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JP2011028185A - Hydrophilic low reflection member - Google Patents

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JP2011028185A
JP2011028185A JP2009181979A JP2009181979A JP2011028185A JP 2011028185 A JP2011028185 A JP 2011028185A JP 2009181979 A JP2009181979 A JP 2009181979A JP 2009181979 A JP2009181979 A JP 2009181979A JP 2011028185 A JP2011028185 A JP 2011028185A
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JP
Japan
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film
fluoride
low reflection
magnesium hydroxide
low
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Pending
Application number
JP2009181979A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshiaki Sugimoto
敏明 杉本
Tamon Sakamoto
多門 坂本
Hisafumi Takanobu
尚史 高信
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Central Glass Co Ltd
Original Assignee
Central Glass Co Ltd
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Publication date
Application filed by Central Glass Co Ltd filed Critical Central Glass Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a hydrophilic low reflection member having high light transmittance in a wide region of 400-1,200 nm, strong adhesive strength to a base material, excellent weather resistance, hydrophilicity, antifouling property and antistatic function and inexpensive. <P>SOLUTION: The low reflection member has a transparent substrate and a low reflection film formed on the transparent substrate and the low reflection film is a hydrophilic low reflection material containing magnesium fluoride hydroxide ultrafine particle having 5-500 nm particle diameter. Further by adding a metal oxide as a refractive index adjusting agent, transmissivity in a long wave length region is improved and high transparency is exhibited in the wide wave length region of 400-1,200 nm. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

この発明は、透明基板(ガラス板等)と、該透明基板上に形成される低反射膜を有する親水性の低反射部材に関する。さらには屈折率調整剤を添加することにより800nm〜1200nmの透過率を改良して、400〜1200nmの幅広い領域で高い透過性を示す低反射部材に関する。   The present invention relates to a hydrophilic low reflection member having a transparent substrate (glass plate or the like) and a low reflection film formed on the transparent substrate. Further, the present invention relates to a low reflection member which improves the transmittance of 800 nm to 1200 nm by adding a refractive index adjusting agent and exhibits high transmittance in a wide region of 400 to 1200 nm.

親水性を有する低反射部材は、太陽電池または電子写真感光体などの表面の保護膜を始めとして、レンズ等の光学材料、陰極線管や液晶表示装置等の画像表示面、複写機、撮像管、LED表示素子、照明、有機EL、窓やショーケース、デジタルカメラ、液晶プロジェクタ等、各種光学機器向けレンズの反射防止膜、自動車のヘッドランプのリフレクタ部材等の板ガラスや透明プラスチック等に好適に用いられる。   The low reflection member having hydrophilicity includes a protective film on the surface of a solar cell or an electrophotographic photosensitive member, an optical material such as a lens, an image display surface such as a cathode ray tube or a liquid crystal display, a copying machine, an imaging tube, LED display elements, lighting, organic EL, windows and showcases, digital cameras, liquid crystal projectors, etc., suitable for use in sheet glass, transparent plastics, etc. for antireflection films for lenses for various optical devices, reflectors for automobile headlamps, etc. .

一般に透明ガラスや透明プラスチックのように、その透明性を利用する基材は、表面での光の反射を防ぐための低反射膜が古くから研究されている。これらの表面反射は、レンズなどの光学用途ではその性能を低下させ、表示装置やショーケース等では電灯光や太陽光の反射が視認性に悪影響を及ぼす。   In general, a low-reflection film for preventing reflection of light on a surface of a base material using the transparency, such as transparent glass and transparent plastic, has been studied for a long time. These surface reflections deteriorate the performance in optical applications such as lenses, and the reflection of electric light or sunlight adversely affects visibility in a display device or a showcase.

特に太陽電池の表面保護膜として使用する場合においては、高い受光効率、すなわち高い光透過率および低い反射率が要求されるうえ、太陽電池は太陽光に常時暴露されるため、耐紫外線性、耐水性、および耐候性等を併せ持つ材料が望まれる。したがって、劣化しにくく長期にわたり性能を維持できるという観点から考えると、樹脂等の有機材料よりも無機系の材料の方が望ましい。   In particular, when used as a surface protection film for solar cells, high light receiving efficiency, that is, high light transmittance and low reflectance is required, and since solar cells are constantly exposed to sunlight, they are resistant to ultraviolet rays and water. A material having both properties and weather resistance is desired. Therefore, from the viewpoint of being able to maintain performance over a long period of time without being deteriorated, an inorganic material is more desirable than an organic material such as a resin.

低反射膜は基材の表面に成膜することで、反射率を低減させるものである。従来、低反射膜の製造において、基板上に高屈折率膜の層と低屈折膜の層とからなる多層膜を作製する方法が用いられてきたが、多層膜を作製するところから製造に多大な時間を要し、また、各薄膜の厚みの精密制御が必要でありしかもその精度が反射率に大きな影響を及ぼすことがあるため、経済的に高価なものとなる欠点があった。このため、最近では、低コストで大面積を作製できる単層の低反射膜の開発が望まれている。   The low reflection film is formed on the surface of the substrate to reduce the reflectance. Conventionally, in the production of a low-reflection film, a method of producing a multilayer film composed of a high refractive index film layer and a low refractive film layer on a substrate has been used. It takes a long time, and precise control of the thickness of each thin film is required, and the accuracy may greatly affect the reflectivity, so that there is a disadvantage that it is economically expensive. For this reason, recently, development of a single-layer low-reflection film capable of producing a large area at low cost has been desired.

薄膜干渉を利用して低反射効果を得る場合、膜の屈折率と厚みが重要となる。基材の屈折率をn、媒体の屈折率をn、光の波長をλとすると、低反射膜が1層の場合、最も反射率が低くなる(理論上0になる)膜の屈折率nはn=(n×n1/2、膜厚dはd=m(nλ/4) (m=1,3,5,…)、で表される。nを空気≒1、一般的な基材の屈折率nを1.4〜1.7とすると、理想的にはn=1.18〜1.30とかなり低い値が求められる。低反射膜を多層にすれば、広範囲の波長で反射防止が可能となるが、スパッタや蒸着装置が必要であり大面積化が困難で、高コストになってしまう欠点があった。 When obtaining a low reflection effect using thin film interference, the refractive index and thickness of the film are important. When the refractive index of the substrate is n s , the refractive index of the medium is n 0 , and the wavelength of light is λ, the refractive index of the film having the lowest reflectance (theoretically 0) is obtained when there is a single low-reflection film. The rate n is represented by n = (n s × n 0 ) 1/2 , and the film thickness d is represented by d = m (nλ / 4) (m = 1, 3, 5,...). When n 0 is air ≈ 1 and the refractive index n s of a general base material is 1.4 to 1.7, ideally a very low value of n = 1.18 to 1.30 is obtained. If the low-reflection film is made multilayer, reflection can be prevented over a wide range of wavelengths, but there is a drawback that a sputtering or vapor deposition apparatus is necessary and it is difficult to increase the area, resulting in high cost.

したがって単層で低コストで低反射にするためには、基材に対して理論屈折率にになるべく近い膜が必要である。   Therefore, in order to achieve low reflection at a low cost with a single layer, a film as close to the theoretical refractive index as possible with respect to the base material is required.

また、微粒子による光の乱反射を利用して低反射効果を得る場合も(いわゆる防眩膜)、この微粒子の屈折率は上記と同様か、媒体との界面反射を抑えるために媒体の屈折率(空気の場合は約1)により近いことが求められる。   Also, in the case of obtaining a low reflection effect by utilizing irregular reflection of light by fine particles (so-called anti-glare film), the refractive index of the fine particles is the same as described above, or the refractive index of the medium (in order to suppress interface reflection with the medium) In the case of air, it is required to be closer to about 1).

このような理由により、無機系の材料として反射防止最外層には低屈折率を有するフッ化マグネシウム(MgF、n=1.38)が良く用いられている。フッ化マグネシウムは蒸着により成膜する方法が主流であったが、コストや作業性の面から、従来の蒸着法ではなく、大面積に適した安価で生産性のよいコーティング法が求められるようになってきている。 For these reasons, magnesium fluoride (MgF 2 , n = 1.38) having a low refractive index is often used for the antireflection outermost layer as an inorganic material. Magnesium fluoride was mainly formed by vapor deposition, but from the viewpoint of cost and workability, instead of the conventional vapor deposition method, an inexpensive and highly productive coating method suitable for large areas is required. It has become to.

これらの要求を満たすべく、大面積に適した安価な反射防止膜としてコーティング膜としては、従来、フッ化マグネシウム微粒子が用いられてきた。フッ化マグネシウムのゾルとしては、マグネシウム塩水溶液にフッ化物水溶液を添加して生成したフッ化マグネシウムゲルを洗浄・濃縮して得られる水性ゾルや、水性ゾルを有機溶剤へ転相して得られるオルガノゾルが知られている(特許文献1、2参照)。また、特許文献3には、有機溶剤中で製造されたフッ化マグネシウムを反応後にオートクレーブなどにより加熱・加圧処理することで、副生物を除去する方法が記載されている。さらに、特許文献4にはフッ化マグネシウムと金属酸化物を含有する耐摩耗性コーティングを有する支持体が開示されている。なお、フッ化マグネシウムの製造においては、フッ化水素は不適であるとの開示がある。   In order to satisfy these requirements, magnesium fluoride fine particles have been conventionally used as a coating film as an inexpensive antireflection film suitable for a large area. Magnesium fluoride sols include aqueous sols obtained by washing and concentrating magnesium fluoride gel produced by adding an aqueous fluoride solution to an aqueous magnesium salt solution, and organosols obtained by phase-shifting an aqueous sol into an organic solvent. Is known (see Patent Documents 1 and 2). Patent Document 3 describes a method of removing by-products by heating and pressurizing a magnesium fluoride produced in an organic solvent after reaction with an autoclave or the like. Further, Patent Document 4 discloses a support having an abrasion-resistant coating containing magnesium fluoride and a metal oxide. In addition, in the manufacture of magnesium fluoride, there is a disclosure that hydrogen fluoride is unsuitable.

また、特許文献5には、フッ化マグネシウム等のフッ化物により被覆されている基材の被覆層表面をプラズマ照射等によって表面改質して親水性を導入した難帯電性光学素子の製造方法が開示されている。また、特許文献6には、多層系の反射防止膜においてフッ化マグネシウム層の直下に二酸化チタン等の光触媒能を有する層を形成することにより、水ヤケを防止した光学体が開示されている。なお、当該引用文献には、フッ化マグネシウムは非親水性であることが開示されている。   Further, Patent Document 5 discloses a method for producing a hard-to-charge optical element in which hydrophilicity is introduced by surface modification of a coating layer surface of a substrate coated with a fluoride such as magnesium fluoride by plasma irradiation or the like. It is disclosed. Further, Patent Document 6 discloses an optical body in which water burn is prevented by forming a layer having photocatalytic activity such as titanium dioxide directly under a magnesium fluoride layer in a multilayer antireflection film. The cited document discloses that magnesium fluoride is non-hydrophilic.

一方、非特許文献1には、CIS薄膜系の薄膜太陽電池および結晶性シリコンが400〜1200nmの幅広い吸収領域を有しており、従来のアモルファスシリコン系と比較して長波長領域の光を吸収することが可能で、その吸収のピークが900nm付近にあることが開示されている。   On the other hand, in Non-Patent Document 1, CIS thin-film solar cells and crystalline silicon have a wide absorption region of 400 to 1200 nm, and absorb light in a longer wavelength region than conventional amorphous silicon-based materials. It is disclosed that the absorption peak is around 900 nm.

特開平7‐69621号公報JP-A-7-69621 特開平2‐26824号公報JP-A-2-26824 国際特許公開公報WO2002/18982号International Patent Publication No. WO2002 / 18982 特表2008−501557号公報Special table 2008-501557 gazette 特開2001−147302号公報JP 2001-147302 A 特開2005−165014号公報JP 2005-165014 A

インターネット<http://www.showashell−solar.co.jp/solasicis/cis.html[平成21年6月22日検索]Internet <http: // www. showshell-solar. co. jp / solasicis / cis. html [Search June 22, 2009]

上記のようにフッ化マグネシウムを低反射膜として使用することは有用であるが、上記特許文献1(特開平7‐69621号公報)や特許文献2(特開平2‐26824号公報)に記載の方法では、水系での合成であり副生塩を限外ろ過を用いて洗浄・濃縮を行っており、生産性やコスト面で問題を抱えている。また、特許文献3(国際特許公開公報WO2002/18982号)の方法は、オートクレーブにて副生する有機物を完全に除去する必要があるため操作が煩雑となる上、副生する有機物の除去が充分でない場合は屈折率の低下が充分でないことが記載されている。特許文献4に記載のものは、コーティング膜の耐摩耗性に優れるものの、薬液であるフッ化マグネシウムと特定の金属酸化物前駆体混合液の保存安定性に問題がある。   Although it is useful to use magnesium fluoride as a low reflection film as described above, it is described in Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 7-69621) and Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 2-26824). In the method, synthesis is carried out in an aqueous system, and by-product salt is washed and concentrated using ultrafiltration, which has problems in terms of productivity and cost. In addition, the method of Patent Document 3 (International Patent Publication WO2002 / 18982) requires complete removal of organic substances produced as a by-product in an autoclave, so that the operation becomes complicated and the removal of organic substances produced as a by-product is sufficient. If not, it is described that the refractive index is not sufficiently lowered. Although the thing of patent document 4 is excellent in the abrasion resistance of a coating film, there exists a problem in the storage stability of the magnesium fluoride which is a chemical | medical solution, and a specific metal oxide precursor liquid mixture.

上記のように光学用途において用いられるフッ化マグネシウム類において、特許文献1〜4に示すように低屈折率を有することによる反射防止機能が求められる一方で、特許文献5で示唆されるように、帯電性防止のために親水性を導入する方法が求められていた。しかしながら、特許文献5のプラズマ照射等によって被覆層表面に生じた水酸基(OH基)は、寿命が短く長期の親水性を発現させることが難しく、製造においてはプラズマ等の設備が必要となり汎用的ではない。   In magnesium fluorides used in optical applications as described above, an antireflection function is required by having a low refractive index as shown in Patent Documents 1 to 4, while, as suggested in Patent Document 5, There has been a demand for a method of introducing hydrophilicity in order to prevent charging. However, the hydroxyl group (OH group) generated on the surface of the coating layer by the plasma irradiation or the like of Patent Document 5 has a short life and it is difficult to express long-term hydrophilicity, and equipment such as plasma is necessary for production. Absent.

特許文献6に示される光学体は、フッ化マグネシウムと酸化チタンの親水性の組合せにより、低発射と防汚性の両方を満たすものであるが、多層膜にかかるものであるから製造に手間がかかるため、単層膜で低屈折性と親水性を満たす部材が求められていた。   The optical body shown in Patent Document 6 satisfies both low emission and antifouling properties due to the hydrophilic combination of magnesium fluoride and titanium oxide, but is troublesome to manufacture because it is a multilayer film. Therefore, a member satisfying low refractive index and hydrophilicity with a single layer film has been demanded.

一方、非特許文献1に示すように、多様な太陽電池において分光感度は例えば、アモルファスシリコンにおいては可視光の580nmを中心に、結晶−Siや化合物半導体においては800〜1200nmの長波側の波長領域を中心に透過する必要がある。太陽電池用途にあっては従来の可視光のみならず長波長領域に対応した、400〜1200nmの幅広い領域における光を透過する低反射膜が求められるようになっている。   On the other hand, as shown in Non-Patent Document 1, the spectral sensitivity of various solar cells is, for example, about 580 nm of visible light in amorphous silicon, and the wavelength region on the long wave side of 800 to 1200 nm in crystal-Si and compound semiconductors. It is necessary to penetrate through the center. For solar cell applications, there is a demand for a low-reflection film that transmits light in a wide range of 400 to 1200 nm, corresponding to not only conventional visible light but also a long wavelength range.

さらに、これらに限らず、フッ化マグネシウムを用いた低反射膜には根本的に以下のような問題がある。
(1) 表面の汚れが目立ちやすい
光学薄膜干渉を利用した低反射膜の場合、汗や油などの一般的な有機物の汚れが付着すると薄膜となって光干渉を起こし光学膜厚が変化して、色が付いて見えるなど光学干渉が起こるので、より汚れが浮き出て目立つ結果となる。
(2)汚れが付着しやすい
また超微粒子からなる薄膜では、汚れを除去することは非常に困難重要であり、汚れの除去には多大の労力を要し、光の散乱を利用した反射防止効果を得る防眩膜の場合も、表面が凹凸であるため、さらに汚れが凹部に入り込み物理的に表面に汚れが付着しやすい。
(3)絶縁体であり静電気を帯びやすい
これらの汚れが付着しやすい原因として、フッ化マグネシウムを用いた低反射膜は基本的に絶縁体でありそのために帯電しやすく、また疎水であることにより汚染物質がすます付着しやすくなり、特に冬季の乾燥時期においてはその傾向が著しい。
Furthermore, the present invention is not limited to these, and the low reflection film using magnesium fluoride has the following problems.
(1) Dirt on the surface is conspicuous In the case of a low-reflection film that uses optical thin film interference, if organic organic dirt such as sweat or oil adheres, it becomes a thin film, causing optical interference and changing the optical film thickness. Since optical interference occurs, such as appearing colored, dirt will appear more prominently.
(2) Dirt easily adheres In addition, it is very difficult to remove dirt with a thin film made of ultrafine particles, and it takes a lot of labor to remove the dirt, and the antireflection effect utilizing light scattering. Also in the case of the antiglare film for obtaining the surface, since the surface is uneven, the dirt further enters the recess, and the dirt tends to physically adhere to the surface.
(3) It is an insulator and is easy to be charged with static electricity. The reason why these stains are likely to be attached is that the low-reflection film using magnesium fluoride is basically an insulator and is therefore easily charged and hydrophobic. Contaminants are more likely to adhere, especially during the dry season of winter.

