム基材、上記ロール状フィルム基材を製造するロール状フィルム基材の製造方法、パターン形成体の製造方法、高精度の寸法精度を有する画像表示素子、およびカラーフィルタを提供することを主目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and a roll-shaped film substrate having no dimensional deviation in and outside the winding, a film substrate with a roll-shaped pattern having a pattern formed with high dimensional accuracy, The main object is to provide a roll film substrate production method for producing the roll film substrate, a pattern forming body production method, an image display device having high dimensional accuracy, and a color filter.
本発明は、フィルム基材、および上記フィルム基材上に部分的に配置された支持部材を有し、上記フィルム基材をパターン形成体の基材に用いた際に、上記フィルム基材のパターンが設けられるパターン形成領域外に上記フィルム基材を貫通する貫通孔が設けられている支持部材積層フィルム基材が巻回されてなることを特徴とするロール状フィルム基材を提供する。 The present invention has a film base material and a support member partially disposed on the film base material. When the film base material is used as a base material of a pattern forming body, the pattern of the film base material is used. Provided is a roll-shaped film base material in which a support member laminated film base material provided with a through-hole penetrating the film base material is provided outside a pattern forming region where the film base material is provided.
本発明によれば、上記支持部材が配置されていることにより、ロール状フィルム基材においては上層および下層のフィルム基材の間に空間を形成することができ、フィルム基材に形成された貫通孔から上記空間へ外気を通気させることができるため、ロール状フィルム基材の巻内まで外気と接触させることができることから、巻内および巻外に関係なく均一な含水率を有するロール状フィルム基材とすることができる。 According to the present invention, by arranging the support member, a space can be formed between the upper layer and the lower layer film substrate in the roll film substrate, and the penetration formed in the film substrate. Since the outside air can be vented from the hole to the space, it can be brought into contact with the outside air up to the inside of the roll-shaped film base material. It can be a material.
本発明においては、上記支持部材が、少なくとも上記フィルム基材の両端の端部領域上に配置されていることが好ましい。支持部材をフィルム基材の両端の端部領域上に配置することにより、ロール状フィルム基材をパターン形成体の基材に用いた際にパターンが形成されるパターン形成領域には支持部材を配置しなくてもよくなり、支持部材を配置することによるゴミの付着や微細なキズの発生を防止することができるため、フィルム基材表面を良好な状態で保管することが可能となる。 In this invention, it is preferable that the said supporting member is arrange | positioned on the edge part area | region of the both ends of the said film base material at least. By disposing the support member on the end regions at both ends of the film base material, the support member is disposed in the pattern forming region where the pattern is formed when the roll-shaped film base material is used as the base material of the pattern forming body. Since it is possible to prevent the attachment of dust and the generation of fine scratches by arranging the support member, the surface of the film base can be stored in a good state.
本発明においては、上記支持部材が、上記フィルム基材と同種の合成樹脂フィルムであることが好ましい。フィルム基材および支持部材の弾性率、表面摩擦、熱膨張、湿度膨張等の物性を同等のものとすることができることから、支持部材積層フィルム基材を巻回してロール状フィルム基材とする際に、安定的に巻回することが可能であり、保管時にもロール状フィルム基材に伸縮、歪み、しわ等が発生し難いものとすることができる。 In the present invention, the support member is preferably a synthetic resin film of the same type as the film base material. Since the physical properties such as the elastic modulus, surface friction, thermal expansion, and humidity expansion of the film substrate and the support member can be made equivalent, when the support member laminated film substrate is wound into a roll-shaped film substrate In addition, it can be stably wound, and the roll-shaped film substrate can be hardly stretched, distorted, wrinkled, etc. even during storage.
本発明は、貫通孔を有するフィルム基材、および少なくとも上記フィルム基材の両端の端部領域に配置された支持部材を備える支持部材積層フィルム基材と、上記フィルム基材の上記貫通孔が設けられている貫通孔形成領域外であって、かつ上記フィルム基材上の上記支持部材が配置されている支持部材配置領域外に設けられたパターンとを有するパターン付フィルム基材が巻回されてなることを特徴とするロール状パターン付フィルム基材を提供する。 The present invention provides a film base material having a through hole, and a support member laminated film base material provided with a support member disposed at least at end regions of both ends of the film base material, and the through hole of the film base material. A patterned film base material having a pattern outside the through-hole forming region and the pattern provided outside the support member placement region where the support member on the film base material is placed is wound A film substrate with a roll pattern is provided.
本発明によれば、上記支持部材積層フィルム基材を有することにより、フィルム基材の巻内および巻外に関係なく均一な含水率を有することができるため、巻内および巻外とで寸法ずれのない高精細なパターンが形成されたロール状パターン付フィルム基材とすることができる。また、上記パターン上に新たなパターンを形成する場合には、重ね合わせの精度を高くパターンを積層させて形成することが可能となる。また、支持部材は取り外しが可能であることから、上記パターン付フィルム基材を用いて画像表示素子等を製造する場合に、パターンの形成加工を妨げないため、容易に加工を行うことができる。 According to the present invention, by having the support member laminated film base material, it is possible to have a uniform moisture content regardless of whether the film base material is wound or unwound. It can be set as the film base material with a roll-shaped pattern in which the high-definition pattern without this was formed. In addition, when a new pattern is formed on the pattern, it is possible to form a pattern by stacking the patterns with high overlay accuracy. In addition, since the support member can be removed, when the image display element or the like is manufactured using the patterned film base material, the pattern forming process is not hindered, so that the process can be easily performed.
本発明は、フィルム基材、および上記フィルム基材上に部分的に配置された支持部材を有し、上記フィルム基材をパターン形成体の基材に用いた際に、上記フィルム基材のパターンが設けられるパターン形成領域外に上記フィルム基材を貫通する貫通孔が設けられている支持部材積層フィルム基材が巻回されてなるロール状フィルム基材を形成するロール状フィルム基材準備工程と、上記ロール状フィルム基材の含水率が、所定の温湿度雰囲気下における含水率に達するまで、上記ロール状フィルム基材を上記温湿度雰囲気下で保管する保管工程とを有することを特徴とするロール状フィルム基材の製造方法を提供する。 The present invention has a film base material and a support member partially disposed on the film base material. When the film base material is used as a base material of a pattern forming body, the pattern of the film base material is used. A roll-shaped film base material preparation step for forming a roll-shaped film base material in which a support member laminated film base material in which a through-hole penetrating the film base material is provided outside the pattern forming region is provided; And a storage step of storing the roll-shaped film substrate in the temperature and humidity atmosphere until the moisture content of the roll-shaped film substrate reaches a moisture content in a predetermined temperature and humidity atmosphere. A method for producing a roll film substrate is provided.
本発明によれば、上記支持部材および貫通孔を有するロール状フィルム基材を含水率が所定の温湿度雰囲気下における含水率に達するまで保管することで、巻内および巻外に関係なく均一な含水率を有するロール状フィルム基材を得ることができる。 According to the present invention, the roll-shaped film substrate having the support member and the through hole is stored until the moisture content reaches the moisture content in a predetermined temperature and humidity atmosphere, so that it is uniform regardless of whether it is inside or outside the winding. A roll-shaped film substrate having a moisture content can be obtained.
本発明は、上述したロール状フィルム基材から巻き出されたフィルム基材上にパターンを形成するパターン形成工程を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供する。 This invention provides the manufacturing method of the pattern formation body which has the pattern formation process which forms a pattern on the film base material unwound from the roll-shaped film base material mentioned above.
本発明によれば、巻内および巻外に関係なく均一な含水率を有するロール状フィルム基材から巻き出されたフィルム基材上に、パターンを形成することにより、巻内と巻外とで寸法ずれのない高精細なパターンが形成されたパターン形成体を得ることができる。 According to the present invention, by forming a pattern on a film substrate unwound from a roll-shaped film substrate having a uniform water content regardless of whether it is in-winding or unwinding, It is possible to obtain a pattern forming body on which a high-definition pattern having no dimensional deviation is formed.
本発明は、フィルム基材、および上記フィルム基材に設けられた所定のパターンを有する画像表示素子であって、上記フィルム基材の上記所定のパターンが設けられているパターン形成領域外には、フィルム基材を貫通する貫通孔が設けられていることを特徴とする画像表示素子を提供する。 The present invention is a film substrate and an image display element having a predetermined pattern provided on the film substrate, and outside the pattern formation region where the predetermined pattern of the film substrate is provided, Provided is an image display element characterized in that a through-hole penetrating a film substrate is provided.
ここで、上述したように、フィルム基材の寸法精度はフィルム基材の含水率に影響されるものであることからフィルム基材全体の含水率は均一であることが好ましい。しかしながら、従来、フィルム基材の保管に際して、複数のフィルム基材を積層させて保管する場合や、フィルム基材をロール状に巻回して保管する場合においては、同一のフィルム基材内でも外気と接触しやすい部分と外気と接触しにくい部分があることから、同一のフィルム基材内で含水量の多い部分と含水量の少ない部分とが生じ、フィルム基材全体の含水率を均一なものとすることが困難となる問題があった。
一方、上記フィルム基材は、貫通孔を有するものであることから、上記フィルム基材を積層またはロール状に巻回して保管する際に、上層および下層のフィルム基材間に部分的に支持部材を配置して空間を形成することにより、貫通孔からフィルム基材間に外気を取り込むことが可能となり、フィルム基材全体の含水率を均一なものとすることが可能となる。これにより、フィルム基材の寸法精度を均一なものとすることができることから、上記フィルム基材上に形成されるパターンについては、寸法精度の高いものとすることが可能となる。よって、本発明によれば、寸法精度の高いパターンを有する画像表示素子とすることが可能となる。
Here, as described above, since the dimensional accuracy of the film substrate is influenced by the moisture content of the film substrate, the moisture content of the entire film substrate is preferably uniform. However, conventionally, when storing a film base material in a case where a plurality of film base materials are laminated and stored, or when a film base material is wound and stored in a roll, Since there are parts that are easy to contact and parts that are difficult to contact with the outside air, a part with a high water content and a part with a low water content are generated in the same film base material, and the water content of the entire film base material is made uniform. There was a problem that made it difficult to do.
On the other hand, since the film base material has through holes, when the film base material is laminated or rolled and stored, it is partially supported between the upper and lower film base materials. By forming a space by arranging the outside air, it is possible to take in outside air from the through holes between the film base materials, and the moisture content of the entire film base material can be made uniform. Thereby, since the dimensional accuracy of a film base material can be made uniform, it becomes possible to make a pattern formed on the said film base material a thing with a high dimensional accuracy. Therefore, according to the present invention, an image display element having a pattern with high dimensional accuracy can be obtained.
本発明においては、上記フィルム基材の長手方向の長さが少なくとも50cm以上であり、上記画像表示素子内の任意の2つの領域での上記パターンの寸法精度を比較した場合、一方の領域での上記パターンの寸法を1とした場合、他方の領域での上記パターンの寸法が1.00000±0.00033の範囲内となることが好ましい。さらに、本発明においては、上記フィルム基材は、予め上記フィルム基材上に部分的に支持部材を配置してロール状に2周以上巻回されたものであることが好ましい。上記フィルム基材の長手方向の長さが上述した範囲内である場合、通常、フィルム基材自体はロール状に巻回され、ロール状フィルム基材として保管される。本発明に用いられるフィルム基材は、上述したように、ロール状フィルム基材とした場合であってもフィルム基材全体の寸法精度を均一なものとすることができる。よって、本発明においては、上記フィルム基材を用いていることから、寸法精度の高いパターンを有する画像表示素子とすることができる。
In the present invention, when the length of the film base in the longitudinal direction is at least 50 cm or more and the dimensional accuracy of the pattern in any two regions in the image display element is compared, in one region When the dimension of the pattern is 1, it is preferable that the dimension of the pattern in the other region is within a range of 1.00000 ± 0.00033. Furthermore, in this invention, it is preferable that the said film base material arrange | positions a support member partially on the said film base material beforehand, and is wound by
本発明は、上述したパターンがカラーフィルタの画素部であることを特徴とするカラーフィルタを提供する。 The present invention provides a color filter, wherein the pattern described above is a pixel portion of the color filter.
本発明によれば、寸法精度の高い画素部を有するカラーフィルタとすることができる。 According to the present invention, a color filter having a pixel portion with high dimensional accuracy can be obtained.
本発明においては、巻内および巻外での寸法ずれがないロール状フィルム基材を得ることができるという効果を奏する。 In this invention, there exists an effect that the roll-shaped film base material without the dimension shift | offset | difference in winding and unwinding can be obtained.
以下、本発明のロール状フィルム基材、ロール状パターン付フィルム基材、ロール状フィルム基材の製造方法、パターン形成体の製造方法、画像表示素子、およびカラーフィルタについて詳細に説明する。 Hereinafter, the roll-shaped film substrate of the present invention, the film substrate with a roll-shaped pattern, the production method of the roll-shaped film substrate, the production method of the pattern forming body, the image display element, and the color filter will be described in detail.
A.ロール状フィルム基材
まず、本発明のロール状フィルム基材について説明する。本発明のロール状フィルム基材は、フィルム基材、および上記フィルム基材上に部分的に配置された支持部材を有し、上記フィルム基材をパターン形成体の基材に用いた際に、上記フィルム基材のパターンが設けられるパターン形成領域外に上記フィルム基材を貫通する貫通孔が設けられている支持部材積層フィルム基材が巻回されてなることを特徴とするものである。
A. Roll-shaped film base material First, the roll-shaped film base material of this invention is demonstrated. When the roll-shaped film base material of the present invention has a film base material and a support member partially disposed on the film base material, when the film base material is used as a base material of a pattern forming body, A support member laminated film base material provided with a through-hole penetrating the film base material outside a pattern formation region where the film base material pattern is provided is wound.
本発明によれば、上記支持部材が配置されていることにより、ロール状フィルム基材においては上層および下層のフィルム基材の間に空間を形成することができ、フィルム基材に設けられた貫通孔から上記空間へ外気を通気させることができるため、ロール状フィルム基材の巻内まで外気と接触させることができることから、巻内および巻外に関係なく均一な含水率を有するロール状フィルム基材とすることができる。 According to the present invention, by arranging the support member, a space can be formed between the upper layer and the lower layer film substrate in the roll-shaped film substrate, and the penetration provided in the film substrate. Since the outside air can be vented from the hole to the space, it can be brought into contact with the outside air up to the inside of the roll-shaped film base material. It can be a material.
ここで、「パターン形成領域」とは、上記フィルム基材をパターン形成体の基材に用いた際に、フィルム基材上にパターンが設けられる領域を指すものである。なお、ここでいうパターンについては後述する「B.ロール状パターン付フィルム基材」の項で説明するため、ここでの説明は省略する。
また、「パターン形成領域外」とは、フィルム基材の全面から上述したパターン形成領域を除いた領域を指すものである。
Here, the “pattern forming region” refers to a region where a pattern is provided on the film substrate when the film substrate is used as the substrate of the pattern forming body. In addition, since the pattern here is demonstrated in the term of "B. Film base material with a roll-shaped pattern" mentioned later, description here is abbreviate | omitted.
Further, “outside pattern formation region” refers to a region obtained by removing the above-described pattern formation region from the entire surface of the film base material.
また、支持部材がフィルム基材上に部分的に配置されているとは、支持部材がフィルム基材に設けられている貫通孔を完全に塞がないように部分的に配置され、ロール状フィルム基材とした場合に、上層のフィルム基材と下層のフィルム基材とが密着しないように部分的に配置されている状態を指す。
また、複数の支持部材がフィルム基材の幅方向もしくは長手方向に所定の間隔を空けて配置される場合は、隣接する支持部材の間のフィルム基材に貫通孔が1個以上設けられているように、支持部材が配置されている状態を指す。
In addition, the support member is partially disposed on the film base means that the support member is partially disposed so as not to completely block the through-hole provided in the film base. When it is set as a base material, the upper layer film base material and the lower layer film base material refer to a state where they are partially arranged so as not to adhere to each other.
