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JP2010251978A - Method of manufacturing composite piezoelectric substrate and composite piezoelectric substrate - Google Patents

Method of manufacturing composite piezoelectric substrate and composite piezoelectric substrate Download PDF

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JP2010251978A
JP2010251978A JP2009098228A JP2009098228A JP2010251978A JP 2010251978 A JP2010251978 A JP 2010251978A JP 2009098228 A JP2009098228 A JP 2009098228A JP 2009098228 A JP2009098228 A JP 2009098228A JP 2010251978 A JP2010251978 A JP 2010251978A
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piezoelectric substrate
adhesive
composite piezoelectric
temperature
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JP2009098228A
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Atsushi Abe
淳 阿部
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Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Abstract

【課題】圧電基板と絶縁体基板とが接着剤を介して貼り合わされた複合化された圧電基板の製造方法において、安価な絶縁体基板を用いたとしても熱処理後のソリの量が小さく、かつソリの大きさのバラツキが小さく安定している複合化された圧電基板の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、圧電基板と絶縁体基板のどちらか一方の主表面に接着剤を塗布する第1の工程と、前記接着剤を介して前記圧電基板と前記絶縁体基板とをお互いに貼り合わせる第2の工程と、前記貼り合わせた基板の温度を25±5℃となるように制御して、前記接着剤に紫外光を照射して該接着剤を硬化させる第3の工程と、前記貼り合わせた基板を所望の厚さまで研削する第4の工程と、該研削後の貼り合わせた基板を加熱して前記接着剤を完全に硬化させる第5の工程と、を具備することを特徴とする複合化された圧電基板の製造方法。
【選択図】図1
In a method of manufacturing a composite piezoelectric substrate in which a piezoelectric substrate and an insulating substrate are bonded together with an adhesive, the amount of warping after heat treatment is small even if an inexpensive insulating substrate is used, and Provided is a method for manufacturing a composite piezoelectric substrate in which variation in warp size is small and stable.
A first step of applying an adhesive to at least one of the main surfaces of the piezoelectric substrate and the insulator substrate; and bonding the piezoelectric substrate and the insulator substrate to each other via the adhesive. A second step of combining, a third step of controlling the temperature of the bonded substrates to be 25 ± 5 ° C., and irradiating the adhesive with ultraviolet light to cure the adhesive; A fourth step of grinding the bonded substrates to a desired thickness, and a fifth step of heating the bonded substrates after the grinding to completely cure the adhesive. A method for manufacturing a composite piezoelectric substrate.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、複合化された圧電基板(以下複合圧電基板とも表記)の製造方法に関するものであり、特に弾性表面波デバイス等に用いられる複合化された圧電基板の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method of manufacturing a composite piezoelectric substrate (hereinafter also referred to as a composite piezoelectric substrate), and more particularly to a method of manufacturing a composite piezoelectric substrate used for a surface acoustic wave device or the like.

携帯電話等の高周波通信において、周波数調整・選択用の部品として、例えば圧電基板上に弾性表面波を励起するための櫛形電極が形成された弾性表面波(Surface Acoustic Wave、SAW)デバイスが用いられる。   In a high-frequency communication such as a cellular phone, a surface acoustic wave (SAW) device in which a comb-shaped electrode for exciting a surface acoustic wave is formed on a piezoelectric substrate is used as a frequency adjustment / selection component. .

これに用いられる圧電基板材料は、電気信号から機械的振動への変換効率(以下、電気機械結合係数と記す)が極めて大きいこと、また櫛形電極の電極間隔と弾性波の音速により決まるフィルタ等の中心周波数が温度により変動しないことが求められる(以下、周波数温度特性と記す)。
すなわち、大きな電気機械結合係数と小さな周波数温度係数を兼ね備えた圧電基板が有れば好ましい。こうした特性を実現する圧電基板の一例として、圧電基板と他の基板を接合した複合圧電基板がある。
The piezoelectric substrate material used for this has a very high conversion efficiency (hereinafter referred to as an electromechanical coupling coefficient) from an electric signal to mechanical vibration, and a filter determined by the electrode interval of the comb-shaped electrodes and the acoustic velocity of the elastic wave. It is required that the center frequency does not vary with temperature (hereinafter referred to as frequency-temperature characteristics).
In other words, it is preferable to have a piezoelectric substrate having both a large electromechanical coupling coefficient and a small frequency temperature coefficient. An example of a piezoelectric substrate that realizes such characteristics is a composite piezoelectric substrate in which a piezoelectric substrate and another substrate are bonded.

このような複合圧電基板の一例として、特許文献1にはタンタル酸リチウム基板とサファイア基板との接合界面に、0.3nm以上2.5nm以下の厚みのアモルファスの接合領域を備えていることを特徴とする接合基板が開示されている。
具体的には、特許文献1に記載の接合基板では、接合領域の厚みは1.5nm以上であり、150℃で1時間保持した後のソリの量が概ね200μm以下となっている。
As an example of such a composite piezoelectric substrate, Patent Document 1 includes an amorphous junction region having a thickness of 0.3 nm to 2.5 nm at a junction interface between a lithium tantalate substrate and a sapphire substrate. A bonded substrate is disclosed.
Specifically, in the bonded substrate described in Patent Document 1, the thickness of the bonded region is 1.5 nm or more, and the amount of warp after being held at 150 ° C. for 1 hour is approximately 200 μm or less.

