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JP2004111702A - Wiring board and manufacturing method therefor - Google Patents

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Publication number
JP2004111702A
JP2004111702A JP2002273118A JP2002273118A JP2004111702A JP 2004111702 A JP2004111702 A JP 2004111702A JP 2002273118 A JP2002273118 A JP 2002273118A JP 2002273118 A JP2002273118 A JP 2002273118A JP 2004111702 A JP2004111702 A JP 2004111702A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
substrate
wiring
support substrate
wiring board
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002273118A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koji Kondo
近藤 宏司
Katsumi Yamazaki
山崎 勝美
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Denso Corp
Original Assignee
Denso Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Denso Corp filed Critical Denso Corp
Priority to JP2002273118A priority Critical patent/JP2004111702A/en
Publication of JP2004111702A publication Critical patent/JP2004111702A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wiring board for achieving high wiring density and a high flexibility in design, short manufacturing lead time, and ensuring stiffness, and to provide a method for manufacturing the wiring board. <P>SOLUTION: In the wiring board, an insulating support substrate 1 and resin substrates 2, 3 are laminated. The insulating support substrate 1 ensures stiffness. In the resin substrates 2, 3, a wiring circuit is formed. The resin substrates 2, 3 are made of thermoplastic resin. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、配線基板およびその製造方法に関するもので、特に、剛性を有すると共に、配線密度および設計自由度が高くて製造リードタイムの短い配線基板およびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
配線密度および設計自由度が高くて製造リードタイムの短い配線基板およびその製造方法として、特開2000−38464号公報(特許文献1)に開示ざれた配線基板およびその製造方法が知られている。
【0003】
特開2000−38464号公報に開示された配線基板の製造方法によれば、まず、熱可塑性樹脂からなる樹脂フィルムの表面に銅箔を貼り付け、選択的にエッチングすることで導体パターンを形成する。次に、導体パターンを底面とする有底孔を樹脂フィルムに形成し、有底孔内に導電ペーストを充填する。そして、このようにして準備した複数枚の樹脂フィルムを積層した後、所定の温度と圧力で加熱しつつ加圧する。これにより、隣接する樹脂フィルムが融着して一体化されると共に、導電ペーストが焼結して複数の導体パターンが接続される。
【0004】
【特許文献1】特開2000−38464号公報
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
特開2000−38464号公報に開示された配線基板の製造方法においては、多数の樹脂フィルムが一括して接着され、また同時に配線回路が形成されるため、配線密度および設計自由度が高くて、製造リードタイムが短い。
【0006】
一方、特開2000−38464号公報に開示された配線基板は、樹脂フィルムが薄い熱可塑性樹脂からなるため、樹脂フィルムの積層枚数が少ない場合や大面積の配線基板を製造する場合には、基板の剛性が確保できなくなる。
【0007】
そこで本発明の目的は、配線密度および設計自由度が高くて、製造リードタイムが短く、剛性を確保することのできる配線基板およびその製造方法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の発明は、剛性を確保するための絶縁性の支持基板と、配線回路が形成された樹脂基板とが積層されてなる配線基板であって、前記樹脂基板は、熱可塑性樹脂からなることを特徴としている。
【0009】
これによれば、配線基板を構成する絶縁性の支持基板により、配線基板の剛性を確保すると共に、配線基板を構成する熱可塑性樹脂からなる樹脂基板において、形成される配線回路の配線密度および設計自由度を高くすることができる。
【0010】
請求項2に記載の発明は、支持基板に配線回路が形成され、当該配線回路と樹脂基板の配線回路とが、樹脂基板の貫通孔に形成された導電性組成物により互いに接続されてなることを特徴としている。
【0011】
これによれば、配線基板に形成される配線回路として、樹脂基板の配線回路だけでなく支持基板に形成される配線回路も利用することができ、形成される配線回路の配線密度および設計自由度をより高くすることができる。
【0012】
請求項3に記載の発明は、樹脂基板が、前記支持基板の両面に積層されることを特徴としている。
【0013】
これによれば、樹脂基板が支持基板の両面に積層されることで、支持基板と樹脂基板の材料の違いによる‘そり’を低減することができる。また、支持基板の両面が配線回路に利用されるため、配線回路の配線密度および設計自由度をより高くすることができる。
【0014】
請求項4に記載したように、支持基板は、ガラス繊維含有エポキシ材、ガラス繊維含有BTレジン材、ガラス繊維含有ポリイミド材、アラミド繊維含有エポキシ材、アラミド繊維含有BTレジン材、アラミド繊維含有ポリイミド材、セラミック粒子含有エポキシ材、セラミック粒子含有BTレジン材、セラミック粒子含有ポリイミド材、セラミック材、メタルコア材のいずれかであることが好ましい。これらの材料は、熱可塑の樹脂基板を支持する支持基板材料として十分な強度を有しており、これにより、樹脂基板と支持基板で構成される配線基板の十分な強度を確保することができる。
【0015】
請求項5に記載したように、熱可塑性樹脂は、液晶ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン/ポリエーテルイミド混合物、ポリフェニレンサルファイドのいずれかであることが好ましい。これらの材料は、高密度の配線回路を形成することのできる熱可塑の樹脂基板材料として、十分な絶縁性能と製造容易性を有している。
