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JP2010210349A - Probe cleaning sheet and probe cleaning material - Google Patents

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JP2010210349A JP2009055606A JP2009055606A JP2010210349A JP 2010210349 A JP2010210349 A JP 2010210349A JP 2009055606 A JP2009055606 A JP 2009055606A JP 2009055606 A JP2009055606 A JP 2009055606A JP 2010210349 A JP2010210349 A JP 2010210349A
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a probe cleaning sheet capable of carrying out a sufficient cleaning performance for a probe without wearing the probe easily, in a wide temperature range of an inspection environment. <P>SOLUTION: The probe cleaning sheet 10 for removing foreign substances attached to the head part of the probe includes: a base material sheet 25; and a cleaning layer 20 which is formed on the base material sheet 25 and made up of an elastic base material 21 consisting of a silicone elastomer and/or silicone resin having abrasive particles 22 mixed therein. The probe cleaning sheet 10 is characterized in that a period for which a ball No.5 passes through a measurement distance is in a range of 0.5 s or more and 4.0 s or less in an inclined ball tack test for evaluating adhesion based on JIS Z0237 to be carried out under such the condition that an inclining angle is 20°, and a ball to be used is the ball No.5 (ϕ3.9 mm), and an entrance length is 100 mm, and the measurement distance of an adhesive plane having a surface of the cleaning layer 20 is 100 mm. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、電気特性検査に使用するプローブカードのプローブに付着した異物の除去に使用するプローブクリーニングシート及びプローブクリーニング材に関し、特に、低温から高温に至る広範な検査温度範囲下での使用に好適なプローブクリーニングシート及びプローブクリーニング材に関するものである。   The present invention relates to a probe cleaning sheet and a probe cleaning material used for removing foreign matter adhering to a probe of a probe card used for electrical property inspection, and particularly suitable for use in a wide inspection temperature range from low temperature to high temperature. The present invention relates to a probe cleaning sheet and a probe cleaning material.

半導体装置の製造工程では、チップの電極パッドに検査装置のプローブを接触させ、このプローブを通じての試験信号の印加及び検出により、各チップの電気特性の検査を行っている。   In the manufacturing process of a semiconductor device, the probe of the inspection apparatus is brought into contact with the electrode pad of the chip, and the electrical characteristics of each chip are inspected by applying and detecting a test signal through the probe.

一般に、プローブは、タングステン、ベリリウムなどの硬質の材料から形成されている。一方、電極パッドは、アルミニウムなどの比較的軟質の材料から形成されており、電極パッドにプローブを接触させた際に、プローブの先端部分(先端と先端付近の側面)に電極パッド表面の酸化アルミニウムなどの異物が付着するため、プローブとパッドとの間に導通不良が生じ、検査精度の低下を招いてしまう。また、プローブに大きい異物が付着すると、隣接するプローブ同士が短絡し、チップを破壊することがある。このため、チップの電極パッドの試験においては、プローブの先端部分をクリーニングして、付着した異物の除去を行っている。   In general, the probe is made of a hard material such as tungsten or beryllium. On the other hand, the electrode pad is formed from a relatively soft material such as aluminum, and when the probe is brought into contact with the electrode pad, the electrode pad surface aluminum oxide is formed on the tip portion (tip and side surface near the tip). As a result, foreign matter such as adheres, a conduction failure occurs between the probe and the pad, leading to a decrease in inspection accuracy. Moreover, when a large foreign substance adheres to the probe, adjacent probes may be short-circuited to destroy the chip. For this reason, in the test of the electrode pad of the chip, the tip portion of the probe is cleaned to remove the adhered foreign matter.

プローブ先端部分のクリーニングには、基材シートの表面にクリーニング層を形成したプローブクリーニングシートが使用されている。このプローブクリーニングシートを使用するクリーニングでは、検査テーブルの表面にプローブクリーニングシートを取り付け、プローブの先端部分をこのクリーニング層(研磨層とも称す)の表面からその内部に突き刺し、そして引抜くことにより、プローブ先端部分に付着した異物の除去が行われる。   For cleaning the probe tip, a probe cleaning sheet having a cleaning layer formed on the surface of a base sheet is used. In cleaning using this probe cleaning sheet, the probe cleaning sheet is attached to the surface of the inspection table, the tip of the probe is stabbed into the inside from the surface of this cleaning layer (also referred to as a polishing layer), and then pulled out, Foreign matter adhering to the tip portion is removed.

このようなプローブクリーニングシートとして、従来、研磨粒子(酸化アルミニウム、炭化珪素、ダイヤモンドなどからなる硬質の粒子)を混入したシリコーンゴム、ウレタンゴムなどの弾性材料からなるクリーニング部材が提案されている(例えば、特許文献1参照)。また、研磨粒子を含む研磨部材の上にさらに研磨粒子を含まない異物除去膜を設けて、プローブ先端を引き抜く時にこの異物除去膜で異物を効果的に拭い取るクリーニング部材が提案されている(例えば、特許文献2参照)。さらに、表面が粗面にされた基板の表面に、弾性を有する研磨層を形成し、プローブの先端の押圧力により研磨層を窪ませ、この窪んだ部分と粗面との間に入り込んだ研磨粒子により、プローブの先端をクリーニングするクリーニング部材が提案されている(例えば、特許文献3参照)。   As such a probe cleaning sheet, conventionally, a cleaning member made of an elastic material such as silicone rubber or urethane rubber mixed with abrasive particles (hard particles made of aluminum oxide, silicon carbide, diamond, etc.) has been proposed (for example, , See Patent Document 1). Further, there has been proposed a cleaning member in which a foreign substance removing film not containing abrasive particles is further provided on an abrasive member containing abrasive particles, and the foreign substance is effectively wiped off with the foreign substance removing film when the probe tip is pulled out (for example, , See Patent Document 2). Furthermore, a polishing layer having elasticity is formed on the surface of the substrate having a roughened surface, and the polishing layer is recessed by the pressing force of the tip of the probe, and polishing that enters between the recessed portion and the rough surface. A cleaning member that cleans the tip of the probe with particles has been proposed (see, for example, Patent Document 3).

特開平7−244074号公報Japanese Patent Laid-Open No. 7-244074 特開平11−87438号公報JP-A-11-87438 特開2004−271389号公報JP 2004-271389 A

近年、半導体装置のチップサイズの小型化に伴い、チップ上に形成される電極パッドのサイズも小さくなり、電極パッド同士も近接して設けられるようになった。そのため、プローブの径はさらに細くなり、かつプローブカードにはプローブ同士がさらに近接して設けられるようになった。その一方、現状の検査精度の維持に加え、さらなる検査精度の向上の要求がある。これに伴って、プローブは、例えば、ベリリウム‐銅の合金のように高い電気特性を有する比較的軟質な材料から形成されるようになってきた。   In recent years, as the chip size of semiconductor devices has been reduced, the size of the electrode pads formed on the chip has been reduced, and the electrode pads have been provided close to each other. Therefore, the diameter of the probe is further reduced, and the probes are provided closer to each other on the probe card. On the other hand, in addition to maintaining the current inspection accuracy, there is a demand for further improvement in inspection accuracy. As a result, probes have been made from relatively soft materials with high electrical properties, such as beryllium-copper alloys.

また、チップの電気特性検査は、現実の使用状況を考慮して、チップを使用する環境とほぼ同じ環境下で行なわれている。例えば、チップを自動車に搭載させる場合、チップの使用環境温度である低温(−40℃)〜高温(150℃)の広い範囲、さらに好ましくは、−40℃〜200℃の範囲における電気特性検査が要求されている。そのため、プローブをクリーニングするクリーニングシートにも、チップの使用環境に応じた同じ温度範囲の環境下において十分なクリーニング性能を発揮することが求められている。   In addition, the electrical characteristic inspection of the chip is performed in almost the same environment as the environment in which the chip is used in consideration of actual usage conditions. For example, when a chip is mounted on an automobile, electrical characteristic inspection is performed in a wide range of low temperature (−40 ° C.) to high temperature (150 ° C.), more preferably in a range of −40 ° C. to 200 ° C. Requested. Therefore, the cleaning sheet for cleaning the probe is also required to exhibit sufficient cleaning performance in an environment having the same temperature range corresponding to the use environment of the chip.

しかしながら、上記したチップの使用環境の温度範囲において、従来のプローブクリーニングシートを使用すると、クリーニング部材の構成によっては、複数回のクリーニングにより、プローブの先端が大きく削られて磨耗し、プローブの寿命が短くなるという問題が起こる。また、この磨耗によりチップの電気特性検査に誤差が生じるという問題も起きてしまう。   However, when a conventional probe cleaning sheet is used in the temperature range of the above-mentioned usage environment of the chip, depending on the configuration of the cleaning member, the tip of the probe is greatly scraped and worn by multiple cleanings, and the life of the probe is shortened. The problem of shortening occurs. Also, this wear causes a problem that an error occurs in the electrical characteristic inspection of the chip.

本発明は、チップの使用環境下に応じた広範な検査温度範囲下において、プローブに対し十分なクリーニング性能が発揮でき、かつプローブを容易に磨耗させることのないプローブクリーニングシート及びプローブクリーニング材の提供を目的とする。   The present invention provides a probe cleaning sheet and a probe cleaning material capable of exhibiting a sufficient cleaning performance for a probe under a wide inspection temperature range corresponding to the use environment of the chip and not easily abrading the probe. With the goal.

上記目的を達成するために本発明が提供するのは、プローブの先端部分に付着している異物を除去するためのクリーニング層を有するプローブクリーニングシートであって、基材シートと、該基材シート上に、研磨粒子が混入されたシリコーン樹脂及び/又はシリコーンエラストマーから成る弾性母材で形成される前記クリーニング層とを備えて成り、JIS Z0237に準拠する粘着性評価の傾斜式ボールタック試験で、傾斜角度20度、ボールNo.5(φ3.9mm)、助走距離100mm、及び前記クリーニング層を表面とする粘着面の測定距離を100mmとする条件下で、前記ボールNo.5が、前記測定距離を通過する時間が0.5秒以上4.0秒以下の範囲にあるプローブクリーニングシートである。   In order to achieve the above object, the present invention provides a probe cleaning sheet having a cleaning layer for removing foreign matter adhering to the tip portion of the probe, the base sheet, and the base sheet In addition, the cleaning layer formed of an elastic base material made of a silicone resin and / or a silicone elastomer mixed with abrasive particles, and an inclined ball tack test for evaluating the adhesiveness according to JIS Z0237, Inclination angle 20 degrees, ball no. No. 5 (φ 3.9 mm), a run-up distance of 100 mm, and a measurement distance of the adhesive surface with the cleaning layer as a surface is 100 mm. Reference numeral 5 denotes a probe cleaning sheet in which the time passing through the measurement distance is in the range of 0.5 seconds to 4.0 seconds.

