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JP2011066302A - Semiconductor light emitting device, and method of manufacturing the same - Google Patents

Semiconductor light emitting device, and method of manufacturing the same Download PDF

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JP2011066302A
JP2011066302A JP2009217223A JP2009217223A JP2011066302A JP 2011066302 A JP2011066302 A JP 2011066302A JP 2009217223 A JP2009217223 A JP 2009217223A JP 2009217223 A JP2009217223 A JP 2009217223A JP 2011066302 A JP2011066302 A JP 2011066302A
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JP
Japan
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light emitting
semiconductor light
wall surface
emitting device
recess
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Application number
JP2009217223A
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Japanese (ja)
Inventor
Hisayuki Miki
久幸 三木
Sadanori Abe
禎典 安部
Tomoyuki Takei
共之 武居
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Resonac Holdings Corp
Original Assignee
Showa Denko KK
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor light emitting device that can be improved in light extraction efficiency, and to provide a method of manufacturing the same. <P>SOLUTION: The semiconductor light emitting device 10 includes: a container portion 20 including a recessed portion 21 having a bottom surface 22 and a wall surface 23 raised from a circumferential edge of the bottom surface 22 and spreading with the distance away from the bottom surface 22; a semiconductor light emitting element 70 disposed inside the recessed portion 21; and a sealing portion 50 bonded to the bottom surface 22 of the recessed portion 21 so as to seal the semiconductor light emitting element 70 so that a second surface 52 opposed to the spreading wall surface 23 of the recessed portion 21 may form a gap with a substantially equal interval with the wall surface 23. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体発光装置およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a semiconductor light emitting device and a manufacturing method thereof.

近年、高効率、長寿命が期待されるLED(Light Emitting Diode)と呼ばれる半導体発光素子を用いた半導体発光装置が、電球や蛍光ランプに代え、照明器具や液晶ディスプレイのバックライトなどに利用されるようになってきている。
公報記載の従来技術として、半導体発光素子の周囲に半導体発光素子から出射される光を反射するリフレクタを配置するとともに、このリフレクタと接触しないように半導体発光素子を封止する透光性樹脂を設けた半導体発光装置が存在する(特許文献1、2参照)。
In recent years, semiconductor light-emitting devices using semiconductor light-emitting elements called LEDs (Light Emitting Diodes), which are expected to have high efficiency and long life, are used for lighting fixtures and backlights of liquid crystal displays in place of light bulbs and fluorescent lamps. It has become like this.
As a prior art described in the publication, a reflector that reflects light emitted from the semiconductor light emitting element is disposed around the semiconductor light emitting element, and a light-transmitting resin that seals the semiconductor light emitting element is provided so as not to contact the reflector. Semiconductor light emitting devices exist (see Patent Documents 1 and 2).

特開2008−205395号公報JP 2008-205395 A 特開平8−264840号公報JP-A-8-264840

このような半導体発光装置では、半導体発光素子から出力される光をより多く外部に取り出せるようにすること、すなわち、半導体発光装置における光取り出し効率を向上させることが要請されている。
そこで、光取り出し効率を向上させることのできる半導体発光装置を提供することを本発明の課題とする。また、光取り出し効率を向上させることのできる半導体発光装置の製造方法を提供することを、本発明の課題とする。
In such a semiconductor light emitting device, it is required to allow more light output from the semiconductor light emitting element to be extracted outside, that is, to improve the light extraction efficiency in the semiconductor light emitting device.
Accordingly, an object of the present invention is to provide a semiconductor light emitting device capable of improving the light extraction efficiency. It is another object of the present invention to provide a method for manufacturing a semiconductor light emitting device that can improve light extraction efficiency.

かかる目的のもと、本発明の半導体発光装置は、底面および当該底面の周縁から立ち上がり前記底面から遠ざかるに従って拡開する壁面を備えた凹部を有する容器部と、前記凹部の内側に配置された半導体発光素子と、前記凹部の前記底面に前記半導体発光素子を封止するように接合され、当該凹部の拡開する前記壁面と対向する面が当該壁面と略等間隔な間隙を形成する封止部とを有する。   For this purpose, the semiconductor light-emitting device of the present invention includes a container portion having a recess having a bottom surface and a wall surface that rises from the periphery of the bottom surface and expands away from the bottom surface, and a semiconductor disposed inside the recess. A sealing portion bonded to the light emitting element and the bottom surface of the recess so as to seal the semiconductor light emitting element, and a surface opposite to the wall surface where the recess expands forms a substantially equal gap with the wall surface And have.

また、前記間隙は、前記凹部に供給された液体封止剤を固体化して封止部を形成する際に、当該液体封止剤が収縮することによって形成されることを特徴とする。   The gap is formed by contraction of the liquid sealing agent when the liquid sealing agent supplied to the recess is solidified to form a sealing portion.

さらに、前記凹部の前記底面が、前記凹部の前記壁面よりも粗いことを特徴とする。   Furthermore, the bottom surface of the recess is rougher than the wall surface of the recess.

本発明の半導体発光装置の製造方法は、底面および当該底面の周縁から立ち上がる壁面を備えた凹部を有する容器部に対し、当該凹部の内側に半導体発光素子を配置する工程と、 前記半導体発光素子が配置された前記凹部に液体封止剤を供給する工程と、前記凹部に供給された前記液体封止剤を固体化させるのに伴って当該液体封止剤を収縮させることにより、当該凹部の前記壁面と当該液体封止剤の間に空隙を形成し且つ前記半導体発光素子を封止する封止部を形成する工程とを含む。   The method of manufacturing a semiconductor light emitting device according to the present invention includes a step of disposing a semiconductor light emitting element inside a concave portion with respect to a container portion having a concave portion having a bottom surface and a wall surface rising from a peripheral edge of the bottom surface. Supplying the liquid sealant to the disposed recess, and shrinking the liquid sealant as the liquid sealant supplied to the recess is solidified, thereby Forming a gap between the wall surface and the liquid sealant and forming a sealing portion for sealing the semiconductor light emitting element.

