JP2010278421A - Manufacturing method of electronic parts - Google Patents
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Abstract
【課題】樹脂ペーストを利用してシールド層を形成しながら、シールド層でのボイドの残存を効果的に抑制できる、電子部品の製造方法の提供を図る。
【解決手段】本製造方法は、積層体形成工程(A1〜A4)、塗布体形成工程(A5)、Bステージ化工程(A6)、貼着工程(A7)、および、シールド層形成工程(A8)を有する。積層体形成工程(A1〜A4)は積層体を形成する。積層体は、基板1の素子搭載面を封止層4で封止した構成である。塗布体形成工程(A5)は、塗布体10を形成する。塗布体10は、フィルムシート11に樹脂ペースト12を塗布した構成であり、樹脂ペーストは導電性を持つ。Bステージ化工程(A6)は塗布体を加熱してBステージ化する。貼着工程(A7)は、積層体の封止層4に対して塗布体10を樹脂ペースト12で貼着させる。シールド層形成工程(A8)は、樹脂ペースト12を本硬化させる。
【選択図】図1An object of the present invention is to provide an electronic component manufacturing method capable of effectively suppressing residual voids in a shield layer while forming a shield layer using a resin paste.
The manufacturing method includes a laminated body forming step (A1 to A4), an applied body forming step (A5), a B-stage forming step (A6), an attaching step (A7), and a shield layer forming step (A8). ). A laminated body formation process (A1-A4) forms a laminated body. The laminate has a configuration in which the element mounting surface of the substrate 1 is sealed with the sealing layer 4. In the applied body forming step (A5), the applied body 10 is formed. The application body 10 has a configuration in which a resin paste 12 is applied to a film sheet 11, and the resin paste has conductivity. In the B-stage forming step (A6), the coated body is heated to form a B-stage. A sticking process (A7) makes the application body 10 stick with the resin paste 12 with respect to the sealing layer 4 of a laminated body. In the shield layer forming step (A8), the resin paste 12 is fully cured.
[Selection] Figure 1
Description
この発明は、素子搭載基板に絶縁性の封止層を設けた電子部品の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a method for manufacturing an electronic component in which an insulating sealing layer is provided on an element mounting substrate.
電子部品のパッケージ構造として、素子搭載基板に搭載した半導体ベアチップ等の素子を、絶縁性の封止層で封止する構成が採用されることがある(例えば特許文献1〜4参照)。
As a package structure of an electronic component, a configuration in which an element such as a semiconductor bare chip mounted on an element mounting substrate is sealed with an insulating sealing layer (see, for example,
特許文献1に開示されたパッケージ構造は、回路素子を覆う導電性の変形フィルムを設け、基板に設けた孔からの吸気により変形フィルムを基板のグランド電極に導通させる。その状態で、封止層が変形フィルム上に積層される。
The package structure disclosed in
上記構成では、変形フィルムを設けることで電磁波シールド機能を発現させることができるが、素子搭載基板と変形フィルムとの間での接合強度が不足し、十分なパッケージ強度を確保できないことがある。また、孔の分だけ基板サイズが増加する問題がある。 In the above configuration, the electromagnetic wave shielding function can be exhibited by providing the deformable film, but the bonding strength between the element mounting substrate and the deformable film is insufficient, and sufficient package strength may not be ensured. In addition, there is a problem that the substrate size increases by the amount of holes.
そこで、特許文献2〜4に開示されたパッケージ構造では、十分なパッケージ強度を確保するために、素子搭載基板に封止層を直接積層する構成が採用される。
特許文献2に開示されたパッケージ構造は、樹脂膜と導電膜とを備える積層シートを素子搭載基板に積層して形成される。特許文献3に開示されたパッケージ構造は、封止層を積層した素子搭載基板に対して金属ケースを用いてシールド層が形成される。特許文献4に開示されたパッケージ構造は、封止層を積層した素子搭載基板を真空パックするとともに静水圧をかけて製造される。
Therefore, the package structures disclosed in Patent Documents 2 to 4 employ a configuration in which a sealing layer is directly laminated on the element mounting substrate in order to ensure sufficient package strength.
The package structure disclosed in Patent Document 2 is formed by laminating a laminated sheet including a resin film and a conductive film on an element mounting substrate. In the package structure disclosed in
シールド層を形成するために複合シートや金属ケースを用いる場合、製造コストが高止まりする傾向がある。そこで、封止層を素子搭載基板に設けた後に、封止層の表面に導電性を有する樹脂ペーストを塗布することでシールド層を積層し、従来方法よりも製造コストを抑制することが考えられる。 When a composite sheet or a metal case is used to form the shield layer, the manufacturing cost tends to remain high. Therefore, after providing the sealing layer on the element mounting substrate, it is conceivable that the shield layer is laminated by applying a conductive resin paste on the surface of the sealing layer, thereby reducing the manufacturing cost compared to the conventional method. .
