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JP2011032392A - Silicone resin composition for optical semiconductor devices - Google Patents

Silicone resin composition for optical semiconductor devices Download PDF

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JP2011032392A
JP2011032392A JP2009180955A JP2009180955A JP2011032392A JP 2011032392 A JP2011032392 A JP 2011032392A JP 2009180955 A JP2009180955 A JP 2009180955A JP 2009180955 A JP2009180955 A JP 2009180955A JP 2011032392 A JP2011032392 A JP 2011032392A
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resin composition
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JP2009180955A
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Japanese (ja)
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Yusuke Taguchi
雄亮 田口
Junichi Sawada
純一 沢田
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Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Abstract

【課題】硬化後の強度、白色性、耐熱性及び耐光性に優れた硬化物を与える光半導体装置用のシリコーン樹脂組成物の提供。
【解決手段】(A)下記平均組成式(1)のオルガノポリシロキサン100質量部(CHaSi(ORb(OH)c(4-a-b-c)/2(1)(Rは炭素数1〜4の一価炭化水素基、0.8≦a≦1.5、0≦b≦0.3、0.001≦c≦0.5、及び0.801≦a+b+c<2を満たす)(B)下記(C)以外の白色顔料3〜200質量部(C)平均粒径0.2〜40μmの球状シリカ60〜80重量%と平均粒径5〜10μmの破砕状シリカ20〜40重量%からなる、平均粒径10〜40μmの無機充填剤400〜1000重量部(D)縮合触媒0.01〜10質量部(E)−[−(R)Si(R)−O−]−で表される直鎖状ジオルガノポリシロキサン残基を有する、オルガノポリシロキサン2〜50質量部を含む組成物。
【選択図】なし
Provided is a silicone resin composition for an optical semiconductor device that provides a cured product excellent in strength, whiteness, heat resistance and light resistance after curing.
(A) 100 parts by mass of an organopolysiloxane of the following average composition formula (1) (CH 3 ) a Si (OR 1 ) b (OH) c O (4-abc) / 2 (1) (R 1 Is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, 0.8 ≦ a ≦ 1.5, 0 ≦ b ≦ 0.3, 0.001 ≦ c ≦ 0.5, and 0.801 ≦ a + b + c <2. (B) 3 to 200 parts by weight of white pigment other than the following (C) (C) 60 to 80% by weight of spherical silica having an average particle size of 0.2 to 40 μm and crushed silica 20 to 20 μm having an average particle size of 5 to 10 μm 400 to 1000 parts by weight of an inorganic filler having an average particle diameter of 10 to 40 μm comprising 40% by weight (D) 0.01 to 10 parts by weight of a condensation catalyst (E)-[— (R 2 ) Si (R 3 ) —O -]-A composition containing 2 to 50 parts by mass of an organopolysiloxane having a linear diorganopolysiloxane residue represented by .
[Selection figure] None

Description

本発明は、光半導体装置用シリコーン樹脂組成物に関し、詳細にはシラノール基を有するオルガノポリシロキサンと、所定の長さの直鎖状ジオルガノポリシロキサン残基を有するオルガノポリシロキサンを含むことで、成型性と硬化物の光劣化による変色に優れ、成型物の強度の問題に優れたシリコーン樹脂組成物に関する。   The present invention relates to a silicone resin composition for an optical semiconductor device, and more specifically includes an organopolysiloxane having a silanol group and an organopolysiloxane having a linear diorganopolysiloxane residue of a predetermined length. The present invention relates to a silicone resin composition that is excellent in moldability and discoloration due to photodegradation of a cured product and excellent in the strength of the molded product.

LED(Light Emitting Diode)等の光半導体素子は、種々のインジケータや光源として利用されている。近年、光半導体装置の高出力化及び短波長化が進み、光半導体素子の周辺に使用する樹脂材料が光劣化して黄変する等により光出力低下等が起こるという問題がある。   Optical semiconductor elements such as LEDs (Light Emitting Diodes) are used as various indicators and light sources. 2. Description of the Related Art In recent years, there has been a problem that optical output is reduced due to, for example, a resin material used in the periphery of an optical semiconductor element being light-degraded and yellowing due to progress of higher output and shorter wavelength of an optical semiconductor device.

光半導体封止用樹脂組成物としてエポキシ樹脂、硬化剤及び硬化促進剤を構成成分とするBステージ状光半導体封止用エポキシ樹脂組成物が知られている(特許文献1)。特許文献1では、エポキシ樹脂としてビスフェノールA型エポキシ樹脂又はビスフェノールF型エポキシ樹脂が主として用いられ、トリグリシジルイソシアネート等を使用することができると開示されている。しかし、該組成物は光劣化による黄変の問題を有しており、この問題は特に、半導体素子を高温下で点灯または長時間点灯したときに発生する。   As a resin composition for encapsulating an optical semiconductor, an epoxy resin composition for encapsulating a B-stage optical semiconductor having an epoxy resin, a curing agent and a curing accelerator as constituent components is known (Patent Document 1). Patent Document 1 discloses that bisphenol A type epoxy resin or bisphenol F type epoxy resin is mainly used as an epoxy resin, and triglycidyl isocyanate or the like can be used. However, the composition has a problem of yellowing due to photodegradation, and this problem occurs particularly when the semiconductor element is lit at a high temperature or lit for a long time.

耐熱性、耐光性に優れる発光素子用封止材エポキシ樹脂組成物として、イソシアヌル酸誘導体エポキシ樹脂を含むもの(特許文献2)が知られている。しかし、該組成物も耐光性の点で十分とはいえない。   As a sealing material epoxy resin composition for a light-emitting element excellent in heat resistance and light resistance, one containing an isocyanuric acid derivative epoxy resin (Patent Document 2) is known. However, the composition is not sufficient in terms of light resistance.

耐紫外線性に優れる重量平均分子量が5×102以上のオルガノポリシロキサン及び縮合触媒を含有するLED素子封止用樹脂組成物が知られている(特許文献3)。しかし、該組成物はリフレクター等の白色顔料を用いる用途ではなく、より高い透明性が要求される用途向けの樹脂組成物である。 A resin composition for sealing an LED element is known that contains an organopolysiloxane having a weight average molecular weight of 5 × 10 2 or more and excellent condensation resistance and a condensation catalyst (Patent Document 3). However, the composition is not a use using a white pigment such as a reflector, but a resin composition for a use requiring higher transparency.

また、上記各シリコーン樹脂組成物に白色顔料やシリカを用いた場合、成型後の強度が低くなり、その後の工程でクラックの発生が問題となる。上記各シリコーン樹脂組成物はこの点においても満足の行くものではない。   Moreover, when a white pigment or silica is used for each of the silicone resin compositions, the strength after molding becomes low, and the occurrence of cracks becomes a problem in the subsequent steps. The above silicone resin compositions are not satisfactory in this respect.

特開平02−189958号公報Japanese Patent Laid-Open No. 02-189958 特開2005−306952号公報JP 2005-306952 A 特開2006−77234号公報JP 2006-77234 A

そこで本発明は、硬化後の強度に優れ、白色性、耐熱性及び耐光性に優れた硬化物を与える光半導体装置用のシリコーン樹脂組成物を提供することを目的とする。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a silicone resin composition for an optical semiconductor device that provides a cured product that is excellent in strength after curing and that has excellent whiteness, heat resistance, and light resistance.

本発明は、下記を含むシリコーン樹脂組成物である。
(A)下記平均組成式(1)で表され、重量平均分子量(ポリスチレン換算)が500〜20000のオルガノポリシロキサン 100質量部

(CHaSi(ORb(OH)c(4-a-b-c)/2 (1)

(式中、Rは炭素数1〜4の一価炭化水素基であり、a、b、cは、0.8≦a≦1.5、0≦b≦0.3、0.001≦c≦0.5、及び0.801≦a+b+c<2を満たす数である)
(B)下記(C)以外の白色顔料 3〜200質量部
(C)前記白色顔料以外の無機充填剤であり、平均粒径0.2〜40μmの球状シリカ60〜80重量%と平均粒径5〜10μmの破砕状シリカ20〜40重量%からなる、平均粒径10〜40μmの無機充填剤 400〜1000重量部
(D)縮合触媒 0.01〜10質量部
(E)下記式(2)で表される直鎖状ジオルガノポリシロキサン残基を有する、オルガノポリシロキサン 2〜50質量部

Figure 2011032392

(R及びRは、互いに独立に、炭素数1〜3のアルキル基、シクロヘキシル基、ビニル基、フェニル基及びアリル基から選ばれる基であり、mは5〜50の整数である) The present invention is a silicone resin composition comprising:
(A) 100 parts by mass of an organopolysiloxane represented by the following average composition formula (1) and having a weight average molecular weight (in terms of polystyrene) of 500 to 20000

(CH 3 ) a Si (OR 1 ) b (OH) c O (4-abc) / 2 (1)

