[go: up one dir, main page]

JP2011164404A - ペリクル収納容器 - Google Patents

ペリクル収納容器 Download PDF

Info

Publication number
JP2011164404A
JP2011164404A JP2010027825A JP2010027825A JP2011164404A JP 2011164404 A JP2011164404 A JP 2011164404A JP 2010027825 A JP2010027825 A JP 2010027825A JP 2010027825 A JP2010027825 A JP 2010027825A JP 2011164404 A JP2011164404 A JP 2011164404A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
storage container
pellicle
pellicle storage
resin
screw
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2010027825A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazutoshi Sekihara
一敏 関原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP2010027825A priority Critical patent/JP2011164404A/ja
Priority to KR1020100129178A priority patent/KR20110093592A/ko
Priority to CN2011100356991A priority patent/CN102169847B/zh
Priority to TW100104440A priority patent/TWI424947B/zh
Publication of JP2011164404A publication Critical patent/JP2011164404A/ja
Priority to HK11112967.1A priority patent/HK1158819B/xx
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • H10P76/2041
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/36Masks having proximity correction features; Preparation thereof, e.g. optical proximity correction [OPC] design processes
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/66Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70983Optical system protection, e.g. pellicles or removable covers for protection of mask
    • H10P72/127
    • H10P72/13
    • H10P76/4085

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Packaging Frangible Articles (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Packages (AREA)

Abstract

【課題】 ハンドル、ペリクル固定部材、補強材などの機能部品をペリクル収納容器に取り付けた際でも、容器内部を清浄に保つことができるペリクル収納容器を得ることを課題とする。
【解決手段】 ペリクルを載置するペリクル収納容器本体20と、ペリクルを被覆すると共にペリクル収納容器本体20と周縁部で嵌め合い係止する蓋体からなるペリクル収納容器において、樹脂製の容器本体20あるいは蓋体に、取っ手、ペリクルの固定部材、補強材のいずれかからなる機能部品がネジ締結手段により取り付けられているとともに、容器本体20あるいは蓋体の内側にオスネジ及びメスネジの表面が露出していないペリクル収納容器である。
【選択図】 図2