しかしながら樹脂ペーストの塗布によってシールド層を形成する場合、封止層の表面形状が複雑であれば、樹脂ペーストを塗布すること自体が困難である。また、樹脂ペーストを硬化させる際に、樹脂ペーストに含まれる溶剤成分が揮散してボイドが形成されると、シールド層の品位が低下して電磁波シールド機能の低下につながり問題となる。 However, when the shield layer is formed by applying a resin paste, if the surface shape of the sealing layer is complicated, it is difficult to apply the resin paste itself. Further, when the resin paste is cured, if the solvent component contained in the resin paste is volatilized and voids are formed, the quality of the shield layer is lowered and the electromagnetic wave shielding function is lowered, resulting in a problem.
そこで、この発明の目的は、樹脂ペーストを利用してシールド層を形成しながら、シールド層でのボイドの残存を抑制でき、また樹脂ペーストのシート化を外注によらず社内で作製することで、製造コストを抑制できる、電子部品の製造方法を提供することにある。 Therefore, the object of the present invention is to form a shield layer using a resin paste, while suppressing the remaining of voids in the shield layer, and to make the resin paste into a sheet in-house without outsourcing, An object of the present invention is to provide an electronic component manufacturing method capable of suppressing the manufacturing cost.
この発明の電子部品を製造する方法は、積層体形成工程、塗布体形成工程、Bステージ化工程、貼着工程、および、シールド層形成工程を有する。積層体形成工程は積層体を形成する。積層体は、素子搭載基板の素子搭載面を封止層で封止した構成である。塗布体形成工程は、シートに樹脂ペーストを塗布して、塗布体を形成する。シートと樹脂ペーストとのうち少なくとも一方は導電性を持つ。Bステージ化工程は、塗布体の樹脂ペーストをBステージ化する。貼着工程は、積層体の封止層に対してBステージ化した樹脂ペーストを貼着させる。シールド層形成工程は、積層体に貼着させた樹脂ペーストを加圧流動および本硬化させてシールド層を形成する。 The method of manufacturing the electronic component of the present invention includes a laminated body forming process, an applied body forming process, a B-stage forming process, an attaching process, and a shield layer forming process. A laminated body formation process forms a laminated body. The laminate has a configuration in which the element mounting surface of the element mounting substrate is sealed with a sealing layer. In the applied body forming step, a resin paste is applied to the sheet to form an applied body. At least one of the sheet and the resin paste has conductivity. In the B-stage forming process, the resin paste of the coated body is converted into a B-stage. A sticking process sticks the resin paste which made B stage with respect to the sealing layer of a laminated body. In the shield layer forming step, the shield paste is formed by subjecting the resin paste adhered to the laminate to pressure flow and main curing.
前述の構成において、塗布体形成工程では、樹脂ペーストをシート上に塗布するため、樹脂ペーストの皮膜を均一な膜厚にできる。さらに、Bステージ化してから封止層に貼着させるため、封止層の表面形状が複雑であっても、塗布直後の液状に比べ、膜厚を維持した状態で樹脂ペーストの皮膜を封止層に貼着させることができる。さらには、樹脂ペーストをBステージ化することで、その後の工程で塗布体の取り回しが容易になるとともに樹脂ペーストの付着による周辺環境の汚染を防ぐことができる。一方、仮に塗布体を積層体に貼着させた後で、樹脂ペーストをBステージ化(および本硬化)させるならば、シートによって樹脂ペーストが覆われた状態となっているため、樹脂ペーストからの溶剤成分の揮散が阻害されてしまう。しかしながら、本発明のように、Bステージ化した後で塗布体を積層体に貼着させることにより、シートに阻害されずに、露出した状態となっている樹脂ペーストからの溶剤成分の揮散を予め進展させることができ、シールド層でのボイドの残存を効果的に抑制できる。 In the above-described configuration, since the resin paste is applied onto the sheet in the application body forming step, the resin paste film can be made to have a uniform film thickness. Furthermore, since it is attached to the sealing layer after the B stage, even if the surface shape of the sealing layer is complex, the film of the resin paste is sealed in a state where the film thickness is maintained as compared to the liquid state immediately after coating. Can be attached to the layer. Furthermore, by making the resin paste into a B-stage, it is possible to easily handle the applied body in the subsequent steps and to prevent contamination of the surrounding environment due to the adhesion of the resin paste. On the other hand, if the resin paste is B-staged (and main-cured) after the application body is attached to the laminate, the resin paste is covered with the sheet. Volatilization of the solvent component will be hindered. However, as in the present invention, after the B-stage is applied, the applied body is adhered to the laminate, so that the solvent component is volatilized from the exposed resin paste without being inhibited by the sheet in advance. It can be made to progress, and the residual voids in the shield layer can be effectively suppressed.
この発明のBステージ化工程は、樹脂ペーストのBステージ化を減圧環境下で進展させる。これにより、樹脂ペーストからの溶剤成分の揮散をさらに効果的に進展させることができる。 In the B-staging process of the present invention, the B-staging of the resin paste is advanced under a reduced pressure environment. Thereby, volatilization of the solvent component from the resin paste can be further effectively advanced.
