JP2010199112A - Method of discharging droplets - Google Patents
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Abstract
【課題】描画領域の密度が変化する場合でも機能液の使用効率を向上させる。
【解決手段】吐出ヘッドに対して基板を相対移動させ、基板の所定描画領域に対して機能液の液滴を吐出して、各基板毎に形成すべきパターンに応じた描画率で描画する。複数の基板G1〜G10に対して順次描画処理を行う際に、各基板毎の描画率に基づいて、描画処理を行う順序を設定する。
【選択図】図13The efficiency of use of a functional liquid is improved even when the density of a drawing region changes.
The substrate is moved relative to the ejection head, and functional liquid droplets are ejected to a predetermined drawing region of the substrate, and drawing is performed at a drawing rate corresponding to a pattern to be formed for each substrate. When the drawing process is sequentially performed on the plurality of substrates G1 to G10, the order in which the drawing process is performed is set based on the drawing rate of each substrate.
[Selection] Figure 13
Description
本発明は、液滴吐出方法及びデバイス製造方法に関するものである。 The present invention relates to a droplet discharge method and a device manufacturing method.
デバイスパターンを形成するための手法の一つとして、機能液の液滴で基板にパターンを形成する液滴吐出法(インクジェット法)が知られている。特許文献1には、液滴吐出法に基づいて基板にパターンを形成する液滴吐出装置(インクジェット装置)に関する技術の一例が開示されている。
As one method for forming a device pattern, a droplet discharge method (inkjet method) in which a pattern is formed on a substrate with droplets of a functional liquid is known.
また、多層配線基板、例えば低温焼結セラミック多層配線基板を液滴吐出方式を用いて製造することにより、低コスト化、短時間化に対応する技術が開示されている。
すなわち、特許文献2には、基板として未焼成のグリーンシートを用い、さらにグリーンシートに吸収されやすい有機分散媒に金属や抵抗体等の粉末を分散させたインクを用いて回路パターンを描画し、その後焼成することにより、インクジェット法ではインクが基板上で流れやすく濡れ拡がりやすいという課題を解決した電子回路を実現している。
In addition, a technique corresponding to cost reduction and time reduction by manufacturing a multilayer wiring board, for example, a low-temperature sintered ceramic multilayer wiring board using a droplet discharge method is disclosed.
That is, in
しかしながら、上述したような従来技術には、以下のような問題が存在する。
上記グリーンシートは、多数枚(複数枚)それぞれ位置合わせした上で積層、圧着し、脱バインダー、焼結工程を経る製造方法で製造されるが、例えば電子回路用基板においては電源やGND層と、配線層とでは描画領域の密度が大きく変化するため、密度が小さい層を製造する際には吐出するインク量を安定させるために多量の予備吐出(フラッシング)を行う必要があり、インクの消費が余分に増えるという問題がある。
特に、AgやAu、その他のレアメタルを含むインクの場合には、コストアップの要因となってしまう。
However, the following problems exist in the conventional technology as described above.
The green sheet is manufactured by a manufacturing method in which a plurality of sheets (a plurality of sheets) are aligned, laminated, pressure-bonded, debindered, and sintered. For example, in an electronic circuit board, a power source and a GND layer Since the density of the drawing area varies greatly with the wiring layer, it is necessary to perform a large amount of preliminary ejection (flushing) in order to stabilize the amount of ink ejected when manufacturing a layer with a low density. There is a problem that increases.
In particular, in the case of ink containing Ag, Au, or other rare metal, it becomes a factor of cost increase.
本発明は、以上のような点を考慮してなされたもので、描画領域の密度が変化する場合でも機能液の使用効率を向上させる液滴吐出方法及びデバイス製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in consideration of the above points, and an object thereof is to provide a droplet discharge method and a device manufacturing method that improve the use efficiency of a functional liquid even when the density of a drawing region changes. To do.
上記の目的を達成するために本発明は、以下の構成を採用している。
本発明の液滴吐出方法は、吐出ヘッドに対して基板を相対移動させ、前記基板の所定描画領域に対して機能液の液滴を吐出して、各基板毎に形成すべきパターンに応じた描画率で描画する液滴吐出方法であって、複数の前記基板に対して順次描画処理を行う際に、各基板毎の描画率に基づいて、描画処理を行う順序を設定することを特徴とするものである。
従って、本発明の液滴吐出方法では、描画率の大小によって、吐出されないで吐出ヘッド内に滞留する機能液の量が変わるため、各基板毎の描画率に描画処理を行う順序を設定することにより、滞留時間の少ない機能液を吐出することが可能になり、予備吐出量を減らして機能液の使用効率を向上させることができる。
In order to achieve the above object, the present invention employs the following configuration.