(In the formula, R 1 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, and a, b and c are 0.8 ≦ a ≦ 1.5, 0 ≦ b ≦ 0.3, 0.001 ≦ (c ≦ 0.5 and 0.801 ≦ a + b + c <2)
(B) White pigment other than the following (C) 3 to 200 parts by mass (C) Inorganic filler other than the white pigment, 60 to 80% by weight of spherical silica having an average particle size of 0.2 to 40 μm and an average particle size Inorganic filler consisting of 20 to 40% by weight of crushed silica of 5 to 10 μm and having an average particle diameter of 10 to 40 μm 400 to 1000 parts by weight (D) Condensation catalyst 0.01 to 10 parts by weight (E) The following formula (2) 2-50 parts by mass of an organopolysiloxane having a linear diorganopolysiloxane residue represented by
Figure 2011032392

(R 2 and R 3 are each independently a group selected from an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a cyclohexyl group, a vinyl group, a phenyl group, and an allyl group, and m is an integer of 5 to 50)

本発明の組成物は、所定の長さの直鎖状ジオルガノポリシロキサン残基を有するオルガノポリシロキサン(E)と分岐を有するオルガノポリシロキサン(A)の組合せによって装置に歪みを与えることなく硬化することができ、さらに所定の平均粒径を有する無機充填剤を含有することにより強度を備えた硬化物を与えることができる。 The composition of the present invention is cured without distorting the apparatus by a combination of an organopolysiloxane (E) having a linear diorganopolysiloxane residue of a predetermined length and a branched organopolysiloxane (A). Further, by containing an inorganic filler having a predetermined average particle diameter, a cured product having strength can be provided.

図1は、本発明のシリコーン樹脂組成物を用いた光半導体装置の一例を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of an optical semiconductor device using the silicone resin composition of the present invention.

(A)オルガノポリシロキサン
(A)オルガノポリシロキサンはシラノール基を備え、(D)縮合触媒の存在下で架橋構造を形成する。上記平均組成式(1)においてRは炭素数1〜4の一価炭化水素基である。a、b、cは、0.8≦a≦1.5、0≦b≦0.3、0.001≦c≦0.5であり、0.801≦a+b+c<2、好ましくは、0.911≦a+b+c≦1.8、より好ましくは1.0≦a+b+c≦1.5である。
(A) Organopolysiloxane (A) Organopolysiloxane has silanol groups and (D) forms a crosslinked structure in the presence of a condensation catalyst. In the average composition formula (1), R 1 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms. a, b and c are 0.8 ≦ a ≦ 1.5, 0 ≦ b ≦ 0.3, 0.001 ≦ c ≦ 0.5, 0.801 ≦ a + b + c <2, preferably 0.8. 911 ≦ a + b + c ≦ 1.8, more preferably 1.0 ≦ a + b + c ≦ 1.5.

式(1)中、aは0.8≦a≦1.5、好ましくは0.9≦a≦1.2、より好ましくは0.9≦a≦1.1である。aが上記下限値未満では、樹脂組成物の硬化物が硬過ぎてしまいクラック等を生じ得るため好ましくなく、上記上限値超では樹脂組成物が固形化しないため好ましくない。   In the formula (1), a is 0.8 ≦ a ≦ 1.5, preferably 0.9 ≦ a ≦ 1.2, and more preferably 0.9 ≦ a ≦ 1.1. If a is less than the above lower limit, the cured product of the resin composition is too hard and may cause cracks and the like, and is not preferred if the upper limit is exceeded, since the resin composition does not solidify.

式(1)中、bは0≦b≦0.3、好ましくは0.001≦b≦0.2、より好ましくは0.01≦b≦0.1である。bが上記上限値超では、分子量が小さくなりクラック防止性能が不十分となる場合がある。なお、化合物中のOR基は、赤外吸収スペクトル(IR)、アルカリクラッキングによるアルコール定量法等で定量することができる。 In formula (1), b is 0 ≦ b ≦ 0.3, preferably 0.001 ≦ b ≦ 0.2, and more preferably 0.01 ≦ b ≦ 0.1. If b exceeds the above upper limit, the molecular weight may be small and the crack prevention performance may be insufficient. The OR 1 group in the compound can be quantified by an infrared absorption spectrum (IR), an alcohol quantification method by alkali cracking, or the like.

式(1)中、cは0.001≦c≦0.5、好ましくは0.01≦c≦0.3、より好ましくは0.05≦c≦0.2である。cが上記上限値超では、加熱硬化時の縮合反応及び/又は(E)成分との縮合反応により、硬度が高くなり耐クラック性に乏しい硬化物を与えることとなり好ましくない。cが上記下限値未満では、融点が高くなる傾向があり作業性に問題が生じる場合があり、さらに(E)成分との結合生成が全くなくなると硬化物の硬度が低くなり、耐溶剤性が悪くなる傾向があるため好ましくない。cを上記範囲内に制御するためには原料のアルコシキ基の完全縮合率を86〜96%にすることが好ましい。上記下限値未満では融点が低くなり、上記上限値超では融点が高くなりすぎるため好ましくない。   In formula (1), c is 0.001 ≦ c ≦ 0.5, preferably 0.01 ≦ c ≦ 0.3, and more preferably 0.05 ≦ c ≦ 0.2. If c exceeds the above upper limit value, the condensation reaction at the time of heat curing and / or the condensation reaction with the component (E) will give a hardened product with high hardness and poor crack resistance. If c is less than the above lower limit value, the melting point tends to be high, and there may be a problem in workability. Furthermore, when there is no bond formation with the component (E), the hardness of the cured product is lowered and the solvent resistance is reduced. Since it tends to be worse, it is not preferable. In order to control c within the above range, it is preferable that the complete condensation rate of the alkoxy group of the raw material is 86 to 96%. If it is less than the above lower limit, the melting point becomes low, and if it exceeds the above upper limit, the melting point becomes too high, which is not preferable.

上記式(1)中、Rは同一又は異種の炭素数1〜4の一価炭化水素基であり、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、n−ブチル基等のアルキル基又は、ビニル基、アリル基等のアルケニル基が挙げられる。中でも原料の入手が容易である点で、メチル基及びイソプロポキシ基が好ましい。 In the above formula (1), R 1 is the same or different monovalent hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, such as an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, or a vinyl group. And an alkenyl group such as an allyl group. Of these, a methyl group and an isopropoxy group are preferred because the raw materials are easily available.

(A)オルガノポリシロキサンはGPCにより測定したポリスチレン標準で換算した重量平均分子量が500〜20000、好ましくは1000〜10000、より好ましくは2000〜8000である。分子量が前記下限値未満では樹脂組成物が固形化し難く、分子量が上記上限値超では樹脂組成物の粘度が高くなり流動性が低下する。   (A) Organopolysiloxane has a weight average molecular weight of 500 to 20000, preferably 1000 to 10000, more preferably 2000 to 8000, in terms of polystyrene standard measured by GPC. If the molecular weight is less than the lower limit, the resin composition is difficult to solidify, and if the molecular weight exceeds the upper limit, the viscosity of the resin composition increases and the fluidity decreases.

(A)成分は、一般にQ単位(SiO)、T単位(CHSiO1.5)、及びD単位((CHSiO)の組み合わせで表現することができる。式中、全シロキサン単位の総モル数に対するT単位の含有モル数の比率が、70モル%以上、好ましくは75モル%以上、特に好ましくは80モル%以上であることがよい。T単位が上記下限値未満では、硬度、密着性及び概観等の総合的なバランスが崩れる場合がある。D、Q単位は全シロキサン単位の総モル数に対し30モル%以下であることが好ましい。D、Q単位の割合が多くなるほど樹脂組成物の融点が高くなる傾向がある。 The component (A) can be generally expressed by a combination of Q unit (SiO 2 ), T unit (CH 3 SiO 1.5 ), and D unit ((CH 3 ) 2 SiO). In the formula, the ratio of the number of moles of T units to the total number of moles of all siloxane units is 70 mol% or more, preferably 75 mol% or more, particularly preferably 80 mol% or more. If the T unit is less than the above lower limit value, the overall balance of hardness, adhesion, and appearance may be lost. The D and Q units are preferably 30 mol% or less based on the total number of moles of all siloxane units. As the proportion of D and Q units increases, the melting point of the resin composition tends to increase.

(A)成分は、下記一般式(3)で示されるオルガノシランの加水分解縮合物として得ることができる。
[化3]
(CHnSiX4-n (3)
(式中、Xはハロゲン原子又は炭素数1〜4のアルコキシ基、nは1、2又は0であり、Xはハロゲン原子、特に塩素原子であることが好ましい。)
The component (A) can be obtained as a hydrolytic condensate of organosilane represented by the following general formula (3).
[Chemical formula 3]
(CH 3 ) n SiX 4-n (3)
(Wherein X is a halogen atom or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, n is 1, 2 or 0, and X is preferably a halogen atom, particularly a chlorine atom.)