特許公報3929983号公報Japanese Patent Publication No. 3929983

ここで、複合圧電基板に求められる重要な特性として、熱処理後の反り増加量が少ないことがある。
これは、SAWデバイスの製造工程においては熱処理を施すことが必要とされる場合があり、かかる熱処理後に基板に反りが生じると、その後のダイシング工程などで複合圧電基板をステージに吸着させることが困難となり、生産性が大幅に低下するためである。
Here, as an important characteristic required for the composite piezoelectric substrate, there is a small increase in warpage after heat treatment.
This is because heat treatment may be required in the SAW device manufacturing process, and if the substrate warps after such heat treatment, it is difficult to adsorb the composite piezoelectric substrate to the stage in a subsequent dicing process or the like. This is because productivity is greatly reduced.

しかし、前述の特許文献1に記載の発明では、支持基板としてサファイア基板を用いている。サファイア基板は線熱膨張係数が小さいため、熱処理時のソリは小さい。しかし高価なため、安価な複合圧電基板とならず、これはこれで問題があった。
そして、近年、更にソリを低減させた安価な複合圧電基板が求められていた。
However, in the invention described in Patent Document 1, a sapphire substrate is used as the support substrate. Since the sapphire substrate has a small coefficient of linear thermal expansion, the warp during heat treatment is small. However, since it is expensive, it is not an inexpensive composite piezoelectric substrate, which has a problem.
In recent years, there has been a demand for an inexpensive composite piezoelectric substrate that further reduces warpage.

本発明は、上記問題に鑑みなされたものであって、圧電基板と絶縁体基板とが接着剤を介して貼り合わされた複合化された圧電基板の製造方法において、安価な絶縁体基板を用いたとしても熱処理後のソリの量が小さく、かつソリの大きさのバラツキが小さく安定している複合化された圧電基板の製造方法とその製造方法によって製造された複合化された圧電基板を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and an inexpensive insulator substrate is used in a method of manufacturing a composite piezoelectric substrate in which a piezoelectric substrate and an insulator substrate are bonded together with an adhesive. A method for manufacturing a composite piezoelectric substrate having a small amount of warp after heat treatment and a small variation in warp size and being stable, and a composite piezoelectric substrate manufactured by the manufacturing method are provided. For the purpose.

上記課題を解決するため、本発明では、少なくとも、圧電基板と絶縁体基板のどちらか一方の主表面に接着剤を塗布する第1の工程と、前記接着剤を介して前記圧電基板と前記絶縁体基板とをお互いに貼り合わせる第2の工程と、前記貼り合わせた基板の温度を25±5℃となるように制御して、前記接着剤に紫外光を照射して該接着剤を硬化させる第3の工程と、前記貼り合わせた基板を所望の厚さまで研削する第4の工程と、該研削後の貼り合わせた基板を加熱して前記接着剤を完全に硬化させる第5の工程と、を具備することを特徴とする複合化された圧電基板の製造方法を提供する。   In order to solve the above-described problems, in the present invention, at least a first step of applying an adhesive to the main surface of one of the piezoelectric substrate and the insulator substrate, and the piezoelectric substrate and the insulation through the adhesive A second step of bonding the body substrates to each other, and controlling the temperature of the bonded substrates to be 25 ± 5 ° C., and irradiating the adhesive with ultraviolet light to cure the adhesive A third step, a fourth step of grinding the bonded substrates to a desired thickness, and a fifth step of completely curing the adhesive by heating the bonded substrates after the grinding, A method of manufacturing a composite piezoelectric substrate characterized by comprising:

このように、紫外光を照射して接着剤を硬化させる際に、貼り合わせた基板の基板温度を25±5℃と制御することによって、用いた基板の材質によらず作製する複合化された圧電基板のソリの量を従来に比べて小さなものとすることができる。   In this way, when the adhesive is cured by irradiating with ultraviolet light, the substrate temperature of the bonded substrates is controlled to 25 ± 5 ° C., so that the composite is produced regardless of the material of the substrate used. The amount of warping of the piezoelectric substrate can be made smaller than before.

ここで、前記第3の工程において、紫外光を照射する際の前記貼り合わせた基板の温度変化を±1℃以内となるように制御することが好ましい。
このように、紫外光を照射する際の貼り合わせた基板の温度変化を±1℃以内となるように制御することによって、作製する複合化された圧電基板のソリの量を従来に比べてより確実に小さなものとすることができる。
Here, in the third step, it is preferable to control the temperature change of the bonded substrates when irradiated with ultraviolet light to be within ± 1 ° C.
In this way, by controlling the temperature change of the bonded substrates when irradiated with ultraviolet light to be within ± 1 ° C., the amount of warpage of the composite piezoelectric substrate to be manufactured can be made more than before. It can be surely small.