また、前記液体封止剤を供給する工程の前に、前記壁面と前記液体封止剤との密着性を低下させる離型剤を前記壁面に備えさせる工程をさらに含む。   In addition, the method further includes a step of providing the wall surface with a release agent that reduces the adhesion between the wall surface and the liquid sealing agent before the step of supplying the liquid sealing agent.

さらに、前記半導体発光素子を配置する工程で用いられる前記容器部の前記壁面が、前記底面から遠ざかるに従って拡開し、かつ前記半導体発光素子から出力される光に対する反射性を有していることを特徴とする。   Furthermore, the wall surface of the container used in the step of disposing the semiconductor light emitting element expands as it gets away from the bottom surface, and has reflectivity with respect to light output from the semiconductor light emitting element. Features.

さらにまた、前記半導体発光素子を配置する工程で用いられる前記容器部の前記底面には、あらし処理が施されており、前記封止部を形成する工程において、当該底面と前記封止部とは接触していることを特徴とする。   Furthermore, the bottom surface of the container portion used in the step of disposing the semiconductor light emitting element is subjected to storm treatment, and in the step of forming the sealing portion, the bottom surface and the sealing portion are It is characterized by being in contact.

本発明の半導体発光装置によれば、光取り出し効率を向上させた半導体発光装置を提供することができる。さらに本発明の半導体発光装置の製造方法によれば、光取り出し効率を向上させた半導体発光装置の製造方法を提供することができる。   According to the semiconductor light emitting device of the present invention, a semiconductor light emitting device with improved light extraction efficiency can be provided. Furthermore, according to the method for manufacturing a semiconductor light emitting device of the present invention, it is possible to provide a method for manufacturing a semiconductor light emitting device with improved light extraction efficiency.

本発明の製造方法によって製造された半導体発光装置の一例の上面図である。It is a top view of an example of a semiconductor light emitting device manufactured by the manufacturing method of the present invention. 図1におけるII-IIの断面図である。It is sectional drawing of II-II in FIG. 本発明の半導体発光装置の製造方法の工程を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the process of the manufacturing method of the semiconductor light-emitting device of this invention.

以下、添付図面を参照して、本発明の実施の形態について詳細に説明する。   Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.

図1は本発明の製造方法によって製造された半導体発光装置10の一例を上面から見た図であり、図2は図1のII-IIにおける断面図を示した図である。   FIG. 1 is a top view of an example of a semiconductor light emitting device 10 manufactured by the manufacturing method of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line II-II in FIG.

この半導体発光装置10は、凹部21が形成された容器部20と、本体部の凹部21の内側に配置された半導体発光素子70と、容器部20の凹部21に半導体発光素子70を覆うように設けられた封止部50とを備える。また、容器部20に設けられた凹部21は、円形状を有する底面22と、底面22の周縁から立ち上がり底面22から遠ざかるに従って拡開する壁面23とを備えている。   The semiconductor light emitting device 10 includes a container portion 20 in which a recess 21 is formed, a semiconductor light emitting element 70 disposed inside the recess 21 of the main body portion, and the semiconductor light emitting element 70 covered with the recess 21 of the container portion 20. The provided sealing part 50 is provided. The concave portion 21 provided in the container portion 20 includes a circular bottom surface 22 and a wall surface 23 that rises from the periphery of the bottom surface 22 and expands away from the bottom surface 22.

封止部50は、容器部20の凹部21に設けられた底面22と接する一方、壁面23とは間隙を形成する状態である。すなわち、容器部20の凹部21に設けられた拡開する壁面23と、壁面23と対向する封止部50の面(後述する第2の面52)との間には間隙が形成されている。この間隙は略等間隔であり、凹部21に供給された液体封止剤55(図3参照)を固体化して封止部50を形成する際に、後述する液体封止剤55が収縮することによって形成される。本実施の形態では、この間隙は気体層60となっている。   The sealing portion 50 is in contact with the bottom surface 22 provided in the concave portion 21 of the container portion 20, while forming a gap with the wall surface 23. That is, a gap is formed between the expanding wall surface 23 provided in the concave portion 21 of the container portion 20 and the surface of the sealing portion 50 (second surface 52 described later) facing the wall surface 23. . The gaps are substantially equidistant, and the liquid sealing agent 55 described later contracts when the liquid sealing agent 55 (see FIG. 3) supplied to the recess 21 is solidified to form the sealing portion 50. Formed by. In the present embodiment, this gap is the gas layer 60.

なお、本明細書における上側の面とは、半導体発光素子70から出射される光を半導体発光装置10から取り出す側の面をいい、本明細書における下側の面とは、上側の面とは反対側の面、すなわち半導体発光素子70の光を半導体発光装置10から取り出す面と反対側の面をいう。   In addition, the upper surface in this specification refers to the surface on the side from which the light emitted from the semiconductor light emitting element 70 is extracted from the semiconductor light emitting device 10, and the lower surface in this specification refers to the upper surface. The opposite surface, that is, the surface opposite to the surface from which the light of the semiconductor light emitting element 70 is extracted from the semiconductor light emitting device 10 is meant.

以下、半導体発光装置10の各構成を説明する。   Hereinafter, each configuration of the semiconductor light emitting device 10 will be described.

<容器部>
容器部20は容器30とリード部40とを備えており、リード部40はアノード用リード部41およびカソード用リード部42を有している。
<Container part>
The container part 20 includes a container 30 and a lead part 40, and the lead part 40 has an anode lead part 41 and a cathode lead part 42.