たとえば、眼鏡やカメラのレンズ等の蒸着したフッ化マグネシウム膜は表面抵抗値が3.9×1012Ω.cmで絶縁体であり、純水接触角は68°で疎水性である。このため汗やホコリで汚れが付着しやすく、汚染しやすいことは自明である。特許文献5にもフッ化物を有する光学素子の表面が帯電しやすく、透過率が低下する旨記載されている。 For example, a deposited magnesium fluoride film such as glasses or a camera lens has a surface resistance value of 3.9 × 10 12 Ω. It is an insulator at cm, and a pure water contact angle of 68 ° is hydrophobic. For this reason, it is obvious that dirt easily adheres due to sweat and dust, and is easily contaminated. Patent Document 5 also describes that the surface of an optical element having a fluoride is easily charged and the transmittance decreases.

したがって、フッ化マグネシウムを用いた低反射膜は太陽電池などで屋外暴露使用においては、風雨や紫外線に曝されるほか、砂塵、鳥の糞、排ガス等の無機・有機物に常時曝され、長期にわたって汚染物質が堆積付着しやすくなり、太陽光を遮り発電効率の低下を招くため好ましくない。
(4) 基材との接着強度が弱い。
フッ化マグネシウムに限らずフッ化物は化学的に安定であるので、例えばガラス基板上に成膜して、ある程度の温度で焼成しても基板と化学結合を形成し難い。またフッ化マグネシウムはモース硬度が6程度で、硬度はそれほど大きくなくそのため、耐摩耗性に劣り、膜がはがれやすいという問題がある。
Therefore, the low-reflective coating using magnesium fluoride is exposed to wind and rain and ultraviolet rays as well as solar cells, etc., and is always exposed to inorganic and organic matter such as sand dust, bird droppings, and exhaust gas. It is not preferable because the pollutant easily deposits and adheres to the solar light and causes a decrease in power generation efficiency.
(4) Adhesive strength with the substrate is weak.
Since fluoride is not limited to magnesium fluoride, it is chemically stable. Therefore, it is difficult to form a chemical bond with a substrate even if the film is formed on a glass substrate and baked at a certain temperature. Magnesium fluoride has a Mohs hardness of about 6, and the hardness is not so high. Therefore, there is a problem that the abrasion resistance is poor and the film is easily peeled off.

公知技術によってこれらの問題を解決しているものはなく、高い光透過率および低い反射率を有し、基材との接着強度が強く、耐候性に優れ、親水性で防汚性がよく、帯電防止機能を有し、しかも大面積化が可能でコスト的に安価なな低反射膜が求められていた。特に最近の化合物系半導体および結晶性シリコンや化合物系半導体を用いた太陽電池においては、可視光領域ばかりでなく、特に400〜1200nmの幅広い領域での光透過性が求められている。本発明は、かかる低反射膜を提供することを課題とする。   None of these problems have been solved by known techniques, having high light transmittance and low reflectance, strong adhesion to the substrate, excellent weather resistance, hydrophilic and antifouling properties, There has been a demand for a low-reflective film that has an antistatic function, can be enlarged in area, and is inexpensive in cost. Particularly in recent solar cells using compound semiconductors and crystalline silicon or compound semiconductors, not only the visible light region but also light transmittance in a wide region of 400 to 1200 nm is required. An object of the present invention is to provide such a low reflection film.

本出願人らは、かかる課題を解決するため鋭意検討したところ、低反射膜の構成成分として、低反射性を有するけれども非親水性であるフッ化マグネシウムの代替に、分子中に水酸基を有する水酸化フッ化マグネシウム超微粒子を用いることにより、良好な低反射性(屈折率n=1.22〜1.29)を有するばかりでなく、優れた親水性を発現することが可能となり、防汚性、自浄性、帯電防止性に優れた低反射膜が得られることを見出した。   The present applicants have intensively studied to solve such problems, and as a constituent of the low reflection film, water having a hydroxyl group in the molecule is substituted for magnesium fluoride which has low reflectivity but is not hydrophilic. By using magnesium oxyfluoride ultrafine particles, not only has good low reflectivity (refractive index n = 1.2-1.29), but also can exhibit excellent hydrophilicity and antifouling property The present inventors have found that a low reflection film excellent in self-cleaning property and antistatic property can be obtained.

さらに、上記水酸化フッ化マグネシウム超微粒子に「屈折率調整剤」として特定の金属酸化物を混合することにより、水酸化フッ化マグネシウムの超微粒子に金属酸化物をナノオーダーで均一に分散させることができ、400nm〜1200nmの幅広い領域で透過性のよい無色透明の耐久性のある光学薄膜を得ることを見出し、本発明に到達した。   Furthermore, by mixing a specific metal oxide as a “refractive index modifier” with the magnesium hydroxide fluoride ultrafine particles, the metal oxide can be uniformly dispersed in nanoorder order on the magnesium hydroxide fluoride ultrafine particles. It was found that a colorless and transparent optical thin film having good transparency in a wide range of 400 nm to 1200 nm was obtained, and the present invention was achieved.

また、屈折率調整剤として、酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化アンチモン等の帯電防止能力がある金属酸化物を用いることにより、親水性低反射部材にさらに表面抵抗値が1×1010Ω.cm以下の帯電防止機能を付与することができることを見出し、本発明に到達した。 Further, by using a metal oxide having antistatic ability such as tin oxide, indium oxide, zinc oxide, antimony oxide, etc. as a refractive index adjusting agent, the surface resistance value is further 1 × 10 10 Ω in the hydrophilic low reflection member. . The inventors have found that an antistatic function of cm or less can be imparted, and have reached the present invention.

すなわち、本発明は、以下の発明1〜11を含む。
「発明1」
透明基板と、該透明基板上に形成される低反射膜を有する低反射部材であって、該低反射膜が、粒子径5〜500nmの水酸化フッ化マグネシウム超微粒子を含むことにより親水性を発現することを特徴とする親水性低反射部材。
「発明2」
水酸化フッ化マグネシウムが、MgF2−x(OH)(x=0.01〜0.5)であることを特徴とする、発明1に記載の親水性低反射部材。
「発明3」
水酸化フッ化マグネシウムが、MgF1.89(OH)0.11であることを特徴とする発明1または2に記載の親水性低反射部材。
「発明4」
さらに、屈折率調整剤として、金属酸化物を混合してなる発明1乃至3のいずれかに記載の親水性低反射部材。
「発明5」
親水性低反射膜中の水酸化フッ化マグネシウムと金属酸化物のモル比が、水酸化フッ化マグネシウム10モルあたり、(10/0.5)〜(10/30)の範囲であることを特徴とする発明4に記載の親水性低反射部材。
「発明6」
金属酸化物が、SiO、Al、CeO、ZrO、TiO2、SnO、In、Sb、Laから選ばれた1種または2種以上であることを特徴とする発明4乃至5のいずれかに記載の親水性低反射膜。
「発明7」
水酸化フッ化マグネシウム超微粒子と金属化合物を加水分解した溶液を透明基板表面に成膜した発明4乃至6のいずれかに記載の親水性低反射部材。
「発明8」
波長400〜1200nmにおける平均透過率の差(処理後の透過率−未処理の透過率)6%以上である発明4乃至7のいずれかに記載の低反射部材。
「発明9」
親水性低反射膜表面での水との接触角が30°以下であることを特徴とする発明1乃至8のいずれかに記載の親水性低反射部材。
「発明10」
親水性低反射膜表面の表面抵抗値が1×1010Ω.cm以下であることを特徴とする発明1乃至8のいずれかに記載の親水性低反射部材。
「発明11」
発明4乃至9のいずれかに記載の親水性低反射部材を用いた太陽電池用表面保護部材。
That is, this invention includes the following inventions 1-11.
"Invention 1"
A low-reflection member having a transparent substrate and a low-reflection film formed on the transparent substrate, wherein the low-reflection film contains hydrophilic magnesium hydroxide fluoride particles having a particle diameter of 5 to 500 nm. A hydrophilic low-reflective member characterized by being expressed.
"Invention 2"
The hydrophilic low reflection member according to the invention 1, wherein the magnesium hydroxide fluoride is MgF2 -x (OH) x (x = 0.01 to 0.5).
"Invention 3"
The hydrophilic low reflection member according to invention 1 or 2, wherein the magnesium hydroxide fluoride is MgF 1.89 (OH) 0.11 .
"Invention 4"
Furthermore, the hydrophilic low reflection member in any one of the invention 1 thru | or 3 formed by mixing a metal oxide as a refractive index regulator.
"Invention 5"
The molar ratio of magnesium hydroxide fluoride and metal oxide in the hydrophilic low reflection film is in the range of (10 / 0.5) to (10/30) per 10 moles of magnesium hydroxide fluoride. The hydrophilic low-reflection member according to the invention 4 described above.
"Invention 6"
The metal oxide is one or more selected from SiO 2 , Al 2 O 3 , CeO 2 , ZrO 2 , TiO 2, SnO 2 , In 2 O 3 , Sb 2 O 5 , La 2 O 3. The hydrophilic low reflection film according to any one of Inventions 4 to 5, wherein the hydrophilic low reflection film is provided.
"Invention 7"
The hydrophilic low-reflection member according to any one of Inventions 4 to 6, wherein a solution obtained by hydrolyzing magnesium hydroxide fluoride ultrafine particles and a metal compound is formed on a transparent substrate surface.
"Invention 8"
The low reflection member according to any one of Inventions 4 to 7, wherein a difference in average transmittance at a wavelength of 400 to 1200 nm (transmittance after treatment-untransmitted transmittance) is 6% or more.
"Invention 9"
The hydrophilic low reflection member according to any one of inventions 1 to 8, wherein a contact angle with water on the surface of the hydrophilic low reflection film is 30 ° or less.
"Invention 10"
The surface resistance value of the hydrophilic low reflection film surface is 1 × 10 10 Ω. The hydrophilic low-reflective member according to any one of Inventions 1 to 8, wherein the hydrophilic low-reflection member is equal to or less than cm.
"Invention 11"
The surface protection member for solar cells using the hydrophilic low reflection member in any one of invention 4 thru | or 9.

低屈折率で親水性・耐久性に優れた水酸化フッ化マグネシウムの超微粒子を有する低反射膜を透明基材上に形成することにより、優れた性能を持つ親水性低反射部材を得ることが出来る。親水性を持つことから、防汚性に優れ、汚れが付着した場合も容易に洗い流すことが出来る。また、本発明の低反射部材は可視光のみならず近赤外光の長波長領域までの幅広い透過性を有し、特に400〜1200nm領域の透過性に優れるため、太陽電池用保護部材として有用である。   It is possible to obtain a hydrophilic low-reflection member having excellent performance by forming a low-reflection film having ultrafine particles of magnesium hydroxide fluoride fluoride having a low refractive index and excellent hydrophilicity and durability on a transparent substrate. I can do it. Since it has hydrophilicity, it is excellent in antifouling property and can be easily washed away even when dirt adheres. In addition, the low reflection member of the present invention has a wide transmittance up to a long wavelength region of not only visible light but also near infrared light, and is particularly excellent as a transmittance in the 400 to 1200 nm region, and thus is useful as a protective member for solar cells. It is.

実施例1でガラス基板に成膜した被膜の透過スペクトルTransmission spectrum of the film formed on the glass substrate in Example 1 比較例2でガラス基板に成膜した被膜の透過スペクトルTransmission spectrum of the film formed on the glass substrate in Comparative Example 2

本発明は、透明基板と、該透明基板上に形成される低反射膜を有する低反射部材であって、該低反射膜が、粒子径5〜500nmの水酸化フッ化マグネシウム超微粒子を含むことにより親水性を発現することを特徴とする親水性低反射部材である。   The present invention is a low reflection member having a transparent substrate and a low reflection film formed on the transparent substrate, wherein the low reflection film contains magnesium hydroxide fluoride ultrafine particles having a particle diameter of 5 to 500 nm. It is a hydrophilic low reflection member characterized by expressing hydrophilicity.

本発明で用いる水酸化フッ化マグネシウムは、低屈折率(1.22〜1.29)であり、さらに水酸基を有することにより親水性を発現するので、「低反射」でありかつ「親水性」である親水性低反射機能を有する。さらに当該水酸基を結合部位として用いることも可能である。水酸化フッ化マグネシウムの微粒子を基板ガラス上に成膜し、透過率を測定したところ、紫外から可視領域においては概ね基板ガラスより5〜8%の高い透過率を有する優れた光学特性を示すことが認められた。特に550nm付近の可視光の領域で低屈折率であり、高い透過率をもたらす。しかしながら、近赤外(800〜1200nm)の長波長では透過率はかなり低減し、未処理ガラスより2〜3%程度高いのみであり、幅広い波長領域での低反射膜を製造するには改良の余地がある。   Magnesium hydroxide fluoride used in the present invention has a low refractive index (1.22 to 1.29), and also exhibits hydrophilicity by having a hydroxyl group. Therefore, it is “low reflection” and “hydrophilic”. It has a hydrophilic low reflection function. Furthermore, the hydroxyl group can be used as a binding site. When magnesium hydroxide fluoride fine particles are formed on a substrate glass and the transmittance is measured, the optical properties of the optical fiber having a transmittance of about 5 to 8% higher than that of the substrate glass are shown in the ultraviolet to visible region. Was recognized. In particular, it has a low refractive index in the visible light region near 550 nm and provides high transmittance. However, the transmissivity is considerably reduced at long wavelengths in the near infrared (800 to 1200 nm), and is only about 2 to 3% higher than that of untreated glass. This is an improvement for producing a low reflection film in a wide wavelength region. There is room.

本発明は、ゾルゲル法により上記水酸化フッ化マグネシウム微粒子に特定の金属酸化物を屈折率調整剤として混合することにより、紫外から可視部の透過性に優れる水酸化フッ化マグネシウムの長波長領域の透過性を改良したものである。混合においては水酸化フッ化マグネシウムならではの特徴を利用して親水性低反射膜を構築した。以下に詳細を示す。   In the present invention, by mixing a specific metal oxide as a refractive index adjusting agent into the magnesium hydroxide fluoride fine particles by the sol-gel method, the long wavelength region of magnesium hydroxide fluoride excellent in transparency from the ultraviolet to the visible region is obtained. The permeability is improved. In mixing, a hydrophilic low-reflection film was constructed utilizing the unique characteristics of magnesium hydroxide fluoride. Details are shown below.

一般に、金属酸化物は、光学特性を有するコーティング膜として有用であるが、それぞれの屈折率は必ずしも低くない。たとえば金属酸化物単独膜の屈折率(文献値)は低い順にシリカ1.45、アルミナ:1.61、酸化スズ:1.68、酸化ジルコニウム:1.86、酸化チタン:2.15、五酸化タンタル:2.3があげられる。これらの値より、シリカ、アルミナ等、屈折率の比較的低い金属酸化物は光学用途にも適応可能であると思われる。シリカ単独のコーティング膜は、全波長で基板ガラスよりやや高い透過率を示すが、長波長領域で特に高い透過率を有するわけではない。   In general, metal oxides are useful as coating films having optical properties, but their respective refractive indexes are not necessarily low. For example, the refractive index (document value) of a metal oxide single film is 1.45 in order of silica, alumina: 1.61, tin oxide: 1.68, zirconium oxide: 1.86, titanium oxide: 2.15, pentoxide. Tantalum: 2.3. From these values, it seems that metal oxides having a relatively low refractive index, such as silica and alumina, can be applied to optical applications. The coating film of silica alone shows a slightly higher transmittance than the substrate glass at all wavelengths, but does not have a particularly high transmittance in the long wavelength region.

一方、屈折率が大きい金属化合物の場合は、光学用途に用いる低反射膜として用いるのは問題がある。屈折率の大きい金属酸化物の酸化ジルコニウムや、五酸化タンタル、酸化チタン等を単独でガラス基板に成膜した場合は、550℃の高温焼成すると、屈折率がほぼ理論値の1.85〜2.2を示し、この膜はガラス基板(8%)より高い反射率(10〜20%)を示す。すなわち、低反射膜にはとうてい利用できるものではなかった。なお、これらの膜をXRD回折で測定したところ、金属酸化物の結晶化が認められた。   On the other hand, in the case of a metal compound having a large refractive index, there is a problem in using it as a low reflection film used for optical applications. When a metal oxide having a large refractive index, such as zirconium oxide, tantalum pentoxide, or titanium oxide, is formed alone on a glass substrate, the refractive index is approximately 1.85 to 2 at a theoretical value when baked at a high temperature of 550 ° C. This film shows a higher reflectance (10-20%) than a glass substrate (8%). That is, the low reflection film was not usable at all. When these films were measured by XRD diffraction, crystallization of the metal oxide was observed.

当該金属酸化物の2種以上の混合についても、透過性に問題があり、TiO/SiO酸化系のコーティング膜したガラス基板は、400〜1200nmにおいて、未処理のガラス基板よりも低い透過性を示した(比較例2参照)。 The mixing of two or more of the metal oxides also has a problem in permeability, and a glass substrate coated with a TiO 2 / SiO 2 oxidation system has a lower permeability than an untreated glass substrate at 400 to 1200 nm. (See Comparative Example 2).

このように、酸化スズ、酸化チタン、酸化ジルコニウムおよび五酸化タンタル等のガラスより屈折率の高い金属酸化物は、長波長領域においても透過性に劣るため、水酸化フッ化マグネシウムと当該金属酸化物を混合させることは、通常では行わない組合せであるが、本発明者らが試みに数種類の金属酸化物を水酸化フッ化マグネシウムと適宜混合してみたところ、組合せによっては、長波長領域の透過率が高くなることが判った。さらに驚くべきことに、成膜後の焼成においてこれらの混合物は、被膜中に非晶質の状態で存在することを発見した。事実、焼成後の被膜をXRDで回折したところ、水酸化フッ化マグネシウムのピークが主体で他の金属酸化物は結晶がほとんど認められず非晶質の状態であった。この非晶質の状態が屈折率の上昇を抑制しているものと推定される。この現象は、水酸化フッ化マグネシウムと混合する金属酸化物の種類が増えるとより顕著な傾向であった。   As described above, metal oxides having a higher refractive index than glass such as tin oxide, titanium oxide, zirconium oxide, and tantalum pentoxide are inferior in permeability even in a long wavelength region. However, when the present inventors tried to mix several kinds of metal oxides with magnesium hydroxide fluoride as appropriate, depending on the combination, transmission in the long wavelength region was not performed. The rate was found to be high. More surprisingly, it has been discovered that upon firing after deposition, these mixtures exist in an amorphous state in the coating. In fact, when the film after firing was diffracted by XRD, the peak of magnesium hydroxide fluoride was the main component, and the other metal oxides were in an amorphous state with almost no crystals. It is presumed that this amorphous state suppresses the increase in refractive index. This phenomenon was more prominent as the number of metal oxides mixed with magnesium hydroxide fluoride increased.

