JP2011168503A - 化粧料の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】5種類のサンプル化粧料と4種類の調整用化粧料を用意し、化粧料を購入する際のカウンセリングやアドバイスを行う場で簡便な作業により調製でき、実際の商品の肌感触等を評価する方法。当方法を用いることにより、配合成分の配合比率の微調整も容易に行うことができ、さらに使用者毎の要望に迅速に対応でき、より満足度の高い化粧料を製造することが出来る。
【選択図】なし
Description
化粧料は、通常、研究所や工場等の生産現場において、数多くの原料を個別に計量し配合して製造されるが、その作業は煩雑なものである。この煩雑さも、使用者の嗜好に沿った肌感触を有する化粧料を用時調製し、使用者に提示できないことの一因となっていた。
当該第1の化粧料選択要素の度合をX軸、当該第2の化粧料選択要素の度合をY軸とする二軸座標平面上に、当該各調整用化粧料及び各サンプル化粧料の第1及び第2の化粧料選択要素の度合を座標値としてそれぞれプロットするステップと;
当該サンプル化粧料の少なくとも2つ以上を化粧料選択者に試用評価させ、好みの第1及び第2の化粧料選択要素の位置を当該二軸座標平面上に選択させるステップと;
当該選択された座標値及び各調整用化粧料の座標値から当該選択位置における第1〜第4の調整用化粧料の配合質量比を算出するステップと;
当該算出された配合質量比に基づいて、第1〜第4の調整用化粧料を配合して化粧料を調製するステップと;
を有することを特徴とする化粧料の製造方法により上記課題を解決したものである。
4種類の調整用化粧料は、相対的に、第1の化粧料選択要素の度合が最も低く、かつ第2の化粧料選択要素の度合が最も高い品質を有する第1調整用化粧料と、第1の化粧料選択要素の度合が最も低く、かつ第2の化粧料選択要素の度合が最も低い品質を有する第2調整用化粧料と、第1の化粧料選択要素の度合が最も高く、かつ第2の化粧料選択要素の度合が最も低い品質を有する第3調整用化粧料と、第1の化粧料選択要素の度合が最も高く、かつ第2の化粧料選択要素の度合が最も高い品質を有する第4調整用化粧料である。
また、各調整用化粧料及び各サンプル化粧料には、必要に応じて、化粧料に用いられる他の成分、例えば、粉体、酸化防止剤、防腐剤、紫外線吸収剤、pH調整剤、血行促進剤、冷感剤、制汗剤、殺菌剤、皮膚賦活剤、水等を配合してもよい。
以下、図面を参照しつつ、本発明を詳細に説明する。
試用評価は、化粧料選択要素の一つが例えば色の場合、サンプル化粧料の色の評価を行い、香りの場合は、サンプル化粧料の香りの評価を行う。また、化粧料選択要素の一つが肌感触の場合は、サンプル化粧料の肌感触の評価を行う。肌感触の評価にあたってはサンプル化粧料を化粧料選択者の肌に塗布して行う。サンプル化粧料を塗布する肌は、特に限定されず、顔、手、腕などの皮膚が挙げられる。1回あたりの塗布量は特に限定されないが、顔のみ使用した場合は0.5〜5mlが好ましく、手の甲の場合は、0.1〜0.5mlが好ましい。
具体的には、図1において選択された座標イ、イ’の座標値(a、b)に応じ、第1〜第4調整用化粧料P、Q、R及びSから三つの化粧料の組み合わせが選ばれ、この三つの化粧料に対して配合質量比を算出する。三つの調整用化粧料の組み合わせは、計4通り(P、Q、R)、(P、R、S)、(P、Q、S)、(Q、R、S)あり、(P、Q、R)又は(P、R、S)の組み合わせになる場合と、(P、Q、S)又は(Q、R、S)の組み合わせになる場合とがある。
選択した座標イの座標値(a、b)が、a+b≦(n+m)/2の場合は下記式(1):
Q:R:P={(n+m)/2}−a−b:a:b (1)