容器30は、例えば白色顔料を含有する熱可塑性樹脂によって構成されている。容器30を構成する熱可塑性樹脂としては、9T―ナイロン(登録商標)、シリコン樹脂、あるいは液晶ポリマー(芳香族ポリエステル)などが挙げられる。なお、容器30については、上述した熱可塑性樹脂の他、例えばセラミック等を用いて構成してもよい。
なお、凹部21の壁面23と凹部21の底面22とが形成する角度は、図2に示すような、底面22の中心を通る容器部20の断面において、105°〜175°であることが好ましい。
The container 30 is made of, for example, a thermoplastic resin containing a white pigment. Examples of the thermoplastic resin constituting the container 30 include 9T-nylon (registered trademark), silicone resin, and liquid crystal polymer (aromatic polyester). In addition, about the container 30, you may comprise using a ceramic etc. other than the thermoplastic resin mentioned above, for example.
In addition, it is preferable that the angle which the wall surface 23 of the recessed part 21 and the bottom face 22 of the recessed part 21 form is 105 degrees-175 degrees in the cross section of the container part 20 which passes along the center of the bottom face 22 as shown in FIG. .

次に、アノード用リード部41およびカソード用リード部42は、それぞれの一部が容器30に挟み込まれることによって保持されている。また、アノード用リード部41およびカソード用リード部42は、それぞれの一端側が凹部21の底面22に露出し、それぞれの他端側が容器30の外部に露出するようになっている。そして、アノード用リード部41およびカソード用リード部42のそれぞれの他端側は、容器30の裏側(凹部21とは反対側)に折り曲げられている。   Next, the anode lead portion 41 and the cathode lead portion 42 are held by being partially sandwiched between the containers 30. In addition, the anode lead portion 41 and the cathode lead portion 42 are configured such that one end side thereof is exposed on the bottom surface 22 of the recess 21 and the other end side thereof is exposed to the outside of the container 30. The other end sides of the anode lead portion 41 and the cathode lead portion 42 are bent to the back side of the container 30 (the side opposite to the concave portion 21).

リード部40を構成するアノード用リード部41およびカソード用リード部42は、0.1〜0.5mm程度の厚みを有する金属板から形成されている。リード部40の材質としては加工性や熱伝導性に優れた金属が好ましい。リード部40としては、例えば、鉄/銅合金をベースとし、さらにその上にメッキ層としてニッケル、チタン、金、銀などを数μm積層したものが用いられる。なお、本実施の形態では、表面に銀のメッキ層が形成されたアノード用リード部41およびカソード用リード部42を用いている。   The anode lead part 41 and the cathode lead part 42 constituting the lead part 40 are formed of a metal plate having a thickness of about 0.1 to 0.5 mm. The material of the lead part 40 is preferably a metal excellent in workability and thermal conductivity. As the lead part 40, for example, an iron / copper alloy is used as a base, and nickel, titanium, gold, silver or the like is laminated thereon as a plating layer. In this embodiment, the anode lead part 41 and the cathode lead part 42 having a silver plating layer formed on the surface are used.

また、容器部20の凹部21を構成する底面22には、上述したようにアノード用リード部41およびカソード用リード部42が露出しており、両者の間には容器30を構成する材料(例えば熱可塑性樹脂)が露出している。そして、本実施の形態では、アノード用リード部41が底面22の中央部まで延びて形成されている。   Further, as described above, the anode lead portion 41 and the cathode lead portion 42 are exposed on the bottom surface 22 constituting the concave portion 21 of the container portion 20, and a material (for example, a material constituting the container 30 (for example, The thermoplastic resin is exposed. In the present embodiment, the anode lead portion 41 is formed to extend to the central portion of the bottom surface 22.

一方で、底面22とともに容器部20の凹部21を構成する壁面23には、容器30を構成する材料(例えば白色顔料を含有する熱可塑性樹脂)が露出している。ここで、壁面23は、半導体発光素子70から出力される光に対する反射性を有していることが好ましい。ただし、容器30を構成する材料ではなく、他の材料によって壁面23を形成してもかまわない。例えば壁面23は金属から形成されてもよい。   On the other hand, the material (for example, the thermoplastic resin containing a white pigment) which comprises the container 30 is exposed to the wall surface 23 which comprises the recessed part 21 of the container part 20 with the bottom face 22. FIG. Here, the wall surface 23 preferably has reflectivity for the light output from the semiconductor light emitting element 70. However, the wall surface 23 may be formed of other materials instead of the material constituting the container 30. For example, the wall surface 23 may be made of metal.

<半導体発光素子>
半導体発光素子70は、容器30の凹部21の底面22の中央部に設けられたカソード用リード部42の上に取り付けられている。また、半導体発光素子70に設けられたアノード電極は底面22に露出するアノード用リード部41と、半導体発光素子70に設けられたカソード電極は底面22に露出するカソード用リード部42と、それぞれ金線を用いて電気的に接続されている。
<Semiconductor light emitting device>
The semiconductor light emitting device 70 is mounted on a cathode lead portion 42 provided at the center of the bottom surface 22 of the recess 21 of the container 30. The anode electrode provided on the semiconductor light emitting element 70 is an anode lead 41 exposed on the bottom surface 22, and the cathode electrode provided on the semiconductor light emitting element 70 is a cathode lead 42 exposed on the bottom 22. They are electrically connected using wires.

半導体発光素子70は、430nm以上500nm以下の波長領域に主発光ピークを有する青色光を発するものであり、サファイア基板の上に形成されるAlNからなるシード層と、シード層上に形成される下地層と、GaNを主体とする積層半導体層とを少なくとも備えている。積層半導体層は、基板側から下地層、n型半導体層、発光層、p型半導体層の順に積層されて構成されている。なお、本実施の形態では、半導体発光素子70の順方向電圧Vが、+3.2Vとなっている。 The semiconductor light emitting device 70 emits blue light having a main emission peak in a wavelength region of 430 nm or more and 500 nm or less, and includes a seed layer made of AlN formed on a sapphire substrate, and a bottom layer formed on the seed layer. It includes at least a base layer and a laminated semiconductor layer mainly composed of GaN. The laminated semiconductor layer is configured by laminating a base layer, an n-type semiconductor layer, a light emitting layer, and a p-type semiconductor layer in this order from the substrate side. In the present embodiment, the forward voltage V f of the semiconductor light emitting element 70 is + 3.2V.