上記式(3)で表されるシラン化合物としては、例えば、メチルトリクロロシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジクロロシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、テトラクロロシラン、テトラメトキシラン、テトラエトキシラン等があげられる。   Examples of the silane compound represented by the above formula (3) include methyltrichlorosilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldichlorosilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, tetrachlorosilane, tetramethoxylane, Examples include tetraethoxylane.

上記オルガノシランの加水分解縮合は公知の方法で行うことができ、酢酸、塩酸、硫酸等の酸触媒、又は水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等のアルカリ触媒の存在下で行うことが好ましい。加水分解性基として塩素基を含有するシランを使用する場合は、水添加によって発生する塩酸を触媒として、目的とする適切な分子量の加水分解縮合物を得ることができる。   Hydrolysis condensation of the above organosilane can be performed by a known method, and is performed in the presence of an acid catalyst such as acetic acid, hydrochloric acid or sulfuric acid, or an alkali catalyst such as sodium hydroxide, potassium hydroxide or tetramethylammonium hydroxide. It is preferable. When a silane containing a chlorine group is used as a hydrolyzable group, a desired hydrolysis condensate having an appropriate molecular weight can be obtained using hydrochloric acid generated by water addition as a catalyst.

加水分解縮合の際に添加される水の量は、上記オルガノシラン中の加水分解性基の合計量1モル当り、通常、0.9〜1.6モル、好ましくは1.0〜1.3モルである。前記範囲内では作業性に優れたオルガノポリシロキサンを得ることができ、硬化物の強靭性が優れたものとなる。   The amount of water added in the hydrolysis condensation is usually 0.9 to 1.6 mol, preferably 1.0 to 1.3 per mol of the total amount of hydrolyzable groups in the organosilane. Is a mole. Within the above range, an organopolysiloxane excellent in workability can be obtained, and the toughness of the cured product is excellent.

上記加水分解縮合は、通常、アルコール類、ケトン類、エステル類、セロソルブ類、芳香族化合物類等の有機溶剤を併用することが好ましい。有機溶剤としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール、n−ブタノール、2−ブタノール等のアルコール類、芳香族化合物としてトルエン、キシレンが好ましく、中でもイソプロピルアルコール、トルエンの使用が硬化性に優れたオルガノポリシロキサンを与え、また硬化物の強靭性が優れたものとなるため好ましい。   In general, the hydrolysis-condensation is preferably performed in combination with an organic solvent such as alcohols, ketones, esters, cellosolves, and aromatic compounds. As the organic solvent, alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, isobutyl alcohol, n-butanol, and 2-butanol are preferable, and toluene and xylene are preferable as the aromatic compound. Among them, use of isopropyl alcohol and toluene is excellent in curability. An organopolysiloxane is provided, and the toughness of the cured product is excellent, which is preferable.

加水分解縮合の反応温度は、好ましくは10〜120℃、より好ましくは20〜100℃である。反応温度が係る範囲内では、ゲル化することなく作業性に優れた固体のオルガノポリシロキサンを得ることができる。   The reaction temperature for the hydrolysis condensation is preferably 10 to 120 ° C, more preferably 20 to 100 ° C. As long as the reaction temperature falls within the range, a solid organopolysiloxane having excellent workability can be obtained without gelation.

上記加水分解縮合として、例えばメチルトリクロロシランを用いた加水分解縮合を行う場合は、トルエンに溶解したメチルトリクロロシランに、水及びイソプロピルアルコールを添加して部分加水分解(反応温度−5℃〜100℃)し、残存する塩素基の全量が加水分解される量の水を添加して、反応させることにより、下記式(4)で示される融点76℃の固体シリコーンポリマーが得られる。
[化4]
(CHaSi(OC37b(OH)c(4-a-b-c)/2 (4)
(式中、a、b、cは上述のとおりである。)
As the hydrolysis condensation, for example, when performing hydrolysis condensation using methyltrichlorosilane, water and isopropyl alcohol are added to methyltrichlorosilane dissolved in toluene, and partial hydrolysis (reaction temperature -5 ° C to 100 ° C) is performed. Then, a solid silicone polymer having a melting point of 76 ° C. represented by the following formula (4) is obtained by adding and reacting with an amount of water in which the total amount of the remaining chlorine groups is hydrolyzed.
[Chemical formula 4]
(CH 3 ) a Si (OC 3 H 7 ) b (OH) c O (4-abc) / 2 (4)
(Wherein a, b and c are as described above.)

上記平均組成式(4)の例としては、下記式(5)、(6)などが挙げられる。
[化5]
(CH31.0Si(OC370.07(OH)0.131.4 (5)

(CH31.1Si(OC370.06(OH)0.121.3 (6)
Examples of the average composition formula (4) include the following formulas (5) and (6).
[Chemical formula 5]
(CH 3 ) 1.0 Si (OC 3 H 7 ) 0.07 (OH) 0.13 O 1.4 (5)

(CH 3 ) 1.1 Si (OC 3 H 7 ) 0.06 (OH) 0.12 O 1.3 (6)

(B)白色顔料
(B)白色顔料は、光半導体装置のリフレクター(反射板)等の用途向けに、硬化物を白色にするために配合するものである。白色顔料(白色着色剤)としては、二酸化チタン、アルミナ、酸化ジルコン、硫化亜鉛、酸化亜鉛、酸化マグネシウム等を単独で又は二酸化チタンと併用して使用することもできる。これらのうち、二酸化チタン、酸化マグネシウム、アルミナが好ましく、二酸化チタンがより好ましい。二酸化チタンの結晶形はルチル型、アナタース型、ブルカイト型のどれでも構わないが、ルチル型が好ましく使用される。
(B) White pigment (B) The white pigment is blended to make the cured product white for uses such as a reflector (reflector) of an optical semiconductor device. As the white pigment (white colorant), titanium dioxide, alumina, zircon oxide, zinc sulfide, zinc oxide, magnesium oxide and the like can be used alone or in combination with titanium dioxide. Of these, titanium dioxide, magnesium oxide, and alumina are preferable, and titanium dioxide is more preferable. The crystal form of titanium dioxide may be any of the rutile type, anatase type, and brookite type, but the rutile type is preferably used.

白色顔料は、平均粒径が0.05〜10μmであることが好ましく、より好ましくは0.1〜10μmである。また、(A)及び(E)の樹脂成分もしくは(C)無機充填剤との混合性、分散性を高めるため白色顔料を、AlやSiなどの水酸化物等で予め表面処理してもよい。なお、平均粒径は、レーザー光回折法による粒度分布測定における質量平均値D50(又はメジアン径)として求めることができる。 The white pigment preferably has an average particle size of 0.05 to 10 μm, more preferably 0.1 to 10 μm. Further, the white pigment may be surface-treated in advance with a hydroxide such as Al or Si in order to improve the mixing property and dispersibility with the resin components (A) and (E) or the inorganic filler (C). . The average particle size can be determined as a mass average value D 50 in the particle size distribution measurement by laser diffraction method (or median diameter).

白色顔料の配合量は、(A)成分100質量部に対し、3〜200質量部、好ましくは5〜170質量部、特に10〜140質量部が好ましい。前記下限値未満では十分な白色度が得られない場合があり、硬化物の反射率が初期値の反射率で70%以上、180℃で、24時間加熱する劣化テスト後の反射率が70%以上の物性が得られ難くなる。また、上記上限値超では、機械的強度向上の目的で添加する(C)無機充填剤の割合が少なくなるため好ましくない。白色顔料の量はシリコーン樹脂組成物全体に対し1〜50質量%であることがよく、好ましくは5〜30質量%、より好ましくは10〜30質量%である。   The compounding amount of the white pigment is 3 to 200 parts by mass, preferably 5 to 170 parts by mass, and particularly preferably 10 to 140 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A). If it is less than the lower limit, sufficient whiteness may not be obtained, and the reflectivity of the cured product is 70% or more as the initial reflectivity, and the reflectivity after the deterioration test after heating for 24 hours at 180 ° C. is 70%. The above physical properties are difficult to obtain. Moreover, if it exceeds the upper limit, the proportion of the inorganic filler (C) added for the purpose of improving the mechanical strength decreases, which is not preferable. The amount of the white pigment may be 1 to 50% by mass, preferably 5 to 30% by mass, and more preferably 10 to 30% by mass with respect to the entire silicone resin composition.

