[go: up one dir, main page]

JP2012058148A - X-ray detection system - Google Patents

X-ray detection system Download PDF

Info

Publication number
JP2012058148A
JP2012058148A JP2010203410A JP2010203410A JP2012058148A JP 2012058148 A JP2012058148 A JP 2012058148A JP 2010203410 A JP2010203410 A JP 2010203410A JP 2010203410 A JP2010203410 A JP 2010203410A JP 2012058148 A JP2012058148 A JP 2012058148A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ray
energy
collector mirror
characteristic
angle
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2010203410A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5563935B2 (en
Inventor
Takanori Murano
孝訓 村野
Nobuo Iida
信雄 飯田
Hideyuki Takahashi
秀之 高橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jeol Ltd filed Critical Jeol Ltd
Priority to JP2010203410A priority Critical patent/JP5563935B2/en
Publication of JP2012058148A publication Critical patent/JP2012058148A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5563935B2 publication Critical patent/JP5563935B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

【課題】電子線を照射した試料からの特性X線を回折させてスペクトルを採取するX線検出システムにおいて、適切な集光を行うX線集光ミラーを備えることでエネルギー分布スペクトルの検出精度を維持する。
【解決手段】試料に対して電子線を照射する電子線照射部と、電子線が照射された前記試料から放出される特性X線を集光させて回折格子に導くX線集光ミラーと、前記X線集光ミラーの位置もしくは角度を調整するX線集光ミラー調整部と、前記X線集光ミラーにより集光された特性X線を受けて回折X線を生じさせる回折格子と、前記回折格子で生じた回折X線を検出するイメージセンサと、を備え、前記X線集光ミラー調整部は、前記X線集光ミラーの反射面において反射する前記特性X線のエネルギーに応じて反射可能な角度範囲で、前記X線集光ミラーの位置もしくは角度を調整する。
【選択図】図1
In an X-ray detection system that diffracts characteristic X-rays from a sample irradiated with an electron beam and collects a spectrum, the energy distribution spectrum detection accuracy is improved by providing an X-ray focusing mirror that performs appropriate focusing. maintain.
An electron beam irradiation unit that irradiates a sample with an electron beam, an X-ray condensing mirror that collects characteristic X-rays emitted from the sample irradiated with the electron beam and guides them to a diffraction grating, An X-ray collector mirror adjustment unit that adjusts the position or angle of the X-ray collector mirror; a diffraction grating that generates a characteristic X-ray that is collected by the X-ray collector mirror; And an image sensor for detecting diffracted X-rays generated by the diffraction grating, wherein the X-ray focusing mirror adjusting unit reflects the energy of the characteristic X-ray reflected on the reflection surface of the X-ray focusing mirror. The position or angle of the X-ray collector mirror is adjusted within a possible angle range.
[Selection] Figure 1

Description

本発明はX線検出システムに関し、特に、試料から放出される特性X線をミラーによって集光させて回折格子に導く構成のX線検出システムにおいて、X線のエネルギーに応じて適切な状態でミラーを使用可能なX線検出システムに関する。   The present invention relates to an X-ray detection system, and more particularly to an X-ray detection system having a configuration in which characteristic X-rays emitted from a sample are collected by a mirror and guided to a diffraction grating in a state appropriate to the X-ray energy. The present invention relates to an X-ray detection system that can be used.

試料に電子線などの荷電粒子線を照射すると、該試料から特性X線が発生する。この特性X線を検出器で検出し、試料の組成を計測する手法はエネルギー分散型X線分光と呼ばれている。この手法では、特性X線が試料を構成する元素の特有なエネルギーを持つことを利用している。単位時間当たりのX線発生個数をX線のエネルギー毎に計数して試料の元素組成等の情報を得ている。ここで、X線を検出する手段として、シリコンやゲルマニウム等の半導体結晶を用いた半導体検出素子を用いるのが一般的である。   When the sample is irradiated with a charged particle beam such as an electron beam, characteristic X-rays are generated from the sample. A technique for detecting the characteristic X-rays with a detector and measuring the composition of the sample is called energy dispersive X-ray spectroscopy. This technique utilizes the characteristic X-rays having the specific energy of the elements constituting the sample. The number of X-rays generated per unit time is counted for each X-ray energy to obtain information such as the elemental composition of the sample. Here, as a means for detecting X-rays, a semiconductor detection element using a semiconductor crystal such as silicon or germanium is generally used.

一方、試料に電子線などの荷電粒子線を照射して発生した特性X線を回折格子に入射すると、回折X線が分離される。この回折X線をX線用CCDイメージセンサで検出し、画像化する手法も存在している。   On the other hand, when characteristic X-rays generated by irradiating a sample with a charged particle beam such as an electron beam are incident on the diffraction grating, the diffracted X-rays are separated. There is also a technique for detecting the diffracted X-rays with an X-ray CCD image sensor and imaging it.

この手法を実現する装置としては、試料に対して電子線を照射する電子線照射部と、電子線が照射された試料から放出される特性X線を集光させて回折格子に導くX線集光ミラーと、X線集光ミラーにより集光された特性X線を受けて回折X線を生じさせる回折格子と、回折格子で生じた回折X線を検出するイメージセンサと、を備えて構成されている。   An apparatus for realizing this technique includes an electron beam irradiation unit that irradiates a sample with an electron beam, and an X-ray collection that collects characteristic X-rays emitted from the sample irradiated with the electron beam and guides them to a diffraction grating. An optical mirror, a diffraction grating that receives characteristic X-rays collected by the X-ray condenser mirror and generates diffracted X-rays, and an image sensor that detects diffracted X-rays generated by the diffraction grating. ing.

この種のX線検出システムについては、以下の特許文献1にも記載されている。   This type of X-ray detection system is also described in Patent Document 1 below.

特開2002−329473号公報JP 2002-329473 A

以上のようなX線検出システムでは、X線のエネルギーの違いに応じて複数の異なる回折格子を選択して使用することが可能に構成されたものがある。しかし、試料から回折格子にX線を導くX線集光ミラーについては、X線のエネルギーに応じて交換されることがない。   Some X-ray detection systems as described above are configured to be able to select and use a plurality of different diffraction gratings according to the difference in X-ray energy. However, the X-ray collector mirror that guides X-rays from the sample to the diffraction grating is not exchanged according to the energy of the X-rays.

ここで、X線のエネルギー、すなわち波長が異なると、反射の臨界角が異なったものになる。したがって、中程度のエネルギーのX線ではX線集光ミラーでの反射が可能であるものの、同じ角度であっても高エネルギーのX線では反射されないといった事態も発生する。すなわち、回折格子に応じて各種のエネルギーの検出が実行されるX線検出システムにおいて、常時理想的にX線を反射させるX線集光ミラーを実現することは困難である。この場合、X線集光ミラーの位置や角度がX線のエネルギーに合致していないと、集光効率が落ちることや、反射における収差が発生することで、エネルギー分布スペクトルの分解能が低下して検出精度が低下することがある。   Here, when the X-ray energy, that is, the wavelength is different, the critical angle of reflection is different. Therefore, although medium energy X-rays can be reflected by the X-ray condensing mirror, even if the angle is the same, high energy X-rays are not reflected. That is, it is difficult to realize an X-ray condenser mirror that always ideally reflects X-rays in an X-ray detection system in which various types of energy are detected according to the diffraction grating. In this case, if the position and angle of the X-ray condensing mirror do not match the X-ray energy, the condensing efficiency is lowered and the aberration in reflection is reduced, so that the resolution of the energy distribution spectrum is lowered. The detection accuracy may be reduced.

本発明は以上の課題に鑑みてなされたものであって、その目的は、電子線を照射した試料からの特性X線を回折格子により回折させてイメージセンサでスペクトルを採取するX線検出システムにおいて、X線のエネルギーに応じて適切な集光を行うX線集光ミラーを備えることでエネルギー分布スペクトルの検出精度を維持することが可能なX線検出システムを実現することである。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is an X-ray detection system that diffracts characteristic X-rays from a sample irradiated with an electron beam by a diffraction grating and collects a spectrum with an image sensor. An X-ray detection system that can maintain the detection accuracy of the energy distribution spectrum by providing an X-ray condensing mirror that performs appropriate condensing according to the energy of X-rays is realized.

すなわち、上記の課題を解決する本願発明は、以下のそれぞれに述べるようなものである。   That is, the present invention for solving the above problems is as described below.

(1)この発明は、試料に対して電子線を照射する電子線照射部と、電子線が照射された前記試料から放出される特性X線を集光させて回折格子に導くX線集光ミラーと、前記X線集光ミラーの位置もしくは角度を調整するX線集光ミラー調整部と、前記X線集光ミラーにより集光された特性X線を受けて回折X線を生じさせる回折格子と、前記回折格子で生じた回折X線を検出するイメージセンサと、を備え、前記X線集光ミラー調整部は、前記X線集光ミラーの反射面において反射する前記特性X線のエネルギーにより定まる臨界角に応じて反射可能な角度範囲で、前記X線集光ミラーの位置もしくは角度を調整する、ことを特徴とするX線検出システムである。   (1) According to the present invention, an electron beam irradiation unit that irradiates a sample with an electron beam, and X-ray condensing that condenses characteristic X-rays emitted from the sample irradiated with the electron beam and guides them to a diffraction grating A diffraction grating that generates a diffracted X-ray upon receipt of a characteristic X-ray collected by the X-ray collector mirror, an X-ray collector mirror adjustment section that adjusts the position or angle of the X-ray collector mirror And an image sensor that detects the diffracted X-rays generated by the diffraction grating, and the X-ray collector mirror adjustment unit is configured to detect the energy of the characteristic X-ray reflected on the reflection surface of the X-ray collector mirror. The X-ray detection system is characterized in that the position or angle of the X-ray collector mirror is adjusted within a range of angles that can be reflected according to a fixed critical angle.