【0016】
請求項6〜8に記載の発明は、前記した配線基板の製造方法に関するものである。
【0017】
請求項6に記載の発明は、剛性を確保するための絶縁性の支持基板と、配線回路が形成された熱可塑性の樹脂基板とが積層されてなる配線基板の製造方法であって、熱可塑性の樹脂フィルム上に前記配線回路の導体パターンを形成し、当該導体パターンを底面とする有底孔を前記樹脂フィルムに形成し、当該有底孔内に導電ペーストを充填する樹脂基板の準備工程と、前記支持基板と前記樹脂基板を積層配置する積層工程と、前記積層配置された支持基板と樹脂基板を加熱しつつ加圧することにより、相互に接着すると共に、前記導電ペーストを焼結して前記配線回路を形成する加熱加圧工程とを有することを特徴としている。
【0018】
これによれば、支持基板と樹脂基板で構成される配線基板の製造方法において、支持基板と樹脂基板の接着、および導電ペーストの焼結による配線回路の形成を同時に行なうことができ、配線基板の製造リードタイムを低減することができる。
【0019】
請求項7に記載の発明は、前記樹脂基板を複数枚準備し、前記積層工程において、前記複数枚の樹脂基板うち、一方の樹脂基板における有底孔の開口部を、他方の樹脂基板における導体パターンの所定位置に対向して積層配置することを特徴としている。
【0020】
これによれば、複数枚の樹脂基板を積層して多層化し、積層した複数枚の樹脂基板を加熱・加圧により一括して接着すると共に、導電ペーストを焼結して各樹脂基板の導体パターンを接続することができる。これによって、多層の樹脂基板からなる配線密度の高い配線基板を、容易に製造することができる。
【0021】
請求項8に記載の発明は、前記支持基板の表面に導体パターンが形成され、前記積層工程において、前記樹脂基板における有底孔の開口部を、支持基板における導体パターンの所定位置に対向して積層配置することを特徴としている。
【0022】
これによれば、導体パターンが形成された支持基板を樹脂基板と共に積層して多層化し、支持基板と樹脂基板を加熱・加圧により接着すると共に、支持基板の導体パターンと樹脂基板の導体パターンを、導電ペーストを焼結して接続することができる。これによって、支持基板の導体パターンも配線回路として利用した配線密度の高い配線基板を、容易に製造することができる。
【0023】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の配線基板およびその製造方法を、図に基づいて説明する。
【0024】
(第1の実施形態)
図1は、第1実施形態の配線基板101の断面模式図である。
【0025】
図1に示す配線基板101は、絶縁性の支持基板1の両面に樹脂基板2,3が積層された配線基板である。
【0026】
絶縁性の支持基板1は、ガラス繊維にポリイミド樹脂を含浸させたガラス繊維含有ポリイミド材からなり、両側の表面に導体パターン8,9が形成されている。支持基板1にはスルーホール5が設けられ、スルーホール5の側壁表面に形成された接続導体7によって導体パターン8,9が電気的に接続されている。また、スルーホール5内には充填樹脂6が埋め込まれている。支持基板1は十分な強度と剛性を有しており、単独でプリント回路板として利用されるものである。
【0027】
支持基板1の両面に積層された樹脂基板2,3の絶縁材料は、熱可塑性樹脂であるポリエーテルエーテルケトン/ポリエーテルイミド混合物で、ポリエーテルエーテルケトン65〜35重量%、ポリエーテルイミド35〜65重量%の組成比を持っている。樹脂基板2,3の厚さは、50〜150μmである。樹脂基板2,3の内部および外側表面には導体パターン21,31が形成され、ビアホール24,34に充填された導電性組成物22,32により樹脂基板2,3の内部および外側表面にある導体パターン21,31が互いに接続されている。
【0028】
図1に示した配線基板101において、配線回路は、主として熱可塑性樹脂であるポリエーテルエーテルケトン/ポリエーテルイミド混合物からなる樹脂基板2,3に形成される。ポリエーテルエーテルケトン/ポリエーテルイミド混合物からなる樹脂基板2,3は、絶縁性能に優れ、容易に多層構造の配線回路を形成することができ、形成される配線回路の配線密度および設計自由度を高くすることができる。このような樹脂基板2の材料としては、ポリエーテルエーテルケトン/ポリエーテルイミド混合物以外に、液晶ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンサルファイドのいずれかが好ましい。これらの熱可塑性樹脂は、高密度の配線回路を形成することのできる基板材料として、十分な絶縁性能と製造容易性を有している。
【0029】
ガラス繊維含有ポリイミド材からなる支持基板1にも、導体パターン8,9や接続導体7からなる配線回路が形成されているが、支持基板1は、主として配線基板101の剛性を確保する役割を持つ。このような支持基板1の材料としては、ガラス繊維含有ポリイミド材以外に、ガラス繊維含有エポキシ材、ガラス繊維含有BTレジン材が好ましい。また、フィラ(補強材)としてガラス繊維ではなく非導電性のアラミド繊維やセラミック粒子を用いた、アラミド繊維含有エポキシ材、アラミド繊維含有BTレジン材、アラミド繊維含有ポリイミド材、セラミック粒子含有エポキシ材、セラミック粒子含有BTレジン材、セラミック粒子含有ポリイミド材であってもよい。さらに、支持基板1の材料として、上記のように非導電性のフィラを含有した樹脂材料ではなく、単独のセラミック材であってもよい。これらの絶縁性の材料は、単独でプリント回路板として利用されており、熱可塑の樹脂基板2を支持する支持基板1の材料として、十分な強度と剛性を有している。従って、この支持基板1によって樹脂基板2が支持された配線基板101についても、十分な剛性を確保することができる。
【0030】
図1に示すように、配線基板101においては支持基板1の両面に樹脂基板2,3が積層されている。これによって、支持基板1の片面のみに樹脂基板2もしくは3が積層される場合に較べて、支持基板1と樹脂基板2,3の材料の違いによる‘そり’を低減することができる。
【0031】
前述のように、配線回路は主として樹脂基板2,3に形成されるが、図1に示す配線基板101においては、支持基板1にも配線回路が形成され、支持基板1の導体パターン8,9と樹脂基板2,3の導体パターン21,31とが、導電性組成物23,33により互いに接続されている。このように、図1に示す配線基板101においては、樹脂基板2,3の配線回路だけでなく支持基板1に形成された配線回路も利用して、形成される配線回路の配線密度および設計自由度を高くしている。また、支持基板1の両面に樹脂基板2,3を積層することで、これによっても、片面のみに樹脂基板2もしくは3が積層される場合に較べて、配線密度および設計自由度を高くしている。
【0032】
次に、図1に示す配線基板101の製造方法を、図2(a)〜(f)と図3(a),(b)に示す工程別断面図を用いて説明する。
【0033】
最初に、図2(a)に示すように、配線基板101を構成する支持基板1を準備する。支持基板1は、前述のガラス繊維含有ポリイミド材からなる。支持基板1は、他にも前述のように絶縁性で剛性を有する各種材料をもちいることができるが、製造方法は公知であり詳細説明は省略する。支持基板1は、単独でプリント回路板として用いられているものを利用することができ、エッチング等の公知の方法を用いて、表面に導体パターン8,9を形成する。このようにして、導体パターン8,9およびスルーホール5の接続導体7で、支持基板1に所定の配線回路を形成する。尚、支持基板1は樹脂基板と積層されて後述するように加熱加圧工程を経るため、スルーホール5は充填樹脂6が埋め込まれたものが望ましい。
【0034】
次に、図2(b)〜(e)に示す工程を用いて、図1の配線基板101を構成する樹脂基板2,3の製造準備をする。
