JP2010112390A - 減圧排気弁及びこの減圧排気弁を含む減圧排気機構を用いた減圧装置 - Google Patents
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- 230000007246 mechanism Effects 0.000 title claims abstract description 22
- 230000006837 decompression Effects 0.000 claims abstract description 69
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims abstract description 27
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 7
- 238000005187 foaming Methods 0.000 claims description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 5
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 abstract description 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 9
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 3
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052586 apatite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052878 cordierite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N dimagnesium dioxido-bis[(1-oxido-3-oxo-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3-disila-5,7-dialuminabicyclo[3.3.1]nonan-7-yl)oxy]silane Chemical compound [Mg++].[Mg++].[O-][Si]([O-])(O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2)O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2 JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 description 1
- VSIIXMUUUJUKCM-UHFFFAOYSA-D pentacalcium;fluoride;triphosphate Chemical compound [F-].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O VSIIXMUUUJUKCM-UHFFFAOYSA-D 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Taps Or Cocks (AREA)
- Self-Closing Valves And Venting Or Aerating Valves (AREA)
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Abstract
【課題】一つの排気路(主排気路)のみ有する減圧装置にも適用でき、排気速度が速くパーティクルの舞い上がりを抑制できる減圧排気弁及びこの減圧排気弁を含む減圧排気機構を用いた減圧装置を提供する。
【解決手段】減圧排気弁10は、一端が真空チャンバに連通し、他端が真空ポンプに連通する排気路中に取付けられる。この減圧排気弁10は、バルブ本体11と、前記バルブ本体11内に回動可能に収容され、内部に形成された連通孔が少なくとも3つに分岐されると共に、その一つの連通孔に通気孔を有する多孔質体13が配置されたボール弁体12とにより構成されている。前記バルブ本体内におけるボール弁体の回動位置に応じて、前記減圧排気弁10は、閉弁状態、前記多孔質体を介した開弁状態、前記多孔質体を介さない開弁状態が選択できるように構成されている。
【選択図】図2
【解決手段】減圧排気弁10は、一端が真空チャンバに連通し、他端が真空ポンプに連通する排気路中に取付けられる。この減圧排気弁10は、バルブ本体11と、前記バルブ本体11内に回動可能に収容され、内部に形成された連通孔が少なくとも3つに分岐されると共に、その一つの連通孔に通気孔を有する多孔質体13が配置されたボール弁体12とにより構成されている。前記バルブ本体内におけるボール弁体の回動位置に応じて、前記減圧排気弁10は、閉弁状態、前記多孔質体を介した開弁状態、前記多孔質体を介さない開弁状態が選択できるように構成されている。