すなわち、水酸化フッ化マグネシウムゾルと金属酸化物ゾルを数種類以上適宜混合した系の成膜において、高温焼成すると金属酸化物ゾルが混合状態では結晶化が抑制されることにより、一部は非晶質のまま存在すると推定され、屈折率が上昇せずより好ましい結果となった。   That is, in the film formation of a system in which several kinds of magnesium hydroxide fluoride sol and metal oxide sol are appropriately mixed, crystallization is suppressed in the mixed state when the metal oxide sol is mixed at a high temperature, and partly amorphous. It was presumed that the material remained as it was, and the refractive index did not increase.

水酸化フッ化マグネシウムを含まない系では、結晶化してしまう金属酸化物であっても、水酸フッ化マグネシウム共存下では非晶質で存在するため、当該金属酸化物の屈折率は結晶化した場合と比較して低く抑える事が可能となる。この特徴によりジルコニウムやチタン、タンタルの様な高屈折率の酸化物さえも屈折率調整剤として使用できることを見出した。この非晶質化は、水酸化フッ化マグネシウムを使用することでもたらされる大きな特徴の一つである。   In a system that does not contain magnesium hydroxide fluoride, even if it is a metal oxide that crystallizes, it exists in an amorphous state in the presence of magnesium hydroxide fluoride, so the refractive index of the metal oxide is crystallized. It becomes possible to keep it low compared to the case. By this feature, it has been found that even a high refractive index oxide such as zirconium, titanium, or tantalum can be used as a refractive index adjusting agent. This amorphization is one of the major characteristics brought about by using magnesium hydroxide fluoride.

これらの知見に基づき、本発明者等は、水酸化フッ化マグネシウムに屈折率調整剤として金属酸化物を混合して、幅広い波長領域における高い透過率を与える組合せの最適化を図った。   Based on these findings, the present inventors have mixed a metal oxide as a refractive index adjusting agent with magnesium hydroxide fluoride to optimize the combination that gives high transmittance in a wide wavelength region.

前述のように、水酸化フッ化マグネシウムの屈折率は1.22〜1.29であり、汎用のフッ化マグネシウムの理論値(1.38)より約0.1低い値である。したがって、金属酸化物の添加において、高屈折率の金属酸化物を添加をする場合においても、許容できる範囲が大きくなり有利である。   As described above, the refractive index of magnesium hydroxide fluoride is 1.22-1.29, which is about 0.1 lower than the theoretical value (1.38) of general-purpose magnesium fluoride. Therefore, even when a metal oxide having a high refractive index is added, the allowable range is increased, which is advantageous.

また、前述のように、水酸化フッ化マグネシウムは550nmにおける透過率が高いので、金属酸化物との混合において同様に550nmをピークとする透過曲線を与えるものと類推されるが、実際に金属酸化物と混合すると最大透過率のピークはやや長波長側にシフトして、それに伴い長波長領域の透過率が高くなる傾向にある。酸化物単独の場合には特に長波長側の透過率が高くなかったアルミナ(n=1.61)についても、600〜800nmの領域においての透過率の改善が認められた。   Further, as described above, since magnesium hydroxide fluoride has a high transmittance at 550 nm, it can be analogized that when mixed with a metal oxide, a transmission curve having a peak at 550 nm is similarly given. When mixed with a product, the peak of the maximum transmittance slightly shifts to the longer wavelength side, and accordingly, the transmittance in the long wavelength region tends to increase. In the case of the oxide alone, especially for alumina (n = 1.61) whose transmittance on the long wavelength side was not high, an improvement in transmittance in the region of 600 to 800 nm was observed.

また、酸化ジルコニウム(n=1.68)をガラス基板に成膜した場合、透過率は全波長においてガラス基板よりも低い値であったが、水酸化フッ化マグネシウムと酸化ジルコニウムの混合系においては、700〜900nmの領域において透過率の改善が認められた。   In addition, when zirconium oxide (n = 1.68) was formed on a glass substrate, the transmittance was lower than that of the glass substrate at all wavelengths, but in a mixed system of magnesium hydroxide fluoride and zirconium oxide. , An improvement in transmittance was observed in the region of 700 to 900 nm.

このように、水酸化フッ化マグネシウムと各金属化合物についてはそれぞれの相性もあり、組み合わせにおいては、単なる屈折率の単純な平均値にはならない。金属酸化物を水酸化フッ化マグネシウムと混合した場合、その組合わせによって特定の波長範囲の透過率を高める傾向が見られる。当該波長の範囲を厳密に規定することはできないが、金属化合物の屈折率が低い場合は、水酸化フッ化マグネシウムの透過率のピークよりもやや長波長側にシフトする。そして金属酸化物の屈折率が高くなるに従い、さらに長波長側にピークを示すようになる。   As described above, magnesium hydroxide fluoride and each metal compound have compatibility with each other, and in the combination, a simple average value of the refractive index is not obtained. When a metal oxide is mixed with magnesium hydroxide fluoride, the combination tends to increase the transmittance in a specific wavelength range. Although the wavelength range cannot be strictly defined, when the refractive index of the metal compound is low, the wavelength shifts slightly longer than the peak of the transmittance of magnesium hydroxide fluoride. As the refractive index of the metal oxide increases, the peak further appears on the longer wavelength side.

したがって、この性質を利用して、屈折率の異なる数種の金属酸化物を水酸化フッ化マグネシウムと混合した場合、例えば、屈折率の比較的低い金属化合物は可視領域の透過性を、それより屈折率の高い金属酸化物はさらに長い波長領域の透過性を高める傾向にあるので、これらを適宜組み合わせることにより、金属酸化物が屈折率調整剤として働き、幅広い波長で高い透過率を増大させると思われる。   Therefore, by utilizing this property, when several types of metal oxides having different refractive indexes are mixed with magnesium hydroxide fluoride, for example, a metal compound having a relatively low refractive index has a higher transmittance in the visible region. Since metal oxides with a high refractive index tend to increase the transmittance in a longer wavelength region, by combining these appropriately, the metal oxide acts as a refractive index adjuster and increases the high transmittance over a wide range of wavelengths. Seem.

水酸化フッ化マグネシウムとの混合において、屈折率を低く抑えるためには、低い屈折率の金属酸化物の方が高い屈折率のものよりも多く混合させることができる。すなわち、低屈折率のシリカやアルミナ等は比較的多く混合ができ、たとえば水酸化フッ化マグネシウム10モルに対して0.5〜8モル、より好ましくは1〜6モル混合可能である。中屈折率の酸化スズ、酸化イットリウム等は0.5〜7モル、好ましくは1〜5モル混合できる。高屈折率のジルコニア、酸化チタンや五酸化タンタル等では0.5〜6モル、好ましくは1〜4モル混合することが可能である。ここで、混合においては、必ずしも低屈折率のものを多く入れる必要はなく、混合物の屈折率が低く抑えられる範囲になるように適宜調整すればよい。   In mixing with magnesium hydroxide fluoride, in order to keep the refractive index low, a metal oxide having a low refractive index can be mixed more than that having a high refractive index. That is, a relatively large amount of low refractive index silica, alumina or the like can be mixed. For example, 0.5 to 8 mol, more preferably 1 to 6 mol can be mixed with respect to 10 mol of magnesium hydroxide fluoride. Medium refractive index tin oxide, yttrium oxide and the like can be mixed in an amount of 0.5 to 7 mol, preferably 1 to 5 mol. In high refractive index zirconia, titanium oxide, tantalum pentoxide and the like, 0.5 to 6 mol, preferably 1 to 4 mol can be mixed. Here, in mixing, it is not always necessary to add a large amount of low refractive index, and it may be appropriately adjusted so that the refractive index of the mixture can be kept low.

金属酸化物の添加量が多い場合は屈折率が上昇して低反射膜にならないので好ましくない。一方、添加量が低すぎる場合は、水酸化フッ化マグネシウムが主体となるので、550nm可視光付近が透過率が増大するが、800nm以上では透過率の低減が著しいため好ましくない。適宜調整することにより、紫外光、可視光のみならず近赤外光の長波長領域までの幅広い光学マトリックス膜が透過率を大幅に増大せしめることが可能となる。   When the addition amount of the metal oxide is large, the refractive index is increased, and the low reflection film is not obtained. On the other hand, when the addition amount is too low, magnesium hydroxide fluoride is the main component, and thus the transmittance increases near 550 nm visible light. However, when the amount is 800 nm or more, the transmittance is significantly reduced, which is not preferable. By adjusting as appropriate, a wide optical matrix film not only for ultraviolet light and visible light but also for a long wavelength region of near-infrared light can greatly increase the transmittance.

この現象は従来の屈折率の概念の予想に反するもので、3〜5種類の元素を混合した複合膜は、原理は不明だが上記のように個々の元素がある波長範囲の透過率増大化を担い、その波長範囲の透過率を増大させることで、可視光から赤外光にわたり改善するものと思われる。   This phenomenon is contrary to the conventional concept of refractive index, and a composite film containing 3 to 5 kinds of elements has an unknown principle, but increases the transmittance in the wavelength range where each element is present as described above. It seems to improve from visible light to infrared light by increasing the transmittance in that wavelength range.

蒸着やスパッタでは3〜5種類の混合膜を1回で成膜することは不可能であるが、ゾルゲル法(湿式塗布法)では数種類以上の成分を混合した複合膜を1回の成膜で実現することが可能となった。これは紫外可視、赤外の幅広い応用が期待され、ステッパー、レーザー、有機EL、液晶表示素子、LED、照明器具、レンズ等あらゆる波長の光学機器への応用が可能となることを示唆している。   Although it is impossible to form 3 to 5 types of mixed films at a time by vapor deposition or sputtering, a composite film in which several or more components are mixed can be formed at a time by the sol-gel method (wet coating method). It became possible to realize. This is expected to have a wide range of UV-visible and infrared applications, suggesting that it can be applied to optical devices of all wavelengths such as steppers, lasers, organic EL, liquid crystal display elements, LEDs, lighting fixtures, and lenses. .

またこれらの金属酸化物を混合することにより、金属酸化物が基板中の酸化物と結合するために、被膜強度の増大化により、耐摩耗性が著しく改善されるという効果も奏する。   In addition, by mixing these metal oxides, the metal oxides are bonded to the oxides in the substrate, so that the wear resistance is remarkably improved by increasing the film strength.

本発明において、水酸化フッ化マグネシウム10モルに対する金属酸化物を添加する範囲は、金属酸化物Mとの比(モル比)であらわすと、(水酸化フッ化マグネシウム/M)=(10/0.5)〜(10/30)が好ましく、特に(10/1)〜(10/2.5)が好ましい。(10/0.5)より大きいと水酸化フッ化マグネシウムが主体で被膜強度は劣るため好ましくない。また、(10/30)未満ではフッ化マグネシウムと混合すると薬液は不安定になり、数日でゲル化してしまうため好ましくない。   In the present invention, the range in which the metal oxide is added with respect to 10 mol of magnesium hydroxide fluoride is expressed by the ratio (molar ratio) with the metal oxide M, (magnesium hydroxide fluoride / M) = (10/0). .5) to (10/30) are preferable, and (10/1) to (10 / 2.5) are particularly preferable. If it is larger than (10 / 0.5), it is not preferable because magnesium hydroxide fluoride is the main component and the film strength is inferior. Moreover, if it is less than (10/30), when mixed with magnesium fluoride, the chemical becomes unstable and gels in several days, which is not preferable.

したがって、水酸化フッ化マグネシウムと金属酸化物の混合物の屈折率が低く抑えられる範囲であって、且つ、(10/0.5)〜(10/30)の範囲であれば、ゲル化しない薬液を用いて被膜強度も問題ない親水性低反射膜の成膜が可能となる。   Therefore, if the refractive index of the mixture of magnesium hydroxide fluoride and metal oxide is within a range that is within the range of (10 / 0.5) to (10/30), the chemical solution that does not gel. It becomes possible to form a hydrophilic low-reflection film with no problem with the film strength.

上記のように、金属酸化物添加の主たる効果は、水酸化フッ化マグネシウムだけでは改善できない近赤外領域の透過率を増大させるべく、可視光から近赤外の範囲まで相対的に屈折率を低く調整することが可能なことあるが、それらを含めて以下のような効果がある。   As described above, the main effect of the metal oxide addition is that the refractive index is relatively increased from the visible light to the near-infrared range in order to increase the transmittance in the near-infrared region that cannot be improved by magnesium hydroxide fluoride alone. Although it can be adjusted to a low level, the following effects can be achieved including them.

すなわち、金属酸化物添加効果として
[1]水酸化フッ化マグネシウムに添加して屈折率を調整できるので、光学膜厚を任意に変化させることができる。(屈折率調整剤としての効果)
[2]透過率を変化させる。可視光のみならず、紫外や赤外光の幅広い範囲の波長で透過率を上昇させることが可能になる。(透過率の調整)
[3]被膜強度を増大させる(被膜強度の増大)
水酸化フッ化マグネシウムは本来酸化物ではないため、ガラス基板等の基材に結合しないため、膜強度に劣るものである。ここで金属酸化物をある一定量添加すると、水酸化フッ化マグネシウムと混合して、基材と結合するため、被膜強度が増大させるバインダーとしての効能がある。
[4] 金属酸化物を添加することにより、被膜形成後に水酸化フッ化マグネシウムの水酸基が表層に存在して、親水効果を発現させ、かつ親水性を長期に維持させた自己洗浄機能がある。
[5]金属酸化物として、導電性を有する金属酸化物(例えば、SnO、In)を添加することにより、被膜形成後に水酸化フッ化マグネシウムの水酸基と導電性金属酸化物の相乗効果で帯電防止効果が維持され、長期にわたり防汚機能が保持される。
That is, since the refractive index can be adjusted by adding to [1] magnesium hydroxide fluoride as an effect of adding metal oxide, the optical film thickness can be arbitrarily changed. (Effect as a refractive index adjusting agent)
[2] Change the transmittance. It becomes possible to increase the transmittance in a wide range of wavelengths of not only visible light but also ultraviolet and infrared light. (Adjustment of transmittance)
[3] Increasing coating strength (increasing coating strength)
Since magnesium hydroxide fluoride is not an oxide in nature, it does not bond to a base material such as a glass substrate, and therefore has poor film strength. Here, when a certain amount of metal oxide is added, it is mixed with magnesium hydroxide fluoride and bonded to the base material, so that it has an effect as a binder for increasing the film strength.
[4] By adding a metal oxide, there is a self-cleaning function in which the hydroxyl group of magnesium hydrofluoride is present on the surface layer after the coating is formed, to exert a hydrophilic effect and maintain the hydrophilicity for a long time.
[5] By adding a conductive metal oxide (for example, SnO 2 , In 2 O 3 ) as the metal oxide, the synergistic effect of the hydroxyl group of magnesium hydroxide fluoride and the conductive metal oxide after the coating is formed. The antistatic effect is maintained by the effect, and the antifouling function is maintained for a long time.

以下、水酸化フッ化マグネシウム、オルガノゾルの製造工程、金属酸化物についてそれぞれ説明する。   Hereinafter, the magnesium hydroxide fluoride, the manufacturing process of the organosol, and the metal oxide will be described.

本発明で用いる水酸化フッ化マグネシウムは、水酸基を有する化合物である。これは、X線回折のデータにより確認でき、そのX線回折図は、JCPDS file 54−1272の水酸化フッ化マグネシウム(MgF1.89(OH)0.11)と一致することが認められた。水酸化フッ化マグネシウムはアモルファス性を有し、後述のように親水性を示す。 The magnesium hydroxide fluoride used in the present invention is a compound having a hydroxyl group. This can be confirmed by X-ray diffraction data, and the X-ray diffraction pattern was found to be consistent with magnesium hydroxide fluoride (MgF 1.89 (OH) 0.11 ) of JCPDS file 54-1272. . Magnesium hydroxide fluoride has amorphous properties and exhibits hydrophilicity as described later.

このような顕著なアモルファス性は、先行例には記載されていない。特許文献1で示される結晶水を有するフッ化マグネシウム(MgF・nHO)のXRDのスペクトル(特許文献3の図1)も上記参考例1と同様な結晶性のよいピークを示しており、本発明で用いる水酸化フッ化マグネシウムとは大きく異なる。特許文献1に示されるXRDはJCPD file番号の記載がなく、水酸化フッ化マグネシウムとは異なることが判る。 Such remarkable amorphousness is not described in the preceding examples. The XRD spectrum (FIG. 1 of Patent Document 3) of magnesium fluoride (MgF 2 · nH 2 O) having crystal water shown in Patent Document 1 also shows a peak with good crystallinity similar to that of Reference Example 1 above. This is greatly different from the magnesium hydroxide fluoride used in the present invention. XRD shown in Patent Document 1 does not have a JCPD file number and is different from magnesium hydroxide fluoride.

本発明の水酸化フッ化マグネシウムは、ソーダライムガラスに単独で成膜したところ驚くべきことに屈折率が1.26であり、文献値1.38よりもはるかに低い値を示した。これはフッ化マグネシウム(屈折率:1.38)が空気層(屈折率:1.0)を多く含んだ多孔質体からなる被膜と推定されたが、被膜重量と膜厚を精密に測定して被膜の密度を求めたところ、被膜は充分密に充てんした空気層を含まないバルク体であることが判明した。これは水酸化フッ化マグネシウムが従来のフッ化マグネシウムと異なった結晶構造を有すると推察される。   When the magnesium hydroxide fluoride of the present invention was formed alone on soda lime glass, the refractive index was surprisingly 1.26, which was much lower than the literature value of 1.38. This is presumed to be a film made of a porous material in which magnesium fluoride (refractive index: 1.38) contains a large amount of air layer (refractive index: 1.0). When the density of the coating was determined, it was found that the coating was a bulk body that did not contain a sufficiently densely packed air layer. This is presumed that magnesium hydroxide fluoride has a crystal structure different from conventional magnesium fluoride.