【0035】
最初に、図2(b)に示すように、熱可塑性の樹脂フィルム40の片面に、銅からなる導体箔41を貼り付けた樹脂基板4を準備する。樹脂フィルム40はポリエーテルエーテルケトン/ポリエーテルイミド混合物で、組成比が、ポリエーテルエーテルケトン65〜35重量%、ポリエーテルイミド35〜65重量%で、厚さが25〜75μmのものを用いる。樹脂フィルム40の材料は、他にも前述の図1における樹脂基板2,3の説明で示したような各種熱可塑性樹脂を用いることができるが、後述する製造方法は、これらの材料に対して同様に適用することができる。導体箔41は、銅箔以外にアルミニウム等の他の金属箔を用いてもよい。導体箔41は、厚さは10〜40μmが好ましい。
【0036】
次に、図2(c)に示すように、図2(b)の導体箔41を選択的にエッチングして、導体パターン41に加工する。
【0037】
次に、図2(d)に示すように、導体パターン41を底面とする有底孔44を形成する。有底孔44の形成は、図2(c)の樹脂基板4を反転し、樹脂フィルム40に上方より炭酸ガスレーザを照射して行なう。有底孔44の形成にあたっては、炭酸ガスレーザの出力と照射時間等を調整することで、導体パターン41に穴を開けないようにする。有底孔44の形成には、炭酸ガスレーザ以外にエキシマレーザ等を用いることもできる。有底孔44の直径は、約100μmである。有底孔44の直径は、20〜200μmが好ましい。
【0038】
次に、図2(e)に示すように、有底孔44内に導電ペースト42を充填する。導電ペースト42は、導電性フィラとして銀とスズの金属粒子を用い、有機溶剤であるテルピネオールとエチルセルロース樹脂とをミキサーによって混練してペースト化したものである。導電性フィラとしては、銀とスズの他に、銅、金、白金、パラジウム、ニッケル等の金属粒子を用いることができる。導電ペースト42の粘性は、樹脂基板4の向きを任意に変えても落下しない程度に設定する。導電ペースト42の充填は、図2(d)の樹脂基板4を反転して導体パターン41を底面とし、充填装置により有底孔44内に充填する。有底孔44内への導電ペースト42の充填は、スクリーン印刷機等を用いても良い。有底孔44内への導電ペースト42を充填した後、100〜150℃で約10分間加熱することにより、導電ペースト42のテルピネオールを蒸発させて、導電ペースト42を乾燥する。
【0039】
以上で、熱可塑性の樹脂フィルム40上に導体パターン41が形成され、導体パターン41を底面とする有底孔44内に導電ペースト42が充填された樹脂基板4の準備が完了する。
【0040】
次に図2(f)に示すように、図2(a)の工程で準備した支持基板1の両側に、図2(a)〜(e)の工程で準備した樹脂基板45,46および樹脂基板47,48を積層配置する。この積層配置にあたっては、例えば図2(f)に示す樹脂基板45の導電ペースト42が、樹脂基板46の導体パターン41の所定位置に対向するように設定される。また同様にして、例えば図2(f)に示す樹脂基板47の導電ペースト42が、支持基板1の導体パターン8の所定位置に対向するように設定される。
【0041】
次に、図3(a)に示すように、積層配置した支持基板1と樹脂基板45,46,47,48を、付着防止フィルム51、緩衝材52、金属板53を介してヒータ55が埋設された一対の熱プレス板54の間に挿入し、加熱・加圧してこれらを貼り合わせる。付着防止フィルム51は、加熱・加圧時の樹脂基板45,48の樹脂フィルムが周りの部材へ付着したり、樹脂基板45,48の樹脂フィルムと導体パターンに傷がついたりするのを防止するもので、例えば熱硬化したポリイミドフィルム等が用いられる。緩衝材52は、銅箔パターンによって凹凸のある支持基板1および樹脂基板45,46,47,48に均一に圧力を加えるためにあり、付着防止フィルム51と金属板53の間に挿入される。緩衝材52は、例えばステンレス等の金属を繊維状に裁断し、その繊維状金属を厚さ約1mmの板状に成型したものが用いられる。金属板53は、熱プレス板54に傷が入るのを防止するためのもので、例えばステンレス(SUS)やチタン(Ti)の厚さ約2mmの板が用いられる。
【0042】
支持基板1と樹脂基板45,46,47,48の積層体および上記の各プレス部材を配置した後、最初にヒータ55を発熱し、圧力を印加しない状態で全体を200℃で5分間加熱する。次に、図示しないプレス機により熱プレス板54を介して、支持基板1と樹脂基板45,46,47,48の積層体に1〜10MPaの圧力を印加する。次に、全体の温度を250〜350℃に設定し、10〜20分間、加熱・加圧する。加熱・加圧は大気中で行なってもよいが、導体パターンの酸化を抑制するため、好ましくは真空中で行なうのがよい。
【0043】
以上の加熱・加圧により、図3(b)に示すように、隣接する樹脂基板45,46および樹脂基板47,48樹脂フィルム11が融着して一体化して、それぞれ、樹脂基板2および樹脂基板3となり、支持基板1に接着する。また、図3(a)の導電ペースト42の銀の粒子とスズの粒子とが合金化して、焼結した導電性組成物22,23,32,33が形成され、これらにより導体パターン21,31,8,9が接続される。
【0044】
以上の支持基板1と樹脂基板2,3で構成される配線基板101の製造方法においては、支持基板1と樹脂基板45,46,47,48の接着、および導電ペースト42の焼結による配線回路の形成を同時に行なうことができる。従って、配線基板の製造リードタイムを低減することができる。
【0045】
得られる配線基板101は支持基板1を有するため剛性が確保されており、樹脂基板45,46,47,48の積層枚数を任意に設定できるため、設計の自由度が高い。また、樹脂基板の積層枚数を増やすことで、配線密度の高い配線基板を、容易に製造することができる。
【0046】
(第2の実施形態)
第1の実施形態では、補強材を含有した樹脂材料もしくは単独のセラミック材からなる支持基板と、熱可塑性樹脂からなる樹脂基板とが積層されてなる配線基板およびその製造方法を示した。第2の実施形態は、メタルコア材からなる支持基板に熱可塑性樹脂からなる樹脂基板が積層された配線基板およびその製造方法に関する。
【0047】
図4は、本実施形態の配線基板102の断面模式図である。
【0048】
図4に示す配線基板102は、メタルコア材からなる支持基板10の両面に樹脂基板2,3が積層された配線基板である。尚、第1実施形態の図1に示す配線基板101と同様の部分については同じ符号を付け、その説明は省略する。
【0049】
図4の配線基板102において、絶縁性の支持基板10は、メタルコア11をガラスもしくは樹脂による被覆層12で被覆したメタルコア材からなる。メタルコア材からなる支持基板10においても、両側の表面に導体パターン8,9が形成され、接続導体7によって導体パターン8,9が電気的に接続されている。
【0050】
メタルコア材からなる支持基板10は十分な強度と剛性を有しており、主として、図4に示す配線基板102の剛性を確保する役割を持つ。このメタルコア材からなる支持基板10を用いた配線基板102の効果については、前記の第1実施形態の場合と同様であるので、詳細説明は省略する。また、配線基板102の製造方法とその効果についても、前記の第1実施形態の場合と同様であるので、その説明は省略する。
【0051】
(他の実施形態)
前記の第1実施形態においては、支持基板の両側に2枚ずつ熱可塑性の樹脂フィルムからなる樹脂基板を積層して配線基板を形成したが、積層枚数は任意であり、3枚以上であってもよいし、1枚であってもよい。また、支持基板の両側ではなく、支持基板の片側のみに樹脂基板を積層した配線基板であってもよい。
【0052】