Description

本発明は、半導体デバイス、プリント基板あるいは液晶ディスプレイ等を製造する際のゴミ除けとして使用されるリソグラフィー用ペリクルを収納、保管、輸送するペリクル収納容器に関する。
LSI、超LSIなどの半導体製造或は液晶ディスプレイ等の製造においては、半導体ウエハーあるいは液晶用原板に光を照射してパターンを作製するが、この時に用いるフォトマスクあるいはレチクル(以下、短にフォトマスクと記述)にゴミが付着していると、このゴミが光を吸収したり、光を曲げてしまうために、転写したパターンが変形したり、エッジががさついたものとなるほか、下地が黒く汚れたりするなど、寸法、品質、外観などが損なわれるという問題があった。
このため、これらの作業は通常クリーンルームで行われているが、それでもフォトマスクを常に清浄に保つことが難しい。そこで、フォトマスク表面にゴミよけとしてペリクルを貼り付けした後に露光を行っている。この場合、異物はフォトマスクの表面には直接付着せず、ペリクル上に付着するため、リソグラフィー時に焦点をフォトマスクのパターン上に合わせておけば、ペリクル上の異物は転写に無関係となる。
一般に、ペリクルは、光を良く透過させるニトロセルロース、酢酸セルロースあるいはフッ素樹脂などからなる透明なペリクル膜を、アルミニウム、ステンレス、ポリエチレンなどからなるペリクルフレームの上端面に貼り付けないし接着する。さらに、ペリクルフレームの下端にはフォトマスクに装着するためのポリブデン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂等からなる粘着層、及び粘着層の保護を目的とした離型層(セパレータ)が設けられる。
しかしながら、ペリクルはマスクに貼付した後ではそれらが形成する閉空間の外部から内部への異物侵入効果はあるが、ペリクル自体に異物が付着して、かつそれが閉空間の内部にある場合には、フォトマスクへの異物付着を防ぐことは困難である。そのため、ペリクル自体に高い清浄性が求められることはもとより、保管、輸送に使用するペリクル収納容器にもその清浄性を維持しうる性能が強く求められる。具体的には、帯電防止性能に優れ、擦れた際にも発塵の少ない材質、ペリクルおよび構成部品間の接触を極力防ぐ構造、外力が加わった際の変形を防ぐ高剛性な構造・材質、といった点が要求される。
ペリクル収納容器は、通常、ABS、アクリル等の樹脂を射出成形または真空成形することによって製造される。これらの成形方法が利用されるのは、表面が平滑で異物の付着や発塵の恐れが少ないこと、一体成形のため継ぎ目がなく発塵や異物侵入の恐れが少ないこと、複雑形状のものも容易に製造できること、量産性に優れ低コスト化が可能である、といったメリットがあるからである。外観の一例を図7に示す。ペリクルを載置するペリクル収納容器本体71と、ペリクルを被覆すると共にペリクル収納容器本体と周縁部で嵌め合い係止するペリクル収納蓋体72から構成され、ペリクル収納容器本体とペリクル収納蓋体とは粘着テープ(図示しない)またはクリップ73により締結される。
半導体用やプリント基板用ペリクルの収納容器は、外形の辺長が概ね200〜300mm前後で、これらは通常、射出成形を利用して製造される。一方、主として液晶用ペリクルに使用される辺長が500mmを超えるような大型のペリクル収納容器は、一般にABS、アクリル等の合成樹脂シートを真空成形したものが使用される。これは、1箇所もしくは数箇所のゲートから金型内に樹脂を高速注入する射出成形では樹脂の流れる距離が長すぎるため製法的に困難なためである。一方、真空成形法は、金型に加熱した樹脂シートを被せ、真空引きするだけで大型品も容易に成形が可能である。
ペリクル収納容器には、必要に応じ、取っ手、ペリクル固定部品、補強材などの機能部品が取り付けられることがある。この取り付け手段としては、手段の容易さ、信頼性からネジで行われるのが一般的である。ネジで取り付けた場合、隙間からの異物侵入や、洗浄時の水の侵入ならびに乾燥が問題になるため、例えば、この解決手段として、ネジの根元に樹脂製のワッシャを挟んで締結する手段が知られている(特許文献1参照)。
しかし、ボルトの工具との嵌合部や表面の微小な凹凸を洗浄するのが困難であること、樹脂ワッシャを締め付けた際のワッシャからの発塵があるなどの問題があり、ペリクル収納容器内部の清浄性を保つ上では必ずしも完全なものではなかった。ネジ締結をやめ、接着や熱融着といった方法をとることも可能であるが、これらの方法は、位置関係を調節して取り付ける機能部品には使用しにくいうえ、信頼性の点でも問題があり、代替手段として適切ではない。
特開2008−216846号公報
本発明はこの問題に鑑みなされたもので、ハンドル、ペリクル固定部材、補強材などの機能部品をペリクル収納容器に取り付けた際でも、容器内部を清浄に保つことができるペリクル収納容器を得ることを目的とする。