<封止部>
封止部50は、凹部21の底面22に、半導体発光素子70を封止するように接合される。封止部50は、容器部20の凹部21に設けられた底面22と接する第1の面51と、凹部21に設けられた壁面23と気体層60を介して対向する第2の面52と、凹部21の開口側に設けられた第3の面53とを有している。
ここで、第1の面51は、凹部21の底面22を構成するアノード用リード部41、カソード用リード部42およびこれらの間に存在する熱可塑性樹脂と、底面22上に設けられた半導体発光素子70とに、それぞれ接する。
<Sealing part>
The sealing unit 50 is bonded to the bottom surface 22 of the recess 21 so as to seal the semiconductor light emitting element 70. The sealing unit 50 includes a first surface 51 that contacts the bottom surface 22 provided in the recess 21 of the container unit 20, and a second surface 52 that faces the wall surface 23 provided in the recess 21 via the gas layer 60. And a third surface 53 provided on the opening side of the recess 21.
Here, the first surface 51 is composed of the anode lead portion 41, the cathode lead portion 42, and the thermoplastic resin existing between them, which constitute the bottom surface 22 of the recess 21, and the semiconductor light emission provided on the bottom surface 22. The element 70 is in contact with each other.

また、封止部50は、可視領域の波長において光透過率が高く、また屈折率が高い透明材料から形成される。特に、封止部50が封止する半導体発光素子70の発光波長に対して、光透過率が高い材料が好ましい。封止部50を構成する材質としては、耐熱性、耐光性、および機械的強度が高い特性を満たす材質が用いられる。例えば、シリコン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ゾル―ゲルガラスなどが好ましい。これらの原材料は、固体化に伴って収縮することで体積が小さくなる特性を有している。上記の原材料のうちシリコン樹脂がさらに好ましく、特に好ましいのは、カップリング剤を含まないシリコン樹脂である。ここで、カップリング剤とは、他の部材との密着性を高めるために添加されるものであり、例えば、エポキシ基、アクリル基、ビニル基などを官能基として有する有機変性シリコン成分などがある。なお、封止部50がシリコン樹脂から形成され、さらに容器30もシリコン樹脂から形成されることが好ましく、さらに好ましいのは、封止部50がカップリング剤を含まないシリコン樹脂から形成され、容器30はシリコン樹脂から形成されることである。   The sealing portion 50 is formed of a transparent material having a high light transmittance and a high refractive index at wavelengths in the visible region. In particular, a material having a high light transmittance with respect to the emission wavelength of the semiconductor light emitting element 70 sealed by the sealing portion 50 is preferable. As a material constituting the sealing portion 50, a material satisfying characteristics of high heat resistance, light resistance, and mechanical strength is used. For example, silicon resin, epoxy resin, acrylic resin, sol-gel glass and the like are preferable. These raw materials have a characteristic that the volume is reduced by shrinking as the solidification occurs. Of the above-mentioned raw materials, a silicon resin is more preferable, and a silicon resin not containing a coupling agent is particularly preferable. Here, the coupling agent is added in order to improve adhesion to other members, for example, an organically modified silicon component having an epoxy group, an acrylic group, a vinyl group or the like as a functional group. . In addition, it is preferable that the sealing part 50 is formed from a silicon resin, and the container 30 is also preferably formed from a silicon resin, and more preferably, the sealing part 50 is formed from a silicon resin that does not include a coupling agent. 30 is formed of silicon resin.

なお、封止部50には、必要に応じて蛍光体を含有させてもよい。蛍光体は、半導体発光素子70から出射される光の一部を、より長波長の光に変換するものである。
また、図2に示す例において、封止部50の第3の面53は凸面として示されているがこの形状に限定されるものではなく、第3の面53は、平面、凹面、あるいは集光性を高めるために溝や突起を有する面であってもよい。
さらに、限定するものではないが、本実施の形態の半導体発光素子70は0.35mm幅であり、封止部50は、上側の面の径:2.4mm、下側の面の径:1.9mm、封止部50の高さ:0.85mmであり、封止部50の屈折率は1.41〜1.42であり、封止部50と壁面23との間の間隙は0.01mmである。なお、封止部50と壁面23との間の間隙は0.01mm〜0.1mmであることが好ましい。
In addition, you may make the sealing part 50 contain a fluorescent substance as needed. The phosphor converts part of the light emitted from the semiconductor light emitting element 70 into light having a longer wavelength.
In the example shown in FIG. 2, the third surface 53 of the sealing portion 50 is shown as a convex surface, but the shape is not limited to this, and the third surface 53 may be a flat surface, a concave surface, or a collection surface. It may be a surface having grooves or protrusions in order to enhance the light property.
Further, although not limited, the semiconductor light emitting device 70 of the present embodiment has a width of 0.35 mm, and the sealing part 50 has an upper surface diameter of 2.4 mm and a lower surface diameter of 1: 0.9 mm and the height of the sealing portion 50: 0.85 mm, the refractive index of the sealing portion 50 is 1.41 to 1.42, and the gap between the sealing portion 50 and the wall surface 23 is 0.00. 01 mm. In addition, it is preferable that the clearance gap between the sealing part 50 and the wall surface 23 is 0.01 mm-0.1 mm.