Further, when the plurality of support members are arranged at a predetermined interval in the width direction or the longitudinal direction of the film base material, one or more through holes are provided in the film base material between the adjacent support members. Thus, the state where the support member is arranged is indicated.
また、本発明のロール状フィルム基材において、巻内および巻外が均一な含水率を有するとは、巻外におけるフィルム基材の含水率と、巻内におけるフィルム基材の含水率との差が、0.05wt%以下、好ましくは0.02wt%以下、特に好ましくは0.01wt%以下となることを指す。なお、上記含水率については、例えば、クラボウ社製の水分計(品名:RX−100、透過型)、マイクロ波オンライン水分計(マルカム製)、電気抵抗式水分計((株)山崎精機研究所製)等を用いて測定することができる。
また、本発明におけるロール状フィルム基材の巻外とは、ロール状フィルム基材の最外層を指し、ロール状フィルム基材の巻内とは、ロール状フィルム基材の巻外から2周以上内側の層を指す。
Moreover, in the roll-shaped film base material of the present invention, that the inside and outside of the roll have a uniform water content means that the water content of the film base in the outside of the roll is different from the water content of the film base in the inside of the roll. Is 0.05 wt% or less, preferably 0.02 wt% or less, particularly preferably 0.01 wt% or less. In addition, about the said moisture content, for example, a moisture meter (product name: RX-100, transmission type) manufactured by Kurabo Industries, a microwave on-line moisture meter (manufactured by Markham), an electric resistance type moisture meter (Yamazaki Seiki Laboratory Co., Ltd.) Etc.).
Further, the roll-out of the roll-shaped film substrate in the present invention refers to the outermost layer of the roll-shaped film substrate, and the roll-up of the roll-shaped film substrate means two or more turns from the roll-out of the roll-shaped film substrate. Refers to the inner layer.
ここで、本発明のロール状フィルム基材について図を用いて説明する。図1(a)は、本発明のロール状フィルム基材の一例を示す模式図であり、図1(b)はA−A線の概略断面図である。図1(a)に示すように、本発明のロール状フィルム基材10は、フィルム基材1、およびフィルム基材1上に部分的に配置された支持部材2を有し、フィルム基材1をパターン形成体の基材に用いた際に、フィルム基材1のパターンが設けられるパターン形成領域外にフィルム基材1を貫通する貫通孔3が設けられている支持部材積層フィルム基材11が巻回されてなるものである。なお、図1において、フィルム基材1のパターン形成領域外とは、フィルム基材1の全面から、フィルム基材1をパターン形成体の基材に用いた際にパターンが設けられるパターン形成領域tを除いた領域を指す。図1においてパターン形成領域tは点線で囲まれた領域である。
図1においては、支持部材2がフィルム基材1の両端の端部領域上にのみ配置され、パターン形成領域tには配置されていない例について示している。なお、フィルム基材の両端の端部領域については後述するため、ここでの説明は省略する。また、図1(a)においてXで示される方向は、フィルム基材の長手方向を、Yで示される方向はフィルム基材の幅方向を示すものである。
Here, the roll-shaped film base material of this invention is demonstrated using figures. Fig.1 (a) is a schematic diagram which shows an example of the roll-shaped film base material of this invention, FIG.1 (b) is a schematic sectional drawing of an AA line. As shown in FIG. 1 (a), a roll-shaped
FIG. 1 shows an example in which the
本発明においては、図1(b)に示すように、支持部材2を部分的に配置することにより、ロール状フィルム基材10においては、上層のフィルム基材1と下層のフィルム基材1との間に空間が形成され、かつフィルム基材1の貫通孔3から上記空間に外気を通気させることができるため、巻内であっても外気と接触することができ、巻内のフィルム基材1も巻外のフィルム基材1と同程度に水分を取り込むことが可能となる。よって、巻内および巻外の含水率に差を生じないロール状フィルム基材10とすることが可能となる。
In this invention, as shown in FIG.1 (b), in the roll-shaped
以上説明したように、本発明のロール状フィルム基材は、上記支持部材が配置されていることにより、ロール状フィルム基材の上層および下層のフィルム基材の間に空間を形成することができ、フィルム基材に設けられている貫通孔から外気を通気させることができるため、巻内まで外気と接触させることができることから、巻内および巻外に関係なく均一な含水率を有するものとすることができる。 As described above, the roll-shaped film substrate of the present invention can form a space between the upper layer and the lower layer film substrate of the roll-shaped film substrate by arranging the support member. Since the outside air can be ventilated from the through-hole provided in the film base material, it can be brought into contact with the outside air up to the inside of the winding, so that it has a uniform moisture content irrespective of the inside and outside of the winding. be able to.
以下、本発明に用いられる支持部材積層フィルム基材について説明する。 Hereinafter, the supporting member laminated film substrate used in the present invention will be described.
1.支持部材積層フィルム基材
本発明に用いられる支持部材積層フィルム基材は、フィルム基材、および上記フィルム基材上に部分的に配置された支持部材を有し、上記フィルム基材をパターン形成体の基材に用いた際に、上記フィルム基材のパターンが設けられるパターン形成領域外に上記フィルム基材を貫通する貫通孔が設けられているものである。
ここで、支持部材積層フィルム基材の形態としては、ロール状フィルム基材とした場合に、支持部材によって上層および下層のフィルム基材間に空間を形成し、貫通孔によって上記空間に外気を通気させることが可能となるような形態であれば特に限定されるものではない。以下、このような支持部材積層フィルム基材の形態について説明する。
1. Support member laminated film base material The support member laminated film base material used in the present invention has a film base material and a support member partially disposed on the film base material, and the film base material is used as a pattern forming body. When used as the base material, a through-hole penetrating the film base material is provided outside the pattern forming region where the pattern of the film base material is provided.
Here, as a form of the support member laminated film base material, when a roll-shaped film base material is used, a space is formed between the upper layer and the lower layer film base material by the support member, and the outside air is ventilated by the through holes. It is not particularly limited as long as it can be made to be a form. Hereinafter, the form of such a support member laminated | multilayer film base material is demonstrated.
(1)支持部材積層フィルム基材の形態
上記支持部材積層フィルム基材の形態は、貫通孔の形成位置および支持部材の配置位置により決定されるものである。
(1) Form of support member laminated film base The form of the support member laminated film base is determined by the formation position of the through hole and the arrangement position of the support member.
(a)貫通孔の形成位置
まず、貫通孔の形成位置について説明する。本発明における貫通孔の形成位置としては上記フィルム基材をパターン形成体の基材に用いた際に、上記フィルム基材のパターンが設けられるパターン形成領域外であれば特に限定されるものではない。以下、パターン形成領域外を貫通孔形成領域と称して説明する場合がある。
(A) Through-hole formation position First, the through-hole formation position will be described. The formation position of the through hole in the present invention is not particularly limited as long as it is outside the pattern formation region where the pattern of the film base material is provided when the film base material is used as the base material of the pattern forming body. . Hereinafter, the outside of the pattern formation region may be referred to as a through hole formation region.
本発明における貫通孔形成領域は、より具体的には、図2に示されるフィルム基材1においてパターン形成領域tを除いた領域、すなわち領域uを指すものである。なお、図2は本発明に用いられるフィルム基材の一例を示す概略平面図である。
More specifically, the through hole forming region in the present invention refers to a region excluding the pattern forming region t in the
また、貫通孔の形成位置としては、ロール状フィルム基材とした場合に、巻内まで外気と接触させることにより、ロール状フィルム基材の巻内および巻外の含水率を一定のものとすることができれば特に限定されるものではなく、例えば図1(b)に示すように、ロール状フィルム基材とした場合に、上層のフィルム基材1に設けられている貫通孔3の形成位置と、下層のフィルム基材1に設けられている貫通孔3の形成位置とが一致するように形成してもよいし、図示はしないが、上層のフィルム基材に形成された貫通孔の形成位置と、下層のフィルム基材に設けられている貫通孔の形成位置とが一致しないように形成されていてもよい。なかでも、上層のフィルム基材に形成された貫通孔の形成位置と、下層のフィルム基材に設けられている貫通孔の形成位置とが一致しないように形成されていることが好ましい。これにより、ロール状フィルム基材の巻内への通気性をより高いものとすることが可能となる。
Moreover, as a formation position of a through-hole, when it is set as a roll-shaped film base material, the moisture content inside and outside the roll of the roll-shaped film base material is made constant by contacting with the outside air up to the inside of the roll. If it can, it will not specifically limit, for example, as shown in FIG.1 (b), when setting it as a roll-shaped film base material, the formation position of the through-
(b)支持部材の配置位置
次に、支持部材の配置位置について説明する。本発明における支持部材の配置位置としては、支持部材をフィルム基材に設けられている貫通孔を完全に塞がないように部分的に配置することが可能であり、かつロール状フィルム基材とした場合に、上層のフィルム基材と下層のフィルム基材とが密着しないように部分的に配置することが可能な位置であれば特に限定されるものではない。
また、複数の支持部材がフィルム基材の幅方向もしくは長手方向に所定の間隔を空けて配置される場合は、隣接する支持部材の間のフィルム基材に貫通孔が1個以上設けられているように配置することが可能であれば特に限定されるものではない。
(B) Arrangement Position of Support Member Next, the arrangement position of the support member will be described. As the arrangement position of the support member in the present invention, it is possible to partially arrange the support member so as not to completely block the through hole provided in the film base material, and the roll-shaped film base material and In this case, the upper film base material and the lower film base material are not particularly limited as long as they can be partially arranged so as not to be in close contact with each other.
Further, when the plurality of support members are arranged at a predetermined interval in the width direction or the longitudinal direction of the film base material, one or more through holes are provided in the film base material between the adjacent support members. If it can arrange | position in this way, it will not specifically limit.
ここで、フィルム基材に形成されている貫通孔を完全に塞がないように支持部材を配置するとは、フィルム基材において貫通孔を全く塞がないように支持部材が配置されている状態や、フィルム基材において貫通孔が形成されている部分の一部に支持部材が配置されている状態を指す。 Here, arranging the support member so as not to completely block the through-hole formed in the film substrate means that the support member is arranged so as not to completely block the through-hole in the film substrate. The state in which the support member is arranged in a part of the part where the through hole is formed in the film base material is indicated.
また、隣接する支持部材の間のフィルム基材に貫通孔が1個以上設けられているとは、隣接する支持部材の間のフィルム基材の貫通孔形成領域に、貫通孔が1個以上形成されていることを指す。またこの場合、上記貫通孔は、支持部材によって全く塞がれていないものだけでなく、支持部材によって貫通孔の一部が塞がれているものについても含むものである。 Also, that one or more through holes are provided in the film base between adjacent support members means that one or more through holes are formed in the through hole forming region of the film base between adjacent support members. It means being. Further, in this case, the through hole includes not only those that are not blocked at all by the support member but also those that are partially blocked by the support member.
支持部材の配置としては、例えば、図1に示すように、支持部材2をフィルム基材1の両端の端部領域上に配置してもよい。また、例えば、図3(a)に示すように、フィルム基材1の長手方向Xに所定の間隔を空けて支持部材2を配置してもよいし、図3(b)に示すように、フィルム基材1の幅方向Yに所定の間隔を空けて支持部材2を配置してもよいし、図3(c)に示すように、フィルム基材1の幅方向Yに対して斜め方向(鋭角方向)に所定の間隔を空けて支持部材2を配置してもよい。また、図3(a)、(b)、(c)において、それぞれ隣接する支持部材2の間のフィルム基材1の貫通孔形成領域uには1個以上の貫通孔が形成されているものである。なお、図3は本発明に用いられる支持部材積層フィルム基材の例を示す概略平面図である。
As an arrangement of the support member, for example, as shown in FIG. 1, the
ここで、本発明のロール状フィルム基材は、例えば画像表示素子等の基材、もしくは画像表示素子の多面付け基板等のパターン形成体の基材として用いられるものであることから、フィルム基材の表面上には所定のパターンが設けられるものである。この際、上記所定のパターンが設けられるパターン形成領域のフィルム基材上に、ゴミ等が付着していたり、微細なキズが生じている場合は、形成される画像表示素子の欠陥の原因となる。よって、本発明においては、ロール状フィルム基材をパターン形成体の基材に用いた際に、上記パターン形成領域のフィルム基材上には支持部材が配置されないことが好ましい。 Here, the roll-shaped film base material of the present invention is used as a base material of a pattern forming body such as a base material such as an image display element or a multi-sided substrate of an image display element. A predetermined pattern is provided on the surface. At this time, if dust or the like adheres to the film substrate in the pattern formation region where the predetermined pattern is provided, or if fine scratches are generated, it may cause defects in the formed image display element. . Therefore, in this invention, when a roll-shaped film base material is used for the base material of a pattern formation body, it is preferable that a support member is not arrange | positioned on the film base material of the said pattern formation area.
上記の点を考慮すると、本発明における支持部材の配置としては、上記支持部材が、少なくとも上記フィルム基材の両端の端部領域上に配置されていることが好ましい。 Considering the above points, as the arrangement of the supporting members in the present invention, it is preferable that the supporting members are arranged at least on end regions at both ends of the film base material.
ここで、「フィルム基材の両端の端部領域」とは、フィルム基材の幅方向の両端に存在する領域であり、かつ、本発明のロール状フィルム基材をパターン形成体の基材に用いた際に、パターンが設けられない領域である。なお、上記端部領域には、貫通孔が設けられていてもよく、設けられていなくてもよい。 Here, the “end regions at both ends of the film substrate” are regions existing at both ends in the width direction of the film substrate, and the roll-shaped film substrate of the present invention is used as the substrate of the pattern forming body. When used, this is a region where no pattern is provided. The end region may be provided with a through hole or may not be provided.
より具体的には、フィルム基材の端部領域とは、フィルム基材の幅方向の長さを1とした場合、フィルム基材の幅方向の端辺からの距離が0.2以下、なかでも0.1以下、特に0.05以下である領域を指すものである。 More specifically, the end region of the film base means that the distance from the side in the width direction of the film base is 0.2 or less, where the length in the width direction of the film base is 1. However, it refers to a region of 0.1 or less, particularly 0.05 or less.
以上から、本発明において、支持部材が少なくともフィルム基材上の両端の端部領域上に配置されているとは、支持部材が少なくとも上述したフィルム基材の両端の端部領域上に配置され、かつ、パターン形成領域外に支持部材が配置されていることを指す。 From the above, in the present invention, the support member is disposed at least on the end regions at both ends on the film base, and the support member is disposed at least on the end regions at both ends of the above-described film base, And it points out that the supporting member is arrange | positioned out of the pattern formation area.
以下、少なくともフィルム基材の両端の端部領域上に支持部材を配置することについて、より詳細に説明する。図4〜図6は、いずれも本発明に用いられる支持部材積層フィルム基材の一例を示す概略平面図である。また、図4〜図6において以下に説明しない符号については、図1と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。 Hereinafter, the arrangement of the supporting members on at least the end regions on both ends of the film substrate will be described in more detail. 4-6 is a schematic plan view which shows an example of the supporting member laminated | multilayer film base material used for this invention all. Moreover, since the reference numerals not described below in FIGS. 4 to 6 can be the same as those in FIG. 1, description thereof is omitted here.
