JP2010519367A - エチレン性不飽和モノマーの(コ)ポリマーの調製のための担持触媒 - Google Patents
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Abstract
本発明は、
1.メソ多孔質ケイ酸塩構造MCM−48の形態にある固体微粒子担持材を含む前駆体であって、このケイ酸塩構造が、アルミノキサン化合物および/または有機アルミニウム化合物により処理されている前駆体、および
2.少なくとも2種類のフェノキシ−イミン配位子と配位結合している、周期表の4族遷移金属の遷移金属錯体、
を含む担持触媒に関する。
この触媒は、オレフィンの(共)重合に適用される。
1.メソ多孔質ケイ酸塩構造MCM−48の形態にある固体微粒子担持材を含む前駆体であって、このケイ酸塩構造が、アルミノキサン化合物および/または有機アルミニウム化合物により処理されている前駆体、および
2.少なくとも2種類のフェノキシ−イミン配位子と配位結合している、周期表の4族遷移金属の遷移金属錯体、
を含む担持触媒に関する。
この触媒は、オレフィンの(共)重合に適用される。
Description
本発明は担持触媒に関する。
本発明はまた、この触媒を使用したエチレン性不飽和モノマーの(コ)ポリマーの調製方法に関する。
ポリオレフィンの製造のための均一系および不均一系触媒系およびプロセスが知られている。均一系触媒の使用により、通常は、全体の重合速度が比較的速くなるが、そのポリマーは単離するのがかなり難しく、ポリマーは、比較的不十分な形態学および低い嵩密度を有する。均一系または不均一系触媒に基づく既存のオレフィン(共)重合プロセスの別の重大な問題は、反応装置のファウリング(fouling)である。
これらの欠点を克服するために、担持重合触媒、例えば、担持されたチーグラー・ナッタ触媒およびメタロセン触媒が開発されてきた。
特許文献1には、高密度ポリエチレンの製造のためのシリカ担持クロム触媒が開示されている。
特許文献2には、メタロセンおよび四ハロゲン化チタンを含有する溶液によるか焼シリカの処理を必要とする、担持メタロセン触媒の調製が開示されている。この担持触媒は、エチレンを重合し、エチレンとブト−1−エンを共重合するために、助触媒としてのメチルアミノキサンおよびトリメチルアルミニウムと共に用いられる。
特許文献3には、メタロセンによる処理の前に、か焼シリカを最初にアルミノキサンで処理したときに、より高い重合活性が得られるであろうと教示されている。
特許文献4には、最初に、メチルアミノキサンをメタロセンと反応させ、その後、脱水シリカを加えることによる、触媒前駆体の調製が開示されている。
また、いわゆるメタロセン型触媒も知られている。
非特許文献1には、分岐ポリエチレンの製造のための、ジ−イミン配位子を有し、メチルアミノキサンまたはホウ酸塩助触媒系いずれかにより活性化されるニッケル錯体の使用が開示されている。
非特許文献2および3には、鉄錯体およびコバルト錯体を使用して、非常に高いエチレン重合活性が得られることが記載されている。
非特許文献4には、活性化されたときに、高いエチレン重合活性および高い官能基受容性を示すフェノキシ−イミン配位子を有するニッケル錯体の使用が開示されている。
特許文献5には、α−オレフィンの重合のための遷移金属錯体が開示され、この錯体は、粒状または微粒子固体の形態にある無機または有機担持材上に使用できる1種類以上のフェノキシ−イミン配位子を有している。メチルアミノキサンを助触媒として適用してもよい。
Brookhart et al. J.Am.Chem.Soc.117,6414,1995
Gibson et al. Chem.Commun.,849,1998
Brookhart et al. J.Am.Chem.Soc.120,4049,1998
Grubbs et al. Organometallics,17,3149,1998
ポリオレフィンの世界的需要はまだ増加しており、その結果、オレフィン(コ)ポリマーの製造のためのプロセスにおけるさらなる改良が望まれている。
本発明の課題は、反応装置のファウリングを実質的に示さず、高嵩密度を有するさらさらした(コ)ポリマーを提供する、ポリオレフィン、特に、ポリエチレンの製造のための触媒系およびプロセスを提供することにある。
本発明によるオレフィン(共)重合のための担持触媒は、少なくとも1種類の担持触媒前駆体および少なくとも1種類の遷移金属錯体を含み、ここで、
1. この前駆体は、アルミノキサン化合物および/または有機アルミニウム化合物により処理されたメソ多孔質ケイ酸塩構造MCM−48の形態にある固体微粒子担持材を含み、
2. この金属錯体は、少なくとも2種類のフェノキシ−イミン配位子と配位結合している、周期表の4族遷移金属の遷移金属錯体である。
1. この前駆体は、アルミノキサン化合物および/または有機アルミニウム化合物により処理されたメソ多孔質ケイ酸塩構造MCM−48の形態にある固体微粒子担持材を含み、
2. この金属錯体は、少なくとも2種類のフェノキシ−イミン配位子と配位結合している、周期表の4族遷移金属の遷移金属錯体である。
メソ多孔質ケイ酸塩構造MCM−48は、「A simplified description of MCM-48」(Anderson, Zeolites, 1997, vol.19, 220-227頁)に記載されている。1から10Åの短距離スケールでのメソ多孔質ケイ酸塩構造MCM−48は、非晶質ヒドロキシル化ケイ酸塩である。MCM−48が構成される主要な種は、通常、一般に約2:1の比率で生じるSi[OSi]4およびSi[OSi]3OHユニットである。ある実施の形態において、MCM−48の壁厚は3Åおよび15Åの間に及ぶであろう。ある実施の形態において、MCM−48はマイクロメートルサイズの非常に規則的な微粒子を形成する。別の実施の形態において、微粒子型担持材は、0.05および10μmの間、より好ましくは0.1および1μmの間の範囲にある平均サイズを有する。
MCM−48およびMCM−41の間の本質的な差にもかかわらず、MCM−48の調製は、例えば、Beck et al., J.Am.Chem.Soc.1992,114,10834およびKregse et al., Nature 1992,359,710に記載されているように、MCM−41で知られているプロセスにしたがって行われるであろう。例えば、粒子の組織に関して、六方晶のMCM−41および立方晶のMCM−48の間には、いくつかの重大な差がある。さらに、MCM−48は三次元チャンネルを有するのに対し、MCM−41は一次元チャンネル系を有する。
前記前駆体は、追加に他の固体微粒子担体を含んでもよく、MCM−48を前記化合物で複数回処理してもよいのに対して、アルミノキサン化合物および/または有機アルミニウム化合物以外に他の化合物が追加に存在してもよい。さらに、前記遷移金属錯体は、周期表の別の4族遷移金属を追加に含んでもよい。
本発明の好ましい実施の形態によれば、担持触媒前駆体は、MCM−48に加え、別の担持材をさらに含む。この担持材は、例えば、ケイ素、アルミニウム、マグネシウム、チタン、ジルコニウム、ホウ素、カルシウムおよび/または亜鉛の酸化物、ケイ酸アルミニウム、ポリシロキサン、板状ケイ酸塩、MCM−48とは異なるゼオライト、粘土、粘土鉱物、金属ハロゲン化物、ポリマーおよび/または例えば、SiO2−MgOやSiO2−TiO2などの混合酸化物からなる群より選択してよい。
適切な粘土および粘土鉱物の例としては、カオリン、ベントナイト、木節粘土、蛙目粘土、アロフォン(allophone)、ヒッシンゲライト、葉蝋石、マイカ、モントモリロナイト、バーミキュライト、クロライト、アタバルジャイト、カオリナイト、ナクライト、ジッカイトおよびハロイサイトが挙げられる。これらの鉱物に化学処理を施すことが好ましい。
好ましい実施の形態において、担持材は、アルミノキサン化合物および/または有機アルミニウム化合物により処理される前に、予備処理される。この予備処理は、熱的および/または化学的予備処理プロセス、例えば、加熱、すなわち、か焼および/またはスルホニル化またはシラン化により行ってよい。この加熱は、100℃および900℃の間の範囲の温度で行ってよい。