また、前記第5の工程において、前記加熱前に、研削によって生じた研削歪層を除去することが好ましい。
このように、研削によって発生する欠陥を多く含む研削歪層を、接着剤を完全硬化させるための加熱処理前に除去することによって、所望の厚さを有し、且つソリの量が小さく、更に高品質の複合化された圧電基板を製造することができる。
In the fifth step, it is preferable to remove a grinding strain layer generated by grinding before the heating.
In this way, by removing the grinding strain layer containing many defects generated by grinding before the heat treatment for completely curing the adhesive, it has a desired thickness and a small amount of warpage. A high quality composite piezoelectric substrate can be manufactured.

そして、前記圧電基板を、LiTaO、LiNbOのいずれかからなるものとすることが好ましい。
このように、圧電基板を、LiTaO、LiNbOのいずれかからなるものとすることによって、電気機械結合係数が大きく、また複合化された圧電基板の効果により動作周波数の温度変動が抑制された安価な複合化された圧電基板を提供することができる。
The piezoelectric substrate is preferably made of LiTaO 3 or LiNbO 3 .
As described above, the piezoelectric substrate made of either LiTaO 3 or LiNbO 3 has a large electromechanical coupling coefficient, and the temperature fluctuation of the operating frequency is suppressed by the effect of the combined piezoelectric substrate. An inexpensive composite piezoelectric substrate can be provided.

更に、前記第5の工程を、前記貼り合わせた基板を加熱チャンバーに導入し、前記接着剤を完全硬化させる際の前記チャンバー内の温度を80℃以上とし、かつ前記貼り合わせた基板の基板の温度ムラを±1℃となるように制御することが好ましい。
このように、接着剤を硬化させるための加熱チャンバーの温度を80℃以上とすることによって、接着剤を確実に完全に硬化させることができる。また、貼り合わせた基板の基板の温度ムラを±1℃となるように制御して加熱・硬化させることによって、接着剤の硬化を更に確実に行うことができ、安定した複合化された圧電基板を製造することができる。
Further, in the fifth step, the bonded substrate is introduced into a heating chamber, the temperature in the chamber when the adhesive is completely cured is 80 ° C. or more, and the substrate of the bonded substrate is It is preferable to control the temperature unevenness to be ± 1 ° C.
Thus, the adhesive can be reliably cured completely by setting the temperature of the heating chamber for curing the adhesive to 80 ° C. or higher. In addition, by controlling the temperature unevenness of the bonded substrates to ± 1 ° C. and heating and curing, the adhesive can be cured more reliably, and a stable composite piezoelectric substrate Can be manufactured.

また、本発明では、本発明に記載の複合化された圧電基板の製造方法により製造された複合化された圧電基板であって、該基板温度が25±5℃の時のソリの値が100μm以下であることを特徴とする複合化された圧電基板を提供する。   According to the present invention, there is provided a composite piezoelectric substrate manufactured by the composite piezoelectric substrate manufacturing method according to the present invention, wherein the warp value when the substrate temperature is 25 ± 5 ° C. is 100 μm. Provided is a composite piezoelectric substrate characterized by the following.

上述のように、本発明の複合化された圧電基板の製造方法によれば、従来に比べてソリの小さい複合化された圧電基板を得ることができるため、このような本発明の複合化された圧電基板によって製造された複合化された圧電基板は、基板温度が25±5℃の時のソリの値が100μm以下と非常に小さなものとすることができる。   As described above, according to the composite piezoelectric substrate manufacturing method of the present invention, a composite piezoelectric substrate having a smaller warp than the conventional one can be obtained. The combined piezoelectric substrate manufactured by the piezoelectric substrate can have a very small warp value of 100 μm or less when the substrate temperature is 25 ± 5 ° C.

以上説明したように、本発明の複合化された圧電基板の製造方法によれば、そのソリの量が小さな複合化された圧電基板を、安定して歩留りよく製造することができる。また、ソリの量の小さい安価な複合化された圧電基板を得ることができる。   As described above, according to the composite piezoelectric substrate manufacturing method of the present invention, a composite piezoelectric substrate with a small amount of warpage can be manufactured stably and with high yield. In addition, an inexpensive composite piezoelectric substrate with a small amount of warp can be obtained.

本発明の複合化された圧電基板の概略の一例を示した図である。It is the figure which showed an example of the outline of the composite piezoelectric substrate of this invention. 接着剤硬化のための紫外光照射時の、貼り合わせた基板の基板温度と複合化された圧電基板のソリの量の関係を示した図である。It is the figure which showed the relationship between the board | substrate temperature of the bonded board | substrate at the time of ultraviolet light irradiation for adhesive agent hardening | curing, and the amount of warping of the composite piezoelectric substrate. 接着剤硬化のための紫外光照射時の貼り合わせた基板の基板温度を一定とした時の、貼り合わせた基板の温度の変化量と、複合化された圧電基板のソリの量の関係を示した図である。This shows the relationship between the amount of change in the temperature of the bonded substrate and the amount of warping in the composite piezoelectric substrate when the substrate temperature of the bonded substrate is fixed at the time of ultraviolet light irradiation for curing the adhesive. It is a figure.