このような材質かつ粘着性を有するクリーニング層を備えたプローブクリーニングシートとすることによって、低温から高温に至る広範な温度範囲にある電気特性検査おいて、プローブの先端部分に付着した異物を効率よく除去することができ、且つ、除去された異物が再びプローブに付着したままクリ−ニング層から抜き取られることなく、異物をクリーニング層内に保持することができる。また、弾性母材の粘着性を上記範囲としたので、プローブにクリーニング層の弾性母材がプローブに付着(転写)して針先を汚染するという問題が起こらない。   By using a probe cleaning sheet with such a material and an adhesive cleaning layer, foreign substances adhering to the tip of the probe can be efficiently removed in electrical characteristic inspections in a wide temperature range from low to high. The foreign matter can be removed, and the foreign matter can be held in the cleaning layer without being removed from the cleaning layer while adhering to the probe again. In addition, since the adhesiveness of the elastic base material is in the above range, the problem that the elastic base material of the cleaning layer adheres (transfers) to the probe and contaminates the needle tip does not occur.

また、前記弾性母材は、JIS L1096に準拠した測定試験おける圧縮率が、0.7%以上1.5%以下とすることが好ましい。上記範囲の圧縮率とすることで、半導体ウェーハのチップのテストにおけるプローブ先端の針圧よりも、低い針圧でクリーニング層に刺し通すことができるのでプローブを損傷することがない。またクリーニング層への突き刺し、及び引き抜き時において、プローブ先端との密着性、摺動性が良く、クリーニング効果を高めることができる。   The elastic base material preferably has a compression rate of 0.7% or more and 1.5% or less in a measurement test based on JIS L1096. By setting the compression rate within the above range, the cleaning layer can be pierced with a needle pressure lower than the needle pressure at the probe tip in the test of the chip of the semiconductor wafer, so that the probe is not damaged. In addition, at the time of piercing and withdrawing the cleaning layer, the adhesion with the probe tip and the slidability are good, and the cleaning effect can be enhanced.

また、前記研磨粒子が、ダイヤモンド粒子、SiC等の炭化物、BC又はcBN等の硼素化合物、Si、Al、Ti、Ce、Mn、Fe、Cr及びZrのグループから選ばれる少なくとも1種類の元素を含む酸化物、並びにSi、Al及びTiのグループから選ばれる少なくとも1種類の元素を含む窒化物のグループ、から選択される1又は2以上の種類からなり、前記研磨粒子の平均粒径が0.05μm〜20μmの範囲とすることができる。このような研磨粒子を使用することによって、プローブに付着した異物を効率よく除去することができる。 The abrasive particles are at least one element selected from the group consisting of diamond particles, carbides such as SiC, boron compounds such as B 4 C or cBN, Si, Al, Ti, Ce, Mn, Fe, Cr, and Zr. And one or more types selected from a group of nitrides containing at least one element selected from the group consisting of Si, Al and Ti, and the average particle size of the abrasive particles is 0 It can be in the range of 0.05 μm to 20 μm. By using such abrasive particles, foreign matters attached to the probe can be efficiently removed.

さらに、前記研磨粒子は、母粒子と、該母粒子の周囲に付着又は結合された複数の子粒子とで構成される複合粒子からなり、前記母粒子の平均粒径が1μm以上20μm以下の範囲にあり、前記子粒子の平均粒径が前記母粒子の平均粒径の1/10以上1/1000以下の範囲とすることできる。このような複合粒子を研磨粒子として使用することにより、母粒子周囲の微細な子粒子との接触点が増加するので、プローブに与える損傷を抑え、研磨効率を上昇させて異物除去の効率を図ることができる。   Further, the abrasive particles are composed of composite particles composed of mother particles and a plurality of child particles attached or bonded around the mother particles, and the average particle diameter of the mother particles is in the range of 1 μm to 20 μm. The average particle diameter of the child particles can be in the range of 1/10 to 1/1000 of the average particle diameter of the mother particles. By using such composite particles as abrasive particles, the number of contact points with fine child particles around the mother particles increases, so that damage to the probe is suppressed, and the polishing efficiency is increased to improve the efficiency of removing foreign substances. be able to.

さらに、前記母粒子が弾力性を有する有機物粒子であり、前記子粒子が無機物粒子であることが好ましい。弾力性を有する有機物粒子とすることで、プローブに与える損傷をより抑えることができる。   Furthermore, the mother particles are preferably organic particles having elasticity, and the child particles are preferably inorganic particles. By using organic particles having elasticity, damage to the probe can be further suppressed.

また、前記クリーニング層に混入される前記研磨粒子の配合率を、40重量%以上85重量%以下とすることができる。このような配合率にすることで、プローブ先端部分に付着した異物を効率よく除去することができる。   Further, the blending ratio of the abrasive particles mixed in the cleaning layer can be 40 wt% or more and 85 wt% or less. By setting it as such a mixture rate, the foreign material adhering to the probe front-end | tip part can be removed efficiently.

さらに、前記基材シートが、ポリイミド樹脂、シリコーンゴム、ポリエチレンナフタレート及びポリアクリルアクリルケトン(PEEK)のグループから選択される1又は2種類以上から成るシートであることが好ましい。このような材質の基材シートとすることで、クリーニング層と同様に、低温から高温に至る範囲での領域で安定して使用できるので、クリーニング層との熱膨張の違いによって生じる皺や剥離の発生を抑えることができる。また、基材シートは、上記材質の繊維から成る織布であってもよい。   Furthermore, it is preferable that the base sheet is a sheet composed of one or more kinds selected from the group of polyimide resin, silicone rubber, polyethylene naphthalate, and polyacrylacrylketone (PEEK). By using a base material sheet of such a material, it can be used stably in the region from low temperature to high temperature, like the cleaning layer, so that wrinkles and peeling caused by the difference in thermal expansion from the cleaning layer Occurrence can be suppressed. The base sheet may be a woven fabric made of fibers of the above materials.

さらに、本発明が提案するのは、プローブの先端部分に付着している異物を除去するためのクリーニング層を形成するプローブクリーニング材であって、研磨粒子と、該研磨粒子が混入されたシリコーン樹脂及び/又はシリコーンエラストマーから成る弾性母材とを有して成り、JIS Z0237に準拠する粘着性評価の傾斜式ボールタック試験で、傾斜角度20度、ボールNo.5(φ3.9mm)、助走距離100mm、及び前記クリーニング層を表面とする粘着面の測定距離を100mmとする条件下で、前記ボールNo.5の前記測定距離を通過する時間が、0.5秒以上4.0秒以下の範囲となるプローブクリーニング材である。   Furthermore, the present invention proposes a probe cleaning material for forming a cleaning layer for removing foreign matter adhering to the tip portion of the probe, comprising abrasive particles and a silicone resin mixed with the abrasive particles And / or an elastic base material made of a silicone elastomer. In an inclined ball tack test for evaluating tackiness according to JIS Z0237, an inclination angle of 20 degrees, ball no. No. 5 (φ 3.9 mm), a run-up distance of 100 mm, and a measurement distance of the adhesive surface with the cleaning layer as a surface is 100 mm. 5 is a probe cleaning material in which the time passing through the measurement distance 5 is in the range of 0.5 seconds to 4.0 seconds.

このようなプローブクリーニング材によれば、前記基材シートに代えて、クリーニング層を、直接検査装置の検査テーブルの金属板上に形成させることができる。また再生シリコンウェーハの面上に直接クリーニング層を形成してもよい。   According to such a probe cleaning material, a cleaning layer can be directly formed on the metal plate of the inspection table of the inspection apparatus instead of the base sheet. A cleaning layer may be formed directly on the surface of the recycled silicon wafer.

本発明によれば、チップの使用環境下である、低温から高温までの広い温度範囲において、プローブ先端に付着した異物の除去を行うクリーニングを十分に行え、さらにプローブの磨耗を抑えたプローブクリーニングシートを提供することができる。   According to the present invention, in a wide temperature range from a low temperature to a high temperature under the usage environment of the chip, a probe cleaning sheet that can sufficiently perform cleaning for removing foreign matter adhering to the tip of the probe and further suppresses probe wear. Can be provided.

図1は、本発明に係るプローブクリーニングシートの第1実施形態の一部断面模式図である。FIG. 1 is a partial schematic cross-sectional view of a first embodiment of a probe cleaning sheet according to the present invention. 図2(a)は本発明に係るプローブクリーニングシートの第2実施形態の一部断面模式図であり、図2(b)及び(c)は、それぞれ(a)に示す複合粒子の拡大模式図である。FIG. 2A is a schematic partial sectional view of a second embodiment of the probe cleaning sheet according to the present invention, and FIGS. 2B and 2C are enlarged schematic views of the composite particles shown in FIG. It is. 図3は、本発明に係るプローブクリーニングシートの第3実施形態の一部断面模式図である。FIG. 3 is a partial schematic cross-sectional view of a third embodiment of the probe cleaning sheet according to the present invention. 図4は、プローブクリーニング装置の一部断面模式図である。FIG. 4 is a partial cross-sectional schematic diagram of the probe cleaning device. 図5は、クリーニング層の粘着性試験の概略説明図である。FIG. 5 is a schematic explanatory diagram of the adhesion test of the cleaning layer. 図6(a)、(b)及び(c)は、それぞれ従来のプローブクリーニングシートの一部断面模式図である。FIGS. 6A, 6B, and 6C are schematic partial cross-sectional views of a conventional probe cleaning sheet, respectively.

以下、添付図面を参照して本発明の好ましい実施形態について説明する。
<第1実施形態>
本発明に係るプローブクリーニングシートの第1実施形態について、その一部断面模式図を示す図1を参照して説明する。
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
<First Embodiment>
1st Embodiment of the probe cleaning sheet which concerns on this invention is described with reference to FIG. 1 which shows the partial cross section schematic diagram.