熱的および/または化学的予備処理プロセスにより、担持材上に存在する酸性ヒドロキシル基が修飾される。熱的予備処理は、例えば、1から24時間に亘り120℃および850℃の間の範囲の温度で、真空中で、または窒素などの不活性ガスでパージしながら、担持材を加熱することによって行ってよい。
適切な化学的予備処理プロセスでは、化学試薬、例えば、塩化チオニル、四塩化ケイ素、クロロシラン、例えば、ジクロロジメチルシランまたはヘキサメチルジシラザンが用いられる。好ましい実施の形態において、担持材は、乾燥窒素雰囲気下において、低沸点の不活性炭化水素希釈剤、例えば、ヘキサン中で微粒子形態でスラリーにされる。次に、好ましくは同じ希釈剤中の、化学試薬の溶液を、25℃および125℃の間の範囲、好ましくは50℃および75℃の間の範囲の温度を維持しながら、例えば、1および4時間の間の期間で加えて差し支えない。次に、得られた固体微粒子材を単離し、乾燥不活性希釈剤により洗浄し、真空下で乾燥させる。適切な希釈剤の例としては、炭化水素希釈剤、例えば、ヘキサンまたはヘプタンおよび芳香族希釈剤、例えば、トルエンが挙げられる。その後、化学的に予備処理した担持材に熱処理を施してもよい。
本発明の好ましい実施の形態によれば、担体は、MCM−48および酸化ケイ素(シリカ)および/または酸化アルミニウム(アルミナ)から形成された複合材を含む。
MCM−48担持材またはMCM−48および別の担持材を含む担持材は、例えば、アルミノキサン化合物および/または有機アルミニウム化合物により処理してもよい。この化合物は、炭化水素、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンまたはオクタンおよび/またはベンゼンやトルエンなどの芳香族希釈剤により希釈されていてもよい。得られた固体は、単離し、炭化水素または芳香族希釈剤により洗浄し、乾燥させる。熱的および/または化学的予備処理は、アルミノキサン化合物および/または有機アルミニウム化合物による処理の前に行われることが好ましい。
適切なアルミノキサン化合物は、例えば、トリアルキルアルミニウム、例えば、トリメチルアルミニウム、および水の反応により得られるであろう。一般に、アルミノキサン化合物は、
(R−Al−O)kおよび(R−Al−O)kAlR2
によるオリゴマー構造を有する。
(R−Al−O)kおよび(R−Al−O)kAlR2
によるオリゴマー構造を有する。
これらの化学式において、Rは、C1-10アルキル基を表してよく、kは、2から30までの整数であってよい。適切なアルキル基の例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチルおよびペンチルが挙げられる。
Rがメチルであり、kが4から25であることが好ましい。
一般に、担持材は、不活性条件下でアルミノキサン化合物と反応せしめられる。担持材は、炭化水素および/または芳香族希釈剤中において、そのアルミノキサンを含有する溶液または混合物により処理してよい。典型的に、そのような混合物は、固体担体/アルミノキサン材が単離され、完全に洗浄され、乾燥される前に、30から60℃で1および5時間の間の期間に亘り貯蔵される。このプロセスによって、アルミノキサン化合物の還元性質が緩和され、アルキル化が生じる。
適切なアルミノキサン化合物の例としては、MAO(メチルアルミノキサン)およびMMAO(修飾メチルアルミノキサン、ここで、修飾は、Al(i−Bu)3の添加により行われる)が挙げられる。
適切な有機アルミニウム化合物の例としては、化学式
R3-mXmAl
ここで、mは、0、1、または2、
Xはハロゲン化物であり、
Rは、炭化水素基またはアリール基、例えば、メチル、エチル、i−プロピル、n−プロピル、i−ブチル、n−ブチル、t−ブチルまたはフェニルもしくは置換フェニルである、
の化合物が挙げられる。ハロゲン化物は、塩化物、臭化物またはフッ化物であってよい。
R3-mXmAl
ここで、mは、0、1、または2、
Xはハロゲン化物であり、
Rは、炭化水素基またはアリール基、例えば、メチル、エチル、i−プロピル、n−プロピル、i−ブチル、n−ブチル、t−ブチルまたはフェニルもしくは置換フェニルである、
の化合物が挙げられる。ハロゲン化物は、塩化物、臭化物またはフッ化物であってよい。
適切な4族遷移金属としては、Ti、ZrおよびHfが挙げられる。これらの金属は、例えば、特許文献5に記載されているような、少なくとも2種類のフェノキシ−イミン配位子に配位結合していてもよい。
本発明の好ましい実施の形態によれば、アルミノキサン化合物および/または有機アルミニウム化合物は、不活性希釈剤中に溶解される。この希釈剤は、炭化水素、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンまたはオクタンおよび/または芳香族希釈剤、例えば、ベンゼンまたはトルエンであってよい。
ここで、M=4族遷移金属、
A=O、SまたはN−R7からなる群より選択される、
R1からR7=同じであっても異なっていてもよく、水素または1から21の炭素原子を含有する炭化水素基、ケイ素含有炭化水素基、または2つの炭素原子が互いに結合してC4−からC6−環を形成している炭化水素基、もしくはハロゲンまたはアルコキシ基である、
X=ハロゲン化物、および
Y=ハロゲン化物、
により表される。
A=O、SまたはN−R7からなる群より選択される、
R1からR7=同じであっても異なっていてもよく、水素または1から21の炭素原子を含有する炭化水素基、ケイ素含有炭化水素基、または2つの炭素原子が互いに結合してC4−からC6−環を形成している炭化水素基、もしくはハロゲンまたはアルコキシ基である、
X=ハロゲン化物、および
Y=ハロゲン化物、
により表される。
化学式(I)における変数記号は以下の意味を有することが好ましい:
M=Zr、
A=O、
R1=t−ブチル、
R2からR5=H、
R6=フェニル、および
X、Y=塩化物。
M=Zr、
A=O、
R1=t−ブチル、
R2からR5=H、
R6=フェニル、および
X、Y=塩化物。
さらに好ましい実施の形態によれば、遷移金属錯体は、ビス−(N−[(3−t−ブチルサリチリデン)アニリナート]ジルコニウム(IV)−ジクロライド)である。
残基R2からR5は、同じであっても異なってもよく、各々が、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、複素環式化合物残基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、およびアリールオキシ基、アリールチオ基、エステル基、チオエステル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、メルカプト基またはヒドロキシル基であって差し支えない。
残基R1は、ハロゲン原子、炭化水素基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、エステル基、チオエステル基、アミド基、イミド基、イミノ基、スルホンエステル基、スルホンアミド基またはシアノ基であってよい。R1は、メチル、エチル、n−またはi−プロピル、n−,i−またはt−ブチルまたはトリメチルシリルであることが好ましい。
残基R6は、炭化水素基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、エステル基、チオエステル基、スルホンエステル基またはヒドロキシル基であってよい。R6はフェニルまたは置換フェニルであることが好ましい。
R1からR6の2つ以上が互いに結合して、環を形成してもよい。
適切な炭化水素基の例としては、1から30、好ましくは1から20の炭素原子の直鎖または分岐鎖アルキル基、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ネオペンチルおよびn−ヘキシル;ビニル、アリルおよびイソプロペニルなどの、2から30、好ましくは2から20の炭素原子の直鎖または分岐鎖アルケニル基;エチニルおよびプロパルギルなどの、2から30、好ましくは2から20の炭素原子の直鎖または分岐鎖アルキニル基;シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびアダマンチルなどの、3から30、好ましくは3から20の環式飽和炭化水素基;シクロペンタジエニル、インデニルおよびフルオレニルなどの、5から30、好ましくは5から20の炭素原子の環式不飽和炭化水素基;およびフェニル、ベンジル、ナフチル、ビフェニルおよびテルフェニルなどの、6から30、好ましくは6から20の炭素原子のアリール基が挙げられる。