【選択図】図2
Description
本発明は減圧排気弁及びこの減圧排気弁を含む減圧排気機構を用いた減圧装置に関し、特に多孔質部材を有する開閉弁を備えた減圧排気弁、及びこの減圧排気弁を組み込んだ減圧排気機構を備える減圧装置に関する。
従来、半導体ウエハもしくは液晶材料の製造工程において、例えばドライエッチング装置、スパッタ装置、CVD装置等の減圧装置が用いられている。これら装置における排気機構には、真空チャンバ内を減圧状態になす際の圧力緩衝を目的として、主排気路と並列にスロー排気路が設けられている。
従来の減圧装置を図6に基づいて説明する。図6に示すように、従来の減圧装置31には、真空チャンバ32内を減圧する排気機構33が設けられている。
この排気機構33は、一端が真空チャンバ32に設けられた排気口35に連通し、他端が真空ポンプ36に連通する主排気路37と、一端が主排気路37を介して真空チャンバ32に連通し、他端が主排気路37を介して真空ポンプ36に連通するスロー排気路39とを備えている。
この排気機構33は、一端が真空チャンバ32に設けられた排気口35に連通し、他端が真空ポンプ36に連通する主排気路37と、一端が主排気路37を介して真空チャンバ32に連通し、他端が主排気路37を介して真空ポンプ36に連通するスロー排気路39とを備えている。
また、前記排気機構33は、前記主排気路37に設けた第1の開閉弁(メインバルブ)38と、このスロー排気路39に第1の開閉弁と並列に第2の開閉弁(スロー排気バルブ)40とを備えている。
更に、前記排気機構33は、前記排気口35に設けられた、排気時の圧力を緩衝するフィルター34を備えている。
更に、前記排気機構33は、前記排気口35に設けられた、排気時の圧力を緩衝するフィルター34を備えている。
このような従来の減圧装置31にあっては、排気初期はスロー排気路39で緩やかに排気し、その後、主排気路37で一気に排気する。
しかし、前記排気口35にフィルター34が設置されているため、主排気路37で一気に排気する際、フィルター34が抵抗となり、排気速度が大幅に遅くなるという課題があった。
しかし、前記排気口35にフィルター34が設置されているため、主排気路37で一気に排気する際、フィルター34が抵抗となり、排気速度が大幅に遅くなるという課題があった。
これを解決する減圧装置として、図7に示す減圧装置41がある。この減圧装置41にあっては、一端が直接真空チャンバ32に連通し、他端が主排気路37を介して真空ポンプ36に連通するスロー排気路42とを備えている。そして、スロー排気口43にはフィルター34が取付けられている。
このように構成された減圧装置41にあっては、フィルター34、スロー排気口43、スロー排気路42を介して緩やかに排気し、その後、第2の開閉弁40,第1の開閉弁38を切換えて、主排気路37から一気に排気する。
そのため、この減圧装置41にあっては、主排気路37における排気速度を上げることができるが、排気口35とは別にスロー排気口41を設ける必要があり、多額な装置改造費がかかるという課題があった。
このように構成された減圧装置41にあっては、フィルター34、スロー排気口43、スロー排気路42を介して緩やかに排気し、その後、第2の開閉弁40,第1の開閉弁38を切換えて、主排気路37から一気に排気する。
そのため、この減圧装置41にあっては、主排気路37における排気速度を上げることができるが、排気口35とは別にスロー排気口41を設ける必要があり、多額な装置改造費がかかるという課題があった。
なお、真空チャンバと真空ポンプを連通する主排気路と、この主排気路に並列にスロー排気路を設けたウエハ取扱システム(例えば、特許文献1参照)、さらに、スロー排気路に可変コンダクタンスバルブを設けた横型処理炉が提案されている(例えば、特許文献2参照)。
特開昭61−228648号公報
特開平7−235497号公報
ところで、本願出願人は、前記した課題を解決するために、図8に示すように、スロー排気路39に、円筒形状のシリカ多孔体からなるフィルター52を備える減圧装置51を提案している(特願2007−190462号)。
しかしながら、前記した従来の減圧装置及び本願出願人が提案した減圧装置は、主排気路とスロー排気路を前提としたものであった。
そのため、スロー排気路から主排気路に切換えた際、圧力変動が生じ、パーティクルが舞い上がることがあった。
しかしながら、前記した従来の減圧装置及び本願出願人が提案した減圧装置は、主排気路とスロー排気路を前提としたものであった。
そのため、スロー排気路から主排気路に切換えた際、圧力変動が生じ、パーティクルが舞い上がることがあった。
また、一つの排気路(主排気路)のみ有する減圧装置に適用した場合、一つの排気路(主排気路)の排気口にフィルターを設けなければならず、排気速度が大幅に小さくなり、所定の真空度に到達するまでに長時間かかるという課題があった。しかも、常に排気口にフィルターが存在するため、フィルターが抵抗となり所定の真空度に到達し難いという課題があった。