以下、本発明についてより具体的に説明する。
前述のように、圧電基板と絶縁体基板とが接着剤を介して貼り合わされた複合化された圧電基板の製造方法において、安価な絶縁体基板を用いたとしても熱処理後のソリの量が小さく、かつソリの大きさのバラツキが小さく安定している複合化された圧電基板の製造方法とその製造方法によって製造された複合化された圧電基板の開発が待たれていた。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically.
As described above, in the method of manufacturing a composite piezoelectric substrate in which a piezoelectric substrate and an insulating substrate are bonded together with an adhesive, even if an inexpensive insulating substrate is used, the amount of warpage after heat treatment is small. In addition, there has been a demand for the development of a composite piezoelectric substrate having a small and stable variation in warp size and a composite piezoelectric substrate manufactured by the manufacturing method.

そこで、本発明者は、熱処理後にソリが大きくなる原因について鋭意検討を重ねた。   Therefore, the present inventor has intensively studied the cause of the warp becoming large after heat treatment.

その結果、圧電基板と絶縁体基板とを接着剤を介して貼り合わせて作製した複合化された圧電基板は、接着剤の硬化条件でソリの大きさが大きく変動してしまうことが判った。
そのため、接着剤の硬化条件を安定化させないと、出来上がった複合化された圧電基板のソリは大きなバラツキを持ったものとなってしまうばかりか、良好なソリを有するものが出来ないことも判った。
As a result, it has been found that the size of the warpage of the composite piezoelectric substrate produced by bonding the piezoelectric substrate and the insulating substrate through an adhesive greatly varies depending on the curing conditions of the adhesive.
Therefore, if the curing conditions of the adhesive are not stabilized, the warpage of the composite piezoelectric substrate that has been completed will not only have large variations, but it will also not be possible to have a good warp. .

そこで、ソリの大きさを小さくすることができ、またロット間でのバラツキの小さな複合化された圧電基板を歩留りよく製造するための接着剤硬化条件について鋭意検討を重ねた。
そして、本発明者は、紫外光を照射して接着剤を硬化させるときの貼り合わせた基板の基板温度及び温度変動について着目し、種々検討した。
In view of this, the inventors have intensively studied adhesive curing conditions for producing a composite piezoelectric substrate that can reduce the size of the warp and have a small variation between lots with a high yield.
And this inventor paid attention to the substrate temperature and temperature variation of the board | substrate bonded together when irradiating an ultraviolet light and hardening an adhesive agent, and examined variously.

その結果、図2に示すように、接着剤を硬化させる紫外光照射の際の圧電基板と絶縁体基板が貼り合わされた基板の基板温度を25±5℃とすることが重要であることを発見し、本発明を完成させた。   As a result, as shown in FIG. 2, it was discovered that it is important to set the substrate temperature of the substrate on which the piezoelectric substrate and the insulator substrate are bonded to each other at 25 ± 5 ° C. during the ultraviolet light irradiation for curing the adhesive. The present invention has been completed.

以下、本発明について図を参照して詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。図1は、本発明の複合化された圧電基板の概略の一例を示した図である。
本発明の複合化された圧電基板10は、少なくとも、圧電基板11と絶縁体基板12が接着剤13を介して貼り合わされたものであって、かつ複合化された圧電基板10は、その基板温度が25±5℃の時のソリの値が100μm以下となっているものである。
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings, but the present invention is not limited thereto. FIG. 1 is a view showing an example of a composite piezoelectric substrate of the present invention.
The composite piezoelectric substrate 10 of the present invention is obtained by bonding at least the piezoelectric substrate 11 and the insulator substrate 12 via the adhesive 13, and the composite piezoelectric substrate 10 has a substrate temperature. Is a warp value of 100 μm or less at 25 ± 5 ° C.

このように、基板温度が25±5℃の時のソリの値が100μm以下の複合化された圧電基板であれば、例えばSAWデバイスの製造工程等において、基板のソリによってハンドリングが困難となることを防止することができ、生産性が大幅に低下する問題を回避することができる。   In this way, if the piezoelectric substrate is a composite piezoelectric substrate having a warp value of 100 μm or less when the substrate temperature is 25 ± 5 ° C., for example, in the SAW device manufacturing process, handling becomes difficult due to the warpage of the substrate. Can be prevented, and the problem of a significant reduction in productivity can be avoided.

上記のような、本発明の複合化された圧電基板は、以下に示すような製造方法によって製造することができる。しかしもちろんこれに限定されるものではない。   The composite piezoelectric substrate of the present invention as described above can be manufactured by the following manufacturing method. However, of course, it is not limited to this.