この発明の塗布体形成工程は、開口を設けた所定厚のマスクで覆った状態のシートに樹脂ペーストを塗布すると好適である。これにより、簡便な方法により封止層の表面形状によらずに正確にコントロールした塗布量で、樹脂ペーストの皮膜を封止層に貼着させることができる。 In the application body forming step of the present invention, it is preferable to apply a resin paste to a sheet covered with a mask having a predetermined thickness provided with openings. Thereby, the film | membrane of the resin paste can be affixed on the sealing layer with the application amount controlled accurately irrespective of the surface shape of the sealing layer by a simple method.
この発明の積層体形成工程は、積層体の複数の電子部品を区画する位置に、封止層から素子搭載基板に至る深さでハーフカット溝を設けると好適である。このように積層体がハーフカット溝を設けた表面形状であっても、塗布体を形成した樹脂ペーストの皮膜を積層体に貼着させることができる。また、パッケージ側面にもシールド層を設けてパッケージ側面に電磁波シールド機能を具備させられる。 In the laminated body forming step of the present invention, it is preferable to provide a half cut groove at a depth from the sealing layer to the element mounting substrate at a position where a plurality of electronic components of the laminated body are partitioned. Thus, even if the laminated body has a surface shape provided with a half-cut groove, the resin paste film on which the applied body is formed can be adhered to the laminated body. Also, a shield layer can be provided on the side surface of the package to provide an electromagnetic wave shielding function on the package side surface.
この発明の積層体形成工程は、素子搭載基板または素子搭載基板上に搭載された部品上から立設し、グランド電極に導通して封止層の表面から露出するポスト電極を形成すると好適である。これにより、ポスト電極を介してシールド層を接地することができる。また、このようにポスト電極を設けることで封止層の表面形状は平坦でなくなることがあるが、塗布体を形成した樹脂ペーストの皮膜を積層体に貼着させることができる。 In the laminated body forming process of the present invention, it is preferable to stand up from the element mounting substrate or a component mounted on the element mounting substrate, and form a post electrode that is electrically connected to the ground electrode and exposed from the surface of the sealing layer. . Thereby, the shield layer can be grounded via the post electrode. In addition, by providing the post electrode in this manner, the surface shape of the sealing layer may not be flat, but the resin paste film on which the coated body is formed can be attached to the laminate.
この発明のシートは導電性であってもよい。これにより、シートを除去することなく電子部品を製造して工程数を低減させることが可能になる。また、高価な導電性樹脂ペーストの塗布のみによりシールド層を形成する場合に比べて、樹脂ペーストの使用量を低減できる。したがって製造工程の低コスト化を実現できる。 The sheet of this invention may be conductive. Thereby, it becomes possible to manufacture an electronic component without removing the sheet and reduce the number of steps. Further, the amount of the resin paste used can be reduced as compared with the case where the shield layer is formed only by applying an expensive conductive resin paste. Therefore, cost reduction of the manufacturing process can be realized.
この発明の樹脂ペーストは、厚み方向の加圧によって導通する導電粒子が分散された異方導電性樹脂ペーストであってもよい。これにより、シールド層が極めて薄くても十分な電磁波シールド機能を得ることが可能になる。 The resin paste of the present invention may be an anisotropic conductive resin paste in which conductive particles that are conducted by pressing in the thickness direction are dispersed. Thereby, even if the shield layer is extremely thin, a sufficient electromagnetic wave shielding function can be obtained.
この発明のシールド層形成工程は、ガスバリア性を備えたパックに積層体を入れて減圧下で密封し、パックに対して圧力を加えてから、樹脂ペーストを本硬化させると好適である。パックに対する加圧は、例えば静水圧装置のような、パックを一度に複数枚加圧処理できる加圧装置を用いることができる。これにより、シールド層の積層体への接合をより強固にでき、プレス機などを用いる場合よりも装置コストを低減できる。 In the shield layer forming step of the present invention, it is preferable that the laminate is put in a pack having gas barrier properties and sealed under reduced pressure, and the resin paste is fully cured after applying pressure to the pack. For pressurization of the pack, for example, a pressurizing apparatus that can pressurize a plurality of packs at a time, such as a hydrostatic apparatus, can be used. Thereby, joining to the laminated body of a shield layer can be strengthened, and apparatus cost can be reduced rather than the case where a press etc. are used.
この発明のシールド層形成工程は、パックに積層体を入れて減圧下で密封する際、加熱しながら減圧すると好適である。これにより、シールド層から溶剤成分などを揮発させることができ、ボイドレス化などシールド層を高品位化できる。したがって、シールド層とポスト電極との接続をより確実に行える。 In the shield layer forming step of the present invention, when the laminate is put in a pack and sealed under reduced pressure, the pressure is preferably reduced while heating. As a result, the solvent component and the like can be volatilized from the shield layer, and the shield layer such as voidless can be improved in quality. Therefore, the shield layer and the post electrode can be more reliably connected.