(C)無機充填剤
(C)無機充填剤は、上記白色顔料以外の充填剤である。該充填剤としては、通常、エポキシ樹脂組成物に配合されるものを使用することができる。例えば、溶融シリカ、結晶性シリカ等のシリカ類、窒化珪素、窒化アルミニウム、ボロンナイトライド、三酸化アンチモン等が挙げられる。特に、溶融シリカ、溶融球状シリカが好ましく、平均粒径が10μm以上40μm以下であり、かつ粒径90μm以上の粒子を含有しないことが好ましい。平均粒径はレーザー光回折法による粒度分布測定における質量平均値D50(又はメジアン径)として求めることができる。成型物の強度を保つためには破砕状シリカを含有させることが好ましい。
(C) Inorganic filler (C) The inorganic filler is a filler other than the white pigment. As this filler, what is normally mix | blended with an epoxy resin composition can be used. Examples thereof include silicas such as fused silica and crystalline silica, silicon nitride, aluminum nitride, boron nitride, and antimony trioxide. In particular, fused silica and fused spherical silica are preferable, and it is preferable that the average particle size is 10 μm or more and 40 μm or less, and particles containing 90 μm or more are not contained. The average particle size can be determined as a mass average value D 50 (or median diameter) in particle size distribution measurement by laser diffraction method. In order to maintain the strength of the molded product, it is preferable to contain crushed silica.

本発明の無機充填剤は、平均粒径0.2〜40μmの球状シリカ60〜80重量%と平均粒径5〜10μmの破砕状シリカ20〜40重量%からなる、平均粒径10〜40μmの無機充填剤であることが望ましい。中でも、平均粒径3μm以下の球状シリカ0〜15重量%、平均粒径4〜8μmの球状シリカ10〜30重量%、平均粒径10〜40μmの球状シリカ60〜90重量%から成る球状シリカ60〜80重量%と平均粒径5〜10μmの破砕状シリカ20〜40重量%からなるものが好適である。破砕状シリカがこの割合で含有されていると硬化物の強度が向上する。上記下限値未満では硬化物の強度向上効果がなく、上記上限値超では流動性が低下するため好ましくない。   The inorganic filler of the present invention is composed of 60 to 80% by weight of spherical silica having an average particle diameter of 0.2 to 40 μm and 20 to 40% by weight of crushed silica having an average particle diameter of 5 to 10 μm. An inorganic filler is desirable. Among these, spherical silica 60 comprising 0 to 15% by weight of spherical silica having an average particle size of 3 μm or less, 10 to 30% by weight of spherical silica having an average particle size of 4 to 8 μm, and 60 to 90% by weight of spherical silica having an average particle size of 10 to 40 μm. Those composed of ˜80 wt% and 20-40 wt% of crushed silica having an average particle diameter of 5-10 μm are preferred. When crushed silica is contained in this proportion, the strength of the cured product is improved. If it is less than the above lower limit value, the effect of improving the strength of the cured product is not obtained, and if it exceeds the above upper limit value, the fluidity is lowered.

(C)無機充填剤は、(B)成分と(C)成分を合わせて測定したロジン−ラムラー式のn値が0.7〜0.9であり、回帰直線の相関係数が0.99以下、好ましくは0.96以上0.99以下である粒度分布を示すものがよい。ロジン−ラムラー式のn値及び相関係数の測定方法は、(B)成分と(C)成分の各平均粒径のデータを下記式に示されるロジン−ラムラーの式に入れてロジン−ラムラー線図に変換し、最大粒子径から粒子径1μmまでの回帰直線を引き、直線の傾き(n値)と回帰直線の相関係数を算出する。
R(Dp)=100・exp(−b・Dpn)
(但し、式中Dpは粒径、R(Dp)は最大粒径からDpまでの積算重量%、n,bは定数である。)
(C) The inorganic filler has a rosin-Rammler n value of 0.7 to 0.9 measured by combining the components (B) and (C), and the correlation coefficient of the regression line is 0.99. In the following, it is preferable that the particle size distribution is 0.96 or more and 0.99 or less. The method for measuring the n-value and the correlation coefficient of the rosin-ramler equation is to put the data of the average particle diameters of the component (B) and the component (C) into the rosin-ramler equation represented by the following equation, and the rosin-ramler line. The graph is converted into a diagram, a regression line from the maximum particle size to the particle size of 1 μm is drawn, and the slope of the straight line (n value) and the correlation coefficient of the regression line are calculated.
R (Dp) = 100 · exp (−b · Dpn)
(Where Dp is the particle size, R (Dp) is the cumulative weight% from the maximum particle size to Dp, and n and b are constants.)

無機充填剤の平均粒径は10〜40μm、好ましくは14〜25μmである。平均粒径が10μmより小さい無機充填剤、或いはロジン−ラムラー式の回帰直線の相関係数が0.99より大きい無機充填剤では、樹脂組成物の流動性が低下するため好ましくない。無機充填剤を高充填するためには、ロジン−ラムラー式のn値が0.7以上0.9以下、好ましくは0.85以上0.9以下である粒度分布を有する無機充填剤を用いる必要があり、この時に樹脂組成物中の高い流動性を得ることができる。n値が上記下限値未満、或いは上記上限値超では、充分な流動性が得られず本発明の目的を達成し得ない。 The average particle size of the inorganic filler is 10 to 40 μm, preferably 14 to 25 μm. Inorganic fillers having an average particle size of less than 10 μm, or inorganic fillers having a correlation coefficient of a rosin-Rammler regression line of more than 0.99 are not preferable because the fluidity of the resin composition is lowered. In order to highly fill the inorganic filler, it is necessary to use an inorganic filler having a particle size distribution in which the n value of the rosin-Rammler type is 0.7 or more and 0.9 or less, preferably 0.85 or more and 0.9 or less. At this time, high fluidity in the resin composition can be obtained. If the n value is less than the above lower limit value or exceeds the above upper limit value, sufficient fluidity cannot be obtained and the object of the present invention cannot be achieved.

上記無機充填剤は、樹脂と無機充填剤との結合強度を強くするため、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤などのカップリング剤で予め表面処理したものを配合してもよい。   In order to increase the bonding strength between the resin and the inorganic filler, the inorganic filler may be blended with a surface treated in advance with a coupling agent such as a silane coupling agent or a titanate coupling agent.

このようなカップリング剤としては、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等のエポキシ官能性アルコキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノ官能性アルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプト官能性アルコキシシランなどを用いることが好ましい。なお、表面処理に用いるカップリング剤の配合量及び表面処理方法については特に制限されるものではない。   Examples of such a coupling agent include epoxy functions such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, and β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane. Functional alkoxysilanes such as N-β (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, and γ-mercapto It is preferable to use a mercapto functional alkoxysilane such as propyltrimethoxysilane. The amount of coupling agent used for the surface treatment and the surface treatment method are not particularly limited.

(C)無機充填剤の配合量は、(A)成分100質量部に対し、400〜1000質量部、特に600〜950質量部が好ましい。上記下限値未満では、十分な強度を得られない恐れがあり、1000質量部を超えると増粘によるモールドの未充填不良や柔軟性が失われることで、素子内の剥離等の不良が発生する場合がある。なお、(B)白色顔料と(C)無機充填剤の合計量は、シリコーン樹脂組成物全体の70〜93質量%、特に75〜91質量%であることが好ましい。   (C) As for the compounding quantity of an inorganic filler, 400-1000 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) component, Especially 600-950 mass parts are preferable. If the amount is less than the above lower limit, sufficient strength may not be obtained, and if it exceeds 1000 parts by mass, unfilled mold failure due to thickening and flexibility will be lost, resulting in defects such as peeling in the element. There is a case. In addition, it is preferable that the total amount of (B) white pigment and (C) inorganic filler is 70 to 93% by mass, particularly 75 to 91% by mass of the entire silicone resin composition.