まず、少なくとも、圧電基板と絶縁体基板を準備する。
この準備する圧電基板と絶縁体基板は、所望の物性値を有するものを準備することができるが、圧電基板は、LiTaO、LiNbOのいずれかからなるものとすることができる。また、本発明では準備する絶縁体基板としては、必ずしもサファイア基板のような高価なものを用いらなくともソリを小さくすることができる。
圧電基板が、LiTaO、LiNbOのいずれかからなるものであれば、これらは電気機械結合係数が大きい結晶材料なので、周波数選択フィルタとしての帯域幅が広く、また挿入損失が小さく、更に動作周波数の温度変動が抑制されたSAWデバイスが製造可能な複合化された圧電基板を製造することができる。
また、これらの圧電結晶材料からなる圧電基板は、例えばチョクラルスキー法でこれらの単結晶棒を育成し、これを所望の厚さにスライスすることによって高品質なものが得られる。また、基板方位についても、36°回転Yカット、42°回転Yカット、48°回転Yカット等、圧電性結晶材料の種類やSAWデバイスの用途、所望特性等に応じて適宜選択することができる。
First, at least a piezoelectric substrate and an insulator substrate are prepared.
As the prepared piezoelectric substrate and insulator substrate, those having desired physical properties can be prepared. However, the piezoelectric substrate can be made of either LiTaO 3 or LiNbO 3 . Further, in the present invention, the warp can be reduced without necessarily using an expensive substrate such as a sapphire substrate as the insulator substrate to be prepared.
If the piezoelectric substrate is made of LiTaO 3 or LiNbO 3 , these are crystalline materials having a large electromechanical coupling coefficient, so that the bandwidth as a frequency selection filter is wide, the insertion loss is small, and the operating frequency A composite piezoelectric substrate capable of manufacturing a SAW device in which the temperature fluctuation is suppressed can be manufactured.
In addition, a piezoelectric substrate made of these piezoelectric crystal materials can be obtained with a high quality by growing these single crystal rods by, for example, the Czochralski method and slicing them to a desired thickness. Also, the substrate orientation can be appropriately selected according to the type of piezoelectric crystal material, the use of the SAW device, desired characteristics, such as 36 ° rotation Y-cut, 42 ° rotation Y-cut, 48 ° rotation Y-cut, etc. .

そして第1の工程として、準備した圧電基板と絶縁体基板の少なくとも一方の主表面に、紫外線硬化型の接着剤を塗布する。
この紫外線硬化型の接着剤は、紫外線が照射されることで硬化するものであれば特に限定されないが、例えばエポキシメタクリレートを主成分とするものや、ジオキシ構造を持つエポキシ樹脂とすることができる。
またその塗布方法も一般的な方法を用いることができるが、例えばスピンコーティング等がある。
As a first step, an ultraviolet curable adhesive is applied to at least one main surface of the prepared piezoelectric substrate and insulator substrate.
The ultraviolet curable adhesive is not particularly limited as long as it is cured by being irradiated with ultraviolet rays. For example, an adhesive mainly composed of epoxy methacrylate or an epoxy resin having a dioxy structure can be used.
Moreover, although the general application | coating method can be used for the coating method, there exist spin coating etc., for example.

その後、第2の工程として、先に塗布した接着剤を介して、圧電基板と絶縁体基板を貼り合わせて、貼り合わせた基板とする。   Thereafter, as a second step, the piezoelectric substrate and the insulator substrate are bonded to each other via the previously applied adhesive to obtain a bonded substrate.

そして、第3の工程として、先に貼り合わせた基板の基板温度を25±5℃となるように制御して、接着剤に紫外光を照射して硬化させる。
このように、紫外光照射時の貼り合わせた基板の基板温度を25±5℃となるように制御することによって、接着剤を常温で硬化させることができ、ソリの小さな複合化された圧電基板を歩留り良く製造することが可能となる。
And as a 3rd process, the substrate temperature of the board | substrate bonded together is controlled so that it may become 25 +/- 5 degreeC, and an ultraviolet light is irradiated and hardened | cured to an adhesive agent.
In this way, by controlling the substrate temperature of the bonded substrates at the time of ultraviolet light irradiation to be 25 ± 5 ° C., the adhesive can be cured at room temperature, and a composite piezoelectric substrate with a small warp Can be manufactured with good yield.

ここで、貼り合わせた基板に紫外光を照射させて接着剤を硬化させる際、貼り合わせた基板やその周辺の冷却を行わないと、基板温度は室温から50℃以上(照度が強い場合100℃程度までに)も上昇してしまう。このため、本発明のように基板温度を25±5℃にするためには、紫外光の照射の際に、貼り合わせた基板の周辺を冷却して基板温度が25±5℃となるように制御することが求められる。このように、例えば80℃以上といった高温で接着剤を硬化させると、室温に戻った時にソリが生じることが判った。   Here, when the bonded substrate is irradiated with ultraviolet light to cure the adhesive, the substrate temperature is 50 ° C. or more from room temperature (100 ° C. when the illuminance is strong) unless the bonded substrate and its surroundings are cooled. To the extent). Therefore, in order to set the substrate temperature to 25 ± 5 ° C. as in the present invention, the periphery of the bonded substrates is cooled so that the substrate temperature becomes 25 ± 5 ° C. when irradiated with ultraviolet light. Control is required. Thus, it has been found that when the adhesive is cured at a high temperature such as 80 ° C. or higher, warping occurs when the temperature returns to room temperature.