これらの炭化水素基は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、例えば、トリフルオロメチル、ペンタフルオロフェニルおよびクロロフェニルなどの、1から30、好ましくは1から20の炭素原子のハロゲン化炭化水素基を含んでもよい。炭化水素基はまた、他の炭化水素基で置換されていてもよく、例えば、ベンジルおよびクミルなどのアリール置換アルキル基を含んでもよい。さらに、炭化水素基は、複素環式化合物残基;アルコキシ、アリール、エステル、エーテル、アシル、カルボキシル、カルボナート、ヒドロキシ、ペルオキシおよびカルボン酸無水物基などの、酸素含有基;アミノ、イミノ、アミド、イミド、ヒドラジノ、ヒドラゾノ、ニトロ、ニトロソ、シアノ、イソシアノ、シアン酸エステル、アミジノおよびジアゾ基のアンモニウム塩などの窒素含有基;ボランジル、ボラントリイルおよびジボラニル基などのホウ素含有基;メルカプト、チオエステル、ジチオエステル、アルキルチオ、アリールチオ、チオアシル、チオエーテル、チオシアン酸エステルイソチオシアン酸エステル、スルホンエステル、スルホンアミド、チオカルボキシル、ジチオカルボキシル、スルホ、スルホニル、スルフィニルおよびスルフェニル基などの硫黄含有基;ホスフィド、ホスホリル、チオホスホリルおよびホスファト基などのリン含有基;ケイ素含有基;ゲルマニウム含有基;およびスズ含有基を有して差し支えない。
メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ネオペンチルおよびn−ヘキシルなどの1から30、好ましくは1から20の炭素原子の直鎖または分岐鎖アルキル基;フェニル、ナフチル、ビフェニル、テルフェニル、フェナンチリルおよびアントラセニルなどの6から30、好ましくは6から20の炭素原子のアリール基;および1から30、好ましくは1から20の炭素原子のアルキルまたはアルコキシ基、6から30、好ましくは6から20の炭素原子のアリールまたはアリールオキシ基などの1から5の置換基により置換されたこれらのアリール基が特に好ましい。
適切な複素環式残基の例としては、窒素含有化合物(例えば、ピロール、ピリジン、ピリミジン、キノリンおよびトリアジン)、酸素含有化合物(例えば、フランおよびピラン)および硫黄含有化合物(例えば、チオフェン)、および1から20の炭素原子のアルキルまたはアルコキシ基などの置換基により置換された、これらの複素環式残基が挙げられる。ケイ素含有基の例としては、シリル、シロキシ、メチルシリル、ジメチルシリル、トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリエチルシリル、ジフェニルメチルシリル、トリフェニルシリル、ジメチルフェニルシリル、ジメチル−t−ブチルシリルおよびジメチル(ペンタフルオロフェニル)シリル、好ましくはメチルシリル、ジメチルシリル、トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリエチルシリルおよびトリフェニルシリル、特に好ましくはトリメチルシリル、トリエチルシリル、トリフェニルシリルおよびジメチルフェニルシリルなどの炭化水素置換シリル基、およびトリメチルシロキシなどの炭化水素置換シロキシ基が挙げられる。アルコキシ基の例としては、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、イソブトキシおよびtert−ブトキシが挙げられる。アルキルチオ基の例としては、メチルチオおよびエチルチオが挙げられる。アリールオキシ基の例としては、フェノキシ、2,6−ジメチルフェノキシおよび2,4,6−トリメチルフェノキシが挙げられる。アリールチオ基の例としては、フェニルチオ、メチルフェニルチオおよびナフチルチオが挙げられる。アシル基の例としては、ホルミル、アシル、ベンゾイル、p−クロロベンゾイル、およびp−メトキシベンゾイルが挙げられる。エステル基の例としては、アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ、メトキシカルボニル、フェノキシカルボニルおよびp−クロロフェノキシカルボニルが挙げられる。チオエステル基の例としては、アセチルチオ、ベンゾイルチオ、メチルチオカルボニルおよびフェニルチオカルボニルが挙げられる。アミド基の例としては、アセトアミド、N−メチルアセトアミドおよびN−メチルベンズアミドが挙げられる。イミド基の例としては、アセトイミドおよびベンズアミドが挙げられる。アミノ基の例としては、ジメチルアミノ、エチルメチルアミノおよびジフェニルアミノが挙げられる。イミノ基の例としては、メチルイミノ、エチルイミノ、プロピルイミノ、ブチルイミノおよびフェニルイミノが挙げられる。スルホンエステル基の例としては、メチルスルホナート、エチルスルホナートおよびフェニルスルホナートが挙げられる。スルホンアミド基の例としては、フェニルスルホンアミド、N−メチルスルホンアミドおよびN−メチル−p−トルエンスルホンアミドが挙げられる。
本発明の好ましい実施の形態によれば、担持触媒の調製方法は、以下の各工程を有してなる:
a) メソ多孔質ケイ酸塩構造MCM−48の形態にある少なくとも1種類の固体微粒子担持材を提供し、
b) 不活性希釈剤中でこの微粒子担持材のスラリーを形成し、このスラリーを少なくとも1種類のアルミノキサン化合物および/または少なくとも1種類の有機アルミニウム化合物と、好ましくは不活性希釈剤中で混合し、またはその担持材自体を、1種類のアルミノキサン化合物および/または少なくとも1種類の有機アルミニウム化合物と不活性希釈剤中で混合し、
c) 工程b)において得られた固体材料を単離し、
d) 不活性希釈剤中で、工程c)において得られた固体材料からスラリーを調製し、
e) 工程d)において得られたスラリーおよび少なくとも2種類のフェノキシ−イミン配位子に配位結合した4族遷移金属を不活性希釈剤中で混合する。
a) メソ多孔質ケイ酸塩構造MCM−48の形態にある少なくとも1種類の固体微粒子担持材を提供し、
b) 不活性希釈剤中でこの微粒子担持材のスラリーを形成し、このスラリーを少なくとも1種類のアルミノキサン化合物および/または少なくとも1種類の有機アルミニウム化合物と、好ましくは不活性希釈剤中で混合し、またはその担持材自体を、1種類のアルミノキサン化合物および/または少なくとも1種類の有機アルミニウム化合物と不活性希釈剤中で混合し、
c) 工程b)において得られた固体材料を単離し、
d) 不活性希釈剤中で、工程c)において得られた固体材料からスラリーを調製し、
e) 工程d)において得られたスラリーおよび少なくとも2種類のフェノキシ−イミン配位子に配位結合した4族遷移金属を不活性希釈剤中で混合する。
さらに、工程d)および工程e)の後に、得られた固体担持触媒を単離してもよい(工程f)。単離および混合は、例えば、噴霧乾燥および/または沈殿により行っても差し支えない。
本発明のさらに好ましい実施の形態によれば、エチレン性不飽和化合物から(コ)ポリマーを調製する方法は、以下の各工程を有してなる:
a) 少なくとも1種類のエチレン性不飽和モノマーを反応槽に加え、
b) メソ多孔質ケイ酸塩構造MCM−48の形態にある固体微粒子担持材を含む前駆体および少なくとも2種類のフェノキシ−イミン配位子に配位結合した少なくとも1種類の4族遷移金属の少なくとも1種類の遷移金属錯体を不活性希釈剤中で混合し、
c) 工程b)により得られた混合物を、工程a)において得られた少なくとも1種類のエチレン性不飽和モノマーに加え、
d) 不活性希釈剤中に少なくとも1種類のアルミノキサン化合物および/または1種類の有機アルミニウム化合物を加え、
e) 前記エチレン性不飽和モノマーを(共)重合させ、
f) 調製された(コ)ポリマーを単離する。
a) 少なくとも1種類のエチレン性不飽和モノマーを反応槽に加え、
b) メソ多孔質ケイ酸塩構造MCM−48の形態にある固体微粒子担持材を含む前駆体および少なくとも2種類のフェノキシ−イミン配位子に配位結合した少なくとも1種類の4族遷移金属の少なくとも1種類の遷移金属錯体を不活性希釈剤中で混合し、