(D)縮合触媒
(D)縮合触媒は、上記(A)成分を硬化させる縮合触媒であり、(A)成分の貯蔵安定性、目的とする硬度などを考慮して選択される。縮合触媒としては、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキサイド、テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド、n−ヘキシルアミン、トリブチルアミン、ジアザビシクロウンデセン(DBU)、ジシアンジアミド等の塩基性化合物類;テトライソプロピルチタネート、テトラブチルチタネート、チタンアセチルアセトナート、アルミニウムトリイソブトキシド、アルミニウムトリイソプロポキシド、ジルコニウムテトラ(アセチルアセトナート)、ジルコニウムテトラブチレート、コバルトオクチレート、コバルトアセチルアセトナート、鉄アセチルアセトナート、スズアセチルアセトナート、ジブチルスズオクチレート、ジブチルスズラウレート、オクチル酸亜鉛、安息香酸亜鉛、p−tert−ブチル安息香酸亜鉛、ラウリン酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、リン酸アルミニウム、アルミニウムトリイソプロポキシド等の含金属化合物類、アルミニウムトリスアセチルアセトネート、アルミニウムビスエチルアセトアセテート・モノアセチルアセトネート、ジイソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)チタン、ジイソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)チタン等の有機チタンキレート化合物、等が挙げられる。この中で特に、オクチル酸亜鉛、安息香酸亜鉛、p−tert−ブチル安息香酸亜鉛、ラウリン酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、リン酸アルミニウム、アルミニウムトリイソプロポキシドが好ましい。中でも安息香酸亜鉛、有機チタンキレート化合物が好ましく使用される。
(D) Condensation catalyst (D) The condensation catalyst is a condensation catalyst for curing the component (A), and is selected in consideration of the storage stability of the component (A), the intended hardness, and the like. As the condensation catalyst, basic compounds such as trimethylbenzylammonium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, n-hexylamine, tributylamine, diazabicycloundecene (DBU), dicyandiamide; tetraisopropyl titanate, tetrabutyl titanate, Titanium acetylacetonate, aluminum triisobutoxide, aluminum triisopropoxide, zirconium tetra (acetylacetonate), zirconium tetrabutyrate, cobalt octylate, cobalt acetylacetonate, iron acetylacetonate, tin acetylacetonate, dibutyltin octet Rate, dibutyltin laurate, zinc octylate, zinc benzoate, zinc p-tert-butylbenzoate, zinc laurate Metal-containing compounds such as zinc stearate, aluminum phosphate, aluminum triisopropoxide, aluminum trisacetylacetonate, aluminum bisethylacetoacetate / monoacetylacetonate, diisopropoxybis (ethylacetoacetate) titanium, diiso And organic titanium chelate compounds such as propoxybis (ethylacetoacetate) titanium. Of these, zinc octylate, zinc benzoate, zinc p-tert-butylbenzoate, zinc laurate, zinc stearate, aluminum phosphate, and aluminum triisopropoxide are particularly preferable. Of these, zinc benzoate and organic titanium chelate compounds are preferably used.

硬化触媒の配合量は、(A)100質量部に対し、0.01〜10質量部、好ましくは0.1〜6質量部である。該範囲内では、硬化性が良好であり、組成物の貯蔵安定性もよい。   The compounding quantity of a curing catalyst is 0.01-10 mass parts with respect to 100 mass parts (A), Preferably it is 0.1-6 mass parts. Within this range, curability is good and the storage stability of the composition is also good.

(E)オルガノポリシロキサン
(E)成分は下記式(2)で表される直鎖状ジオルガノポリシロキサン残基を有することを特徴とする。

Figure 2011032392

ここで、R及びRは、互いに独立に、炭素数1〜3のアルキル基、シクロヘキシル基、ビニル基、フェニル基及びアリル基から選ばれる基であり、好ましくはメチル基及びフェニル基である。mは5〜50、好ましくは8〜30、より好ましくは10〜20の整数である。mが前記下限値未満では、硬化物の可撓性(耐クラック性)に乏しく、装置の反りを起こし得る。一方、前記上限値を超えては、機械的強度が不足する傾向がある。 (E) The organopolysiloxane (E) component has a linear diorganopolysiloxane residue represented by the following formula (2).
Figure 2011032392

Here, R 2 and R 3 are each independently a group selected from an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a cyclohexyl group, a vinyl group, a phenyl group and an allyl group, preferably a methyl group and a phenyl group. . m is an integer of 5-50, preferably 8-30, more preferably 10-20. When m is less than the lower limit, the cured product is poor in flexibility (crack resistance) and may cause warping of the apparatus. On the other hand, when the upper limit is exceeded, the mechanical strength tends to be insufficient.

(E)成分は、R23SiO1単位に加えて、mが5〜50の範囲外であるD単位(RSiO)、M単位(RSiO0.5)、T単位(RSiO1.5)、Q単位(SiO)を含んでいてよい。(ここでRは有機基である。)それらのモル比はそれぞれ、90〜24:75〜0:50〜1、特に70〜28:70〜20:10〜2(但し、合計で100)であることが硬化物特性から好ましい。 In addition to the R 2 R 3 SiO 1 unit, the component (E) includes D units (R 2 SiO 1 ), M units (R 3 SiO 0.5 ), T units (RSiO 1.5 ) where m is outside the range of 5-50. ), And Q units (SiO 2 ). (Here, R is an organic group.) The molar ratios of these are 90-24: 75-0: 50-1, especially 70-28: 70-20: 10-2 (however, 100 in total). It is preferable from a cured | curing material characteristic.

(E)成分のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算重量平均分子量は3,000〜1,000,000であることが好ましく、より好ましくは10,000〜100,000である。この範囲にあると、該ポリマーは固体もしくは半固体状であり作業性、硬化性などから好適である。   (E) It is preferable that the polystyrene conversion weight average molecular weights by the gel permeation chromatography (GPC) of a component are 3,000-1,000,000, More preferably, it is 10,000-100,000. Within this range, the polymer is solid or semi-solid and is suitable from the viewpoint of workability and curability.

(E)成分は、上記各単位の原料となる化合物を、生成ポリマー中で所要のモル比となるように組み合わせ、例えば酸の存在下で加水分解して縮合を行うことによって合成することができる。   The component (E) can be synthesized by combining the compounds used as raw materials for the above units in the polymer so that the required molar ratio is obtained, for example, by hydrolysis in the presence of an acid for condensation. .

ここで、RSiO1.5単位の原料としては、MeSiCl3、EtSiCl3、PhSiCl3、プロピルトリクロロシラン、シクロヘキシルトリクロロシラン等のクロロシラン類、これらそれぞれのクロロシラン類に対応するメトキシシラン類などのアルコキシシラン類などを例示できる。ここで、Meはメチル基、Etはエチル基、Phはフェニル基、Viはビニル基を示す。 Here, as raw materials for RSiO 1.5 units, MeSiCl 3 , EtSiCl 3 , PhSiCl 3 , chlorosilanes such as propyltrichlorosilane, cyclohexyltrichlorosilane, and alkoxysilanes such as methoxysilane corresponding to these chlorosilanes, etc. It can be illustrated. Here, Me represents a methyl group, Et represents an ethyl group, Ph represents a phenyl group, and Vi represents a vinyl group.

上記式(2)のR2SiO単位の原料としては、下記のものが挙げられる。

Figure 2011032392
As a raw material for R 2 R 3 SiO units of formula (2) are as follows.
Figure 2011032392

Figure 2011032392
Figure 2011032392

Figure 2011032392

(ここで、m=5〜50の整数(平均値)、n=0〜50の整数(平均値)、かつm+nが5〜50(平均値)である。)
Figure 2011032392

(Here, an integer (average value) of m = 5 to 50, an integer (average value) of n = 0 to 50, and m + n is 5 to 50 (average value).)

また、M単位、T単位等の原料としては、Me2PhSiCl、Me2ViSiCl、MePhSiCl2、MeViSiCl2、Ph2MeSiCl、Ph2ViSiCl、PhViSiCl2等のクロロシラン類、これらのクロロシランのそれぞれに対応するメトキシシラン類等のアルコキシシラン類などを例示することができる。ここで、Meはメチル基、Etはエチル基、Phはフェニル基、Viはビニル基を示す。 Further, as raw materials for M units, T units, etc., chlorosilanes such as Me 2 PhSiCl, Me 2 ViSiCl, MePhSiCl 2 , MeViSiCl 2 , Ph 2 MeSiCl, Ph 2 ViSiCl, PhViSiCl 2 , and these chlorosilanes correspond to each. Examples include alkoxysilanes such as methoxysilanes. Here, Me represents a methyl group, Et represents an ethyl group, Ph represents a phenyl group, and Vi represents a vinyl group.

これらの原料となる化合物を、所定のモル比で組合せて、例えば以下の反応で得ることが出来る。フェニルメチルジクロロシラン100質量部、フェニルトリクロロシラン2100質量部、Si数21個の両末端クロルジメチルシリコーンオイル2400質量部、トルエン3000質量部を投入混合し、水11000質量部中に混合シランを滴下し30〜50℃で1時間共加水分解する。その後、50℃で1時間熟成後、水を入れて洗浄し、その後共沸脱水、濾過、減圧ストリップをする。   These raw materials can be combined in a predetermined molar ratio and obtained, for example, by the following reaction. 100 parts by mass of phenylmethyldichlorosilane, 2100 parts by mass of phenyltrichlorosilane, 2400 parts by mass of chlordimethylsilicone oil having 21 Si atoms, and 3000 parts by mass of toluene are added and mixed, and the mixed silane is dropped into 11000 parts by mass of water. Cohydrolyze at 30-50 ° C. for 1 hour. Thereafter, after aging at 50 ° C. for 1 hour, water is added for washing, followed by azeotropic dehydration, filtration, and vacuum stripping.