次に、上述した半導体発光素子70の発光動作について説明する。
アノード用リード部41およびカソード用リード部42との間に、順方向電圧Vを印加すると、アノード用リード部41から半導体発光素子70を介してカソード用リード部42に順方向電流が流れ、その結果、半導体発光素子70は光を発する。そして、半導体発光素子70から発せられた光は、封止部50内を進行し、直接あるいは底面22と対向する第1の面51および壁面23と対向する第2の面52にて反射した後、第3の面53から外部に出射される。ただし、封止部50の第3の面53に向かう光の一部は、第3の面53で反射し、再び封止部50内を進行する。ここで、封止部50が蛍光体を含んでいる場合は、封止部50を進行する光の一部がより長波長の光に変換され、半導体発光素子70から発せられる波長の光とともに外部に出射される。
Next, the light emitting operation of the semiconductor light emitting device 70 described above will be described.
When a forward voltage V f is applied between the anode lead 41 and the cathode lead 42, a forward current flows from the anode lead 41 to the cathode lead 42 via the semiconductor light emitting element 70. As a result, the semiconductor light emitting element 70 emits light. Then, after the light emitted from the semiconductor light emitting device 70 travels through the sealing portion 50 and is reflected directly or by the first surface 51 facing the bottom surface 22 and the second surface 52 facing the wall surface 23. The light is emitted from the third surface 53 to the outside. However, a part of the light traveling toward the third surface 53 of the sealing unit 50 is reflected by the third surface 53 and travels through the sealing unit 50 again. Here, when the sealing unit 50 includes a phosphor, a part of the light traveling through the sealing unit 50 is converted into light having a longer wavelength, and the light is emitted from the semiconductor light emitting element 70 together with the light having the wavelength. Is emitted.

この間、封止部50内を進行する光のうち、底面22と対向する第1の面51に向かう光は、封止部50の第1の面51と底面22との界面において反射することになる。ここで、本実施の形態では、底面22に露出するアノード用リード部41およびカソード用リード部42の表面に銀メッキ層を形成しているので、封止部50の第1の面51に向かう光は、この銀メッキ層によって反射される。   During this time, out of the light traveling in the sealing portion 50, the light traveling toward the first surface 51 facing the bottom surface 22 is reflected at the interface between the first surface 51 and the bottom surface 22 of the sealing portion 50. Become. Here, in the present embodiment, since the silver plating layer is formed on the surfaces of the anode lead portion 41 and the cathode lead portion 42 exposed on the bottom surface 22, the surface faces the first surface 51 of the sealing portion 50. Light is reflected by this silver plating layer.

また、封止部50内を進行する光のうち、壁面23と対向する第2の面52に向かう光は、封止部50の第2の面52と気体層60との界面において反射することになる。ここで、本実施の形態のように封止部50の第2の面52の外側に気体層60を設けた場合には、気体層60を設けずに封止部50の第2の面52と壁面23とを直接接触させる構成を採用した場合と比較して、界面での屈折率差が大きくなる。このため、前者の構成を採用した場合には、後者の構成を採用した場合と比較して、封止部50の第2の面52から外部に飛び出す光の量が少なくなり、その分、封止部50の第2の面52から封止部50内に戻る光の量が多くなる。   Of the light traveling in the sealing portion 50, the light traveling toward the second surface 52 facing the wall surface 23 is reflected at the interface between the second surface 52 of the sealing portion 50 and the gas layer 60. become. Here, when the gas layer 60 is provided outside the second surface 52 of the sealing portion 50 as in the present embodiment, the second surface 52 of the sealing portion 50 is not provided without providing the gas layer 60. The difference in refractive index at the interface is larger than when a configuration in which the wall 23 and the wall surface 23 are in direct contact is employed. For this reason, when the former configuration is adopted, the amount of light jumping out from the second surface 52 of the sealing portion 50 is reduced compared to the case where the latter configuration is adopted. The amount of light returning from the second surface 52 of the stopper 50 into the sealing portion 50 increases.

封止部50の第2の面52から外部に飛び出した光は、その一部が壁面23によって反射されることになるが、一部は壁面23で吸収されることになる。これに対し、封止部50内では、壁面23よりも光の吸収が生じにくい。したがって、気体層60を介して封止部50と壁面23とを対向させることで、封止部50の第2の面52から外部に飛び出す光の量を低減することができ、結果として半導体発光装置10から出射される光の取出し効率を高めることができる。   A part of the light jumping out from the second surface 52 of the sealing portion 50 is reflected by the wall surface 23, but a part of the light is absorbed by the wall surface 23. On the other hand, light absorption is less likely to occur in the sealing portion 50 than the wall surface 23. Therefore, by making the sealing portion 50 and the wall surface 23 face each other via the gas layer 60, the amount of light that jumps out from the second surface 52 of the sealing portion 50 can be reduced, resulting in semiconductor light emission. The extraction efficiency of light emitted from the device 10 can be increased.

なお、本実施の形態では、気体層60を介して封止部50の第2の面52と壁面23とを対向配置させている。したがって、第2の面52から気体層60側に飛び出してくる光の一部については、底面22から遠ざかるに従って拡開している壁面23の表面で反射させることで半導体発光装置10の外部に出射させることができる。これは、壁面23がリフレクタとして機能するためである。ここで、壁面23が半導体発光素子70から出力される光に対する反射性を有していると、光の取出し効率をさらに高めることができるため好ましい。
結果として、壁面23の表面で反射させることで、半導体発光装置10から出射される光の取出し効率をさらに高めることができる。なお、壁面23が白色顔料を含有する熱可塑性樹脂または金属で構成されると、反射性が高まる。
In the present embodiment, the second surface 52 and the wall surface 23 of the sealing unit 50 are arranged to face each other with the gas layer 60 interposed therebetween. Therefore, a part of the light that jumps out from the second surface 52 toward the gas layer 60 is reflected by the surface of the wall surface 23 that expands away from the bottom surface 22 to be emitted to the outside of the semiconductor light emitting device 10. Can be made. This is because the wall surface 23 functions as a reflector. Here, it is preferable that the wall surface 23 has reflectivity with respect to the light output from the semiconductor light emitting element 70 because the light extraction efficiency can be further increased.
As a result, the efficiency of extracting light emitted from the semiconductor light emitting device 10 can be further increased by reflecting the light on the surface of the wall surface 23. In addition, if the wall surface 23 is comprised with the thermoplastic resin or metal containing a white pigment, reflectivity will increase.

本実施の形態では、半導体発光装置10の光の取出し効率が、従来の半導体発光装置と比較して10%〜20%向上することが確認された。   In the present embodiment, it has been confirmed that the light extraction efficiency of the semiconductor light emitting device 10 is improved by 10% to 20% compared to the conventional semiconductor light emitting device.

