JP2010528975A - ガラス溶融窯及びガラスを溶融する方法 - Google Patents
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Abstract
Description
a)予加熱領域と焼成室との間に下側縁部を備えた唯一の輻射壁が投入物上に配置されており、輻射壁により予加熱領域の長さ"Lv"は、内側の全長"Lg"の15〜35%の値に制限され、焼成室の長さ"Lf"は内側の全長の65〜85%の値において延長しており、
b)予加熱領域は専ら投入物の窯内部での予加熱のために設計されており、
c)酸化ガスのためのガス源が少なくとも85Vol%の酸素割合を有しており、
d)排ガスのための予加熱領域の少なくとも1つの出口が、熱交換器を介在させずに大気に接続されている、
ことにより達成される。
−槽底部における予加熱領域に少なくとも一列の電極が配置されている、
−バブラが底部凸部の上流側のバーナ領域の終端付近に配置されている、
−バブラが保持プレート内に配置されており、保持プレートの上側が槽底部を超えて上方に突出している、
−槽底部が底部凸部に向かって下方に傾斜して形成されている、
−槽底部が底部凸部に向かって上方に傾斜して形成されている、
−槽底部の延在が段状になっている、
−底部凸部上のガラスの構造的な充填レベル"h2"が、底部凸部の直ぐ上流側の槽における構造的な充填レベル"h1"の25〜50%である、
−底部凸部の下流側の均質化領域が構造的な充填レベル"h3"を有しており、構造的な充填レベル"h3"が、底部凸部の直ぐ上流側の充填レベル"h1"の0.8〜2.0倍である、
−バーナがバーナ領域"Bb"に配置されており、バーナ領域は底部凸部の上流側において終わっている、
−槽及び上部窯との間に投入開口が配置されている、かつ/又は、
−底部凸部の長さ"LL"が流れ方向において全長"Lg"の0.5〜15%である、
という構成を単独又は組合せにおいて実施すると特に有利である。
a)投入物を、輻射壁の下側において予加熱領域に逆流し、予加熱領域を少なくとも1つの出口を通って離れる焼成室からの燃焼ガス及びバブラガスにより上方から加熱し、
b)投入物を、バブラによって上方に送られ、次いで投入物の直ぐ下側において投入開口に向かって戻し案内されるガラス溶融物の部分により下方から加熱し、
燃焼ガスを焼成室におけるバーナにより化石燃料及び少なくとも85%の酸素を含有する酸化ガスから製造し、さらに焼成室は輻射壁とは反対の側に全長"Lg"の65〜85%の長さ"Lf"を有しており、ガラス溶融物をまず一列のバブラを介して案内し、次いで底部凸部を介して均質化領域に案内する方法に関する。
−ガラス溶融物を必要な場合に下方から電極により加熱し、かつ/又は、
−ガラス溶融物を全長"Lg"の0.5〜15%の間の長さで底部凸部にわたって案内する、
という方法を単独又は組み合わせて実施すると、特に有利である。
Claims (15)
- 特に容器ガラス、又はローラプロセスのための板状ガラスといった、特にソーダ石灰ガラスの群から成るガラス、及び、特にホウケイ酸ガラス又は中性ガラスといった工業用ガラスの溶融のためのガラス溶融窯であって、槽(5)と、窯天井(4)及び内側の全長("Lg")を有する上部窯(1)とを備えており、槽(5)及び上部窯(1)は一緒に排ガスのための少なくとも1つの出口(18)を備えた、投入物(14)のための予加熱領域(16)と、バーナ(20)を備えた焼成室(19)と、全槽幅にわたって延在する底部凸部(9)と、均質化領域(10)と、ガラス溶融物(6)のための底部スロート(11)と上昇通路(12)とを有しており、酸素リッチな酸化ガスのためのガス源が、化石燃料のための接続部の他にバーナ(20)に接続されており、焼成室(19)において底部凸部(9)の上流に少なくとも一列のバブラ(8)が配置されているガラス溶融窯において、
a)予加熱領域(16)と焼成室(19)との間に、下側縁部を備えた唯一の輻射壁(15)が投入物(14)上に配置されており、輻射壁(15)により予加熱領域(16)の長さ("Lv")は内側の全長("Lg")の15から35%の値に制限されており、焼成室(19)の長さ("Lf")は内側の全長("Lg")の65から85%の値において延びており、