(2)また、上記(1)において、前記X線集光ミラー調整部は、前記特性X線のエネルギーが大きい場合には前記X線集光ミラーに対する前記特性X線の入射角が大きくなるよう調整し、前記特性X線のエネルギーが小さい場合には前記X線集光ミラーに対する前記特性X線の入射角が小さくなるよう調整する、ことを特徴とする。   (2) In the above (1), when the energy of the characteristic X-ray is large, the X-ray collector mirror adjustment unit may increase the incident angle of the characteristic X-ray with respect to the X-ray collector mirror. When the energy of the characteristic X-ray is small, adjustment is performed so that the incident angle of the characteristic X-ray with respect to the X-ray collector mirror is reduced.

(3)また、上記(1)−(2)において、前記X線集光ミラー調整部は、前記回折X線のイメージのエネルギー分散方向と直交する方向に、前記X線集光ミラーの位置もしくは角度を調整する、ことを特徴とする。   (3) In the above (1)-(2), the X-ray focusing mirror adjustment unit may be configured such that the position of the X-ray focusing mirror or The angle is adjusted.

(4)また、上記(1)−(3)において、前記イメージセンサで検出された前記回折X線を分析してエネルギー分布スペクトルを生成する分析部を備え、前記X線集光ミラー調整部は、前記エネルギー分布スペクトルに含まれるいずれかのスペクトル成分の強度が大きくなるように、前記X線集光ミラーの位置もしくは角度を調整する、ことを特徴とする。   (4) In the above (1) to (3), the X-ray focusing mirror adjustment unit includes an analysis unit that analyzes the diffracted X-rays detected by the image sensor and generates an energy distribution spectrum. The position or angle of the X-ray collector mirror is adjusted so that the intensity of any spectral component included in the energy distribution spectrum is increased.

(5)また、上記(1)−(4)において、前記イメージセンサで検出された前記回折X線を分析してエネルギー分布スペクトルを生成する分析部を備え、前記X線集光ミラー調整部は、前記エネルギー分布スペクトルに含まれるいずれかのスペクトル成分において分解能低下あるいはピークレベル低下が検知された場合には、前記特性X線のエネルギーにより定まる臨界角に応じて反射可能な角度範囲を除外するように、前記X線集光ミラーの位置もしくは角度を調整する、ことを特徴とする。   (5) In the above (1)-(4), the X-ray focusing mirror adjustment unit includes an analysis unit that generates an energy distribution spectrum by analyzing the diffracted X-rays detected by the image sensor. When a decrease in resolution or a decrease in peak level is detected in any spectral component included in the energy distribution spectrum, an angle range that can be reflected is excluded according to a critical angle determined by the energy of the characteristic X-ray. In addition, the position or angle of the X-ray collector mirror is adjusted.

(6)また、上記(5)において、前記イメージセンサで検出された前記回折X線を分析してエネルギー分布スペクトルを生成する分析部を備え、前記X線集光ミラー調整部は、前記低下が解消される範囲内で、前記X線集光ミラーの位置もしくは角度を調整する、ことを特徴とする。   (6) In addition, in (5), an analysis unit that analyzes the diffracted X-rays detected by the image sensor to generate an energy distribution spectrum is provided, and the X-ray focusing mirror adjustment unit is The position or angle of the X-ray collector mirror is adjusted within a range that can be eliminated.

(7)また、上記(1)−(6)において、前記特性X線のエネルギーに応じて定まる異なる複数の回折格子が交換可能に構成されたX線検出システムであって、前記X線集光ミラー調整部は、異なる複数の各回折格子毎のそれぞれが対応する特性X線のエネルギーに応じて、前記X線集光ミラーの位置もしくは角度を調整する際の調整値のデータを記憶しておき、使用される前記回折格子に応じて記憶された調整値を読み出して調整する、ことを特徴とする。   (7) Further, in the above (1) to (6), the X-ray condensing system is configured such that a plurality of different diffraction gratings determined according to the energy of the characteristic X-ray can be exchanged. The mirror adjustment unit stores adjustment value data for adjusting the position or angle of the X-ray focusing mirror in accordance with the characteristic X-ray energy corresponding to each of a plurality of different diffraction gratings. The adjustment value stored in accordance with the diffraction grating to be used is read and adjusted.

これらの発明によると、以下のような効果を得ることができる。   According to these inventions, the following effects can be obtained.

(1)この発明では、電子線が照射された試料から放出される特性X線をX線集光ミラーで集光させて回折格子に導き、回折格子で生じた回折X線をイメージセンサで検出してX線検出を実行しており、この際に、X線集光ミラー調整部によってX線集光ミラーの位置もしくは角度を調整する。   (1) In this invention, characteristic X-rays emitted from a sample irradiated with an electron beam are condensed by an X-ray condenser mirror and guided to a diffraction grating, and the diffraction X-rays generated by the diffraction grating are detected by an image sensor. Then, X-ray detection is performed, and at this time, the position or angle of the X-ray focusing mirror is adjusted by the X-ray focusing mirror adjustment unit.

ここで、X線集光ミラー調整部は、X線集光ミラーの反射面において反射する前記特性X線のエネルギーにより定まる臨界角に応じて、反射可能な角度範囲で、X線集光ミラーの位置もしくは角度を調整する。   Here, the X-ray collector mirror adjustment unit is configured to reflect the X-ray collector mirror within a reflective angle range according to a critical angle determined by the energy of the characteristic X-ray reflected on the reflection surface of the X-ray collector mirror. Adjust the position or angle.

このため、X線集光ミラー調整部によってX線集光ミラーの位置もしくは角度を調整することで、X線集光ミラーはX線のエネルギーに応じて適切な集光を行うことができ、エネルギー分布スペクトルの検出精度を維持することが可能になる。   For this reason, by adjusting the position or angle of the X-ray collector mirror by the X-ray collector mirror adjustment unit, the X-ray collector mirror can perform appropriate focusing according to the energy of the X-ray, and the energy It becomes possible to maintain the detection accuracy of the distribution spectrum.

(2)上記(1)において、X線集光ミラー調整部は、特性X線のエネルギーが大きい場合にはX線集光ミラーに対する特性X線の入射角が大きくなるよう調整し、特性X線のエネルギーが小さい場合にはX線集光ミラーに対する特性X線の入射角が小さくなるよう調整することにより、X線の各エネルギーにおいてX線集光ミラーが反射可能な角度になり、X線集光ミラーはX線のエネルギーに応じて適切な集光を行うことができ、エネルギー分布スペクトルの検出精度を維持することが可能になる。   (2) In the above (1), the X-ray collector mirror adjustment unit adjusts the incident angle of the characteristic X-ray to the X-ray collector mirror to be large when the characteristic X-ray energy is large, and the characteristic X-ray When the energy of the X-ray is small, by adjusting the incident angle of the characteristic X-ray to the X-ray collector mirror to be small, the X-ray collector mirror can be reflected at each energy of the X-ray. The optical mirror can collect light appropriately according to the energy of the X-ray, and can maintain the detection accuracy of the energy distribution spectrum.

(3)上記(1)−(2)において、X線集光ミラー調整部は、回折X線のイメージのエネルギー分散方向と直交する方向に、X線集光ミラーの位置もしくは角度を調整することにより、回折X線のイメージに影響を与えず、X線の各エネルギーにおいてX線集光ミラーが反射可能な角度になり、X線集光ミラーはX線のエネルギーに応じて適切な集光を行うことができ、エネルギー分布スペクトルの検出精度を維持することが可能になる。   (3) In the above (1)-(2), the X-ray collector mirror adjustment unit adjusts the position or angle of the X-ray collector mirror in a direction orthogonal to the energy dispersion direction of the image of the diffracted X-ray. Therefore, the X-ray collector mirror has an angle that can be reflected by each energy of the X-ray without affecting the image of the diffracted X-ray, and the X-ray collector mirror collects the light appropriately according to the energy of the X-ray. The detection accuracy of the energy distribution spectrum can be maintained.

(4)上記(1)−(3)において、エネルギー分布スペクトルに含まれるいずれかのスペクトル成分の強度が大きくなるように、X線集光ミラーの位置もしくは角度を調整することにより、X線の各エネルギーにおいてX線集光ミラーが高効率で反射可能な角度になり、X線集光ミラーはX線のエネルギーに応じて適切な集光を行うことができ、エネルギー分布スペクトルの検出精度を維持することが可能になる。   (4) In the above (1)-(3), by adjusting the position or angle of the X-ray focusing mirror so that the intensity of any spectral component included in the energy distribution spectrum is increased, The angle at which the X-ray collector mirror can be reflected with high efficiency at each energy level allows the X-ray collector mirror to perform appropriate focusing according to the energy of the X-ray, maintaining the detection accuracy of the energy distribution spectrum. It becomes possible to do.