なお、上記共加水分解及び縮合により製造する際に、シラノール基を有するシロキサン単位が含まれ得る。(E)成分のオルガノポリシロキサンは、かかるシラノール基含有シロキサン単位を、通常、全シロキサン単位に対して0.5〜10モル%、好ましくは1〜5モル%程度含有することが好ましい。上記シラノール基含有シロキサン単位としては、例えば、R(HO)SiO単位、R(HO)2SiO0.5単位、R2(HO)SiO0.5単位が挙げられる(Rは水酸基ではない)。(F)成分のオルガノポリシロキサンはシラノール基を含有するので、(A)成分の硬化性ポリオルガノシロキサンと反応する。 In addition, when manufacturing by the said cohydrolysis and condensation, the siloxane unit which has a silanol group may be contained. The (E) component organopolysiloxane usually contains about 0.5 to 10 mol%, preferably about 1 to 5 mol% of such silanol group-containing siloxane units with respect to the total siloxane units. Examples of the silanol group-containing siloxane units include R (HO) SiO units, R (HO) 2 SiO 0.5 units, and R 2 (HO) SiO 0.5 units (R is not a hydroxyl group). Since the organopolysiloxane of component (F) contains a silanol group, it reacts with the curable polyorganosiloxane of component (A).

(E)成分の配合量は(A)成分100質量部に対し、好ましくは2〜50質量部、より好ましくは3〜30質量部である。添加量が少ないと連続成形性の向上効果が少なく、また低反り性を達成することが出来ない。添加量が多いと、組成物の粘度が上昇し成形に支障をきたすことがある。 (E) The compounding quantity of a component becomes like this. Preferably it is 2-50 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) component, More preferably, it is 3-30 mass parts. If the amount added is small, the effect of improving the continuous formability is small, and low warpage cannot be achieved. When the addition amount is large, the viscosity of the composition increases, which may hinder molding.

(F)その他の添加剤
本発明のシリコーン樹脂組成物には、更に必要に応じて各種の添加剤を配合することができる。例えば、樹脂の性質を改善する目的でγ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプト官能性アルコキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等などのカップリング材、ウィスカー、シリコーンパウダー、熱可塑性樹脂、熱可塑性エラストマー、有機合成ゴムなどの添加材、脂肪酸エステル、グリセリン酸エステル、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム等の内部離型剤、フェノール系、リン系、もしくは硫黄系酸化防止剤等を本発明の効果を損なわない範囲で添加配合することができる。但し、本発明の組成物は、酸化防止剤を含有せずとも、従来の熱硬化性シリコーン樹脂組成物に比べて、光による変色性が少ない。
(F) Other additives The silicone resin composition of the present invention may further contain various additives as necessary. For example, for the purpose of improving the properties of the resin, mercapto-functional alkoxysilanes such as γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, β- (3 , 4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane and other coupling materials, whiskers, silicone powders, thermoplastic resins, thermoplastic elastomers, organic synthetic rubbers and other additives, fatty acid esters, glycerate esters, zinc stearate, steers An internal mold release agent such as calcium phosphate, a phenol-based, phosphorus-based, or sulfur-based antioxidant can be added and blended within a range that does not impair the effects of the present invention. However, the composition of the present invention has less discoloration due to light as compared with the conventional thermosetting silicone resin composition, even without containing an antioxidant.

本発明組成物の製造方法としては、シリコーン樹脂、白色顔料、無機充填材、硬化触媒、その他の添加物を所定の組成比で配合し、これをミキサー等によって十分均一に混合した後、熱ロール、ニーダー、エクストルーダー等による溶融混合処理を行い、次いで冷却固化させ、適当な大きさに粉砕してエポキシ樹脂組成物の成形材料とすることができる。   As a method for producing the composition of the present invention, a silicone resin, a white pigment, an inorganic filler, a curing catalyst, and other additives are blended in a predetermined composition ratio, which is mixed sufficiently uniformly by a mixer or the like, and then heated. Then, a melt mixing process using a kneader, an extruder or the like is performed, followed by cooling and solidification, and pulverization to an appropriate size to obtain a molding material for the epoxy resin composition.

得られたシリコーン樹脂組成物は、光半導体装置、特にはLED用ケース、フォトカプラー用の封止材として特に有用である。図1に光半導体装置の一例であるLEDリフレクターの断面図を示す。図1においてLED等の光半導体素子1が、リードフレーム2にダイボンドされ、更にボンディングワイヤ3により別のリードフレーム(図示せず)にワイヤボンドされている。また、受光用の半導体素子(図示せず)がリードフレーム(図示せず)上にダイボンドされ、更にボンディングワイヤ(図示せず)により別のリードフレーム(図示せず)にワイヤーボンディングされている。これらの半導体素子の間は透明封止樹脂4により充填されている。図1に示す例において、本発明のシリコーン樹脂組成物の硬化物は、白色リフレクター5に使用される。また、6はレンズである。   The obtained silicone resin composition is particularly useful as a sealing material for optical semiconductor devices, particularly for LED cases and photocouplers. FIG. 1 shows a cross-sectional view of an LED reflector that is an example of an optical semiconductor device. In FIG. 1, an optical semiconductor element 1 such as an LED is die-bonded to a lead frame 2 and further bonded to another lead frame (not shown) by a bonding wire 3. A light receiving semiconductor element (not shown) is die-bonded on a lead frame (not shown), and further wire-bonded to another lead frame (not shown) by a bonding wire (not shown). A space between these semiconductor elements is filled with a transparent sealing resin 4. In the example shown in FIG. 1, the cured product of the silicone resin composition of the present invention is used for the white reflector 5. Reference numeral 6 denotes a lens.

得られるリフレクターの波長450nmでの光反射率は、初期値で70%以上、特に80%以上、とりわけ85%以上であり、180℃で24時間劣化テスト後の反射率も70%以上、特に80%以上、とりわけ85%以上を達成できる。反射率が、70%未満であると、例えば、LED用半導体素子リフレクターとしての耐用時間が短くなる。   The light reflectivity of the obtained reflector at a wavelength of 450 nm is 70% or more, particularly 80% or more, particularly 85% or more as an initial value, and the reflectance after a 24 hour deterioration test at 180 ° C. is also 70% or more, particularly 80%. % Or more, especially 85% or more can be achieved. When the reflectance is less than 70%, for example, the service life as an LED semiconductor element reflector is shortened.

該リフレクターの最も一般的な成形方法としては、トランスファー成形法や圧縮成形法が挙げられる。トランスファー成形法では、トランスファー成形機を用い、成形圧力5〜20N/mm、120〜190℃で30〜500秒、特に150〜185℃で30〜180秒で行うことが好ましい。また、圧縮成形法では、コンプレッション成形機を用い、成形温度は120〜190℃で30〜600秒、特に130〜160℃で120〜300秒で行うことが好ましい。更に、いずれの成形法においても、後硬化を150〜185℃で2〜20時間行ってよい。 The most common molding method for the reflector includes a transfer molding method and a compression molding method. The transfer molding method is preferably performed using a transfer molding machine at a molding pressure of 5 to 20 N / mm 2 and 120 to 190 ° C. for 30 to 500 seconds, particularly 150 to 185 ° C. for 30 to 180 seconds. In the compression molding method, a compression molding machine is used, and the molding temperature is preferably 120 to 190 ° C. for 30 to 600 seconds, particularly 130 to 160 ° C. for 120 to 300 seconds. Further, in any molding method, post-curing may be performed at 150 to 185 ° C. for 2 to 20 hours.

このようにして得られた本発明のエポキシ樹脂組成物は成形性、耐熱性や耐光性、特に耐紫外線性に優れていることから白色や青色、更には紫外LED用プレモールドパッケージ用に好適なばかりでなく、ソーラセル用のパッケージ材料としても最適なものである。 The epoxy resin composition of the present invention thus obtained is excellent in moldability, heat resistance and light resistance, particularly UV resistance, and therefore suitable for white and blue, and further for premold packages for UV LEDs. Not only is it suitable as a packaging material for solar cells.

更に、リード部やパッド部が形成されたマトリックスアレー型の金属基板や有機基板上で、LED素子搭載部分のみを空けた状態で本材料を用い一括封止するプレモールドパッケージも本発明の範疇に入る。また、通常の半導体用封止材や車載用各種モジュールなどの封止にも使用することができる。   Furthermore, a pre-molded package that collectively seals using this material on a matrix array type metal substrate or organic substrate on which leads and pad portions are formed, leaving only the LED element mounting portion within the scope of the present invention. enter. It can also be used for sealing a normal semiconductor sealing material and various on-vehicle modules.

以下、実施例及び比較例を示し、本発明をより詳細に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are shown and this invention is demonstrated in detail, this invention is not restrict | limited to the following Example.