本発明においては、例えば、図1や図4(a)に示すように、支持部材2をフィルム基材1の両端の端部領域上のみに配置し、かつ、パターン形成領域tには配置されないように、支持部材2を配置することができる。また、この場合、両端の端部領域sに配置された支持部材2の内側の貫通孔形成領域の任意の位置には、1個以上の貫通孔が設けられている。
具体的には、図4(b)に示すように、支持部材2に沿って貫通孔3が端部領域sのみに設けられていてもよいし、また図4(c)に示すように、フィルム基材1の両端の端部領域s以外の貫通孔形成領域uのみに貫通孔3が設けられていてもよいし、図示しないが、支持部材に沿って貫通孔が端部領域に形成され、かつ、上述したフィルム基材の両端の端部領域以外の貫通孔形成領域に貫通孔が設けられていてもよい。
In the present invention, for example, as shown in FIG. 1 and FIG. 4A, the
Specifically, as shown in FIG. 4B, the through
なお、上述した端部領域内における支持部材の配置としては、ロール状フィルム基材の上層および下層のフィルム基材の密着を防止し、かつ、巻内および巻外のフィルム基材の含水率を均一なものとすることが可能な配置であれば特に限定されない。具体的には、図4(a)、(b)、(c)、および図5(a)に示すように、フィルム基材1の両端の端部領域sの一部に支持部材2を配置してもよく、図5(b)に示すように、フィルム基材1の両端の端部領域s上の全面に支持部材2を配置してもよい。なお、図5(b)に示すように、支持部材2が、フィルム基材1の両端の端部領域s上の全面に配置される場合、フィルム基材1には、端部領域s以外の貫通孔形成領域uの任意の位置に貫通孔が設けられているものである。また、図示はしないが、支持部材の外側の端辺については、フィルム基材の幅方向の端辺を越えて配置されてもよい。
In addition, as arrangement | positioning of the supporting member in the edge part area | region mentioned above, the close_contact | adherence of the film base material of an upper layer and a lower layer of a roll-shaped film base material is prevented, and the moisture content of the film base material in a winding and unwinding is made. There is no particular limitation as long as the arrangement can be uniform. Specifically, as shown in FIGS. 4 (a), (b), (c), and FIG. 5 (a), the
本発明においては、通常、支持部材の位置決め精度等の問題を考慮し、図5(a)に示すように、フィルム基材1の両端の端部領域sの一部、より好ましくは端部領域sの中央部分に支持部材2が配置される。
In the present invention, in consideration of problems such as positioning accuracy of the support member, usually, as shown in FIG. 5A, a part of the end region s at both ends of the
本発明は、少なくともフィルム基材の両端の端部領域上に支持部材が配置されていることが好ましいが、なかでも、フィルム基材の両端の端部領域以外の領域のパターン形成領域外、すなわち貫通孔形成領域上にも支持部材が配置されていることが好ましい。ロール状フィルム基材において、上層のフィルム基材および下層のフィルム基材が密着してしまうことをより効果的に防止することができるからである。 In the present invention, it is preferable that the supporting members are disposed at least on the end regions at both ends of the film base material, but among them, outside the pattern formation region of the region other than the end region at both ends of the film base material, It is preferable that a support member is also disposed on the through hole forming region. This is because it is possible to more effectively prevent the upper film base material and the lower film base material from coming into close contact with each other in the roll film base material.
具体的には、図6(a)、(b)に示すように、支持部材2がフィルム基材1の両端の端部領域s以外にもパターン形成領域tを囲むように支持部材2を配置することができる。また、この場合は、図6(a)に示すように、パターン形成領域tの周辺全てを囲むように支持部材2を配置してもよく、また、図6(b)に示すように、パターン形成領域tの周辺の一部を除いて囲むように支持部材2を配置してもよい。なお図6(a)、(b)のいずれにおいても、支持部材2は、支持部材2が配置される部分と、パターン形成領域tとの間の貫通孔形成領域uの任意の位置に貫通孔が設けられているように配置される。
Specifically, as shown in FIGS. 6A and 6B, the
上述した支持部材の配置はいずれも、フィルム基材のパターン形成領域には、支持部材が配置されていないことから、パターン形成領域にゴミが付着したり、キズを生じたりする等の問題が発生することを防止することができ、パターン形成領域のフィルム基材表面を良好な状態で保つことが可能となる。 In any of the above-described support member arrangements, there is no support member in the pattern formation region of the film base material, which causes problems such as dust adhering to the pattern formation region or scratches. It can be prevented, and the surface of the film base in the pattern forming region can be kept in a good state.
(2)支持部材積層フィルム基材の構成
次に、支持部材積層フィルム基材が有する貫通孔、支持部材、およびフィルム基材についてそれぞれ説明する。
(2) Configuration of Support Member Laminated Film Base Next, the through hole, the support member, and the film base included in the support member laminated film base will be described.
(a)貫通孔
本発明における貫通孔はフィルム基材を貫通するものであり、フィルム基材をパターン形成体の基材に用いた場合に、パターン形成領域外に設けられるものである。
(A) Through hole The through hole in this invention penetrates a film base material, and when a film base material is used for the base material of a pattern formation body, it is provided out of a pattern formation area.
上記貫通孔の形成位置については上述した「(1)支持部材積層フィルム基材の形態」の項で説明したので、ここでの説明は省略する。 The formation positions of the through holes have been described in the above-mentioned section “(1) Form of support member laminated film base material”, and thus description thereof is omitted here.
上記貫通孔の形状としては、ロール状フィルム基材とした場合に、巻内まで外気を通気させ、ロール状フィルム基材の巻内および巻外の含水率を均一なものとすることが可能な形状であれば特に限定されるものではなく、例えば線状、円形状、楕円形状、矩形状、多角形状等を挙げることができる。 As the shape of the through-hole, when a roll-shaped film substrate is used, the outside air can be ventilated to the inside of the roll, and the water content in the roll and the outside of the roll-shaped film base can be made uniform. The shape is not particularly limited, and examples thereof include a linear shape, a circular shape, an elliptical shape, a rectangular shape, and a polygonal shape.
このような貫通孔の大きさとしては、ロール状フィルム基材とした場合に、巻内まで外気を通気させ、ロール状フィルム基材の巻内および巻外の含水率を均一なものとすることが可能であれば特に限定されるものではなく、0.1mm2〜20mm2の範囲内、なかでも1mm2〜10mm2の範囲内であることが好ましい。貫通孔の大きさが上記範囲に満たない場合は、巻内まで十分に外気を通気させることが困難となる可能性があるからであり、貫通孔の大きさが上記範囲を超える場合は、フィルム基材の強度が低下して、支持部材を巻回する際の搬送時、巻回時等にフィルム基材が変形してしまうおそれがあるからである。
As for the size of such a through-hole, when a roll-shaped film substrate is used, the outside air is vented to the inside of the winding, and the water content in the winding and the outside of the rolling-shaped film substrate is made uniform. if possible it is not particularly limited, in the range of 0.1
また、上記貫通孔の形成個数については、ロール状フィルム基材の巻内および巻外の含水率を均一なものとすることが可能であれば特に限定されるものではなく、ロール状フィルム基材の大きさ等により適宜選択されるものであるが、通常は複数形成されるものである。またこの場合、複数の貫通孔については、連続的に形成されていてもよいし、不連続で形成されていてもよいが、連続的に形成されていることが好ましい。
ここで、複数の貫通孔が連続的に形成されているとは、複数の貫通孔が所定のパターン配列を有するように連続的に形成されていることを指す。
Further, the number of the through holes formed is not particularly limited as long as the moisture content inside and outside the roll-shaped film substrate can be made uniform, and the roll-shaped film substrate is not particularly limited. The size is appropriately selected depending on the size, etc., but usually a plurality are formed. In this case, the plurality of through holes may be formed continuously or discontinuously, but are preferably formed continuously.
Here, that the plurality of through holes are continuously formed means that the plurality of through holes are continuously formed so as to have a predetermined pattern arrangement.
また、この場合、貫通孔のパターン配列としては、隣接する貫通孔同士がつながらない程度に所定の間隔を空けて形成することができれば特に限定されるものではない。本発明においては、隣接する貫通孔間の間隔が、貫通孔1個分〜貫通孔30個分の範囲内となるような配列であることが好ましく、なかでも貫通孔1個分〜貫通孔10個分の範囲内、特に貫通孔2個分〜貫通孔5個分の範囲内であることが好ましい。上記間隔が上記範囲に満たない場合は、フィルム基材の強度を低下させる可能性があるからであり、上記間隔が上記範囲を超える場合は、貫通孔を形成した場合であっても、ロール状フィルム基材の巻内に十分な外気を通気させることが困難となるため、ロール状フィルム基材の巻内および巻外の含水率を均一なものとすることが困難となる可能性があるからである。 In this case, the pattern arrangement of the through holes is not particularly limited as long as it can be formed with a predetermined interval so that adjacent through holes are not connected to each other. In the present invention, the arrangement is preferably such that the interval between adjacent through holes is within the range of one through hole to 30 through holes, and in particular, one through hole to 10 through holes. It is preferable that it is within the range of the number of pieces, particularly within the range of two through holes to five through holes. If the distance is less than the above range, the strength of the film substrate may be reduced. If the distance exceeds the above range, even if a through-hole is formed, the roll shape Since it is difficult to ventilate sufficient outside air into the film substrate roll, it may be difficult to make the moisture content inside and outside the roll film substrate uniform. It is.
また、複数の貫通孔を連続的に形成する場合は、図4(b)、(c)に示すように、長手方向もしくは幅方向に列をなすように複数の貫通孔が形成される。このような貫通孔の列としては1列であってもよいし、2列以上であってもよい。 Further, when a plurality of through holes are formed continuously, as shown in FIGS. 4B and 4C, the plurality of through holes are formed so as to form a line in the longitudinal direction or the width direction. Such a row of through holes may be one row or two or more rows.
上記貫通孔の形成方法としては、所望の形状および大きさを有する貫通孔をフィルム基材上に形成することが可能な方法であれば特に限定されるものではなく、例えば打ち抜き、くり抜き、型押し等の手法を用いることができる。また、レーザ−加工等でも形成することが可能である。 The method for forming the through hole is not particularly limited as long as it is a method capable of forming a through hole having a desired shape and size on a film substrate. For example, punching, punching, embossing Etc. can be used. It can also be formed by laser processing or the like.
(b)支持部材
本発明に用いられる支持部材は、上記フィルム基材上に部分的に配置されるものであり、ロール状フィルム基材においては、上層のフィルム基材および下層のフィルム基材の間に空間を形成するために用いられるものである。また、支持部材はフィルム基材から取り外し可能な状態で配置されるものである。
(B) Support member The support member used in the present invention is partially disposed on the film base material. In the roll-shaped film base material, the upper film base material and the lower film base material It is used to form a space between them. Moreover, a support member is arrange | positioned in the state which can be removed from a film base material.
上記支持部材としては、可撓性を有し、かつ、ロール状フィルム基材の上層および下層のフィルム基材が密着しないようにフィルム基材を支持することができるものであれば特に限定されるものではない。
また、上記支持部材としては、通気性を有するものであってもよいし、通気性を有さないものであってもよい。以下、それぞれに分けて説明する。
The supporting member is not particularly limited as long as it has flexibility and can support the film base so that the upper and lower film bases of the roll-shaped film base do not adhere to each other. It is not a thing.
Further, the support member may be air permeable or may not be air permeable. In the following, description will be given separately.
(i)通気性を有する支持部材
通気性を有する支持部材としては、具体的には空隙部材を挙げることができる。空隙部材は、それ自体も外気を通気させることができることから、ロール状フィルム基材の巻内により多くの外気を通気させることが可能となる点で有用である。
(I) Air-permeable support member Specific examples of the air-permeable support member include a gap member. Since the gap member itself can ventilate the outside air, it is useful in that a large amount of the outside air can be ventilated in the roll of the roll-shaped film substrate.
上記空隙部材としては、可撓性を有し、ロール状フィルム基材の巻内および巻外の含水率の差を生じさせない程度の通気性および透湿性を有し、かつ、離型性が高いものであれば、特に限定されるものではなく、例えば、多孔質シート、不織布、ICチップ搬送用キャリアテープ、ワイプ、紙、ナイロンフィルム等を挙げることができる。 The gap member is flexible, has air permeability and moisture permeability so as not to cause a difference in moisture content between the roll and roll of the roll-shaped film base material, and has high releasability. If it is a thing, it will not specifically limit, For example, a porous sheet, a nonwoven fabric, a carrier tape for IC chip conveyance, a wipe, paper, a nylon film etc. can be mentioned.
ここで、本発明における空隙部材の断面形状としては、例えば、少なくとも一方の表面に凹凸が形成されている凹凸形状の空隙部材であってもよいし、複数の通気孔を有する多孔質形状の空隙部材であってもよいし、1枚の板状部材を加工してウェーブ状に成型された空隙部材であってもよい。 Here, the cross-sectional shape of the void member in the present invention may be, for example, an uneven void member having irregularities formed on at least one surface, or a porous void having a plurality of vent holes. It may be a member, or may be a gap member formed by processing one plate-like member into a wave shape.
本発明における空隙部材としては、なかでも、少なくとも一方の表面に凹凸が形成されている凹凸形状の空隙部材であることがより好ましい。上述した断面形状を有する空隙部材は、通気性および透湿性に優れるものであり、また、フィルム基材上に配置しやすいからである。 In particular, the void member in the present invention is more preferably a concavo-convex-shaped void member in which irregularities are formed on at least one surface. This is because the gap member having the above-described cross-sectional shape is excellent in air permeability and moisture permeability and is easily disposed on the film substrate.
ここで、上記凹凸形状とは、凹凸形状によりなる隙間が所望の通気性および透湿性を有する形状であれば特に限定されない。例えば、凸部の高さが、0.01mm〜1.5mmの範囲内、凸部が潰れない程度で好ましくは、0.1mm〜0.5mmの範囲内であり、隣接する凸部同士の距離が0.01mm〜4.0mmの範囲内、好ましくは、0.1mm〜2.0mmの範囲内である。
なお、上記凸部の高さ、および隣接する凸部同士の距離については、mmオーダーであればノギスや顕微鏡を用いて測定することができる。また、μmオーダーの場合は触針式の表面粗さ計(ミカサ株式会社、品名ET4000L−S)を用いて測定することができる。
なお、凸部の高さとは、図7に示す空隙部材2’においてQで示されるものであり、隣接する凸部同士の距離とは図7に示す空隙部材2’においてPで示される距離を指す。なお、図7は、本発明に用いられる空隙部材(支持部材)の一例を示す概略断面図である。
Here, the uneven shape is not particularly limited as long as the gap formed by the uneven shape has desired air permeability and moisture permeability. For example, the height of the convex portion is within a range of 0.01 mm to 1.5 mm, and preferably within a range of 0.1 mm to 0.5 mm so that the convex portion is not crushed, and the distance between adjacent convex portions Is in the range of 0.01 mm to 4.0 mm, preferably in the range of 0.1 mm to 2.0 mm.
In addition, about the height of the said convex part and the distance of adjacent convex parts, if it is mm order, it can be measured using a caliper or a microscope. In the case of the μm order, it can be measured using a stylus type surface roughness meter (Mikasa Corporation, product name ET4000L-S).
The height of the convex portion is indicated by Q in the
また、凸部のフィルム基材と接触する面の形状は、平面であっても曲面であってもよいが、平面であることが好ましい。フィルム基材に傷を生じにくい形状であるからである。 The shape of the surface of the convex portion that contacts the film substrate may be a flat surface or a curved surface, but is preferably a flat surface. It is because it is a shape which does not produce a damage | wound to a film base material.