According to the droplet discharge method of the present invention, the substrate is moved relative to the discharge head, the droplets of the functional liquid are discharged to the predetermined drawing region of the substrate, and the pattern is formed on each substrate. A droplet discharge method for drawing at a drawing rate, wherein when drawing processing is sequentially performed on a plurality of the substrates, an order in which drawing processing is performed is set based on a drawing rate for each substrate. To do.
Therefore, in the liquid droplet ejection method of the present invention, the amount of functional liquid that remains in the ejection head without being ejected changes depending on the magnitude of the rendering rate, so the order of performing the rendering process is set to the rendering rate for each substrate. Accordingly, it is possible to discharge the functional liquid having a short residence time, and it is possible to reduce the preliminary discharge amount and improve the usage efficiency of the functional liquid.
具体的には、本発明では、描画処理を行った前記基板の後に、当該基板の描画率よりも小さい描画率を有する基板に対して描画処理を行う手順を好適に採用できる。
これにより、本発明では、後の基板に描画処理を行う際には、前の基板に対する描画処理で機能液を吐出したノズル(吐出口)を用いることができるため、滞留時間の少ない機能液を吐出することが可能になり、予備吐出量を減らして機能液の使用効率を向上させることができる。
Specifically, in the present invention, a procedure for performing a drawing process on a substrate having a drawing rate smaller than the drawing rate of the substrate after the substrate subjected to the drawing process can be suitably employed.
Thus, in the present invention, when performing drawing processing on the subsequent substrate, a nozzle (discharge port) that discharges the functional liquid in the drawing processing on the previous substrate can be used. It becomes possible to discharge, and it is possible to reduce the preliminary discharge amount and improve the use efficiency of the functional liquid.
また、本発明では、前記基板を前記相対移動方向に沿って複数配置した基板群に順次描画処理を行う際に、前記基板の配置順序を各基板毎の描画率に基づいて設定する構成を好適に採用できる。
これにより、本発明では、吐出ヘッドに対して複数の基板を一回相対移動(走査)させることにより、基板群毎に複数の基板に機能液の液滴を吐出させてパターンを形成することが可能になり、生産性を向上させることができる。また、本発明では、相対移動により複数の基板に順次描画処理を行う際に、滞留時間の少ない機能液を吐出することが可能になり、予備吐出量を減らして機能液の使用効率を向上させることができる。
Further, in the present invention, it is preferable that when the drawing process is sequentially performed on a group of substrates in which a plurality of the substrates are arranged along the relative movement direction, the arrangement order of the substrates is set based on a drawing rate for each substrate. Can be adopted.
Accordingly, in the present invention, the plurality of substrates are relatively moved (scanned) once with respect to the ejection head, thereby ejecting functional liquid droplets onto the plurality of substrates for each substrate group to form a pattern. It becomes possible and productivity can be improved. Further, in the present invention, when performing drawing processing on a plurality of substrates sequentially by relative movement, it becomes possible to discharge the functional liquid having a short residence time, and the use efficiency of the functional liquid is improved by reducing the preliminary discharge amount. be able to.
上記構成においては、複数の前記基板群に対して順次描画処理を行う際に、各基板群における前記複数の基板の平均描画率に基づいて、描画処理を行う順序を設定する手順を好適に採用できる。
これにより、本発明では、後の基板群に描画処理を行う際には、前の基板群に対する描画処理で機能液を吐出したノズル(吐出口)、またはその近傍のノズルを用いることができるため、滞留時間の少ない機能液を吐出することが可能になり、予備吐出量を減らして機能液の使用効率を向上させることができる。
In the above configuration, when performing the drawing process sequentially on the plurality of substrate groups, a procedure for setting the order of performing the drawing process based on the average drawing rate of the plurality of substrates in each substrate group is preferably employed. it can.