本発明による解決手段は、ペリクルを載置するペリクル収納容器本体と、ペリクルを被覆すると共にペリクル収納容器本体と周縁部で嵌め合い係止するペリクル収納容器蓋体とからなるペリクル収納容器において、樹脂製のペリクル収納容器本体あるいはペリクル収納容器蓋体に、取っ手、ペリクルの固定部材、補強材のいずれかからなる機能部品がネジ締結により取り付けられているとともに、ペリクル収納容器本体あるいはペリクル収納容器蓋体の内側にオスネジおよびメスネジの表面が露出していないことを特徴とするペリクル収納容器である。
ここで、上記ネジ締結手段はオスネジあるいはメスネジの周囲が一体の樹脂で被覆されているものであることが好ましい。
容器内部にネジ表面を露出させず、また、これを一体の樹脂で被覆したことで部品としての清浄性が向上するとともに、表面が平滑なため洗浄性も良好となる。
ここで、このネジ締結手段を被覆する樹脂は、接触するペリクル収納容器本体あるいはペリクル収納容器蓋体の材質と接着性を有する樹脂であることが好ましく、さらに、機能部品の固定後、接触部周囲の間隙を接着剤にて固着させてなることが更に好ましい。固定手段としてネジ締結を行い信頼性を確保しつつも、接着剤を併用することで締結部からの洗浄液の浸入を防止することができ、さらに、締結部周辺の締結により表面が荒れたり発塵した部分を被覆して発塵を防止することができる。
また、上記接着剤に代えて、有機溶剤を使用して、溶解して間隙を密封することもでき、この場合には、洗浄液の浸入、発塵防止のほかに、接着剤からの発ガスによる汚染も防止することができ、さらに好適である。
本発明によれば、ハンドル、ペリクル固定部材、補強材などの機能部品をペリクル収納容器に取り付ける際に、ネジ締結により信頼性のある固定をすることができるとともに、その表面が樹脂で一体的に被覆されているため清浄性が著しく高く、さらに、接着剤または有機溶剤により接触部が固定されている場合には、洗浄液の浸入と発塵が防止され、ペリクル収納容器内部を清浄に保つことができるペリクル収納容器を得ることができる。
本発明によるペリクル収納容器の一実施形態であって、ハンドルを取り付けた態様を示す平面図とA−A線断面図である。 本発明によるペリクル収納容器の他の実施形態であって、補強体を取り付けた態様を示す平面図とB−B線断面図である。 本発明による固定具の一実施形態であって、単一の固定具を示す平面図とC−C線断面図である。 本発明による固定具の他の実施形態あって、ナット部を複数設けた例を示す平面図とD−D線断面図である。 本発明による固定具周辺の断面概略図である。 従来技術によるハンドルの取り付け方法の一例を示す断面説明図である。 ペリクル収納容器の外観を示す斜視説明図である。
以下、本発明のペリクル収納容器の実施形態を添付図面に基づいて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
図1は本発明によるペリクル収納容器で、ペリクル収納容器蓋体にハンドルを設けたものに適用した実施形態である。
ハンドル11は、ペリクル収納容器蓋体10に外側から六角孔付きボルト12が挿入され、その内側には固定具13が取り付けられている。六角孔付きボルト12は、六角ボルトなど他の頭形状であっても構わない。固定具13は内側に金属製のナット部が設けられている。固定具13は、ナット部を圧入、接着して製造することができるほか、金属製のナット部とせず、樹脂に直接ネジ部を設けるか、さらにヘリサート加工などの補強措置を採ることも可能である。
しかし、最も好ましい実施形態は、ナット部をインサートして射出成型にて一体に製造したもので、その詳細は図3に示すような構造となっている。ナット部30はステンレス鋼、真鍮などの金属を切削加工したもので、その外周は周囲の被覆樹脂体31との接着力、密着性を高めるためにローレット加工などの表面を粗くする処置が施されていることが望ましい。
そして、被覆樹脂体31は、ネジ締め付けの際に押さえ易いよう平面部32を設けることが良い。この平面部32は、図3の実施形態では2面となっているが、もちろん、4面、6面、あるいは他の押さえ形状であっても構わない。しかし、複雑な形状や窪みのある形態は洗浄性が悪化するため、好ましくない。
また、ペリクル収納容器蓋体10の材質としては、PMMA、ABS、PC、PVCなどが好適に用いられる。色は透明または半透明であることが、内容物が視認できて好ましい。そして、この固定具13の被覆樹脂体の材質は、ペリクル収納容器蓋体10と接着性を有する材質とすることが良い。例えば、ペリクル収納容器蓋体10の材質としてABSを用いた場合、固定具13の被覆樹脂体の材質は同一のABSとするか、PVC、PSなどを好適に用いることができる。
この材質の選択にあたっては、ペリクル収納容器蓋体10との接着性に加え、射出成型の容易さ、樹脂からの発ガスが少ないこと、吸水性が低いことなど、その他の物性についても総合的に考慮することが特に好ましい。