c) 工程b)により得られた混合物を、工程a)において得られた少なくとも1種類のエチレン性不飽和モノマーに加え、
d) 不活性希釈剤中に少なくとも1種類のアルミノキサン化合物および/または1種類の有機アルミニウム化合物を加え、
e) 前記エチレン性不飽和モノマーを(共)重合させ、
f) 調製された(コ)ポリマーを単離する。
少なくとも1種類のエチレン性不飽和モノマーの反応槽への添加が不活性希釈剤中で行われることが好ましい。
工程c)の前に、少なくとも1種類の有機金属アルキル化合物、例えば、トリエチルアルミニウムやトリイソブチルアルミニウムなどのトリアルキルアルミニウムを反応槽に加えることが好ましい。
本発明の好ましい実施の形態によれば、コポリマーを調製するために、少なくとも1種類のエチレン性不飽和コモノマーが反応槽に加えられる。この添加は、工程c)の前に行われることが好ましい。
アルミノキサン処理MCM−48固体担持触媒前駆体を、(共)重合すべきエチレン性不飽和モノマーに添加する前、すなわち、工程c)の前に、比較的短時間で、遷移金属フェノキシ−イミン触媒(工程b)と混合した場合、形態学、反応装置のファウリングのないことおよび重合活性に関連する改善された結果が得られる。この予備混合工程は、30秒および10分の間、好ましくは1および4分の間、より好ましくは約2分で行われるであろう。
本発明のさらに好ましい実施の形態によれば、エチレン性不飽和モノマーから(コ)ポリマーを調製する方法は、以下の各工程を有してなる:
a) 少なくとも1種類のエチレン性不飽和モノマーを反応槽内の不活性希釈剤に加え、
b) 本発明による担持触媒または本発明による触媒系を反応槽に加え、
c) エチレン性不飽和モノマーを(共)重合させ、
d) 調製された(コ)ポリマーを単離する。
a) 少なくとも1種類のエチレン性不飽和モノマーを反応槽内の不活性希釈剤に加え、
b) 本発明による担持触媒または本発明による触媒系を反応槽に加え、
c) エチレン性不飽和モノマーを(共)重合させ、
d) 調製された(コ)ポリマーを単離する。
工程b)の前に、少なくとも1種類の有機金属アルキル化合物、例えば、例えば、トリエチルアルミニウムやトリイソブチルアルミニウムなどのトリアルキルアルミニウムを反応槽に加えることが好ましい。
さらに好ましい実施の形態によれば、工程b)の後に、不活性希釈剤中の少なくとも1種類のアルミノキサン化合物および/または1種類の有機アルミニウム化合物が、反応槽に加えられる。
本発明の好ましい実施の形態において、コポリマーを調製するために、少なくとも1種類のエチレン性不飽和コモノマーが、特に工程b)の前に、反応槽に加えられる。
本発明の別の好ましい実施の形態によれば、エチレン性不飽和モノマーから(コ)ポリマーを調製する方法は、以下の各工程を有してなる:
a) 少なくとも1種類のエチレン性不飽和モノマーを反応槽内の不活性希釈剤中に加え、
b) メソ多孔質ケイ酸塩構造MCM−48の形態にある固体微粒子担持材を加え、
c) 不活性希釈剤中の少なくとも2種類のフェノキシ−イミン配位子に配位結合した少なくとも1種類の4族遷移金属の少なくとも1種類の遷移金属錯体を加え、
d) エチレン性不飽和モノマーを(共)重合させ、
e) 調製された(コ)ポリマーを単離する。
a) 少なくとも1種類のエチレン性不飽和モノマーを反応槽内の不活性希釈剤中に加え、
b) メソ多孔質ケイ酸塩構造MCM−48の形態にある固体微粒子担持材を加え、
c) 不活性希釈剤中の少なくとも2種類のフェノキシ−イミン配位子に配位結合した少なくとも1種類の4族遷移金属の少なくとも1種類の遷移金属錯体を加え、
d) エチレン性不飽和モノマーを(共)重合させ、
e) 調製された(コ)ポリマーを単離する。
工程c)の後、不活性希釈剤中の少なくとも1種類のアルミノキサン化合物および/または1種類の有機アルミニウム化合物を反応槽に加えることが好ましい。
工程b)の前に、少なくとも1種類の有機金属アルキル化合物、例えば、例えば、トリエチルアルミニウムやトリイソブチルアルミニウムなどのトリアルキルアルミニウムを反応槽に加えることが好ましい。
本発明の好ましい実施の形態において、コポリマーを調製するために、少なくとも1種類のエチレン性不飽和コモノマーが、特に工程b)の前に、反応槽に加えられる。
適切なエチレン性不飽和モノマーおよびコモノマーの例としては、アルファ−オレフィン、ビニル芳香族化合物や(メタ)アクリル誘導体が挙げられる。
適切なアルファ−オレフィンの例としては、エチレン、プロピレン、ブト−1−エンやペント−1−エンが挙げられる。
適切なビニル芳香族化合物の例としては、スチレンが挙げられる。
適切な(メタ)アクリル誘導体の例としては、(メタ)アクリル酸および(メタ)アクリル酸エステル、例えば、(メタ)アクリル酸メチルが挙げられる。
本発明の好ましい実施の形態によれば、本発明の方法により得られるポリマーはエチレンポリマーである。
重合反応において適用すべき適切な希釈剤の例としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ベンゼンおよび/またはトルエンなどの不活性炭化水素溶媒が挙げられる。
本発明の方法のいくつかの工程において、同じ希釈剤が適用されることが好ましい。
本発明の好ましい実施の形態によれば、(コ)ポリマーの調製方法の全てにおいて、担持触媒前駆体は、MCM−48に加え、先に記載したような別の担持材をさらに含む。
ある実施の形態において、例示の重合反応装置は、加熱および排気により準備され、乾燥窒素が充填される。次いで、必要な体積の乾燥炭化水素または芳香族希釈剤を加え、反応装置および希釈剤を必要な温度まで加熱して差し支えない。次いで、希釈剤は、エチレン性不飽和モノマーによりパージされ、飽和させても差し支えない。その後、特に同じ希釈剤中で、所定の量のアルミニウムアルキル溶液、例えば、トリイソブチルアルミニウム(TIBAL)を加えることが好ましい。
共重合の場合には、この段階でコモノマーを加えることが好ましい。以下において、好ましくは同じ希釈剤中で、好ましくは上述したように短時間に亘り接触された、スラリーにされたアルミノキサン処理済みMCM−48と、必要量の上述したフェノキシ−イミン触媒との所定の量の混合物を加えて差し支えない。次いで、反応装置の温度を、最終的な重合温度に調節し、エチレン性不飽和化合物の圧力を所要の圧力に調節して差し支えない。
本発明の重合反応は、瞬間重合速度が約3から12分以内で、好ましくは約5から10分以内で、最大値に達する、特徴的に速度−時間プロファイルを示す。この後、重合速度は、重合時間の経過と共に徐々に減少する。この減少の程度は、中でも、温度および他の重合条件に依存する。しかしながら、重合の数時間後でさえも、本発明の担持触媒系は、図1からも分かる高い活性を示す。
米国特許第5869417号明細書には、MCM−41およびフォージャサイトゼオライトの存在下でオレフィン重合用のメタロセン触媒を調製するプロセスが開示されている。この明細書には、ビス−(N−[(3−t−ブチルサリチリデン)アニリナート]ジルコニウム(IV)ジクロライド)の使用は開示されていない。
ポーリーノ等(Pauline et al.)(Catalysis Communications, 5(2004)5-7)およびチェン等(Chen et al.)(Polymer 46(2005)11093-11098)は、MCM−41の存在下でのエチレン重合に関する。しかしながら、MCM−41およびMCM−48は異なる性質を有する。その差の例としては、MCM−41の一次元チャンネル系に対して、MCM−48の三次元チャンネル系および粒子の組織が挙げられる。ポーリーノおよびチェンは、ビス−(N−[(3−t−ブチルサリチリデン)アニリナート]ジルコニウム(IV)ジクロライド)の使用を開示していない。
本発明を、以下の非限定的実施例に基づいて、説明する。
実施例1
ビス−(N−[(3−t−ブチルサリチリデン)アニリナート]ジルコニウム(IV)ジクロライド)の合成
250cm3の丸底フラスコを乾燥窒素で十分にパージし、その後、80cm3のエタノール、1.42g(15.2ミリモル)のアニリンおよび2.7g(15.2ミリモル)の3−t−ブチルサリチルアルデヒドを加え、24時間に亘り室温で撹拌した。減圧下で溶媒を除去し、さらに80cm3のエタノールを加え、この混合物を12時間に亘り室温で撹拌した。この溶液を減圧下で濃縮して、3.5g(13.8ミリモル、収率90%)の固体のN−(3−tert−ブチルサリチリデン)アニリンを生成した。