により、第1調整用化粧料P、第2調整用化粧料Q及び第3調整用化粧料Rの配合比率を算出する。
他方、座標イ’の座標値(a、b)が、(n+m)/2<a+b≦n+mの場合は下記式(2):
S:P:R=a+b−{(n+m)/2}:{(n+m)/2}−a:{(n+m)/2}−b (2)
により、第4調整用化粧料S、第3調整用化粧料R及び第1調整用化粧料Pの配合比率を算出する。
なお、上記式中、nはR及びSのX座標値、mはP及びSのY座標値である。
各機能性成分の含有量は、化粧料の総量を基準として、0〜30質量%が好ましく、特に0.5〜10質量%が好ましい。
〔第1〜第5サンプル化粧料A〜Eの調製1〕
表1に示した原料を配合し、攪拌してサンプル化粧料A〜Eをそれぞれ調製した。
表2に示した原料を配合し、攪拌して調整用化粧料P〜Sをそれぞれ調製した。
二軸座標平面上に各調整用化粧料P〜S及び各サンプル化粧料A〜Eのしっとり感及びとろみ感の度合、A(5、5)、B(0、5)、C(10、5)、D(5、0)、E(5、10)、P(0、10)、Q(0、0)、R(10、0)、S(10、10)をそれぞれプロットした。
次いで、サンプル化粧料A〜Eを順次化粧料選択者の手の甲に0.2mlずつ塗布し、X軸の10目盛りの中から好みのしっとり感、Y軸の10目盛りの中から好みのとろみ感の位置を選択させた。選択された座標ロ(3、5)を図2にプロットした。
Q:R:P={(n+m)/2}−a−b:a:b (1)
を用い、調整用化粧料Q、R、Pの配合質量比を算出したところ、
Q:R:P=10−3−5:3:5=2:3:5であり、この配合比率に基づいて、調整用化粧料Q、R、Pを配合し、化粧料(1)を得た。
実施例1と同様にして、サンプル化粧料A〜Eを化粧料選択者の手の甲にそれぞれ0.2ml塗布し、X軸の10目盛りの中から好みのしっとり感、Y軸の10目盛りの中から好みのとろみ感の位置ハを選択させた。選択された座標ハ(10、5)を図2にプロットした。
S:P:R=a+b−{(n+m)/2}:{(n+m)/2}−a:{(n+m)/2}−b (2)
を用い、調整用化粧料S、R、Pの配合質量比を算出したところ、
S:P:R=15−10:10−10:10−5=5:0:5であり、この配合比率に基づいて、調整用化粧料S、Rを配合し、化粧料(2)を得た。
〔第1〜第5サンプル化粧料A〜Eの調製2〕
表3に示した原料を配合し、攪拌してサンプル化粧料A〜Eをそれぞれ調製した。
表4に示した原料を配合し、攪拌して調整用化粧料P〜Sをそれぞれ調製した。
先ず、二軸座標平面上に各調整用化粧料P〜S及び各サンプル化粧料A〜Eのしっとり感及びとろみ感の度合、A(50、50)、B(0、50)、C(100、50)、D(50、0)、E(50、100)、P(0、100)、Q(0、0)、R(100、0)、S(100、100)をそれぞれプロットした。
次いで、サンプル化粧料A〜Eを順次化粧料選択者の手の甲に0.2mlずつ塗布し、X軸の100目盛りの中から好みのしっとり感、Y軸の100目盛りの中から好みのとろみ感の位置ニ〜トを選択させた(図3)。選択された各座標ニ〜トの座標値から、上記式(1)又は(2)を用い、調整用化粧料P〜Sの配合質量比を算出したところ、表5のとおりであった。表5に示す配合比率に基づいて、調整用化粧料P〜Sを配合し、化粧料(3)〜(6)を得た。
〔機能性成分の調製〕
表6に示す機能性成分をそれぞれ、計量し、混合しながら加温溶解した。
Claims (4)