図2に示すように、硬化させる際の基板の温度が25±5℃の範囲外であると、製造終了時に室温に戻った際に複合化された圧電基板のソリが大きくなってしまう。このため、紫外光照射時には、貼り合わせた基板の温度を25±5℃の間に入るように制御する必要がある。
ここで、図2は、紫外光照射時の貼り合わせた基板の基板温度と、複合化された圧電基板のソリの量との関係を示した図である。そして図2では、紫外光照射中の基板の温度変化が0.5℃以内となるように制御した。また、図2において、複合化された圧電基板のソリの方向は、+方向は圧電基板側に凹(絶縁体基板側に凸)となる場合で、−(マイナス)方向は絶縁体基板側に凹(圧電基板側に凸)となる場合のことである。
As shown in FIG. 2, when the temperature of the substrate at the time of curing is outside the range of 25 ± 5 ° C., the warpage of the combined piezoelectric substrate becomes large when the temperature returns to room temperature at the end of manufacture. For this reason, at the time of ultraviolet light irradiation, it is necessary to control the temperature of the bonded substrates so as to fall within 25 ± 5 ° C.
Here, FIG. 2 is a diagram showing the relationship between the substrate temperature of the bonded substrates during ultraviolet light irradiation and the amount of warping of the composite piezoelectric substrate. In FIG. 2, the temperature change of the substrate during ultraviolet light irradiation was controlled to be within 0.5 ° C. In FIG. 2, the warping direction of the composite piezoelectric substrate is such that the + direction is concave on the piezoelectric substrate side (convex on the insulator substrate side), and the-(minus) direction is on the insulator substrate side. This is the case when it becomes concave (convex on the piezoelectric substrate side).

また、この第3の工程において、紫外光を照射する際の貼り合わせた基板の温度変化を±1℃以内となるように制御することができる。
図3に示すように、紫外光照射時の基板の温度変化を1℃以下に抑えることによって、基板のソリの量を更に小さなものとすることができることが判った。ここで図3は、紫外光照射中の貼り合わせた基板の基板温度の変化量と、複合化された圧電基板のソリの量の関係(照射開始時の基板温度を25℃一定とした)を示した図である。
このように、紫外光照射時の貼り合わせた基板の温度変化を1℃以下に抑制することによって、更にソリの値の小さな複合化された圧電基板を安定して製造することができる。
Further, in this third step, the temperature change of the bonded substrates when irradiated with ultraviolet light can be controlled to be within ± 1 ° C.
As shown in FIG. 3, it has been found that the amount of warpage of the substrate can be further reduced by suppressing the temperature change of the substrate during irradiation with ultraviolet light to 1 ° C. or less. Here, FIG. 3 shows the relationship between the amount of change in the substrate temperature of the bonded substrates during ultraviolet light irradiation and the amount of warping of the composite piezoelectric substrate (the substrate temperature at the start of irradiation is constant at 25 ° C.). FIG.
In this way, by suppressing the temperature change of the bonded substrates during ultraviolet light irradiation to 1 ° C. or less, a composite piezoelectric substrate having a smaller warp value can be stably manufactured.

その後、第4の工程として、貼り合わせた基板の主に圧電基板側を所望の厚さまで研削する。この工程は通常の工程通りの行うことができる。   Thereafter, as a fourth step, the bonded substrate is mainly ground on the piezoelectric substrate side to a desired thickness. This step can be performed as usual.

そして、第5の工程として、研削後の貼り合わせた基板を加熱して、接着剤を完全に硬化させる。これによって、複合化された圧電基板を製造することができる。   Then, as the fifth step, the bonded substrates after grinding are heated to completely cure the adhesive. Thereby, a composite piezoelectric substrate can be manufactured.

ここで、この完全硬化用の加熱の前に、研削によって生じた研削歪層を除去することができる。
この研削歪層の除去は、例えばポリッシング等によって行うことができる。
このように、欠陥が多く存在する研削歪層を加熱前に除去することによって、良好な結晶性の圧電基板からなる複合化された圧電基板を得ることができる。またこの研削歪層の除去をポリッシング等で行うことによって、貼り合わせた基板の圧電基板を所望の厚さに高精度に加工することができ、高平坦性かつ所望の厚さの複合化された圧電基板を効率よく製造することができる。
Here, before the heating for complete curing, the grinding strain layer generated by grinding can be removed.
The grinding strain layer can be removed by polishing, for example.
Thus, by removing the grinding strain layer having many defects before heating, a composite piezoelectric substrate composed of a piezoelectric substrate having good crystallinity can be obtained. Further, by removing the grinding strain layer by polishing or the like, the bonded piezoelectric substrate can be processed to a desired thickness with high accuracy, and a high flatness and a desired thickness are combined. A piezoelectric substrate can be manufactured efficiently.

また、この第5の工程を、貼り合わせた基板を加熱チャンバーに導入して、接着剤を完全硬化させる際のチャンバー内の温度を80℃以上とし、かつ貼り合わせた基板の基板の温度ムラを±1℃となるように制御することができる。
これによって、接着剤を安定して確実に完全硬化させることができる。そして加熱の際の貼り合わせた基板の温度ムラを±1℃とすることによって、接着剤を更に安定してムラなく完全硬化させることができ、ソリの量が更に小さい複合化された圧電基板を製造することができる。
Further, in the fifth step, the bonded substrate is introduced into the heating chamber, the temperature in the chamber when the adhesive is completely cured is set to 80 ° C. or more, and the temperature unevenness of the bonded substrate is reduced. It can be controlled to be ± 1 ° C.
As a result, the adhesive can be stably and surely completely cured. Then, by setting the temperature unevenness of the bonded substrates at the time of heating to ± 1 ° C., the adhesive can be more completely cured without unevenness, and a composite piezoelectric substrate with a smaller amount of warpage can be obtained. Can be manufactured.