<半導体発光装置の製造方法>
次に、本発明の半導体発光装置10の製造方法について、図3を参照しながら説明する。図3は、本発明の実施形態によって製造される半導体発光装置10の凹部21周辺の断面図を、工程ごとに示したものである。
<Method for Manufacturing Semiconductor Light Emitting Device>
Next, a method for manufacturing the semiconductor light emitting device 10 of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a sectional view of the periphery of the recess 21 of the semiconductor light emitting device 10 manufactured according to the embodiment of the present invention for each process.

<容器部形成工程>
まず、リード部40および容器30を有する容器部20の製造を行う。容器部20の製造は、例えばリード部40の原材料となるフレーム板金に、例えば白色の熱可塑性樹脂を射出成型することによって行われる。このとき、容器部20には凹部21が形成される。なお、容器部形成工程については、必ずしも一連の工程として行う必要はなく、事前の製造工程で容器部20を製造するようにしてもかまわない。
<Container formation process>
First, the container part 20 having the lead part 40 and the container 30 is manufactured. The container part 20 is manufactured, for example, by injection molding, for example, white thermoplastic resin on a frame sheet metal that is a raw material of the lead part 40. At this time, the recess portion 21 is formed in the container portion 20. In addition, about the container part formation process, it does not necessarily need to perform as a series of processes, and you may make it manufacture the container part 20 by a prior manufacturing process.

<発光素子接続工程>
次に、半導体発光素子を配置する工程である、発光素子接続工程においては、図3(a)に示すように、容器部20の凹部21に設けられた底面22の中央部すなわちカソード用リード部42が露出している部位に、接着剤等を用いて半導体発光素子70を取り付けるダイボンドを行う。続いて半導体発光素子70のアノード電極と底面22に露出するアノード用リード部41とを金線を用いて電気的に接続し、且つ、この半導体発光素子70のカソード電極と底面22に露出するカソード用リード部42とを金線にて電気的に接続するワイヤボンドを行う。
<Light emitting element connection process>
Next, in the light emitting element connection step, which is a step of arranging the semiconductor light emitting elements, as shown in FIG. 3A, the center portion of the bottom surface 22 provided in the concave portion 21 of the container portion 20, that is, the cathode lead portion. Die bonding is performed to attach the semiconductor light emitting element 70 using an adhesive or the like to the portion where the 42 is exposed. Subsequently, the anode electrode 41 of the semiconductor light emitting device 70 and the anode lead 41 exposed on the bottom surface 22 are electrically connected using a gold wire, and the cathode electrode of the semiconductor light emitting device 70 and the cathode exposed on the bottom surface 22 are connected. Wire bonding is performed to electrically connect the lead portion 42 for use with a gold wire.

<離型剤塗布工程>
そして、図3(b)に示すように、容器部20の凹部21に設けられた壁面23に離型剤80を塗布する。このとき、底面22には離型剤80を塗布しないことが望ましい。本実施の形態で用いる離型剤80は、壁面23と封止部50の原材料となる液体封止剤55(後述する図3(c)参照)との密着性を低下させる機能を有するものであればよい。なお、離型剤塗布工程は本発明に必須な工程ではない。
<Releasing agent application process>
And as shown in FIG.3 (b), the mold release agent 80 is apply | coated to the wall surface 23 provided in the recessed part 21 of the container part 20. As shown in FIG. At this time, it is desirable not to apply the release agent 80 to the bottom surface 22. The mold release agent 80 used in the present embodiment has a function of reducing the adhesion between the wall surface 23 and a liquid sealant 55 (see FIG. 3C described later) that is a raw material of the sealing portion 50. I just need it. The release agent application step is not an essential step in the present invention.

<封止剤供給工程>
さらに、凹部に液体封止剤を供給する工程である、封止剤供給工程においては、図3(c)に示すように、容器部20の凹部21に液体封止剤55を供給する。このとき、液体封止剤55は、凹部21の底面22および壁面23の両者に接した状態となる。なお、液体封止剤55には、必要に応じて蛍光体を含有させるようにしてもよい。
<Sealing agent supply process>
Furthermore, in the sealing agent supply step, which is a step of supplying the liquid sealing agent to the recess, the liquid sealing agent 55 is supplied to the recess 21 of the container portion 20 as shown in FIG. At this time, the liquid sealant 55 is in contact with both the bottom surface 22 and the wall surface 23 of the recess 21. In addition, you may make it make the liquid sealing agent 55 contain a fluorescent substance as needed.