このように前記したフィルターにあっては、一つの排気路(主排気路)のみ有する減圧装置には適用することは困難であった。
このように前記したフィルターにあっては、一つの排気路(主排気路)のみ有する減圧装置には適用することは困難であった。
本発明は上述した事情を考慮してなされたもので、一つの排気路(主排気路)のみ有する減圧装置にも適用でき、排気速度が速くパーティクルの舞い上がりを抑制できる減圧排気弁及びこの減圧排気弁を含む減圧排気機構を用いた減圧装置を提供することを目的とする。
前記した目的を達成するためになされた本発明にかかる減圧排気弁は、一端が真空チャンバに連通し、他端が真空ポンプに連通する排気路中に取付けられる減圧排気弁において、前記減圧排気弁が、前記排気路中に接続されるバルブ本体と、前記バルブ本体内に回動可能に収容され、内部に形成された連通孔が少なくとも3つに分岐されると共に、その一つの連通孔に通気孔を有する多孔質体が配置されたボール弁体とにより構成され、前記バルブ本体内におけるボール弁体の回動位置に応じて、前記減圧排気弁の閉弁状態、前記多孔質体を介した開弁状態、前記多孔質体を介さない開弁状態が選択できるように構成されていることを特徴とする。
このように、減圧排気弁を構成するボール弁体内に、少なくとも3つに分岐された連通孔を形成し、その一つの連通孔に通気孔を有する多孔質体が配置された構成にされているので、前記減圧排気弁は閉弁状態、前記多孔質体を介した開弁状態、前記多孔質体を介さない開弁状態を選択することができる。
したがって、前記減圧排気弁を前記多孔質体を介した開弁状態にすることで、圧力を緩衝しつつ、緩やかに排気し、その後、前記多孔質体を介さない開弁状態にすることで、一気に排気することができる。これにより、排気速度を上げることが可能となる。
したがって、前記減圧排気弁を前記多孔質体を介した開弁状態にすることで、圧力を緩衝しつつ、緩やかに排気し、その後、前記多孔質体を介さない開弁状態にすることで、一気に排気することができる。これにより、排気速度を上げることが可能となる。
したがって、この減圧排気弁を用いることで、一つの排気路で圧力を緩衝しつつ緩やかに排気でき、しかも多孔質体を介さない開弁状態とすることで排気速度を上げた排気を行うことができる。
尚、この減圧排気弁を用いた排気機構は、一つの排気路(主排気路)のみ有する減圧装置だけに適用できるものではなく、スロー排気路、主排気路を備える減圧装置にも適用することができる。
尚、この減圧排気弁を用いた排気機構は、一つの排気路(主排気路)のみ有する減圧装置だけに適用できるものではなく、スロー排気路、主排気路を備える減圧装置にも適用することができる。
一方、前記ボール弁体内の一つの連通孔に配置された多孔質体は、攪拌起泡によって形成されたセラミックス多孔質焼結体であることが望ましい。
また、前記減圧排気弁は、前記多孔質体を介した開弁状態になされた時の排気流量が、1.3(KPa/s)〜2.6(KPa/s)であることが望ましい。
前記排気流量が1.3(KPa/s)未満の場合には、排気効率的に好ましくなく、一方、排気流量が2.6(KPa/s)を超える場合には、パーティクルの舞い上がりを抑制する効果が少なく、好ましくないためである。
また、前記減圧排気弁は、前記多孔質体を介した開弁状態になされた時の排気流量が、1.3(KPa/s)〜2.6(KPa/s)であることが望ましい。
前記排気流量が1.3(KPa/s)未満の場合には、排気効率的に好ましくなく、一方、排気流量が2.6(KPa/s)を超える場合には、パーティクルの舞い上がりを抑制する効果が少なく、好ましくないためである。
また、前記した目的を達成するためになされた本発明にかかる減圧装置は、真空チャンバと、この真空チャンバ内を減圧する排気機構を備えた減圧装置において、前記排気機構は、一端が前記真空チャンバに連通し、他端が真空ポンプに連通する排気路と、前記排気路中に取付けられた減圧排気弁とを有し、前記減圧排気弁は、前記排気路中に接続されるバルブ本体と、前記バルブ本体内に回動可能に収容され、内部に形成された連通孔が少なくとも3つに分岐されると共に、その一つの連通孔に通気孔を有する多孔質体が配置されたボール弁体とにより構成され、前記バルブ本体内におけるボール弁体の回動位置に応じて、前記減圧排気弁の閉弁状態、前記多孔質体を介した開弁状態、前記多孔質体を介さない開弁状態が選択できるように構成されていることを特徴とする。
このように、減圧排気機構を構成する減圧排気弁は、閉弁状態、多孔質体を介した開弁状態、多孔質体を介さない開弁状態が選択できるように構成されているので、多孔質体を介した開弁状態を選択することで、圧力を緩衝しつつ、緩やかに排気することができる。そして、多孔質体を介さない開弁状態を選択することで一気に排気することができ、これにより、排気速度を上げることができる。