以上のような本発明の複合化された圧電基板の製造方法によって、ソリの量が従来より小さく、そしてソリの量が安定した複合化された圧電基板を歩留りよく製造することができる。また、この時必ずしも高価な絶縁体基盤を用いらなくともソリの抑制が可能となる。   According to the method for manufacturing a composite piezoelectric substrate of the present invention as described above, a composite piezoelectric substrate having a smaller amount of warp and a stable amount of warp can be manufactured with high yield. At this time, warping can be suppressed without necessarily using an expensive insulator substrate.

以下、実施例及び比較例を示して本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
(実施例1)
直径4インチ(100mm)で厚さが215μm、貼り合わせ面とその反対側の面のそれぞれの表面粗さRaが共に0.3μm、ヤング率が340GPa、抵抗率が1015Ωcmであるアルミナ基板を絶縁体基板として用意した。
また、圧電基板として、直径4インチ(100mm)の36°回転Yカットタンタル酸リチウム(LiTaO)基板を用意して、この圧電基板の厚さが160μmとなるよう両面粗研磨により表裏面の粗さが0.13μmとなるよう仕上げた。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are shown and this invention is demonstrated more concretely, this invention is not limited to these.
Example 1
An alumina substrate having a diameter of 4 inches (100 mm), a thickness of 215 μm, a surface roughness Ra of each of the bonded surface and the opposite surface is 0.3 μm, Young's modulus is 340 GPa, and resistivity is 10 15 Ωcm. Prepared as an insulator substrate.
In addition, as a piezoelectric substrate, a 36-degree rotated Y-cut lithium tantalate (LiTaO 3 ) substrate having a diameter of 4 inches (100 mm) is prepared, and rough roughening of the front and back surfaces is performed by double-sided rough polishing so that the thickness of the piezoelectric substrate becomes 160 μm. Was finished to be 0.13 μm.

そして、このアルミナ基板にエポキシメタクリレートを主成分とする紫外線硬化接着剤をスピンコートによって貼り合わせ面上に均一に塗布した。
また、LiTaO基板の貼り合わせ面を洗浄し、前述の接着剤を同様に塗布し、アルミナ基板の接着剤塗布面とLiTaO基板の接着剤塗布面を貼り合わせた。
And the ultraviolet curing adhesive which has an epoxy methacrylate as a main component on this alumina substrate was apply | coated uniformly on the bonding surface by spin coating.
Further, the bonding surface of the LiTaO 3 substrate was washed, and the above-described adhesive was applied in the same manner, and the adhesive application surface of the alumina substrate and the adhesive application surface of the LiTaO 3 substrate were bonded together.

次に、この貼り合わせた基板に、照度50mW/cmの紫外線を5分間照射し、接着剤を硬化させた。この時、貼り合わせた基板の基板温度が25℃、温度変化が±0.5℃となるように基板温度を制御して、紫外光を照射した。
このとき貼り合わせた基板面内で接着剤の層の厚さは一様に5μmだった。
Next, the bonded substrate was irradiated with ultraviolet rays having an illuminance of 50 mW / cm 2 for 5 minutes to cure the adhesive. At this time, the substrate temperature was controlled so that the substrate temperature of the bonded substrates was 25 ° C. and the temperature change was ± 0.5 ° C., and ultraviolet light was irradiated.
At this time, the thickness of the adhesive layer was uniformly 5 μm within the bonded substrate surface.

そして、この貼り合わせた基板を面取り加工した後、圧電基板であるLiTaO基板の表面側を研削により120μm削り落とし、さらにポリッシュによりLiTaO基板の厚さが30μmになるようにした。
このようにして作製した貼り合わせた基板を、150℃に加熱したチャンバーに導入し、基板面内の温度ムラが±0.5℃となるように制御して加熱することで接着剤を完全に硬化させて、複合化された圧電基板を製造した。
Then, after the bonded substrates were chamfered, the surface side of the LiTaO 3 substrate, which is a piezoelectric substrate, was scraped off by 120 μm, and the thickness of the LiTaO 3 substrate was adjusted to 30 μm by polishing.
The bonded substrate thus produced is introduced into a chamber heated to 150 ° C., and the adhesive is completely removed by controlling and heating so that the temperature unevenness in the substrate surface becomes ± 0.5 ° C. Cured to produce a composite piezoelectric substrate.

そして製造した複合化された圧電基板のソリの量を24.5℃で評価した結果、ソリの量は−30μmであった。   As a result of evaluating the amount of warpage of the composite piezoelectric substrate produced at 24.5 ° C., the amount of warpage was −30 μm.

(実施例2,3,4,5、比較例1,2)
実施例1において、紫外光照射時の基板温度を18℃(比較例1)、20℃(実施例2)、22℃(実施例3)、28℃(実施例4)、30℃(実施例5)、32℃(比較例2)とした以外は実施例1と同様の方法で複合化された圧電基板を製造し、同様にソリの量を評価した。
(Examples 2, 3, 4, 5 and Comparative Examples 1 and 2)
In Example 1, the substrate temperature at the time of ultraviolet light irradiation was 18 ° C. (Comparative Example 1), 20 ° C. (Example 2), 22 ° C. (Example 3), 28 ° C. (Example 4), 30 ° C. (Example) 5) A composite piezoelectric substrate was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the temperature was 32 ° C. (Comparative Example 2), and the amount of warpage was similarly evaluated.