図1に示すように、プローブクリーニングシート10は、基材シート25と、この基材シート25の表面に形成されるクリーニング層20とから構成される。クリーニング層20は、弾性母材21と、弾性母材21中に混入された複数の研磨粒子22とから形成されている。以下に本実施形態のクリーニング層20及び基材シート25を説明する。
(1)クリーニング層
a)弾性母材
図1に示すように、クリーニング層を構成する弾性母材21は、シリコーン樹脂及び/又はシリコーンエラストマーで構成される。このシリコーン樹脂及び/又はシリコーンエラストマーは、チップの使用環境温度範囲(−40℃〜150℃、好ましくは−50℃〜200℃)に合わせたチップ電気特性検査の環境下で、物性変化がなく安定な材料として提供されるものである。
As shown in FIG. 1, the probe cleaning sheet 10 includes a base sheet 25 and a cleaning layer 20 formed on the surface of the base sheet 25. The cleaning layer 20 is formed of an elastic base material 21 and a plurality of abrasive particles 22 mixed in the elastic base material 21. Below, the cleaning layer 20 and the base material sheet 25 of this embodiment are demonstrated.
(1) Cleaning Layer a) Elastic Base Material As shown in FIG. 1, the elastic base material 21 constituting the cleaning layer is made of a silicone resin and / or a silicone elastomer. This silicone resin and / or silicone elastomer is stable with no change in physical properties in the environment of chip electrical property inspection according to the operating environment temperature range of the chip (-40 ° C to 150 ° C, preferably -50 ° C to 200 ° C). It is provided as a new material.

弾性母材21に使用されるシリコーン樹脂及び/又はシリコーンエラストマーは、下記の化1の式で示されるシロキサン骨格を有するオルガノポリシロキサンを架橋して得られる。これには、化1の式中における「R」の全てがメチル基であるポリジメチルシロキサンの他に、メチル基の一部が他のアルキル基、ビニル基、フェニル基、フルオロアルキル基などの一又は二以上の種類と置換された各種のオルガポリノシロキサンの単体、又は二種類以上のものがブレンドされたものが含まれる。   The silicone resin and / or silicone elastomer used for the elastic base material 21 is obtained by crosslinking an organopolysiloxane having a siloxane skeleton represented by the formula 1 below. In addition to polydimethylsiloxane in which all of “R” in the formula of Chemical Formula 1 is a methyl group, a part of the methyl group may be another alkyl group, vinyl group, phenyl group, fluoroalkyl group, or the like. Or the simple substance of the various organ poly siloxane substituted with 2 or more types, or what blended 2 or more types is contained.

Figure 2010210349
Figure 2010210349

b)研磨粒子
クリーニング層20に混入される研磨粒子22の材質及び形状は、プローブをクリーニングできる材質及び形状である限り、特に限定されるものではない。例えば、ダイヤモンド粒子、SiC等の炭化物、BC、cBN等の硼素化合物、Si、Al、Ti、Ce、Mn、Fe、Cr、Zr等から選ばれる少なくとも1種の元素を含む酸化物、Si、Al、Ti等から選ばれる少なくとも1種類の元素を含む窒化物等が挙げられる。なお、本発明では、1種類の研磨粒子のみを用いてもよく、材質や形状が異なる2種類以上の研磨粒子を用いてもよい。また、複数個の一次粒子が結合した凝集粒子を用いることもできる。
b) Abrasive Particles The material and shape of the abrasive particles 22 mixed into the cleaning layer 20 are not particularly limited as long as the material and shape can clean the probe. For example, diamond particles, carbides such as SiC, boron compounds such as B 4 C and cBN, oxides containing at least one element selected from Si, Al, Ti, Ce, Mn, Fe, Cr, Zr, etc., Si And nitride containing at least one element selected from Al, Ti and the like. In the present invention, only one type of abrasive particles may be used, or two or more types of abrasive particles having different materials and shapes may be used. Aggregated particles in which a plurality of primary particles are bonded can also be used.

上記研磨粒子22の平均粒径は、0.05μm〜20μmの範囲にあることが好ましい。凝集粒子の場合は、凝集した粒子の平均粒径をいう。平均粒径が0.05μm未満であると、異物除去のクリーニング効果が低下する。また20μmを越えるとプローブ先端の磨耗が激しくなり、さらに研磨粒子に衝突した場合には、プローブ先端が変形及び破損したりする危険性が増加する。
c)クリーニング層の形成
クリーニング層20は、弾性母材21と研磨粒子22とを混練し、分散調整したものを、基材シート上に塗布した後に、所定の温度で乾燥処理して得られる。このとき、クリーニング層20に混入される研磨粒子22の重量比率は、クリーニング層を100重量%とした場合、好ましくは40〜85重量%である。研磨粒子22の含有量を上記範囲とすることによって、良好な研磨特性を維持することができるとともに、過度にプローブ先端を削ることなく、優れたクリーニング特性を発揮することができる。
The average particle size of the abrasive particles 22 is preferably in the range of 0.05 μm to 20 μm. In the case of agglomerated particles, it means the average particle size of the agglomerated particles. When the average particle size is less than 0.05 μm, the cleaning effect for removing foreign matter is lowered. On the other hand, if the thickness exceeds 20 μm, the tip of the probe becomes extremely worn, and if it collides with abrasive particles, the risk of the probe tip being deformed or damaged increases.
c) Formation of Cleaning Layer The cleaning layer 20 is obtained by kneading the elastic base material 21 and the abrasive particles 22 and applying a dispersion-adjusted material on the base sheet, followed by drying at a predetermined temperature. At this time, the weight ratio of the abrasive particles 22 mixed in the cleaning layer 20 is preferably 40 to 85% by weight when the cleaning layer is 100% by weight. By setting the content of the abrasive particles 22 in the above range, good polishing characteristics can be maintained, and excellent cleaning characteristics can be exhibited without excessively cutting the probe tip.

クリーニング層20は、プローブ針を突き刺し及び引き抜くことにより、針先の付着物を除去できる厚さが要求され、例えば、50〜1000μmの範囲にあるのが好ましい。   The cleaning layer 20 is required to have a thickness capable of removing the attached matter on the needle tip by piercing and pulling out the probe needle, and is preferably in the range of 50 to 1000 μm, for example.

さらに、クリーニング層20の弾性母材21は、シリコーン樹脂及び/又はシリコーンエラストマーの発泡体でもよい。上記母材を発泡体にすると、上記クリーニング層の柔軟性を高めることができる。その結果、異物除去のみならずプローブ針先の磨耗減少も可能となる。   Furthermore, the elastic base material 21 of the cleaning layer 20 may be a foam of silicone resin and / or silicone elastomer. When the base material is a foam, the flexibility of the cleaning layer can be increased. As a result, not only foreign matter removal but also wear of the probe needle tip can be reduced.

本発明のクリーニング層20の粘着性の程度は、JIS Z0237に準拠した粘着性評価の傾斜式ボールタックテスター試験において、傾斜角20度、ボールNo.5(φ3.9mm)、助走距離100mm、及びクリーニング層を表面とする粘着面の測定距離100mmとする条件下で、ボールNo.5(φ3.9mm)が、上記測定距離を通過する時間が0.5秒以上4.0秒以下の範囲とするものである。   The degree of adhesiveness of the cleaning layer 20 of the present invention was determined by the inclination angle of 20 degrees in the inclination type ball tack tester test for adhesion evaluation based on JIS Z0237, the ball no. No. 5 (φ 3.9 mm), a run-up distance of 100 mm, and a measurement distance of 100 mm on the adhesive surface with the cleaning layer as the surface, ball No. 5 (φ3.9 mm) is a range in which the time passing through the measurement distance is in the range of 0.5 seconds to 4.0 seconds.

上記測定距離を通過する時間が4.0秒を超えるクリーニング層では、粘着性が高くなりすぎて、プローブの先端に弾性母材21の粘着物が付着したままプローブが抜かれことがあり、この粘着物に異物が再付着し、十分なクリーニングができなくなるからである。一方、測定距離を通過する時間が0.5秒未満であると、粘着性が低すぎて、プローブに付着した異物を拭い取る効果が低下するからである。   In the cleaning layer in which the time passing through the measurement distance exceeds 4.0 seconds, the adhesiveness becomes too high, and the probe may be pulled out with the adhesive of the elastic base material 21 attached to the tip of the probe. This is because foreign matter reattaches to the object and sufficient cleaning cannot be performed. On the other hand, if the time for passing through the measurement distance is less than 0.5 seconds, the adhesiveness is too low, and the effect of wiping off foreign matter adhering to the probe is reduced.

JIS Z0237で規格化されたボールタック試験機は、傾斜角20度、30度、40度、JIS G4805に規定された高炭素クロム軸受鋼材(鋼球)が使用される。ボールの直径を表すボールNoは各種選択できる。本発明のプローブクリーニングシート10のクリーニング層20は比較的粘着性の低い数値のものが適しているため、傾斜角度を20度とし、ボールNo.5(φ3.9mm)及びボールNo.3(φ2.3mm)を選択して前記試験を行い、最終的に上記No.5による試験の結果により、好適なクリーニング層の粘着性を特定したものである。   The ball tack tester standardized by JIS Z0237 uses an inclination angle of 20 degrees, 30 degrees, 40 degrees, and a high carbon chrome bearing steel material (steel ball) defined in JIS G4805. Various ball numbers representing the diameter of the ball can be selected. Since the cleaning layer 20 of the probe cleaning sheet 10 of the present invention is suitable to have a relatively low adhesive value, the inclination angle is set to 20 degrees, and the ball no. 5 (φ3.9 mm) and ball no. 3 (φ2.3 mm) is selected and the test is performed. According to the result of the test of No. 5, the adhesiveness of a suitable cleaning layer is specified.