前記の第1実施形態においては、配線基板の配線回路は、支持基板と樹脂基板の導体パターン、支持基板に設けられたスルーホールの接続導体、および樹脂基板に設けられたビアホールの導電性組成物で構成する例を示した。配線基板の配線回路はこれに限らず、例えば、支持基板と樹脂基板を貫通するスルーホールを設けることも可能である。一方、支持基板にスルーホールを形成しないものであってもよい。また、支持基板は、表面だけでなく内部にも導体パターンを有する3層以上の多層基板であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態における配線基板の断面模式図である。
【図2】(a)〜(f)は、本発明の第1実施形態における配線基板の製造方法を示す工程別断面図である。
【図3】(a),(b)は、本発明の第1実施形態における配線基板の製造方法を示す工程別断面図である。
【図4】本発明の第2実施形態における配線基板の断面模式図である。
【符号の説明】
101,102 配線基板
1,10 支持基板
2,3,4,45,46,47,48 樹脂基板
8,9,21,31,41 導体パターン
22,23,32,33 導電性組成物
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a wiring board and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a wiring board having rigidity, high wiring density and a high degree of design freedom, and a short manufacturing lead time, and a method of manufacturing the same.
[0002]
[Prior art]
As a wiring board having a high wiring density and a high degree of design freedom and a short manufacturing lead time, and a method for manufacturing the same, there is known a wiring board and a method for manufacturing the same disclosed in JP-A-2000-38464.
[0003]
According to the method of manufacturing a wiring board disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-38464, first, a copper foil is attached to the surface of a resin film made of a thermoplastic resin, and a conductive pattern is formed by selective etching. . Next, a bottomed hole having a conductive pattern as a bottom surface is formed in the resin film, and the bottomed hole is filled with a conductive paste. Then, after laminating a plurality of resin films prepared as described above, pressure is applied while heating at a predetermined temperature and pressure. As a result, the adjacent resin films are fused and integrated, and the conductive paste is sintered to connect the plurality of conductor patterns.
[0004]
[Patent Document 1] Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-38464
[Problems to be solved by the invention]
In the method of manufacturing a wiring board disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-38464, a large number of resin films are bonded together and a wiring circuit is formed at the same time. Short production lead time.
[0006]
On the other hand, the wiring board disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-38464 has a structure in which the resin film is made of a thin thermoplastic resin. Cannot secure the rigidity.
[0007]
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a wiring board and a method of manufacturing the wiring board, which have a high wiring density and a high degree of design freedom, have a short manufacturing lead time, and can secure rigidity.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
The invention according to claim 1 is a wiring board formed by laminating an insulating support substrate for securing rigidity and a resin substrate on which a wiring circuit is formed, wherein the resin substrate is made of a thermoplastic resin. It is characterized by consisting of.
[0009]
According to this, the rigidity of the wiring board is ensured by the insulating support substrate forming the wiring board, and the wiring density and the design of the wiring circuit formed on the resin substrate made of the thermoplastic resin forming the wiring board are ensured. The degree of freedom can be increased.
[0010]
According to a second aspect of the present invention, a wiring circuit is formed on the support substrate, and the wiring circuit and the wiring circuit of the resin substrate are connected to each other by a conductive composition formed in a through hole of the resin substrate. It is characterized by.