固定具13のペリクル収納容器蓋体10と接している接線部14は、ハンドル11を完全にネジ締結した後、接着剤(図示しない)を塗布し、固定することが好ましい。締め付け面に生じている微小な間隙に接着剤が充填されるうえ、固定の際の傷付き等も接着剤で被覆されるため発塵の恐れが低下する。このような接着剤としては、例えば、ペリクル収納容器蓋体の材質をABSとした場合には、アクリルダインA(商品名、サンプラテック社製)などが使用できる。
そして、さらに好ましくは、接着剤に代えてペリクル収納容器蓋体10、固定具13の被覆樹脂体を共に溶解する有機溶剤のみを塗布することである。塗布後の固定具13周辺の断面図を図5に示す。接線部14に塗布された有機溶剤は固定具13の被覆樹脂体31およびペリクル収納容器蓋体10に含浸し、溶解して、相互が溶解接着した溶着部50が固定具13の全周に渡って生ずる。
これにより、固定具31とペリクル収納容器蓋体10の間隙から洗浄水が浸入することが完全に防止されるほか、隙間からの発塵防止ならびに洗浄性の向上を達成することができる。さらに、有機溶剤のみを使用することにより、樹脂が溶解して接着された後、塗布した有機溶剤は気化して容器表面から完全に無くなるため、接着成分からの発ガスによる不具合を完全に防止することができる。
このような溶剤の例としては、例えば、ペリクル収納容器蓋体10、固定具13の被覆樹脂体の材質をABSとした場合、MEKなどを好適に用いることができる。この選択は、使用する材質に合わせて、溶解性、蒸気圧、沸点などを考慮して適宜選択すれば良い。
図2は、ペリクル収納容器本体に補強体を取り付けた実施形態を示したものである。補強体21は容器本体20の外側から挿入した六角孔付きボルト22と固定具23で固定されている。この固定具23の詳細構造は図4に示すようになっており、ナット部30は4箇所設けられている。
この実施形態においても前記ペリクル収納容器蓋体についての実施形態と同じく被覆樹脂体31の材質を選択することが好ましい。そして、ネジ固定後の固定具23とリクル収納容器本体20との接線部24は接着剤で接着するか、より好ましくは有機溶剤にて溶着することが良い。
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
[実施例1]
厚さ3mmの透明PMMAシート材を用い、真空成形法により外形1900×1750mm、高さ180mmの、図1に示すような形状のペリクル収納容器蓋体10を成形し、外周部をNCルーターで所定寸法まで仕上げるとともに、ハンドル11の取り付け孔を機械加工した。
また、図3に示すような構造の固定具13を射出成型にて製作した。内側には真鍮製のナット部30を設け、このナット部をインサートして黒色ABSを使用して被覆樹脂体31を射出成型にて成型した。ここで、被覆樹脂体31を黒色としたのは、表面に付着した異物を観察しやすくするためと、内部にインサートしたナット部30を外部から見えないようにする外観上の配慮である。
また、ハンドル11はガラス補強繊維入りABSにて射出成型したものである。そして、この固定具13とハンドル11をステンレス製六角孔付きボルト12(M8×30mm)にて締結し、さらに固定具13のペリクル収納容器蓋体10との接触部に有機溶剤(MEK)をマイクロシリンジ(図示しない)を用いて接線部14の全周に渡って隙間無く塗布し、完全に乾燥させた。
その後、このペリクル収納容器蓋体を界面活性剤と純水、PVA製スポンジを使用して良くスクラブ洗浄し、純水ですすいだ後完全に乾燥させた。このペリクル収納容器蓋体のハンドル10および固定具13の周辺を暗室内で集光ランプ(光量30万Lx)を照射しながら観察したが、この周囲に隙間や汚れ、異物付着などは見受けられず、非常に清浄な状態であった。
[比較例]
外形が上記実施例と同一外形、寸法のハンドル付きペリクル収納容器蓋体を製作した。このハンドル部付近の断面は図6に示すようなものである。ハンドル61にメスネジ部が設けられており、内側からシールワッシャ62を挟んでステンレス製の六角孔付きボルト63(M8×15mm)で締め付け固定されている。このシールワッシャ62の材質は、シール性を良くする為、PTFEとし、厚さは2mmとした。
このペリクル収納容器蓋体10を上記実施例と同様にして洗浄、乾燥した後、暗室内にてハンドル部周辺を集光ランプ(光量30万Lx)を照射しながら観察した。その結果、六角孔付きボルトの外周および六角孔内に異物が多数見受けられたほか、シールワッシャ62の端部は六角孔付きボルト63の締め付けにより若干の反り返り(めくれ)が生じているとともに、シールワッシャ62とペリクル収納容器蓋体10との隙間から洗浄水が滲み出て乾燥した跡(汚れ)があり、清浄とは言いがたい状態であった。
10 ペリクル収納容器蓋体
11 ハンドル
12 六角孔付きボルト
13 固定具
14 接線部
20 ペリクル収納容器本体
21 補強体
22 六角孔付きボルト
23 固定具
24 接線部
30 ナット部
31 被覆樹脂体
32 平面部
50 溶解部
61 ハンドル
62 シールワッシャ
63 六角孔付きボルト
71 ペリクル収納容器本体
72 ペリクル収納容器蓋体
73 クリップ