ビス−(N−[(3−t−ブチルサリチリデン)アニリナート]ジルコニウム(IV)ジクロライド)の合成
250cm3の丸底フラスコを乾燥窒素で十分にパージし、その後、80cm3のエタノール、1.42g(15.2ミリモル)のアニリンおよび2.7g(15.2ミリモル)の3−t−ブチルサリチルアルデヒドを加え、24時間に亘り室温で撹拌した。減圧下で溶媒を除去し、さらに80cm3のエタノールを加え、この混合物を12時間に亘り室温で撹拌した。この溶液を減圧下で濃縮して、3.5g(13.8ミリモル、収率90%)の固体のN−(3−tert−ブチルサリチリデン)アニリンを生成した。
250cm3の丸底フラスコをアルゴンで十分にパージし、その後、3.5g(13.8ミリモル)の得られた固体のN−(3−tert−ブチルサリチリデン)アニリンおよび140cm3のテトラヒドロフランを加えた。この溶液を−78℃まで冷却し、撹拌した。次いで、n−ヘキサン(14.5ミリモル)中のn−ブチルリチウム(3.5ミリモル)の溶液を9.4cm3、6分間に亘り撹拌しながら滴下により加えた。温度をゆっくりと室温まで上昇させた。さらに4時間に亘り、室温で撹拌を継続し、その後、25cm3のテトラヒドロフランを撹拌しながら加えた。この溶液を、−78℃に冷却してある65cm3のテトラヒドロフラン中の1.6gの四塩化ジルコニウム(6.8ミリモル)の溶液に滴下により加えた。この溶液の温度を室温までゆっくりと上昇させ、この溶液を3時間に亘り撹拌し、さらに、還流下で6時間撹拌した。この反応溶液を減圧下で濃縮し、このようにして得られた固体沈殿物を100cm3の塩化メチレンで洗浄した。
固体触媒成分は、微粒分析によって分析し、13.0質量%のZr、55.5質量%のC、5.8質量%のH、および3.5質量%のNを含有することが分かった。1Hおよび13C NMR分光法による構造は、ビス−(N−[(3−t−ブチルサリチリデン)アニリナート]ジルコニウム(IV)ジクロライド)であった。
実施例2
担持触媒前駆体の調製
10gのMCM−48ゼオライトを燃焼ボート内に入れ、これを、温度がプログラム化された炉の中央部に配置した。この炉のスイッチを入れ、温度を、600℃まで毎分1℃で上昇させ、室温まで冷却させる前に、6時間に亘りこの値に維持した。MCM−48をフラスコに移し、このフラスコを真空下(10-2mmHg)で3時間に亘り260℃まで加熱した。最後に、MCM−48を、乾燥窒素の雰囲気下で室温まで冷却した。
担持触媒前駆体の調製
10gのMCM−48ゼオライトを燃焼ボート内に入れ、これを、温度がプログラム化された炉の中央部に配置した。この炉のスイッチを入れ、温度を、600℃まで毎分1℃で上昇させ、室温まで冷却させる前に、6時間に亘りこの値に維持した。MCM−48をフラスコに移し、このフラスコを真空下(10-2mmHg)で3時間に亘り260℃まで加熱した。最後に、MCM−48を、乾燥窒素の雰囲気下で室温まで冷却した。
このMCM−48を2g、100cm3のCPR内に入れ、次いで、30cm3のトルエン中の7.0cm3のMAO溶液(5質量%のAl)を加えた。この混合物を、乾燥窒素の雰囲気下で3時間に亘り50℃で撹拌し、次いで、濾過した。得られた固体材料を、50℃で30cm3のトルエンにより8回洗浄した。最後に、CPR中の固体を、窒素パージおよび真空系を用いて、2時間に亘り70℃で乾燥させた。この固体材料を丸底フラスコ内に入れ、20cm3のヘプタンを加えた。MCM−48担持MAO材料の微量分析により、その材料が5.6質量%のAlを含有することが示された。
実施例3
重合
ビュッヒ(Buechi)重合反応装置を、ウォーター・ジャケットを用いて、最初に85℃まで加熱し、排気し、乾燥窒素を充填した。次いで、250cm3の乾燥ヘプタンを、溶媒貯蔵ウィンチェスター(Winchester)からビュッヒ反応装置に、窒素圧下で移した。このヘプタンを真空下において60℃で20分間に亘り還流した。エチレンモノマー供給システムのスイッチを入れ、反応装置を、真空とエチレン供給システムとを交互に切り替えて、エチレンモノマーで3回パージした。ヘプタン希釈剤を大気圧でエチレンにより飽和させ、その後、20cm3のヘプタンで希釈した10cm3のトリイソブチルアルミニウム(TlBAL)を含有する溶液を3.0cm3、この反応装置に注入した。この注入後に、2.0cm3のヘプタン中でスラリーにされた、実施例2に記載されたように調製したgの固体担持触媒前駆体、および2.0cm2のヘプタン中に溶解した、実施例1に記載されたように調製した、2.2×10-3gの触媒を含有する予備接触させた(2分)混合物を注入した。この反応装置の温度を60℃に上昇させ、反応装置の全圧を6バールに維持するように要求に応じてエチレンを供給しながら、エチレン重合を2時間に亘り行った。重合の終わりに、エチレン供給システムを閉じ、生成されたポリマーを、反応装置の底にあるステンレス鋼製のスクリュープラグを通じて取り出した。ポリマースラリーをヒューム・カップボード内に一晩残し、固体ポリマーを濾過により単離し、70℃で4時間に亘り真空炉内で乾燥させ、最後に、通常の炉内で24時間に亘り60℃で乾燥させた。
重合
ビュッヒ(Buechi)重合反応装置を、ウォーター・ジャケットを用いて、最初に85℃まで加熱し、排気し、乾燥窒素を充填した。次いで、250cm3の乾燥ヘプタンを、溶媒貯蔵ウィンチェスター(Winchester)からビュッヒ反応装置に、窒素圧下で移した。このヘプタンを真空下において60℃で20分間に亘り還流した。エチレンモノマー供給システムのスイッチを入れ、反応装置を、真空とエチレン供給システムとを交互に切り替えて、エチレンモノマーで3回パージした。ヘプタン希釈剤を大気圧でエチレンにより飽和させ、その後、20cm3のヘプタンで希釈した10cm3のトリイソブチルアルミニウム(TlBAL)を含有する溶液を3.0cm3、この反応装置に注入した。この注入後に、2.0cm3のヘプタン中でスラリーにされた、実施例2に記載されたように調製したgの固体担持触媒前駆体、および2.0cm2のヘプタン中に溶解した、実施例1に記載されたように調製した、2.2×10-3gの触媒を含有する予備接触させた(2分)混合物を注入した。この反応装置の温度を60℃に上昇させ、反応装置の全圧を6バールに維持するように要求に応じてエチレンを供給しながら、エチレン重合を2時間に亘り行った。重合の終わりに、エチレン供給システムを閉じ、生成されたポリマーを、反応装置の底にあるステンレス鋼製のスクリュープラグを通じて取り出した。ポリマースラリーをヒューム・カップボード内に一晩残し、固体ポリマーを濾過により単離し、70℃で4時間に亘り真空炉内で乾燥させ、最後に、通常の炉内で24時間に亘り60℃で乾燥させた。
26gのポリエチレンを回収し、これは、3.9×10+6gのポリエチレン(モルZr・時)-1の平均重合速度に相当した。反応装置のファウリングは生じず、単離したポリマーの形態は非常に良好であった。ポリマーは微粒状であり、それらの粒子は球状であった。ポリマーの嵩密度は0.24g/cm3であった。
実施例4
重合
ビュッヒ重合反応装置を、ウォーター・ジャケットを用いて、最初に85℃まで加熱し、排気し、乾燥窒素を充填した。次いで、250cm3の乾燥ヘプタンを、溶媒貯蔵ウィンチェスターからビュッヒ反応装置に、窒素圧下で移した。このヘプタンを真空下において60℃で20分間に亘り還流した。エチレンモノマー供給システムのスイッチを入れ、反応装置を、真空とエチレン供給システムとを交互に切り替えて、エチレンモノマーで3回パージした。ヘプタン希釈剤を大気圧でエチレンにより飽和させ、その後、0.84cm3のトリエチルアルミニウム(TEA)をこの反応装置に注入した。この注入後に、2.0cm3のヘプタン中でスラリーにされた、実施例2に記載されたように調製した0.47gの固体担持触媒前駆体、および2.0cm2のヘプタン中に溶解した、実施例1に記載されたように調製した、2.2×10-3gの触媒を含有する予備接触させた(2分)混合物を注入した。この反応装置の温度を60℃に上昇させ、反応装置の全圧を6バールに維持するように要求に応じてエチレンを供給しながら、エチレン重合を2時間に亘り行った。重合の終わりに、エチレン供給システムを閉じ、生成されたポリマーを、反応装置の底にあるステンレス鋼製のスクリュープラグを通じて取り出した。ポリマースラリーをヒューム・カップボード内に一晩残し、固体ポリマーを濾過により単離し、70℃で4時間に亘り真空炉内で乾燥させ、最後に、通常の炉内で24時間に亘り60℃で乾燥させた。