[0011]
According to this, not only the wiring circuit formed on the resin substrate but also the wiring circuit formed on the supporting substrate can be used as the wiring circuit formed on the wiring board, and the wiring density and design flexibility of the formed wiring circuit can be utilized. Can be higher.
[0012]
The invention according to claim 3 is characterized in that a resin substrate is laminated on both surfaces of the support substrate.
[0013]
According to this, since the resin substrate is laminated on both surfaces of the support substrate, it is possible to reduce 'warpage' due to a difference in material between the support substrate and the resin substrate. Further, since both surfaces of the support substrate are used for the wiring circuit, the wiring density and the degree of freedom of design of the wiring circuit can be further increased.
[0014]
As described in claim 4, the support substrate is made of a glass fiber-containing epoxy material, a glass fiber-containing BT resin material, a glass fiber-containing polyimide material, an aramid fiber-containing epoxy material, an aramid fiber-containing BT resin material, and an aramid fiber-containing polyimide material. , A ceramic particle-containing epoxy material, a ceramic particle-containing BT resin material, a ceramic particle-containing polyimide material, a ceramic material, or a metal core material. These materials have sufficient strength as a support substrate material for supporting a thermoplastic resin substrate, and thereby, it is possible to secure sufficient strength of a wiring board composed of the resin substrate and the support substrate. .
[0015]
As described in claim 5, the thermoplastic resin is preferably any of a liquid crystal polymer, polyether ether ketone, a polyether ether ketone / polyetherimide mixture, and polyphenylene sulfide. These materials have sufficient insulation performance and manufacturing easiness as a thermoplastic resin substrate material capable of forming a high-density wiring circuit.
[0016]
The invention according to claims 6 to 8 relates to a method for manufacturing the above-mentioned wiring board.
[0017]
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a wiring board, comprising: an insulating support substrate for securing rigidity; and a thermoplastic resin substrate on which a wiring circuit is formed. Forming a conductor pattern of the wiring circuit on the resin film, forming a bottomed hole having the conductor pattern as a bottom surface in the resin film, and filling a conductive paste in the bottomed hole with a resin substrate preparing step; A laminating step of laminating and disposing the support substrate and the resin substrate, and by applying pressure while heating the laminated and arranged support substrate and the resin substrate, while adhering to each other and sintering the conductive paste, And a heating and pressurizing step for forming a wiring circuit.
[0018]
According to this, in the method for manufacturing a wiring board composed of the support substrate and the resin substrate, the bonding of the support substrate and the resin substrate and the formation of a wiring circuit by sintering the conductive paste can be performed simultaneously, Manufacturing lead time can be reduced.
[0019]
The invention according to claim 7, wherein a plurality of the resin substrates are prepared, and in the laminating step, an opening of a bottomed hole in one of the plurality of resin substrates is connected to a conductor in the other resin substrate. It is characterized in that the patterns are stacked and arranged facing predetermined positions of the pattern.
[0020]
According to this, a plurality of resin substrates are laminated to form a multilayer, and the laminated plurality of resin substrates are bonded together by heating and pressing, and the conductive paste is sintered to form a conductive pattern of each resin substrate. Can be connected. This makes it possible to easily manufacture a wiring board having a high wiring density composed of a multilayer resin substrate.
[0021]
In the invention according to claim 8, a conductor pattern is formed on the surface of the support substrate, and in the laminating step, the opening of the bottomed hole in the resin substrate faces a predetermined position of the conductor pattern on the support substrate. It is characterized by being stacked.
[0022]
According to this, the support substrate on which the conductor pattern is formed is laminated with the resin substrate to form a multilayer, the support substrate and the resin substrate are bonded by heating and pressing, and the conductor pattern of the support substrate and the conductor pattern of the resin substrate are combined. The connection can be made by sintering the conductive paste. This makes it possible to easily manufacture a wiring board having a high wiring density using the conductor pattern of the support substrate as a wiring circuit.
[0023]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, a wiring board and a method of manufacturing the same according to the present invention will be described with reference to the drawings.
[0024]
(1st Embodiment)
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a wiring board 101 according to the first embodiment.
[0025]
A wiring board 101 shown in FIG. 1 is a wiring board in which resin substrates 2 and 3 are laminated on both surfaces of an insulating support substrate 1.
[0026]
The insulating support substrate 1 is made of a glass fiber-containing polyimide material in which glass fiber is impregnated with a polyimide resin, and has conductor patterns 8 and 9 on both surfaces. Through holes 5 are provided in the support substrate 1, and conductor patterns 8 and 9 are electrically connected by connection conductors 7 formed on the side wall surfaces of the through holes 5. A filling resin 6 is embedded in the through hole 5. The support substrate 1 has sufficient strength and rigidity, and is used alone as a printed circuit board.
[0027]
The insulating material of the resin substrates 2 and 3 laminated on both sides of the support substrate 1 is a polyetheretherketone / polyetherimide mixture which is a thermoplastic resin, with 65 to 35% by weight of polyetheretherketone and 35 to 35% of polyetherimide. It has a composition ratio of 65% by weight. The thickness of the resin substrates 2 and 3 is 50 to 150 μm. Conductive patterns (21, 31) are formed on the inner and outer surfaces of the resin substrates (2, 3), and the conductive compositions (22, 32) filled in the via holes (24, 34) are used to form conductors on the inner and outer surfaces of the resin substrates (2, 3). Patterns 21 and 31 are connected to each other.
[0028]
In the wiring board 101 shown in FIG. 1, a wiring circuit is formed on resin substrates 2 and 3 mainly made of a polyetheretherketone / polyetherimide mixture which is a thermoplastic resin. The resin substrates 2 and 3 made of a polyetheretherketone / polyetherimide mixture are excellent in insulation performance, can easily form a wiring circuit having a multilayer structure, and can reduce the wiring density and design freedom of the formed wiring circuit. Can be higher. As a material for such a resin substrate 2, in addition to the polyetheretherketone / polyetherimide mixture, any one of a liquid crystal polymer, polyetheretherketone, and polyphenylenesulfide is preferable. These thermoplastic resins have sufficient insulation performance and manufacturing easiness as a substrate material capable of forming a high-density wiring circuit.