この発明によれば、シートに樹脂ペーストを塗布した状態で樹脂ペーストをBステージ化した後で積層体に貼着させるので、封止層の表面形状が複雑であっても正確にコントロールした塗布量で、樹脂ペーストの皮膜を封止層に貼着させることができる。このため、樹脂ペーストを塗布する工程を採用してシールド層を形成でき、従来方法よりも製造コストを抑制することが可能になる。
また、Bステージ化工程の後の工程での塗布体の取り回しが容易になるとともに樹脂ペーストの付着による周辺環境の汚染を防ぐことができる。
さらには、シートに阻害されずに露出した状態となっている樹脂ペーストからの溶剤成分の揮散を進展させることができ、シールド層でのボイドの残存を効果的に抑制できる。
According to the present invention, since the resin paste is B-staged in a state where the resin paste is applied to the sheet and then adhered to the laminate, the amount of application accurately controlled even if the surface shape of the sealing layer is complicated Thus, the resin paste film can be adhered to the sealing layer. For this reason, the shield layer can be formed by adopting the step of applying the resin paste, and the manufacturing cost can be suppressed as compared with the conventional method.
In addition, it is easy to handle the coated body in the process after the B-stage process, and contamination of the surrounding environment due to adhesion of the resin paste can be prevented.
Furthermore, volatilization of the solvent component from the resin paste that is exposed without being inhibited by the sheet can be promoted, and voids remaining in the shield layer can be effectively suppressed.
《第1の実施形態》
以下に、この発明の第1の実施形態に係る電子部品の製造方法について説明する。
図1は、本実施形態に係る電子部品の製造方法の各工程での状態を示す断面図である。
<< First Embodiment >>
A method for manufacturing an electronic component according to the first embodiment of the present invention will be described below.
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a state in each step of the electronic component manufacturing method according to the present embodiment.
図1(A1)は、素子実装工程での状態図である。基板1はアルミナ等のセラミック基板、または、ガラスエポキシ等の樹脂基板であり、グランド電極1Aを備える。グランド電極1Aは天面電極、内部電極、および、底面電極から形成されている。この工程では、まず基板1を用意し、基板1の複数の天面電極に半田ペーストあるいは金属ナノ粒子ペースト等により、素子2A,2Bをフェイスダウン方式で実装する。本実施形態では、基板1で一度に複数の電子部品を製造するために、素子2A,2Bをそれぞれ複数個、実装する。この工程を終えると次の封止層塗布工程に移行する。
FIG. 1A1 is a state diagram in an element mounting process. The
図1(A2)は、封止層塗布工程での状態図である。この工程では熱硬化性を持つ半液状の樹脂ペーストの塗布により封止層4を形成する。この樹脂ペーストは、金属フィラーを含まない絶縁性のものである。封止層4は、素子2A,2Bの全体を埋設する層厚で形成され、基板1に素子2A,2Bを封止する。この工程を終えると次の封止層成形工程に移行する。
FIG. 1A2 is a state diagram in the sealing layer application step. In this step, the
図1(A3)は、封止層成形工程での状態図である。この工程では所定の硬化条件のもとで封止層4を加熱した後、封止層4の天面をダイサまたは研削ローラ4Aにより研削し、封止層4の天面を平坦化する。この工程では、封止層4を加熱することにより、封止層4に含まれる溶剤成分が揮散するとともに樹脂粒子間の架橋が進展し、封止層4の硬化および形状収縮が進展する。この工程を終えると次のハーフカット工程に移行する。
FIG. 1 (A3) is a state diagram in the sealing layer forming step. In this step, the
図1(A4)はハーフカット工程での状態図である。この工程では、複数の電子部品を区画する位置に、ダイサを用いてハーフカット溝5を形成する。ハーフカット溝5は、封止層4の表面から基板1に至る深さで形成する。本実施形態では、ハーフカット溝5の側面にグランド電極1Aである内部電極の切断面が露出する程度まで、ハーフカット溝5を切り込んでいる。
FIG. 1A4 is a state diagram in the half-cut process. In this step, half-
本発明の「積層体形成工程」は、上述の素子実装工程、封止層塗布形成工程、封止層成形工程、および、ハーフカット工程を有する。そして、この「積層体形成工程」により、基板1と素子2A,2Bと封止層4とを備え、ハーフカット溝5が設けられた構成の積層体が形成される。