水酸化フッ化マグネシウムはガラス基板に対して理論値の1.22に極めて近い値を示した。それゆえ単層膜でも可視光の幅広い範囲で平均可視光反射率が0.05%(550nm)の優れた反射防止特性を示している。一方特許文献1に記載のフッ化マグネシウムに付着水を付加した化合物は屈折率が1.37を示すことから、同じ単層膜で比較した場合は本発明の水酸化フッ化マグネシウムより光学特性は劣る。また、XRDや光学特性の面から判断して、水酸化フッ化マグネシウムと特許文献1に記載のフッ化マグネシウム系化合物は、全く異なった物質といえる。   Magnesium hydroxide fluoride showed a value very close to the theoretical value of 1.22 with respect to the glass substrate. Therefore, even a single layer film has excellent antireflection characteristics with an average visible light reflectance of 0.05% (550 nm) in a wide range of visible light. On the other hand, the compound obtained by adding adhering water to magnesium fluoride described in Patent Document 1 shows a refractive index of 1.37. Therefore, when compared with the same single layer film, the optical characteristics are higher than that of the magnesium hydroxide fluoride of the present invention. Inferior. Judging from the viewpoint of XRD and optical characteristics, it can be said that magnesium hydroxide fluoride and the magnesium fluoride compound described in Patent Document 1 are completely different substances.

上記のように、本発明の水酸化フッ化マグネシウムはフッ化マグネシウムより低屈折率を有しており、低反射膜材料としてより好適である。また、付着水が付加しているのとは異なり、分子中に安定した水酸基を有することから、優れた親水性を発現し、防汚性を示すとともに、汚れが付着した場合も容易に洗い流すことが出来る効果も期待できる。   As described above, the magnesium hydroxide fluoride of the present invention has a lower refractive index than magnesium fluoride and is more suitable as a low reflective film material. In addition, it has a stable hydroxyl group in the molecule, unlike the case where adhering water is added, so it exhibits excellent hydrophilicity, exhibits antifouling properties, and can be easily washed away even when dirt is attached. The effect that can be expected.

また、膜表面が親水性を示すためには、一般には表面が水酸基に覆われていることが望まれる。本発明では、水酸化フッ素化マグネシウムの超微粒子が水酸基を有するので、該水酸基が表面に露出される構造となっている。また、当該超微粒子が水酸基を有することで超微粒子の基材への付着性が向上する。   Moreover, in order for the film | membrane surface to show hydrophilicity, it is generally desired that the surface is covered with the hydroxyl group. In the present invention, since the ultrafine particles of magnesium hydroxide fluorinated magnesium have a hydroxyl group, the hydroxyl group is exposed on the surface. Further, since the ultrafine particles have a hydroxyl group, adhesion of the ultrafine particles to the base material is improved.

該超微粒子は単純な水酸化物よりは水酸基が少ないが、親水性は十分にあることが検討の結果明らかになった。さらに、本発明の水酸化フッ素化マグネシウムは単純な水酸化物よりも化学的に安定であるため、該超微粒子による親水膜を具備した低反射部材は、長期使用の信頼性に優れていると考えられる。   As a result of examination, the ultrafine particles have fewer hydroxyl groups than simple hydroxides but are sufficiently hydrophilic. Furthermore, since the magnesium hydroxide fluorinated magnesium of the present invention is chemically more stable than a simple hydroxide, the low reflective member having a hydrophilic film made of the ultrafine particles is excellent in reliability for long-term use. Conceivable.

本発明における水酸化フッ素化マグネシウムは、マグネシウム原料を分散・懸濁又は溶解した溶液に、フッ化水素水溶液を滴下することで、マグネシウム原料のフッ素化及び水酸化とともに超微粒子化されたものが使用出来る。   The fluorinated magnesium hydroxide used in the present invention is obtained by adding a hydrogen fluoride aqueous solution dropwise to a solution in which the magnesium raw material is dispersed, suspended, or dissolved, so that the magnesium raw material is made into ultrafine particles together with the fluorination and hydroxylation of the magnesium raw material. I can do it.

前記マグネシウム原料としては、塩化マグネシウム、酸化マグネシウム、炭酸マグネシウムなどの無機化合物が好適に用いられる。マグネシウムアルコキシド、カルボン酸マグネシウムなど、有機系の化合物を用いることも可能であるが、有機系マグネシウム化合物を用いた場合は、生成する水酸化マグネシウムゾルの粘度が増粘する傾向にあるため、無機化合物の方が好ましく、後述する副生成物の除去の関係で塩化マグネシウム、炭酸マグネシウムがより好ましい。   As the magnesium raw material, inorganic compounds such as magnesium chloride, magnesium oxide and magnesium carbonate are preferably used. It is possible to use organic compounds such as magnesium alkoxide and magnesium carboxylate, but when organic magnesium compounds are used, the viscosity of the resulting magnesium hydroxide sol tends to increase, so inorganic compounds Is preferable, and magnesium chloride and magnesium carbonate are more preferable in terms of removal of by-products described later.

分散媒として用いられる溶媒は有機溶媒が好適に用いられる。反応時にフッ化水素水溶液を添加するため、水と相溶性の高いプロトン性極性有機溶媒がより望ましい。かかる溶媒としては、アルコール類、有機酸などが使用できる。アルコール類としては炭素数が1〜10のアルコール、好ましくは炭素数が1〜4のアルコールまたは炭素数2〜20グリコールエーテル類である。炭素数が1〜4のアルコールの例として、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、sec−ブチルアルコール、tert−ブチルアルコールが挙げられ、炭素数2〜20のグリコールエーテル類としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。その中でも、アルコール類としては、メタノール、エタノール、イソプロパノールが好ましく、グリコールエーテルとしては、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルなどが好ましい。   An organic solvent is preferably used as the solvent used as the dispersion medium. Since an aqueous hydrogen fluoride solution is added during the reaction, a protic polar organic solvent highly compatible with water is more desirable. As such a solvent, alcohols, organic acids and the like can be used. The alcohol is an alcohol having 1 to 10 carbon atoms, preferably an alcohol having 1 to 4 carbon atoms or a glycol ether having 2 to 20 carbon atoms. Examples of alcohols having 1 to 4 carbon atoms include methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butyl alcohol, isobutyl alcohol, sec-butyl alcohol, and tert-butyl alcohol, and glycols having 2 to 20 carbon atoms. Examples of ethers include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, and dipropylene glycol monomethyl ether. Can be mentioned. Among these, methanol, ethanol, and isopropanol are preferable as alcohols, and diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, and the like are preferable as glycol ethers.

以下、本発明で用いる水酸化フッ化マグネシウム超微粒子を含有するオルガノゾルを例に説明する。本製造方法は、以下の(a)、(b)、(c)の3工程からなる。   Hereinafter, an organosol containing magnesium hydroxide fluoride ultrafine particles used in the present invention will be described as an example. This manufacturing method includes the following three steps (a), (b), and (c).

(a)有機溶媒にマグネシウム化合物が分散、懸濁、もしくは溶解してなる溶液に、フッ化水素酸を含む溶液を徐々に滴下し、水酸化フッ化マグネシウム超微粒子を徐々に生成させる工程
(b)副生成物あるいは過剰のフッ化水素を除去する工程
(c)(b)工程で得られるゾルの溶媒置換あるいは溶媒濃度を調整してオルガノゾルとする工程
工程(a)において、マグネシウム化合物の粒子の大きさは、分散液または懸濁液を形成できるものであればよく、例えば、平均粒径が0.1〜800μm、好ましくは、0.3〜500μmのものを使用してもよい。この平均粒径は、JIS K1150(1994年)に準拠して測定されたものが適用される。
(A) A step of gradually producing magnesium hydroxide fluoride ultrafine particles by gradually dropping a solution containing hydrofluoric acid into a solution in which a magnesium compound is dispersed, suspended or dissolved in an organic solvent.
(B) Step of removing by-product or excess hydrogen fluoride (c) Step of solvent substitution or adjustment of solvent concentration of sol obtained in step (b) to form organosol In step (a), the magnesium compound The size of the particles is not particularly limited as long as it can form a dispersion or suspension. For example, particles having an average particle size of 0.1 to 800 μm, preferably 0.3 to 500 μm may be used. The average particle diameter is measured in accordance with JIS K1150 (1994).

また、懸濁液中のマグネシウム化合物の含有量は、例えば、0.01〜5mol/L、好ましくは、0.05〜2mol/Lとされる。含有量が少ないと、水酸化フッ化マグネシウム超微粒子の生産効率が低いものとなりやすい。他方、含有量が多いと、懸濁液とフッ化水素酸を含む溶液との混合の際に瞬時にゲル化がおこり混合液の粘度が急上昇してマグネシウム化合物とフッ化水素との反応が均一に進行しづらくなり好ましくない。   Moreover, content of the magnesium compound in suspension is 0.01-5 mol / L, for example, Preferably, it is 0.05-2 mol / L. If the content is low, the production efficiency of magnesium hydroxide fluoride ultrafine particles tends to be low. On the other hand, if the content is large, gelation occurs instantaneously when the suspension and the solution containing hydrofluoric acid are mixed, and the viscosity of the mixed solution rises rapidly, resulting in a uniform reaction between the magnesium compound and hydrogen fluoride. It is not preferable because it is difficult to proceed.

フッ化水素酸を含む溶液のフッ化水素の濃度は、5〜60重量%、好ましくは10〜58重量%とすることが好ましい。フッ化水素酸の濃度が低いと、水酸化フッ化マグネシウム超微粒子の生産効率が低くなる傾向がある。他方、フッ化水素酸の濃度が高いと、反応系内に急激にコロイドが生成してゲル化する場合があり、水酸化フッ化マグネシウム超微粒子の形成を阻害するため好ましくない。   The concentration of hydrogen fluoride in the solution containing hydrofluoric acid is 5 to 60% by weight, preferably 10 to 58% by weight. When the concentration of hydrofluoric acid is low, the production efficiency of the magnesium hydroxide fluoride ultrafine particles tends to be low. On the other hand, if the concentration of hydrofluoric acid is high, colloids may be rapidly formed in the reaction system and gelled, which is not preferable because it inhibits the formation of magnesium hydroxide fluoride ultrafine particles.

フッ化水素酸を含む溶液は、フッ化水素酸に水、メタノール、アルコール、イソプロパノール等の低級アルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸イソプロピルなどのエステル類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類を溶媒として添加することにより調製できる。   Solutions containing hydrofluoric acid include hydrofluoric acid, water, lower alcohols such as methanol, alcohol and isopropanol, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, esters such as ethyl acetate and isopropyl acetate, diethyl ether and tetrahydrofuran, etc. The ethers can be added as a solvent.

マグネシウムに対するフッ素原子の割合を大きくしても充分な親水性を発現するので、フッ素原子の特性も付与するためには、フッ素原子の割合が高くなるように調整されることが好ましい。したがって、マグネシウム化合物とフッ化水素との混合割合は、マグネシウム化合物がすべて消費される条件で混合することができる。マグネシウム化合物に添加するフッ化水素のモル数は、Mgのモル数に価数2を掛けた数の1〜2倍とし、好ましくは、1〜1.5倍、より好ましくは1〜1.2倍とする。副原料として、他の金属化合物(例えば後述のカルシウム化合物)を含む場合は、マグネシウムおよび各金属化合物のモル数に価数を乗じて得られた数値の合計を基準に上記の範囲が好ましい。反応後のpHを1〜4の範囲に調整する。   Even if the ratio of fluorine atoms to magnesium is increased, sufficient hydrophilicity is exhibited. Therefore, in order to impart the characteristics of fluorine atoms, it is preferable to adjust the ratio of fluorine atoms to be high. Therefore, the mixing ratio of the magnesium compound and hydrogen fluoride can be mixed under the condition that all the magnesium compound is consumed. The number of moles of hydrogen fluoride added to the magnesium compound is 1 to 2 times the number of moles of Mg multiplied by the valence number 2, preferably 1 to 1.5 times, more preferably 1 to 1.2 times. Double. When another metal compound (for example, a calcium compound described later) is included as an auxiliary material, the above range is preferable on the basis of the sum of numerical values obtained by multiplying the number of moles of magnesium and each metal compound by the valence. The pH after reaction is adjusted to the range of 1-4.

本反応の反応温度は、通常は、−20℃以上溶媒の沸点以下で行う。具体的には、−20℃〜80℃で行うことができ、好ましくは0℃〜50℃である。反応温度が−20℃よりも低い場合は反応速度が遅くなる上、冷却装置が必要となり好ましくない。また、反応温度が80℃を超える場合は、フッ化水素の沸点が低いため添加直後に揮発してしまい有効に利用されないばかりか、フッ化水素ガスが発生して危険である。また、添加直後に反応が急激に進行してしまい、生成したコロイドが局部凝集あるいはゲルとなってしまい好ましくない。   The reaction temperature for this reaction is usually from −20 ° C. to the boiling point of the solvent. Specifically, it can be performed at −20 ° C. to 80 ° C., preferably 0 ° C. to 50 ° C. When the reaction temperature is lower than −20 ° C., the reaction rate becomes slow and a cooling device is required, which is not preferable. On the other hand, when the reaction temperature exceeds 80 ° C., the boiling point of hydrogen fluoride is low, so that it volatilizes immediately after the addition and is not used effectively, and hydrogen fluoride gas is generated, which is dangerous. Moreover, the reaction proceeds rapidly immediately after the addition, and the produced colloid becomes a local aggregate or gel, which is not preferable.

反応においては、マグネシウム化合物とフッ化水素の反応を徐々に進行させることもオルガノゾルの均一性を高める効果があり好ましい。具体的には、分散液中の分散質の濃度を低く、フッ化水素の添加速度を遅く、添加するフッ化水素の濃度を低く、有機溶媒中でのフッ化水素の拡散速度を遅く、反応速度を低くする等の方法が好ましい。溶液で反応を行うにあたり、フッ化水素酸を含む溶液を急激に添加した場合は反応が急激に進行し、急激な発熱や、突沸で危険が伴い好ましくない。   In the reaction, it is also preferable to gradually advance the reaction between the magnesium compound and hydrogen fluoride because of the effect of increasing the uniformity of the organosol. Specifically, the concentration of the dispersoid in the dispersion is low, the addition rate of hydrogen fluoride is slow, the concentration of hydrogen fluoride to be added is low, the diffusion rate of hydrogen fluoride in the organic solvent is slow, and the reaction A method such as reducing the speed is preferred. In carrying out the reaction with a solution, when a solution containing hydrofluoric acid is added rapidly, the reaction advances rapidly, and there is a danger due to sudden heat generation or bumping, which is not preferable.

反応系の圧力は特に限定されないが、常圧の近辺で行うのが便利である。具体的には、0.05〜1MPaであり、0.05〜0.5MPaが好ましく、特に圧力調整をしない大気圧状態で行うことで十分である。   The pressure of the reaction system is not particularly limited, but it is convenient to carry out the reaction at around normal pressure. Specifically, it is 0.05-1 MPa, 0.05-0.5 MPa is preferable, and it is enough to perform in the atmospheric pressure state which does not perform pressure adjustment especially.

得られた溶液を工程(b)にて処理することにより、副生成物の除去、あるいはフッ化水素が過剰に添加された場合は未反応のフッ化水素の除去を行うことができる。すなわち、反応溶液を高められた温度、例えば、反応温度以上であって有機溶媒の還流温度以下で30分から100時間程度保持することは、低沸点の副生成分または未反応成分、例えば、塩化水素、フッ化水素、炭酸ガスなどを適度に除去するのに有効である。   By treating the resulting solution in step (b), it is possible to remove by-products or to remove unreacted hydrogen fluoride when hydrogen fluoride is excessively added. That is, holding the reaction solution at an elevated temperature, for example, above the reaction temperature and below the reflux temperature of the organic solvent for about 30 minutes to 100 hours is a low-boiling by-product or an unreacted component such as hydrogen chloride. It is effective for removing hydrogen fluoride, carbon dioxide gas and the like appropriately.

すなわち、室温ないし加温下で溶液を攪拌したり、溶媒の沸点付近でリフラックスさせながら窒素ガスを導入してパージすることにより、低沸点の副生成物あるいは未反応成分、例えば、塩化水素、フッ化水素、炭酸ガスなどを適度に除去するのに有効である。また場合によっては、減圧下で蒸留しながら除去してもよい。低沸点の酸の除去においては、pHが1〜4好ましくは、2〜3になるように調製するのが好ましい。オルガノゾルのpHを1〜4に保持しておくことで、基板塗布時にガラス表面のアルカリ金属,土類金属、ホウ酸、シラノール基と反応して、表層を侵食することで粗面化することにより被膜の接着強度を増大させる。   That is, by stirring the solution at room temperature or under heating or introducing and purging nitrogen gas while refluxing in the vicinity of the boiling point of the solvent, low-boiling by-products or unreacted components such as hydrogen chloride, It is effective for removing hydrogen fluoride, carbon dioxide gas and the like appropriately. In some cases, it may be removed while distillation under reduced pressure. In removing the low-boiling acid, the pH is preferably adjusted to 1 to 4, preferably 2 to 3. By maintaining the pH of the organosol at 1 to 4, by reacting with the alkali metal, earth metal, boric acid, silanol group on the glass surface at the time of coating the substrate, the surface layer is eroded and roughened. Increase the adhesive strength of the coating.

また、残存する酸は、金属アルコキシド等の屈折率調整剤と、水酸化フッ化マグネシウムとの安定性に寄与し、特に酸触媒として働くため、安定した混合液の調製が可能である。   Further, the remaining acid contributes to the stability of the refractive index adjusting agent such as metal alkoxide and magnesium hydroxide fluoride, and particularly acts as an acid catalyst, so that a stable mixed solution can be prepared.