[0029]
A wiring circuit composed of the conductor patterns 8, 9 and the connection conductors 7 is also formed on the support substrate 1 made of a glass fiber-containing polyimide material. The support substrate 1 mainly has a role of securing the rigidity of the wiring substrate 101. . As a material of such a support substrate 1, a glass fiber-containing epoxy material and a glass fiber-containing BT resin material are preferable in addition to the glass fiber-containing polyimide material. In addition, aramid fiber-containing epoxy material, aramid fiber-containing BT resin material, aramid fiber-containing polyimide material, ceramic particle-containing epoxy material using non-conductive aramid fiber or ceramic particles instead of glass fiber as a filler (reinforcing material), A ceramic particle-containing BT resin material or a ceramic particle-containing polyimide material may be used. Further, the material of the support substrate 1 may be a single ceramic material instead of the resin material containing the non-conductive filler as described above. These insulating materials are used alone as a printed circuit board, and have sufficient strength and rigidity as the material of the support substrate 1 that supports the thermoplastic resin substrate 2. Therefore, sufficient rigidity can be ensured even for the wiring substrate 101 on which the resin substrate 2 is supported by the support substrate 1.
[0030]
As shown in FIG. 1, in a wiring board 101, resin substrates 2 and 3 are laminated on both surfaces of a support substrate 1. Thereby, as compared with the case where the resin substrate 2 or 3 is laminated only on one side of the support substrate 1, it is possible to reduce the 'warpage' due to the difference in the materials of the support substrate 1 and the resin substrates 2 and 3.
[0031]
As described above, the wiring circuit is mainly formed on the resin substrates 2 and 3. However, in the wiring substrate 101 shown in FIG. 1, the wiring circuit is also formed on the support substrate 1, and the conductor patterns 8 and 9 of the support substrate 1 are formed. The conductive patterns 21 and 31 of the resin substrates 2 and 3 are connected to each other by conductive compositions 23 and 33. As described above, in the wiring board 101 shown in FIG. 1, not only the wiring circuits formed on the resin substrates 2 and 3 but also the wiring circuit formed on the support substrate 1 is used, and the wiring density and design freedom of the formed wiring circuit are increased. The degree is high. In addition, by laminating the resin substrates 2 and 3 on both surfaces of the support substrate 1, this also increases the wiring density and the degree of design freedom as compared with the case where the resin substrates 2 or 3 are laminated only on one surface. I have.
[0032]
Next, a method for manufacturing the wiring board 101 shown in FIG. 1 will be described with reference to FIGS. 2A to 2F and sectional views by steps shown in FIGS. 3A and 3B.
[0033]
First, as shown in FIG. 2A, a support substrate 1 constituting the wiring substrate 101 is prepared. The support substrate 1 is made of the above-mentioned glass fiber-containing polyimide material. The support substrate 1 may be made of various other materials having insulating properties and rigidity as described above. However, the manufacturing method is publicly known, and a detailed description thereof will be omitted. As the support substrate 1, a substrate used alone as a printed circuit board can be used, and the conductor patterns 8, 9 are formed on the surface by using a known method such as etching. Thus, a predetermined wiring circuit is formed on the support substrate 1 by the conductor patterns 8 and 9 and the connection conductor 7 of the through hole 5. Since the support substrate 1 is laminated with a resin substrate and undergoes a heating and pressurizing step as described later, it is desirable that the through hole 5 has a filling resin 6 embedded therein.
[0034]
Next, using the steps shown in FIGS. 2B to 2E, preparation for manufacturing the resin substrates 2 and 3 constituting the wiring board 101 of FIG. 1 is prepared.
[0035]
First, as shown in FIG. 2B, a resin substrate 4 is prepared in which a conductive foil 41 made of copper is adhered to one surface of a thermoplastic resin film 40. The resin film 40 is a mixture of polyetheretherketone / polyetherimide having a composition ratio of 65 to 35% by weight of polyetheretherketone, 35 to 65% by weight of polyetherimide, and a thickness of 25 to 75 μm. As the material of the resin film 40, various thermoplastic resins as described in the description of the resin substrates 2 and 3 in FIG. 1 can be used. The same can be applied. The conductor foil 41 may use other metal foil such as aluminum in addition to the copper foil. The conductor foil 41 preferably has a thickness of 10 to 40 μm.
[0036]
Next, as shown in FIG. 2C, the conductor foil 41 of FIG. 2B is selectively etched to be processed into a conductor pattern 41.
[0037]
Next, as shown in FIG. 2D, a bottomed hole 44 having the conductor pattern 41 as a bottom surface is formed. The formation of the bottomed hole 44 is performed by inverting the resin substrate 4 of FIG. 2C and irradiating the resin film 40 with a carbon dioxide laser from above. In forming the bottomed hole 44, the output of the carbon dioxide gas laser and the irradiation time are adjusted so that a hole is not formed in the conductor pattern 41. For forming the bottomed hole 44, an excimer laser or the like can be used other than the carbon dioxide gas laser. The diameter of the bottomed hole 44 is about 100 μm. The diameter of the bottomed hole 44 is preferably 20 to 200 μm.
[0038]
Next, as shown in FIG. 2E, the conductive paste 42 is filled in the bottomed hole 44. The conductive paste 42 is obtained by kneading terpineol, which is an organic solvent, and ethylcellulose resin with a mixer using a metal particle of silver and tin as a conductive filler, and forming the paste. As the conductive filler, metal particles such as copper, gold, platinum, palladium, and nickel can be used in addition to silver and tin. The viscosity of the conductive paste 42 is set such that the conductive paste 42 does not fall even if the direction of the resin substrate 4 is changed arbitrarily. The filling of the conductive paste 42 is performed by inverting the resin substrate 4 of FIG. The filling of the conductive paste 42 into the bottomed hole 44 may be performed using a screen printing machine or the like. After the conductive paste 42 is filled into the bottomed holes 44, the terpineol in the conductive paste 42 is evaporated by heating at 100 to 150 ° C. for about 10 minutes, and the conductive paste 42 is dried.