The “laminated body forming step” of the present invention includes the above-described element mounting step, sealing layer application forming step, sealing layer forming step, and half-cut step. Then, by this “laminated body forming step”, a laminated body including the
図1(A5)は塗布体形成工程での状態図である。この工程では、PET製のフィルムシート11上に所定形状の開口を設けた所定厚のマスク13を載置し、熱硬化性を持つ半液状の樹脂ペースト12を、マスク13を介してフィルムシート11上にスキージ14で塗布する。ここで、樹脂ペースト12は、樹脂中に球状、鱗片状、針状等の形状を有する金属フィラーを所定の割合で分散させた導電性樹脂ペーストである。マスク厚やスキージ圧の設定を行うことで、樹脂ペースト12の塗布量を正確にコントロールすることにより、樹脂ペースト12の皮膜を均一な膜厚でフィルムシート11上に形成でき、フィルムシート11と樹脂ペースト12とからなる塗布体10を形成できる。この工程を終えると次のBステージ化工程に移行する。なお、所定厚の樹脂ペースト12をフィルムシート11上に塗布する方法として、上記の実施形態で示したマスク13を用いる方法以外に、スピンコート、リップコートおよびインクジェットなどの方法を用いることもできる。
FIG. 1 (A5) is a state diagram in the applied body forming step. In this step, a
図1(A6)はBステージ化工程での状態図である。この工程では、マスクを除いた塗布体10を、図示しない真空オーブン中のプレート15上に配置し、減圧環境下で塗布体10を加熱する。この加熱により、樹脂ペースト12の溶剤成分が揮散するとともに樹脂粒子間の架橋が進展し、樹脂ペースト12が半硬化状態のBステージになる。この際の加熱条件は、樹脂ペーストが完全に硬化する条件よりも低い加熱温度や短い加熱時間である。このように塗布体10における樹脂ペースト12をBステージ化することにより、後の工程での塗布体の取り回しが容易になるとともに樹脂ペースト12の付着による周辺環境の汚染を防ぐことができる。この工程を終えると次の貼着工程に移行する。
FIG. 1 (A6) is a state diagram in the B-stage process. In this step, the
図1(A7)は貼着工程での状態図である。この工程では、塗布体10の樹脂ペースト12に、封止層4を対向させて積層体を載置する。したがって、封止層4の表面形状によらずに樹脂ペーストの塗布量を正確にコントロールした状態で、樹脂ペースト12の皮膜を封止層4に貼着させることができる。なお、本実施形態では、塗布体10の上に積層体を載置したが、積層体の上に塗布体10を載置するようにしてもよい。この工程を終えると次のシールド層形成工程に移行する。
FIG. 1 (A7) is a state diagram in the sticking step. In this step, the laminate is placed with the
図1(A8)はシールド層形成工程での状態図である。この工程では、積層体を載置した塗布体10をプレス装置21に搭載し、場合によっては真空中で積層体および塗布体を加熱・加圧する。これにより、塗布体10の樹脂ペースト12が封止層4とフィルムシート11とに押圧されて流動し、ハーフカット溝5に流入する。この状態で、樹脂ペースト12の加熱硬化が進展して、シールド層6が形成される。この際、シールド層6がグランド電極1Aである内部電極の切断面が露出した位置を被覆して、シールド層6がグランド電極1Aに導通する。この工程を終えると次の個別化工程に移行する。
FIG. 1 (A8) is a state diagram in the shield layer forming step. In this step, the
図1(A9)は個別化工程での状態図である。この工程では、フィルムシート11を剥がした後に、ハーフカット溝5が形成されていた位置の中心線に沿ってダイサやブレイカを用いて複数の電子部品を分割する。
FIG. 1 (A9) is a state diagram in the individualization process. In this step, after peeling off the
以上の一連の工程を本実施形態の電子部品の製造方法は有する。したがってフィルムシート11に樹脂ペースト12を塗布して積層体に貼着させることでシールド層6を形成でき、製造コストを低減できる。また、塗布体を積層体10に貼着させる前に、樹脂ペースト12をBステージ化するので、その際の溶剤成分の揮散によりシールド層6でのボイドの残存を効果的に抑制できる。
The manufacturing method of the electronic component of this embodiment has the above series of steps. Accordingly, the
なお、Bステージ化工程については、真空オーブンを用いずに、より簡易で安価な装置(単なるホットプレートやオーブン)を用いて実施してもよい。 Note that the B-stage process may be performed using a simpler and less expensive apparatus (simple hot plate or oven) without using a vacuum oven.
《第2の実施形態》
次に、この発明の第2の実施形態に係る電子部品の製造方法について説明する。
図2は、本実施形態に係る電子部品の製造方法の各工程での状態を示す断面図である。
<< Second Embodiment >>
Next explained is a method for manufacturing an electronic component according to the second embodiment of the invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a state in each step of the electronic component manufacturing method according to the present embodiment.