(5)上記(1)−(4)において、エネルギー分布スペクトルに含まれるいずれかのスペクトル成分において分解能低下あるいはピークレベル低下が検知された場合には、特性X線のエネルギーにより定まる臨界角に応じて反射可能な角度範囲を除外するように、X線集光ミラーの位置もしくは角度を調整することにより、測定に不要なエネルギー成分を積極的に除外することで、エネルギー分布スペクトルの検出精度を維持することが可能になる。   (5) In the above (1)-(4), when a decrease in resolution or a decrease in peak level is detected in any spectral component included in the energy distribution spectrum, it depends on the critical angle determined by the energy of the characteristic X-ray. By adjusting the position or angle of the X-ray focusing mirror so as to exclude the range of angles that can be reflected, the energy distribution spectrum detection accuracy is maintained by actively excluding energy components that are not required for measurement. It becomes possible to do.

(6)上記(5)において、エネルギー分布スペクトルに含まれるいずれかのスペクトル成分において分解能低下あるいはピークレベル低下が検知された場合には、特性X線のエネルギーにより定まる臨界角に応じて反射可能な角度範囲を除外するように、X線集光ミラーの位置もしくは角度を調整する場合に、低下が解消される範囲内で、X線集光ミラーの位置もしくは角度を調整することにより、測定に不要なエネルギー成分を積極的かつ効率的に除外することで、エネルギー分布スペクトルの検出精度を維持することが可能になる。   (6) In the above (5), when a decrease in resolution or a decrease in peak level is detected in any spectral component included in the energy distribution spectrum, reflection is possible according to the critical angle determined by the energy of the characteristic X-ray. When adjusting the position or angle of the X-ray collector mirror so as to exclude the angle range, it is not necessary for measurement by adjusting the position or angle of the X-ray collector mirror within the range where the decrease is eliminated. It is possible to maintain the detection accuracy of the energy distribution spectrum by positively and efficiently excluding unnecessary energy components.

(7)上記(1)−(6)において、異なる複数の交換可能な各回折格子毎のそれぞれが対応する特性X線のエネルギーに応じて、X線集光ミラーの位置もしくは角度を調整する際の調整値のデータを記憶しておき、使用される回折格子に応じて記憶された調整値を読み出してX線集光ミラーの位置もしくは角度を調整することにより、回折格子の交換に伴うX線のエネルギーに対応して、X線集光ミラーはX線のエネルギーに応じて適切な集光を行うことができ、エネルギー分布スペクトルの検出精度を維持することが可能になる。   (7) In the above (1) to (6), when the position or angle of the X-ray focusing mirror is adjusted in accordance with the energy of the characteristic X-ray corresponding to each of a plurality of different exchangeable diffraction gratings X-rays associated with the exchange of diffraction gratings are stored by reading adjustment value data stored in accordance with the diffraction grating used and adjusting the position or angle of the X-ray focusing mirror. The X-ray condensing mirror can perform appropriate condensing according to the energy of the X-ray, and can maintain the detection accuracy of the energy distribution spectrum.

本発明の実施形態を適用したX線検出システムの構成を示す構成図である。It is a block diagram which shows the structure of the X-ray detection system to which embodiment of this invention is applied. 本発明の実施形態を適用したX線検出システムの構成を示す構成図である。It is a block diagram which shows the structure of the X-ray detection system to which embodiment of this invention is applied. 本発明の実施形態を適用したX線検出システムの主要部の構成を示す構成図である。It is a block diagram which shows the structure of the principal part of the X-ray detection system to which embodiment of this invention is applied. 本発明の実施形態を適用したX線検出システムの主要部の構成を示す構成図である。It is a block diagram which shows the structure of the principal part of the X-ray detection system to which embodiment of this invention is applied. 本発明の実施形態を適用したX線検出システムの主要部の構成を示す構成図である。It is a block diagram which shows the structure of the principal part of the X-ray detection system to which embodiment of this invention is applied. 本発明の実施形態を適用したX線検出システムの特性を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the characteristic of the X-ray detection system to which embodiment of this invention is applied. 本発明の実施形態を適用したX線検出システムの特性を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the characteristic of the X-ray detection system to which embodiment of this invention is applied. 本発明の実施形態を適用したX線検出システムの特性を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the characteristic of the X-ray detection system to which embodiment of this invention is applied. 本発明の実施形態を適用したX線検出システムの主要部の構成を示す構成図である。It is a block diagram which shows the structure of the principal part of the X-ray detection system to which embodiment of this invention is applied.

以下、図面を参照して本発明の画像形成装置を実施するための形態(実施形態)を詳細に説明する。   DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments (embodiments) for carrying out an image forming apparatus of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

〈第1実施形態〉
まず図1と図2を参照して第1実施形態のX線検出システムの構成を説明する。
<First Embodiment>
First, the configuration of the X-ray detection system of the first embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 2.

なお、この図1においては、鏡筒や架台などの各部を保持するための既知の基本的部材、真空を保持する機構部分などについては省略し、実施形態の特徴部分の配置を中心に示した斜視図の状態でX線検出システムを示している。また、図2では、ブロック図に近い状態でX線検出システムを示している。   In FIG. 1, known basic members for holding each part such as a lens barrel and a gantry, a mechanism part for holding a vacuum, etc. are omitted, and the arrangement of the characteristic parts of the embodiment is mainly shown. The X-ray detection system is shown in a perspective view. FIG. 2 shows the X-ray detection system in a state close to a block diagram.

電子線照射部10は、走査電子顕微鏡の鏡筒部分に設けられ、試料20に対して電子線を照射する。   The electron beam irradiation unit 10 is provided in a lens barrel portion of a scanning electron microscope and irradiates the sample 20 with an electron beam.

X線集光ミラー部30は、試料20から放出される特性X線を、2枚のミラー34aと34bとで集光させて回折格子50に導く。ここで、X線集光ミラー部30で集光させることにより、回折格子50に入射する特性X線の強度を増加させて、測定時間の短縮、スペクトルのS/N比を向上させることができる。   The X-ray focusing mirror unit 30 focuses the characteristic X-rays emitted from the sample 20 by the two mirrors 34 a and 34 b and guides them to the diffraction grating 50. Here, by condensing with the X-ray condensing mirror unit 30, the intensity of the characteristic X-rays incident on the diffraction grating 50 can be increased, the measurement time can be shortened, and the S / N ratio of the spectrum can be improved. .

X線集光ミラー部30は、2枚のミラー34aと34bとを向き合わせて1組としている。そして、それぞれのミラー34aと34bの向き合う面は、図2の紙面垂直方向(Z方向)に平坦である。そして、ミラーの間隔は、試料側(入射側)が狭く、回折格子側(出射側)が広くなる平面もしくは折り曲げ平面または曲面で構成されている。   The X-ray condensing mirror unit 30 is a set of two mirrors 34a and 34b facing each other. The surfaces of the mirrors 34a and 34b facing each other are flat in the direction perpendicular to the paper surface (Z direction) in FIG. The interval between the mirrors is a flat surface, a bent flat surface, or a curved surface in which the sample side (incident side) is narrow and the diffraction grating side (exit side) is wide.

これにより、X線集光ミラー部30無しの場合と比べると、回折格子50に入射する特性X線の強度を増加させ、これにより測定時間の短縮、スペクトルのS/N比を向上させることができる。   As a result, the intensity of the characteristic X-rays incident on the diffraction grating 50 can be increased as compared with the case without the X-ray condensing mirror unit 30, thereby shortening the measurement time and improving the S / N ratio of the spectrum. it can.

なお、ここでは、説明のため、ミラー34aと34bとがむき出しの状態になっているが、これに限定されず、ミラー34aと34bとを一体保持するミラー外部筐体のような筒状の構造体が存在していてもよい。   Here, for the sake of explanation, the mirrors 34a and 34b are exposed, but the present invention is not limited to this, and a cylindrical structure such as a mirror external housing that integrally holds the mirrors 34a and 34b. The body may be present.

また、X線集光ミラー部30は、X線検出システムにおいて位置が固定された固定部31上において、後述するX線集光ミラー調整部材42(調整部材42a、42b、42c、42d)によって角度もしくは位置が調整されうる状態で構成されている。なお、固定部31は、X線集光ミラー部30として備えていてもよいが、X線検出システムのシャーシなどをそのまま使用してもよい。   Further, the X-ray collector mirror unit 30 is angled by an X-ray collector mirror adjusting member 42 (adjustment members 42a, 42b, 42c, 42d) described later on the fixed unit 31 whose position is fixed in the X-ray detection system. Alternatively, the position can be adjusted. In addition, although the fixing | fixed part 31 may be provided as the X-ray condensing mirror part 30, you may use the chassis of an X-ray detection system, etc. as it is.