As a result, in the present invention, when performing drawing processing on the subsequent substrate group, a nozzle (discharge port) that discharges the functional liquid in the drawing processing on the previous substrate group, or a nozzle in the vicinity thereof can be used. Thus, it becomes possible to discharge the functional liquid having a short residence time, and it is possible to improve the usage efficiency of the functional liquid by reducing the preliminary discharge amount.
上記構成においても、描画処理を行った前記基板の後に、当該基板の描画率よりも小さい描画率を有する基板に対して描画処理を行う手順を好適に採用できる。
これにより、本発明では、後の基板に描画処理を行う際には、前の基板に対する描画処理で機能液を吐出したノズル(吐出口)、またはその近傍のノズルを用いることができるため、滞留時間の少ない機能液を吐出することが可能になり、予備吐出量を減らして機能液の使用効率を向上させることができる。
Also in the above configuration, a procedure for performing the drawing process on a substrate having a drawing rate smaller than the drawing rate of the substrate after the substrate subjected to the drawing process can be suitably employed.
Accordingly, in the present invention, when performing drawing processing on the subsequent substrate, the nozzle (discharge port) that ejects the functional liquid in the drawing processing on the previous substrate or a nozzle in the vicinity thereof can be used. It becomes possible to discharge the functional liquid with a short time, and it is possible to reduce the preliminary discharge amount and improve the usage efficiency of the functional liquid.
また、本発明のデバイス製造方法は、先に記載の液滴吐出方法により基板に機能液の液滴を吐出する工程を有することを特徴とするものである。
これにより、本発明では、滞留時間の少ない機能液を吐出することが可能になり、予備吐出量を減らして機能液の使用効率を向上させることができ、効率よく、またコスト増を抑制しつつデバイスを製造することが可能になる。
In addition, the device manufacturing method of the present invention includes a step of discharging functional liquid droplets onto the substrate by the above-described droplet discharging method.
As a result, in the present invention, it becomes possible to discharge a functional liquid with a short residence time, and it is possible to improve the use efficiency of the functional liquid by reducing the preliminary discharge amount, while efficiently suppressing an increase in cost. The device can be manufactured.
以下、本発明の液滴吐出方法及びデバイス製造方法の実施の形態を、図1ないし図17を参照して説明する。
(第1実施形態)
図1は、液滴吐出方法に用いる液滴吐出装置IJの概略構成図、図2は、液滴吐出装置IJの一部を示す斜視図である。
Hereinafter, embodiments of a droplet discharge method and a device manufacturing method according to the present invention will be described with reference to FIGS.
(First embodiment)
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a droplet discharge device IJ used in the droplet discharge method, and FIG. 2 is a perspective view showing a part of the droplet discharge device IJ.