b)予加熱領域(16)は専ら投入物(14)の窯内部の予加熱のために設計されており、
c)前記酸化ガスのための前記ガス源は、少なくとも85Vol%の酸素の酸素割合を含有しており、
d)予加熱領域(16)の、排ガスのための少なくとも1つの出口(18)は、熱交換器を介在させることなく大気に接続されていることを特徴とする、ガラスを溶融するガラス溶融窯。 - 予加熱領域(16)において槽底部(5a)に少なくとも一列の電極が配置されていることを特徴とする、請求項1記載のガラス溶融窯。
- バブラ(8)はバーナ領域(Bb)の端付近において底部凸部(9)の上流側に配置されていることを特徴とする、請求項1記載のガラス溶融窯。
- バブラ(8)は保持プレート(7)に配置されており、該保持プレート(7)の上側は槽底部(5a)を超えて上方に突出していることを特徴とする、請求項3記載のガラス溶融窯。
- 槽底部(5a)は底部凸部(9)に向かって下降するように形成されていることを特徴とする、請求項1記載のガラス溶融窯。
- 槽底部(5a)は底部凸部(9)に向かって上昇するように形成されていることを特徴とする、請求項1記載のガラス溶融窯。
- 槽底部(5a)の延在は段状になっていることを特徴とする、請求項5又は6記載のガラス溶融窯。
- 底部凸部(9)上のガラスの構造的な充填レベル("h2")は、底部凸部(9)の直ぐ上流の槽(5)における構造的な充填レベル("h1")の25から50%であることを特徴とする、請求項1記載のガラス溶融窯。
- 均質化領域(10)は底部凸部(9)の下流側に、前記底部凸部の直ぐ上流側の充填レベル("h1")の0.8から2.0倍である構造的な充填レベル(h3)を有していることを特徴とする、請求項1記載のガラス溶融窯。
- バーナ(20)は、底部凸部(9)の上流側において終わっているバーナ領域(Bb)に配置されていることを特徴とする、請求項1記載のガラス溶融窯。
- 槽(5)と上部窯(1)との間に投入開口(13)が配置されていることを特徴とする、請求項1記載のガラス溶融窯。
- 流れ方向における底部凸部(9)の長さは、全長("Lg")の0.5から15%の間であることを特徴とする、請求項1記載のガラス溶融窯。
- 内側の全長("Lg")と、槽(5)と、投入開口(13)と、予加熱領域(16)と、焼成室(19)とを備えたガラス溶融窯において、投入物(14)から成る、特に容器ガラス、又はロールプロセスのための板状ガラスといった、特にソーダ石灰ガラスの群から成るガラス、及び、特にホウケイ酸ガラス又は中性ガラスといった工業用ガラスを溶融する方法であって、投入物(14)を外部において予加熱せずに投入開口(13)及びガラス溶融物(6)内に供給し、予加熱領域(16)内部において、全長("Lg")の15から35%であり、かつ、唯一の輻射壁(15)により制限されている長さ("Lv")において加熱し、
a)投入物(14)を、輻射壁(15)の下側において予加熱領域(16)へ逆流し、かつ、少なくとも1つの出口(18)を通じて予加熱領域(16)を離れる、焼成室(19)からの燃焼ガス及びバブラガスにより上方から加熱し、
b)投入物(14)を、バブラ(8)によって上方に送った後に、投入物(14)の直ぐ下側において投入開口(13)に向かって戻し案内されるガラス溶融物の部分により下方から加熱し、燃焼ガスを焼成室(19)におけるバーナ(20)により化石燃料及び少なくとも85%の酸素を含有する酸化ガスから製造し、さらに焼成室(19)は輻射壁(15)とは反対の側に、全長("Lg")の65から85%の長さ("Lg")を有しており、ガラス溶融物(6)をまず一列のバブラ(8)を介して案内した後に、底部凸部(9)を介して均質化領域(10)に案内することを特徴とする、ガラスを溶融する方法。 - ガラス溶融物(6)を必要な場合に下方から電極により加熱することを特徴とする、請求項13記載の方法。
- ガラス溶融物(6)を全長("Lg")の0.5から15%の間の長さにおいて底部凸部(9)を介して案内することを特徴とする、請求項13記載の方法。
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