本発明における空隙部材の通気度としては、ロール状フィルム基材に配置した場合に巻内および巻外の含水率の差を生じさせない程度の通気度であれば特に限定されるものではないが、1.4cm3/cm2・sec以上であることが好ましい。通気度が上記数値より小さい場合は、空隙部材の通気性および透湿性が十分ではないことから、ロール状フィルム基材に用いた場合に、巻内および巻外の含水率を均一にすることが困難となるおそれがあるからである。
なお、上記通気度は、JIS L1096 8.27.1 A法(フラジール形法)により測定される。
The air permeability of the gap member in the present invention is not particularly limited as long as the air permeability is such that it does not cause a difference in moisture content between the inside and outside of the roll when placed on a roll-shaped film substrate. It is preferably 1.4 cm 3 / cm 2 · sec or more. When the air permeability is smaller than the above numerical value, the air permeability and moisture permeability of the gap member are not sufficient, so that when used for a roll-shaped film substrate, the moisture content in and outside the winding can be made uniform. This is because it may be difficult.
The air permeability is measured by JIS L1096 8.27.1 A method (Fragile method).
また、空隙部材が平坦な部材である場合の表面粗さ(Ra)としては、1μm以上であることが好ましく、2μm以上であることがより好ましく、5μm以上であることがさらに好ましい。Raが上記範囲より小さいと、空隙部材が有する空隙が少なくなり、通気性および透湿性を高くすることができないからである。なお、本発明に用いられる空隙部材のRaは、通常、10μm以下である。なお、ここでの「表面粗さ(Ra)」は、「算術平均表面粗さ」であり、JIS−B0601に準拠して測定される。 Moreover, as surface roughness (Ra) in case a space | gap member is a flat member, it is preferable that it is 1 micrometer or more, it is more preferable that it is 2 micrometers or more, and it is further more preferable that it is 5 micrometers or more. This is because when Ra is smaller than the above range, the gap member has less gaps, and the air permeability and moisture permeability cannot be increased. In addition, Ra of the space | gap member used for this invention is 10 micrometers or less normally. In addition, "surface roughness (Ra)" here is "arithmetic mean surface roughness", and is measured based on JIS-B0601.
上述した空隙部材の形状、通気度、および表面粗さ(Ra)等を考慮すると、本発明において好ましい空隙部材としては、上述した具体例のなかでも、多孔質シート、ICチップ搬送用キャリアテープ、ワイプ、ナイロンフィルム等を挙げることができ、特に好ましい空隙部材としては、多孔質シート、ICチップ搬送用キャリアテープ等を挙げることができる。 In consideration of the shape, air permeability, surface roughness (Ra), and the like of the above-described gap member, among the above-described specific examples, preferable gap members in the present invention include a porous sheet, a carrier tape for IC chip conveyance, A wipe, a nylon film, etc. can be mentioned, As a especially preferable space | gap member, a porous sheet, a carrier tape for IC chip conveyance, etc. can be mentioned.
本発明に用いられる空隙部材の厚さとしては、20μm〜200μmの範囲内であることが好ましい。空隙部材の厚さが上記範囲よりも薄すぎると、支持部材積層フィルム基材を巻回したときに空隙がつぶれ易くなり、上記範囲よりも厚すぎると、支持部材積層フィルム基材の巻回ができなくなるためである。 The thickness of the gap member used in the present invention is preferably in the range of 20 μm to 200 μm. When the thickness of the gap member is too thin than the above range, the gap is easily crushed when the support member laminated film substrate is wound. When the gap member is too thick, the winding of the support member laminated film substrate is It is because it becomes impossible.
本発明に用いられる空隙部材の幅としては、ロール状フィルム基材の巻内および巻外の含水率が均一となるように空隙部材をフィルム基材上に部分的に配置することが可能な幅であれば特に限定されるものではなく、ロール状フィルム基材の幅、パターン形成領域の大きさ等により適宜選択されるものである。 The width of the gap member used in the present invention is a width that allows the gap member to be partially arranged on the film base so that the moisture content inside and outside the roll film base is uniform. If it is, it will not specifically limit, According to the width | variety of a roll-shaped film base material, the magnitude | size of a pattern formation area, etc., it selects suitably.
なお、空隙部材を少なくともフィルム基材の両端の端部領域上に配置する場合は、上記空隙部材の幅としては、5mm〜60mmの範囲内、中でも5mm〜30mmmの範囲内特に5mm〜15mmの範囲内であることが好ましい。空隙部材の幅が上記範囲よりも広すぎると、ロール状フィルム基材に配置した際に、はみ出た部分が無駄になり、上記範囲よりも狭すぎると、フィルム基材を支えることが困難となり、ロール状フィルム基材において上層のフィルム基材と下層のフィルム基材とが密着して通気性が損なわれるからである。
なお、上記の場合における空隙部材の幅は、図4(a)および図6(a)においてvで示される距離を指すものである。
In addition, when arrange | positioning a space | gap member at least on the edge part area | region of the both ends of a film base material, as the width | variety of the said space | gap member, it exists in the range of 5 mm-60 mm, especially the range of 5 mm-30 mm, especially the range of 5 mm-15 mm. It is preferable to be within. If the width of the gap member is too wide than the above range, the protruding part is wasted when placed on the roll film base, and if it is too narrow than the above range, it becomes difficult to support the film base, This is because, in the roll-shaped film substrate, the upper film substrate and the lower film substrate are in close contact with each other, and air permeability is impaired.
In addition, the width | variety of the space | gap member in said case points out the distance shown by v in FIG. 4 (a) and FIG. 6 (a).
(ii)通気性を有さない支持部材
通気性を有さない支持部材としては、合成樹脂フィルムおよび金属を挙げることができる。
より具体的には、ポリエーテルサルフォン(PES)、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂等の合成樹脂フィルムや、後述するフィルム基材に用いられる合成樹脂フィルム、アルミニウム、銅、ステンレス等の金属が用いられる。なかでも、上記支持部材としては、フィルム基材と同種の合成樹脂フィルムであることが好ましい。フィルム基材および支持部材の弾性率、表面摩擦、熱膨張、湿度膨張等の物性を同等のものとすることができることから、支持部材積層フィルム基材を巻回してロール状フィルム基材とする際に、安定的に巻回することが可能であり、保管時にもロール状フィルム基材に伸縮、歪み、しわ等が発生し難いものとすることができることから、良好な状態で保管を行うことが可能となる。
(Ii) Supporting member that does not have air permeability Examples of the supporting member that does not have air permeability include synthetic resin films and metals.
More specifically, synthetic resin films such as polyethersulfone (PES), acrylic resin, and vinyl chloride resin, synthetic resin films used for film bases described later, and metals such as aluminum, copper, and stainless steel are used. . Especially, it is preferable that it is a synthetic resin film of the same kind as a film base material as said support member. Since the physical properties such as the elastic modulus, surface friction, thermal expansion, and humidity expansion of the film substrate and the support member can be made equivalent, when the support member laminated film substrate is wound into a roll-shaped film substrate In addition, it can be stably wound, and can be stored in a good condition since it can be hardly stretched, distorted, wrinkled, etc. in the roll-shaped film substrate even during storage. It becomes possible.
通気性を有さない支持部材の厚みとしては、ロール状フィルム基材の上層および下層のフィルム基材が密着しないようにすることができる程度の厚みであれば特に限定されるものではないが、0.025mm〜0.5mmの範囲内であることが好ましく、中でも0.05mm〜0.3mmの範囲内であることが好ましい。厚みが上記範囲に満たない場合は、ロール状フィルム基材の上層および下層のフィルム基材の間に形成される空間の容積を十分なものとすることができず、巻内および巻外の含水率を均一なものとすることが困難になる可能性があるからであり、厚みが上記範囲を超える場合は、支持部材積層フィルム基材を巻回する際の安定性が悪く巻崩れるおそれがあるからである。また、ロール状フィルム基材の体積が大きくなることから、その扱いが困難となる可能性があるからである。 The thickness of the support member that does not have air permeability is not particularly limited as long as the thickness is such that the upper layer and the lower layer film substrate of the roll-shaped film substrate do not adhere to each other. It is preferably in the range of 0.025 mm to 0.5 mm, and more preferably in the range of 0.05 mm to 0.3 mm. When the thickness is less than the above range, the volume of the space formed between the upper layer and the lower layer film substrate of the roll-shaped film substrate cannot be made sufficient, and the water content inside and outside the winding can be reduced. This is because it may be difficult to make the rate uniform, and when the thickness exceeds the above range, the stability when winding the support member laminated film substrate may be poor and the roll may collapse. Because. Moreover, since the volume of a roll-shaped film base material becomes large, it is because the handling may become difficult.
通気性を有さない支持部材の幅については、上述した支持部材の幅と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。 Since the width of the support member that does not have air permeability can be the same as the width of the support member described above, description thereof is omitted here.
(iii)支持部材
本発明においては、上述した支持部材の中でも、特にフィルム基材と同一の合成樹脂フィルムを用いることが好ましい。この理由については上述したため、ここでの記載は省略する。
(Iii) Support member In the present invention, among the above-described support members, it is particularly preferable to use the same synthetic resin film as the film substrate. Since this reason was mentioned above, description here is abbreviate | omitted.
(c)フィルム基材
本発明に用いられるフィルム基材は、巻回されてロール状フィルム基材となるものである。上記フィルム基材は、可撓性を有する樹脂基材であれば、特に限定されるものではなく、本発明のロール状フィルム基材の用途等に応じて、任意の樹脂材料からなる基材を用いることができる。
このようなフィルム基材の材料としては、例えば、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)、ポリイミド(PI)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリフェニレンサルファイド(PPS)、ポリエーテルイミド(PEI)、セルローストリアセテート(CTA)、環状ポリオレフィン(COP)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリサルフォン(PSF)、ポリアミドイミド(PAI)、ノルボルネン系樹脂、アリルエステル樹脂等の合成樹脂を挙げることができ、中でも、PEN、PETが好ましい。
(C) Film base material The film base material used for this invention is wound and turns into a roll-shaped film base material. The film base material is not particularly limited as long as it is a flexible resin base material. A base material made of any resin material is used depending on the use of the roll-shaped film base material of the present invention. Can be used.
Examples of such a film base material include polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polyimide (PI), polyetheretherketone (PEEK), polyethylene (PE), and polypropylene. (PP), polyphenylene sulfide (PPS), polyetherimide (PEI), cellulose triacetate (CTA), cyclic polyolefin (COP), polymethyl methacrylate (PMMA), polysulfone (PSF), polyamideimide (PAI), norbornene resin And synthetic resins such as allyl ester resins, among which PEN and PET are preferable.
また、本発明に用いられるフィルム基材の湿度膨張係数としては、2×10−5/%RH以下であることが好ましく、1×10−5/%RH以下であることがより好ましく、5×10−6/%RH以下であることがさらに好ましい。湿度変化による寸法変化量が少なく、取り扱いが容易となるからである。 As the humidity expansion coefficient of the film substrate used in the present invention, it is preferably 2 × 10 -5 /% RH or less, more preferably less RH 1 × 10 -5 /%, 5 × More preferably, it is 10 −6 /% RH or less. This is because the amount of dimensional change due to changes in humidity is small and handling is easy.
また、本発明に用いられるフィルム基材の線膨張係数としては、2×10−5/℃以下であることが好ましく、1×10−5/℃以下であることがより好ましく、5×10−6/℃以下であることがさらに好ましい。温度変化による寸法変化量が少なく、取り扱いが容易だからである。 As the linear expansion coefficient of the film substrate used in the present invention, it is preferably 2 × 10 -5 / ℃ or less, more preferably at most 1 × 10 -5 / ℃, 5 × 10 - More preferably, it is 6 / ° C. or less. This is because the amount of dimensional change due to temperature change is small and handling is easy.
また、本発明に用いられるフィルム基材の厚さとしては、1μm〜1mmの範囲内であることが好ましく、10μm〜500μmの範囲内であることがより好ましく、50μm〜250μmの範囲内であることがさらに好ましい。フィルム基材の厚さが上記範囲よりも厚すぎると、フレキシブル性が損なわれ、ロール状フィルム基材の作製が困難になり、折れやすくなるからである。一方、上記範囲よりも薄すぎると、こしが無くなり、各工程における取り扱いが困難になるからである。 In addition, the thickness of the film substrate used in the present invention is preferably in the range of 1 μm to 1 mm, more preferably in the range of 10 μm to 500 μm, and in the range of 50 μm to 250 μm. Is more preferable. This is because if the thickness of the film substrate is too thick than the above range, the flexibility is impaired, making it difficult to produce a roll-shaped film substrate, and it is easy to break. On the other hand, when it is thinner than the above range, there is no strain and handling in each step becomes difficult.
また、本発明に用いられるフィルム基材の幅としては、本工程において巻回することによりロール状フィルム基材を準備することができれば、特に限定されるものではないが、例えば、100mm〜1000mmの範囲内であることが好ましく、150mm〜600mmの範囲内であることがより好ましい。 In addition, the width of the film substrate used in the present invention is not particularly limited as long as a roll-shaped film substrate can be prepared by winding in this step, but for example, 100 mm to 1000 mm It is preferably within the range, and more preferably within the range of 150 mm to 600 mm.
なお、本発明に用いられるフィルム基材は、単一層からなる構成であっても良く、あるいは、複数の層が積層された構成を有するものであっても良い。 In addition, the film base material used for this invention may be the structure which consists of a single layer, or may have the structure by which the several layer was laminated | stacked.
2.ロール状フィルム基材
本発明のロール状フィルム基材の用途としては、パターン形成体の基材として用いることが可能であれば特に限定されるものではないが、画像表示素子の基材として用いられることが好ましい。上記画像表示素子の基材としては、例えば、カラーフィルタ形成用基板、配線パターン形成用基板等に用いることができる。本発明においては、特にカラーフィルタ形成用基板として用いられることが好ましい。
2. Roll-shaped film base material The use of the roll-shaped film base material of the present invention is not particularly limited as long as it can be used as a base material for a pattern forming body, but it is used as a base material for an image display element. It is preferable. As a base material of the image display element, for example, it can be used for a color filter forming substrate, a wiring pattern forming substrate, and the like. In the present invention, it is particularly preferably used as a color filter forming substrate.
また、図1においては、支持部材積層フィルム基材11がコア材等を用いずに巻回されているロール状フィルム基材について示しているが、コア材を有していてもよい。
上記コア材については、一般的なロール状フィルム基材に用いられるものと同様とすることができるが、その内径が、70mm〜160mmの範囲内のものを好適に用いることが可できる。
Moreover, in FIG. 1, although the support member laminated | multilayer
The core material can be the same as that used for a general roll-shaped film substrate, but those having an inner diameter in the range of 70 mm to 160 mm can be suitably used.
また、本発明のロール状フィルム基材は、上述した構成を有することにより、巻内および巻外の含水率に差を生じないものである。このようなロール状フィルム基材は、一般的なロール状フィルム基材と同様の製造方法で形成することが可能である。また、本発明においては、上述した支持部材をフィルム基材の両端の端部領域に配置することが好ましいことから、一般的なナーリングが行われるロール状フィルム基材と同様の製造方法で製造することがより好ましい。具体的には、後述する「C.ロール状フィルム基材の製造方法」の項で説明する製造方法を用いることができる。
なお、ナーリングとは、フィルム基材をロール状に巻回する際に生じる応力により、フィルム基材のパターン形成領域等に欠陥を生じさせないようにするために、フィルム基材の両端部分に空隙層を形成したり、凹凸模様を形成してフィルム基材の両端部分の厚みを厚くすることを指す。
Moreover, the roll-shaped film base material of this invention does not produce a difference in the moisture content in a winding and unwinding by having the structure mentioned above. Such a roll-shaped film substrate can be formed by the same production method as a general roll-shaped film substrate. Moreover, in this invention, since it is preferable to arrange | position the supporting member mentioned above to the edge part area | region of the both ends of a film base material, it manufactures with the manufacturing method similar to the roll-shaped film base material in which general knurling is performed. It is more preferable. Specifically, the production method described in the section “C. Production method of roll-shaped film substrate” described later can be used.