液滴吐出装置IJは、機能液の液滴Dを基板Pに吐出することによって、基板Pにデバイスパターンを形成する。液滴吐出装置IJは、機能液の液滴Dを吐出する吐出口1が形成された吐出面2を有する吐出ヘッド3と、吐出面2と対向する第1位置A1を含む所定領域で吐出ヘッド3に対して移動可能であり、Y軸に沿って配置された複数の移動体4、5、6、7と、複数の移動体4、5、6、7をY軸に沿って移動させる駆動装置8と、吐出ヘッド3に流路を介して接続され、吐出ヘッド3に供給するための機能液を収容する機能液収容装置9と、液滴吐出装置IJ全体の動作を制御する制御装置10とを備えている。
The droplet discharge device IJ forms a device pattern on the substrate P by discharging droplets D of the functional liquid onto the substrate P. The droplet discharge device IJ has a
本実施形態の液滴吐出装置IJは、複数の吐出ヘッド3を備えたマルチヘッドタイプの液滴吐出装置であり、複数の吐出ヘッド3を支持するキャリッジ部材11を有する。また、液滴吐出装置IJは、吐出ヘッド3の駆動を制御する駆動回路を含む制御器12を有する。制御器12は、制御装置10の指令に基づいて、吐出ヘッド3を駆動する。
The droplet discharge device IJ of this embodiment is a multi-head type droplet discharge device including a plurality of
本実施形態において、基板Pは、例えば特開2006−114593号公報、特開2006−261146号公報等に開示されているような、低温同時焼成セラミックス(LTCC:Low Temperature Co-fired Ceramics)多層回路基板を形成するための基板であって、焼成前のLTCC基板(グリーンシート)を含む。また、機能液は、例えば特開2005−34837号公報に開示されているような、導電性微粒子を所定の分散媒に分散したものを含む。本実施形態においては、機能液の導電性微粒子は、銀の微粒子(有機銀化合物、酸化銀ナノ粒子を含む)を主成分とし、分散媒は、水を主成分とする。本実施形態においては、液滴吐出装置IJが、焼成前のLTCC基板(グリーンシート)に、銀の微粒子を含む機能液の液滴Dを吐出して、その液滴Dで基板(グリーンシート)に配線パターンを形成する場合を例にして説明する。 In the present embodiment, the substrate P is a low temperature co-fired ceramics (LTCC) multilayer circuit as disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2006-114593 and 2006-261146. It is a board | substrate for forming a board | substrate, Comprising: The LTCC board | substrate (green sheet) before baking is included. The functional liquid includes, for example, those obtained by dispersing conductive fine particles in a predetermined dispersion medium as disclosed in JP-A-2005-34837. In the present embodiment, the conductive fine particles of the functional liquid are mainly composed of silver fine particles (including organic silver compounds and silver oxide nanoparticles), and the dispersion medium is mainly composed of water. In the present embodiment, the droplet discharge device IJ discharges a droplet D of a functional liquid containing silver fine particles onto an LTCC substrate (green sheet) before firing, and the substrate (green sheet) with the droplet D A case where a wiring pattern is formed will be described as an example.
液滴吐出装置IJは、少なくとも3つの移動体を有する。本実施形態においては、液滴吐出装置IJは、4つの移動体4、5、6、7を有する。第1移動体4は、Y軸に沿って配置された4つの移動体のうち、最も−Y側に配置されており、第4移動体7は、最も+Y側に配置されている。すなわち、第1移動体4と第2移動体7とは、Y軸に沿って配置された4つの移動体4、5、6、7のうち、Y軸方向に関して両端に配置されている。第2移動体5及び第3移動体6は、第1移動体4と第4移動体7との間に順次配置されている。
第2移動体5は、第3移動体6の−Y側に配置されている。
The droplet discharge device IJ has at least three moving bodies. In the present embodiment, the droplet discharge device IJ includes four moving
The second moving
第1移動体4は、液滴Dでパターンが形成される基板Pを保持しながら移動可能である(第1移動体の詳細については後述する)。第2、第3、第4移動体5、6、7は、吐出ヘッド3をメンテナンスするメンテナンス装置を含む。本実施形態においては、第2移動体5は、吐出ヘッド3の吐出面2を覆うキャッピング装置13を含む。第3移動体6は、吐出ヘッド3の吐出面2の異物を払うワイピング装置14を含む。第4移動体7は、吐出ヘッド3の少なくとも一部を機能液以外の液体に浸ける浸漬装置15を含む。