X線集光ミラー調整制御部41は、後述する分析部での分析結果に基づいてX線集光ミラー調整部材42(調整部材42a、42b、42c、42d)によりX線集光ミラー34a,34bの角度もしくは位置を調整する。なお、X線集光ミラー調整制御部41と、X線集光ミラー調整部材42(調整部材42a、42b、42c、42d)とで、X線集光ミラー調整部40を構成している。   The X-ray collector mirror adjustment control unit 41 uses the X-ray collector mirror adjustment member 42 (adjustment members 42a, 42b, 42c, 42d) based on the analysis result in the analysis unit described later to adjust the X-ray collector mirrors 34a, 34b. Adjust the angle or position. The X-ray focusing mirror adjustment control unit 41 and the X-ray focusing mirror adjustment member 42 (adjustment members 42a, 42b, 42c, 42d) constitute an X-ray focusing mirror adjustment unit 40.

ここで、X線集光ミラー調整部材42は、X線集光ミラー34aの端部を支えつつX方向(回折X線のイメージのエネルギー分散方向と直交する方向)に調整する調整部材42aと調整部材42bとを備え、さらに、X線集光ミラー34bの端部を支えつつX方向(回折X線のイメージのエネルギー分散方向と直交する方向)に調整する調整部材42cと調整部材42dとを備えて、構成されている。   Here, the X-ray focusing mirror adjusting member 42 is adjusted with the adjusting member 42a that adjusts in the X direction (direction orthogonal to the energy dispersion direction of the image of the diffracted X-ray) while supporting the end of the X-ray focusing mirror 34a. And an adjustment member 42c and an adjustment member 42d that adjust in the X direction (direction orthogonal to the energy dispersion direction of the image of the diffracted X-ray) while supporting the end of the X-ray condenser mirror 34b. Configured.

ここで、調整部材42aと42c、42bと42dとについては、ピエゾ素子、リニアモータ、アクチュエータ、ビスなどの各種の能動的調整部材を用いることができる。また、調整部材42a〜42dとしてのビスを、マイクロメーターとすることで、変位量を確認しつつ調整することが可能になる。   Here, for the adjustment members 42a and 42c and 42b and 42d, various active adjustment members such as a piezo element, a linear motor, an actuator, and a screw can be used. Further, by using screws as the adjusting members 42a to 42d as a micrometer, it is possible to adjust while confirming the amount of displacement.

回折格子50は、X線集光ミラー部30により集光された特性X線を受けて、エネルギーに応じて回折状態が異なる回折X線を生じさせる。この回折格子50は、収差補正のために不等間隔の溝が形成されており、このような不等間隔回折格子は、大きな入射角(回折格子面(図1のY軸)に平行に近い角度)で入射させたとき、回折光の焦点をローランド円上ではなく、光線にほぼ垂直な平面(イメージセンサ70の受光面:図1のXZ平面))上に作るように設計される。   The diffraction grating 50 receives characteristic X-rays collected by the X-ray condenser mirror unit 30 and generates diffracted X-rays having different diffraction states according to energy. This diffractive grating 50 is formed with unequally spaced grooves for aberration correction, and such unequally spaced diffractive gratings are nearly parallel to a large incident angle (diffraction grating surface (Y axis in FIG. 1)). When the light beam is incident at an angle, the focal point of the diffracted light is designed not on the Roland circle but on a plane substantially perpendicular to the light beam (light receiving surface of the image sensor 70: XZ plane in FIG. 1).

イメージセンサ70は、回折X線を検出するため、軟X線に感度を有するX線用のCCDカメラあるいはX線用のCMOSカメラである。望ましくは、背面照射型のX線用CCDカメラで構成されている。このイメージセンサ70は、その受光面が回折X線の結像面に一致するように位置調整がなされる。   The image sensor 70 is an X-ray CCD camera or an X-ray CMOS camera having sensitivity to soft X-rays in order to detect diffracted X-rays. Desirably, it comprises a back-illuminated X-ray CCD camera. The position of the image sensor 70 is adjusted so that the light receiving surface thereof coincides with the image plane of diffracted X-rays.

分析部80は、イメージセンサ70で検出された回折X線を分析して、ある値のエネルギーのX線が何個検出されたかを意味するエネルギー分布スペクトルを生成する波形分析装置である。   The analysis unit 80 is a waveform analyzer that analyzes the diffracted X-rays detected by the image sensor 70 and generates an energy distribution spectrum that means how many X-rays with a certain value of energy are detected.

表示部90は分析部80での分析結果であるエネルギー分布スペクトルやその他の各種情報を視覚的に表示するディスプレイである。   The display unit 90 is a display that visually displays an energy distribution spectrum that is an analysis result of the analysis unit 80 and various other information.

なお、分析部80と表示部90とは、コンピュータ装置及びエネルギー分布スペクトルを算出するコンピュータプログラムとで構成することも可能である。   The analysis unit 80 and the display unit 90 can also be configured by a computer device and a computer program that calculates an energy distribution spectrum.

なお、以上の試料20、X線集光ミラー部30、回折格子50、およびイメージセンサ70は、図示されていないが、真空ポンプで排気された分光器室に設けられ、ゲートバルブを介して走査型電子顕微鏡の鏡筒に取り付けられているものとする。また、調整部材42a、42c、42b、42dについては、真空ポンプで排気された分光器室に設けられいてもよいし、ロッドなどの操作部材を介して分光器室の外から調整することも可能である。   The sample 20, the X-ray condensing mirror unit 30, the diffraction grating 50, and the image sensor 70 are not shown, but are provided in a spectroscope chamber evacuated by a vacuum pump and scanned via a gate valve. It shall be attached to the barrel of a scanning electron microscope. Further, the adjusting members 42a, 42c, 42b, and 42d may be provided in the spectroscope chamber exhausted by a vacuum pump, or can be adjusted from the outside of the spectroscopic chamber through an operation member such as a rod. It is.

また、このX線検出システムにおける回折格子50およびその周辺の構成の詳細については、本件出願人が別途特許出願した特開2002−329473号公報に記載されている。また、イメージセンサ70で得られた回折X線の処理システムについては、既知のものを使用することができるため、詳細な説明を省略する。   Further, details of the configuration of the diffraction grating 50 and its periphery in this X-ray detection system are described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-329473, to which the applicant of the present application separately applied. Further, since a known system for processing a diffracted X-ray obtained by the image sensor 70 can be used, detailed description thereof is omitted.

図3はX線集光ミラー34aと34bとが直線状に構成された場合を示している。   FIG. 3 shows a case where the X-ray condensing mirrors 34a and 34b are linearly configured.

図3(a)はミラー34aと34bとがX線集光ミラー調整制御部41により制御される調整部材42a〜42dによって位置もしくは角度が調整されるX線集光ミラー34aと34bが初期状態あるいは中立状態にある場合の具体例を示している。ここでは、X線検出システムにおいて検出されるX線が、後述する場合と比較して中間的なエネルギーであるとする。   In FIG. 3A, the mirrors 34a and 34b are adjusted in their positions or angles by adjusting members 42a to 42d controlled by the X-ray focusing mirror adjustment control unit 41. The X-ray focusing mirrors 34a and 34b are in the initial state or A specific example in the neutral state is shown. Here, it is assumed that X-rays detected in the X-ray detection system have intermediate energy compared to the case described later.

なお、ここでは、試料20からX線集光ミラー34aと34bとで反射されるX線の軌跡の一例を示しており、ここに示されない多数の反射光や、直接光が回折格子50に入射しうる。   Here, an example of the locus of X-rays reflected from the sample 20 by the X-ray collector mirrors 34 a and 34 b is shown, and a large number of reflected light and direct light not shown here are incident on the diffraction grating 50. Yes.

ここで、X線検出システムにおいて検出されるX線が図3(a)のときよりも高エネルギーとなった場合、この高エネルギーのX線を分析する分析部80は、高エネルギー処理中であることをX線集光ミラー調整制御部41に通知する。   Here, when the X-ray detected in the X-ray detection system becomes higher energy than in the case of FIG. 3A, the analysis unit 80 that analyzes this high-energy X-ray is in high energy processing. This is notified to the X-ray condenser mirror adjustment control unit 41.

この高エネルギー処理の通知を受けたX線集光ミラー調整制御部41は、調整部材42aと42cとを伸長し、調整部材42bと42dとを圧縮するような制御を行う。これにより、X線集光ミラー34aと34bとは、試料20側の間隔が狭くなり、回折格子50側の間隔が広くなる。この状態を、図3(b)に示す。なお、図3(b)において、比較のために、図3(a)におけるX線集光ミラー34aと34bの位置を細破線で示している。この図3(b)の場合は、X線集光ミラー34aと34bとで、図3(a)と同じ位置で反射されるX線の入射角が大きくなり、高エネルギーのX線の反射に対応可能になる。   The X-ray focusing mirror adjustment control unit 41 that has received the notification of the high energy processing performs control such that the adjustment members 42a and 42c are extended and the adjustment members 42b and 42d are compressed. As a result, the distance between the X-ray condenser mirrors 34a and 34b on the sample 20 side is narrowed and the distance on the diffraction grating 50 side is widened. This state is shown in FIG. In FIG. 3B, for comparison, the positions of the X-ray focusing mirrors 34a and 34b in FIG. 3A are indicated by thin broken lines. In the case of FIG. 3B, the X-ray condensing mirrors 34a and 34b increase the incident angle of X-rays reflected at the same position as in FIG. 3A, thereby reflecting high-energy X-rays. It becomes possible to respond.