さらに、上記弾性母材は、JIS L1096に準拠した測定試験における圧縮率が0.7%〜1.5%の範囲のものとすることが好ましい。この範囲にすることによって、半導体ウェーハテストにおけるプローブ先端の針圧よりも低い針圧で、クリーニング層を刺し通すことができ、プローブの損傷を抑えることができる。さらに、クリーニング層への突き刺し・引き抜き時において、プローブ先端とクリーニング層との密着性、摺動性が良く、クリーニング効果を高めることができる。なお、圧縮率が0.7%未満であると、プローブ針の磨耗が増加し、プローブの寿命が短くなる。また、圧縮率が1.5%を超えると、クリーニング効果が低下することになる。   Furthermore, it is preferable that the elastic base material has a compression rate in a range of 0.7% to 1.5% in a measurement test based on JIS L1096. By setting this range, the cleaning layer can be pierced with a needle pressure lower than the probe pressure at the probe tip in the semiconductor wafer test, and damage to the probe can be suppressed. In addition, when piercing / pulling out the cleaning layer, the adhesion between the probe tip and the cleaning layer and the slidability are good, and the cleaning effect can be enhanced. If the compression ratio is less than 0.7%, the probe needle wear increases, and the probe life is shortened. On the other hand, when the compression ratio exceeds 1.5%, the cleaning effect is lowered.

本発明のプローブクリーニングシート10のクリーニング層20は、弾性母材21中に研磨粒子22を混入してなるものである。研磨粒子22を混入することにより、クリーニング層20にプローブを突き刺し、そして引抜くことにより、プローブ先端等に強固に付着した異物を除去することができる。本発明のクリーニング層20の材質、構成、形態及び物性は、チップの検査時におけるプローブ先端の針圧と同程度以下の針圧により、クリーニング層に刺し通すことができ、また、突き刺し及び引き抜き時において、プローブ先端を破損しない性質を有することが好ましい。   The cleaning layer 20 of the probe cleaning sheet 10 of the present invention is formed by mixing abrasive particles 22 in an elastic base material 21. By mixing the abrasive particles 22, the probe is pierced into the cleaning layer 20 and pulled out, so that the foreign matter firmly attached to the probe tip or the like can be removed. The cleaning layer 20 of the present invention can be pierced through the cleaning layer with a needle pressure less than or equal to the needle pressure at the tip of the probe at the time of tip inspection. In this case, it is preferable that the probe tip is not damaged.

本発明のプローブクリーニングシート10を使用するチップの性能試験は、チップの使用環境に合わせ、低温から高温までの広範な温度範囲で行われることから、クリーニング層20は、上記温度領域でも優れた弾性を有し、変性の少ない材料が好ましい。   Since the performance test of the chip using the probe cleaning sheet 10 of the present invention is performed in a wide temperature range from a low temperature to a high temperature according to the use environment of the chip, the cleaning layer 20 has excellent elasticity even in the above temperature range. A material having a small amount of modification is preferred.

さらに、本発明のクリーニング層20を形成する時に、弾性母材21に着色剤を添加することができる。プローブクリーニング装置では、プローブクリーニングシートをプローブクリーニング装置のステージ上に配置し、レーザー光線等を利用した検出器によるオートフォーカスにより、クリーニングシート表面とプローブの先端との間隔を適宜な値に調整している。ところが、光を透過するシリコーン樹脂では、オートフォーカスの精度が劣り誤動作を生じる場合がある。そのため着色剤を添加することで、光の反射効率を高め、クリーニングシート表面とプローブ先端とのアライメントを正確にすることができる。
(2)基材シート
本発明の基材シート25は、クリーニング層20と同様に、低温から高温に至るチップの使用環境に合わせた電気特性検査の温度範囲において、物性変化の少ない材料が好ましい。また、基材シート25とクリーニング層20の熱膨張係数の違いや熱変形による、皺、剥離等が発生しない材料が選択される。
Furthermore, a colorant can be added to the elastic base material 21 when the cleaning layer 20 of the present invention is formed. In the probe cleaning device, the probe cleaning sheet is arranged on the stage of the probe cleaning device, and the distance between the cleaning sheet surface and the tip of the probe is adjusted to an appropriate value by autofocusing by a detector using a laser beam or the like. . However, a silicone resin that transmits light may have poor autofocus accuracy and may cause a malfunction. Therefore, by adding a colorant, the light reflection efficiency can be increased and the alignment between the cleaning sheet surface and the probe tip can be made accurate.
(2) Substrate Sheet As with the cleaning layer 20, the substrate sheet 25 of the present invention is preferably made of a material with little change in physical properties in the temperature range of the electrical property inspection adapted to the usage environment of the chip from low temperature to high temperature. In addition, a material that does not cause wrinkles or peeling due to a difference in thermal expansion coefficient between the base sheet 25 and the cleaning layer 20 or thermal deformation is selected.

基材シート25の材質として、具体的には、ポリイミド(PI)、シリコーンゴム、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)等の耐熱性樹脂が使用される。そして、プローブクリーニングシート10をプローブクリーニング装置に固定するために、基材シート25の下側に、粘着層(図示せず)が設けられる。この粘着層は、高温に耐えるシリコーン系接着剤が使用される。   Specifically, a heat resistant resin such as polyimide (PI), silicone rubber, polyethylene naphthalate (PEN), polyetheretherketone (PEEK) is used as the material of the base sheet 25. In order to fix the probe cleaning sheet 10 to the probe cleaning device, an adhesive layer (not shown) is provided below the base material sheet 25. This adhesive layer is made of a silicone adhesive that can withstand high temperatures.

また、上記基材シート25を使用せずに、プローブクリーニング装置のステージに固定できる形状の金属板上や、再生シリコンウェーハ等の上に、クリーニング層20を直接形成してもよい。例えば、検査用シリコンウェーハと同一形状の金属板上や、再生シリコンウェーハ上に、クリーニング層20を形成するクリーニング材により、予めクリーニング層20を形成し、プローブクリーニング装置のステージに両面接着フィルムや粘着剤を塗布して貼り付けるようにすることができる。また、ステージによっては、真空吸着することができる。
<第2実施形態>
次に、本発明に係るプローブクリーニングシートの第2実施形態について、その一部断面模式図及び一部拡大図を示す図2を参照して説明する。なお、第1実施形態と同一名称のものは同一の符号で示す。
Further, the cleaning layer 20 may be directly formed on a metal plate having a shape that can be fixed to the stage of the probe cleaning device, a recycled silicon wafer, or the like without using the base sheet 25. For example, a cleaning layer 20 is formed in advance on a metal plate having the same shape as a silicon wafer for inspection or a recycled silicon wafer by a cleaning material for forming the cleaning layer 20, and a double-sided adhesive film or an adhesive is placed on the stage of the probe cleaning device. An agent can be applied and pasted. Depending on the stage, vacuum suction can be performed.
<Second Embodiment>
Next, a probe cleaning sheet according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 2 showing a partial schematic sectional view and a partially enlarged view thereof. In addition, the thing of the same name as 1st Embodiment is shown with the same code | symbol.

図2(a)に示すように、本実施形態のクリーニングシート10は、基材シート25と、この基材シート25の表面に形成されたクリーニング層20とから構成される。クリーニング層20は、弾性母材21に混入された複合粒子23が分散配置されたものである。   As shown in FIG. 2A, the cleaning sheet 10 of this embodiment includes a base sheet 25 and a cleaning layer 20 formed on the surface of the base sheet 25. In the cleaning layer 20, composite particles 23 mixed in the elastic base material 21 are dispersedly arranged.

複合粒子23の一例を示す断面模式図である図2(b)及び(c)に示すように、複合粒子23は、母粒子23aと、母粒子の周囲に位置する複数個の子粒子23bとからなり、母粒子23aの表面に複数の子粒子23bが付着又は結合しているものである。   As shown in FIGS. 2B and 2C, which are schematic cross-sectional views showing an example of the composite particle 23, the composite particle 23 includes a mother particle 23a and a plurality of child particles 23b located around the mother particle. And a plurality of child particles 23b are attached or bonded to the surface of the mother particle 23a.

図2(b)に示す複合粒子23は、母粒子23aが中実なものの例であり、図2(c)に示す複合粒子23は、母粒子23aが中空なものの例である。いずれの複合粒子23とも本実施形態で使用することができるもので、母粒子の材質、粒径に応じて適宜選択することができる。   The composite particle 23 shown in FIG. 2B is an example in which the base particle 23a is solid, and the composite particle 23 shown in FIG. 2C is an example in which the base particle 23a is hollow. Any composite particle 23 can be used in the present embodiment, and can be appropriately selected according to the material and particle size of the mother particle.

母粒子23aの平均粒径は、1μm〜20μmの範囲にあり、子粒子23bが母粒子23aの1/10〜1/1000の範囲とするのが好ましい。複合粒子23は、無機粒子、有機粒子及び有機・無機混合の複合粒子等が挙げられる。無機粒子としては、実施形態1に挙げた素材のものが使用できる。   The average particle diameter of the mother particles 23a is preferably in the range of 1 μm to 20 μm, and the child particles 23b are preferably in the range of 1/10 to 1/1000 of the mother particles 23a. Examples of the composite particles 23 include inorganic particles, organic particles, and organic / inorganic composite particles. As the inorganic particles, those described in the first embodiment can be used.

本実施形態で使用される複合粒子23として、母粒子23aが弾力性を有する有機物粒子で、子粒子23bが無機物粒子からなるものが好ましい。母粒子23aが弾力性を有するものであれば、プローブ針への損傷を抑え、母粒子23aの周囲の微細な子粒子23bとの接触点が増加するので研磨効率を上げることができるからである。また、上記有機物粒子としては、耐熱性を有するものが好ましく、例えば、シリコーンエラストマー、シリコーン、エチレンプロピレン、アクリル等が挙げられる。また、上記有機物粒子の形状は、例えば、シリコーン、アクリル等の球状中実粒子、又は球状中空粒子が使用できる。なお、複合粒子23の母粒子23aと子粒子23bとは、クリーニング中に容易に分離しない程度に一体化されていればよい。一方、子粒子23bの形状は、特に限定はなく、目的、用途に応じて多角形、球状、針状のもの(結晶粒子)が使用される。   As the composite particles 23 used in the present embodiment, it is preferable that the mother particles 23a are elastic organic particles and the child particles 23b are made of inorganic particles. This is because if the mother particle 23a has elasticity, damage to the probe needle can be suppressed and the number of contact points with the fine child particles 23b around the mother particle 23a can be increased, so that the polishing efficiency can be increased. . Moreover, as said organic substance particle, what has heat resistance is preferable, for example, a silicone elastomer, silicone, ethylene propylene, an acryl, etc. are mentioned. Moreover, the shape of the said organic substance particle can use spherical solid particles, such as silicone and an acryl, or spherical hollow particles, for example. The mother particles 23a and the child particles 23b of the composite particles 23 may be integrated so that they are not easily separated during cleaning. On the other hand, the shape of the child particles 23b is not particularly limited, and polygonal, spherical, and needle-shaped (crystal particles) are used according to the purpose and application.