重合
ビュッヒ重合反応装置を、ウォーター・ジャケットを用いて、最初に85℃まで加熱し、排気し、乾燥窒素を充填した。次いで、250cm3の乾燥ヘプタンを、溶媒貯蔵ウィンチェスターからビュッヒ反応装置に、窒素圧下で移した。このヘプタンを真空下において60℃で20分間に亘り還流した。エチレンモノマー供給システムのスイッチを入れ、反応装置を、真空とエチレン供給システムとを交互に切り替えて、エチレンモノマーで3回パージした。ヘプタン希釈剤を大気圧でエチレンにより飽和させ、その後、0.84cm3のトリエチルアルミニウム(TEA)をこの反応装置に注入した。この注入後に、2.0cm3のヘプタン中でスラリーにされた、実施例2に記載されたように調製した0.47gの固体担持触媒前駆体、および2.0cm2のヘプタン中に溶解した、実施例1に記載されたように調製した、2.2×10-3gの触媒を含有する予備接触させた(2分)混合物を注入した。この反応装置の温度を60℃に上昇させ、反応装置の全圧を6バールに維持するように要求に応じてエチレンを供給しながら、エチレン重合を2時間に亘り行った。重合の終わりに、エチレン供給システムを閉じ、生成されたポリマーを、反応装置の底にあるステンレス鋼製のスクリュープラグを通じて取り出した。ポリマースラリーをヒューム・カップボード内に一晩残し、固体ポリマーを濾過により単離し、70℃で4時間に亘り真空炉内で乾燥させ、最後に、通常の炉内で24時間に亘り60℃で乾燥させた。
20gのポリエチレンを回収し、これは、3.0×10+6gのポリエチレン(モルZr・時)-1の平均重合速度に相当した。反応装置のファウリングは生じず、単離したポリマーの形態は非常に良好であった。ポリマーは微粒状であり、それらの粒子は球状であった。ポリマーの嵩密度は0.24g/cm3であった。
実施例5
重合
ビュッヒ重合反応装置を、ウォーター・ジャケットを用いて、最初に85℃まで加熱し、排気し、乾燥窒素を充填した。次いで、250cm3の乾燥ヘプタンを、溶媒貯蔵ウィンチェスターからビュッヒ反応装置に、窒素圧下で移した。このヘプタンを真空下において60℃で20分間に亘り還流した。エチレンモノマー供給システムのスイッチを入れ、反応装置を、真空とエチレン供給システムとを交互に切り替えて、エチレンモノマーで3回パージした。ヘプタン希釈剤を大気圧でエチレンにより飽和させ、その後、20cm3のヘプタンで希釈された10cm3のTIBALを含有する溶液を3.0cm3、また2cm3の1−オクテンを、この反応装置に注入した。この注入後に、2.0cm3のヘプタン中でスラリーにされた、実施例2に記載されたように調製した0.47gの固体担持触媒前駆体、および2.0cm2のヘプタン中に溶解した、実施例1に記載されたように調製した、2.2×10-3gの触媒を含有する予備接触させた(2分)混合物を注入した。この反応装置の温度を60℃に上昇させ、反応装置の全圧を6バールに維持するように要求に応じてエチレンを供給しながら、エチレン重合を2時間に亘り行った。重合の終わりに、エチレン供給システムを閉じ、生成されたポリマーを、反応装置の底にあるステンレス鋼製のスクリュープラグを通じて取り出した。ポリマースラリーをヒューム・カップボード内に一晩残し、固体ポリマーを濾過により単離し、70℃で4時間に亘り真空炉内で乾燥させ、最後に、通常の炉内で24時間に亘り60℃で乾燥させた。
重合
ビュッヒ重合反応装置を、ウォーター・ジャケットを用いて、最初に85℃まで加熱し、排気し、乾燥窒素を充填した。次いで、250cm3の乾燥ヘプタンを、溶媒貯蔵ウィンチェスターからビュッヒ反応装置に、窒素圧下で移した。このヘプタンを真空下において60℃で20分間に亘り還流した。エチレンモノマー供給システムのスイッチを入れ、反応装置を、真空とエチレン供給システムとを交互に切り替えて、エチレンモノマーで3回パージした。ヘプタン希釈剤を大気圧でエチレンにより飽和させ、その後、20cm3のヘプタンで希釈された10cm3のTIBALを含有する溶液を3.0cm3、また2cm3の1−オクテンを、この反応装置に注入した。この注入後に、2.0cm3のヘプタン中でスラリーにされた、実施例2に記載されたように調製した0.47gの固体担持触媒前駆体、および2.0cm2のヘプタン中に溶解した、実施例1に記載されたように調製した、2.2×10-3gの触媒を含有する予備接触させた(2分)混合物を注入した。この反応装置の温度を60℃に上昇させ、反応装置の全圧を6バールに維持するように要求に応じてエチレンを供給しながら、エチレン重合を2時間に亘り行った。重合の終わりに、エチレン供給システムを閉じ、生成されたポリマーを、反応装置の底にあるステンレス鋼製のスクリュープラグを通じて取り出した。ポリマースラリーをヒューム・カップボード内に一晩残し、固体ポリマーを濾過により単離し、70℃で4時間に亘り真空炉内で乾燥させ、最後に、通常の炉内で24時間に亘り60℃で乾燥させた。
35gのポリエチレンを回収し、これは、5.4×10+6gのポリエチレン(モルZr・時)-1の平均重合速度に相当した。反応装置のファウリングは生じず、単離したポリマーの形態は非常に良好であった。ポリマーは微粒状であり、それらの粒子は球状であった。ポリマーの嵩密度は0.26g/cm3であった。このポリマーのSEM(走査電子顕微鏡)画像が図3に示されている。
比較例A
均一系重合
1リットルのビュッヒ重合反応装置(BEP280)を、ウォーター・ジャケットを用いて、最初に85℃まで加熱し、排気し、乾燥窒素を充填した。次いで、250cm3の乾燥ヘプタンを、溶媒貯蔵ウィンチェスターからビュッヒ反応装置に、窒素圧下で移した。このヘプタンを真空下において25℃で20分間に亘り還流した。エチレンモノマー供給システムのスイッチを入れ、反応装置を、真空とエチレン供給システムとを交互に切り替えて、エチレンモノマーで3回パージした。ヘプタン希釈剤を大気圧において25℃でエチレンにより飽和させ、その後、2.0cm3のMMAO溶液(5質量%のAl)をこの反応装置に注入した。最後に、2.0cm3のヘプタン中でスラリーにした、実施例1に記載されたように調製した0.0043gの固体触媒を反応装置に注入した。反応装置の全圧を1バールに維持するように要求に応じてエチレンを供給しながら、エチレン重合を30分間に亘り行った。この重合反応は、多量の熱が放出されて非常に急激であり、温度制御が損なわれた。温度は、30分間の重合中に、25℃から80℃まで上昇した。
均一系重合
1リットルのビュッヒ重合反応装置(BEP280)を、ウォーター・ジャケットを用いて、最初に85℃まで加熱し、排気し、乾燥窒素を充填した。次いで、250cm3の乾燥ヘプタンを、溶媒貯蔵ウィンチェスターからビュッヒ反応装置に、窒素圧下で移した。このヘプタンを真空下において25℃で20分間に亘り還流した。エチレンモノマー供給システムのスイッチを入れ、反応装置を、真空とエチレン供給システムとを交互に切り替えて、エチレンモノマーで3回パージした。ヘプタン希釈剤を大気圧において25℃でエチレンにより飽和させ、その後、2.0cm3のMMAO溶液(5質量%のAl)をこの反応装置に注入した。最後に、2.0cm3のヘプタン中でスラリーにした、実施例1に記載されたように調製した0.0043gの固体触媒を反応装置に注入した。反応装置の全圧を1バールに維持するように要求に応じてエチレンを供給しながら、エチレン重合を30分間に亘り行った。この重合反応は、多量の熱が放出されて非常に急激であり、温度制御が損なわれた。温度は、30分間の重合中に、25℃から80℃まで上昇した。
重合の終わりに、エチレン供給システムを閉じ、生成されたポリマーを、反応装置の底にあるステンレス鋼製のスクリュープラグを通じて取り出した。ポリマースラリーをヒューム・カップボード内に一晩残し、固体ポリマーを濾過により単離し、70℃で4時間に亘り真空炉内で乾燥させ、最後に、通常の炉内で24時間に亘り60℃で乾燥させた。61gのポリエチレンを回収し、これは、2.1×10+6gのポリエチレン(モルZr・時)-1の平均重合速度に相当した。