- 相対的に、第1の化粧料選択要素の度合が最も低く、かつ第2の化粧料選択要素の度合が最も高い品質を有する第1調整用化粧料、第1の化粧料選択要素の度合が最も低く、かつ第2の化粧料選択要素の度合が最も低い品質を有する第2調整用化粧料、第1の化粧料選択要素の度合が最も高く、かつ第2の化粧料選択要素の度合が最も低い品質を有する第3調整用化粧料、及び第1の化粧料選択要素の度合が最も高く、かつ第2の化粧料選択要素の度合が最も高い品質を有する第4調整用化粧料、並びに、相対的に、第1の化粧料選択要素の度合が最も高いものの1/2で、かつ第2の化粧料選択要素の度合が最も高いものの1/2である品質を有する第1サンプル化粧料、第1の化粧料選択要素の度合が最も低く、かつ第2の化粧料選択要素の度合が最も高いものの1/2である品質を有する第2サンプル化粧料、第1の化粧料選択要素の度合が最も高く、かつ第2の化粧料選択要素の度合が最も高いものの1/2である品質を有する第3サンプル化粧料、第1の化粧料選択要素の度合が最も高いものの1/2で、かつ第2の化粧料選択要素の度合が最も低い品質を有する第4サンプル化粧料、及び第1の化粧料選択要素の度合が最も高いものの1/2で、かつ第2の化粧料選択要素の度合が最も高い品質を有する第5サンプル化粧料を調製するステップと;
当該第1の化粧料選択要素の度合をX軸、当該第2の化粧料選択要素の度合をY軸とする二軸座標平面上に、当該各調整用化粧料及び各サンプル化粧料の第1及び第2の化粧料選択要素の度合を座標値としてそれぞれプロットするステップと;
当該サンプル化粧料の少なくとも2つ以上を化粧料選択者に試用評価させ、好みの第1及び第2の化粧料選択要素の位置を当該二軸座標平面上に選択させるステップと;
当該選択された座標値及び各調整用化粧料の座標値から当該選択位置における第1〜第4の調整用化粧料の配合質量比を算出するステップと;
当該算出された配合質量比に基づいて、第1〜第4の調整用化粧料を配合して化粧料を調製するステップと;
を有することを特徴とする化粧料の製造方法。 - 選択された座標値及び各調整用化粧料の座標値から当該選択位置における第1〜第4の調整用化粧料の配合質量比を算出するステップが、
選択された座標値(a、b)が、a+b≦(n+m)/2の場合は下記式(1):
Q:R:P={(n+m)/2}−a−b:a:b (1)
(式中、Pは第1調整用化粧料、Qは第2調整用化粧料、Rは第3調整用化粧料、nはRのX座標値、mはPのY座標値を示し、nとmは1以上の数を示す)
により、第1〜第3調整用化粧料の配合質量比を算出するステップと;
選択された座標値(a、b)が、(n+m)/2<a+b≦n+mの場合は下記式(2):
S:P:R=a+b−{(n+m)/2}:{(n+m)/2}−a:{(n+m)/2}−b (2)
(式中、Sは第4調整用化粧料、nはR及びSのX座標値、mはP及びSのY座標値を示し、P、R、n及びmは前記と同じ)
により、第1、第3及び第4調整用化粧料の配合質量比を算出するステップ、
であることを特徴とする請求項1記載の化粧料の製造方法。 - 第1及び第2の化粧料選択要素が、肌感触であることを特徴とする請求項1又は2記載の化粧料の製造方法。
- 肌感触が、とろみ感としっとり感であることを特徴とする請求項3記載の化粧料の製造方法。
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|---|---|---|---|---|
| JP2002056281A (ja) * | 2000-08-09 | 2002-02-20 | Pola Chem Ind Inc | 肌の改善の為のアドバイスの選択方法及びその表示方法 |
| JP2002284618A (ja) * | 2001-03-26 | 2002-10-03 | Mitsuo Matsumoto | カスタムメード方式による液状化粧品の調製販売方法 |
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