また、複合粒子23としては、有機物の重合体粒子等の官能基とシランカップリング剤等により有機粒子の表面に、シリカ、アルミナ、ダイヤモンド粒子等の無機粒子を付着させた粒子を用いることもできる。これらは静電気力により保持されていてもよく、また無機微粒子を有するヒドロキシル基等の官能基とシランカップリング剤等により有機粒子に化学的に結合されていてもよい。さらに、複合粒子23としては、極性の異なるゼータ電位を有する有機物粒子と無機物粒子とを含む分散体(弾性母材形成液)において、これらの粒子が静電気力により結合されている粒子を使用することもできる。
<第3実施形態>
次に、本発明に係るプローブクリーニングシートの第3実施形態について、その一部断面模式図を示す図3を参照して説明する。なお、第1実施形態と同一名称のものは同一の符号で示す。
Further, as the composite particles 23, particles obtained by attaching inorganic particles such as silica, alumina, diamond particles to the surface of the organic particles with a functional group such as organic polymer particles and a silane coupling agent can also be used. . These may be held by electrostatic force, or may be chemically bonded to organic particles by a functional group such as a hydroxyl group having inorganic fine particles and a silane coupling agent. Furthermore, as the composite particles 23, in a dispersion (elastic matrix forming liquid) including organic particles and inorganic particles having zeta potentials having different polarities, particles in which these particles are bonded by electrostatic force are used. You can also.
<Third Embodiment>
Next, a third embodiment of the probe cleaning sheet according to the present invention will be described with reference to FIG. In addition, the thing of the same name as 1st Embodiment is shown with the same code | symbol.

図3に示すプローブクリーニングシート10は、製品形態としてのプローブクリーニングシートであり、第1実施形態及び第2実施形態のプローブクリーニングシートにおける基材シート25の裏側に粘着層28と、この粘着層28を覆う剥離シート26とが更に備えられているものである。   A probe cleaning sheet 10 shown in FIG. 3 is a probe cleaning sheet as a product form. An adhesive layer 28 is provided on the back side of the base material sheet 25 in the probe cleaning sheets of the first and second embodiments, and the adhesive layer 28. And a release sheet 26 for covering the film.

一般に、プローブ検査装置に使用されるクリーニングシート10は、検査装置への固定のために、基材シート25の裏側に、接着層28を有する剥離シート(離型フィルム)26が設けられる。剥離シート26は、接着層28の表面から剥がされ、後述するように、図4に示すプローブクリーニング装置40のステージ43上に接着層28を介して貼り付けられる。   Generally, the cleaning sheet 10 used in the probe inspection apparatus is provided with a release sheet (release film) 26 having an adhesive layer 28 on the back side of the base sheet 25 for fixing to the inspection apparatus. The release sheet 26 is peeled off from the surface of the adhesive layer 28, and is attached via the adhesive layer 28 on the stage 43 of the probe cleaning device 40 shown in FIG.

接着層28の材質としては、電気特性検査の環境下の高温に耐えるシリコーン系接着剤を使用するのが好ましい。また、接着層28の材質は、プローブクリーニング装置のステージを形成する材質に応じて、接着力を維持するために、アクリル系接着剤との2層構造のものが使用される場合がある。剥離シート26を、基材シート25から剥がし取り、プローブクリーニングシート10をプローブクリーニング装置に固定する。   As the material of the adhesive layer 28, it is preferable to use a silicone-based adhesive that can withstand high temperatures in an environment for electrical property inspection. The material of the adhesive layer 28 may have a two-layer structure with an acrylic adhesive in order to maintain the adhesive force depending on the material forming the stage of the probe cleaning device. The release sheet 26 is peeled off from the substrate sheet 25, and the probe cleaning sheet 10 is fixed to the probe cleaning device.

また、プローブクリーニングシート10に接着層28を設けないで、基材シート25をテーブル上に真空吸着させてもよい。   Further, the base sheet 25 may be vacuum-adsorbed on the table without providing the adhesive layer 28 on the probe cleaning sheet 10.

なお、プローブクリーニング装置のテーブルに固定できる形状の金属板上、又は再生シリコンウェーハの面上に、直接クリーニング層20を形成することもできる。このようにすれば、高温においても、基材シートとの熱膨張係数の違い等によるクリーニング層20に生じる皺や剥離の問題が回避できる。   The cleaning layer 20 can also be formed directly on a metal plate shaped to be fixed to the table of the probe cleaning device or on the surface of the recycled silicon wafer. In this way, wrinkles and peeling problems that occur in the cleaning layer 20 due to a difference in thermal expansion coefficient from the base sheet can be avoided even at high temperatures.

さらに、クリーニング層20の上に、空気中のゴミの付着を避けるための保護シート27(例えば、PET、PP、等の樹脂フィルム)を貼り付けてもよい。これら剥離シート26及び保護シート27は、使用時に剥がして使用するため、特に耐熱性を必要としない。
(クリーニング方法)
本発明に係るプローブクリーニングシート10を用いたプローブクリーニング方法を以下に例示する。
Furthermore, a protective sheet 27 (for example, a resin film such as PET or PP) for avoiding adhesion of dust in the air may be attached on the cleaning layer 20. Since the release sheet 26 and the protective sheet 27 are peeled off during use, they do not require heat resistance.
(Cleaning method)
A probe cleaning method using the probe cleaning sheet 10 according to the present invention will be exemplified below.

プローブクリーニングは、手作業で行うことも可能であるが、一般には、図4に示すプローブクリーニング装置40を用いて行われる。図4に示すプローブクリーニング装置40は、プローブカード41のプローブ42先端部分に付着した異物を除去する装置であって、プローブカード41に対して相対的に移動させるステージ43と、ステージ43上にセットされたプローブクリーニングシート44と、ステージ43をプローブ42に対して相対的に移動させるオートフォーカス機構(図示せず)とを備えてなるものである。上記オートフォーカス機構より、ステージ43対するプローブ42が位置決めされる。その後、プローブ42をクリーニングシート44に一定の圧力を加えて突き刺して、クリーニング層の研磨粒子によってプローブ先端の付着物(異物)を削り取り、引き抜く時に削り取った異物をクリーニング層で拭い取るサイクル動作によって、プローブ42の先端を傷めずに、付着した異物を除去するようになっている。このプローブクリーニングにおけるプローブ42の針先の突き刺し量は、プローブの種類によって異なるが、通常20μm〜100μm程度である。   Probe cleaning can be performed manually, but is generally performed using a probe cleaning device 40 shown in FIG. The probe cleaning device 40 shown in FIG. 4 is a device that removes foreign matter adhering to the tip of the probe 42 of the probe card 41, and is set on the stage 43 and a stage 43 that is moved relative to the probe card 41. The probe cleaning sheet 44 and an autofocus mechanism (not shown) for moving the stage 43 relative to the probe 42 are provided. The probe 42 relative to the stage 43 is positioned by the autofocus mechanism. Thereafter, the probe 42 is pierced by applying a certain pressure to the cleaning sheet 44, scraping off foreign matter adhered to the tip of the probe with the abrasive particles of the cleaning layer, and by a cycle operation of wiping off the foreign matter scraped off when being pulled out with the cleaning layer, The attached foreign matter is removed without damaging the tip of the probe 42. The amount of piercing of the needle tip of the probe 42 in this probe cleaning is usually about 20 μm to 100 μm, although it varies depending on the type of probe.

チップの性能試験に用いられるプローブカードは、使用回数や使用時間が増加すると、プローブカードに配置されたプローブの先端部に異物が付着してくる。先端部に異物が付着したプローブを、本発明のプローブクリーニングシートに突き刺し、引き上げることを繰り返すことで、付着した異物の除去を行う。プローブの先端が、本発明のプローブクリーニングを構成するクリーニング層の内部に突き刺さると、研磨粒子に接触してプローブに強固に付着している不純物を除去することができる。そして、プローブを引き抜く際に、弾性体の母材の形状回復と、適度の粘着性とによって、削り取られた不純物をクリーニング層の内部に捕獲することで、プローブのクリーニングがなされることになる。このとき、母材の有する適度な圧縮弾性率(反発弾性率)のため、プローブに過度の圧力が加わらず、プローブの磨耗を抑えることができる。また、比較的柔らかいプローブに対しても先端の変形等が起こらないようにできる。   In the probe card used for the chip performance test, when the number of times of use and the time of use increase, foreign matter adheres to the tip of the probe arranged on the probe card. The stuck foreign matter is removed by repeatedly piercing and pulling up the probe with the foreign matter attached to the distal end portion of the probe cleaning sheet of the present invention. When the tip of the probe pierces the inside of the cleaning layer constituting the probe cleaning of the present invention, the impurities that come into contact with the abrasive particles and adhere firmly to the probe can be removed. Then, when pulling out the probe, the probe is cleaned by capturing the scraped impurities inside the cleaning layer by restoring the shape of the base material of the elastic body and appropriate tackiness. At this time, since the base material has an appropriate compressive elastic modulus (repulsion elastic modulus), excessive pressure is not applied to the probe, and wear of the probe can be suppressed. Further, the tip can be prevented from being deformed even with respect to a relatively soft probe.

プローブクリーニングにおけるプローブのクリーニング層への接触の程度は、汚れの量、固着の程度等によって調整すればよく、加圧して一定時間保持する方法、必要量の加熱を加える等の方法がさらに挙げられる。また、プローブの先端をプローブクリーニングシートのクリーニング層に過度に突き刺すことをせずに、プローブ又はプローブクリーニングシートを回転又は振動させる方法も挙げられる。   The degree of contact of the probe with the cleaning layer in the probe cleaning may be adjusted by the amount of dirt, the degree of fixation, etc., and further examples include a method of pressing and holding for a certain period of time, and a method of applying a necessary amount of heating. . Further, there is a method in which the probe or the probe cleaning sheet is rotated or vibrated without excessively sticking the tip of the probe into the cleaning layer of the probe cleaning sheet.