したがって、この減圧排気機構を用いることで、一つの排気路で、圧力を緩衝しつつ緩やかに排気する工程と、排気速度を上げて排気する工程とを実現することができる。
したがって、この減圧排気機構を用いることで、一つの排気路で、圧力を緩衝しつつ緩やかに排気する工程と、排気速度を上げて排気する工程とを実現することができる。
本発明によれば、一つの排気路(主排気路)のみ有する減圧装置にも適用でき、排気速度が速くパーティクルの舞い上がりを抑制できる減圧排気弁及びこの減圧排気弁を含む減圧排気機構を用いた減圧装置を得ることができる。
本発明の実施形態にかかる減圧排気弁及びこの減圧排気弁を含む減圧排気機構を用いた減圧装置について、図1乃至図5に基づいて説明する。
尚、図1は本発明にかかる減圧装置の概略構成図であり、図2〜図5は本発明にかかる減圧排気弁を示す断面図あって、ボール弁体が軸回りに順に回動した場合のそれぞれの状態を示している。
尚、図1は本発明にかかる減圧装置の概略構成図であり、図2〜図5は本発明にかかる減圧排気弁を示す断面図あって、ボール弁体が軸回りに順に回動した場合のそれぞれの状態を示している。
図1に示すように、本発明にかかる減圧装置1は、真空に減圧され処理室となる真空チャンバ2を備え、更にこの真空チャンバ2を真空に減圧する減圧排気機構3を備えている。前記排気機構3は、前記真空チャンバ2の底部に設けられた排気口2aと真空ポンプ4との間に配置され、一端が前記排気口2aに連通し、他端が真空ポンプ4に連通する排気路5a,5bと、前記排気路5a,5b間に配置された減圧排気弁10より構成されている。
この減圧排気弁10は、図2〜図5に断面図で示すように、バルブ本体11と、前記バルブ本体11内に回動可能に収容されたボール弁体12より構成されている。前記バルブ本体11には、前記真空チャンバ2に連通する排気路5aに接続される接続開口(以下、第1接続開口とも称呼する。)11aが備えられると共に、前記真空ポンプ4に連通する排気路5bに接続される接続開口(以下、第2接続開口とも称呼する。)11bが備えられている。
すなわち、前記バルブ本体11の第1接続開口11aの軸線と、第2接続開口11bの軸線は、互いに直交する方向に形成されてL字型バルブを構成している。
すなわち、前記バルブ本体11の第1接続開口11aの軸線と、第2接続開口11bの軸線は、互いに直交する方向に形成されてL字型バルブを構成している。
また、前記バルブ本体11内に収容されたボール弁体12は、その中心部を通る仮想的に示した支持軸14を軸芯として、前記バルブ本体11内において軸心回りに回動されるように構成されている。
すなわち、前記ボール弁体12は、例えばモータ等を備えた駆動手段(図示せず。)により、回動される。
すなわち、前記ボール弁体12は、例えばモータ等を備えた駆動手段(図示せず。)により、回動される。
また、前記ボール弁体12内には、3つに分岐された連通孔が形成されている。すなわち、ボール弁体12の中心部を介して、互いに直線状に連通する第1連通孔12aと第2連通孔12b、および前記第1連通孔12aと第2連通孔12bに直交する方向に、ボール弁体12の中心部に至るように第3連通孔12cが形成されている。
そして、この実施の形態においては、前記第1連通孔12a内に、連通孔12aを閉塞するようにして多数の通気孔を有する多孔質体が配置されている。
前記多孔質体としては、金属多孔質体、ガラス多孔質体、石英製多孔質体、通常の粉末焼結による多孔質焼結体、セラミックス繊維を焼結した多孔質焼結体、攪拌起泡によって形成され焼結した多孔質焼結体などを用いることができる。
特に攪拌起泡によって形成されたセラミックス多孔質焼結体であることが望ましい。このようなセラミックス多孔質体の製造は、本出願人が先に出願した特開2000−264753号公報、特開2003−238267号公報に記載した方法により製造することができる。
前記多孔質体としては、金属多孔質体、ガラス多孔質体、石英製多孔質体、通常の粉末焼結による多孔質焼結体、セラミックス繊維を焼結した多孔質焼結体、攪拌起泡によって形成され焼結した多孔質焼結体などを用いることができる。
特に攪拌起泡によって形成されたセラミックス多孔質焼結体であることが望ましい。このようなセラミックス多孔質体の製造は、本出願人が先に出願した特開2000−264753号公報、特開2003−238267号公報に記載した方法により製造することができる。
ここで、前記多孔質部材を製造する原料としては、アルミナ、ジルコニア、窒化ケイ素、炭化ケイ素、ムライト、コーディエライト、シリカ、水酸化アパタイトなどの他、金属製多孔体などの種々の材料を採用することができるが、これらの内、特に耐食性および機械的特性に優れている炭化ケイ素が好ましい。
また、平均気孔径が5〜90μm、気孔率は30〜65%であるのが好ましい。
特に、炭化ケイ素の場合、平均気孔径30〜90μm、気孔率55〜65%が好ましい。具体的には、水銀ポロシメーターを用いて測定(JIS R1634 1998に基づく)した気孔の平均気孔径が30μm以上90μm以下であって、前記気孔が10μm以上20μm以下(SEM観察に基づく)の連通孔で連通する三次元網目状の骨格構造を有しているのが好ましい。