Claims (5)

  1. ペリクルを載置するペリクル収納容器本体と、ペリクルを被覆すると共にペリクル収納容器本体と周縁部で嵌め合い係止するペリクル収納容器蓋体とからなるペリクル収納容器において、樹脂製のペリクル収納容器本体あるいはペリクル収納容器蓋体に、取っ手、ペリクルの固定部材、補強材のいずれかからなる機能部品がネジ締結手段により取り付けられているとともに、ペリクル収納容器本体あるいはペリクル収納容器蓋体の内側にオスネジ及びメスネジの表面が露出していないことを特徴とするペリクル収納容器。
  2. 上記ネジ締結手段はオスネジ、メスネジの周囲がネジ部と一体となった樹脂で被覆されているものである請求項1に記載のペリクル収納容器。
  3. 上記ネジ締結手段を被覆する樹脂は、接触する樹脂製のペリクル収納容器本体あるいはペリクル収納容器蓋体の材質と接着性を有する樹脂である請求項2に記載のペリクル収納容器。
  4. 上記ネジ締結手段は、機能部品の固定後、さらに接触部周囲の間隙を接着剤にて固着させてなる請求項3に記載のペリクル収納容器。
  5. 上記ネジ締結手段は、機能部品の固定後、さらに接触部周囲の間隙を有機溶剤にて溶解して間隙を密封するものである請求項3に記載のペリクル収納容器。
JP2010027825A 2010-02-10 2010-02-10 ペリクル収納容器 Pending JP2011164404A (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010027825A JP2011164404A (ja) 2010-02-10 2010-02-10 ペリクル収納容器
KR1020100129178A KR20110093592A (ko) 2010-02-10 2010-12-16 펠리클 수납 용기
CN2011100356991A CN102169847B (zh) 2010-02-10 2011-02-10 防尘薄膜组件收纳容器
TW100104440A TWI424947B (zh) 2010-02-10 2011-02-10 防塵薄膜組件收納容器
HK11112967.1A HK1158819B (en) 2010-02-10 2011-11-30 Pellicle container

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010027825A JP2011164404A (ja) 2010-02-10 2010-02-10 ペリクル収納容器

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2011164404A true JP2011164404A (ja) 2011-08-25

Family

ID=44490947

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010027825A Pending JP2011164404A (ja) 2010-02-10 2010-02-10 ペリクル収納容器