以下、本発明に係るプローブクリーニングシートについて、実施例によりさらに具体的に説明する。基材シートとして、厚さ75μmのポリイミドシート(カプトン:東レ・デュポン株式会社製)の裏面に、シリコーン粘着剤を有する両面接着テープを重ね合せたものを使用した。次に、基材シートの表面にシリコーン樹脂と研磨粒子を混合分散した溶液を塗布後、乾燥させて、厚さ200μmのクリーニング層を形成させてプローブクリーニングシートとした。
(1)弾性母材の調整
以下に示すシリコーン樹脂組成物及び架橋助剤を添加した液に、研磨材を加え混合した混合物溶液を用いた。
(2)研磨粒子
使用した研磨粒子は、SiC粒子(平均粒径1μm、3μmの不定形)、Al粒子(平均粒径1μmの球状)、複合粒子:母粒子(平均粒径;3μmの中実球状シリコーンゴム粒子)と子粒子(平均粒径;0.1μmの球状Al粒子)とからなる複合粒子を使用した。
(3)プローブクリーニングシートの作製
シリコーンエラストマー調整液である上記混合物溶液と、研磨粒子との混合比は、研磨粒子55重量%〜70%の範囲で調整した。研磨粒子が混合された上記混合溶液を、厚さ75μmのポリイミド基材フィルム(シート)上に塗布した後、120℃で乾燥し、厚さ200μmのクリーニング層を得た。次いで、両面接着テープ(PETフィルム上に約50μmのシリコーン粘着層)を使用して、クリーニングシートを得た。実施例1のクリーニングシートは、再生シリコンウェーハに設けたもので、再生シリコンウェーハ/接着層/基材フィルム/クリーニング層/PET保護層の順で積層された構成となっている。
(プローブクリーニングシート性能評価)
(1)クリーニング層の粘着性評価
クリーニング層の粘着性試験は、JIS Z0237に準拠した傾斜式ボールタック方式で行った。測定装置として、株式会社井本製作所製ボールタックテスターA092を使用した。測定装置30の概略を図5に示す。斜面31は、その傾斜角度θの可動範囲を20°、30、40度に調整できるようになっている。
Hereinafter, the probe cleaning sheet according to the present invention will be described more specifically with reference to examples. As a base material sheet, a 75-μm thick polyimide sheet (Kapton: manufactured by Toray DuPont Co., Ltd.) and a double-sided adhesive tape having a silicone pressure-sensitive adhesive layer were used. Next, after applying a solution in which a silicone resin and abrasive particles were mixed and dispersed on the surface of the base sheet, it was dried to form a cleaning layer having a thickness of 200 μm to obtain a probe cleaning sheet.
(1) Adjustment of elastic base material A mixture solution in which an abrasive was added to and mixed with a liquid in which the following silicone resin composition and crosslinking aid were added was used.
(2) Abrasive particles The abrasive particles used were SiC particles (average particle size of 1 μm, 3 μm indefinite shape), Al 2 O 3 particles (spherical particle having an average particle size of 1 μm), composite particles: mother particles (average particle size: 3 μm) Composite spherical silicone rubber particles) and child particles (average particle diameter; 0.1 μm spherical Al 2 O 3 particles) were used.
(3) Preparation of probe cleaning sheet The mixing ratio of the mixture solution, which is a silicone elastomer adjusting liquid, and abrasive particles was adjusted in the range of 55 wt% to 70% of abrasive particles. The above mixed solution in which the abrasive particles were mixed was applied on a polyimide substrate film (sheet) having a thickness of 75 μm, and then dried at 120 ° C. to obtain a cleaning layer having a thickness of 200 μm. Next, a double-sided adhesive tape (about 50 μm silicone adhesive layer on a PET film) was used to obtain a cleaning sheet. The cleaning sheet of Example 1 is provided on a recycled silicon wafer and has a configuration in which a recycled silicon wafer / adhesive layer / base film / cleaning layer / PET protective layer is laminated in this order.
(Probe cleaning sheet performance evaluation)
(1) Evaluation of cleaning layer adhesiveness The cleaning layer adhesiveness test was conducted by an inclined ball tack method in accordance with JIS Z0237. As a measuring device, a ball tack tester A092 manufactured by Imoto Seisakusho Co., Ltd. was used. An outline of the measuring device 30 is shown in FIG. The inclined surface 31 can adjust the movable range of the inclination angle θ to 20 °, 30 and 40 degrees.

この斜面に被測定物のシート(プローブクリーニングシート)32を配置し、規格化されているスチール球33をスタート地点Aに置き、助走距離100mm(A点〜B点)を取り、測定範囲100mm(測定開始B点〜測定終了C点)を通過する時間を測定した。B点からC点に達するボールの通過時間が短い場合は粘着性が低く、長い場合は粘着性が高いことになる。なお、A点からB点の助走距離範囲には規格に基づき、被測定シートの上に、厚さ25μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム34を敷いている。   A sheet (probe cleaning sheet) 32 of the object to be measured is placed on this slope, a standardized steel ball 33 is placed at the start point A, a running distance of 100 mm (point A to point B) is taken, and a measurement range of 100 mm ( The time required to pass from the measurement start point B to the measurement end point C was measured. When the passing time of the ball reaching point C from point B is short, the tackiness is low, and when it is long, the tackiness is high. In addition, a 25 μm-thick polyethylene terephthalate (PET) film 34 is laid on the sheet to be measured based on the standard in the run-up distance range from point A to point B.

プローブクリーニングシート32を測定装置の傾斜面31に取付け、傾斜角θを20度にセットし、ボールNo.5(φ3.9mmのスチール球)及びNo.3(φ2.3mmのスチール球)を用いて、プローブクリーニングシート32の上にPETフィルム34を敷いた、A点の表面に配置し、助走距離100mmを取り、測定範囲100mmを通過する時間を測定した。   The probe cleaning sheet 32 is attached to the inclined surface 31 of the measuring apparatus, the inclination angle θ is set to 20 degrees, and the ball no. 5 (steel ball of φ3.9 mm) and No. 5 3 (steel balls of 2.3 mm in diameter), a PET film 34 is laid on the probe cleaning sheet 32, placed on the surface of point A, the running distance is 100 mm, and the time for passing the measurement range 100 mm is measured did.

測定環境は、室温27℃、湿度40%とした。測定回数は5回で、その平均値を測定値とした。
(2)圧縮率及び圧縮弾性率の評価
クリーニング層の実質厚さは、200μm〜400μmと薄いため、圧縮率及び圧縮弾性率の測定には、JIS L1096に準拠したショパー型厚さ測定器(安田精機製作所製、No.129−Eタイプ)を用いた。直径10mmの円盤からなる加圧プレートをプローブクリーニングシートの上に載せ、以下の式から圧縮率及び圧縮弾性率を算出した
圧縮率(%)=(t0−t1)/t0×100
圧縮弾性率(%)=(t2−t1)/(t0−t1)×100
1)t0は、初期荷重80gで30秒加圧し、その厚さの値である。
2)t1は、その上に荷重(880g)を載せ、5分後の厚さの値である。
3)t2は、すべての荷重を除去し、無荷重にした1分後、再度初荷重(80g)で、その厚さを測定した値である。
4)上記の式にて圧縮率及び圧縮弾性率を算出する。
The measurement environment was a room temperature of 27 ° C. and a humidity of 40%. The number of measurements was 5, and the average value was taken as the measurement value.
(2) Evaluation of Compressibility and Compressive Elastic Modulus The actual thickness of the cleaning layer is as thin as 200 μm to 400 μm. Seiki Seisakusho, No. 129-E type) was used. A pressure plate made of a disk having a diameter of 10 mm was placed on the probe cleaning sheet, and the compression rate and compression elastic modulus were calculated from the following equations. Compression rate (%) = (t 0 −t 1 ) / t 0 × 100
Compression elastic modulus (%) = (t 2 −t 1 ) / (t 0 −t 1 ) × 100
1) t 0 is the value of the thickness after pressing for 30 seconds with an initial load of 80 g.
2) t 1 is a thickness value after 5 minutes with a load (880 g) placed thereon.
3) t 2 is a value obtained by measuring the thickness at the initial load (80 g) again after 1 minute after removing all loads and making no load.
4) Calculate the compressibility and the compressive modulus by the above formula.

測定回数は3回で、その平均値を圧縮率及び圧縮弾性率とした。   The number of times of measurement was 3, and the average value was defined as the compression rate and the compression modulus.

次にプローブクリーニング評価は、図4の装置を用い、下記に示す表1のクリーニング条件によって行った。   Next, the probe cleaning evaluation was performed using the apparatus shown in FIG. 4 under the cleaning conditions shown in Table 1 below.