工程(c)では、工程(b)で得られた水酸化フッ化マグネシウム微粒子の溶液の濃度調整あるいは溶媒置換を行う。微粒子濃度を高めるには有機溶媒の除去、例えば、留去、抽出など、微粒子濃度を下げるには溶媒を添加すればよく、溶媒は元の溶媒と同一でも異なってもよい。さらに、用途によっては、溶媒はオルガノゾル製造の際の溶媒から異なる溶媒に変換してもよい。   In step (c), the concentration of the magnesium hydroxide fluoride fine particle solution obtained in step (b) is adjusted or solvent substitution is performed. In order to increase the fine particle concentration, the solvent may be added to lower the fine particle concentration, such as removal of the organic solvent, for example, distillation or extraction, and the solvent may be the same as or different from the original solvent. Further, depending on the application, the solvent may be converted from a solvent used in the production of the organosol to a different solvent.

工程(b)と工程(c)の間に、オルガノゾルを解砕する工程をいれてもよい。オルガノゾルの解砕には、衝撃力によるもの、剪断力によるものが有効であり、通常一次粒子の凝集体として得られるゲルまたはゾルを一次粒子の分散液とすることができ、光学薄膜としての用途などでは特に好ましい。   Between step (b) and step (c), a step of crushing the organosol may be included. For pulverization of organosols, those based on impact force and shear force are effective, and gels or sols that are usually obtained as agglomerates of primary particles can be used as primary particle dispersions. Is particularly preferable.

また、上記の水酸化フッ素化マグネシウムがMgF2−x(OH)(x=0.5〜0.01)であることが望ましい。OH基を持つことにより、単なるフッ化マグネシウムに比べて、基材への密着性及び親水性に優れることとなる。xが0.5を超えると、屈折率が低く抑えられなくなり低反射膜として問題となる可能性がある。他方、0.01未満では、水酸基の数が少なく、親水性が小さくなるとともに、基材への膜の接着強度が低くなる恐れがあり望ましくない。 Moreover, it is desirable that the magnesium hydroxide fluorinated magnesium is MgF2 -x (OH) x (x = 0.5 to 0.01). By having an OH group, the adhesiveness to the base material and the hydrophilicity will be superior to simple magnesium fluoride. If x exceeds 0.5, the refractive index cannot be kept low, which may cause a problem as a low reflection film. On the other hand, if it is less than 0.01, the number of hydroxyl groups is small, the hydrophilicity becomes small, and the adhesive strength of the film to the substrate may be lowered.

その中でも、JCPDS file 54−1272に登録されている水酸化フッ化マグネシウムMgF1.89(OH)0.11が好適に用いられる。この化合物は、原料のマグネシウム化合物にフッ化水素を2倍モルよりも多く滴下した場合であっても生成が認められ、溶液にフッ化水素を残しつつ、MgF1.89(OH)0.11を合成することが可能である。過剰量のフッ化水素を添加してもMgF1.89(OH)0.11が生成することより、何らかの平衡があるものと考えられる。 Among these, magnesium hydroxide fluoride MgF 1.89 (OH) 0.11 registered in JCPDS file 54-1272 is preferably used. This compound was observed to be produced even when hydrogen fluoride was dripped more than twice the molar amount of the raw material magnesium compound, leaving MgF 1.89 (OH) 0.11 while leaving hydrogen fluoride in the solution. Can be synthesized. Even if an excessive amount of hydrogen fluoride is added, MgF 1.89 (OH) 0.11 is generated, and it is considered that there is some equilibrium.

また、上記水酸化フッ化マグネシウム微粒子にフッ化カルシウム微粒子を含んだものを低反射膜の原料に用いてもよい。フッ化カルシウムは、フッ素化水酸化マグネシウムを有する超微粒子の調製時に、カルシウムのアルコキシド化合物、ハロゲン化化合物、オキシハロゲン化化合物、酢酸化合物等の前駆体物質を前記マグネシウム原料と共存させ、フッ化水素水溶液との反応を経て得ることが出来る。   Further, a material containing calcium fluoride fine particles in the magnesium hydroxide fluoride fine particles may be used as a raw material for the low reflection film. Calcium fluoride is prepared by coexisting a precursor material such as an alkoxide compound, halogenated compound, oxyhalogenated compound, and acetic acid compound of calcium with the magnesium raw material when preparing ultrafine particles having fluorinated magnesium hydroxide. It can be obtained through a reaction with an aqueous solution.

フッ化カルシウムの導入量は特に限定されないが、フッ化カルシウムの屈折率は、低反射膜材料として使用可能な値ではあるものの水酸化フッ化マグネシウムよりやや高い値である(n=1.4〜1.43)ため、より低屈折率が求められる場合は導入量は少ないほうが良い。親水性に関しては70重量%以下がより望ましい。   The amount of calcium fluoride introduced is not particularly limited, but the refractive index of calcium fluoride is a value that can be used as a low reflective film material, but is slightly higher than magnesium hydroxide fluoride (n = 1.4 to 1.43) Therefore, when a lower refractive index is required, the introduction amount should be smaller. The hydrophilicity is more preferably 70% by weight or less.

また、前記超微粒子の平均粒径は5〜500nmであることが好ましい。5nm未満では、粒子間の空隙が小さくなりやすく、結果として露出される水酸基数が少ないものとなりやすく、親水性が低くなる恐れがある。他方、500nmを超えると、粒子同士及び粒子との基材への接触点が小さくなり、超微粒子の基材への接着性が低下する恐れがある。   The average particle size of the ultrafine particles is preferably 5 to 500 nm. If it is less than 5 nm, voids between particles tend to be small, and as a result, the number of exposed hydroxyl groups tends to be small, and hydrophilicity may be lowered. On the other hand, if it exceeds 500 nm, the contact point between the particles and the base material becomes small, and the adhesion of the ultrafine particles to the base material may be reduced.

上記のように調製したオルガノゾルに、屈折率調整剤として金属酸化物を混合することにより、長波長領域の屈折率を低くすることができ、結果として低反射性、高透過性を実現できる。   By mixing a metal oxide as a refractive index adjusting agent into the organosol prepared as described above, the refractive index in the long wavelength region can be lowered, and as a result, low reflectivity and high transmittance can be realized.

また、金属酸化物として、導電性を有する金属酸化物(例えばSnO、Snを含むIn(ITO)等)を用いることにより、帯電防止機能を付与することができる。ここで、SnOは半導体であり帯電防止膜としての機能を発現する。ここで、良好な導電性を発現させるには、SnOに同婦剤として数%のSbを添加したり、ZnOにAlをドープさせたり、Inに対しては、同様にSnOを添加したりする。 Further, by using a metal oxide having conductivity (for example, SnO 2 , In 2 O 3 containing Sn (ITO) or the like) as the metal oxide, an antistatic function can be imparted. Here, SnO 2 is a semiconductor and exhibits a function as an antistatic film. Here, in order to develop good conductivity, several percent of Sb is added to SnO 2 as a co-drug, Zn 2 is doped with Al 2 O 3 , and the same applies to In 2 O 3 . Or SnO 2 is added to

また、フッ素イオンも優れたドープ剤になりうるため、本発明ではSnにFイオンをドープしたり、InにFイオンを各々数から8%ドープさせた形態においても良好な帯電防止機能が確認された。さらに、水酸化フッ化マグネシウムの水酸基と半導体の電子伝導性の両者を組み合わせた長期に安定な帯電防止機能を実現させることが可能となった。本発明においては、屈折率調整剤として導電性を有する金属酸化物を用いるため、低屈折率を保ちながら同時に帯電防止機能を付与できる。 In addition, since fluorine ions can also be an excellent dopant, in the present invention, a good antistatic function can be achieved even in a form in which Sn is doped with F ions or In 2 O 3 is doped with F ions from several to 8% each. Was confirmed. Furthermore, it has become possible to realize a long-term stable antistatic function combining both the hydroxyl group of magnesium hydroxide fluoride and the electronic conductivity of the semiconductor. In the present invention, since a conductive metal oxide is used as a refractive index adjusting agent, an antistatic function can be imparted at the same time while maintaining a low refractive index.

前述のように、屈折率調整剤としては、金属酸化物が好ましく、かかる金属酸化物の金属元素としては、乾燥・焼成処理により最終的に酸化物を形成しうる金属化合物であればよく、チタン、ケイ素、ジルコニウム、鉄、スズ、アルミニウム、インジウム、スズ、亜鉛、アンチモン、タンタル、ランタン等より選ばれる少なくとも一つの金属酸化物が好ましい。さらにほう酸塩、リン酸塩等も用いることができる。その中でも、金属アルコキシド、金属塩化物、及びその加水分解物を原料として用いた場合、得られる膜の強度や化学的安定性に優れるため、特に好ましい。   As described above, the refractive index adjusting agent is preferably a metal oxide, and the metal element of the metal oxide may be a metal compound that can finally form an oxide by drying and baking treatment, and titanium. At least one metal oxide selected from silicon, zirconium, iron, tin, aluminum, indium, tin, zinc, antimony, tantalum, lanthanum and the like is preferable. Furthermore, borate, phosphate, etc. can also be used. Among these, when a metal alkoxide, a metal chloride, and its hydrolyzate are used as a raw material, since the intensity | strength and chemical stability of the film | membrane obtained are excellent, it is especially preferable.

金属酸化物は、所謂ゾルゲル法により製造される。ゾルゲル法においては、原料として上記の無機塩、有機金属錯体、有機金属カルボン酸塩、金属アルコキシドおよびその加水分解物、等の金属化合物、またはそれらの混合物よりなるゾルを用いる。それらの原料(以後、金属化合物ということもある)を乾燥・焼成工程にて加水分解、脱水、重縮合、酸化、熱分解等の反応を経て焼成処理により金属酸化物が形成される。   The metal oxide is produced by a so-called sol-gel method. In the sol-gel method, a sol made of a metal compound such as the above-described inorganic salt, organometallic complex, organometallic carboxylate, metal alkoxide and hydrolyzate thereof, or a mixture thereof is used as a raw material. These raw materials (hereinafter sometimes referred to as metal compounds) undergo a reaction such as hydrolysis, dehydration, polycondensation, oxidation, and thermal decomposition in a drying / firing process, whereby a metal oxide is formed by a firing treatment.

水酸化フッ化マグネシウムの粒子の存在下、上記の金属化合物を含むゾルを基材にコートし、加水分解させると、金属化合物の加水分解生成物が生成する。加水分解時に必要な水は、オルガノゾルの調整時に使用したフッ化水素酸溶液中の水分より供給される。金属化合物のゾルおよび上記加水分解生成物は、水酸化フッ化マグネシウム微粒子表面の水酸基と反応できるので、重縮合によって粒子間を結合したり、粒子と基材を結合させたりする補強の働きがあり、その後、縮合反応が進行することにより、得られる膜の機械強度が向上する。その後、乾燥・焼成工程を経て被膜形成したりして水酸化フッ化マグネシウムの粒子を、いわゆるバインダーの働きで基材に強固に接着させることができる。   When a base material is coated with a sol containing the above metal compound in the presence of magnesium hydroxide fluoride particles and hydrolyzed, a hydrolysis product of the metal compound is generated. The water required for hydrolysis is supplied from the water in the hydrofluoric acid solution used for preparing the organosol. Since the metal compound sol and the hydrolysis product can react with the hydroxyl groups on the surface of the magnesium hydroxide fluoride fine particles, they have the function of reinforcing the bonds between the particles by polycondensation or bonding the particles to the substrate. Thereafter, the condensation reaction proceeds to improve the mechanical strength of the obtained film. Thereafter, a film is formed through a drying / firing process, and the particles of magnesium hydroxide fluoride can be firmly adhered to the substrate by the action of a so-called binder.

以下に、原料となる主な金属化合物について例示する。   Below, the main metal compound used as a raw material is illustrated.

原料となるケイ素のアルコキシドは、一般式 Si(OR) (式中、Rはそれぞれ独立に、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、セカンダリブチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基またはフェニル基のいずれかを示す。)で表されるアルコキシ化合物またはそれらの加水分解物であって、特にテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラノルマルプロポキシシラン、テトラノルマルブトキシシラン、テトラターシャリブトキシシランなどまたはその加水分解物が好ましい。また、−ORの一部が、塩素原子等のハロゲン原子で置換したものでもよく、例えば、クロロトリエトキシシラン、ジクロロジノルマルブトキシシラン、トリクロロノルマルブトキシシラン等が挙げられる。 The silicon alkoxide as a raw material has a general formula Si (OR) 4 (wherein R is independently methyl, ethyl, normal propyl, isopropyl, normal butyl, secondary butyl, methoxyethyl, Ethoxyethyl group or phenyl group)) or a hydrolyzate thereof, in particular, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetranormalpropoxysilane, tetranormal Butoxysilane, tetratertiarybutoxysilane or the like or a hydrolyzate thereof is preferable. In addition, a part of -OR may be substituted with a halogen atom such as a chlorine atom, and examples thereof include chlorotriethoxysilane, dichlorodinormalbutoxysilane, and trichloronormalbutoxysilane.

Al原料として無機塩では塩化アルミニウム、もしくはポリ塩化アルミニウム、ベーマイトのような水酸化アルミニウム、硫酸アルミニウム、硝酸アルミニウム、蟻酸アルミニウム、酢酸アルミニウム、シュウ酸アルミニウム、クエン酸アルミニウムなどの無水物および水和物がある。   Inorganic salts such as aluminum chloride, polyaluminum chloride, aluminum hydroxide such as boehmite, anhydrides and hydrates such as aluminum sulfate, aluminum nitrate, aluminum formate, aluminum acetate, aluminum oxalate, and aluminum citrate is there.

有機カルボン酸塩ではラウリル酸アルミニウム、ステアリン酸アルミニウム、ナフテン酸アルミニウム、2−エチルヘキサン酸アルミニウム等のAl塩またはそれらの含水塩などがある。   Examples of organic carboxylates include Al salts such as aluminum laurate, aluminum stearate, aluminum naphthenate, aluminum 2-ethylhexanoate, and hydrated salts thereof.

アルミニウムアルコキシドは 一般式 Al(OR)(式中、Rは、それぞれ独立にメチル基、エチル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、セカンダリブチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基またはフェニル基のいずれかを示す。)で表されるアルコキシ化合物であって、特にトリエトキシアルミニウム、トリイソプロポキシアルミニウム、トリノルマルプロポキシアルミニウム、トリセカンダリブチルアルミニウムが好適に用いられる。 Aluminum alkoxide is represented by the general formula Al (OR) 3 (wherein R is independently any of methyl group, ethyl group, isopropyl group, normal butyl group, secondary butyl group, methoxyethyl group, ethoxyethyl group or phenyl group) In particular, triethoxyaluminum, triisopropoxyaluminum, trinormalpropoxyaluminum, and trisecondary butylaluminum are preferably used.

また、−ORの一部が、塩素原子等のハロゲン原子で置換したものでもよく、例えばクロロジイソプロポキシアルミニウム、クロロジセカンダリブチルアルミニウム、ジクロロイソプロポキシアルミニウム、ジクロロセカンダリブチルアルミニウム等を用いることもできる。   Further, a part of -OR may be substituted with a halogen atom such as a chlorine atom. For example, chlorodiisopropoxyaluminum, chlorodisecondary butylaluminum, dichloroisopropoxyaluminum, dichlorosecondary butylaluminum and the like can be used. .

アルミニウム金属錯体は、一般式 Al(OR)3−n で表される。式中、ORはアルコキシド、Y:はキレートを示す。ここでnは0〜3の整数を示す。Rはそれぞれ独立にメチル基、エチル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、セカンダリブチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基またはフェニル基のいずれかを表す。また、キレートとしてはアセチルアセトン(以後acacと略すこともある)、アセト酢酸エチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸プロピル、トリフロロアセチルアセトン、ヘキサフロロアセチルアセトン、メタンスルフォン酸、トリフロロメタンスルフォン酸などが挙げられる。さらに、アルミニウムアルコキシドとこれらアルミニウム金属錯体の縮重合した2〜3量体も用いることも可能である。 The aluminum metal complex is represented by the general formula Al (OR) n Y 3-n . In the formula, OR represents an alkoxide, and Y: represents a chelate. Here, n represents an integer of 0 to 3. R each independently represents a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a normal butyl group, a secondary butyl group, a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, or a phenyl group. Examples of the chelate include acetylacetone (hereinafter sometimes abbreviated as acac), ethyl acetoacetate, methyl acetoacetate, propyl acetoacetate, trifluoroacetylacetone, hexafluoroacetylacetone, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, and the like. Furthermore, it is also possible to use a 2-trimer obtained by condensation polymerization of aluminum alkoxide and these aluminum metal complexes.

Ti原料として四塩化チタン(TiCl)、三塩化チタン(TiCl)、チタニルクロライド(TiOCl2)、硝酸チタン(Ti(NO)、オキシ硝酸チタン(TiO(NO)等の無水塩またはそれらの含水塩、2−エチルヘキサン酸チタン、もしくはアルコキシドが挙げられる。Tiアルコキシドは、一般式 Ti(OR) (式中、Rは、それぞれ独立に、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、セカンダリブチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基またはフェニル基のいずれかを示す。)で表されるアルコキシ化合物が挙げられ、テトラエトキシチタン、テトラノルマルプロポキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラノルマルブトキシチタンが好適に用いられる。またそれらの縮重合した2〜10量体も用いられる。 Anhydrous titanium raw materials such as titanium tetrachloride (TiCl 4 ), titanium trichloride (TiCl 3 ), titanyl chloride (TiOCl 2), titanium nitrate (Ti (NO 3 ) 4 ), titanium oxynitrate (TiO (NO 3 ) 2 ) A salt or a hydrate thereof, titanium 2-ethylhexanoate, or an alkoxide. Ti alkoxide is represented by the general formula Ti (OR) 4 (wherein R is independently methyl group, ethyl group, normal propyl group, isopropyl group, normal butyl group, secondary butyl group, methoxyethyl group, ethoxyethyl group) Or an alkoxy compound represented by any one of phenyl groups), and tetraethoxytitanium, tetranormalpropoxytitanium, tetraisopropoxytitanium, and tetranormalbutoxytitanium are preferably used. Moreover, those polycondensed dimer to dimer are also used.