反応装置のファウリングが重合中に生じ、ポリマーが、撹拌機と反応装置の壁に付着した。単離したポリマーは、非常に質の悪い形態を有し、塊のある粉末状であった。ポリマーの嵩密度は許容できなかった。
比較例B
触媒成分Aの調製
10gのMS3050シリカ(ピー・キュー社(PQ Corporation)の製品)を燃焼ボート内に入れ、これを炉の中央部に配置した。この炉のスイッチを入れ、温度を、乾燥窒素を流しながら500℃まで毎分2℃で上昇させ、室温まで冷却させる前に、6時間に亘りこの値に維持した。このシリカをフラスコに移し、このフラスコを真空下(10-2mmHg)で3時間に亘り260℃まで加熱した。最後に、シリカを、窒素雰囲気下で室温まで冷却した。
触媒成分Aの調製
10gのMS3050シリカ(ピー・キュー社(PQ Corporation)の製品)を燃焼ボート内に入れ、これを炉の中央部に配置した。この炉のスイッチを入れ、温度を、乾燥窒素を流しながら500℃まで毎分2℃で上昇させ、室温まで冷却させる前に、6時間に亘りこの値に維持した。このシリカをフラスコに移し、このフラスコを真空下(10-2mmHg)で3時間に亘り260℃まで加熱した。最後に、シリカを、窒素雰囲気下で室温まで冷却した。
2.00gの脱水シリカを、焼結ディスク(No.2気孔率)および栓を持つ側枝が備え付けられた円筒形三首フラスコからなり、乾燥窒素により十分にパージされている、100cm3の触媒調製反応装置(CPR)内に入れた。30cm3のトルエン中の3.6cm3のMAO溶液(5質量%のAl)を加えた。この混合物を乾燥窒素雰囲気下で2時間に亘り50℃で撹拌し、次いで、濾過した。得られた固体を50℃で30cmのトルエンで3回洗浄した。微量分析により、この固体は0.20%のAlを含有することが分かった。
実施例1に記載したように調製した0.301gの固体触媒および30cm3のヘプタンをCPRに加え、この混合物を乾燥窒素雰囲気下で6時間に亘り70℃で撹拌した。この混合物を濾過し、固体を70℃で15cm3のヘプタンで8回洗浄した。最後に、CPR中の固体を、窒素パージおよび真空系を用いて、2時間に亘り70℃で乾燥させ、丸底フラスコに入れ、20cm3のヘプタンを加えた。固体担持触媒成分を微量分析により分析し、0.14質量%のZrを含有することが分かった。
比較例C
均一系重合
ビュッヒ重合反応装置を、ウォーター・ジャケットを用いて、最初に85℃まで加熱し、排気し、乾燥窒素を充填した。次いで、250cm3の乾燥ヘプタンを、溶媒貯蔵ウィンチェスターからビュッヒ反応装置に、窒素圧下で移した。このヘプタンを真空下におい40℃で20分間に亘り還流した。エチレンモノマー供給システムのスイッチを入れ、反応装置を、真空とエチレン供給システムとを交互に切り替えて、エチレンモノマーで3回パージした。ヘプタン希釈剤を大気圧において40℃でエチレンにより飽和させ、その後、1.0cm3のMMAO溶液(7質量%のAl)をこの反応装置に注入した。この注入後、比較例Bに記載したように調製し、4.5cm3のヘプタン中でスラリーにされた固体触媒成分Aを0.9g注入した。この反応装置の温度を40℃まで上昇させ、反応装置の全圧を6バールに維持するように要求に応じてエチレンを供給しながら、エチレン重合を1時間に亘り行った。重合の終わりに、エチレン供給システムを閉じ、生成されたポリマーを、反応装置の底にあるステンレス鋼製のスクリュープラグを通じて取り出した。ポリマースラリーをヒューム・カップボード内に一晩残し、固体ポリマーを濾過により単離し、70℃で4時間に亘り真空炉内で乾燥させ、最後に、通常の炉内で24時間に亘り60℃で乾燥させた。
均一系重合
ビュッヒ重合反応装置を、ウォーター・ジャケットを用いて、最初に85℃まで加熱し、排気し、乾燥窒素を充填した。次いで、250cm3の乾燥ヘプタンを、溶媒貯蔵ウィンチェスターからビュッヒ反応装置に、窒素圧下で移した。このヘプタンを真空下におい40℃で20分間に亘り還流した。エチレンモノマー供給システムのスイッチを入れ、反応装置を、真空とエチレン供給システムとを交互に切り替えて、エチレンモノマーで3回パージした。ヘプタン希釈剤を大気圧において40℃でエチレンにより飽和させ、その後、1.0cm3のMMAO溶液(7質量%のAl)をこの反応装置に注入した。この注入後、比較例Bに記載したように調製し、4.5cm3のヘプタン中でスラリーにされた固体触媒成分Aを0.9g注入した。この反応装置の温度を40℃まで上昇させ、反応装置の全圧を6バールに維持するように要求に応じてエチレンを供給しながら、エチレン重合を1時間に亘り行った。重合の終わりに、エチレン供給システムを閉じ、生成されたポリマーを、反応装置の底にあるステンレス鋼製のスクリュープラグを通じて取り出した。ポリマースラリーをヒューム・カップボード内に一晩残し、固体ポリマーを濾過により単離し、70℃で4時間に亘り真空炉内で乾燥させ、最後に、通常の炉内で24時間に亘り60℃で乾燥させた。
60gのポリエチレンを回収し、これは、6.0×10+6gのポリエチレン(モルZr・時)-1の平均重合速度に相当した。単離したポリマーは、質の悪い形態を有し、反応装置にある程度のファウリングが生じ、ポリマーが反応装置の壁と撹拌機に付着した。ポリマーの嵩密度は0.15g/cm3であった。このポリマーのSEM(走査電子顕微鏡)画像が図2に示されている。
比較例D
均一系重合
ビュッヒ重合反応装置を、ウォーター・ジャケットを用いて、最初に85℃まで加熱し、排気し、乾燥窒素を充填した。次いで、250cm3の乾燥ヘプタンを、溶媒貯蔵ウィンチェスターからビュッヒ反応装置に、窒素圧下で移した。このヘプタンを真空下におい40℃で20分間に亘り還流した。エチレンモノマー供給システムのスイッチを入れ、反応装置を、真空とエチレン供給システムとを交互に切り替えて、エチレンモノマーで3回パージした。ヘプタン希釈剤を大気圧において40℃でエチレンにより飽和させ、その後、1.0cm3のMMAO溶液(7質量%のAl)をこの反応装置に注入し、その後、1.0cm3の1−オクテン(98%)を注入した。これらの注入後、比較例Bに記載したように調製し、4.5cm3のヘプタン中でスラリーにされた固体触媒成分Aを0.9g注入した。この反応装置の温度を40℃まで上昇させ、反応装置の全圧を6バールに維持するように要求に応じてエチレンを供給しながら、エチレン重合を1時間に亘り行った。重合の終わりに、エチレン供給システムを閉じ、生成されたポリマーを、反応装置の底にあるステンレス鋼製のスクリュープラグを通じて取り出した。ポリマースラリーをヒューム・カップボード内に一晩残し、固体ポリマーを濾過により単離し、70℃で4時間に亘り真空炉内で乾燥させ、最後に、通常の炉内で24時間に亘り60℃で乾燥させた。
均一系重合
ビュッヒ重合反応装置を、ウォーター・ジャケットを用いて、最初に85℃まで加熱し、排気し、乾燥窒素を充填した。次いで、250cm3の乾燥ヘプタンを、溶媒貯蔵ウィンチェスターからビュッヒ反応装置に、窒素圧下で移した。このヘプタンを真空下におい40℃で20分間に亘り還流した。エチレンモノマー供給システムのスイッチを入れ、反応装置を、真空とエチレン供給システムとを交互に切り替えて、エチレンモノマーで3回パージした。ヘプタン希釈剤を大気圧において40℃でエチレンにより飽和させ、その後、1.0cm3のMMAO溶液(7質量%のAl)をこの反応装置に注入し、その後、1.0cm3の1−オクテン(98%)を注入した。これらの注入後、比較例Bに記載したように調製し、4.5cm3のヘプタン中でスラリーにされた固体触媒成分Aを0.9g注入した。この反応装置の温度を40℃まで上昇させ、反応装置の全圧を6バールに維持するように要求に応じてエチレンを供給しながら、エチレン重合を1時間に亘り行った。重合の終わりに、エチレン供給システムを閉じ、生成されたポリマーを、反応装置の底にあるステンレス鋼製のスクリュープラグを通じて取り出した。ポリマースラリーをヒューム・カップボード内に一晩残し、固体ポリマーを濾過により単離し、70℃で4時間に亘り真空炉内で乾燥させ、最後に、通常の炉内で24時間に亘り60℃で乾燥させた。
8gのポリエチレンを回収し、これは、6.0×10+6gのポリエチレン(モルZr・時)-1の平均重合速度に相当した。単離したポリマーは、比較的質の悪い形態を有し、反応装置にある程度のファウリングが生じ、ポリマーが反応装置の壁と撹拌機に付着した。ポリマーの嵩密度は0.17g/cm3であった。