その結果、実施例2の複合化された圧電基板のソリの量は165μm、実施例3は85μm、実施例4は−140μm、実施例5は−210μm、比較例1は270μm、比較例2は−300μmとなっていた。
すなわち、紫外光照射時の基板温度を20〜30℃(25±5℃)の範囲内に納めることによって、ハンドリングが困難とならない範囲である175〜−225μmのソリの量の複合化された圧電基板を製造することができ、特には±100μm以下にもできることが判った。
従来、アルミナ基板を用いて約80℃で紫外光照射が行われていた時にはソリの量が−400μm以上になっていたが、これと比較すると大幅な改善となった。
As a result, the amount of warpage of the composite piezoelectric substrate of Example 2 was 165 μm, Example 3 was 85 μm, Example 4 was −140 μm, Example 5 was −210 μm, Comparative Example 1 was 270 μm, and Comparative Example 2 was It was −300 μm.
That is, by keeping the substrate temperature at the time of ultraviolet light irradiation within a range of 20 to 30 ° C. (25 ± 5 ° C.), a combined piezoelectric with a warping amount of 175 to -225 μm which is a range in which handling is not difficult. It has been found that a substrate can be manufactured, and in particular, can be made to ± 100 μm or less.
Conventionally, when ultraviolet light irradiation was performed at about 80 ° C. using an alumina substrate, the amount of warpage was −400 μm or more, which was a significant improvement compared to this.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has any configuration that has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention and exhibits the same function and effect. It is included in the technical scope.

10…複合化された圧電基板、 11…圧電基板、 12…絶縁体基板、 13…接着剤。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Composite piezoelectric substrate, 11 ... Piezoelectric substrate, 12 ... Insulator substrate, 13 ... Adhesive.

Claims (6)

少なくとも、圧電基板と絶縁体基板のどちらか一方の主表面に接着剤を塗布する第1の工程と、
前記接着剤を介して前記圧電基板と前記絶縁体基板とをお互いに貼り合わせる第2の工程と、
前記貼り合わせた基板の温度を25±5℃となるように制御して、前記接着剤に紫外光を照射して該接着剤を硬化させる第3の工程と、
前記貼り合わせた基板を所望の厚さまで研削する第4の工程と、
該研削後の貼り合わせた基板を加熱して前記接着剤を完全に硬化させる第5の工程と、を具備することを特徴とする複合化された圧電基板の製造方法。
At least a first step of applying an adhesive to the main surface of one of the piezoelectric substrate and the insulator substrate;
A second step of bonding the piezoelectric substrate and the insulator substrate to each other via the adhesive;
A third step of controlling the temperature of the bonded substrates to be 25 ± 5 ° C. and irradiating the adhesive with ultraviolet light to cure the adhesive;
A fourth step of grinding the bonded substrates to a desired thickness;
And a fifth step of completely curing the adhesive by heating the bonded substrates after the grinding, and a method for producing a composite piezoelectric substrate.
前記第3の工程において、紫外光を照射する際の前記貼り合わせた基板の温度変化を±1℃以内となるように制御することを特徴とする請求項1に記載の複合化された圧電基板の製造方法。   2. The composite piezoelectric substrate according to claim 1, wherein in the third step, the temperature change of the bonded substrates when irradiated with ultraviolet light is controlled to be within ± 1 ° C. 3. Manufacturing method. 前記第5の工程において、前記加熱前に、研削によって生じた研削歪層を除去することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の複合化された圧電基板の製造方法。   3. The method of manufacturing a composite piezoelectric substrate according to claim 1, wherein, in the fifth step, the grinding strain layer generated by grinding is removed before the heating. 4. 前記圧電基板を、LiTaO、LiNbOのいずれかからなるものとすることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の複合化された圧電基板の製造方法。 The method for manufacturing a composite piezoelectric substrate according to any one of claims 1 to 3, wherein the piezoelectric substrate is made of LiTaO 3 or LiNbO 3 . 前記第5の工程を、前記貼り合わせた基板を加熱チャンバーに導入し、前記接着剤を完全硬化させる際の前記チャンバー内の温度を80℃以上とし、かつ前記貼り合わせた基板の基板の温度ムラを±1℃となるように制御することを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれか1項に記載の複合化された圧電基板の製造方法。   In the fifth step, the bonded substrate is introduced into a heating chamber, the temperature in the chamber when the adhesive is completely cured is set to 80 ° C. or more, and the substrate temperature unevenness of the bonded substrate 5. The method of manufacturing a composite piezoelectric substrate according to claim 1, wherein the temperature is controlled to be ± 1 ° C. 5. 請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載の複合化された圧電基板の製造方法により製造された複合化された圧電基板であって、該基板温度が25±5℃の時のソリの値が100μm以下であることを特徴とする複合化された圧電基板。   6. A composite piezoelectric substrate manufactured by the method for manufacturing a composite piezoelectric substrate according to claim 1, wherein the substrate temperature is 25 ± 5 ° C. A composite piezoelectric substrate having a value of 100 μm or less.
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