また−ORの一部が塩素原子等のハロゲン原子に置換したものでもよく、例えば、クロロトリエトキシチタン、ジクロロジノルマルブトキシチタン、トリクロロノルマルブトキシチタン等を用いることも可能である。   Further, a part of -OR may be substituted with a halogen atom such as a chlorine atom. For example, chlorotriethoxytitanium, dichlorodinormalbutoxytitanium, trichloronormalbutoxytitanium, or the like can be used.

またチタン金属錯体は、一般式 Ti(OR)4−n で表される。式中、ORはアルコキシ基、Y:はキレートを示す。n:0〜3の整数を示す。Rはそれぞれ独立に、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、セカンダリブチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基またはフェニル基のいずれかを示す。またキレートとしてはアセチルアセトン(以後acacと略すこともある)、アセト酢酸エチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸プロピル、トリフロロアセチルアセトン、メタンスルフォン酸、トリフロロメタンスルフォン酸などが挙げられる。 The titanium metal complex is represented by the general formula Ti (OR) n Y 4-n . In the formula, OR represents an alkoxy group, and Y: represents a chelate. n: An integer of 0 to 3 is shown. R each independently represents a methyl group, an ethyl group, a normal propyl group, an isopropyl group, a normal butyl group, a secondary butyl group, a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group or a phenyl group. Examples of the chelate include acetylacetone (hereinafter sometimes abbreviated as acac), ethyl acetoacetate, methyl acetoacetate, propyl acetoacetate, trifluoroacetylacetone, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, and the like.

またアルコキシドとキレートの混合としてジブトキシチタンビスアセチルアセトナート、イソプロポキシジチタンビスオクチレングリコレートが挙げられる。   Examples of the mixture of alkoxide and chelate include dibutoxytitanium bisacetylacetonate and isopropoxydititanium bisoctylene glycolate.

また、Zr原料として四塩化ジルコニウム(ZrCl)、オキシ塩化ジルコニウム(ZrOCl2.8HO)、硝酸ジルコニウム(Zr(NO)、オキシ硝酸ジルコニウム(ZrO(NO 4水和物)、ステアリン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、2−エチルヘキサン酸ジルコニウム、ジルコニウムアセチルアセトナート等のZr塩またはそれらの無水および含水塩、もしくは一般式 Zr(OR) (式中、Rは、それぞれ独立に、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、セカンダリブチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基またはフェニル基のいずれかを示す。)で表されるアルコキシ化合物が挙げられる。 Also, zirconium tetrachloride (ZrCl 4) of Zr raw material, zirconium oxychloride (ZrOCl 2. 8H 2 O), zirconium nitrate (Zr (NO 3) 4) , zirconium oxynitrate (ZrO (NO 3) 2 4 hydrate ), Zr salts such as zirconium stearate, zirconium naphthenate, zirconium 2-ethylhexanoate, zirconium acetylacetonate, etc., or anhydrous and hydrated salts thereof, or a general formula Zr (OR) 4 (wherein R is independent of each other) And an alkoxy compound represented by a methyl group, an ethyl group, a normal propyl group, an isopropyl group, a normal butyl group, a secondary butyl group, a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, or a phenyl group.

かかるZrアルコキシドとしては、テトラエトキシジルコニウム、テトラノルマルプロポキシジルコニウム、テトライソプロポキシジルコニウム、テトラノルマルブトキシジルコニウムおよびそれらの加水分解物である水酸化ジルコニウムゾルなどが好適に用いられる。   As such Zr alkoxide, tetraethoxyzirconium, tetranormalpropoxyzirconium, tetraisopropoxyzirconium, tetranormalbutoxyzirconium, and zirconium hydroxide sol which is a hydrolyzate thereof are preferably used.

また−ORが一部ハロゲンに置換したものでもよく、例えば、クロロトリエトキシジルコニウム、ジクロロジノルマルブトキシジルコニウム、トリクロロノルマルブトキシジルコニウム等が挙げられる。   Further, -OR may be partially substituted with halogen, and examples thereof include chlorotriethoxyzirconium, dichlorodinormalbutoxyzirconium, and trichloronormalbutoxyzirconium.

さらにSn原料としては、二塩化スズ(SnCl)、四塩化スズ(SnCl)等のスズ塩化物、テトラエトキシスズ、テトラノルマルプロポキシスズ、テトライソプロポキシスズ、テトラノルマルブトキシスズ等のスズアルコキシドの他、Sn(OiPr)(acac)、Sn(OnBu)Cl、BuSnClおよびBuSn(acac)、などが挙げられる。ここでSnOは半導体であり帯電防止膜として有用である。 Further, Sn raw materials include tin chlorides such as tin dichloride (SnCl 2 ) and tin tetrachloride (SnCl 4 ), and tin alkoxides such as tetraethoxytin, tetranormalpropoxytin, tetraisopropoxytin, and tetranormalbutoxytin. Other examples include Sn (OiPr) 3 (acac), Sn (OnBu) 3 Cl, BuSnCl 3 and Bu 2 Sn (acac) 2 . Here, SnO 2 is a semiconductor and is useful as an antistatic film.

なお、上記のように、塩基性塩化物や金属アルコキシドを加水分解して得られる酸化物微粒子を溶媒置換して製造した金属酸化物のオルガノゾルは市販品として得ることができ、例えば、オルガノシリカゾルとして、メタノールシリカゾル、IPA−ST、IPA−ST−UP、IPA−ST−ZL、EG−ST、NPC−ST−30、DMAC−ST、MEK−ST(以上、日産化学工業製品)、オスカル1132、オスカル1232、オスカル1332(以上、触媒化成工業製品)等がある。オルガノアルミナゾルとして、アルミゾル−CSA55、アルミゾル−CSA110AD(川研ファインケミカル製品)等がある。さらに、サンコロイドATL−130、サンコロイドAMT−130(以上、日産化学工業製品)等の有機溶剤系酸化アンチモンゾルなどがある。   In addition, as described above, metal oxide organosols produced by solvent substitution of oxide fine particles obtained by hydrolyzing basic chlorides and metal alkoxides can be obtained as commercial products, for example, as organosilica sols. , Methanol silica sol, IPA-ST, IPA-ST-UP, IPA-ST-ZL, EG-ST, NPC-ST-30, DMAC-ST, MEK-ST (above, Nissan Chemical Industries, Ltd.), Oscar 1132, Oscar 1232 and Oscar 1332 (catalyst chemical products). Examples of the organoalumina sol include aluminum sol-CSA55 and aluminum sol-CSA110AD (Kawaken Fine Chemicals). Furthermore, there are organic solvent-based antimony oxide sols such as Sun Colloid ATL-130 and Sun Colloid AMT-130 (above, Nissan Chemical Industries products).

また、水性分散液として市販されているゾルを溶媒置換して使用することもできる。そのような水性ゾルとしては、例えば、スノーテックス40、スノーテックスO、スノーテックスC、スノーテックスN(以上、日産化学工業製品)、カタロイドS−30H、カタロイドSI−30、カタロイドSN、カタロイドSA(以上、触媒化成工業製品)、アデライトAT−30、アデライトAT−20N、アデライトAT−20A、アデライトAT−20Q(以上、旭電化工業製品)、シリカドール−30、シリカドール−20A、シリカドール−20B(以上、日本化学工業製品)等の水系酸化ケイ素ゾル;アルミナゾル−100、アルミナゾル−200、アルミナゾル−520(以上、日産化学工業製品)、アルミナクリアーゾル、アルミゾル−10、アルミゾル−20、アルミゾルSV−102、アルミゾル−SH5(以上、川研ファインケミカル製品)等の水系アルミナゾル;A−1550、A−2550(以上、日産化学工業製品)等の水系酸化アンチモンゾル;NZS−30A、NZS−30B(以上、日産化学工業製品)等の水系酸化ジルコニウムゾル;セラメースS−8、セラメースC−10(以上、多木化学製品)等の水系酸化スズゾル;タイノックA−6、タイノックM−6(以上、多木化学製品)等の水系酸化チタンゾル;セラメースF−10(以上、多木化学製品)等の酸化スズと酸化アンチモンから成る水系ゾル等が挙げられる。   Alternatively, a commercially available sol as an aqueous dispersion can be used after solvent substitution. Examples of such aqueous sols include Snowtex 40, Snowtex O, Snowtex C, Snowtex N (and above, Nissan Chemical Industries), Cataloid S-30H, Cataloid SI-30, Cataloid SN, Cataloid SA ( As described above, Catalyst Chemical Industry Product), Adelite AT-30, Adelite AT-20N, Adelite AT-20A, Adelite AT-20Q (Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), Silica Dole-30, Silica Dole-20A, Silica Dole-20B Water-based silicon oxide sols such as (Nippon Chemical Industrial products); Alumina sol-100, Alumina sol-200, Alumina sol-520 (Nippon Chemical Industrial products), Alumina clear sol, Aluminum sol-10, Aluminum sol-20, Aluminum sol SV- 102, Aluminum sol-SH5 (above Water-based alumina sols such as Kawaken Fine Chemical Products); water-based antimony oxide sols such as A-1550 and A-2550 (Nissan Chemical Industry Products); water systems such as NZS-30A and NZS-30B (Nissan Chemical Industry Products) Zirconium oxide sol; water-based tin oxide sols such as Cerames S-8 and Cerames C-10 (and above, Taki Chemical Products); water-based titanium oxide sols such as Tynock A-6 and Tynock M-6 (and above, Taki Chemical Products); Examples thereof include water-based sol composed of tin oxide and antimony oxide such as Cerames F-10 (above, Taki Chemicals).

透明基板にコートする薬液は、長期安定性が重要であり、室温で30日以上保存できることが望ましい。水酸化フッ化マグネシウムゾルに上記加水分解可能な金属化合物を混合する場合、1種類のみの金属化合物の混合では目的とする波長の屈折率の低減が図れない場合は、2〜4種の金属化合物を混合させる必要がある。このような混合において、金属化合物が1種類のときは比較的安定なゾルとして存在できる場合であっても、混合した金属化合物の相性が合わない場合はゲル化してしまう可能性がある。   The chemical solution that coats the transparent substrate is important for long-term stability, and it is desirable that it can be stored at room temperature for 30 days or more. When the hydrolyzable metal compound is mixed with the magnesium hydroxide fluoride sol, if the reduction of the refractive index of the target wavelength cannot be achieved by mixing only one kind of metal compound, 2-4 kinds of metal compounds Need to be mixed. In such mixing, even when there is only one kind of metal compound, even if it can exist as a relatively stable sol, there is a possibility of gelation if the compatibility of the mixed metal compound does not match.

また、ゾル中の金属酸化物前駆体(例えば金属アルコキシド)の安定性を比較したとき、アルコキシシラン等のSi系アルコキシドは比較的安定であるが、Al系、Zr系、Ti系、Sn系、Ta系のアルコキシドは不安定であることは当業者には知られている。特許文献4には、フッ化マグネシウムとAl系アルコキシドとの混合系(特許文献4;実施例3)、Zrアルコキシドとの混合系(特許文献4;実施例4)が記載されており、アセチルアセトンを錯化剤とし、シリンジフィルターを通すことにより漸く透明ゾルを製造している。本発明者等が、当該実施例3および実施例4を追試したところ、室温においては薬液は1日しか安定に存在できず、粘度が急上昇してしまい、コーティング液にはとうてい適さないものであった。   Moreover, when comparing the stability of metal oxide precursors (for example, metal alkoxides) in the sol, Si-based alkoxides such as alkoxysilanes are relatively stable, but Al-based, Zr-based, Ti-based, Sn-based, It is known to those skilled in the art that Ta-based alkoxides are unstable. Patent Document 4 describes a mixed system of magnesium fluoride and an Al-based alkoxide (Patent Document 4; Example 3) and a mixed system of Zr alkoxide (Patent Document 4; Example 4). A transparent sol is gradually produced by using a syringe filter as a complexing agent. When the present inventors made additional trials of Example 3 and Example 4, the chemical solution could only exist stably for one day at room temperature, the viscosity increased rapidly, and it was extremely unsuitable for the coating solution. It was.

さらに、特許文献4の実施例を参考に、フッ化マグネシウムに、Siアルコキシド、Alアルコキシド、Zrアルコキシドの3種類のアルコキシドを添加した系で追試を行い安定性を確認したところ、MgFに混合した金属酸化物ゾルはMgFに混合すると速やかに重合が始まり、急激に粘度が上昇して2日後では完全にゲル化してしまい到底実用に耐えうるものではなく薬液安定性に欠けていた。 Further, referring to the example of Patent Document 4, the stability was confirmed by conducting a supplementary test in a system in which three types of alkoxides of Si alkoxide, Al alkoxide, and Zr alkoxide were added to magnesium fluoride, and the mixture was mixed with MgF 2 . When the metal oxide sol was mixed with MgF 2 , the polymerization started rapidly, the viscosity rapidly increased, and after 2 days it was completely gelled, so that it could not withstand practical use and lacked chemical stability.

本発明の水酸化フッ化マグネシウムゾルとその他の金属化合物の2〜4種の混合において極めて安定であった。また、本発明で用いる水酸化フッ化マグネシウムは無機塩や、有機塩、金属アルコキシドとの相溶性は良好であった。   It was extremely stable in the mixing of 2 to 4 kinds of the magnesium hydroxide fluoride sol of the present invention and other metal compounds. Moreover, the magnesium hydroxide fluoride used in the present invention had good compatibility with inorganic salts, organic salts, and metal alkoxides.

水酸化フッ化マグネシウムゾルの調製時に原料のフッ化水素や副生成物の無機酸(例えばHCl)を意図的に残存させるが、残存する0.5〜3%(FおよびHCl換算)酸が金属化合物(たとえば金属アルコキシド)の解膠剤として有用であると考えられ、4〜5種類の金属アルコキシドを添加しても室温で30日以上の長期安定性が確認された。   In preparation of magnesium hydroxide fluoride sol, the raw material hydrogen fluoride and by-product inorganic acid (for example, HCl) are intentionally left, but the remaining 0.5 to 3% (in terms of F and HCl) acid is a metal. It is considered useful as a peptizer for compounds (for example, metal alkoxides), and long-term stability of 30 days or more at room temperature was confirmed even when 4 to 5 types of metal alkoxides were added.

好ましい態様としては、マグネシウム原として塩化マグネシウムを用い、やや過剰量のフッ化水素と直接反応させた場合、副生物としてHClが生成する。フッ化水素およびHClは蒸気圧が高く、加熱かバブルリングで容易に除去でき、HClを数%に残存させることが可能となる。   In a preferred embodiment, when magnesium chloride is used as the magnesium raw material and HCl is directly reacted with a slight excess of hydrogen fluoride, HCl is produced as a by-product. Hydrogen fluoride and HCl have a high vapor pressure, can be easily removed by heating or bubble ring, and HCl can remain in a few percent.

透明基板としては、無機質のガラス基材、プラスチック製基材等を用いることが出来る。無機質のガラス基材の例としては、ソーダライム珪酸塩ガラス、硼珪酸ガラス、アルミノ珪酸ガラス、バリウム硼珪酸ガラス、石英ガラス等の板状のもので特にはフロート法で製造されたものを用いることができる。さらには、これらガラス基材は、クリアガラス品、グリーン、ブロンズ等の着色ガラス品、UV、IRカットガラス等の機能性ガラス品、強化ガラス、半強化ガラス、合せガラス等の安全ガラス品も使用されうる。また、セラミックスとしてはSi3N4、SiC、サファイヤ、Siウェハー、GaAs、InP、AlN等の基板にも使用される。   As the transparent substrate, an inorganic glass substrate, a plastic substrate, or the like can be used. Examples of inorganic glass substrates include plate-like materials such as soda lime silicate glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass, barium borosilicate glass, and quartz glass, especially those manufactured by the float process. Can do. Furthermore, these glass substrates also use clear glass products, colored glass products such as green and bronze, functional glass products such as UV and IR cut glass, and safety glass products such as tempered glass, semi-tempered glass, and laminated glass. Can be done. Ceramics are also used for substrates such as Si3N4, SiC, sapphire, Si wafer, GaAs, InP, and AlN.

プラスッチク製基材の例としては、ポリカーボネート(PC)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリエチレンテレフタレート(PET)トリアセチルセルロース(TAC)、ポリイミド等が挙げられる。   Examples of plastic substrates include polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate (PMMA), polyethylene terephthalate (PET) triacetyl cellulose (TAC), polyimide, and the like.

薬液の基板上への塗布は、スピーンコーター法、浸漬引き上げ法(ディップコーティング法)、スプレー法、ローラーコート法、フローコート法、スクリーン印刷法、刷毛塗り、インクジェット等の方法により行うことができる。   Application of the chemical solution onto the substrate can be performed by a spine coater method, a dipping method (dip coating method), a spray method, a roller coating method, a flow coating method, a screen printing method, a brush coating method, an ink jet method or the like.

各種方法により形成された被膜は、80〜150℃で10分から6時間乾燥し更に加熱焼成することが好ましい。加熱温度は、基材の耐熱温度に応じて決定される。また、水酸化フッ化マグネシウムの特性を生かす場合は、親水性等の特性が維持できる温度範囲で焼成するのが好ましい。プラスチック製透明基材の場合、概ね300℃以下で処理することが好ましい。また、無機質のガラス基材においては、焼成時間を調整することにより、700℃程度の高温での焼成も可能である。好ましい態様として、650℃〜700℃で150秒焼成することにより、耐磨耗性に優れた被膜が得られた。   The coating film formed by various methods is preferably dried at 80 to 150 ° C. for 10 minutes to 6 hours and further heated and fired. The heating temperature is determined according to the heat-resistant temperature of the substrate. In addition, when taking advantage of the characteristics of magnesium hydroxide fluoride, it is preferable to fire in a temperature range in which characteristics such as hydrophilicity can be maintained. In the case of a plastic transparent substrate, it is preferable to perform the treatment at about 300 ° C. or less. In addition, the inorganic glass substrate can be fired at a high temperature of about 700 ° C. by adjusting the firing time. As a preferred embodiment, a film excellent in wear resistance was obtained by baking at 650 ° C. to 700 ° C. for 150 seconds.