比較例E(特許文献5の実施例163による)
a) 担持触媒の調製
約30mlのトルエン中に、12時間に亘り250℃で乾燥された2gのCS2040シリカ(キュー・ピー社の製品)を懸濁させ、この懸濁液を0℃まで冷却した。次いで、11.5mlのメチルアルミノキサン(MAO)溶液(Al=1.33モル/l)を滴下により加えた。添加中、この反応系の温度を0℃に維持した。反応は、30分間に亘り0℃で行った。次いで、この反応系の温度を95℃まで上昇させ、約20時間に亘りこの温度に維持した。次いで、反応系の温度を60℃まで低下させ、上清液を除去した。得られた固体触媒前駆体成分を40mlのトルエンで2回洗浄し、10.6mlのトルエン中に再度懸濁させた。次いで、ビス−(N−[(3−t−ブチルサリチリデン)アニリナート]ジルコニウム(IV)ジクロライド)(8ミリモル/l)を滴下により加えた。この懸濁液は24時間に亘り室温で貯蔵した。得られた固体担持触媒を100mlのヘキサンで2回洗浄した。
a) 担持触媒の調製
約30mlのトルエン中に、12時間に亘り250℃で乾燥された2gのCS2040シリカ(キュー・ピー社の製品)を懸濁させ、この懸濁液を0℃まで冷却した。次いで、11.5mlのメチルアルミノキサン(MAO)溶液(Al=1.33モル/l)を滴下により加えた。添加中、この反応系の温度を0℃に維持した。反応は、30分間に亘り0℃で行った。次いで、この反応系の温度を95℃まで上昇させ、約20時間に亘りこの温度に維持した。次いで、反応系の温度を60℃まで低下させ、上清液を除去した。得られた固体触媒前駆体成分を40mlのトルエンで2回洗浄し、10.6mlのトルエン中に再度懸濁させた。次いで、ビス−(N−[(3−t−ブチルサリチリデン)アニリナート]ジルコニウム(IV)ジクロライド)(8ミリモル/l)を滴下により加えた。この懸濁液は24時間に亘り室温で貯蔵した。得られた固体担持触媒を100mlのヘキサンで2回洗浄した。
b) 重合反応
窒素で十分にパージした反応槽内に、250mlのヘプタンを入れ、気相および液相を50℃でエチレンにより飽和させた。次いで、a)により調製した2mlの触媒スラリーを加え(約4×1000-3ミリモル/lのチタン濃度を提供する)、5バールのエチレン圧下で90分間に亘り重合を行った。得られたポリマー懸濁液を濾過し、ヘキサンで洗浄し、10時間に亘り80℃で真空下で乾燥させ、1.6gのポリエチレンを得た。重合活性は1063kgポリエチレン/モルTi・時であった。生成されたポリエチレンのSEM画像が図4に示されている。
窒素で十分にパージした反応槽内に、250mlのヘプタンを入れ、気相および液相を50℃でエチレンにより飽和させた。次いで、a)により調製した2mlの触媒スラリーを加え(約4×1000-3ミリモル/lのチタン濃度を提供する)、5バールのエチレン圧下で90分間に亘り重合を行った。得られたポリマー懸濁液を濾過し、ヘキサンで洗浄し、10時間に亘り80℃で真空下で乾燥させ、1.6gのポリエチレンを得た。重合活性は1063kgポリエチレン/モルTi・時であった。生成されたポリエチレンのSEM画像が図4に示されている。
上記実施例は、本発明による担持触媒が、助触媒としてのアルミノキサンが少量であっても、高い活性を有することを示している。本発明による触媒を使用すると、良好な形態および高い嵩密度を有するオレフィン(コ)ポリマーが得られる。さらに、重合反応装置のファウリングが、起こらないかまたは実質的に起こらない。
Claims (13)
- 少なくとも1種類の担持触媒前駆体および少なくとも1種類の遷移金属錯体を有する担持触媒であって、前記前駆体が、アルミノキサン化合物および/または有機アルミニウム化合物により処理されたメソ多孔質ケイ酸塩構造MCM−48の形態にある固体微粒子担持材を含み、前記遷移金属錯体が、少なくとも2種類のフェノキシ−イミン配位子と配位結合した周期表の4族の遷移金属の遷移金属錯体であることを特徴とする担持触媒。
- 前記前駆体が、ケイ素、アルミニウム、マグネシウム、チタン、ジルコニウム、ホウ素、カルシウムまたは亜鉛の酸化物、ケイ酸アルミニウム、ポリシロキサン、板状ケイ酸塩、ゼオライト、粘土、金属ハロゲン化物、ポリマーおよび/または混合酸化物からなる群より選択される担持材をさらに含むことを特徴とする請求項1記載の担持触媒。
- 前記固体微粒子担持材が、MCM−48および酸化ケイ素および/または酸化アルミニウムを含むことを特徴とする請求項2記載の担持触媒。
- 前記担持材が、ある温度でアルミノキサン化合物および/または有機アルミニウム化合物により処理される前に、熱的および/または化学的に予備処理されることを特徴とする請求項1から3いずれか1項記載の担持触媒。
- M=Zr、
A=O、
R1=t−ブチル、
R2からR5=H、
R6=フェニル、および
X、Y=塩化物
であることを特徴とする請求項5記載の担持触媒。 - 前記遷移金属錯体が、ビス−(N−[(3−t−ブチルサリチリデン)アニリナート]ジルコニウム(IV)ジクロライド)であることを特徴とする請求項1から6いずれか1項記載の担持触媒。
- 請求項1から7いずれか1項記載の担持触媒の調製方法であって、
a) メソ多孔質ケイ酸塩構造MCM−48の形態にある少なくとも1種類の固体微粒子担持材を提供し、
b) 不活性希釈剤中で前記微粒子担持材のスラリーを形成し、該スラリーを少なくとも1種類のアルミノキサン化合物および/または少なくとも1種類の有機アルミニウム化合物と混合し、または前記担持材自体を、1種類のアルミノキサン化合物および/または少なくとも1種類の有機アルミニウム化合物と不活性希釈剤中で混合し、
c) 工程b)において得られた固体材料を単離し、
d) 不活性希釈剤中で、工程c)において得られた前記固体材料からスラリーを調製し、
e) 工程d)において得られた前記スラリーおよび少なくとも2種類のフェノキシ−イミン配位子に配位結合した4族遷移金属と不活性希釈剤中で混合する、
各工程を有してなる方法。 - エチレン性不飽和モノマーの(コ)ポリマーを調製する方法であって、
a) 少なくとも1種類のエチレン性不飽和モノマーを反応槽に加え、
b) 請求項1から7いずれか1項記載の担持触媒または請求項1記載の方法により得られた触媒を前記反応槽に加え、
c) 前記エチレン性不飽和モノマーを(共)重合させ、
d) 調製された(コ)ポリマーを単離する、
各工程を有してなる方法。 - エチレン性不飽和モノマーから(コ)ポリマーを調製する方法であって、
a) 少なくとも1種類のエチレン性不飽和モノマーを反応槽中に不活性希釈剤に加え、
b) メソ多孔質ケイ酸塩構造MCM−48の形態にある固体微粒子担持材を含む前駆体および少なくとも2種類のフェノキシ−イミン配位子に配位結合した少なくとも1種類の4族遷移金属の少なくとも1種類の遷移金属錯体を不活性希釈剤中で混合し、
c) 工程b)により得られた混合物を、工程a)において得られた前記少なくとも1種類のエチレン性不飽和モノマーに加え、
d) 不活性希釈剤中に少なくとも1種類のアルミノキサン化合物および/または1種類の有機アルミニウム化合物を加え、
e) 前記エチレン性不飽和モノマーを(共)重合させ、
f) 調製された(コ)ポリマーを単離する、
各工程を有してなる方法。 - エチレン性不飽和モノマーの(コ)ポリマーを調製する方法であって、
a) 少なくとも1種類のエチレン性不飽和モノマーを反応槽内の不活性希釈剤中に加え、
b) メソ多孔質ケイ酸塩構造MCM−48の形態にある固体微粒子担持材を加え、
c) 不活性希釈剤中の少なくとも2種類のフェノキシ−イミン配位子に配位結合した少なくとも1種類の4族遷移金属の少なくとも1種類の遷移金属錯体を加え、
d) エチレン性不飽和モノマーを(共)重合させ、
e) 調製された(コ)ポリマーを単離する、
各工程を有してなる方法。 - エチレン性不飽和モノマーの(共)重合プロセスに、請求項1から7いずれか1項記載の担持触媒または請求項8記載の方法により得られた担持触媒を使用する方法。
- 前記エチレン性不飽和モノマーがエチレンであることを特徴とする請求項12記載の方法。
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