In addition, knurling is a void layer at both end portions of the film base material so as not to cause a defect in the pattern formation region of the film base material due to stress generated when the film base material is wound into a roll shape. Or forming a concavo-convex pattern to increase the thickness of both end portions of the film substrate.
B.ロール状パターン付フィルム基材
次に、本発明のロール状パターン付フィルム基材について説明する。本発明のロール状パターン付フィルム基材は、貫通孔を有するフィルム基材、および少なくとも上記フィルム基材の両端の端部領域に配置された支持部材を備える支持部材積層フィルム基材と、上記フィルム基材の上記貫通孔が設けられている貫通孔形成領域外であって、かつ上記フィルム基材上の上記支持部材が配置されている支持部材配置領域外に設けられたパターンとを有するパターン付フィルム基材が巻回されてなることを特徴とするものである。
B. Next, the film substrate with a roll pattern of the present invention will be described. The roll-patterned film substrate of the present invention includes a film substrate having a through-hole, and a support member laminated film substrate including at least support members disposed in end regions at both ends of the film substrate, and the film With a pattern having a pattern provided outside the through hole forming region where the through hole is provided on the base material and outside the supporting member arrangement region where the supporting member is arranged on the film base material The film base material is wound.
なお、本発明における貫通孔形成領域については、上述した「A.ロール状フィルム基材」の項で説明した領域と同様であるため、ここでの説明は省略する。
また、本発明における支持部材配置領域とは、上述した「A.ロール状フィルム基材」の項で説明した、少なくとも上記フィルム基材の両端の端部領域上に支持部材を配置する場合に、支持部材が配置される領域を指す。より具体的には、図1、および図4〜6において支持部材2が配置されている領域を指す。
In addition, about the through-hole formation area | region in this invention, since it is the same as that of the area | region demonstrated by the term of the "A. roll-shaped film base material" mentioned above, description here is abbreviate | omitted.
In addition, the support member arrangement region in the present invention is described in the above-mentioned section of “A. Roll-shaped film substrate”, and at least when the support member is arranged on the end region at both ends of the film substrate, It refers to the region where the support member is placed. More specifically, it refers to the region where the
本発明のロール状パターン付フィルム基材について図を用いて説明する。図8は、本発明のロール状パターン付フィルム基材の一例を示す模式図である。図8に示すように、本発明のロール状パターン付フィルム基材20は、貫通孔3を有するフィルム基材1、およびフィルム基材1の両端の端部領域に配置された支持部材2を備える支持部材積層フィルム基材11と、フィルム基材1の貫通孔3が設けられている貫通孔形成領域外であって、かつフィルム基材1上の支持部材2が配置されている支持部材配置領域外に形成されたパターン4とを有するパターン付フィルム基材21が巻回されてなるものである。
The roll-patterned film substrate of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 8 is a schematic view showing an example of a film substrate with a roll pattern of the present invention. As shown in FIG. 8, the roll-patterned
本発明によれば、上記支持部材積層フィルム基材を有することにより、フィルム基材の巻内および巻外に関係なく均一な含水率を有することができるため、巻内および巻外とで寸法ずれのない高精細なパターンが形成されたロール状パターン付フィルム基材とすることができる。また、上記パターン上に新たなパターンを形成する場合には、重ね合わせの精度を高くパターンを積層させて形成することが可能となる。また、支持部材は取り外しが可能であることから、上記パターン付フィルム基材を用いて画像表示素子等を製造する場合に、パターンの形成加工を妨げないため、容易に加工を行うことができる。
以下、本発明に用いられるパターン付フィルム基材について説明する。
According to the present invention, by having the support member laminated film base material, it is possible to have a uniform moisture content regardless of whether the film base material is wound or unwound. It can be set as the film base material with a roll-shaped pattern in which the high-definition pattern without this was formed. In addition, when a new pattern is formed on the pattern, it is possible to form a pattern by stacking the patterns with high overlay accuracy. In addition, since the support member can be removed, when the image display element or the like is manufactured using the patterned film base material, the pattern forming process is not hindered, so that the process can be easily performed.
Hereinafter, the patterned film substrate used in the present invention will be described.
1.パターン付フィルム基材
本発明に用いられるパターン付フィルム基材は、貫通孔を有するフィルム基材、および少なくとも上記フィルム基材の両端の端部領域に配置された支持部材からなる支持部材積層フィルム基材と、上記フィルム基材の上記貫通孔が設けられている貫通孔形成領域外であって、かつ上記フィルム基材上の上記支持部材が配置されている支持部材配置領域外に設けられたパターンとを有するものである。
なお、支持部材積層フィルム基材については、上述した「A.ロール状フィルム基材」の項で説明した、支持部材が少なくともフィルム基材の両端の端部領域上に配置されているものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。以下、パターンについて説明する。
1. Patterned film substrate The patterned film substrate used in the present invention is a support member laminated film base comprising a film substrate having a through-hole, and at least support members disposed at both end regions of the film substrate. The material and the pattern provided outside the through-hole forming area where the through-hole of the film base is provided and outside the support member arranging area where the supporting member on the film base is arranged It has.
In addition, about the support member laminated | multilayer film base material, it is the same as that which the support member demonstrated in the above-mentioned item of "A. Roll-shaped film base material" is arrange | positioned at the edge part area | region of the both ends of a film base material at least. Therefore, the description here is omitted. Hereinafter, the pattern will be described.
本発明に用いられるパターンは、上記フィルム基材の上記貫通孔が設けられている貫通孔形成領域外であって、かつ上記フィルム基材上の上記支持部材が配置されている支持部材配置領域外に設けられるものであり、具体的には、図1(a)等に示すフィルム基材1におけるパターン形成領域tに設けられるものである。
The pattern used in the present invention is outside the through hole forming region where the through hole of the film base is provided and outside the supporting member placement region where the supporting member on the film base is placed. Specifically, it is provided in the pattern formation region t in the
また、パターンとは、フィルム基材上に所定のパターン状に形成することができるものであれば特に限定されるものではないが、画像表示素子用のものであることが好ましい。画像表示素子においては、従来使用されてきたガラス基板の代わりに上記フィルム基材を用いることにより、薄型軽量化が可能となり、かつ耐衝撃性を向上させることが可能となるからである。上記画像表示素子用のパターンとしては、画像表示素子に用いられる光学機能層や、画像表示素子全体を指すものである。 Moreover, a pattern will not be specifically limited if it can be formed in a predetermined pattern form on a film base material, However, It is preferable for an image display element. This is because, in an image display element, by using the film base material in place of a conventionally used glass substrate, it is possible to reduce the thickness and weight and to improve the impact resistance. The pattern for the image display element indicates an optical functional layer used for the image display element or the entire image display element.
上記パターンが画像表示素子全体を指す場合は、例えばカラーフィルタ、配線パターン等を挙げることができる。
また、上記パターンが光学機能層を指す場合は、例えばカラーフィルタの画素部、配線パターンの画素部、ハードコート層、アンチグレア層、アンチリフレクション層、偏光層等を挙げることができる。
When the said pattern points out the whole image display element, a color filter, a wiring pattern, etc. can be mentioned, for example.
Moreover, when the said pattern points out an optical function layer, the pixel part of a color filter, the pixel part of a wiring pattern, a hard-coat layer, an anti-glare layer, an anti-reflection layer, a polarizing layer etc. can be mentioned, for example.
本発明においては、特に上記パターンがカラーフィルタ、またはカラーフィルタの画素部であることが好ましい。 In the present invention, it is particularly preferable that the pattern is a color filter or a pixel portion of a color filter.
また、パターンの形成方法としては、所望のパターン形状に精度高く形成することができれば、特に限定されるものではなく、例えば、フォトリソグラフィー法およびインクジェット法等、一般的に公知の方法を用いることができるため、ここでの説明は省略する。 Further, the pattern forming method is not particularly limited as long as it can be accurately formed in a desired pattern shape. For example, generally known methods such as a photolithography method and an ink jet method are used. Since it can do, description here is abbreviate | omitted.
上記パターン付フィルム基材としては、上述した画像表示素子、もしくは画像表示素子を複数有する多面付け基板として用いられる。 As said film base material with a pattern, it is used as a multi-sided board | substrate which has multiple image display elements mentioned above or an image display element.
2.ロール状パターン付フィルム基材
本発明のロール状パターン付フィルム基材は、上述したパターン付フィルム基材が巻回してなるものである。上記パターン付フィルム基材の製造方法については、上記パターン付フィルム基材を一般的な巻回方法により巻回することにより製造することができる。巻回方法については、後述する「C.ロール状フィルム基材の製造方法」の製造方法の項で説明するため、ここでの説明は省略する。
2. Film substrate with roll pattern The film substrate with roll pattern of the present invention is formed by winding the above-described film substrate with pattern. About the manufacturing method of the said film base material with a pattern, it can manufacture by winding the said film base material with a pattern with a general winding method. Since the winding method will be described in the manufacturing method section of “C. Manufacturing method of roll-shaped film substrate” described later, description thereof is omitted here.
C.ロール状フィルム基材の製造方法
次に、本発明のロール状フィルム基材の製造方法について説明する。本発明のロール状フィルム基材の製造方法は、フィルム基材、および上記フィルム基材上に部分的に配置された支持部材を有し、上記フィルム基材をパターン形成体の基材に用いた際に、上記フィルム基材のパターンが設けられるパターン形成領域外に上記フィルム基材を貫通する貫通孔が設けられている支持部材積層フィルム基材が巻回されてなるロール状フィルム基材を形成するロール状フィルム基材準備工程と、上記ロール状フィルム基材の含水率が、所定の温湿度雰囲気下における含水率に達するまで、上記ロール状フィルム基材を上記温湿度雰囲気下で保管する保管工程とを有することを特徴とする製造方法である。
C. Next, the manufacturing method of the roll-shaped film base material of this invention is demonstrated. The manufacturing method of the roll-shaped film base material of this invention has the supporting member partially arrange | positioned on the film base material and the said film base material, The said film base material was used for the base material of a pattern formation body. In this case, a roll-shaped film substrate is formed by winding a support member laminated film substrate provided with a through-hole penetrating the film substrate outside the pattern formation region where the pattern of the film substrate is provided. And storing the roll-shaped film substrate in the temperature-humidity atmosphere until the moisture content of the roll-shaped film substrate reaches a moisture content in a predetermined temperature-humidity atmosphere. It is a manufacturing method characterized by having a process.
本発明のロール状フィルム基材の製造方法について、図を参照しながら説明する。図9は、本発明のロール状フィルム基材の製造方法の一例を示す工程図である。図示はしないが、まずフィルム基材においてパターン形成体の基材として用いた際にパターンが形成されるパターン形成領域外に貫通孔を設ける。次に、図9(a)に示されるように、フィルム基材1上に部分的に支持部材2を配置することで、支持部材積層フィルム基材11を作製し、図9(b)に示されるように、支持部材積層フィルム基材11を巻回して、ロール状フィルム基材10を形成する(ロール状フィルム基材準備工程)。次に、ロール状フィルム基材10を、その含水率が所定の温湿度雰囲気下における含水率に達するまで保管する(保管工程)。これにより、所定の温湿度雰囲気下における含水率に達したロール状フィルム基材10を得る。
The manufacturing method of the roll-shaped film base material of this invention is demonstrated referring a figure. FIG. 9 is a process diagram showing an example of a method for producing a roll film substrate of the present invention. Although not shown, first, a through hole is provided outside a pattern formation region where a pattern is formed when the film substrate is used as a substrate of a pattern forming body. Next, as shown in FIG. 9A, the support member laminated
本発明によれば、上記支持部材および貫通孔を有するロール状フィルム基材を含水率が所定の温湿度雰囲気下における含水率に達するまで保管することで、巻内および巻外に関係なく均一な含水率を有するロール状フィルム基材を得ることができる。 According to the present invention, the roll-shaped film substrate having the support member and the through hole is stored until the moisture content reaches the moisture content in a predetermined temperature and humidity atmosphere, so that it is uniform regardless of whether it is inside or outside the winding. A roll-shaped film substrate having a moisture content can be obtained.
本発明のロール状フィルム基材の製造方法は、少なくともロール状フィルム基材準備工程および保管工程を有するものであり、必要に応じて他の任意の工程を有していても良いものである。
以下、各工程について説明する。
The manufacturing method of the roll-shaped film base material of this invention has a roll-shaped film base material preparatory process and a storage process at least, and may have another arbitrary processes as needed.
Hereinafter, each step will be described.
1.ロール状フィルム基材準備工程
本工程は、フィルム基材、および上記フィルム基材上に部分的に配置された支持部材を有し、上記フィルム基材をパターン形成体の基材に用いた際に、上記フィルム基材のパターンが設けられるパターン形成領域外に上記フィルム基材を貫通する貫通孔が設けられている支持部材積層フィルム基材が巻回されてなるロール状フィルム基材を形成する工程である。
なお、本工程により形成される支持部材積層フィルム基材については、上述した「A.ロール状フィルム基材」の項で説明したものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
1. Roll-shaped film base material preparation step This step has a film base material and a support member partially disposed on the film base material, and when the film base material is used as a base material for a pattern forming body. The process of forming the roll-shaped film base material by which the support member laminated | multilayer film base material in which the through-hole which penetrates the said film base material is provided out of the pattern formation area | region in which the pattern of the said film base material is provided is wound It is.
In addition, about the support member laminated | multilayer film base material formed by this process, since it can be made to be the same as that of what was demonstrated by the term of "A. roll-shaped film base material" mentioned above, description here is abbreviate | omitted. .
本工程においては、上記支持部材積層フィルム基材を巻回し、ロール状フィルム基材を準備する。支持部材積層フィルム基材の巻回方法としては、支持部材を配置することにより、ロール状フィルム基材の上層および下層のフィルム基材間に空間を形成することが可能であれば、特に限定されるものではなく、一般的な公知の巻回機を用いて、支持部材積層フィルム基材を巻回する方法等を挙げることができる。 In this step, the support member laminated film base material is wound to prepare a roll-shaped film base material. The method for winding the support member laminated film substrate is particularly limited as long as it is possible to form a space between the upper layer and the lower layer film substrate of the roll-shaped film substrate by arranging the support member. The method of winding a support member laminated | multilayer film base material using a general well-known winding machine can be mentioned.
本工程における上記支持部材積層フィルム基材の巻回数は、本発明により製造されるロール状フィルム基材の用途等に応じて、適宜選択されることが好ましい。 It is preferable that the number of windings of the support member laminated film base material in this step is appropriately selected according to the use of the roll-shaped film base material manufactured according to the present invention.
なお、図9においては、フィルム基材1上に支持部材2を配置して支持部材積層フィルム基材11とした後、巻回してロール状フィルム基材10を準備する方法について図示しているがこれに限定されるものではない。例えば、フィルム基材上の所定の位置に支持部材を配置しながら、同時にこれを巻回する方法に用いることができる。この方法によれば、巻回の際に、上層のフィルム基材および下層のフィルム基材の間に支持部材を挟み込み、巻回により生じる圧力によって、支持部材を固定することが可能となる。本発明により製造されるロール状フィルム基材は、支持部材をフィルム基材上に接着剤等を用いて配置しないものであることから、上述したロール状フィルム基材の形成方法を好適に用いることができる。
In addition, in FIG. 9, after arrange | positioning the supporting
また、図9においては、予めフィルム基材に貫通孔を形成した後、支持部材を配置して支持部材積層フィルム基材とし、これを巻回することによりロール状フィルム基材を形成する例について示しているがこれに限定されるものではない。例えば、フィルム基材に支持部材を配置してロール状に巻回した後、フィルム基材の所定の位置に貫通孔を設けることで、ロール状フィルム基材を形成することも可能である。 Moreover, in FIG. 9, after forming a through-hole in a film base material beforehand, it arrange | positions a supporting member and makes it a supporting member laminated | multilayer film base material, About the example which forms a roll-shaped film base material by winding this Although shown, it is not limited to this. For example, a roll-shaped film substrate can be formed by disposing a support member on a film substrate and winding it in a roll shape, and then providing a through-hole at a predetermined position of the film substrate.