図2(B1−1)は、素子実装工程の1次過程での状態図である。この1次過程では、まず基板1を用意し、基板1の複数の天面電極に半田ペーストあるいは金属ナノ粒子ペースト等を用いて素子2A,2Bを実装する。
FIG. 2 (B1-1) is a state diagram in the primary process of the element mounting process. In this primary process, first, a
図2(B1−2)は、素子実装工程の2次過程での状態図である。この2次過程では、グランド電極1Aに導通する素子2Bの端子電極上に、ヘッド3Aから液状の導電性ペーストを吐出するインクジェット方式でポスト電極3を形成する。ポスト電極3はグランド電極1Aに導通するとともに、素子2A,2Bよりも天面側に先端が位置する。なお、ポスト電極3を形成する位置として、上記の実施形態で示した素子2Bの端子電極上以外に、基板1上に設けられグランド電極1Aに導通する基板電極上を選択することもできる。この工程を終えると次の封止層形成工程に移行する。
FIG. 2 (B1-2) is a state diagram in the secondary process of the element mounting process. In this secondary process, the
図2(B2)は、封止層塗布工程での状態図である。この工程では熱硬化性と絶縁性とを持つ半液状の樹脂ペーストの塗布により封止層4を形成する。封止層4は、素子2A,2Bおよびポスト電極3の全体を埋設する層厚で形成され、基板1に素子2A,2Bおよびポスト電極3を封止する。この工程を終えると次の封止層成形工程に移行する。
FIG. 2 (B2) is a state diagram in the sealing layer coating step. In this step, the
図2(B3)は、封止層成形工程での状態図である。この工程では所定の硬化条件のもとで封止層4を加熱した後、封止層4の天面をダイサまたは研削ローラ4Aで研削し、平坦化した封止層4の表面からポスト電極3を露出させる。この工程では、封止層4を加熱することにより、封止層4に含まれる溶剤成分が揮散するとともに樹脂粒子間の架橋が進展し、封止層4の硬化および形状収縮が進展する。なお、研削後に再び加熱を行って封止層4の形状収縮を再び進展させるようにすると、ポスト電極3が封止層4の表面から突出することになるので、後のシールド層6との導通を確実にすることができる。この工程を終えると次のハーフカット工程に移行する。
FIG. 2 (B3) is a state diagram in the sealing layer forming step. In this step, after heating the
図2(B4)は、ハーフカット工程での状態図である。この工程では、複数の電子部品を区画する位置に、ダイサを用いてハーフカット溝5を形成する。ハーフカット溝5は、封止層4の表面から基板1に至る深さで形成する。なお、図1(A4)のようにグランド電極1Aである内部電極の切断面が露出する程度までハーフカット溝5を切り込んでもよい。
FIG. 2 (B4) is a state diagram in the half-cut process. In this step, half-
本発明の「積層体形成工程」は、上述の素子実装工程、ポスト電極形成工程、封止層塗布形成工程、封止層成形工程、および、ハーフカット工程を有する。そして、この「積層体形成工程」により、基板1と素子2A,2Bとポスト電極3と封止層4とを備え、ハーフカット溝5が設けられた構成の積層体が形成される。
The “laminate forming step” of the present invention includes the above-described element mounting step, post electrode forming step, sealing layer application forming step, sealing layer forming step, and half-cut step. Then, by this “laminated body forming step”, a laminated body including the
この後、第1の実施形態と同様の塗布体形成工程、Bステージ化工程、貼着工程、シールド層形成工程、個別化工程を実施する一連の工程を本実施形態の電子部品の製造方法は有する。本実施形態では、ポスト電極3を封止層4の表面から露出して設けるので、ポスト電極3によりシールド層6の接地を行えるため、基板が薄くてグランド電極1Aを確実に露出させることが困難な場合でも、問題なく製品の低背化が可能となる。また、仮にポスト電極3を封止層4の表面から突出させても、フィルムシート11に樹脂ペースト12を塗布して積層体に貼着させることで、封止層4の表面形状によらずに正確にコントロールした塗布量で形成された樹脂ペースト12の皮膜を積層体に貼着させられる。
After that, the manufacturing method of the electronic component of the present embodiment includes a series of steps for performing the same applied body forming step, B-stage forming step, sticking step, shield layer forming step, and individualizing step as in the first embodiment. Have. In the present embodiment, since the
《第3の実施形態》
次に、この発明の第3の実施形態に係る電子部品の製造方法について説明する。
<< Third Embodiment >>
Next explained is a method for manufacturing an electronic component according to the third embodiment of the invention.
図3は、本実施形態に係る電子部品の製造方法の各工程での状態を示す断面図である。
本実施形態は、第2の実施形態と同様の「積層体形成工程」を有する。「積層体形成工程」を終えると塗布体形成工程に移行する。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a state in each step of the electronic component manufacturing method according to the present embodiment.
This embodiment has the same “laminated body forming step” as that of the second embodiment. When the “laminated body forming process” is completed, the process proceeds to the applied body forming process.