[0039]
Thus, the preparation of the resin substrate 4 in which the conductive pattern 41 is formed on the thermoplastic resin film 40 and the conductive paste 42 is filled in the bottomed hole 44 having the conductive pattern 41 as the bottom surface is completed.
[0040]
Next, as shown in FIG. 2F, on both sides of the support substrate 1 prepared in the step of FIG. 2A, the resin substrates 45 and 46 prepared in the steps of FIGS. The substrates 47 and 48 are stacked and arranged. In this lamination, for example, the conductive paste 42 of the resin substrate 45 shown in FIG. 2F is set so as to face a predetermined position of the conductor pattern 41 of the resin substrate 46. Similarly, for example, the conductive paste 42 of the resin substrate 47 shown in FIG. 2F is set so as to face a predetermined position of the conductive pattern 8 of the support substrate 1.
[0041]
Next, as shown in FIG. 3A, a heater 55 is buried between the support substrate 1 and the resin substrates 45, 46, 47, 48, which are stacked and arranged, via an adhesion preventing film 51, a buffer material 52, and a metal plate 53. It is inserted between a pair of hot press plates 54 thus formed, and is heated and pressed to bond them. The adhesion preventing film 51 prevents the resin films of the resin substrates 45 and 48 from adhering to surrounding members during heating and pressurizing, and prevents the resin films and the conductor patterns of the resin substrates 45 and 48 from being damaged. For example, a thermosetting polyimide film or the like is used. The cushioning material 52 is provided for uniformly applying pressure to the support substrate 1 and the resin substrates 45, 46, 47, 48 having unevenness by the copper foil pattern, and is inserted between the adhesion preventing film 51 and the metal plate 53. As the cushioning material 52, a material obtained by cutting a metal such as stainless steel into a fibrous shape and shaping the fibrous metal into a plate shape having a thickness of about 1 mm is used. The metal plate 53 is for preventing the hot press plate 54 from being scratched. For example, a plate of stainless steel (SUS) or titanium (Ti) having a thickness of about 2 mm is used.
[0042]
After disposing the laminate of the support substrate 1 and the resin substrates 45, 46, 47, and 48 and the above-described press members, the heater 55 is first heated, and the whole is heated at 200 ° C. for 5 minutes without applying pressure. . Next, a pressure of 1 to 10 MPa is applied to the laminated body of the support substrate 1 and the resin substrates 45, 46, 47 and 48 via a hot press plate 54 by a press machine (not shown). Next, the entire temperature is set to 250 to 350 ° C., and heating and pressing are performed for 10 to 20 minutes. Heating and pressurizing may be performed in the air, but are preferably performed in a vacuum in order to suppress oxidation of the conductor pattern.
[0043]
By the above-mentioned heating and pressurization, as shown in FIG. 3B, the adjacent resin substrates 45 and 46 and the resin substrates 47 and 48 are fused and integrated, and the resin substrate 2 and the resin It becomes the substrate 3 and adheres to the support substrate 1. Further, silver particles and tin particles of the conductive paste 42 of FIG. 3A are alloyed to form sintered conductive compositions 22, 23, 32, and 33, and these are used to form the conductive patterns 21, 31. , 8, 9 are connected.
[0044]
In the above-described method of manufacturing the wiring board 101 including the support substrate 1 and the resin substrates 2 and 3, the wiring circuit is formed by bonding the support substrate 1 and the resin substrates 45, 46, 47, and 48, and sintering the conductive paste 42. Can be formed simultaneously. Therefore, the production lead time of the wiring board can be reduced.
[0045]
Since the obtained wiring board 101 has the supporting substrate 1, the rigidity is secured, and the number of laminated resin substrates 45, 46, 47, 48 can be arbitrarily set, so that the degree of freedom in design is high. Further, by increasing the number of laminated resin substrates, a wiring substrate having a high wiring density can be easily manufactured.
[0046]
(Second embodiment)
In the first embodiment, a wiring board formed by laminating a support substrate made of a resin material containing a reinforcing material or a single ceramic material and a resin substrate made of a thermoplastic resin, and a method of manufacturing the same are described. The second embodiment relates to a wiring substrate in which a resin substrate made of a thermoplastic resin is laminated on a support substrate made of a metal core material, and a method of manufacturing the same.
[0047]
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of the wiring board 102 of the present embodiment.
[0048]
The wiring substrate 102 shown in FIG. 4 is a wiring substrate in which resin substrates 2 and 3 are laminated on both surfaces of a support substrate 10 made of a metal core material. The same parts as those of the wiring board 101 of the first embodiment shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.
[0049]
In the wiring board 102 of FIG. 4, the insulating support substrate 10 is made of a metal core material in which a metal core 11 is covered with a coating layer 12 of glass or resin. Also in the supporting substrate 10 made of a metal core material, the conductor patterns 8 and 9 are formed on both surfaces, and the conductor patterns 8 and 9 are electrically connected by the connection conductor 7.
[0050]
The support substrate 10 made of a metal core material has sufficient strength and rigidity, and mainly has a role of securing the rigidity of the wiring substrate 102 shown in FIG. The effect of the wiring board 102 using the supporting substrate 10 made of the metal core material is the same as that of the first embodiment, and thus the detailed description is omitted. Also, the method of manufacturing the wiring board 102 and the effects thereof are the same as those in the first embodiment, and a description thereof will be omitted.
[0051]
(Other embodiments)
In the first embodiment, the wiring substrate is formed by laminating two resin substrates each made of a thermoplastic resin film on both sides of the support substrate, but the number of laminations is arbitrary, and three or more Or one sheet. Further, a wiring board in which a resin substrate is laminated only on one side of the support substrate, not on both sides of the support substrate, may be used.