すなわち、X線が高エネルギーになるにつれて反射可能な臨界角は大きくなるため、図3(a)のままであると高エネルギーのX線は反射されなくなるが、図3(b)のように入射角を大きくすると高エネルギーのX線が反射されるようになる。   That is, since the critical angle that can be reflected increases as the X-rays become higher energy, the X-rays with higher energy cannot be reflected if they remain as shown in FIG. 3A, but are incident as shown in FIG. 3B. Increasing the angle causes high energy X-rays to be reflected.

なお、入射角とは、反射面に入射するとき、入射する方向と、その点における反射面の法線とのなす角を意味する。また、臨界角とは、その入射角を超えると全反射する最小の入射角のことである。   The incident angle means an angle formed between the incident direction and the normal of the reflecting surface at that point when entering the reflecting surface. The critical angle is the minimum incident angle that causes total reflection beyond the incident angle.

なお、X線集光ミラー34aと34bの入射側を狭めているため、集光効率が若干低下することになるので、X線のエネルギーの度合いに応じて調整する角度を決定することが望ましい。   Since the incident sides of the X-ray condensing mirrors 34a and 34b are narrowed, the condensing efficiency is slightly lowered. Therefore, it is desirable to determine the angle to be adjusted according to the degree of X-ray energy.

一方、X線検出システムにおいて検出されるX線が図3(a)のときよりも低エネルギーとなった場合、この低エネルギーのX線を分析する分析部80は、低エネルギー処理中であることをX線集光ミラー調整制御部41に通知する。   On the other hand, when the X-ray detected in the X-ray detection system has a lower energy than in FIG. 3A, the analysis unit 80 for analyzing the low-energy X-ray is in a low energy process. Is sent to the X-ray condenser mirror adjustment control unit 41.

この低エネルギー処理の通知を受けたX線集光ミラー調整制御部41は、調整部材42aと42cとを圧縮し、調整部材42bと42dとを伸長するような制御を行う。これにより、X線集光ミラー34aと34bとは、試料20側の間隔が広くなり、回折格子50側の間隔が狭くなる。この状態を、図3(c)に示す。なお、図3(c)において、比較のために、図3(a)におけるX線集光ミラー34aと34bの位置を細破線で示している。この図3(c)の場合は、X線集光ミラー34aと34bとで、図3(a)と同じ位置で反射されるX線の入射角が小さくなり、低エネルギーのX線の反射に適した状態になる。   The X-ray focusing mirror adjustment control unit 41 that has received this low energy processing notification performs control to compress the adjustment members 42a and 42c and extend the adjustment members 42b and 42d. As a result, the distance between the X-ray condenser mirrors 34a and 34b on the sample 20 side is widened and the distance on the diffraction grating 50 side is narrowed. This state is shown in FIG. In FIG. 3C, the positions of the X-ray condensing mirrors 34a and 34b in FIG. 3A are indicated by thin broken lines for comparison. In the case of FIG. 3C, the X-ray condensing mirrors 34a and 34b reduce the incident angle of X-rays reflected at the same position as in FIG. 3A, thereby reflecting low-energy X-rays. It will be in a suitable state.

すなわち、X線が低エネルギーになるにつれて反射可能な臨界角は小さくなる。この場合には、図3(a)や図3(b)のままでも低エネルギーのX線は反射されうるが、図3(c)のように入射側を広げることで集光効率が向上し、また、処理対象でない高エネルギーのX線は反射されないという利点が生じる。   In other words, the critical angle that can be reflected decreases as the X-ray energy becomes lower. In this case, low-energy X-rays can be reflected even if the state shown in FIGS. 3A and 3B is maintained, but condensing efficiency is improved by widening the incident side as shown in FIG. 3C. Also, there is an advantage that high energy X-rays that are not to be processed are not reflected.

なお、X線集光ミラー34aと34bの位置や角度を調整することで、図3(a)の当初の角度から変化してしまうため、X線集光ミラー34aと34bによる収差が大きくなり、エネルギー分布スペクトルの分解能が低下する可能性があるため、X線のエネルギーの違いや分解能の要求に応じて、分析部80とX線集光ミラー調整制御部41が必要な調整を行う。   It should be noted that adjusting the positions and angles of the X-ray focusing mirrors 34a and 34b changes from the initial angle in FIG. 3A, and hence the aberration caused by the X-ray focusing mirrors 34a and 34b increases. Since the resolution of the energy distribution spectrum may be lowered, the analysis unit 80 and the X-ray focusing mirror adjustment control unit 41 make necessary adjustments according to the difference in X-ray energy and the request for resolution.

以上のように、X線集光ミラー調整部40は、特性X線のエネルギーが大きい場合にはX線集光ミラー34aと34bに対する特性X線の入射角が大きくなるよう調整し、特性X線のエネルギーが小さい場合にはX線集光ミラーに対する特性X線の入射角が小さくなるよう調整することにより、X線の各エネルギーにおいてX線集光ミラーが反射可能な角度になり、X線集光ミラーはX線のエネルギーに応じて適切な集光を行うことができ、エネルギー分布スペクトルの検出精度を維持することが可能になる。   As described above, the X-ray collector mirror adjustment unit 40 adjusts the incident angle of the characteristic X-rays to the X-ray collector mirrors 34a and 34b to be large when the energy of the characteristic X-rays is large. When the energy of the X-ray is small, by adjusting the incident angle of the characteristic X-ray to the X-ray collector mirror to be small, the X-ray collector mirror can be reflected at each energy of the X-ray. The optical mirror can collect light appropriately according to the energy of the X-ray, and can maintain the detection accuracy of the energy distribution spectrum.

また、X線集光ミラー調整部40は、回折X線のイメージのエネルギー分散方向と直交する方向に、X線集光ミラー34aと34bの位置もしくは角度を調整することにより、回折X線のイメージに影響を与えず、X線の各エネルギーにおいてX線集光ミラーが反射可能な角度になり、X線集光ミラーはX線のエネルギーに応じて適切な集光を行うことができ、エネルギー分布スペクトルの検出精度を維持することが可能になる。   The X-ray collector mirror adjustment unit 40 adjusts the position or angle of the X-ray collector mirrors 34a and 34b in a direction orthogonal to the energy dispersion direction of the diffracted X-ray image, thereby diffracted X-ray image. The X-ray collector mirror is able to reflect the X-ray energy at each angle so that the X-ray collector mirror can collect light appropriately according to the energy of the X-ray. It becomes possible to maintain the detection accuracy of the spectrum.

〈第2実施形態〉
なお、図3はX線集光ミラー34aと34bとが直線状に構成された場合を示したが、集光効率を上げるため、図4に示すように、双曲線、楕円、あるいは双曲線と楕円との組合せの曲面からなる反射面を有するように構成することも可能である。ただし、使用するX線のエネルギーに応じて、最適となる曲面の曲率が変化するため、中間のエネルギーのX線に合わせて曲面の曲率を定めたうえで、図3(a)(b)(c)に示したように、X線集光ミラー34aと34bの位置もしくは角度を調整することが望ましい。
Second Embodiment
FIG. 3 shows the case where the X-ray condensing mirrors 34a and 34b are configured in a straight line. However, in order to increase the condensing efficiency, as shown in FIG. It is also possible to have a reflecting surface composed of a curved surface of the combination. However, since the curvature of the curved surface that is optimal varies depending on the energy of the X-rays to be used, the curvature of the curved surface is determined in accordance with the intermediate energy X-rays, and then shown in FIGS. As shown in c), it is desirable to adjust the positions or angles of the X-ray focusing mirrors 34a and 34b.

〈第3実施形態〉
なお、図4はX線集光ミラー34aと34bとが曲面で構成された場合を示したが、X線のエネルギーに応じた曲面を近似して実現するため、図5に示すように、一方の側のX線集光ミラー34aをX線集光ミラー34a1と34a2の2枚で構成し、他方の側のX線集光ミラー34bをX線集光ミラー34b1と34b2の2枚で構成することが可能である。
<Third Embodiment>
FIG. 4 shows the case where the X-ray condensing mirrors 34a and 34b are formed of curved surfaces. However, in order to realize the approximation of the curved surface according to the energy of the X-ray, as shown in FIG. The X-ray collector mirror 34a on the first side is configured with two X-ray collector mirrors 34a1 and 34a2, and the X-ray collector mirror 34b on the other side is configured with two X-ray collector mirrors 34b1 and 34b2. It is possible.

そして、X線集光ミラー34a1を調整する調整部材42a1と42a2、X線集光ミラー34a2を調整する調整部材42b1と42b2、X線集光ミラー34b1を調整する調整部材42c1と42c2、X線集光ミラー34b2を調整する調整部材42d1と42d2、を設けて、X線集光ミラー調整制御部41から制御を行う。   Then, adjustment members 42a1 and 42a2 for adjusting the X-ray collector mirror 34a1, adjustment members 42b1 and 42b2 for adjusting the X-ray collector mirror 34a2, adjustment members 42c1 and 42c2 for adjusting the X-ray collector mirror 34b1, and an X-ray collector Adjustment members 42d1 and 42d2 for adjusting the optical mirror 34b2 are provided, and control is performed from the X-ray focusing mirror adjustment control unit 41.