Figure 2010210349
Figure 2010210349

<実施例1>
(1)研磨粒子:SiC、平均粒径3μm(形状不定形)、配合率60%、
(2)ボールタックテスト:
1)0.74秒{ボールNo.5(直径3.9mm)}
2)2.61秒{ボールNo.3(直径2.3mm)}
<実施例2>
(1)研磨粒子:SiC、平均粒径1μm(形状不定形)、配合率70%
(2)ボールタックテスト:
1)0.91秒{ボールNo.5(直径3.9mm)}
2)2.94秒{ボールNo.3(直径2.3mm)}
<実施例3>
(1)研磨粒子:SiC、平均粒径1μm(形状不定形)、配合率60%
(2)ボールタックテスト:
1)1.50秒{ボールNo.5(直径3.9mm)}
2)12.6秒{ボールNo.3(直径2.3mm)}
<実施例4>
(1)研磨粒子:SiC、平均粒径1μm(形状不定形)、配合率50%
(2)ボールタックテスト:
1)3.55秒{ボールNo.5(直径3.9mm)}
2)25.2秒{ボールNo.3(直径2.3mm)}
<実施例5>
(1)研磨粒子:Al2O3、平均粒径1μm(球状)、配合率60%
(2)ボールタックテスト:
1)1.02秒{ボールNo.5(直径3.9mm)}
2)3.11秒{ボールNo.3(直径2.3mm)}
<実施例6>
(1)研磨粒子:複合粒子:母粒子の平均粒径3μm(シリコーンゴム、球状)、子粒子の平均粒径0.1μm、配合率60%
(2)ボールタックテスト:
1)0.88秒{ボールNo.5(直径3.9mm)}
2)2.85秒{ボールNo.3(直径2.3mm)}
<比較例1>
比較例1として、図6(a)に示す構成のプローブクリーニングシートを用いてプローブクリーニング試験を行った。
<Example 1>
(1) Abrasive particles: SiC, average particle size 3 μm (indefinite shape), blending ratio 60%,
(2) Ball tack test:
1) 0.74 seconds {Ball No. 5 (diameter 3.9 mm)}
2) 2.61 seconds {Ball No. 3 (diameter 2.3 mm)}
<Example 2>
(1) Abrasive particles: SiC, average particle size 1 μm (indefinite shape), 70% blending rate
(2) Ball tack test:
1) 0.91 seconds {Ball No. 5 (diameter 3.9 mm)}
2) 2.94 seconds {Ball No. 3 (diameter 2.3 mm)}
<Example 3>
(1) Abrasive particles: SiC, average particle size 1 μm (indefinite shape), blending ratio 60%
(2) Ball tack test:
1) 1.50 seconds {Ball No. 5 (diameter 3.9 mm)}
2) 12.6 seconds {Ball No. 3 (diameter 2.3 mm)}
<Example 4>
(1) Abrasive particles: SiC, average particle size 1 μm (indefinite shape), 50% blending rate
(2) Ball tack test:
1) 3.55 seconds {Ball No. 5 (diameter 3.9 mm)}
2) 25.2 seconds {Ball No. 3 (diameter 2.3 mm)}
<Example 5>
(1) Abrasive particles: Al 2 O 3, average particle size 1 μm (spherical), blending ratio 60%
(2) Ball tack test:
1) 1.02 seconds {Ball No. 5 (diameter 3.9 mm)}
2) 3.11 seconds {Ball No. 3 (diameter 2.3 mm)}
<Example 6>
(1) Abrasive particles: Composite particles: Average particle size of mother particles 3 μm (silicone rubber, spherical), average particle size of child particles 0.1 μm, blending ratio 60%
(2) Ball tack test:
1) 0.88 seconds {Ball No. 5 (diameter 3.9 mm)}
2) 2.85 seconds {Ball No. 3 (diameter 2.3 mm)}
<Comparative Example 1>
As Comparative Example 1, a probe cleaning test was performed using a probe cleaning sheet having the configuration shown in FIG.

図6(a)に示すように、プローブクリーニングシート12aは、基材シート25の上に、クリーニング層20として、弾性母材21aと研磨粒子22を分散した第1のクリーニング層20aと、その上にさらに研磨粒子を含まないシリコーンゲル層21bからなる第2のクリーニング層20bとを設けた2層構造からなっている。   As shown in FIG. 6A, the probe cleaning sheet 12a includes a first cleaning layer 20a in which an elastic base material 21a and abrasive particles 22 are dispersed as a cleaning layer 20 on a substrate sheet 25, and a top thereof. And a second cleaning layer 20b made of a silicone gel layer 21b that does not contain abrasive particles.

プローブをクリーニング層20に突き刺す動作の時に、第2のクリーニング層20bを通過し、第1のクリーニング層20aでプローブ針先の付着物を削り取り、プローブを抜く時に、第1のクリーニング層20aで削り取った付着物を第2のクリーニング層20b内に捕獲してクリーニングする構造となっている。
(1)研磨粒子:1)上層:研磨粒子なし
2)下層:SiC、平均粒径1μm(球状)、配合率60%
(2)ボールタックテスト:
1)5.50秒{ボールNo.5(直径3.9mm)}
2)30.23秒{ボールNo.3(直径2.3mm)}
<比較例2>
比較例2として、図6(b)に示す構成のプローブクリーニングシートを用いてプローブにクリーニング試験を行った。
When the probe is pierced into the cleaning layer 20, it passes through the second cleaning layer 20b, scrapes off the probe needle tip with the first cleaning layer 20a, and scrapes off with the first cleaning layer 20a when removing the probe. The deposited matter is captured and cleaned in the second cleaning layer 20b.
(1) Abrasive particles: 1) Upper layer: No abrasive particles
2) Lower layer: SiC, average particle size 1 μm (spherical), blending ratio 60%
(2) Ball tack test:
1) 5.50 seconds {Ball No. 5 (diameter 3.9 mm)}
2) 30.23 seconds {Ball No. 3 (diameter 2.3 mm)}
<Comparative example 2>
As Comparative Example 2, the probe was subjected to a cleaning test using a probe cleaning sheet having the configuration shown in FIG.

図6(b)に示すように、プローブクリーニングシート12bは、基材シート25の上に、シリコーンゲルからなる弾性母材21bのみ(研磨粒子を含まない)が塗布されてなるクリーニング層20が形成されてなるものである。
(1)研磨粒子:研磨粒子なし
(2)ボールタックテスト:
1)6.90秒{ボールNo.5(直径3.9mm)}
2)38.41秒{ボールNo.3(直径2.3mm)}
<比較例3>
比較例3として、図6(c)に示す構成のプローブクリーニングシートを用いてプローブにクリーニング試験を行った。
As shown in FIG. 6B, the probe cleaning sheet 12b is formed with a cleaning layer 20 in which only an elastic base material 21b made of silicone gel (excluding abrasive particles) is applied on a base sheet 25. It has been made.
(1) Abrasive particles: no abrasive particles (2) Ball tack test:
1) 6.90 seconds {Ball No. 5 (diameter 3.9 mm)}
2) 38.41 seconds {Ball No. 3 (diameter 2.3 mm)}
<Comparative Example 3>
As Comparative Example 3, the probe was subjected to a cleaning test using a probe cleaning sheet having the configuration shown in FIG.

図6(c)に示すように、プローブクリーニングシート12cは、基材シート25の上に、弾性母材21として発泡ポリウレタン樹脂を使用したクリーニング層20が形成されてなるものである。クリーニング層20は、表面及び内部に気泡29を有する発泡体からなり、クリーニング層20の表面凹凸部に複数の研磨粒子22を付着させた構成からなるものである。
(1)研磨粒子:SiC、平均粒径1μm(球状)、配合率60%
(2)ボールタックテスト:
1)0.48秒{ボールNo.5(直径3.9mm)}
2)1.50秒{ボールNo.3(直径2.3mm)}
<試験結果>
試験結果を下記の表2に示す。
As shown in FIG. 6 (c), the probe cleaning sheet 12 c is formed by forming a cleaning layer 20 using a polyurethane foam resin as the elastic base material 21 on the base sheet 25. The cleaning layer 20 is made of a foam having air bubbles 29 on the surface and inside, and has a configuration in which a plurality of abrasive particles 22 are attached to the surface irregularities of the cleaning layer 20.
(1) Abrasive particles: SiC, average particle size 1 μm (spherical), blending ratio 60%
(2) Ball tack test:
1) 0.48 seconds {Ball No. 5 (diameter 3.9 mm)}
2) 1.50 seconds {Ball No. 3 (diameter 2.3 mm)}
<Test results>
The test results are shown in Table 2 below.

Figure 2010210349
Figure 2010210349

上記表2に示す「クリーニング性」では、「○:研磨残り及び付着物がなし、△:研磨残り少しあり」を表し、「クリーニング層の弾性母材の付着(粘着母材がプローブに転写)」では、「○:なし、×:あり」を表すものである。
<結果>
実施例1〜6に示す構成のプローブクリーニングシートを使用して、表1に示す10000回のクリーニング動作を行った。その後、プローブ先端を顕微鏡観察した結果、プローブ針先の固着物及び付着物が共に除去されており、除去後の再付着や弾性母材の粘着物の転写現象が見られなかった。また、プローブ針先の磨耗量も3μm以下と、低い値であった。
“Cleanability” shown in Table 2 above indicates “◯: no polishing residue and deposits, Δ: little polishing residue”, and “adhesion of elastic base material of cleaning layer (adhesive base material transferred to probe)” "Represents" O: None, X: Present ".
<Result>
Using the probe cleaning sheet having the configuration shown in Examples 1 to 6, 10,000 cleaning operations shown in Table 1 were performed. Thereafter, as a result of observing the probe tip with a microscope, both the fixed matter and adhered matter on the probe needle tip were removed, and neither re-adhesion after removal nor transfer phenomenon of the sticky matter on the elastic base material was observed. Also, the wear amount of the probe needle tip was as low as 3 μm or less.

一方、比較例1のプローブクリーニングシートを使用した場合には、固着物及び付着物が除去されているものの、弾性母材の粘着物が針先周辺に付着(転写)し、ウェーハの性能試験でプローブの接触不良を発生する場合があった。   On the other hand, when the probe cleaning sheet of Comparative Example 1 is used, the sticking matter and the attached matter are removed, but the sticking matter of the elastic base material is attached (transferred) around the needle tip, and the wafer performance test In some cases, probe contact failure occurred.

また、比較例2のプローブクリーニングシートを使用した場合には、付着物は除去されているものの、針先固着物は研磨残りがあり、十分な除去がされていなかった。   Further, when the probe cleaning sheet of Comparative Example 2 was used, the adhered matter was removed, but the adhered needle tip had a polishing residue and was not sufficiently removed.

また、比較例3のプローブクリーニングシートを使用した場合には、針先の固着物は完全に除去されていたが、針先の磨耗が激しく、プローブの寿命に問題がある。また、付着物が針の側面に残り完全に除去されていなかった。   In addition, when the probe cleaning sheet of Comparative Example 3 was used, the sticking matter of the needle tip was completely removed, but the tip of the needle was worn very much, and there was a problem with the probe life. Further, the deposit remained on the side surface of the needle and was not completely removed.