実施例、比較例で使用した原料を以下に示す。
[合成例1]
(A)オルガノポリシロキサンの合成
メチルトリクロロシラン100g、トルエン200gを1Lのフラスコに入れ、氷冷下で水8g、イソプロピルアルコール60gの混合液を液中滴下した。内温は−5〜0℃で5〜20hrかけて滴下し、その後加熱して還流温度で20分間撹拌した。それから室温まで冷却し、水12質量部を30℃以下、30分間で滴下し、20分間撹拌した。更に水25質量部を滴下後、40〜45℃で60分間撹拌した。その後水200部をいれて有機層を分離した。この有機層を中性になるまで洗浄し、その後共沸脱水、濾過、減圧ストリップをすることにより、下記式(7)で示される無色透明の固体(融点76℃)36.0質量部の熱硬化性オルガノポリシロキサン(A)を得た。
[化10]
(CH31.0Si(OC370.07(OH)0.101.4 (7)
The raw materials used in Examples and Comparative Examples are shown below.
[Synthesis Example 1]
(A) Synthesis of organopolysiloxane 100 g of methyltrichlorosilane and 200 g of toluene were placed in a 1 L flask, and a mixed solution of 8 g of water and 60 g of isopropyl alcohol was dropped into the solution under ice cooling. The internal temperature was dropped at −5 to 0 ° C. over 5 to 20 hours, and then heated and stirred at the reflux temperature for 20 minutes. Then, the mixture was cooled to room temperature, and 12 parts by mass of water was added dropwise at 30 ° C. or lower for 30 minutes, followed by stirring for 20 minutes. Further, 25 parts by mass of water was added dropwise, followed by stirring at 40 to 45 ° C. for 60 minutes. Thereafter, 200 parts of water was added to separate the organic layer. The organic layer was washed until neutral, and then subjected to azeotropic dehydration, filtration, and stripping under reduced pressure. A curable organopolysiloxane (A) was obtained.
[Chemical Formula 10]
(CH 3 ) 1.0 Si (OC 3 H 7 ) 0.07 (OH) 0.10 O 1.4 (7)

(B)白色顔料
白色顔料:二酸化チタン(ルチル型)、平均粒径0.29μm(堺化学工業(株)製)
(B) White pigment White pigment: Titanium dioxide (rutile type), average particle size 0.29 μm (manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.)

(C)無機充填剤
球状シリカ:平均粒径30μm ((株)龍森製)
球状シリカ:平均粒径4μm ((株)龍森製)
球状シリカ:平均粒径0.5μm ((株)アドマテック製)
破砕状シリカ:平均粒径8μm (福島窯業(株)製)
(C) Inorganic filler Spherical silica: Average particle size 30 μm (manufactured by Tatsumori)
Spherical silica: average particle size 4μm (manufactured by Tatsumori)
Spherical silica: Average particle size 0.5 μm (manufactured by Admatech)
Crushed silica: average particle size 8μm (Fukushima Ceramics Co., Ltd.)

(D)硬化触媒
安息香酸亜鉛 和光純薬工業(株)製
(D) Curing catalyst Zinc benzoate Wako Pure Chemical Industries, Ltd.

[合成例2]
(E)オルガノポリシロキサンの合成
フェニルメチルジクロロシラン100g、フェニルトリクロロシラン2100g、Si数21個の両末端クロルジメチルシリコーンオイル2400g、トルエン3000gを混合し、水11000質量部中に混合した上記シランを滴下し30〜50℃で1時間共加水分解する。その後、50℃で1時間熟成後、水を入れて洗浄し、その後共沸脱水、濾過、減圧ストリップをすることにより、150℃での溶融粘度5Pa.s、無色透明のオルガノポリシロキサン(E)を得た。
[Synthesis Example 2]
(E) Synthesis of organopolysiloxane 100 g of phenylmethyldichlorosilane, 2100 g of phenyltrichlorosilane, 2400 g of chlorodimethylsilicone oil having both ends of 21 Si, and 3000 g of toluene are mixed, and the above silane mixed in 11000 parts by mass of water is added dropwise. And co-hydrolyzed at 30-50 ° C. for 1 hour. Then, after aging at 50 ° C. for 1 hour, water is added for washing, followed by azeotropic dehydration, filtration, and stripping under reduced pressure, so that the melt viscosity at 150 ° C. is 5 Pa.s, colorless and transparent organopolysiloxane (E) Got.

添加剤
シランカップリング剤:KBM803 (信越化学工業(株)製)
離型剤;ステアリン酸カルシウム (和光純薬工業(株)製)
Additive <br/> Silane coupling agent: KBM803 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
Mold release agent; calcium stearate (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)

[実施例1〜3、比較例1〜3]
表1に示す配合で、(A)オルガノポリシロキサン、(B)白色顔料、(C)無機充填剤、(D)硬化触媒、および(E)オルガノポリシロキサンを配合し、ロール混合にて製造し、冷却、粉砕して白色シリコーン樹脂組成物を得た。
[Examples 1-3, Comparative Examples 1-3]
In the composition shown in Table 1, (A) an organopolysiloxane, (B) a white pigment, (C) an inorganic filler, (D) a curing catalyst, and (E) an organopolysiloxane are blended and manufactured by roll mixing. Cooling and pulverization gave a white silicone resin composition.

これらの組成物につき、以下の諸特性を測定した。結果を表1に示す。なお、成形は全てトランスファー成形機で、175℃×120秒で行った。   The following properties were measured for these compositions. The results are shown in Table 1. All moldings were performed at 175 ° C. for 120 seconds using a transfer molding machine.

スパイラルフロー値
EMMI規格に準じた金型を使用して、175℃、6.9N/mm、成形時間120秒の条件で測定した。
Spiral flow value was measured under the conditions of 175 ° C., 6.9 N / mm 2 , and molding time of 120 seconds using a mold conforming to the EMMI standard.

溶融粘度
高化式フローテスターを用い、25kgfの加圧下、直径1mmのノズルを用い、温度175℃で粘度を測定した。
Using a melt viscosity increasing flow tester, the viscosity was measured at a temperature of 175 ° C. using a nozzle having a diameter of 1 mm under a pressure of 25 kgf.

室温での曲げ強度
JIS−K6911規格に準じた金型を使用して、175℃,6.9N/mm2、成形時間120秒の条件で成形した試験片を室温(25℃)にて、曲げ強度を測定した。
Bending strength at room temperature Using a mold conforming to the JIS-K6911 standard, a test piece molded under the conditions of 175 ° C., 6.9 N / mm 2 and molding time of 120 seconds was bent at room temperature (25 ° C.). The strength was measured.

光反射率
175℃,6.9N/mm2、成形時間90秒の条件で直径50mm×厚さ3mmの円盤(硬化物)を成形し、成形直後、180℃で24時間放置後、UV照射(365nmピーク波長の高圧水銀灯60mW/cm)24時間後の波長450nmにおける光反射率をエス・デイ・ジ−(株)製X−rite8200を使用して測定した。
A disk (cured material) having a diameter of 50 mm and a thickness of 3 mm was molded under the conditions of a light reflectance of 175 ° C., 6.9 N / mm 2 and a molding time of 90 seconds, immediately after molding, left at 180 ° C. for 24 hours, and then irradiated with UV ( The light reflectivity at a wavelength of 450 nm after 24 hours of a high-pressure mercury lamp having a peak wavelength of 365 nm (60 mW / cm) was measured using an X-lite 8200 manufactured by SDG Co., Ltd.

球状シリカの平均粒径
球状シリカの平均粒径は、レーザー回折式粒度分布測定装置(シーラス,HR850)を用いて測定した。
Average particle diameter of spherical silica The average particle diameter of the spherical silica was measured using a laser diffraction type particle size distribution analyzer (Cirrus, HR850).

Figure 2011032392
表中、括弧内の数値は各無機充填剤の重量%を示す。
Figure 2011032392
In the table, the numerical values in parentheses indicate the weight percent of each inorganic filler.

表1に示すように、破砕状シリカがすくな過ぎる比較例1及び全く含まない比較例3は成型物の曲げ強度が低かった。一方、(B)成分を多量に含有する比較例2は流動性が悪く成形することができなかった。これに対し、本願実施例は光反射率が高く、室温での曲げ強度も高かった。   As shown in Table 1, in Comparative Example 1 in which crushed silica was too scrubbed and in Comparative Example 3 in which no crushed silica was contained, the bending strength of the molded product was low. On the other hand, Comparative Example 2 containing a large amount of component (B) was poor in fluidity and could not be molded. In contrast, the examples of the present application had high light reflectivity and high bending strength at room temperature.

本発明の樹脂組成物は、硬化後の強度に優れ、白色性、耐熱性及び耐光性に優れた硬化物を提供することができ、光半導体素子、特にリフレクター用に好適である。 The resin composition of the present invention is excellent in strength after curing, can provide a cured product excellent in whiteness, heat resistance and light resistance, and is suitable for optical semiconductor elements, particularly for reflectors.