この場合、X線集光ミラー調整制御部41は、調整部材42a1,42a2,42c1,42c2に指示を与えて、特性X線のエネルギーが大きい場合にはX線集光ミラー34a1と34b1に対する特性X線の入射角が大きくなるよう調整し、特性X線のエネルギーが小さい場合にはX線集光ミラーに対する特性X線の入射角が小さくなるよう調整する。   In this case, the X-ray condenser mirror adjustment control unit 41 gives instructions to the adjustment members 42a1, 42a2, 42c1, and 42c2, and when the characteristic X-ray energy is large, the characteristic X for the X-ray condenser mirrors 34a1 and 34b1 Adjustment is made so that the incident angle of the line becomes large, and when the energy of the characteristic X-ray is small, adjustment is made so that the incident angle of the characteristic X-ray with respect to the X-ray collector mirror becomes small.

また、X線集光ミラー調整制御部41は、調整部材42b1については、調整部材42a2と連動させて、X線集光ミラー34a1と34a2の近接端部が一致するように調整すると共に、調整部材42d1については、調整部材42c2と連動させて、X線集光ミラー34b1と34b2の近接端部が一致するように調整する。   The X-ray collector mirror adjustment control unit 41 adjusts the adjustment member 42b1 in conjunction with the adjustment member 42a2 so that the adjacent end portions of the X-ray collector mirrors 34a1 and 34a2 coincide with each other. 42d1 is adjusted in conjunction with the adjustment member 42c2 so that the adjacent end portions of the X-ray focusing mirrors 34b1 and 34b2 coincide.

そして、X線集光ミラー調整制御部41は、調整部材42b2,42d2に指示を与えて、特性X線のエネルギーに応じて上述した分解能の低下を抑制できるように調整する。   Then, the X-ray focusing mirror adjustment control unit 41 gives an instruction to the adjustment members 42b2 and 42d2 and performs adjustment so that the above-described reduction in resolution can be suppressed according to the energy of the characteristic X-rays.

以上のようにすることで、X線の各エネルギーにおいてX線集光ミラー34a1、34a2、34b1、34b2が反射可能な角度になり、かつ、各X線集光ミラーはX線のエネルギーに応じて適切な集光を行うことができ、エネルギー分布スペクトルの検出精度を維持することが可能になる。すなわち、X線のエネルギーに対応した反射時の入射角の制御(図3)、使用するX線のエネルギーに応じた最適曲面の近似とを実現することが可能になる。   As described above, the X-ray collector mirrors 34a1, 34a2, 34b1, and 34b2 have angles that can be reflected by the X-ray energy, and the X-ray collector mirrors correspond to the X-ray energy. Appropriate focusing can be performed, and the detection accuracy of the energy distribution spectrum can be maintained. That is, it is possible to realize the control of the incident angle at the time of reflection corresponding to the energy of X-rays (FIG. 3) and the approximation of the optimum curved surface according to the energy of X-rays to be used.

以上の図5では、X線集光ミラー34aと34bとをそれぞれ2枚に分割した具体例を示したが、これより多く分割した場合であっても、同様にX線集光ミラー調整部40によって、各X線集光ミラーはX線のエネルギーに応じて適切な集光を行うことができ、エネルギー分布スペクトルの検出精度を維持することが可能になる。   FIG. 5 shows a specific example in which the X-ray collector mirrors 34a and 34b are each divided into two pieces. However, even when the X-ray collector mirrors 34a and 34b are divided more than this, the X-ray collector mirror adjustment unit 40 is similarly divided. Thus, each X-ray condensing mirror can perform appropriate condensing according to the energy of X-rays, and can maintain the detection accuracy of the energy distribution spectrum.

また、X線集光ミラー34aと34bとをそれぞれ柔軟性のある薄板で構成するとともに、調整部材を多数配置して、入射側を双曲線関数、出射側を放物線関数制御として、使用するX線のエネルギーに応じて最適となる形状に制御することも可能である。この場合には、部品点数が増加するが、所望の反射面形状に制御することが可能になる。   Further, the X-ray condensing mirrors 34a and 34b are each composed of a flexible thin plate, and a large number of adjusting members are arranged so that the incident side is a hyperbolic function and the exit side is a parabolic function control. It is also possible to control to an optimum shape according to energy. In this case, although the number of parts increases, it becomes possible to control to a desired reflecting surface shape.

〈第4実施形態〉
ところで、イメージセンサ70の受光面における回折X線像が図6(a)のように結像しているとする。この状態での分析部80での分析結果であるエネルギー分布スペクトルは、図6(c)のように表示されているとする。
<Fourth embodiment>
By the way, it is assumed that the diffraction X-ray image on the light receiving surface of the image sensor 70 is formed as shown in FIG. It is assumed that the energy distribution spectrum as an analysis result in the analysis unit 80 in this state is displayed as shown in FIG.

ここで、図3(b)のような制御によってX線集光ミラー34aと34bの片端を狭め過ぎて集光効率が低下すると、図6(b)のように、イメージセンサ70の受光面における回折X線像の一部がX方向の端部で消失することがある。この状態での分析部80での分析結果であるエネルギー分布スペクトルは、図6(d)のようになり、図6(c)よりもピークのレベルが低下する。   Here, if the one end of the X-ray condensing mirrors 34a and 34b is excessively narrowed by the control as shown in FIG. 3B and the condensing efficiency is lowered, the light receiving surface of the image sensor 70 as shown in FIG. A part of the diffracted X-ray image may disappear at the end in the X direction. An energy distribution spectrum as an analysis result in the analysis unit 80 in this state is as shown in FIG. 6D, and the peak level is lower than that in FIG.

したがって、X線集光ミラー調整部40で調整量を変化させたときに、分析部80では、エネルギー分布スペクトルのピーク値の変化を監視することで、集光効率低下を発見することが可能である。なお、分析部80では、イメージセンサ70の受光面における回折X線像を画像処理して、回折X線像に消失部分が発生しているかを画像認識することも可能である。よって、分析部80とX線集光ミラー調整部40とは連携しつつ、集光効率が低下しない範囲、あるいは最低限の集光効率の低下で、上述したX線のエネルギーに対応した反射時の入射角の制御を行うことが望ましい。   Therefore, when the adjustment amount is changed by the X-ray condenser mirror adjustment unit 40, the analysis unit 80 can detect a reduction in the light collection efficiency by monitoring the change in the peak value of the energy distribution spectrum. is there. Note that the analysis unit 80 can also perform image processing on the diffracted X-ray image on the light receiving surface of the image sensor 70 to recognize whether or not a disappeared portion has occurred in the diffracted X-ray image. Therefore, the analysis unit 80 and the X-ray collector mirror adjustment unit 40 cooperate with each other in the range where the light collection efficiency does not decrease, or at the time of reflection corresponding to the above-described X-ray energy within the minimum reduction of the light collection efficiency. It is desirable to control the incident angle.

一方、図3(c)のような制御によってX線集光ミラー34aと34bの入射側を広げることや、出射側を狭めすぎることで過剰に集光された場合、図6(e)のように、イメージセンサ70の受光面において、X方向の中心部付近でZ方向の濃い帯(かぶり)の領域が発生することがある。この場合には、イメージセンサ70で受光したイメージにおいて全体としてSN比が低下した状態になるため、エネルギー分布スペクトルの分解能が低下することがある。   On the other hand, when the incident side of the X-ray condensing mirrors 34a and 34b is widened by the control as shown in FIG. 3 (c) or excessively condensed by narrowing the exit side, as shown in FIG. 6 (e). In addition, on the light receiving surface of the image sensor 70, a dark band (fogging) region in the Z direction may occur near the center in the X direction. In this case, since the S / N ratio is reduced as a whole in the image received by the image sensor 70, the resolution of the energy distribution spectrum may be reduced.

したがって、X線集光ミラー調整部40で調整量を変化させたときに、分析部80では、イメージセンサ70の受光面における回折X線像を画像処理して、回折X線像に消失部分が発生しているかを画像認識することも可能である。よって、分析部80とX線集光ミラー調整部40とは連携しつつ、Z方向の濃い帯が発生しないしない範囲で、上述したX線のエネルギーに対応した反射時の入射角の制御を行うことが望ましい。   Therefore, when the adjustment amount is changed by the X-ray condenser mirror adjustment unit 40, the analysis unit 80 performs image processing on the diffraction X-ray image on the light receiving surface of the image sensor 70, and the disappearance portion is included in the diffraction X-ray image. It is also possible to recognize an image of whether it has occurred. Therefore, the analysis unit 80 and the X-ray collector mirror adjustment unit 40 cooperate to control the incident angle at the time of reflection corresponding to the X-ray energy as long as a dark band in the Z direction does not occur. It is desirable.

さらに、X線集光ミラー34aと34bの位置や角度を調整することで、図3(a)の当初の角度から大きく変化した場合には、X線集光ミラー34aと34bによる収差が大きくなる場合がある。このようなX線集光ミラー34aと34bとによる収差が大きくなると、回折X線像において、本来であれば図7(a)のようにX方向に直線的なフェルミエッジが、図7(b)のように歪んだ状態のフェルミエッジとなる。このような歪んだ状態のフェルミエッジにより、エネルギー分布スペクトルのピーク分解能が低下する。   Further, by adjusting the positions and angles of the X-ray condensing mirrors 34a and 34b, the aberration caused by the X-ray condensing mirrors 34a and 34b becomes large when there is a large change from the initial angle in FIG. There is a case. When the aberration caused by the X-ray condensing mirrors 34a and 34b increases, a Fermi edge linear in the X direction as shown in FIG. ) Is a distorted Fermi edge. Due to such a distorted Fermi edge, the peak resolution of the energy distribution spectrum is lowered.