The first moving
液滴吐出装置IJは、各移動体4、5、6、7を移動可能に支持する支持面16を有するベース部材17を備えている。各移動体4、5、6、7のそれぞれは、支持面16に沿って移動可能である。本実施形態においては、支持面16は、XY平面とほぼ平行である。また、本実施形態においては、ベース部材17の支持面16と、その支持面16と対向する各移動体4、5、6、7の対向面との間にエアベアリングが形成されている。各移動体4、5、6、7は、エアベアリングにより、支持面16に対して非接触で浮上支持される。
The droplet discharge device IJ includes a
また、液滴吐出装置IJは、複数の移動体4、5、6、7のY軸方向への移動を案内するガイド部材18を備えている。ガイド部材18は、Y軸方向に長い棒状の部材であり、支持面16の上に配置されている。本実施形態においては、ガイド部材18の両端は、ガイド部材18の外側に配置された支持部材19で支持されている。支持部材19は、床面20に支持されている。また、ベース部材17は、床面20に支持された支持部材21で支持されている。
In addition, the droplet discharge device IJ includes a
本実施形態においては、駆動装置8は、リニアモータを含み、複数の移動体4、5、6、7のそれぞれを独立して移動可能である。駆動装置8は、ガイド部材18に配置されたリニアモータの固定子22と、ガイド部材18と対向する各移動体4、5、6、7の対向面のそれぞれに配置されたリニアモータの可動子23、24、25、26とを有する。制御装置10は、リニアモータを含む駆動装置8を用いて、各移動体4、5、6、7のそれぞれをベース部材17上で独立して移動可能である。
In the present embodiment, the driving
また、液滴吐出装置IJは、吐出ヘッド3と別の位置に配置され、第1移動体4に基板Pを搬入する動作、及び第1移動体4から基板Pを搬出する動作の少なくとも一方を実行する基板搬送装置27を備えている。基板搬送装置27の近傍には、基板Pを収容可能な基板収容装置28が配置されている。
The droplet discharge device IJ is disposed at a position different from the
基板搬送装置27は、Y軸方向に関して第1位置A1と異なる第2位置A2に配置された第1移動体4に基板Pを搬入する動作、及び第1移動体4から基板Pを搬出する動作の少なくとも一方を実行する。第1位置A1と第2位置A2とは、Y軸方向に関して離れている。本実施形態においては、第1位置A1は、第2位置A2の+Y側の位置である。第1移動体4は、吐出ヘッド3の吐出面2と対向する第1位置A1と、基板搬送装置27の近傍の第2位置A2との間を、ベース部材17の支持面16に沿って移動可能である。
The
基板搬送装置27は、例えば基板収容装置28に収容されている基板Pを、第2位置A2に配置された第1移動体4に搬入可能である。また、基板搬送装置27は、第2位置A2に配置された第1移動体4より基板Pを搬出し、基板収容装置28に収容可能である。
The
また、本実施形態においては、液滴吐出装置IJは、第1移動体4の移動経路の少なくとも一部に配置され、第1移動体4の熱の周囲への放散を遮る断熱部材29を備えている。断熱部材29は、第1移動体4を含む各移動体5、6、7の移動を妨げないように、ベース部材17の所定位置に取り付けられている。
Further, in the present embodiment, the droplet discharge device IJ is provided with a
また、液滴吐出装置IJは、上述の吐出ヘッド3、キャリッジ部材11、移動体4、5、6、7、ベース部材17、ガイド部材18、基板搬送装置27、基板収容装置28、断熱部材29、機能液収容装置9、制御器12、及び制御装置10等の各機器、部材等を収容するチャンバ本体30と、チャンバ本体30の内側の空間の環境(温度、湿度、クリーン度等)を調整可能な空調装置31とを有するチャンバ装置32を備えている。
Further, the droplet discharge device IJ includes the
次に、図3及び図4を参照しながら、吐出ヘッド3について説明する。図3は、キャリッジ部材11に支持された複数の吐出ヘッド3を下側から見た図、図4は、吐出ヘッド3の構造の一例を説明するための断面図である。
Next, the
本実施形態の吐出ヘッド3は、ピエゾ素子(圧電素子)33に所定の駆動信号を供給して、そのピエゾ素子33を変形させることによって、機能液を収容した空間34の圧力を可撓性の振動板(膜)35を介して変動させ、その圧力の変動を利用して、吐出口1より機能液の液滴Dを吐出する、いわゆる電気機械変換方式の吐出ヘッドである。制御器12は、制御装置10の指令に基づいて、吐出ヘッド3を駆動する。制御器12は、吐出ヘッド3のピエゾ素子33に所定の駆動信号を供給して、その駆動信号に応じた大きさの液滴Dを吐出口1のそれぞれより吐出可能である。
The
図3に示すように、本実施形態の液滴吐出装置IJは、複数の吐出ヘッド3を有する。
複数の吐出ヘッド3は、キャリッジ部材11に支持されている。吐出ヘッド3は、機能液の液滴Dを吐出する吐出口(吐出ノズル)1が形成された吐出面(ノズル形成面)2を有する。吐出面2は、所定方向に長い形状(本実施形態においてはほぼ長方形状)を有する。吐出口1は、吐出面2において、所定方向(吐出面2の長手方向)に沿って複数形成されている。本実施形態においては、複数の吐出口1が並ぶ所定方向は、XY平面内においてX軸方向に対して傾斜する方向である。
As shown in FIG. 3, the droplet discharge device IJ of the present embodiment has a plurality of discharge heads 3.