2.保管工程
次に、本発明における保管工程について説明する。本発明における保管工程は、上記ロール状フィルム基材の含水率が、所定の温湿度雰囲気下における含水率に達するまで、上記ロール状フィルム基材を上記温湿度雰囲気下で保管する工程である。
2. Storage Step Next, the storage step in the present invention will be described. The storage step in the present invention is a step of storing the roll-shaped film substrate in the temperature and humidity atmosphere until the moisture content of the roll-shaped film substrate reaches a moisture content in a predetermined temperature and humidity atmosphere.
支持部材および貫通孔を有するロール状フィルム基材をこのように保管することで、巻内と巻外とで含水率の差を生じることなく、均一な含水率を有するロール状フィルム基材を得ることができ、ロール状フィルム基材の寸法を安定させることができる。 By storing the roll-shaped film substrate having the support member and the through hole in this manner, a roll-shaped film substrate having a uniform moisture content is obtained without causing a difference in moisture content between the inside and outside of the winding. And the dimensions of the roll-shaped film substrate can be stabilized.
本工程において、ロール状フィルム基材の含水率が、所定の温湿度雰囲気下における含水率に達していることは、ロール状フィルム基材の含水率が測定可能であれば、例えば、クラボウ社製の水分計(品名:RX−100、透過型)、マイクロ波オンライン水分計(マルカム製)、電気抵抗式水分計((株)山崎精機研究所製)等を用いて、含水率測定を行うことにより判断することができる。 In this step, the moisture content of the roll-shaped film substrate has reached the moisture content in a predetermined temperature and humidity atmosphere. If the moisture content of the roll-shaped film substrate can be measured, for example, manufactured by Kurabo Industries, Ltd. Moisture content measurement using a moisture meter (product name: RX-100, transmission type), microwave on-line moisture meter (manufactured by Markham), electric resistance moisture meter (manufactured by Yamazaki Seiki Laboratories), etc. Can be determined.
本発明においては、本工程の温湿度雰囲気を、所定の温湿度雰囲気下における含水率に達したロール状フィルム基材から巻き出されたフィルム基材上にパターンを形成する際の温湿度雰囲気と等しくする必要がある。保管工程とパターン形成時との温度差および湿度差によるロール状フィルム基材の寸法伸縮が生じず、所定の温湿度雰囲気下における含水率を有するロール状フィルム基材から巻き出されたフィルム基材の寸法を基準としてパターン形成を行うことにより、高い寸法精度でパターンを形成することができるからである。 In the present invention, the temperature and humidity atmosphere of this step is a temperature and humidity atmosphere when forming a pattern on a film substrate unwound from a roll-shaped film substrate that has reached a moisture content in a predetermined temperature and humidity atmosphere. It needs to be equal. Film base material unwound from a roll-like film base material having a moisture content in a predetermined temperature and humidity atmosphere without causing dimensional expansion / contraction of the roll-like film base material due to temperature difference and humidity difference between storage process and pattern formation This is because the pattern can be formed with high dimensional accuracy by forming the pattern with reference to the dimension.
本工程における温度としては、所望の温度下のロール状フィルム基材の寸法を計算により求めることができる範囲内であれば、特に限定されるものではないが、例えば、20℃〜30℃の範囲内であることが好ましく、後工程(例えば、対向基板とのアライメント貼合工程など)と等しい温度であることがより好ましい。パターン形成時と後工程との温度差によるロール状フィルム基材の寸法伸縮量を考慮してパターン形成する必要が省かれるからである。
また、本工程における湿度としては、所望の温湿度下のロール状フィルム基材の寸法を計算により求めることができる範囲内であれば、特に限定されるものではないが、例えば、30%RH〜60%RHの範囲内であることが好ましく、後工程(例えば、フィルム基材を画像表示素子のカラーフィルタ等の基材に用いる場合は対向基板とのアライメント貼合工程など)と等しい湿度であることがより好ましい。パターン形成時と後工程との湿度差によるロール状フィルム基材の寸法伸縮量を考慮してパターン形成する必要が省かれるからである。
Although it will not specifically limit if it is in the range which can obtain | require the dimension of the roll-shaped film base under desired temperature by calculation as a temperature in this process, For example, the range of 20 degreeC-30 degreeC It is preferable that the temperature is equal to that in the subsequent step (for example, an alignment bonding step with the counter substrate). This is because it is not necessary to form the pattern in consideration of the amount of dimensional expansion and contraction of the roll-shaped film substrate due to the temperature difference between the pattern formation and the subsequent process.
Moreover, as humidity in this process, if it is in the range which can obtain | require the dimension of the roll-shaped film base material under desired temperature and humidity by calculation, it will not specifically limit, For example, 30% RH- The humidity is preferably within the range of 60% RH, and the humidity is equal to the post-process (for example, when the film substrate is used as a substrate such as a color filter of an image display element, the alignment bonding step with the counter substrate). It is more preferable. This is because it is not necessary to form a pattern in consideration of the amount of dimensional expansion / contraction of the roll-shaped film substrate due to the humidity difference between the pattern formation and the subsequent process.
また、本発明においては、ロール状フィルム基材の含水率が、所定の温湿度雰囲気下における含水率に達することができれば、本工程の温湿度雰囲気を常に一定にしても良く、本工程を行う毎に本工程の温湿度雰囲気を変化させても良いが、パターン形成装置の観点から、常に一定にすることが好ましい。本工程の温湿度雰囲気を常に一定にし、ロール状フィルム基材の所定の温湿度雰囲気下における含水率を一定に保つことで、ロール状フィルム基材から巻き出されてなるフィルム基材の寸法を一定にすることができ、パターン形成時のマスクの種類を少なくすることができるからである。 Moreover, in this invention, if the moisture content of a roll-shaped film base material can reach the moisture content in predetermined | prescribed temperature / humidity atmosphere, the temperature / humidity atmosphere of this process may always be made constant, and this process is performed. Although the temperature and humidity atmosphere in this step may be changed every time, it is preferable that the temperature and humidity atmosphere is always constant from the viewpoint of the pattern forming apparatus. The temperature and humidity atmosphere of this process is always constant, and the film substrate size unrolled from the roll film substrate is maintained by keeping the moisture content of the roll film substrate in a predetermined temperature and humidity atmosphere constant. This is because the number of types of masks during pattern formation can be reduced.
本工程における保管場所としては、密閉された空間であり、密閉空間内の温湿度雰囲気を管理することができれば、特に限定されるものではないが、例えば、温湿度制御が可能なクリーンルーム、デシケーターおよびチャンバー等の保管庫等を挙げることができる。また、上記保管場所内は、ロール状フィルム基材を劣化させない気体雰囲気であることが好ましい。 The storage location in this step is a sealed space, and is not particularly limited as long as the temperature and humidity atmosphere in the sealed space can be managed. For example, a clean room, a desiccator and Examples include storage such as a chamber. Moreover, it is preferable that the inside of the said storage place is a gas atmosphere which does not degrade a roll-shaped film base material.
また、本工程における保管時間としては、ロール状フィルム基材の含水率を所定の温湿度雰囲気下における含水率に到達させることができれば、特に限定されるものではなく、ロール状フィルム基材の種類、温湿度雰囲気および保管場所等によって、適宜選択されるものである。 In addition, the storage time in this step is not particularly limited as long as the moisture content of the roll-shaped film substrate can reach the moisture content in a predetermined temperature and humidity atmosphere. It is appropriately selected depending on the temperature and humidity atmosphere and the storage location.
D.パターン形成体の製造方法
次に、本発明のパターン形成体の製造方法について説明する。本発明のパターン形成体の製造方法は、上述した「A.ロール状フィルム基材」の項で説明したロール状フィルム基材から巻き出されたフィルム基材上にパターンを形成するパターン形成工程を有することを特徴とする製造方法である。
D. Next, the manufacturing method of the pattern formation body of this invention is demonstrated. The method for producing a pattern forming body of the present invention includes a pattern forming step of forming a pattern on the film base material unwound from the roll-shaped film base material described in the section “A. Roll-shaped film base material” described above. It is a manufacturing method characterized by having.
なお、本発明により製造されるパターン形成体は、フィルム基材およびフィルム基材上に形成されたパターンを有するものだけでなく、上述した「B.ロール状パターン付フィルム基材」の項で説明したパターン付フィルム基材、およびこれを巻回したロール状パターン付フィルム基材を含むものである。 In addition, the pattern formation body manufactured by this invention is demonstrated not only in what has the pattern formed on the film base material and the film base material but in the above-mentioned "B. Roll-patterned film base material" section. The film base material with a pattern and the film base material with a roll pattern which wound this were included.
本発明のパターン形成体の製造方法について図を用いて説明する。図10は、本発明のパターン形成体の製造方法の一例を示す工程図である。図10に示すように、本発明のパターン形成体の製造方法においては、ロール状フィルム基材10を準備し、ロール状フィルム基材10から巻き出されたフィルム基材1上にパターン4を形成する(パターン形成工程)。これにより、フィルム基材1およびフィルム基材1上に形成された所定のパターン4を有するパターン形成体を得ることができる。なお、図10においては、パターン形成工程前に、支持部材2をフィルム基材1から取り外して用いる例について説明しているが、図示はしないが、支持部材はフィルム基材上に配置されていてもよい。また、ロール状フィルム基材10およびその製造方法については、上述した図9で説明したものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
The manufacturing method of the pattern formation body of this invention is demonstrated using figures. FIG. 10 is a process diagram showing an example of a method for producing a pattern formed body of the present invention. As shown in FIG. 10, in the manufacturing method of the pattern formation body of this invention, the roll-shaped
本発明によれば、巻内および巻外に関係なく均一な含水率を有するロール状フィルム基材から巻き出されたフィルム基材上に、パターンを形成することにより、巻内と巻外とで寸法ずれのない高精細なパターンが形成されたパターン形成体を得ることができる。 According to the present invention, by forming a pattern on a film substrate unwound from a roll-shaped film substrate having a uniform water content regardless of whether it is in-winding or unwinding, It is possible to obtain a pattern forming body on which a high-definition pattern having no dimensional deviation is formed.
本発明のパターン形成体の製造方法は、少なくともパターン形成工程を有するものであり、必要に応じて他の任意の工程が用いられても良いものである。
以下、本発明のパターン形成体の製造方法について、工程ごとに説明する。
The manufacturing method of the pattern formation body of this invention has a pattern formation process at least, and another arbitrary process may be used as needed.
Hereinafter, the manufacturing method of the pattern formation body of this invention is demonstrated for every process.
1.パターン形成工程
本工程は、上述した「A.ロール状フィルム基材」の項で説明したロール状フィルム基材から巻き出されたフィルム基材上にパターンを形成する工程である。なお、本工程に用いられるロール状フィルム基材は、支持部材を有していてもよく、有していなくてもよい。
1. Pattern formation process This process is a process of forming a pattern on the film base material unwound from the roll-shaped film base material described in the above-mentioned section "A. Roll-shaped film base material". In addition, the roll-shaped film base material used for this process may have a supporting member, and does not need to have it.
本工程において形成されるパターンについては、上述した「B.ロール状パターン付フィルム基材」の項で説明したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。 About the pattern formed in this process, since it is the same as that of what was demonstrated by the term of the above-mentioned "B. Film substrate with a roll-shaped pattern", description here is abbreviate | omitted.
本発明においては、本発明のパターン形成体の製造方法に用いられるロール状フィルム基材が支持部材を有している場合、上記パターン形成工程前または上記パターン形成工程後に、フィルム基材から支持部材を剥離する剥離工程を有していてもよい。支持部材によりパターン形成体の機能が妨げられる場合、フィルム基材から支持部材を剥離する必要がある。また、支持部材によりパターン形成体の機能が妨げられない場合においても、フィルム基材から支持部材を剥離することで、パターン形成体の薄膜化を図ることができる。支持部材の剥離方法としては、フィルム基材を傷つけることなく支持部材を剥離することができる方法であれば、特に限定されるものではなく、支持部材は破壊されてもよく、破壊されなくてもよい。 In this invention, when the roll-shaped film base material used for the manufacturing method of the pattern formation body of this invention has a support member, it is a support member from a film base material before the said pattern formation process or after the said pattern formation process. You may have the peeling process which peels. When the function of a pattern formation body is prevented by a support member, it is necessary to peel a support member from a film base material. Even when the function of the pattern forming body is not hindered by the support member, the pattern forming body can be made thinner by peeling the support member from the film substrate. The peeling method of the supporting member is not particularly limited as long as the supporting member can be peeled without damaging the film base material, and the supporting member may be broken or not broken. Good.
2.その他の工程
本発明のパターン形成体の製造方法は、必須の工程である上記パターン形成工程の後に、パターンが形成されたロール状フィルム基材を、その含水率が所定の温湿度雰囲気下における含水率に達するまで保管する保管工程を有することができる。パターンを多層重ねる工程ごとに、上記保管工程をパターンが形成されたロール状フィルム基材に施すことで、巻内および巻外に関係なく寸法の再現性が高く、重ね合わせ精度の高い積層パターン形成体を得ることができる。なお、上記保管工程の詳細については、上記「C.ロール状フィルム基材の製造方法」の項に記載した保管工程と同様であるので、ここでの説明は省略する。
2. Other Steps The method for producing a pattern formed body of the present invention comprises a roll-shaped film substrate on which a pattern is formed after the above-described pattern forming step, which is an essential step, and the moisture content thereof in a predetermined temperature and humidity atmosphere. It can have a storage process that stores until the rate is reached. By applying the above storage process to the roll-shaped film substrate on which the pattern is formed, for each process of stacking the patterns in multiple layers, it is possible to form a layered pattern with high dimensional reproducibility and high overlay accuracy regardless of whether it is inside or outside the winding. You can get a body. The details of the storage step are the same as the storage step described in the above section “C. Method for producing roll-shaped film substrate”, and thus the description thereof is omitted here.
本発明においては、パターン形成工程を一度だけ行っても良く、パターン形成工程および保管工程を繰り返し行っても良い。パターンを重ね合わせるごとに、パターン形成工程後にパターン形成体を巻き取り、この巻き取られたパターン形成体に対して保管工程を行うことで、巻内および巻外に関係なくロール状フィルム基材の寸法を制御することができ、パターン形成工程を経ることにより、重ね合わせ精度の高いパターン形成体を得ることができる。 In the present invention, the pattern formation step may be performed only once, or the pattern formation step and the storage step may be repeated. Every time the pattern is overlapped, the pattern forming body is wound up after the pattern forming process, and a storage process is performed on the wound pattern forming body, so that the roll-shaped film base material can be used regardless of the inside or outside of the winding. The dimensions can be controlled, and a pattern forming body with high overlay accuracy can be obtained through the pattern forming step.
なお、本発明により製造されるパターン形成体については、「B.ロール状パターン付フィルム基材」の項で説明したものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。 In addition, about the pattern formation body manufactured by this invention, since it can be made to be the same as that of what was demonstrated in the term of "B. Film base material with a roll-shaped pattern", description here is abbreviate | omitted.
E.画像表示素子
次に、本発明の画像表示素子について説明する。本発明の画像表示素子は、フィルム基材、および上記フィルム基材に設けられた所定のパターンを有する画像表示素子であって、上記フィルム基材の上記所定のパターンが設けられているパターン形成領域外には、フィルム基材を貫通する貫通孔が設けられていることを特徴とするものである。
E. Image Display Element Next, the image display element of the present invention will be described. The image display element of the present invention is a film base material and an image display element having a predetermined pattern provided on the film base material, wherein the predetermined pattern of the film base material is provided. Outside, a through-hole penetrating the film base material is provided.