特に、炭化ケイ素の場合、平均気孔径30〜90μm、気孔率55〜65%が好ましい。具体的には、水銀ポロシメーターを用いて測定(JIS R1634 1998に基づく)した気孔の平均気孔径が30μm以上90μm以下であって、前記気孔が10μm以上20μm以下(SEM観察に基づく)の連通孔で連通する三次元網目状の骨格構造を有しているのが好ましい。
また、この気孔率(サンプルを特定体積に機械加工し、この重量を測定することで、前記体積、重量及びSiC密度:3.21g/cm3 より算出)は55%以上、65%未満に形成されているのが好ましい。
尚、前記平均気孔径、気孔率は、製造工程における原料粉、攪拌起泡条件を調整することによって可変することができ、所望の平均気孔径、気孔率を有するセラミックス多孔質焼結体を得ることができる。
尚、前記平均気孔径、気孔率は、製造工程における原料粉、攪拌起泡条件を調整することによって可変することができ、所望の平均気孔径、気孔率を有するセラミックス多孔質焼結体を得ることができる。
斯くして、図2〜図5に示すように構成された減圧排気弁10は、図2に示す状態において、バルブ本体11の第1接続開口11aと、第2接続開口11bとの間を、ボール弁体12が閉塞する閉弁状態になされる。
また、ボール弁体12が図2に示す状態から、90度左回転して図3に示す状態になされることにより、減圧排気弁10は、前記多孔質体13を介した開弁状態になされる。
また、ボール弁体12が図2に示す状態から、90度左回転して図3に示す状態になされることにより、減圧排気弁10は、前記多孔質体13を介した開弁状態になされる。
さらに、ボール弁体12が図3に示す状態から、約45度左回転して図4に示す状態になされることにより、バルブ本体11の第1接続開口11aと、第2接続開口11bとの間において、ボール弁体12の第1連通孔12a、すなわち多孔質体13、第3連通孔12cの一部、および第2連通孔12bの一部を介して一部開弁状態になされる。
また、ボール弁体12が図4に示す状態から、さらに約45度左回転して図5に示す状態になされることにより、減圧排気弁10は、ボール弁体12の第3連通孔12cから第2連通孔12bに連通する開弁状態になされる。
また、ボール弁体12が図4に示す状態から、さらに約45度左回転して図5に示す状態になされることにより、減圧排気弁10は、ボール弁体12の第3連通孔12cから第2連通孔12bに連通する開弁状態になされる。
すなわち、図3に示す状態から図5に示す状態に至る前記ボール弁体12の90度の回動範囲において、減圧排気弁10は、ボール弁体12に備えられた前記多孔質体13を介した開弁状態から、前記多孔質体を介さない開弁状態となるように除々に変化させることができる。
したがって、図2〜図5に示した減圧排気弁10を備えた図1に示す減圧装置において、処理室となる真空チャンバ2を減圧する場合、減圧開始時は、排気路5に設けた減圧排気弁10を図2に示す閉弁状態から、図3に示すように多孔質体13を介した開弁状態に制御する。
これにより、真空チャンバ2内のガスは、排気口2a、排気路5a、減圧排気弁10、排気路5bを介して真空ポンプ4に流れ、真空チャンバ2内は除々に減圧される。
これにより、真空チャンバ2内のガスは、排気口2a、排気路5a、減圧排気弁10、排気路5bを介して真空ポンプ4に流れ、真空チャンバ2内は除々に減圧される。
この時、前記ボール弁体12に配置された多孔質体13を介したガスの排気流量が、1.3(KPa/s)〜2.6(KPa/s)になされる。そして、前記多孔質体13の平均気孔径が5〜90μm、気孔率が30〜65%と適度なガス通気抵抗に設定されているので、真空チャンバ2内の急激な減圧が避けられ、パーティクルの舞い上がりが抑制されて、穏やかに減圧を行うことができる。
この穏やかな減圧の実行後に、減圧排気弁10のボール弁体12を、図4から図5に示すように除々に回動することにより、多孔質体13を介した減圧動作から多孔質体13を介さない減圧動作に転換させることができ、排気速度が早い状態による排気を行うことができる。
以上のとおり、本発明にかかる減圧装置によると、真空チャンバ2からの排気の初期段階においては、多孔質体13を介した排気処理により、圧力を緩衝しつつ緩やかに排気し、その後に弁体12を完全に開弁させることで一気に排気することができるので、排気速度を向上させることができる。
なお、前記した実施形態にあっては、減圧排気弁を排気路を一つしか有しない減圧装置に搭載した場合を例にとって説明したが、従来のように二つの排気路を備える減圧装置にも、当然に搭載することができる。
1 減圧装置
2 真空チャンバ
2a 排気口
3 減圧排気機構
4 真空ポンプ
5a,5b 排気路
10 減圧排気弁
11 バルブ本体
11a 第1接続開口
11b 第2接続開口
12 ボール弁体
12a 第1連通孔
12b 第2連通孔
12c 第3連通孔