<固体化工程>
そして、封止部を形成する工程である、固体化工程については、図3(d)に示すように、容器部20の凹部21に供給された液体封止剤55を固体化させて封止部50を形成する。液体封止剤55を固体化させるためには、液体封止剤55に熱処理や光照射を行う。
熱処理などを行うことで、液体封止剤55が固体化して封止部50となる際に、液体封止剤55に収縮が生じる。一方、上記処理によって、容器部20には大きな形状変化はなく、凹部21の壁面23は大きく移動しない。したがって、得られる封止部50の第2の面52は凹部21の壁面23との間で間隙を形成する(図中矢印参照)。また、液体封止剤55が固体化するために収縮する際、液体封止剤55は凹部21の底面22との接触を維持することから、得られる封止部50の第1の面51は凹部21の底面22と接触したままとなる。
このようにして液体封止剤55が固体化して封止部50となることから、封止部50の第2の面52と容器部20の凹部21に設けられた壁面23との間には間隙が形成され、例えば大気中であればこの間隙に空気が入り込むことによって気体層60が形成されることとなる。なお、容器部20の凹部21の開口を鉛直上方に向けた状態で、液体封止剤55の収縮を行うようにすれば、上述のような状態の封止部50が得られやすくなる。
以上により、図1に示す半導体発光装置10が得られる。
<Solidification process>
And about the solidification process which is a process of forming a sealing part, as shown in FIG.3 (d), the liquid sealing agent 55 supplied to the recessed part 21 of the container part 20 is solidified and sealed. Part 50 is formed. In order to solidify the liquid sealant 55, the liquid sealant 55 is subjected to heat treatment or light irradiation.
By performing the heat treatment or the like, the liquid sealing agent 55 contracts when the liquid sealing agent 55 is solidified to form the sealing portion 50. On the other hand, the container portion 20 is not greatly changed in shape by the above processing, and the wall surface 23 of the recess 21 does not move greatly. Therefore, the 2nd surface 52 of the sealing part 50 obtained forms a clearance gap between the wall surfaces 23 of the recessed part 21 (refer arrow in the figure). In addition, when the liquid sealant 55 contracts to solidify, the liquid sealant 55 maintains contact with the bottom surface 22 of the recess 21, so that the first surface 51 of the obtained seal part 50 is It remains in contact with the bottom surface 22 of the recess 21.
Thus, since the liquid sealing agent 55 is solidified to form the sealing portion 50, there is a gap between the second surface 52 of the sealing portion 50 and the wall surface 23 provided in the recess 21 of the container portion 20. A gap is formed. For example, in the atmosphere, the gas layer 60 is formed by air entering the gap. In addition, if the liquid sealing agent 55 is contracted in a state where the opening of the concave portion 21 of the container portion 20 is directed vertically upward, the sealing portion 50 having the above-described state can be easily obtained.
Thus, the semiconductor light emitting device 10 shown in FIG. 1 is obtained.

このようにして得られる半導体発光装置10において、封止部50は、凹部21の底面22を介して容器部20と接合しており、接合を維持するためには封止部50と凹部21の底面22との密着性が高いことが望ましい。一方で、封止部50は、凹部21の壁面23との間に間隙を形成しており、原材料となる液体封止剤55が壁面23と離れるためには液体封止剤55と凹部21の壁面23との密着性は低いことが望ましい。これらの要求を満たす構成としては、例えば凹部21の底面22を、凹部21の壁面23よりも粗くすることが挙げられる。この構成を有することで、より粗い面である底面22と封止部50の第1の面51との間は密着性が高いことから、封止部50は底面22から外れにくくなるのに対して、より滑らかな壁面23との密着性は低いことから、壁面23と封止部50との間の間隙が形成しやすくなる。
ここで、凹部21の底面22を、凹部21の壁面23よりも粗くする手段として、例えば容器部形成工程において予め底面22に凹凸を形成しておくことが挙げられる。この凹凸に液体封止剤55を入り込ませた状態で固体化させると所謂アンカー効果を発揮し、凹部21の底面22と封止部50の密着性が高められる。
In the semiconductor light emitting device 10 obtained in this way, the sealing portion 50 is bonded to the container portion 20 via the bottom surface 22 of the concave portion 21, and the sealing portion 50 and the concave portion 21 are maintained in order to maintain the bonding. It is desirable that the adhesiveness with the bottom surface 22 is high. On the other hand, the sealing part 50 forms a gap between the wall surface 23 of the recess 21 and the liquid sealing agent 55 as a raw material is separated from the wall surface 23 so that the liquid sealing agent 55 and the recess 21 It is desirable that the adhesion with the wall surface 23 is low. As a configuration that satisfies these requirements, for example, the bottom surface 22 of the recess 21 is made rougher than the wall surface 23 of the recess 21. By having this structure, since the adhesiveness between the bottom surface 22 which is a rougher surface and the first surface 51 of the sealing portion 50 is high, the sealing portion 50 is less likely to be detached from the bottom surface 22. In addition, since the adhesion with the smoother wall surface 23 is low, a gap between the wall surface 23 and the sealing portion 50 is easily formed.
Here, as a means for making the bottom surface 22 of the concave portion 21 rougher than the wall surface 23 of the concave portion 21, for example, an unevenness is formed on the bottom surface 22 in advance in the container portion forming step. When solidified in a state where the liquid sealing agent 55 enters the unevenness, a so-called anchor effect is exhibited, and the adhesion between the bottom surface 22 of the recess 21 and the sealing portion 50 is enhanced.

そして、容器部20の底面22に凹凸を形成する手法としては、例えば底面22に露出した状態で設けられるアノード用リード部41およびカソード用リード部42の表面にあらし処理をしておくことが挙げられる。このようなあらし処理の一例として、例えばアノード用リード部41およびカソード用リード部42の表面にデンドライト成長させたメッキ層を形成することが挙げられる。また、容器30のうち底面22に露出する部位に対し、予めあらし処理を行っておくようにしてもよい。   Then, as a method for forming irregularities on the bottom surface 22 of the container portion 20, for example, a surface treatment is performed on the surfaces of the anode lead portion 41 and the cathode lead portion 42 that are provided exposed on the bottom surface 22. It is done. As an example of such a storm treatment, for example, a plating layer formed by dendrite growth may be formed on the surfaces of the anode lead portion 41 and the cathode lead portion 42. Moreover, you may make it perform a storm processing previously about the site | part exposed to the bottom face 22 among the containers 30. FIG.

以上説明したように、本実施の形態では、半導体発光装置10の製造において、液体封止剤55を固体化して封止部50を形成する際の収縮を利用して、封止部50の第2の面52と容器部20の壁面23との間に間隙を形成させるようにした。このため、半導体発光装置10の光取り出し効率を向上させることができ、さらに封止部50の形成と間隙の形成とを一つの工程で行うことが可能となり、半導体発光装置10の製造プロセスを簡易なものとすることができる。   As described above, in the present embodiment, in the manufacture of the semiconductor light emitting device 10, the shrinkage at the time of forming the sealing portion 50 by solidifying the liquid sealing agent 55 is used. A gap is formed between the second surface 52 and the wall surface 23 of the container portion 20. For this reason, the light extraction efficiency of the semiconductor light emitting device 10 can be improved, and the formation of the sealing portion 50 and the formation of the gap can be performed in one step, and the manufacturing process of the semiconductor light emitting device 10 is simplified. Can be.