各種方法により形成された反射防止膜の物性評価方法は以下に示す。
1.光学特性は日立製分光光度計U−4100で透過率、反射率を測定した。
2.親水性は協和界面科学製純水接触角測定装置でJIS R 3257(1999)に準拠して測定した。
3. 表面抵抗値は横河電機(株)絶縁抵抗測定器( 4329A high resistance meter)で測定した。
4.膜厚および屈折率は、エリプソメータ((株)溝尻光学工業所DVA−FL3:He−Neレーザー633mm)によって測定した。
The physical property evaluation method of the antireflection film formed by various methods is shown below.
1. The optical characteristics were measured for transmittance and reflectance with a Hitachi spectrophotometer U-4100.
2. Hydrophilicity was measured with a pure water contact angle measuring device manufactured by Kyowa Interface Science in accordance with JIS R 3257 (1999).
3. The surface resistance value was measured with an insulation resistance measuring instrument (4329A high resistance meter) manufactured by Yokogawa Electric Corporation.
4). The film thickness and the refractive index were measured with an ellipsometer (Mitoshiri Optical Industry Co., Ltd. DVA-FL3: He-Ne laser 633 mm).

接触角は、JIS R 3257(1999)に準拠にして得られる被覆層表面と水滴の接触角から定義されるものとする。親水性低反射膜としては、濡れ性が高いほど良いと考えられるので、接触角の下限は特に限定はされないが、例えば0.1°以上としてもよい。親水性を持つことから、防汚性に優れ、汚れが付着した場合も容易に洗い流すことが出来る。   The contact angle is defined from the contact angle between the surface of the coating layer obtained in accordance with JIS R 3257 (1999) and water droplets. As the hydrophilic low-reflection film, it is considered that the higher the wettability, the lower the contact angle is not particularly limited, but it may be, for example, 0.1 ° or more. Since it has hydrophilicity, it is excellent in antifouling property and can be easily washed away even when dirt adheres.

また、本発明の親水性低反射部材は、親水性低反射膜表面の表面抵抗値が1×1010Ω.cm以下であるので、帯電防止機能を有する親水性低反射部材である。 The hydrophilic low reflection member of the present invention has a surface resistance value of 1 × 10 10 Ω. Since it is cm or less, it is a hydrophilic low reflection member having an antistatic function.

これらの低反射膜は、透明基体の片面または両面に形成される。透明基体の両面が空気のような屈折率が1に近い媒体に接して使用される場合は、この膜を基板の両面に成形することにより、高い反射防止効果が得られる。   These low reflection films are formed on one side or both sides of the transparent substrate. When both surfaces of the transparent substrate are used in contact with a medium having a refractive index close to 1 such as air, a high antireflection effect can be obtained by forming this film on both surfaces of the substrate.

本発明の親水性低反射部材は、太陽電池の表面保護部材として有用である。太陽電池の表面保護部材として使用する場合においては、高い光透過率および低い反射率が要求されるうえ、太陽電池は太陽光に常時暴露されるため、防汚性、耐水性、および耐候性等を併せ持つ材料が望まれる。前述のように水酸化フッ化マグネシウムを含む本発明の親水性低反射膜は、防汚性、耐水性、対抗性に優れる。   The hydrophilic low reflection member of the present invention is useful as a surface protection member for solar cells. When used as a surface protection member for solar cells, high light transmittance and low reflectance are required, and since solar cells are constantly exposed to sunlight, antifouling properties, water resistance, weather resistance, etc. The material which has both is desired. As described above, the hydrophilic low reflective film of the present invention containing magnesium hydroxide fluoride is excellent in antifouling property, water resistance and resistance.

また、近年開発されている、CIS薄膜系の薄膜太陽電池および結晶性シリコンは、400〜1200nmの幅広い吸収領域を有しており、従来のアモルファスシリコン系と比較して長波長領域の光を吸収することが可能で、その吸収のピークが900nm付近にある。前述のように、本発明の親水性低反射膜は、紫外・可視光領域(300〜800nm)および近赤外領域(800〜1200nm)での高い光透過性を有するので、アモルファスシリコン系太陽電池はもちろんのこと、上記のような長波長領域に吸収を有する太陽電池の表面保護部材として好適に用いられる。   In addition, CIS thin film solar cells and crystalline silicon, which have been developed in recent years, have a wide absorption range of 400 to 1200 nm, and absorb light in the long wavelength range compared to conventional amorphous silicon systems. The absorption peak is in the vicinity of 900 nm. As described above, the hydrophilic low reflection film of the present invention has high light transmissivity in the ultraviolet / visible light region (300 to 800 nm) and the near infrared region (800 to 1200 nm). Of course, it is suitably used as a surface protection member for solar cells having absorption in the long wavelength region as described above.

「実施例1」
以下、実施例に基づき、説明する。
"Example 1"
Hereinafter, a description will be given based on examples.

2Lのセパラブルフラスコに試薬特級グレードの塩化マグネシウム85.91g(0.902mol)を採り、メタノール1820gを加え、室温で2時間攪拌し、無色透明の塩化マグネシウム溶液を得た。55重量%のフッ酸水素酸水溶液72.17g量(1.98mol)を、上記塩化マグネシウム溶液に、室温で攪拌条件下で断続的に滴下した(モル比 フッ化水素/Mg=2.20)。3時間室温で攪拌後、無色透明なゾル溶液を得た。XRDで同定したところ水酸化フッ化マグネシウムであった。   In a 2 L separable flask, 85.91 g (0.902 mol) of reagent-grade magnesium chloride was added, 1820 g of methanol was added, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours to obtain a colorless and transparent magnesium chloride solution. A 55 wt% hydrofluoric acid aqueous solution (72.17 g) (1.98 mol) was intermittently added dropwise to the above magnesium chloride solution at room temperature under stirring conditions (molar ratio: hydrogen fluoride / Mg = 2.20). . After stirring for 3 hours at room temperature, a colorless and transparent sol solution was obtained. When identified by XRD, it was magnesium hydroxide fluoride.

次に、当該ゾルに乾燥Nを2L/分で吹き込みバブリングしながら、約50℃で加温しつつ副生HClと過剰フッ酸を脱気させ濃縮した。約3時間バブリングするとメタノールとHClおよびフッ酸が322g除去された。残留酸分はイオンクロマトグラフィーで分析した結果Clイオンとして2.3%、Fイオンとして0.9%であった。濃度調製のためエタノールを350ml加えて、水酸化フッ化マグネシウムの固形分濃度を3.1%とした。 Next, while bubbling dry N 2 at 2 L / min into the sol, by-product HCl and excess hydrofluoric acid were degassed and concentrated while heating at about 50 ° C. Bubbling for about 3 hours removed 322 g of methanol, HCl and hydrofluoric acid. As a result of analysis by ion chromatography, the residual acid content was 2.3% as Cl ions and 0.9% as F ions. In order to adjust the concentration, 350 ml of ethanol was added to adjust the solid content concentration of magnesium hydroxide fluoride to 3.1%.

これに、金属酸化物として試薬Al(OsBu):0.213molとZr(OnBu):0.26molを撹拌しながら添加し、さらに試薬Sn(OnBu):0.126molを加えて5時間撹拌して、淡黄色の透明ゾル溶液を得た。ここで金属酸化物は焼成後の酸化物として換算した。 To this, the reagents Al (OsBu) 3 : 0.213 mol and Zr (OnBu) 4 : 0.26 mol were added as metal oxides with stirring, and the reagent Sn (OnBu) 4 : 0.126 mol was further added for 5 hours. Upon stirring, a light yellow transparent sol solution was obtained. Here, the metal oxide was converted as an oxide after firing.

該溶液を3mm厚の一般的なソーダライムガラス上にディップ法で5.5mm/secで引き上げ、100℃で1時間乾燥させた。該ガラス基板を700℃の電気炉に投入して、150秒間保持して取り出したところ青色透明の膜を得た。   The solution was pulled on a general soda lime glass having a thickness of 3 mm by dipping at 5.5 mm / sec and dried at 100 ° C. for 1 hour. The glass substrate was put into an electric furnace at 700 ° C., held for 150 seconds and taken out to obtain a blue transparent film.

400〜1200光透過率を測定したところ、平均97.0%であり、未処理のガラス基板の90.5%と比較して、透過率の増大分6.5%大きく改善されていた。   When the light transmittance of 400 to 1200 was measured, it was 97.0% on average, which was greatly improved by 6.5% as compared with 90.5% of the untreated glass substrate.

屈折率はエリプソメータ((株)溝尻光学工業所DVA−FL3)で測定すると、n=1.253であった。   The refractive index was n = 1.253 as measured by an ellipsometer (Mizoji Optical Industry DVA-FL3).

この被膜を、乾燥ネルで300g荷重で100回摩擦した後の外観検査では膜状態にほとんど変化がなかった。また純水接触角を測定したところ7.3°で超親水性を示した。   In the appearance inspection after this coating was rubbed 100 times with a load of 300 g with a dry flannel, there was almost no change in the film state. Further, when the contact angle with pure water was measured, it was superhydrophilic at 7.3 °.

この被膜を30°傾斜の屋外暴露をしたところ、6か月経過でも純粋接触角は10.6°で親水性を示し、またヘイズ値の変化は+0.24%と殆ど汚染は認められず親水性と自浄機能を維持していた。   When this film was exposed outdoors at an inclination of 30 °, the pure contact angle was 10.6 ° even after 6 months, showing hydrophilicity, and the change in haze value was + 0.24%. Maintained sex and self-cleaning function.

また、この被膜を25℃相対湿度50%の環境下で1日放置後の表面抵抗値を測定したところ7.2exp10Ω.cmの帯電防止性を示した。 Further, when the surface resistance value of this film after standing for 1 day in an environment of 25 ° C. and 50% relative humidity was measured, it was 7.2 exp10 8 Ω. The antistatic property of cm was shown.

このことにより親水性低反射膜の表面抵抗値は7.2×10Ω.cmでこれはすぐれた親水性帯電防止低反射部材であることが確認できた。 As a result, the surface resistance of the hydrophilic low reflection film is 7.2 × 10 8 Ω. In cm, this was confirmed to be an excellent hydrophilic antistatic low reflection member.

これら実施例によれば、本発明の親水低反射膜は、低反射・親水性、防汚性のいずれの効果も優れており、汚れにくく高性能の低反射膜を得ることが可能になることは明白である。
「実施例2」
2Lのセパラブルフラスコに試薬特級グレードの塩化マグネシウム43.54g(0.46mol)および塩化カルシウム55.41g(0.504mol)を採り、メタノール910gとエタノール900gを加え、室温で4時間攪拌し、無色透明の塩化マグネシウム・塩化カルシウム溶液を得た。55重量%のフッ酸水素酸水溶液79.63g量(2.09mol)を、上記塩化マグネシウム・塩化カルシウム溶液に、室温で攪拌条件下で断続的に滴下した(モル比 フッ化水素/(Mg+Ca)=2.19)。5時間室温で攪拌後、び乳濁無色透明なゾル溶液を得た。XRDで同定したところ水酸化フッ化マグネシウム+フッ化カルシウムが混合したものであった。
According to these examples, the hydrophilic low-reflection film of the present invention is excellent in all the effects of low reflection / hydrophilicity and antifouling property, and it becomes possible to obtain a high-performance low-reflection film that is hardly contaminated. Is obvious.
"Example 2"
Into a 2 L separable flask, 43.54 g (0.46 mol) of reagent-grade magnesium chloride and 55.41 g (0.504 mol) of calcium chloride were added, 910 g of methanol and 900 g of ethanol were added, and the mixture was stirred at room temperature for 4 hours. A transparent magnesium chloride / calcium chloride solution was obtained. An amount of 79.63 g (2.09 mol) of a 55 wt% hydrofluoric acid aqueous solution was intermittently added dropwise to the magnesium chloride / calcium chloride solution at room temperature under stirring conditions (molar ratio: hydrogen fluoride / (Mg + Ca) = 2.19). After stirring for 5 hours at room temperature, a milky and colorless transparent sol solution was obtained. When identified by XRD, it was a mixture of magnesium hydroxide fluoride + calcium fluoride.

次に、当該ゾルに乾燥Nを2L/分で吹き込みバブリングしながら、約50℃で加温しつつ副生HClを脱気させ濃縮した。約4時間バブリングするとメタノール・エタノールとHClが286g除去された。残留酸分はイオンクロマトグラフィーで分析した結果Clイオンとして2.1%、Fイオンとして1.1%であった。塩酸として3.1%であった。濃度調製のためエタノールを350ml加えて、水酸化フッ化マグネシウム+フッ化カルシウムの固形分濃度は3.2%とした。 Next, by-product HCl was degassed and concentrated while heating at about 50 ° C. while bubbling dry N 2 at 2 L / min into the sol. After bubbling for about 4 hours, 286 g of methanol / ethanol and HCl were removed. Residual acid content results were analyzed by ion chromatography Cl - 2.1% by ions, F - was 1.1% as ions. It was 3.1% as hydrochloric acid. To adjust the concentration, 350 ml of ethanol was added, and the solid content concentration of magnesium hydroxide fluoride + calcium fluoride was 3.2%.

これに、金属酸化物として試薬Al(OsBu):0.221molとTi(OnBu):0.246molを撹拌しながら添加し、さらに試薬BuSn(acac):0.124molを加えて5時間撹拌して、淡黄色の透明ゾル溶液を得た。 To this, the reagents Al (OsBu) 3 : 0.221 mol and Ti (OnBu) 4 : 0.246 mol were added as metal oxides with stirring, and further the reagent Bu 2 Sn (acac) 2 : 0.124 mol was added. The mixture was stirred for 5 hours to obtain a light yellow transparent sol solution.

該溶液を3mm厚の一般的なソーダライムガラス上にディップ法で5.5mm/secで引き上げ、100℃で1時間乾燥させた。該ガラス基板を700℃の電気炉に投入して、150秒間保持して取り出したところ淡青色透明の膜を得た。   The solution was pulled on a general soda lime glass having a thickness of 3 mm by dipping at 5.5 mm / sec and dried at 100 ° C. for 1 hour. The glass substrate was put into an electric furnace at 700 ° C., held for 150 seconds, and taken out to obtain a light blue transparent film.

800〜1200光透過率を測定したところ、平均97.2%であり、未処理のガラス基板の90.4%と比較して、透過率の増大分6.8%大きく改善されていた。   When the light transmittance of 800 to 1200 was measured, the average was 97.2%, which was greatly improved by 6.8% of the increase in transmittance compared with 90.4% of the untreated glass substrate.

また、この被膜を純水で流水洗浄して80℃で1時間乾燥し、接触角を測定したところ、水滴は被膜表面を広がり、接触角が測定できない程度に小さくなり、被膜が超親水性であることを観察できた。また当該被膜を1Lの水中に2昼夜浸漬した後に、再度純水接触角を測定したところ、やはり水滴は被膜表面を広がり、接触角が測定できない程度に小さくなり、被膜が超親水性であることを観察できた。このことより当該親水膜は耐久性のある超親水低反射膜であることが確認できた。   In addition, this film was washed with pure water, dried at 80 ° C. for 1 hour, and the contact angle was measured. As a result, the water droplet spread on the surface of the film, and the contact angle was so small that it could not be measured. I was able to observe something. In addition, after immersing the film in 1 L of water for two days and nights, the contact angle of pure water was measured again. The water droplets spread on the surface of the film, and the contact angle was too small to be measured, and the film was superhydrophilic. Could be observed. This confirms that the hydrophilic film is a durable superhydrophilic low reflection film.

エリプソメータ((株)溝尻光学工業所DVA−FL3)による測定によれば、膜の厚みは181nm、屈折率n=1.298であった。   The film thickness was 181 nm and the refractive index n = 1.298 as measured by an ellipsometer (Mizoji Optical Industry DVA-FL3).

親水性低反射膜の表面抵抗値は4.2×10Ω.cmであり、優れた帯電防止機能を有する親水性低反射部材であることが確認できた。 The surface resistance value of the hydrophilic low reflection film is 4.2 × 10 8 Ω. It was cm, and it was confirmed that it was a hydrophilic low reflection member having an excellent antistatic function.

これら実施例によれば、本発明の親水低反射膜は、低反射・親水性、防汚性のいずれの効果も優れており、汚れにくく高性能の低反射膜を得ることが可能になることは明白である。
「実施例3」
2Lのセパラブルフラスコに試薬特級グレードの塩化マグネシウム89.41g(0.94mol)を採り、メタノール1850gを加え、室温で2時間攪拌し、無色透明の塩化マグネシウム溶液を得た。55重量%のフッ酸水素酸水溶液72.0g量(1.98mol)を、上記塩化マグネシウム溶液に、室温で攪拌条件下で断続的に滴下した(モル比 フッ化水素/Mg=2.11)。3時間室温で攪拌後、無色透明なゾル溶液を得た。XRDで同定したところ水酸化フッ化マグネシウムであった。
According to these examples, the hydrophilic low-reflection film of the present invention is excellent in all the effects of low reflection / hydrophilicity and antifouling property, and it becomes possible to obtain a high-performance low-reflection film that is hardly contaminated. Is obvious.
"Example 3"
In a 2 L separable flask, 89.41 g (0.94 mol) of reagent-grade magnesium chloride was added, 1850 g of methanol was added, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours to obtain a colorless and transparent magnesium chloride solution. An amount of 72.0 g (1.98 mol) of a 55 wt% hydrofluoric acid aqueous solution was intermittently added dropwise to the above magnesium chloride solution under stirring conditions at room temperature (molar ratio: hydrogen fluoride / Mg = 2.11). . After stirring for 3 hours at room temperature, a colorless and transparent sol solution was obtained. When identified by XRD, it was magnesium hydroxide fluoride.