ここで、上述したように、フィルム基材の寸法精度はフィルム基材の含水率に影響されるものであることからフィルム基材全体の含水率は均一であることが好ましい。しかしながら、フィルム基材の保管に際して、複数のフィルム基材を積層させて保管する場合や、フィルム基材をロール状に巻回して保管する場合においては、同一のフィルム基材内でも外気と接触しやすい部分と外気と接触しにくい部分があることから、同一のフィルム基材内で含水量の多い部分と含水量の少ない部分とが生じ、フィルム基材全体の含水率を均一なものとすることが困難となる問題があった。
一方、上記フィルム基材は、貫通孔を有するものであることから、上記フィルム基材を積層させて保管する際に、上層および下層のフィルム基材間に部分的に支持部材を配置して空間を形成することにより、貫通孔からフィルム基材間に外気を取り込むことが可能となり、フィルム基材全体の含水率を均一なものとすることが可能となる。これにより、フィルム基材内の含水率の違いによる寸法ずれを解消することができ、フィルム基材の寸法精度を均一なものとすることができることから、上記フィルム基材上に形成されるパターンについては、寸法精度の高いものとすることが可能となる。よって、本発明によれば、寸法精度の高いパターンを有する画像表示素子とすることが可能となる。
Here, as described above, since the dimensional accuracy of the film substrate is influenced by the moisture content of the film substrate, the moisture content of the entire film substrate is preferably uniform. However, when storing a film base material, when a plurality of film base materials are laminated and stored, or when a film base material is wound and stored in a roll shape, it is in contact with the outside air even in the same film base material. Because there are easy-to-use parts and parts that are difficult to contact with the outside air, parts with a high water content and parts with a low water content are generated in the same film base material, and the water content of the entire film base material should be uniform. There was a problem that became difficult.
On the other hand, since the film base has a through hole, when the film base is laminated and stored, a support member is partially disposed between the upper and lower film bases to provide a space. By forming, it becomes possible to take in external air between the film bases through the through holes, and to make the moisture content of the entire film base uniform. As a result, the dimensional deviation due to the difference in moisture content in the film substrate can be eliminated, and the dimensional accuracy of the film substrate can be made uniform. Can have high dimensional accuracy. Therefore, according to the present invention, an image display element having a pattern with high dimensional accuracy can be obtained.
また、本発明においては、上記フィルム基材の長手方向の長さが少なくとも50cm以上であり、上記画像表示素子内の任意の2つの領域での上記パターンの寸法精度を比較した場合、一方の領域での上記パターンの寸法を1とした場合、他方の領域での上記パターンの寸法が1.00000±0.00033の範囲内となることが好ましい。 In the present invention, when the length of the film base in the longitudinal direction is at least 50 cm or more and the dimensional accuracy of the pattern in any two regions in the image display element is compared, one region When the dimension of the pattern at 1 is 1, it is preferable that the dimension of the pattern in the other region is within the range of 1.00000 ± 0.00033.
ここで、本発明において、「上記画像表示素子内の任意の2つの領域」とは、それぞれ同種のパターンを同数有する領域である。また、「上記画像表示素子内の任意の2つの領域での上記パターンの寸法」とは、上記領域が複数のパターンを有する場合は、それぞれのパターンの寸法の測定値の平均値とする。 Here, in the present invention, “arbitrary two regions in the image display element” are regions having the same number of patterns of the same type. The “dimension of the pattern in any two regions in the image display element” is an average value of measured values of the dimensions of each pattern when the region has a plurality of patterns.
上記フィルム基材の長手方向の長さが上述した範囲内である場合、通常、フィルム基材自体はロール状に巻回され、ロール状フィルム基材として保管される。従来のロール状フィルム基材の巻内は吸水や脱水がしにくいため、巻外との含水率に差を生じ、その結果、ロール状フィルム基材の巻内と巻外で寸法ずれが生じてしまうといった問題があった。
一方、本発明に用いられるフィルム基材はロール状フィルム基材とした場合であっても、上述したようにフィルム基材全体の寸法精度を均一なものとすることができるものである。よって、本発明においては、上記フィルム基材を用いることにより、パターンが寸法精度高く形成された画像表示素子とすることができる。
When the length in the longitudinal direction of the film base is within the above-described range, the film base itself is usually wound into a roll and stored as a roll-shaped film base. Since the inside of the roll of the conventional roll-shaped film substrate is difficult to absorb or dehydrate, there is a difference in moisture content from the outside of the roll. As a result, a dimensional deviation occurs between the inside and outside of the roll-shaped film substrate. There was a problem such as.
On the other hand, even when the film substrate used in the present invention is a roll-shaped film substrate, the dimensional accuracy of the entire film substrate can be made uniform as described above. Therefore, in this invention, it can be set as the image display element in which the pattern was formed with high dimensional accuracy by using the said film base material.
また、本発明の画像表示素子は、フィルム基材上に形成された複数の画像表示素子をパターンとして有する多面付け基板、またはフィルム基材上に形成された光学機能層をパターンとして有する画像表示素子のいずれも含むものである。 The image display element of the present invention is a multi-sided substrate having a plurality of image display elements formed on a film base material as a pattern, or an image display element having an optical functional layer formed on a film base material as a pattern. Any of these are included.
本発明の画像表示素子について図を用いて説明する。図11は、本発明の画像表示素子の一例を示す概略平面図であり、画像表示素子としてカラーフィルタの多面付け基板を例に挙げたものである。また、図12は、図11に形成されている各々のパターン(カラーフィルタ4’)の拡大図である。
図11に示すように、本発明の画像表示素子40は、所定の長手方向Xの長さを有するフィルム基材1と、フィルム基材1上に形成された複数のカラーフィルタ4’(図9ではカラーフィルタ4’a〜4’m)を有し、カラーフィルタ4’が設けられているパターン形成領域外に、フィルム基材1を貫通する貫通孔3が設けられているカラーフィルタの多面付け基板である。
また、図12に示すように、各々のカラーフィルタ4’はフィルム基材上に形成された複数の画素部41(図12では、赤色画素部41R、緑色画素部41G、および青色画素部41B)および画素部41を区画する遮光部42からなるものである。なお、遮光部42については説明のため白色で示している。また、図11においてYで示される方向は、フィルム基材の幅方向を示している。
The image display element of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 11 is a schematic plan view showing an example of the image display element of the present invention, in which a multi-faced substrate of a color filter is taken as an example of the image display element. FIG. 12 is an enlarged view of each pattern (
As shown in FIG. 11, the
Further, as shown in FIG. 12, each
また、本発明の画像表示素子において、上記画像表示素子内の任意の2つの領域での上記パターンの寸法を比較した場合、一方の領域での上記パターンの寸法を1としたとき、他方の領域での上記パターンの寸法が1.00000±0.00033の範囲内となることについて図を用いて説明する。
これは、例えば図11に示される画像表示素子40におけるカラーフィルタ4’a内の任意の領域を領域x1とし、カラーフィルタ4’m内の任意の領域を領域x2とし、領域x1および領域x2には、図12に示されるように3つの画素部41が存在している場合、領域x1の3つの画素部のそれぞれの寸法の測定値の平均値を1としたとしたとき、領域x2の3つの画素部41のそれぞれの寸法の測定値の平均値が上述した数値範囲となることを示している。
なお、図12においては、説明のため、カラーフィルタ4’aの領域x1とカラーフィルタ4’mの領域x2とを同一のカラーフィルタ4’に図示している。
Further, in the image display element of the present invention, when the dimensions of the pattern in any two areas in the image display element are compared, when the dimension of the pattern in one area is 1, the other area It will be described with reference to the drawing that the dimension of the above pattern falls within the range of 1.00000 ± 0.00033.
For example, an arbitrary region in the
In FIG. 12, for the sake of explanation, the region x1 of the
なお、図11の画像表示素子40においては、例えばカラーフィルタ4’aおよびカラーフィルタ4’mのそれぞれの寸法について比較することもできる。
In the
また、上述した説明は、本発明の画像表示素子が多面付け基板である場合について示しているが、本発明の画像表示素子が1の画像表示素子である場合も同様に、画像表示素子内における任意の2つの領域でのそれぞれのパターンの寸法を比較した場合、2つの領域のそれぞれのパターンの寸法が上述した関係となるものである。 Moreover, although the above-mentioned description has shown about the case where the image display element of this invention is a multi-sided board | substrate, when the image display element of this invention is one image display element, it is similarly in an image display element. When the dimensions of the patterns in any two regions are compared, the dimensions of the patterns in the two regions have the above-described relationship.
以上説明したように、本発明によれば、フィルム基材全体の寸法精度に差がないフィルム基材を用いることにより、寸法精度の高いパターンが形成された画像表示素子とすることができる。
以下、本発明に用いられる各部材について説明する。
As described above, according to the present invention, it is possible to obtain an image display element in which a pattern with high dimensional accuracy is formed by using a film base material having no difference in dimensional accuracy of the entire film base material.
Hereinafter, each member used in the present invention will be described.
1.画像表示素子
本発明の画像表示素子は、上記フィルム基材に形成された所定のパターンを有するものである。
1. Image display element The image display element of this invention has a predetermined pattern formed in the said film base material.
上記画像表示素子については、所定のパターンを有するものであれば特に限定されるものではないが、なかでも、上記画像表示素子内の任意の2つの領域での上記パターンの寸法を比較した場合、一方の領域での上記パターンの寸法を1とした場合、他方の領域での上記パターンの寸法が1.00000±0.00033の範囲内となることが好ましく、画像表示ズレの観点からは、1.00000±0.00017の範囲内であることがより好ましい。
ここで、上記2つの領域を比較した場合のパターンの寸法精度が上記数値範囲内である場合は、画像表示素子における対向する2つのパターンの位置を一致させることが可能となるため、高精度の画像表示素子とすることができる。具体例としては、カラーフィルタパターンとTFT素子パターンとの位置を一致させることが可能となるため、TFT素子により画素のON/OFFを行ったときにカラーフィルタがTFT素子に対して位置ずれを生じることなく配置されているため、色がずれることなく良好な画像表示を行うことができる。
一方、上述したパターンの寸法精度が上記数値範囲を超える場合は、画像表示素子における対向する2つのパターンの位置を一致させることが困難となる。より具体的には、カラーフィルタパターンとTFT素子パターンの位置がずれてしまうため、本来表示されるべき色が表示できなかったり、白抜け(カラーフィルタがずれた隙間から光が漏れること)や混色(近接する他の画素の色が混じること)等の不具合が発生する可能性がある。
The image display element is not particularly limited as long as it has a predetermined pattern, but when comparing the dimensions of the pattern in any two regions in the image display element, When the size of the pattern in one region is 1, the size of the pattern in the other region is preferably in the range of 1.00000 ± 0.00033. From the viewpoint of image display displacement, 1 More preferably, it is within the range of 0.00000 ± 0.00017.
Here, when the dimensional accuracy of the pattern when the two regions are compared is within the numerical range, it is possible to match the positions of the two opposing patterns in the image display element. It can be set as an image display element. As a specific example, since the positions of the color filter pattern and the TFT element pattern can be matched, the color filter is displaced with respect to the TFT element when the pixel is turned on / off by the TFT element. Therefore, a good image display can be performed without color shift.
On the other hand, when the dimensional accuracy of the pattern exceeds the numerical range, it is difficult to match the positions of the two opposing patterns on the image display element. More specifically, since the positions of the color filter pattern and the TFT element pattern are shifted, colors that should be displayed cannot be displayed, white spots (light leaks from gaps where the color filters are shifted), and color mixing. There is a possibility that problems such as (mixing colors of other adjacent pixels) may occur.
ここで、本発明において、「上記画像表示素子内の任意の2つの領域での上記パターンの寸法を比較した場合、一方の領域での上記パターンの寸法を1とした場合、他方の領域での上記パターンの寸法が1.00000±0.00033の範囲内となる」とは、具体的には、上記2つの領域でのパターンの寸法を比較した場合、それぞれのパターンの寸法の差が、100mm当たり33μmの範囲内、好ましくは100mm当たり3.3μmの範囲内、特に好ましくは100mm当たり1.7μmの範囲内となるものである。
なお、パターン寸法の測定は、測定間の距離を測定できる装置であれば特に限定されるものではないが、一般的には測長機が用いられることが好ましい。また、測長機の中でも、マイクロメートル単位まで距離を測定できる精密なものが好ましく、例えば、SOKKIA製 超精密自動2次元座標測定機やニコンインストルメンツカンパニー製CNC画像測定システム等を用いることができる。
Here, in the present invention, “when the dimensions of the pattern in any two regions in the image display element are compared, the size of the pattern in one region is 1, and the size in the other region is More specifically, when the pattern dimensions in the two regions are compared, the difference between the pattern dimensions is 100 mm. It is within the range of 33 μm per area, preferably within the range of 3.3 μm per 100 mm, and particularly preferably within the range of 1.7 μm per 100 mm.
The measurement of the pattern dimension is not particularly limited as long as it is a device that can measure the distance between measurements, but it is generally preferable to use a length measuring device. Among the length measuring instruments, a precision measuring instrument capable of measuring the distance to the micrometer unit is preferable. For example, a super precision automatic two-dimensional coordinate measuring machine manufactured by SOKKIA or a CNC image measuring system manufactured by Nikon Instruments Company can be used. .
また、本発明において比較されるパターンは、本発明の画像表示素子が、1つの画像表示素子である場合は画像表示素子内の任意の2つの領域に存在する光学機能層である。
一方、本発明において比較されるパターンは、本発明の画像表示素子が、複数の画像表示素子を有する多面付け基板である場合は、任意の2の画像表示素子であってもよいし、任意の2の画像表示素子における任意の領域に存在する光学機能層であってもよい。
The pattern compared in the present invention is an optical functional layer existing in any two regions in the image display element when the image display element of the present invention is one image display element.
On the other hand, the pattern compared in the present invention may be any two image display elements when the image display element of the present invention is a multi-sided substrate having a plurality of image display elements. It may be an optical functional layer existing in an arbitrary region in the two image display elements.
なお、本発明に用いられる画像表示素子および光学機能層については、上述した「B.ロール状パターン付フィルム基材」の項で説明したものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。 The image display element and the optical functional layer used in the present invention can be the same as those described in the above-mentioned section “B. Roll-patterned film base material”, so the description here is as follows. Omitted.
2.フィルム基材
本発明のフィルム基材は、上述したパターンが形成されていない領域にフィルム基材を貫通する貫通孔を有するものである。
2. Film base material The film base material of the present invention has a through hole penetrating the film base material in a region where the above-described pattern is not formed.
本発明に用いられるフィルム基材の形態については、本発明の画像表示素子の用途により適宜選択されるものである。なかでも、本発明に用いられるフィルム基材としては、長手方向の長さが少なくとも50cm以上のものであることが好ましい。
上述したように、長手方向の長さが上述した長さであるフィルム基材は、通常ロール状に巻回され、ロール状フィルム基材として保管されるものである。本発明に用いられるフィルム基材は、ロール状フィルム基材として保管した場合であっても巻内および巻外の寸法精度に差を生じないようにすることができるため、従来のロール状フィルム基材を用いた画像表示素子においては達成することが困難であった高い寸法精度を有する画像表示素子とすることができる。また、上記フィルム基材の長手方向の長さの上限としては特に限定されるものではないが、加工の容易性等を考慮すると1000m程度とすることができる。上記値を超えるフィルム基材は通常、画像表示素子の基材としては扱いが困難であるからである。
About the form of the film base material used for this invention, it selects suitably by the use of the image display element of this invention. Especially, as a film base material used for this invention, it is preferable that the length of a longitudinal direction is at least 50 cm or more.