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2011164404A (ja)
KR (1) KR20110093592A (ja)
CN (1) CN102169847B (ja)
TW (1) TWI424947B (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016151633A (ja) * 2015-02-17 2016-08-22 信越化学工業株式会社 ペリクル収納容器

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002029538A (ja) * 2000-07-19 2002-01-29 Kooki Engineering:Kk プラスチック瓶及びその製造方法
JP2004279470A (ja) * 2003-03-12 2004-10-07 Osaka Sealing Printing Co Ltd 装着ラベル
JP2006009853A (ja) * 2004-06-23 2006-01-12 Toyoda Iron Works Co Ltd 樹脂製部品の締結部構造
JP2006267179A (ja) * 2005-03-22 2006-10-05 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクル収納容器
JP2007245702A (ja) * 2006-02-20 2007-09-27 Asahi Glass Co Ltd テンプレートおよび転写微細パターンを有する処理基材の製造方法
JP2007334069A (ja) * 2006-06-16 2007-12-27 Asahi Kasei Electronics Co Ltd ペリクル収納容器
JP2008216846A (ja) * 2007-03-07 2008-09-18 Asahi Kasei Electronics Co Ltd ペリクル収納容器

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4796946B2 (ja) * 2006-11-30 2011-10-19 信越化学工業株式会社 ペリクル収納容器
CN101219720B (zh) * 2007-01-10 2010-11-03 财团法人工业技术研究院 具弹性定位结构的洁净容器
JP5051840B2 (ja) * 2007-11-22 2012-10-17 信越化学工業株式会社 ペリクル収納容器内にペリクルを保管する方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002029538A (ja) * 2000-07-19 2002-01-29 Kooki Engineering:Kk プラスチック瓶及びその製造方法
JP2004279470A (ja) * 2003-03-12 2004-10-07 Osaka Sealing Printing Co Ltd 装着ラベル
JP2006009853A (ja) * 2004-06-23 2006-01-12 Toyoda Iron Works Co Ltd 樹脂製部品の締結部構造
JP2006267179A (ja) * 2005-03-22 2006-10-05 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクル収納容器
JP2007245702A (ja) * 2006-02-20 2007-09-27 Asahi Glass Co Ltd テンプレートおよび転写微細パターンを有する処理基材の製造方法
JP2007334069A (ja) * 2006-06-16 2007-12-27 Asahi Kasei Electronics Co Ltd ペリクル収納容器
JP2008216846A (ja) * 2007-03-07 2008-09-18 Asahi Kasei Electronics Co Ltd ペリクル収納容器

Also Published As

Publication number Publication date
CN102169847B (zh) 2013-08-14
CN102169847A (zh) 2011-08-31
TWI424947B (zh) 2014-02-01
HK1158819A1 (zh) 2012-07-20
KR20110093592A (ko) 2011-08-18
TW201127718A (en) 2011-08-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI388475B (zh) 防塵薄膜組件收納容器
KR101450683B1 (ko) 펠리클 수납 용기
TWI460533B (zh) 防塵薄膜組件框架及防塵薄膜組件
TWI423907B (zh) 防塵薄膜組件收納容器
TWI574100B (zh) Piege film assembly container
TW201705210A (zh) 防塵薄膜組件以及其安裝方法
TWI590999B (zh) 防塵薄膜組件收納容器
JP4822357B2 (ja) ペリクル収納容器、および、その製造方法
JP4796946B2 (ja) ペリクル収納容器
KR20170098700A (ko) 펠리클 수납 용기
JP2011164404A (ja) ペリクル収納容器
TWI474956B (zh) 防塵薄膜組件收容容器
JP6351178B2 (ja) ペリクル収納容器およびペリクルの取り出し方法
HK1158819B (en) Pellicle container
TWI574102B (zh) Piege film assembly container
JP2013097046A (ja) ペリクル収容容器
JP2012106799A (ja) ペリクル収納容器
HK1214225B (en) A storage container for dustproof thin-film components

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120223

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130620

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130626

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130822

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20140121