[0052]
In the first embodiment, the wiring circuit of the wiring board includes a conductive pattern of the supporting substrate and the resin substrate, a connecting conductor of a through hole provided in the supporting substrate, and a conductive composition of a via hole provided in the resin substrate. The example shown in FIG. The wiring circuit of the wiring board is not limited to this. For example, it is also possible to provide a through-hole penetrating the support substrate and the resin substrate. On the other hand, the through-hole may not be formed in the supporting substrate. Further, the support substrate may be a multilayer substrate of three or more layers having a conductor pattern on the inside as well as the surface.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a wiring board according to a first embodiment of the present invention.
FIGS. 2A to 2F are cross-sectional views illustrating steps in a method for manufacturing a wiring board according to the first embodiment of the present invention.
FIGS. 3A and 3B are cross-sectional views illustrating a method for manufacturing a wiring board according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a schematic sectional view of a wiring board according to a second embodiment of the present invention.
[Explanation of symbols]
101,102 Wiring substrate 1,10 Support substrate 2,3,4,45,46,47,48 Resin substrate 8,9,21,31,41 Conductive pattern 22,23,32,33 Conductive composition

Claims (8)

剛性を確保するための絶縁性の支持基板と、配線回路が形成された樹脂基板とが積層されてなる配線基板であって、
前記樹脂基板は、熱可塑性樹脂からなることを特徴とする配線基板。
An insulating support substrate for securing rigidity, a wiring substrate formed by laminating a resin substrate on which a wiring circuit is formed,
The wiring board, wherein the resin board is made of a thermoplastic resin.
前記支持基板に配線回路が形成され、当該配線回路と前記樹脂基板の配線回路とが、前記樹脂基板の貫通孔に形成された導電性組成物により互いに接続されてなることを特徴とする請求項1に記載の配線基板。A wiring circuit is formed on the support substrate, and the wiring circuit and the wiring circuit of the resin substrate are connected to each other by a conductive composition formed in a through hole of the resin substrate. 2. The wiring board according to 1. 前記樹脂基板が、前記支持基板の両面に積層されることを特徴とする請求項1または2に記載の配線基板。The wiring substrate according to claim 1, wherein the resin substrate is laminated on both surfaces of the support substrate. 前記支持基板が、ガラス繊維含有エポキシ材、ガラス繊維含有BTレジン材、ガラス繊維含有ポリイミド材、アラミド繊維含有エポキシ材、アラミド繊維含有BTレジン材、アラミド繊維含有ポリイミド材、セラミック粒子含有エポキシ材、セラミック粒子含有BTレジン材、セラミック粒子含有ポリイミド材、セラミック材、メタルコア材のいずれかからなることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の配線基板。The support substrate is a glass fiber-containing epoxy material, a glass fiber-containing BT resin material, a glass fiber-containing polyimide material, an aramid fiber-containing epoxy material, an aramid fiber-containing BT resin material, an aramid fiber-containing polyimide material, a ceramic particle-containing epoxy material, and ceramic. The wiring board according to any one of claims 1 to 3, wherein the wiring board is made of any one of a particle-containing BT resin material, a ceramic particle-containing polyimide material, a ceramic material, and a metal core material. 前記熱可塑性樹脂が、液晶ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン/ポリエーテルイミド混合物、ポリフェニレンサルファイドのいずれかであることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の配線基板。The wiring according to any one of claims 1 to 4, wherein the thermoplastic resin is any one of a liquid crystal polymer, polyether ether ketone, a polyether ether ketone / polyetherimide mixture, and polyphenylene sulfide. substrate. 剛性を確保するための絶縁性の支持基板と、配線回路が形成された熱可塑性の樹脂基板とが積層されてなる配線基板の製造方法であって、
熱可塑性の樹脂フィルム上に前記配線回路の導体パターンを形成し、当該導体パターンを底面とする有底孔を前記樹脂フィルムに形成し、当該有底孔内に導電ペーストを充填する樹脂基板の準備工程と、
前記支持基板と前記樹脂基板を積層配置する積層工程と、
前記積層配置された支持基板と樹脂基板を加熱しつつ加圧することにより、相互に接着すると共に、前記導電ペーストを焼結して前記配線回路を形成する加熱加圧工程とを有することを特徴とする配線基板の製造方法。
An insulating support substrate for securing rigidity, and a method for manufacturing a wiring board formed by laminating a thermoplastic resin substrate on which a wiring circuit is formed,
Preparation of a resin substrate for forming a conductor pattern of the wiring circuit on a thermoplastic resin film, forming a bottomed hole having the conductor pattern as a bottom surface in the resin film, and filling the bottomed hole with a conductive paste. Process and
A laminating step of laminating and disposing the support substrate and the resin substrate,
A heating and pressurizing step of forming the wiring circuit by sintering the conductive paste while applying pressure while heating the support substrate and the resin substrate arranged in a stack. Method of manufacturing a wiring board.
前記樹脂基板を複数枚準備し、前記積層工程において、前記複数枚の樹脂基板うち、一方の樹脂基板における有底孔の開口部を、他方の樹脂基板における導体パターンの所定位置に対向して積層配置することを特徴とする請求項6に記載の配線基板の製造方法。A plurality of the resin substrates are prepared, and in the laminating step, the opening of the bottomed hole in one of the plurality of resin substrates is laminated so as to face a predetermined position of the conductor pattern on the other resin substrate. The method according to claim 6, wherein the wiring board is arranged. 前記支持基板の表面に導体パターンが形成され、前記積層工程において、前記樹脂基板における有底孔の開口部を、支持基板における導体パターンの所定位置に対向して積層配置することを特徴とする請求項6または7に記載の配線基板の製造方法。A conductor pattern is formed on a surface of the support substrate, and in the laminating step, an opening of the bottomed hole in the resin substrate is laminated and arranged facing a predetermined position of the conductor pattern on the support substrate. Item 8. The method for manufacturing a wiring board according to item 6 or 7.
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