上記したように、本発明に係るプローブクリーニングシートの実施例1〜6は、プローブの磨耗を抑え、かつプローブ先端部分に付着した異物の除去を十分に除去することができるものである。また、実施例1〜6に示すプローブクリーニングシートは、基材シート上にクリーニング層を形成したものであるが、プローブクリーニング材により、プローブクリーニング装置のステージの金属板上や、再生シリコンウェーハ上に、クリーニング層を形成してもよい。   As described above, Examples 1 to 6 of the probe cleaning sheet according to the present invention can suppress the abrasion of the probe and can sufficiently remove the foreign matter attached to the tip portion of the probe. In addition, the probe cleaning sheets shown in Examples 1 to 6 are formed by forming a cleaning layer on a base sheet, but on the metal plate of the stage of the probe cleaning device or on the recycled silicon wafer by the probe cleaning material. A cleaning layer may be formed.

10 プローブクリーニングシート
20 クリーニング層
21 弾性母材
22 研磨粒子
23 複合粒子
23a 母粒子
23b 子粒子
25 基材シート
26 剥離シート
27 保護シート
28 接着層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Probe cleaning sheet 20 Cleaning layer 21 Elastic base material 22 Abrasive particle 23 Composite particle 23a Base particle 23b Child particle 25 Base material sheet 26 Release sheet 27 Protection sheet 28 Adhesion layer

Claims (14)

プローブの先端部分に付着している異物を除去するためのクリーニング層を有するプローブクリーニングシートであって、
基材シートと、該基材シート上に、研磨粒子が混入されたシリコーン樹脂及び/又はシリコーンエラストマーから成る弾性母材で形成される前記クリーニング層とを備えて成り、
JIS Z0237に準拠する粘着性評価の傾斜式ボールタック試験で、傾斜角度20度、ボールNo.5(φ3.9mm)、助走距離100mm、及び前記クリーニング層を表面とする粘着面の測定距離を100mmとする条件下で、前記ボールNo.5の前記測定距離を通過する時間が、0.5秒以上4.0秒以下の範囲にあるプローブクリーニングシート。
A probe cleaning sheet having a cleaning layer for removing foreign matter adhering to the tip portion of the probe,
Comprising a base material sheet and the cleaning layer formed on the base material sheet with an elastic base material made of silicone resin and / or silicone elastomer mixed with abrasive particles,
In an inclined ball tack test for evaluation of adhesion according to JIS Z0237, an inclination angle of 20 degrees, a ball no. No. 5 (φ 3.9 mm), a run-up distance of 100 mm, and a measurement distance of the adhesive surface with the cleaning layer as a surface is 100 mm. 5. A probe cleaning sheet in which the time for passing the measurement distance of 5 is in the range of 0.5 seconds to 4.0 seconds.
前記弾性母材は、JIS L1096に準拠した測定試験おける圧縮率が、0.7%以上1.5%以下であることを特徴とする請求項1に記載のプローブクリーニングシート。   2. The probe cleaning sheet according to claim 1, wherein the elastic base material has a compression rate in a measurement test based on JIS L1096 of 0.7% or more and 1.5% or less. 前記研磨粒子が、ダイヤモンド粒子、SiCの炭化物、BC又はcBNの硼素化合物、Si、Al、Ti、Ce、Mn、Fe、Cr及びZrのグループから選ばれる少なくとも1種類の元素を含む酸化物、並びにSi、Al及びTiのグループから選ばれる少なくとも1種類の元素を含む窒化物のグループから選択される1又は2以上の種類からなり、前記研磨粒子の平均粒径が0.05μm〜20μmの範囲にあることを特徴とする請求項1又は2に記載のプローブクリーニングシート。 The abrasive particles include at least one element selected from the group consisting of diamond particles, SiC carbide, boron compound of B 4 C or cBN, Si, Al, Ti, Ce, Mn, Fe, Cr and Zr. And one or more types selected from the group of nitrides containing at least one element selected from the group of Si, Al and Ti, and the average particle size of the abrasive particles is 0.05 μm to 20 μm The probe cleaning sheet according to claim 1, wherein the probe cleaning sheet is in a range. 前記研磨粒子は、母粒子と、該母粒子の周囲に付着又は結合された複数の子粒子とで構成される複合粒子からなり、前記母粒子の平均粒径が1μm以上20μm以下の範囲にあり、前記子粒子の平均粒径が前記母粒子の平均粒径の1/10以上1/1000以下の範囲にあることを特徴とする請求項1又は2に記載のプローブクリーニングシート。   The abrasive particles are composed of composite particles composed of mother particles and a plurality of child particles attached or bonded around the mother particles, and the average particle diameter of the mother particles is in the range of 1 μm to 20 μm. The probe cleaning sheet according to claim 1 or 2, wherein the average particle diameter of the child particles is in the range of 1/10 to 1/1000 of the average particle diameter of the mother particles. 前記母粒子が弾力性を有する有機物粒子であり、前記子粒子が無機物粒子であることを特徴とする請求項4に記載のプローブクリーニングシート。   The probe cleaning sheet according to claim 4, wherein the mother particle is an organic particle having elasticity, and the child particle is an inorganic particle. 前記クリーニング層に混入される前記研磨粒子の配合率が、40重量%以上85重量%以下であることを特徴とする請求項1ないし5の何れか一項に記載のプローブクリーニングシート。   6. The probe cleaning sheet according to claim 1, wherein a blending ratio of the abrasive particles mixed in the cleaning layer is 40% by weight or more and 85% by weight or less. 前記基材シートが、ポリイミド樹脂、シリコーンゴム、ポリエチレンナフタレート及びポリアクリルアクリルケトン(PEEK)のグループから選択される1又は2種類以上から成るシートであることを特徴とする、請求項1ないし6項に記載のプローブクリーニングシート。   The said base material sheet is a sheet | seat which consists of 1 or 2 or more types selected from the group of a polyimide resin, silicone rubber, polyethylene naphthalate, and polyacryl acryl ketone (PEEK), The 1 thru | or 6 characterized by the above-mentioned. The probe cleaning sheet according to item. プローブの先端部分に付着している異物を除去するためのクリーニング層を形成するプローブクリーニング材であって、
研磨粒子と、該研磨粒子が混入されたシリコーン樹脂及び/又はシリコーンエラストマーから成る弾性母材とを有して成り、
JIS Z0237に準拠する粘着性評価の傾斜式ボールタック試験で、傾斜角度20度、ボールNo.5(φ3.9mm)、助走距離100mm、及び前記クリーニング層を表面とする粘着面の測定距離を100mmとする条件下で、前記ボールNo.5の前記測定距離を通過する時間が、0.5秒以上4.0秒以下の範囲となるプローブクリーニング材。
A probe cleaning material for forming a cleaning layer for removing foreign matter adhering to the tip of the probe,
Comprising abrasive particles and an elastic base material made of silicone resin and / or silicone elastomer mixed with the abrasive particles,
In an inclined ball tack test for evaluation of adhesion according to JIS Z0237, an inclination angle of 20 degrees, a ball no. No. 5 (φ 3.9 mm), a run-up distance of 100 mm, and a measurement distance of the adhesive surface with the cleaning layer as a surface is 100 mm. 5. A probe cleaning material in which the time passing through the measurement distance of 5 is in the range of 0.5 seconds to 4.0 seconds.
前記弾性母材は、JIS L1096に準拠した測定試験おける圧縮率が、0.7%以上1.5%以下であることを特徴とする請求項8に記載のプローブクリーニングシート材。   The probe cleaning sheet material according to claim 8, wherein the elastic base material has a compression ratio in a measurement test based on JIS L1096 of 0.7% or more and 1.5% or less. 前記研磨粒子が、ダイヤモンド粒子、SiCの炭化物、BC又はcBNの硼素化合物、Si、Al、Ti、Ce、Mn、Fe、Cr及びZrのグループから選ばれる少なくとも1種類の元素を含む酸化物、並びにSi、Al及びTiから選ばれる少なくとも1種類の元素を含む窒化物のグループ、から選択される1又は2以上の種類からなり、前記研磨粒子の平均粒径が0.05μm〜20μmの範囲にあることを特徴とする請求項8又は9に記載のプローブクリーニングシート材。 The abrasive particles include at least one element selected from the group consisting of diamond particles, SiC carbide, boron compound of B 4 C or cBN, Si, Al, Ti, Ce, Mn, Fe, Cr and Zr. And a group of nitrides containing at least one element selected from Si, Al and Ti, and the average particle size of the abrasive particles is in the range of 0.05 μm to 20 μm. The probe cleaning sheet material according to claim 8 or 9, wherein 前記研磨粒子は、母粒子と、該母粒子の周囲に付着又は結合された複数の子粒子とで構成される複合粒子からなり、前記母粒子の平均粒径が1μm以上20μm以下の範囲にあり、前記子粒子の平均粒径が前記母粒子の平均粒径の1/10以上1/1000以下の範囲にあることを特徴とする請求項8ないし10の何れか一項に記載のプローブクリーニングシート材。   The abrasive particles are composed of composite particles composed of mother particles and a plurality of child particles attached or bonded around the mother particles, and the average particle diameter of the mother particles is in the range of 1 μm to 20 μm. The probe cleaning sheet according to any one of claims 8 to 10, wherein the average particle diameter of the child particles is in a range of 1/10 to 1/1000 of the average particle diameter of the mother particles. Wood. 前記母粒子が有機物粒子であり、前記子粒子が無機物粒子であることを特徴とする請求項11に記載のプローブクリーニングシート材。   The probe cleaning sheet material according to claim 11, wherein the mother particles are organic particles, and the child particles are inorganic particles. 前記クリーニング層に混入される前記研磨粒子の配合率が、40重量%以上85重量%以下であることを特徴とする請求項8ないし11の何れか一項に記載のプローブクリーニングシート材。   The probe cleaning sheet material according to any one of claims 8 to 11, wherein a blending ratio of the abrasive particles mixed in the cleaning layer is 40 wt% or more and 85 wt% or less. 前記基材シートが、ポリイミド樹脂、シリコーンゴム、ポリエチレンナフタレート及びポリアクリルアクリルケトン(PEEK)のグループから選択される1又は2種類以上から成ることを特徴とする、請求項8ないし13の何れか一項に記載のプローブクリーニングシート材。




The said base material sheet consists of 1 or 2 or more types selected from the group of a polyimide resin, silicone rubber, a polyethylene naphthalate, and a polyacryl acryl ketone (PEEK), The any one of Claim 8 thru | or 13 characterized by the above-mentioned. The probe cleaning sheet material according to one item.




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