図3(C5)は塗布体形成工程での状態図である。この工程では、金属箔11A上に所定形状の開口を設けた所定厚のマスク13を載置し、熱硬化性と導電性とを持つ半液状の樹脂ペースト12を、マスク13を介して金属箔11A上にスキージ14で塗布する。これにより、樹脂ペースト12の皮膜を均一な膜厚で金属箔11A上に形成でき、塗布量を正確にコントロールして、金属箔11Aと樹脂ペースト12とからなる塗布体10Aを形成できる。この工程を終えると次のBステージ化工程に移行する。
FIG. 3 (C5) is a state diagram in the applied body forming step. In this step, a
図3(C6)はBステージ化工程での状態図である。この工程では、マスクを除いた塗布体10Aを、図示しない真空オーブン中のプレート15上に配置し、塗布体10Aを加熱する。この加熱により、樹脂ペースト12の溶剤成分が揮散するとともに樹脂粒子間の架橋が進展し、樹脂ペースト12が半硬化状態のBステージになる。この加熱条件は、樹脂ペーストが完全に硬化する条件よりも低い加熱温度や短い加熱時間である。このように塗布体10Aにおける樹脂ペースト12をBステージ化することにより、後の工程での塗布体の取り回しが容易になるとともに樹脂ペースト12の付着による周辺環境の汚染を防ぐことができる。この工程を終えると次の貼着工程に移行する。
FIG. 3 (C6) is a state diagram in the B-stage process. In this step, the
図3(C7)は貼着工程での状態図である。この工程では、塗布体の樹脂ペースト12に、封止層4を対向させて積層体を載置する。したがって、封止層4の表面形状によらずに樹脂ペースト12の塗布量を正確にコントロールした状態で、樹脂ペースト12の皮膜を封止層4に貼着させることができる。なお、第1の実施形態の場合と同様に、積層体の上に塗布体10Aを載置するようにしてもよい。この工程を終えると次のシールド層形成工程に移行する。
FIG. 3 (C7) is a state diagram in the sticking step. In this step, the laminated body is placed with the
図3(C8)はシールド層形成工程での状態図である。この工程では、積層体を載置した塗布体10Aをプレス装置21に搭載し、場合によっては真空中で積層体および塗布体10Aを加熱・加圧する。これにより、塗布体10Aの樹脂ペースト12が封止層4と金属箔11Aとに押圧されて流動し、ハーフカット溝5に流入する。この状態で、樹脂ペースト12の加熱硬化が進展して、シールド層6が形成される。この際、金属箔11Aをポスト電極3に接触させ、シールド層6を接地する。この工程を終えると次の個別化工程に移行する。
FIG. 3 (C8) is a state diagram in the shield layer forming step. In this step, the
図3(C9)は個別化工程での状態図である。この工程では、ハーフカット溝5が形成されていた位置の中心線に沿って、ダイサやブレイカを用いて複数の電子部品を形成する。
FIG. 3 (C9) is a state diagram in the individualization process. In this step, a plurality of electronic components are formed using a dicer or breaker along the center line of the position where the half-
以上の一連の工程を本実施形態の電子部品の製造方法は有する。本実施形態では、金属箔に樹脂ペーストを塗布するので、シートを剥がす工程を省くことができ、製造工程の簡易化を進展させられる。また、高価な樹脂ペーストを金属箔の分だけ削減することができ、製造コストを抑制することができる。 The manufacturing method of the electronic component of this embodiment has the above series of steps. In this embodiment, since the resin paste is applied to the metal foil, the step of peeling off the sheet can be omitted, and the manufacturing process can be simplified. Moreover, an expensive resin paste can be reduced by the amount of the metal foil, and the manufacturing cost can be suppressed.
なお、本実施形態では樹脂ペースト12として導電性のものを用いたが、ポスト電極3に対して金属箔11Aが確実に接触するならば、樹脂ペースト12として絶縁性のものを用いることもできる。いずれの場合であっても、金属箔11Aに樹脂ペースト12を塗布した後、Bステージ化してから積層体に貼着させることで、シールド層6でのボイドの残存を効果的に抑制することが可能になる。
In the present embodiment, a conductive material is used as the
また、樹脂ペースト12として、厚み方向の加圧によって厚み方向に金属フィラー同士が接触して導電性を発現する異方導電性樹脂ペーストを用いてもよい。その場合には、シールド層6に使用する金属量を低減しながら十分な電磁波シールド機能が得られ、ポスト電極3と金属箔11Aとを確実に接続させられる。
Moreover, you may use the anisotropic conductive resin paste which metal fillers contact in the thickness direction by pressurization in the thickness direction, and expresses electroconductivity as the
《第4の実施形態》
次に、この発明の第4の実施形態に係る電子部品の製造方法について説明する。
図4は、本実施形態に係る電子部品の製造方法の各工程での状態を示す断面図である。
本実施形態は、第2の実施形態と同様の「積層体形成工程」、塗布体形成工程、Bステージ化工程、貼着工程、および、個別化工程を有する。
<< Fourth Embodiment >>
Next explained is a method for manufacturing an electronic component according to the fourth embodiment of the invention.
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a state in each step of the electronic component manufacturing method according to the present embodiment.
This embodiment has the same “laminated body forming process”, applied body forming process, B-stage forming process, sticking process, and individualizing process as in the second embodiment.