次に、当該ゾルに乾燥Nを2L/分で吹き込みバブリングしながら、約50℃で加温しつつ副生HClと過剰フッ酸を脱気させ濃縮した。約3時間バブリングするとメタノールとHClおよびフッ酸が289g除去された。残留酸分はイオンクロマトグラフィーで分析した結果Clイオンとして1.8%、Fイオンとして0.7%であった。濃度調製のためエタノールを413ml加えて、水酸化フッ化マグネシウムの固形分濃度は3.22%であった。 Next, while bubbling dry N 2 at 2 L / min into the sol, by-product HCl and excess hydrofluoric acid were degassed and concentrated while heating at about 50 ° C. Bubbling for about 3 hours removed 289 g of methanol, HCl and hydrofluoric acid. As a result of analysis by ion chromatography, the residual acid content was 1.8% as Cl ions and 0.7% as F ions. In order to adjust the concentration, 413 ml of ethanol was added, and the solid content concentration of magnesium hydroxide fluoride was 3.22%.

これに、金属酸化物として試薬TEOS:0.233molとZr(OnBu):0.26molを撹拌しながら添加し、さらに試薬BuSnCl:0.116molを加えてさらにアセト酢酸エチルを3.5ml添加して5時間撹拌して、淡黄色の透明ゾル溶液を得た。 To this, the reagents TEOS: 0.233 mol and Zr (OnBu) 4 : 0.26 mol were added as metal oxides while stirring, the reagent BuSnCl 3 : 0.116 mol was added, and 3.5 ml of ethyl acetoacetate was further added. The mixture was stirred for 5 hours to obtain a pale yellow transparent sol solution.

該溶液を3mm厚の一般的なソーダライムガラス上にディップ法で6.0mm/secで引き上げ、100℃で1時間乾燥させた。該ガラス基板を700℃の電気炉に投入して、150秒間保持して取り出したところ青色透明の膜を得た。   The solution was pulled up by a dip method at 6.0 mm / sec on a general soda lime glass having a thickness of 3 mm and dried at 100 ° C. for 1 hour. The glass substrate was put into an electric furnace at 700 ° C., held for 150 seconds and taken out to obtain a blue transparent film.

400〜1200光透過率を測定したところ、平均97.7%であり、未処理のガラス基板の90.5%と比較して、透過率の増大分7.2%大きく改善されていた。   When the light transmittance of 400 to 1200 was measured, the average was 97.7%, which was greatly improved by 7.2% in increase in transmittance compared to 90.5% of the untreated glass substrate.

また、この被膜を純水で流水洗浄して80℃で1時間乾燥し、接触角を測定したところ、水滴は被膜表面を広がり、接触角が測定できない程度に小さくなり、被膜が超親水性であることを観察できた。また当該被膜を1Lの水中に2昼夜浸漬した後に、再度純水接触角を測定したところ、やはり水滴は被膜表面を広がり、接触角が測定できない程度に小さくなり、被膜が超親水性であることを観察できた。このことより当該親水膜は耐久性のある超親水低反射膜であることが確認できた。   In addition, this film was washed with pure water, dried at 80 ° C. for 1 hour, and the contact angle was measured. As a result, the water droplet spread on the surface of the film, and the contact angle was so small that it could not be measured. I was able to observe something. In addition, after immersing the film in 1 L of water for two days and nights, the contact angle of pure water was measured again. The water droplets spread on the surface of the film, and the contact angle was too small to be measured, and the film was superhydrophilic. Could be observed. This confirms that the hydrophilic film is a durable superhydrophilic low reflection film.

エリプソメータ((株)溝尻光学工業所DVA−FL3)による測定によれば、膜の厚みは182nm、屈折率n=1.287であった。   The film thickness was 182 nm and the refractive index n = 1.287 as measured by an ellipsometer (Mizoji Optical Co., Ltd. DVA-FL3).

親水性低反射膜の表面抵抗値は7.8×10Ω.cmであり、すぐれた帯電防止機能を有する親水性低反射部材であることが確認できた。 The surface resistance value of the hydrophilic low reflection film is 7.8 × 10 8 Ω. It was confirmed that it was a hydrophilic low-reflection member having an excellent antistatic function.

これら実施例によれば、本発明の親水低反射膜は、低反射・親水性、防汚性のいずれの効果も優れており、汚れにくく高性能の低反射膜を得ることが可能になることは明白である。
「実施例4」
2Lのセパラブルフラスコに試薬特級グレードの塩化マグネシウム89.41g(0.94mol)を採り、メタノール1850gを加え、室温で2時間攪拌し、無色透明の塩化マグネシウム溶液を得た。55重量%のフッ酸水素酸水溶液75.27g量(2.07mol)を、上記塩化マグネシウム溶液に、室温で攪拌条件下で断続的に滴下した(フッ化水素/Mg=2.20)。3時間室温で攪拌後、無色透明なゾル溶液を得た。XRDで同定したところ水酸化フッ化マグネシウムであった。
According to these examples, the hydrophilic low-reflection film of the present invention is excellent in all the effects of low reflection / hydrophilicity and antifouling property, and it becomes possible to obtain a high-performance low-reflection film that is hardly contaminated. Is obvious.
Example 4
In a 2 L separable flask, 89.41 g (0.94 mol) of reagent-grade magnesium chloride was added, 1850 g of methanol was added, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours to obtain a colorless and transparent magnesium chloride solution. An amount of 75.27 g (2.07 mol) of a 55 wt% hydrofluoric acid aqueous solution was intermittently added dropwise to the above magnesium chloride solution under stirring conditions at room temperature (hydrogen fluoride / Mg = 2.20). After stirring for 3 hours at room temperature, a colorless and transparent sol solution was obtained. When identified by XRD, it was magnesium hydroxide fluoride.

次に、当該ゾルに乾燥Nを2L/分で吹き込みバブリングしながら、約50℃で加温しつつ副生HClと過剰フッ酸を脱気させ濃縮した。約3時間バブリングするとメタノールとHClおよびフッ酸が208g除去された。残留酸分はイオンクロマトグラフィーで分析した結果Clイオンとして2.6%、Fイオンとして0.9%であった。濃度調製のためエタノールを236ml加えて、水酸化フッ化マグネシウムの固形分濃度は3.18%であった。 Next, while bubbling dry N 2 at 2 L / min into the sol, by-product HCl and excess hydrofluoric acid were degassed and concentrated while heating at about 50 ° C. Bubbling for about 3 hours removed 208 g of methanol, HCl and hydrofluoric acid. Results residual acid content was analyzed by ion chromatography Cl - 2.6% by ions, F - was 0.9% as ions. To adjust the concentration, 236 ml of ethanol was added, and the solid content concentration of magnesium hydroxide fluoride was 3.18%.

これに、金属酸化物として試薬TEOS:0.23molとTi(OnBu):0.23molを撹拌しながら添加し、さらに試薬BuSnCl:0.116molを加えてさらにアセト酢酸エチルを5.0ml添加して5時間撹拌して、淡黄色の透明ゾル溶液を得た。 To this, the reagent TEOS: 0.23 mol and Ti (OnBu) 4 : 0.23 mol were added as metal oxides while stirring, and the reagent BuSnCl 3 : 0.116 mol was further added, and 5.0 ml of ethyl acetoacetate was further added. The mixture was stirred for 5 hours to obtain a pale yellow transparent sol solution.

該溶液を3mm厚の一般的なソーダライムガラス上にディップ法で6.0mm/secで引き上げ、100℃で1時間乾燥させた。該ガラス基板を700℃の電気炉に投入して、150秒間保持して取り出したところ青色透明の膜を得た。   The solution was pulled up by a dip method at 6.0 mm / sec on a general soda lime glass having a thickness of 3 mm and dried at 100 ° C. for 1 hour. The glass substrate was put into an electric furnace at 700 ° C., held for 150 seconds and taken out to obtain a blue transparent film.

400〜1200nmの光透過率を測定したところ、平均96.7%であり、未処理のガラス基板の90.6%と比較して、透過率の増大分は6.1%大きく改善されていた。   When the light transmittance at 400 to 1200 nm was measured, the average was 96.7%, and the increase in transmittance was greatly improved by 6.1% compared with 90.6% of the untreated glass substrate. .

また、この被膜を純水で流水洗浄して80℃で1時間乾燥し、接触角を測定したところ、水滴は被膜表面を広がり、接触角が測定できない程度に小さくなり、被膜が超親水性であることを観察できた。また当該被膜を1Lの水中に2昼夜浸漬した後に、再度純水接触角を測定したところ、やはり水滴は被膜表面を広がり、接触角が測定できない程度に小さくなり、被膜が超親水性であることを観察できた。このことより当該親水膜は耐久性のある超親水低反射膜であることが確認できた。   In addition, this film was washed with pure water, dried at 80 ° C. for 1 hour, and the contact angle was measured. As a result, the water droplet spread on the surface of the film, and the contact angle was so small that it could not be measured. I was able to observe something. In addition, after immersing the film in 1 L of water for two days and nights, the contact angle of pure water was measured again. The water droplets spread on the surface of the film, and the contact angle was too small to be measured, and the film was superhydrophilic. Could be observed. This confirms that the hydrophilic film is a durable superhydrophilic low reflection film.

エリプソメータ((株)溝尻光学工業所DVA−FL3)による測定によれば、膜の厚みは177nm、屈折率n=1.324であった。   The film thickness was 177 nm and the refractive index n = 1.324, as measured by an ellipsometer (Mizoji Optical Industry DVA-FL3).

親水性低反射膜の表面抵抗値は1.6×10Ω.cmであり、すぐれた帯電防止機能を有する親水性低反射部材であることが確認できた。 The surface resistance value of the hydrophilic low reflection film is 1.6 × 10 9 Ω. It was confirmed that it was a hydrophilic low-reflection member having an excellent antistatic function.

これらの膜は環境による湿度に影響されず、帯電防止機能を有しており、被膜が超親水性でかつ帯電防止機能を有すること確認できた。   These films were not affected by humidity due to the environment and had an antistatic function, and it was confirmed that the film was superhydrophilic and had an antistatic function.

これら実施例によれば、本発明の親水低反射膜は、低反射・親水性、帯電防止、防汚性のいずれの効果も優れており、汚れにくく高性能の低反射膜を得ることが可能になることは明白である。
[比較例1]
市販のフッ化マグネシウムゾル溶液を調製し、これに、金属酸化物を加えないで、該溶液を3mm厚の一般的なソーダライムガラス上にディップ法で5.5mm/secで引き上げ、100℃で1時間乾燥させた。該ガラス基板を700℃の電気炉に投入して、150秒間保持して取り出したところ青紫色透明の膜を得た。
According to these examples, the hydrophilic low-reflection film of the present invention is excellent in all of the effects of low reflection / hydrophilicity, antistatic and antifouling, and it is possible to obtain a high-performance low-reflection film that is resistant to contamination. It is clear that
[Comparative Example 1]
A commercially available magnesium fluoride sol solution was prepared, and without adding a metal oxide, the solution was pulled on a general soda lime glass having a thickness of 3 mm by a dip method at 5.5 mm / sec. Dry for 1 hour. The glass substrate was put into an electric furnace at 700 ° C., held for 150 seconds and taken out to obtain a blue-violet transparent film.

400〜1200nmの光透過率を測定したところ、平均95.6%であり、未処理のガラス基板の90.8%と比較して、透過率の増大分4.8%しか改善されていなかった。   When the light transmittance of 400 to 1200 nm was measured, the average was 95.6%, and the increase in transmittance was only 4.8% compared with 90.8% of the untreated glass substrate. .

また、この被膜を、また当該被膜を1Lの水中に2昼夜浸漬した後に、洗浄したところ被膜が部分的に剥離して色むらが目立ち、とうてい良好な反射防止膜は得られなかった。   Further, when this film was immersed in 1 L of water for 2 days and then washed, the film was partially peeled off and the color unevenness was conspicuous, and a good antireflection film could not be obtained.

[比較例2]
1Lのフラスコに、水酸化フッ化マグネシウムを添加せず、試薬Ti(OnBu):0.246molに試薬TEOS:0.12molを撹拌しながら添加し、さらに1時間撹拌して、淡黄色の透明ゾル溶液を得た。上記透明ゾル溶液をIPAで希釈して、固形分濃度2.0%に調製した。実施例1と同様な処理により、ソーダライムガラス上にTiO/SiO膜を成膜し、黄色透明な膜を得た。
[Comparative Example 2]
To the 1 L flask, without adding magnesium hydroxide fluoride, the reagent TEOS: 0.12 mol was added to the reagent Ti (OnBu) 4 : 0.246 mol with stirring, and the mixture was further stirred for 1 hour. A sol solution was obtained. The transparent sol solution was diluted with IPA to prepare a solid concentration of 2.0%. A TiO 2 / SiO 2 film was formed on soda lime glass by the same treatment as in Example 1 to obtain a yellow transparent film.

エリプソメータ((株)溝尻光学工業所DVA−FL3)による測定によれば、膜の厚みは86nm、屈折率n=1.892であった。   The film thickness was 86 nm and the refractive index n = 1.899 as measured by an ellipsometer (Mizoji Optical Industry DVA-FL3).

400〜1200光透過率を測定したところ、平均86.7%であり、未処理のガラス基板の90.8%と比較して、−5.10%とむしろ透過率は劣るものであった。(図2)   When the 400 to 1200 light transmittance was measured, the average was 86.7%, and the transmittance was rather inferior to -5.10% compared with 90.8% of the untreated glass substrate. (Figure 2)

本発明によれば、表面に耐久性のある超親水性かつ低屈折率である被膜が形成された基材およびその製造方法が得られるため、レンズ等の光学材料、陰極線管や液晶表示装置等の画像表示面、窓やショーケース、天窓材、太陽電池、温水器、照明器具等の板ガラスや透明プラスチック等、などの親水性・防汚性・低反射帯電防止の求められる広い範囲の分野において利用できる。また、紫外〜可視光領域ばかりでなく、近赤外領域の透過性に優れるため、特に太陽電池表面保護部材として有用である。   According to the present invention, a substrate having a durable superhydrophilic and low refractive index film formed on the surface and a method for producing the same can be obtained. Therefore, an optical material such as a lens, a cathode ray tube, a liquid crystal display device, etc. In a wide range of fields that require hydrophilicity, antifouling properties, and low anti-reflection antistatic properties such as flat glass and transparent plastics for image display surfaces, windows and showcases, skylight materials, solar cells, water heaters, lighting fixtures, etc. Available. Moreover, since it is excellent not only in the ultraviolet to visible light region but also in the near infrared region, it is particularly useful as a solar cell surface protecting member.

Claims (11)

透明基板と、該透明基板上に形成される低反射膜を有する低反射部材であって、該低反射膜が、粒子径5〜500nmの水酸化フッ化マグネシウム超微粒子を含むことにより親水性を発現することを特徴とする親水性低反射部材。 A low-reflection member having a transparent substrate and a low-reflection film formed on the transparent substrate, wherein the low-reflection film contains hydrophilic magnesium hydroxide fluoride particles having a particle diameter of 5 to 500 nm. A hydrophilic low-reflective member characterized by being expressed. 水酸化フッ化マグネシウムが、MgF2−x(OH)(x=0.01〜0.5)であることを特徴とする、請求項1に記載の親水性低反射部材。 The hydrophilic low-reflection member according to claim 1, wherein the magnesium hydroxide fluoride is MgF2 -x (OH) x (x = 0.01 to 0.5). 水酸化フッ化マグネシウムが、MgF1.89(OH)0.11であることを特徴とする請求項1または2に記載の親水性低反射部材。 The hydrophilic low reflection member according to claim 1, wherein the magnesium hydroxide fluoride is MgF 1.89 (OH) 0.11 . さらに、屈折率調整剤として、金属酸化物を混合してなる請求項1乃至3のいずれか1項に記載の親水性低反射部材。 Furthermore, the hydrophilic low reflection member of any one of Claims 1 thru | or 3 formed by mixing a metal oxide as a refractive index regulator. 親水性低反射膜中の水酸化フッ化マグネシウムと金属酸化物のモル比が、水酸化フッ化マグネシウム10モルあたり、(10/0.5)〜(10/30)の範囲であることを特徴とする請求項4に記載の親水性低反射部材。 The molar ratio of magnesium hydroxide fluoride and metal oxide in the hydrophilic low reflection film is in the range of (10 / 0.5) to (10/30) per 10 moles of magnesium hydroxide fluoride. The hydrophilic low reflection member according to claim 4. 金属酸化物が、SiO、Al、CeO、ZrO、TiO2、SnO、In、Sb、Laから選ばれた1種または2種以上であることを特徴とする請求項4または5に記載の親水性低反射部材。 The metal oxide is one or more selected from SiO 2 , Al 2 O 3 , CeO 2 , ZrO 2 , TiO 2, SnO 2 , In 2 O 3 , Sb 2 O 5 , La 2 O 3. The hydrophilic low reflection member according to claim 4 or 5, wherein the hydrophilic low reflection member is provided. 水酸化フッ化マグネシウム超微粒子と金属化合物を加水分解した溶液を透明基板表面に成膜した請求項4乃至6のいずれかに記載の親水性低反射部材。 The hydrophilic low reflection member according to any one of claims 4 to 6, wherein a film obtained by hydrolyzing magnesium hydroxide fluoride ultrafine particles and a metal compound is formed on the transparent substrate surface. 波長400〜1200nmにおける(両面処理後の透過率−未処理の透過率)の差が平均透過率6%以上である発明4乃至7のいずれか1項に記載の低反射部材。 The low reflection member according to any one of Inventions 4 to 7, wherein a difference in (transmittance after double-side treatment-untransmitted transmittance) at a wavelength of 400 to 1200 nm is an average transmittance of 6% or more. 親水性低反射膜表面での水との接触角が30°以下であることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の親水性低反射部材。 The hydrophilic low reflection member according to any one of claims 1 to 8, wherein a contact angle with water on the surface of the hydrophilic low reflection film is 30 ° or less. 親水性低反射膜表面の表面抵抗値が1×1010Ω.cm以下であることを特徴とする発明1乃至9のいずれかに記載の親水性低反射部材。 The surface resistance value of the hydrophilic low reflection film surface is 1 × 10 10 Ω. The hydrophilic low-reflective member according to any one of Inventions 1 to 9, wherein the hydrophilic low-reflection member is equal to or less than cm. 請求項4乃至9のいずれか1項に記載の親水性低反射部材を用いた太陽電池用表面保護部材。 The surface protection member for solar cells using the hydrophilic low reflection member of any one of Claims 4 thru | or 9.
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