したがって、X線集光ミラー調整部40で調整量を変化させたときに、分析部80では、エネルギー分布スペクトルのエッジ部分の立ち上がりの鋭さ(図7(c)(d)の垂直方向の傾き)を監視することで、収差が発生しているかを発見することが可能である。なお、分析部80では、イメージセンサ70の受光面における回折X線像を画像処理して、回折X線像におけるエッジのX方向とY方向との画像成分の比率について画像認識することも可能である。よって、分析部80とX線集光ミラー調整部40とは連携しつつ、フェルミエッジが歪まない範囲で、あるいは、フェルミエッジの歪みが許容できる範囲内で、上述したX線のエネルギーに対応した反射時の入射角の制御を行うことが望ましい。   Therefore, when the adjustment amount is changed by the X-ray collector mirror adjustment unit 40, the analysis unit 80 causes the sharpness of the rising edge of the edge portion of the energy distribution spectrum (inclination in the vertical direction in FIGS. 7C and 7D). By monitoring this, it is possible to discover whether aberration has occurred. Note that the analysis unit 80 can also perform image processing on the diffraction X-ray image on the light receiving surface of the image sensor 70 to recognize the image component ratio between the X direction and the Y direction of the edge in the diffraction X-ray image. is there. Therefore, the analysis unit 80 and the X-ray condenser mirror adjustment unit 40 correspond to the above-described X-ray energy within a range where the Fermi edge is not distorted or within a range where the Fermi edge can be distorted. It is desirable to control the incident angle during reflection.

〈第5実施形態〉
なお、以上のようにしてX線集光ミラー34aと34bの位置や角度を調整することで、各種収差が発生したり、あるいは、CL(カソードルミネッセンス)光のような妨害光が反射されて回折格子50に到達してしまうことがある。その結果、以上のようなX線集光ミラー34aと34bの位置や角度を調整することによって、収差や妨害光の影響が大きく現れてしまい、エネルギー分布スペクトルの分解能が悪化することもありうる。そのような場合には、X線集光ミラー34aと34bの位置や角度を調整して、収差を発生させない、あるいは、妨害光を反射させないように、分析部80とX線集光ミラー調整制御部41が調整することが望ましい。
<Fifth Embodiment>
By adjusting the positions and angles of the X-ray condensing mirrors 34a and 34b as described above, various aberrations occur, or interference light such as CL (cathode luminescence) light is reflected and diffracted. The lattice 50 may be reached. As a result, by adjusting the positions and angles of the X-ray condensing mirrors 34a and 34b as described above, the influence of aberration and interference light may appear greatly, and the resolution of the energy distribution spectrum may deteriorate. In such a case, the position and angle of the X-ray condensing mirrors 34a and 34b are adjusted so that aberration is not generated or interference light is not reflected so that the analyzing unit 80 and the X-ray condensing mirror adjustment control are performed. It is desirable for the part 41 to adjust.

たとえば、図8(a)のように、試料20からの特性X線の広がりと平行な向きにX線集光ミラー34aと34bを調整することで、特性X線や妨害光が反射されることがなくなる。   For example, as shown in FIG. 8A, by adjusting the X-ray condensing mirrors 34a and 34b in a direction parallel to the spread of the characteristic X-rays from the sample 20, characteristic X-rays and interference light are reflected. Disappears.

あるいは、図8(b)のように、特性X線のX線集光ミラー34aと34bに対する入射角が臨界角以上になるように向きを調整することで、特性X線や妨害光は反射されなくなる。また、X線集光ミラー34aと34bの端部付近で一部反射される特性X線や妨害光が存在しても、回折格子50に向かわないような向きにX線集光ミラー34aと34bを調整する。   Alternatively, as shown in FIG. 8B, the characteristic X-rays and interference light are reflected by adjusting the direction so that the incident angle of the characteristic X-rays with respect to the X-ray condensing mirrors 34a and 34b is equal to or greater than the critical angle. Disappear. Further, even if characteristic X-rays or interference light partially reflected near the ends of the X-ray collector mirrors 34a and 34b are present, the X-ray collector mirrors 34a and 34b are oriented in such a direction that they do not face the diffraction grating 50. Adjust.

また、これら図8(a)(b)のような極端な向きに調整しなくても、図3の向きから図8の向きに調整しつつ、収差や妨害光の影響による分解能の低下が問題なくなる位置や角度になるように、分析部80とX線集光ミラー調整制御部41が調整することが望ましい。   In addition, even if the orientation is not adjusted to the extreme direction as shown in FIGS. 8A and 8B, the resolution is lowered due to the influence of aberration or interference light while adjusting from the orientation of FIG. 3 to the orientation of FIG. It is desirable that the analysis unit 80 and the X-ray focusing mirror adjustment control unit 41 adjust so that the position and angle disappear.

〈第6実施形態〉
また、以上の構成において、エネルギー値、試料20の材質、特性X線のエネルギーなどに応じて、異なる複数の回折格子を交換可能にしたX線検出システムが存在する。図9の場合には、分析部80からの指示で回転する回転台51上の複数の異なる回折格子50aと50bとが、選択的に使用される。
<Sixth Embodiment>
In the above configuration, there is an X-ray detection system in which a plurality of different diffraction gratings can be exchanged according to the energy value, the material of the sample 20, the energy of characteristic X-rays, and the like. In the case of FIG. 9, a plurality of different diffraction gratings 50 a and 50 b on the turntable 51 that rotate in response to an instruction from the analysis unit 80 are selectively used.

この場合には、分析部80は、異なる複数の各回折格子50a/50b毎のそれぞれが対応する特性X線のエネルギーに応じて、X線集光ミラー34aと34bの位置もしくは角度を調整する際の調整値のデータを記憶しておき、使用する回折格子50a/50bに応じて、記憶された調整値を読み出して、X線集光ミラー調整制御部41に調整値を通知する。これにより、回折格子50a/50bに応じたX線のエネルギーに対応してX線集光ミラー34aと34bの位置や角度が自動的に調整されるようになる。以上の回折格子50a/50bに応じた自動的な調整を粗調整として、その後に図3〜図8で説明した調整を微調整として実行することで、各X線集光ミラーはX線のエネルギーの広い範囲に応じて適切な集光を迅速に行うことができ、エネルギー分布スペクトルの検出精度を維持することが可能になる。   In this case, the analysis unit 80 adjusts the positions or angles of the X-ray focusing mirrors 34a and 34b according to the characteristic X-ray energy corresponding to each of the plurality of different diffraction gratings 50a / 50b. The adjustment value data is stored, the stored adjustment value is read out according to the diffraction grating 50a / 50b to be used, and the adjustment value is notified to the X-ray focusing mirror adjustment control unit 41. As a result, the positions and angles of the X-ray focusing mirrors 34a and 34b are automatically adjusted in accordance with the X-ray energy corresponding to the diffraction grating 50a / 50b. By executing the automatic adjustment according to the diffraction gratings 50a / 50b as a rough adjustment and then performing the adjustment described with reference to FIGS. Accordingly, it is possible to quickly perform appropriate light focusing according to a wide range of the above, and to maintain the detection accuracy of the energy distribution spectrum.

なお、この図9の場合には、回折格子50の種類に応じて、CL光などの発生が予測される場合には、図8のような反射をさせない角度を予め記憶させておいてもよい。こうすることで、失敗のない測定が可能になる。   In the case of FIG. 9, when the generation of CL light or the like is predicted according to the type of the diffraction grating 50, the angle at which reflection is not performed as shown in FIG. 8 may be stored in advance. . In this way, measurement without failure is possible.