なお、本実施の形態では、半導体発光装置10の容器部20に設けられる凹部21において、壁面23を底面22から遠ざかるに従って拡開する形状としていたが、これに限られるものではなく、適宜形状を選択して差し支えない。
また、本実施の形態では、底面22を円形状としていたが、これに限られるものではなく、例えば多角形状等を採用してもかまわない。
また、本実施の形態では、半導体発光素子70として、GaN等のIII族窒化物半導体を含むものを用いていたが、これに限られるものではなく、例えばGaPやGaAs等を含むものを用いてもかまわない。
In the present embodiment, the concave portion 21 provided in the container portion 20 of the semiconductor light emitting device 10 has a shape in which the wall surface 23 is expanded as the distance from the bottom surface 22 increases. You can select it.
Moreover, in this Embodiment, although the bottom face 22 was made circular shape, it is not restricted to this, For example, a polygonal shape etc. may be employ | adopted.
In the present embodiment, the semiconductor light emitting device 70 includes a group III nitride semiconductor such as GaN. However, the present invention is not limited to this. For example, the semiconductor light emitting element 70 includes a device including GaP, GaAs, or the like. It doesn't matter.

10…半導体発光装置、20…容器部、21…凹部、22…底面、23…壁面、30…容器、40…リード部、41…アノード用リード部、42…カソード用リード部、50…封止部、51…第1の面、52…第2の面、53…第3の面、55…液体封止剤、60…気体層、70…半導体発光素子、80…離型剤 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Semiconductor light-emitting device, 20 ... Container part, 21 ... Recessed part, 22 ... Bottom surface, 23 ... Wall surface, 30 ... Container, 40 ... Lead part, 41 ... Lead part for anode, 42 ... Lead part for cathode, 50 ... Sealing Part 51: first surface 52: second surface 53: third surface 55 ... liquid sealant 60 ... gas layer 70 ... semiconductor light emitting element 80 ... mold release agent

Claims (7)

底面および当該底面の周縁から立ち上がり前記底面から遠ざかるに従って拡開する壁面を備えた凹部を有する容器部と、
前記凹部の内側に配置された半導体発光素子と、
前記凹部の前記底面に前記半導体発光素子を封止するように接合され、当該凹部の拡開する前記壁面と対向する面が当該壁面と略等間隔な間隙を形成する封止部と
を有する半導体発光装置。
A container portion having a recess having a bottom surface and a wall surface that rises from the periphery of the bottom surface and expands away from the bottom surface;
A semiconductor light emitting device disposed inside the recess,
A semiconductor having a sealing portion bonded to the bottom surface of the concave portion so as to seal the semiconductor light emitting element, and a surface opposite to the wall surface that expands the concave portion forms a gap that is substantially equidistant from the wall surface. Light emitting device.
前記間隙は、前記凹部に供給された液体封止剤を固体化して封止部を形成する際に、当該液体封止剤が収縮することによって形成されることを特徴とする請求項1記載の半導体発光装置。   2. The gap is formed by contraction of the liquid sealing agent when the liquid sealing agent supplied to the recess is solidified to form a sealing portion. Semiconductor light emitting device. 前記凹部の前記底面が、前記凹部の前記壁面よりも粗いことを特徴とする請求項1または2記載の半導体発光装置。   The semiconductor light emitting device according to claim 1, wherein the bottom surface of the recess is rougher than the wall surface of the recess. 底面および当該底面の周縁から立ち上がる壁面を備えた凹部を有する容器部に対し、当該凹部の内側に半導体発光素子を配置する工程と、
前記半導体発光素子が配置された前記凹部に液体封止剤を供給する工程と、
前記凹部に供給された前記液体封止剤を固体化させるのに伴って当該液体封止剤を収縮させることにより、当該凹部の前記壁面と当該液体封止剤の間に空隙を形成し且つ前記半導体発光素子を封止する封止部を形成する工程と
を含む半導体発光装置の製造方法。
A step of disposing a semiconductor light emitting element inside the concave portion with respect to a container portion having a concave portion having a bottom surface and a wall surface rising from the peripheral edge of the bottom surface,
Supplying a liquid sealant to the recess in which the semiconductor light emitting element is disposed;
By shrinking the liquid sealant as the liquid sealant supplied to the recess is solidified, a gap is formed between the wall surface of the recess and the liquid sealant, and Forming a sealing portion for sealing the semiconductor light emitting element.
前記液体封止剤を供給する工程の前に、前記壁面と前記液体封止剤との密着性を低下させる離型剤を前記壁面に備えさせる工程をさらに含む請求項4記載の半導体発光装置の製造方法。   5. The semiconductor light emitting device according to claim 4, further comprising a step of providing, on the wall surface, a release agent that reduces adhesion between the wall surface and the liquid sealing agent before the step of supplying the liquid sealing agent. Production method. 前記半導体発光素子を配置する工程で用いられる前記容器部の前記壁面が、前記底面から遠ざかるに従って拡開し、かつ前記半導体発光素子から出力される光に対する反射性を有していることを特徴とする請求項4または5記載の半導体発光装置の製造方法。   The wall surface of the container part used in the step of disposing the semiconductor light emitting element is widened away from the bottom surface and has reflectivity for light output from the semiconductor light emitting element. A method of manufacturing a semiconductor light emitting device according to claim 4 or 5. 前記半導体発光素子を配置する工程で用いられる前記容器部の前記底面には、あらし処理が施されており、
前記封止部を形成する工程において、当該底面と前記封止部とは接触していることを特徴とする請求項4乃至6のいずれか1項記載の半導体発光装置の製造方法。
The bottom surface of the container part used in the step of arranging the semiconductor light emitting element is subjected to a storm treatment,
The method for manufacturing a semiconductor light emitting device according to claim 4, wherein in the step of forming the sealing portion, the bottom surface and the sealing portion are in contact with each other.
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