As described above, the film base having the length in the longitudinal direction described above is usually wound in a roll shape and stored as a roll film base. Since the film substrate used in the present invention can prevent the difference in dimensional accuracy between the inside and outside of the roll even when stored as a roll-like film substrate, the conventional roll-like film base is used. An image display element having high dimensional accuracy, which has been difficult to achieve in an image display element using a material, can be obtained. The upper limit of the length of the film base in the longitudinal direction is not particularly limited, but can be about 1000 m in consideration of ease of processing. This is because a film substrate exceeding the above value is usually difficult to handle as a substrate of an image display element.
さらにこの場合、上記フィルム基材は、長手方向の長さが上述した数値以上のものであれば特に限定されるものではないが、予め上記フィルム基材の両端の端部領域上に支持部材を配置してロール状に2周以上巻回されたものであることが好ましい。長手方向の長さが上述した数値以上のフィルム基材は、通常使用されるコア材等に巻回した場合に、2周以上となるため、巻内および巻外の含水率に差を生じやすくなることから、本発明におけるフィルム基材の形状による効果をより大きなものとすることが可能となる。また、フィルム基材をロール状に巻回する際に生じる応力によるフィルム基材の欠陥の発生を防止することができる観点からも支持部材を配置して巻回されたものであることが好ましい。 Furthermore, in this case, the film substrate is not particularly limited as long as the length in the longitudinal direction is not less than the above-described numerical value, but the support member is previously placed on the end regions at both ends of the film substrate. It is preferable that they are arranged and wound in a roll shape two or more times. When the film base having a length in the longitudinal direction equal to or greater than the above-mentioned value is wound around a commonly used core material or the like, it becomes more than two rounds. Therefore, the effect of the shape of the film base material in the present invention can be further increased. Moreover, it is preferable that the support member is disposed and wound from the viewpoint of preventing generation of defects in the film substrate due to stress generated when the film substrate is wound in a roll shape.
より具体的には、フィルム基材としては、上述した「A.ロール状フィルム基材」の項で説明したロール状フィルム基材から巻き出されたものであることが好ましい。
上述したフィルム基材は、2周以上巻回された場合であっても、巻内および巻外の含水率に差を生じないため、従来のロール状フィルム基材を用いた画像表示素子においては達成することが困難であった高い寸法精度を有する画像表示素子とすることができる。
More specifically, the film base material is preferably one that has been unwound from the roll-shaped film base material described in the section “A. Roll-shaped film base material” described above.
In the image display element using the conventional roll-shaped film substrate, the above-described film substrate does not cause a difference in moisture content between the inside and outside of the winding even when it is wound two or more times. It can be set as the image display element which has the high dimensional accuracy which was difficult to achieve.
上述した長手方向の長さを有するフィルム基材は、通常、所定の内径を有するコア材に巻回されるものである。このようなコア材については「A.ロール状フィルム基材」の項で説明したものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。 The film base material having the length in the longitudinal direction described above is usually wound around a core material having a predetermined inner diameter. Such a core material can be the same as that described in the section of “A. Rolled film base material”, and thus the description thereof is omitted here.
上記フィルム基材、および上記フィルム基材に形成される貫通孔については上述した「A.ロール状フィルム基材」の項で説明したものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。 About the said film base material and the through-hole formed in the said film base material, since it can be made to be the same as that of what was demonstrated by the term of the "A. roll-shaped film base material" mentioned above, description here is abbreviate | omitted. To do.
F.カラーフィルタ
本発明のカラーフィルタは、上述した「F.画像表示素子」の項で記載した画像表示素子のパターンがカラーフィルタの画素部であることを特徴とするものである。
F. Color filter The color filter of the present invention is characterized in that the pattern of the image display element described in the above section “F. Image display element” is a pixel portion of the color filter.
なお、本発明のカラーフィルタを示す図面については、上述した「E.画像表示素子」の項において説明した図11および図12と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。 Note that the drawing showing the color filter of the present invention can be the same as FIG. 11 and FIG. 12 described in the section “E. Image display element” described above, so the description thereof is omitted here.
上述した「E.画像表示素子」の項で説明したように、本発明においては、フィルム基材全体の含水率が均一であるフィルム基材を用いることから、寸法精度の高い画素部を有するカラーフィルタを得ることができる。
以下、本発明のカラーフィルタにおける各部材について説明する。
As described above in the section “E. Image display element”, in the present invention, a film base material having a uniform moisture content in the entire film base material is used, so that a color having a pixel portion with high dimensional accuracy is used. A filter can be obtained.
Hereinafter, each member in the color filter of the present invention will be described.
1.画素部
本発明に用いられる画素部は、フィルム基材上に形成されるものであり、通常、赤色画素部、緑色画素部、青色画素部を有するものであるが、他の色の画素部を有していてもよい。
1. Pixel unit The pixel unit used in the present invention is formed on a film substrate, and usually has a red pixel unit, a green pixel unit, and a blue pixel unit. You may have.
また、上記画素部の形状、大きさ等については、カラーフィルタの用途により適宜選択されるものである。
また、画素部については、一般的なカラーフィルタに用いられるものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
In addition, the shape, size, and the like of the pixel portion are appropriately selected depending on the use of the color filter.
In addition, the pixel portion can be the same as that used for a general color filter, and a description thereof is omitted here.
2.フィルム基材
本発明に用いられるフィルム基材については、上述した「E.画像表示素子」の項で説明したものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
2. Film Base The film base used in the present invention can be the same as that described in the above-mentioned section “E. Image Display Element”, and thus description thereof is omitted here.
3.その他
本発明のカラーフィルタは、上述した画素部およびフィルム基材を有するものであれば特に限定されるものではなく、他にも必要な部材を適宜選択して追加することができる。このような部材としては、遮光部、柱状スペーサ等を挙げることができる。これらの部材については、一般的なカラーフィルタに用いられるものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
3. Others The color filter of the present invention is not particularly limited as long as it has the pixel portion and the film base described above, and other necessary members can be appropriately selected and added. Examples of such a member include a light shielding portion and a columnar spacer. Since these members can be the same as those used in general color filters, description thereof is omitted here.
本発明のカラーフィルタは、上述したフィルム基材を用いていることから、画素部に限らず、他の部材についても高い寸法精度を有することが可能であり、積層構造を有するものについては、高い重ね合わせの精度を有することが可能である。 Since the color filter of the present invention uses the above-described film base material, it is possible to have high dimensional accuracy not only for the pixel portion but also for other members, and those having a laminated structure are high. It is possible to have overlay accuracy.
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。 The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has any configuration that has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention and exhibits the same function and effect. Are included in the technical scope.
以下に実施例および比較例を示し、本発明をさらに具体的に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples and Comparative Examples.
[実施例]
フィルム基材として、10m長×300mm幅×0.125mm厚のPETフィルム(東洋紡製 品名:A4100)を用いた。上記フィルム基材には長尺方向の両端面内側50mmの位置に5mm径の貫通孔を50mm間隔で10m長全体にわたって打ち抜きにより形成した。次に、このフィルム基材と同じ材質のPETフィルムを用いて作製した30mm幅の幅狭フィルム(支持部材)を準備した。次に、フィルム基材の幅方向の端辺から20mmの位置に幅狭フィルムの中心が配置されるようにして、フィルム基材上に幅狭フィルムを配置し、ロール状に巻回した。
なお、得られたロール状フィルム基材の外径は10.4cmであった。
[Example]
A PET film (product name: A4100 manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a length of 10 m, a width of 300 mm, and a thickness of 0.125 mm was used as the film substrate. On the film substrate, through holes having a diameter of 5 mm were formed by punching over the entire length of 10 m at intervals of 50 mm at
In addition, the outer diameter of the obtained roll-shaped film base material was 10.4 cm.
[比較例]
貫通孔および支持部材を用いなかったこと以外は、実施例と同様にロール状フィルム基材を作製した。なお、得られたロール状フィルム基材の外径は9.6cmであった。
[Comparative example]
A roll-shaped film substrate was produced in the same manner as in the example except that the through hole and the support member were not used. In addition, the outer diameter of the obtained roll-shaped film base material was 9.6 cm.
実施例および比較例のロール状フィルム基材の形成直後の含水率を測定した。次に実施例および比較例のロール状フィルム基材を後25℃、40%RHの環境で1週間静置して保管した後に保管前後の含水率を測定した。これにより、保管前後の含水率の挙動について調べた。なお。含水率の測定には、クラボウ社製の水分計(品名:RX−100、透過型)を使用した。結果を表1に示す。なお、用いたフィルム基材の乾燥状態での含水率は0.09wt%であり、常温常湿平衡状態の含水率は0.33%である。 The moisture content immediately after formation of the roll-shaped film base material of an Example and a comparative example was measured. Next, after the roll-shaped film bases of Examples and Comparative Examples were stored after standing for 1 week in an environment of 25 ° C. and 40% RH, the moisture content before and after storage was measured. Thus, the behavior of the moisture content before and after storage was examined. Note that. A moisture meter manufactured by Kurabo Industries Co., Ltd. (product name: RX-100, transmission type) was used for the measurement of the moisture content. The results are shown in Table 1. In addition, the moisture content in the dry state of the used film base material is 0.09 wt%, and the moisture content in a normal temperature normal humidity equilibrium state is 0.33%.
また、下記に示す測定方法により、フィルム基材の含水率および寸法の相関関係を調べたところ、フィルム基材の含水率が常温常湿平衡状態から0.01wt%小さくなると、フィルム基材の寸法は、常温常湿平衡状態の寸法(設計寸法)から1.8μm/100mm小さくなり、寸法ずれを生じることが分かった。
上記フィルム基材の含水率および寸法の相関関係を示す数値を用いて表1に示す含水率から、設計寸法に対する寸法変化量を換算した結果を表2に示す。
Further, when the correlation between the moisture content and dimensions of the film substrate was examined by the measurement method shown below, when the moisture content of the film substrate was reduced by 0.01 wt% from the normal temperature and normal humidity equilibrium state, the dimensions of the film substrate were Was 1.8 μm / 100 mm smaller than the dimension (design dimension) in the normal temperature and normal humidity equilibrium state, and it was found that a dimensional deviation occurred.
Table 2 shows the result of conversion of the dimensional change amount with respect to the design dimension from the moisture content shown in Table 1 using numerical values indicating the correlation between the moisture content and the dimension of the film base material.
(フィルム基材の含水率およびフィルム基材の寸法の相関関係の測定)
実施例および比較例で用いられるPETフィルムを所定の大きさで準備し、ある温湿度におけるPETフィルムの含水率と寸法を測定し、その寸法をレファレンスとした。次に、PETフィルムの含水率を変化させた時の寸法を測定することにより、レファレンスからの寸法の変化量を測定した。含水率を横軸に、寸法の変化量を縦軸にとったグラフを形成し、近似曲線の傾きから上述した数値を得た。測定結果を表3に、グラフおよび近似曲線を図13に示す。
(Measurement of correlation between moisture content of film substrate and dimensions of film substrate)
The PET film used in Examples and Comparative Examples was prepared in a predetermined size, the moisture content and dimensions of the PET film at a certain temperature and humidity were measured, and the dimensions were used as a reference. Next, the amount of change in dimension from the reference was measured by measuring the dimension when the moisture content of the PET film was changed. A graph with the water content on the horizontal axis and the dimensional change on the vertical axis was formed, and the above-described numerical values were obtained from the slope of the approximate curve. The measurement results are shown in Table 3, and the graph and approximate curve are shown in FIG.
実施例のロール状フィルム基材では、フィルム基材全体の含水率をほぼ一定のものとすることができたが、比較例においては、ロール状フィルム基材の中央、巻芯側では含水が進んでおらず、フィルム基材全体の含水率が不均一となった。
また、フィルム基材の寸法についても、実施例においては、フィルム基材全体での寸法変化を小さいものとすることができたが、比較例においては、フィルム基材の巻外側、中央、巻芯側でそれぞれ寸法の異なるものとなった。
なお、表中の巻外側とは、ロール状フィルム基材の外側のフィルム基材の巻外側端部から長手方向に0.5m、幅方向に150mm(幅方向の中央部分)の位置を指し、中央とは長手方向に5m、幅方向に150mm(幅方向の中央部分)の位置を指し、巻芯側とは、長手方向に9.5m、幅方向に150mm(幅方向の中央部分)の位置を指している。
In the roll-shaped film base material of the example, the moisture content of the entire film base material could be made substantially constant, but in the comparative example, the water content progressed at the center of the roll-shaped film base material and the core side. In other words, the moisture content of the entire film substrate was not uniform.
Also, with respect to the dimensions of the film substrate, in the examples, the dimensional change of the entire film substrate could be made small, but in the comparative example, the outer side, the center, and the core of the film substrate Each side had different dimensions.
In addition, the winding outside in a table | surface refers to the position of 0.5 m in the longitudinal direction from the winding outside edge part of the film base outside a roll-shaped film base material, and 150 mm (width center part) in the width direction, The center refers to the position of 5 m in the longitudinal direction and 150 mm in the width direction (center portion in the width direction), and the core side refers to the position of 9.5 m in the longitudinal direction and 150 mm in the width direction (center portion in the width direction). Pointing.
1 … フィルム基材
2 … 支持部材
3 … 貫通孔
4 … パターン
4’ … カラーフィルタ
10 … ロール状フィルム基材
11 … 支持部材積層フィルム基材
20 … ロール状パターン付フィルム基材
21 … パターン付フィルム基材
40 … 画像表示素子
41 … 画素部
X … フィルム基材の長手方向
Y … フィルム基材の幅方向
DESCRIPTION OF
Claims (10)
前記フィルム基材をパターン形成体の基材に用いた際に、前記フィルム基材のパターンが設けられるパターン形成領域外に前記フィルム基材を貫通する貫通孔が設けられている支持部材積層フィルム基材が巻回されてなることを特徴とするロール状フィルム基材。 A film substrate, and a support member partially disposed on the film substrate;
When the film base material is used as a base material of a pattern forming body, a support member laminated film base in which a through-hole penetrating the film base material is provided outside a pattern forming region where the pattern of the film base material is provided. A roll-shaped film base material in which a material is wound.
前記フィルム基材の前記貫通孔が設けられている貫通孔形成領域外であって、かつ前記フィルム基材上の前記支持部材が配置されている支持部材配置領域外に設けられたパターンと
を有するパターン付フィルム基材が巻回されてなることを特徴とするロール状パターン付フィルム基材。 A film base material having a through-hole, and a support member laminated film base material provided with a support member disposed at least at end regions of both ends of the film base material;
A pattern provided outside the through-hole forming region where the through-hole of the film base material is provided and outside the support member placement region where the support member on the film base material is placed. A film substrate with a roll pattern, wherein the film substrate with a pattern is wound.
前記ロール状フィルム基材の含水率が、所定の温湿度雰囲気下における含水率に達するまで、前記ロール状フィルム基材を前記温湿度雰囲気下で保管する保管工程と
を有することを特徴とするロール状フィルム基材の製造方法。 A pattern having a film base material and a support member partially disposed on the film base material, wherein the film base material pattern is provided when the film base material is used as a base material of a pattern forming body. A roll-shaped film base material preparation step for forming a roll-shaped film base material in which a support member laminated film base material provided with a through-hole penetrating the film base material is formed outside the formation region;
And a storage step of storing the roll-shaped film substrate in the temperature and humidity atmosphere until the moisture content of the roll-shaped film substrate reaches a moisture content in a predetermined temperature and humidity atmosphere. Of manufacturing a film-like film substrate.
前記フィルム基材の前記所定のパターンが設けられているパターン形成領域外には、フィルム基材を貫通する貫通孔が設けられていることを特徴とする画像表示素子。 An image display element having a film base and a predetermined pattern provided on the film base,
An image display element, wherein a through-hole penetrating the film base material is provided outside a pattern forming region in which the predetermined pattern of the film base material is provided.
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