10 電子線照射部
20 試料
30 X線集光ミラー部
40 X線集光ミラー調整部
50 回折格子
70 イメージセンサ
80 分析部
90 表示部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Electron beam irradiation part 20 Sample 30 X-ray condensing mirror part 40 X-ray condensing mirror adjustment part 50 Diffraction grating 70 Image sensor 80 Analysis part 90 Display part

Claims (7)

試料に対して電子線を照射する電子線照射部と、
電子線が照射された前記試料から放出される特性X線を集光させて回折格子に導くX線集光ミラーと、
前記X線集光ミラーの位置もしくは角度を調整するX線集光ミラー調整部と、
前記X線集光ミラーにより集光された特性X線を受けて回折X線を生じさせる回折格子と、
前記回折格子で生じた回折X線を検出するイメージセンサと、
を備え、
前記X線集光ミラー調整部は、前記X線集光ミラーの反射面において反射する前記特性X線のエネルギーに応じて反射可能な角度範囲で、前記X線集光ミラーの位置もしくは角度を調整する、
ことを特徴とするX線検出システム。
An electron beam irradiation unit for irradiating the sample with an electron beam;
An X-ray condenser mirror that condenses characteristic X-rays emitted from the sample irradiated with the electron beam and guides it to a diffraction grating;
An X-ray collector mirror adjustment unit for adjusting the position or angle of the X-ray collector mirror;
A diffraction grating that receives characteristic X-rays collected by the X-ray focusing mirror and generates diffracted X-rays;
An image sensor for detecting diffracted X-rays generated by the diffraction grating;
With
The X-ray collector mirror adjustment unit adjusts the position or angle of the X-ray collector mirror within an angle range that can be reflected according to the energy of the characteristic X-ray reflected on the reflection surface of the X-ray collector mirror. To
X-ray detection system characterized by the above.
前記X線集光ミラー調整部は、前記特性X線のエネルギーが大きい場合には前記X線集光ミラーに対する前記特性X線の入射角が大きくなるよう調整し、前記特性X線のエネルギーが小さい場合には前記X線集光ミラーに対する前記特性X線の入射角が小さくなるよう調整する、
ことを特徴とする請求項1記載のX線検出システム。
The X-ray collector mirror adjustment unit adjusts an incident angle of the characteristic X-ray with respect to the X-ray collector mirror when the energy of the characteristic X-ray is large, and the energy of the characteristic X-ray is small In this case, the incident angle of the characteristic X-ray with respect to the X-ray collector mirror is adjusted to be small.
The X-ray detection system according to claim 1.
前記X線集光ミラー調整部は、前記回折X線のイメージのエネルギー分散方向と直交する方向に、前記X線集光ミラーの位置もしくは角度を調整する、
ことを特徴とする請求項1−2に記載のX線検出システム。
The X-ray collector mirror adjustment unit adjusts the position or angle of the X-ray collector mirror in a direction orthogonal to the energy dispersion direction of the image of the diffracted X-ray;
The X-ray detection system according to claim 1-2.
前記イメージセンサで検出された前記回折X線を分析してエネルギー分布スペクトルを生成する分析部を備え、
前記X線集光ミラー調整部は、前記エネルギー分布スペクトルに含まれるいずれかのスペクトル成分の強度が大きくなるように、前記X線集光ミラーの位置もしくは角度を調整する、
ことを特徴とする請求項1−3のいずれか一項に記載のX線検出システム。
An analysis unit that generates an energy distribution spectrum by analyzing the diffracted X-rays detected by the image sensor;
The X-ray collector mirror adjustment unit adjusts the position or angle of the X-ray collector mirror so that the intensity of any spectral component included in the energy distribution spectrum is increased.
The X-ray detection system according to claim 1, wherein the system is an X-ray detection system.
前記イメージセンサで検出された前記回折X線を分析してエネルギー分布スペクトルを生成する分析部を備え、
前記X線集光ミラー調整部は、前記エネルギー分布スペクトルに含まれるいずれかのスペクトル成分において分解能低下あるいはピークレベル低下が検知された場合には、前記特性X線のエネルギーにより定まる臨界角に応じて反射可能な角度範囲を除外するように、前記X線集光ミラーの位置もしくは角度を調整する、
ことを特徴とする請求項1−4のいずれか一項に記載のX線検出システム。
An analysis unit that generates an energy distribution spectrum by analyzing the diffracted X-rays detected by the image sensor;
The X-ray focusing mirror adjustment unit may detect a decrease in resolution or a peak level in any spectral component included in the energy distribution spectrum according to a critical angle determined by the energy of the characteristic X-ray. Adjusting the position or angle of the X-ray collector mirror so as to exclude the range of angles that can be reflected;
The X-ray detection system according to claim 1, wherein the system is an X-ray detection system.
前記イメージセンサで検出された前記回折X線を分析してエネルギー分布スペクトルを生成する分析部を備え、
前記X線集光ミラー調整部は、前記低下が解消される範囲内で、前記X線集光ミラーの位置もしくは角度を調整する、
ことを特徴とする請求項5のいずれか一項に記載のX線検出システム。
An analysis unit that generates an energy distribution spectrum by analyzing the diffracted X-rays detected by the image sensor;
The X-ray collector mirror adjustment unit adjusts the position or angle of the X-ray collector mirror within a range in which the decrease is eliminated;
The X-ray detection system according to claim 5, wherein:
前記特性X線のエネルギーに応じて定まる異なる複数の回折格子が交換可能に構成されたX線検出システムであって、
前記X線集光ミラー調整部は、異なる複数の各回折格子毎のそれぞれが対応する特性X線のエネルギーに応じて、前記X線集光ミラーの位置もしくは角度を調整する際の調整値のデータを記憶しておき、使用される前記回折格子に応じて記憶された調整値を読み出して調整する、
ことを特徴とする請求項1−6のいずれか一項に記載のX線検出システム。
An X-ray detection system configured such that a plurality of different diffraction gratings determined according to the energy of the characteristic X-ray can be exchanged,
The X-ray collector mirror adjustment unit adjusts data for adjusting the position or angle of the X-ray collector mirror according to the characteristic X-ray energy corresponding to each of a plurality of different diffraction gratings. , And read and adjust the adjustment value stored according to the diffraction grating used,
The X-ray detection system according to any one of claims 1 to 6, wherein:
JP2010203410A 2010-09-10 2010-09-10 X-ray detection system Active JP5563935B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010203410A JP5563935B2 (en) 2010-09-10 2010-09-10 X-ray detection system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010203410A JP5563935B2 (en) 2010-09-10 2010-09-10 X-ray detection system

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012058148A true JP2012058148A (en) 2012-03-22
JP5563935B2 JP5563935B2 (en) 2014-07-30

Family

ID=46055410

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010203410A Active JP5563935B2 (en) 2010-09-10 2010-09-10 X-ray detection system

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5563935B2 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2013137140A1 (en) * 2012-03-14 2015-08-03 日本製紙株式会社 Method for producing anion-modified cellulose nanofiber dispersion
EP4006531A1 (en) * 2020-11-27 2022-06-01 Jeol Ltd. X-ray detection apparatus and method

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000329714A (en) * 1999-05-24 2000-11-30 Rigaku Industrial Co X-ray fluorescence analyzer
JP3135920B2 (en) * 1992-09-28 2001-02-19 株式会社日立製作所 Surface analysis method and device
JP2002329473A (en) * 2001-02-27 2002-11-15 Jeol Ltd Transmission electron microscope equipped with X-ray spectrometer
JP2010160034A (en) * 2009-01-07 2010-07-22 Institute Of Physical & Chemical Research Soft x-ray spectrometer
JP2012032261A (en) * 2010-07-30 2012-02-16 Tohoku Univ X-ray detection system

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3135920B2 (en) * 1992-09-28 2001-02-19 株式会社日立製作所 Surface analysis method and device
JP2000329714A (en) * 1999-05-24 2000-11-30 Rigaku Industrial Co X-ray fluorescence analyzer
JP2002329473A (en) * 2001-02-27 2002-11-15 Jeol Ltd Transmission electron microscope equipped with X-ray spectrometer
JP2010160034A (en) * 2009-01-07 2010-07-22 Institute Of Physical & Chemical Research Soft x-ray spectrometer
JP2012032261A (en) * 2010-07-30 2012-02-16 Tohoku Univ X-ray detection system

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2013137140A1 (en) * 2012-03-14 2015-08-03 日本製紙株式会社 Method for producing anion-modified cellulose nanofiber dispersion
EP4006531A1 (en) * 2020-11-27 2022-06-01 Jeol Ltd. X-ray detection apparatus and method
US11699567B2 (en) 2020-11-27 2023-07-11 Jeol Ltd. X-ray detection apparatus and method

Also Published As

Publication number Publication date
JP5563935B2 (en) 2014-07-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5116014B2 (en) Small-angle wide-angle X-ray measurement system
US6744850B2 (en) X-ray reflectance measurement system with adjustable resolution
JP5990734B2 (en) X-ray fluorescence analyzer
CN102893198B (en) Automatic focus imaging system, formation method and microscope
JP2020514764A (en) Method and X-ray absorption spectroscopy system for performing X-ray spectroscopy
JP2004184314A (en) X-ray fluorescence analyzer
JP2002329473A (en) Transmission electron microscope equipped with X-ray spectrometer
JP2004333131A (en) Total reflection fluorescence xafs measuring apparatus
EP3460386B1 (en) Displacement sensor
JP5563935B2 (en) X-ray detection system
US8421007B2 (en) X-ray detection system
JP2002039970A (en) X-ray device
JP2001108523A (en) Spectrometer
JP2007273477A (en) Electron microscope with X-ray spectrometer
JP7030077B2 (en) X-ray analyzer
JP5502644B2 (en) X-ray detection system
JP5441856B2 (en) X-ray detection system
JP5589555B2 (en) X-ray analyzer
Yuan et al. At-wavelength optical metrology development at the ALS
US10753798B2 (en) Compact wideband VUV spectrometer
JPH04264300A (en) Imaging type soft x-ray microscope apparatus
JP4639971B2 (en) X-ray analyzer
EP4291865B1 (en) Method and system for characterizing a focusing optical element
JP2002525626A (en) X-ray analyzer under glazing emission conditions
JP2006518865A (en) Method for calculating optimum grating parameters for manufacturing a diffraction grating for a VUV spectrometer

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20130107

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20131125

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20131203

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140203

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140603

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140613

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5563935

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150