図4(D8−1)は、シールド層形成工程の1次過程での状態図である。この1次過程では、塗布体を貼着した積層体をパック30に入れる。パック30としては、柔軟性とガスバリア性を備え、内層にシーラント層を有するラミネートパックを用いる。この第1過程を終えると、この工程の第2過程に移行する。
FIG. 4 (D8-1) is a state diagram in the primary process of the shield layer forming process. In this primary process, the laminated body to which the application body is adhered is put in the
図4(D8−2)は、シールド層形成工程の第2過程における状態図である。この第2過程では、基板を入れたパック30を不図示の真空チャンバー内の加熱ステージ51にセットし、パック内を所定の真空度(50〜150Pa程度)に減圧するとともに、樹脂ペーストの硬化温度未満の所定の加熱条件で加熱する。これにより、樹脂ペースト中の溶剤成分が揮発しやすくなり、シールド層でのボイドの残存を効果的に抑制できる。この第2過程を終えると、この工程の第3過程に移行する。
FIG. 4 (D8-2) is a state diagram in the second process of the shield layer forming process. In this second process, the
図4(D8−3)は、シールド層形成工程の第3過程における状態図である。この第3過程では、パック30をシールヒータ52およびシール用当て板53を用いてシールして密封した後、真空チャンバーを開放して大気圧下に戻す。この第3過程を終えると、この工程の第4過程に移行する。
FIG. 4 (D8-3) is a state diagram in the third step of the shield layer forming step. In this third process, the
図4(D8−4)は、シールド層形成工程の第4過程における状態図である。パック30内は減圧されているため、外気の大気圧との差でパック30内に圧力がかかり、パック30内で樹脂ペーストが流動してハーフカット溝に樹脂ペーストが流れ込む。なお、静水圧装置のような加圧装置を用いると、樹脂ペーストのハーフカット溝への流動がより容易になる。
FIG. 4 (D8-4) is a state diagram in the fourth step of the shield layer forming step. Since the inside of the
本実施形態によれば、シールド層での溶剤成分などによるボイドの残存をより効率的に抑制できる。また、プレス機を使用することなくシールド層を形成でき、シールド層形成工程を低コストに実施できる。 According to this embodiment, the remaining of voids due to the solvent component or the like in the shield layer can be more efficiently suppressed. Moreover, a shield layer can be formed without using a press, and the shield layer forming step can be performed at low cost.
1…基板
1A…グランド電極
2A,2B…素子
3…ポスト電極
4…封止層
5…ハーフカット溝
6…シールド層
10,10A…塗布体
11…フィルムシート
11A…金属箔
12…樹脂ペースト
13…マスク
DESCRIPTION OF
Claims (9)
少なくとも一方が導電性を持つシートと樹脂ペーストとを用いて、前記シートに前記樹脂ペーストを塗布し、塗布体を形成する塗布体形成工程、
前記塗布体の前記樹脂ペーストをBステージ化するBステージ化工程、
前記積層体の前記封止層に対してBステージ化した前記樹脂ペーストを対向させて前記塗布体を貼着させる貼着工程、および、
前記積層体に貼着させた前記塗布体の前記樹脂ペーストを加圧流動および本硬化させるシールド層形成工程、を有する電子部品の製造方法。 A laminated body forming step of forming a laminated body in which the element mounting surface of the element mounting substrate is sealed with a sealing layer;
An application body forming step of applying an application body by applying the resin paste to the sheet using a sheet having at least one conductivity and a resin paste,
A B-stage process for converting the resin paste of the coated body into a B-stage;
An adhering step of adhering the application body with the resin paste B-staged facing the sealing layer of the laminate; and
A method of manufacturing an electronic component, comprising: a shield layer forming step of pressurizing and main-curing the resin paste of the application body adhered to the laminate.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010086649A JP2010278421A (en) | 2009-04-27 | 2010-04-05 | Manufacturing method of electronic parts |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009108252 | 2009-04-27 | ||
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Publications (1)
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ID=43425064
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2010086649A Pending JP2010278421A (en) | 2009-04-27 | 2010-04-05 | Manufacturing method of electronic parts |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2010278421A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2016092691A1 (en) * | 2014-12-12 | 2016-06-16 | 株式会社メイコー | Moulded circuit module, and production method therefor |
| WO2016092692A1 (en) * | 2014-12-12 | 2016-06-16 | 株式会社メイコー | Moulded circuit module, and production method therefor |
| WO2016092694A1 (en) * | 2014-12-12 | 2016-06-16 | 株式会社メイコー | Moulded circuit module, and production method therefor |
| JP2019009266A (en) * | 2017-06-23 | 2019-01-17 | 株式会社村田製作所 | Method of manufacturing multilayer ceramic electronic component, and, multilayer ceramic electronic component |
-
2010
- 2010-04-05 JP JP2010086649A patent/JP2010278421A/en active Pending
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