1 半導体素子
2 リードフレーム
3 ボンディングワイヤ
4 透明封止樹脂
5 白色リフレクター(シリコーン樹脂組成物の硬化物)
6 レンズ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor element 2 Lead frame 3 Bonding wire 4 Transparent sealing resin 5 White reflector (hardened | cured material of a silicone resin composition)
6 Lens

Claims (3)

下記を含むシリコーン樹脂組成物
(A)下記平均組成式(1)で表され、重量平均分子量(ポリスチレン換算)が500〜20000のオルガノポリシロキサン 100質量部

(CHaSi(ORb(OH)c(4-a-b-c)/2 (1)

(式中、Rは炭素数1〜4の一価炭化水素基であり、a、b、cは、0.8≦a≦1.5、0≦b≦0.3、0.001≦c≦0.5、及び0.801≦a+b+c<2を満たす数である)
(B)下記(C)以外の白色顔料 3〜200質量部
(C)前記白色顔料以外の無機充填剤であり、平均粒径0.2〜40μmの球状シリカ60〜80重量%と平均粒径5〜10μmの破砕状シリカ20〜40重量%からなる、平均粒径10〜40μmの無機充填剤
400〜1000重量部
(D)縮合触媒 0.01〜10質量部
(E)下記式(2)で表される直鎖状ジオルガノポリシロキサン残基を有する、オルガノポリシロキサン 2〜50質量部

Figure 2011032392
(R及びRは、互いに独立に、炭素数1〜3のアルキル基、シクロヘキシル基、ビニル基、フェニル基及びアリル基から選ばれる基であり、mは5〜50の整数である)
100 parts by mass of an organopolysiloxane represented by the following average composition formula (1) and having a weight average molecular weight (in terms of polystyrene) of 500 to 20000

(CH 3 ) a Si (OR 1 ) b (OH) c O (4-abc) / 2 (1)

(In the formula, R 1 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, and a, b and c are 0.8 ≦ a ≦ 1.5, 0 ≦ b ≦ 0.3, 0.001 ≦ (c ≦ 0.5 and 0.801 ≦ a + b + c <2)
(B) White pigment other than the following (C) 3 to 200 parts by mass (C) Inorganic filler other than the white pigment, 60 to 80% by weight of spherical silica having an average particle size of 0.2 to 40 μm and an average particle size Inorganic filler having an average particle size of 10 to 40 μm, comprising 20 to 40% by weight of 5 to 10 μm of crushed silica
400 to 1000 parts by weight (D) Condensation catalyst 0.01 to 10 parts by weight (E) 2 to 50 parts by weight of an organopolysiloxane having a linear diorganopolysiloxane residue represented by the following formula (2)

Figure 2011032392
(R 2 and R 3 are each independently a group selected from an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a cyclohexyl group, a vinyl group, a phenyl group, and an allyl group, and m is an integer of 5 to 50)
(B)白色顔料が、平均粒径0.05〜10.0μmの、二酸化チタン、酸化マグネシウム及びアルミナからなる群より選ばれる少なくとも1種であり、シリコーン樹脂組成物の質量に対し1〜50質量%で含有され、(B)白色顔料と(C)無機充填剤の、シリコーン樹脂組成物質量に対する合計質量%が70〜93質量%であることを特徴とする請求項1記載のシリコーン樹脂組成物。   (B) The white pigment is at least one selected from the group consisting of titanium dioxide, magnesium oxide and alumina having an average particle size of 0.05 to 10.0 μm, and 1 to 50 masses relative to the mass of the silicone resin composition. 2. The silicone resin composition according to claim 1, wherein the total mass% of the white pigment and the inorganic filler (C) is 70 to 93 mass% with respect to the amount of the silicone resin composition substance. . 請求項1〜2のいずれか1項に記載のシリコーン樹脂組成物の硬化物を備える光半導体装置。   An optical semiconductor device provided with the hardened | cured material of the silicone resin composition of any one of Claims 1-2.
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Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012246482A (en) * 2011-05-25 2012-12-13 Daxin Material Corp Polysiloxane resin composition
JP2013004905A (en) * 2011-06-21 2013-01-07 Mitsubishi Chemicals Corp Semiconductor light-emitting device package and semiconductor light-emitting device
JP5167424B1 (en) * 2012-04-18 2013-03-21 積水化学工業株式会社 White curable composition for optical semiconductor device and molded article for optical semiconductor device
KR20130056184A (en) * 2011-11-21 2013-05-29 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 White thermosetting silicone resin composition useful as led reflector and optical semiconductor device using the same
JP2013107983A (en) * 2011-11-21 2013-06-06 Shin-Etsu Chemical Co Ltd White thermosetting silicone resin composition useful as led reflector, and optical semiconductor device using the same
JP2013107985A (en) * 2011-11-21 2013-06-06 Shin-Etsu Chemical Co Ltd White thermosetting silicone resin composition useful as led reflector, and optical semiconductor device using the same
JP2013107984A (en) * 2011-11-21 2013-06-06 Shin-Etsu Chemical Co Ltd White thermosetting silicone resin composition useful as led reflector, and optical semiconductor device using the same
JP2013133429A (en) * 2011-12-27 2013-07-08 Kaneka Corp Resin molding for surface mounting type light emitting device and light emitting device using the same
JP2015078293A (en) * 2013-10-16 2015-04-23 台湾太陽油▲墨▼股▲分▼有限公司 White thermosetting resin composition, cured product thereof, and display member using the same
US9403983B2 (en) 2014-06-06 2016-08-02 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. White thermosetting silicone resin composition for a light-emitting semiconductor device and a case for installing a light-emitting semiconductor element
JP2017043656A (en) * 2015-08-24 2017-03-02 信越化学工業株式会社 Thermosetting silicone resin composition and optical semiconductor element mounting case using the molded body
JP2018002970A (en) * 2016-07-08 2018-01-11 信越化学工業株式会社 Thermosetting silicone resin composition and optical semiconductor device using the molded body
JP2018107360A (en) * 2016-12-27 2018-07-05 パナソニックIpマネジメント株式会社 Light emitting device
JP2019159140A (en) * 2018-03-14 2019-09-19 信越化学工業株式会社 Heat-curable silicone resin composition for white reflector, and white reflector made of cured product of the same

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8637603B2 (en) 2011-05-25 2014-01-28 Daxin Materials Corp. Polysiloxane resin composition
JP2012246482A (en) * 2011-05-25 2012-12-13 Daxin Material Corp Polysiloxane resin composition
JP2013004905A (en) * 2011-06-21 2013-01-07 Mitsubishi Chemicals Corp Semiconductor light-emitting device package and semiconductor light-emitting device
CN103131186B (en) * 2011-11-21 2017-03-01 信越化学工业株式会社 Optical semiconductor device as the useful white heat-curable silicone resin composition of LED reflection body and using said composition
JP2013107983A (en) * 2011-11-21 2013-06-06 Shin-Etsu Chemical Co Ltd White thermosetting silicone resin composition useful as led reflector, and optical semiconductor device using the same
JP2013107985A (en) * 2011-11-21 2013-06-06 Shin-Etsu Chemical Co Ltd White thermosetting silicone resin composition useful as led reflector, and optical semiconductor device using the same
JP2013107984A (en) * 2011-11-21 2013-06-06 Shin-Etsu Chemical Co Ltd White thermosetting silicone resin composition useful as led reflector, and optical semiconductor device using the same
KR20130056184A (en) * 2011-11-21 2013-05-29 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 White thermosetting silicone resin composition useful as led reflector and optical semiconductor device using the same
CN103131186A (en) * 2011-11-21 2013-06-05 信越化学工业株式会社 White thermosetting silicone resin composition useful as LED reflector and optical semiconductor device using the same
KR101881604B1 (en) * 2011-11-21 2018-07-24 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 White thermosetting silicone resin composition useful as led reflector and optical semiconductor device using the same
JP2013133429A (en) * 2011-12-27 2013-07-08 Kaneka Corp Resin molding for surface mounting type light emitting device and light emitting device using the same
JP5167424B1 (en) * 2012-04-18 2013-03-21 積水化学工業株式会社 White curable composition for optical semiconductor device and molded article for optical semiconductor device
JP2015078293A (en) * 2013-10-16 2015-04-23 台湾太陽油▲墨▼股▲分▼有限公司 White thermosetting resin composition, cured product thereof, and display member using the same
US9403983B2 (en) 2014-06-06 2016-08-02 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. White thermosetting silicone resin composition for a light-emitting semiconductor device and a case for installing a light-emitting semiconductor element
JP2017043656A (en) * 2015-08-24 2017-03-02 信越化学工業株式会社 Thermosetting silicone resin composition and optical semiconductor element mounting case using the molded body
JP2018002970A (en) * 2016-07-08 2018-01-11 信越化学工業株式会社 Thermosetting silicone resin composition and optical semiconductor device using the molded body
JP2018107360A (en) * 2016-12-27 2018-07-05 パナソニックIpマネジメント株式会社 Light emitting device
JP2019159140A (en) * 2018-03-14 2019-09-19 信越化学工業株式会社 Heat-curable silicone resin composition for white reflector, and white reflector made of cured product of the same

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