13 多孔質体
14 支持軸
2 真空チャンバ
2a 排気口
3 減圧排気機構
4 真空ポンプ
5a,5b 排気路
10 減圧排気弁
11 バルブ本体
11a 第1接続開口
11b 第2接続開口
12 ボール弁体
12a 第1連通孔
12b 第2連通孔
12c 第3連通孔
13 多孔質体
14 支持軸
Claims (6)
- 一端が真空チャンバに連通し、他端が真空ポンプに連通する排気路中に取付けられる減圧排気弁において、
前記減圧排気弁が、前記排気路中に接続されるバルブ本体と、前記バルブ本体内に回動可能に収容され、内部に形成された連通孔が少なくとも3つに分岐されると共に、その一つの連通孔に通気孔を有する多孔質体が配置されたボール弁体とにより構成され、
前記バルブ本体内におけるボール弁体の回動位置に応じて、前記減圧排気弁の閉弁状態、前記多孔質体を介した開弁状態、前記多孔質体を介さない開弁状態が選択できるように構成されていることを特徴とする減圧排気弁。 - 前記ボール弁体内の一つの連通孔に配置された多孔質体が、攪拌起泡によって形成されたセラミックス多孔質焼結体であることを特徴とする請求項1に記載の減圧排気弁。
- 前記減圧排気弁が、前記多孔質体を介した開弁状態になされた時の排気流量が、1.3(KPa/s)〜2.6(KPa/s)であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の減圧排気弁。
- 真空チャンバと、この真空チャンバ内を減圧する排気機構を備えた減圧装置において、
前記排気機構は、一端が前記真空チャンバに連通し、他端が真空ポンプに連通する排気路と、前記排気路中に取付けられた減圧排気弁とを有し、
前記減圧排気弁は、前記排気路中に接続されるバルブ本体と、前記バルブ本体内に回動可能に収容され、内部に形成された連通孔が少なくとも3つに分岐されると共に、その一つの連通孔に通気孔を有する多孔質体が配置されたボール弁体とにより構成され、
前記バルブ本体内におけるボール弁体の回動位置に応じて、前記減圧排気弁の閉弁状態、前記多孔質体を介した開弁状態、前記多孔質体を介さない開弁状態が選択できるように構成されていることを特徴とする減圧装置。 - 前記減圧排気弁を構成するボール弁体内に配置された多孔質体が、攪拌起泡によって形成されたセラミックス多孔質焼結体であることを特徴とする請求項4に記載の減圧装置。
- 前記減圧排気弁が、前記多孔質体を介した開弁状態になされた時の排気流量が、1.3(KPa/s)〜2.6(KPa/s)であることを特徴とする請求項4または請求項5に記載の減圧装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008282925A JP2010112390A (ja) | 2008-11-04 | 2008-11-04 | 減圧排気弁及びこの減圧排気弁を含む減圧排気機構を用いた減圧装置 |
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ID=42301097
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| JP2008282925A Pending JP2010112390A (ja) | 2008-11-04 | 2008-11-04 | 減圧排気弁及びこの減圧排気弁を含む減圧排気機構を用いた減圧装置 |
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| JP (1) | JP2010112390A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20150099550A (ko) * | 2012-12-14 | 2015-08-31 | 아우로테크 게엠베하 | 세정 기능을 갖는 차단 부재 |
| KR20180079583A (ko) * | 2016-12-30 | 2018-07-11 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
-
2008
- 2008-11-04 JP JP2008282925A patent/JP2010112390A/ja active Pending
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| KR20180079583A (ko) * | 2016-12-30 | 2018-07-11 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
| KR101884860B1 (ko) * | 2016-12-30 | 2018-08-03 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
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