The plurality of ejection heads 3 are supported by the
図4に示すように、吐出ヘッド3は、ヘッド本体36と、ヘッド本体36の下端に配置されたプレート部材(ノズルプレート)37とを有する。吐出口1は、プレート部材37に形成されている。プレート部材37は、上下方向に貫通する孔を複数有する。吐出口1は、その孔の下端に配置されている。吐出面2は、プレート部材37に配置されている。
As shown in FIG. 4, the
本実施形態においては、吐出ヘッド3(プレート部材37)の吐出面2は、下側(−Z側)に向いている。吐出ヘッド3からの液滴Dが吐出(供給)される基板Pの表面は、吐出ヘッド3の吐出面2と対向するように、上側(+Z側)に向いている。第1移動体4は、基板Pの表面が上側(+Z側)を向くように、基板Pを保持する。また、吐出ヘッド3の吐出面2は、XY平面とほぼ平行である。第1移動体4は、基板Pの表面とXY平面とがほぼ平行となるように、基板Pを保持する。制御装置10は、吐出ヘッド3の吐出面2と第1移動体4に保持された基板Pの表面との間の距離(プラテンギャップ)を所定の値(例えば600μm)に維持した状態で、吐出口1より基板Pに液滴Dを吐出する。
In the present embodiment, the
また、吐出ヘッド3は、プレート部材37(吐出口1)の上方に形成されたキャビティ(空間)34と、キャビティ34の上方に配置された可撓性の板(振動板)35と、振動板35の上方に配置されたピエゾ素子33とを有する。キャビティ34は、複数の吐出口1のそれぞれに対応するように複数形成されている。キャビティ34は、流路を介して機能液収容装置9と接続される。キャビティ34は、機能液収容装置9からの機能液を収容し、吐出口1に供給する。
The
振動板35は、上下方向に振動することによって、キャビティ34の圧力(容積)を変動可能である。ピエゾ素子33は、振動板35を上下方向に振動可能である。ピエゾ素子33は、複数の吐出口1のそれぞれに対応するように複数配置されている。ピエゾ素子33は、制御器12からの駆動信号に基づいて振動板35を振動させ、キャビティ34の圧力を変動させることによって、吐出口1より機能液の液滴Dを吐出させる。
The
また、制御器12は、例えば特開2001−58433号公報に開示されているように、ピエゾ素子33に供給する駆動信号(駆動波形)を調整して、吐出口1のそれぞれから吐出される液滴Dの量(大きさ、体積)を調整可能である。
Further, the
図1に示すように、本実施形態の液滴吐出装置IJは、複数の吐出ヘッド3を、それら複数の吐出ヘッド3の位置がほぼ動かないように保持する保持装置38を備えている。保持装置38は、キャリッジ部材11と、そのキャリッジ部材11を支持する支持機構39とを含む。本実施形態においては、支持機構39は、チャンバ本体30の天井面(内面)に固定されている。すなわち、本実施形態においては、複数の吐出ヘッド3は、キャリッジ部材11及び支持機構39を含む保持装置38を介して、チャンバ本体30の天井面(内面)に対してほぼ動かないように保持されている。
As shown in FIG. 1, the droplet discharge device IJ of this embodiment includes a holding
本実施形態においては、支持機構39は、キャリッジ部材11を微動可能なアクチュエータを含む。支持機構39は、キャリッジ部材11を、X軸、Y軸、Z軸、θX、θY、及びθZ方向の6自由度の方向に微動可能である。
In the present embodiment, the
次に、図5及び図6を参照しながら、基板Pを搭載して移動する第1移動体(移動体)4について説明する。図5は、第1移動体4を示す斜視図、図6は、第1移動体4を−Y側から見た図である。
Next, the first moving body (moving body) 4 that moves by mounting the substrate P will be described with reference to FIGS. 5 and 6. FIG. 5 is a perspective view showing the first moving
第1移動体4は、液滴Dでパターンが形成される基板Pを保持しながら移動可能である。第1移動体4は、リニアモータの可動子23を有する第1可動部材40と、第1可動部材40に搭載され、基板Pを保持する保持機構41を有するホルダ部材42とを備える。
The first moving
ベース部材17の支持面16と対向する第1可動部材40の下面には、エアベアリング43が形成されている。第1可動部材40は、エアベアリング43により、支持面16に対して非接触で支持される。第1移動体4のホルダ部材42は、基板Pの表面と吐出ヘッド3の吐出面2とが対向するように、且つ、基板Pの表面とXY平面とがほぼ平行となるように、基板Pを保持する。
An
上述のように、本実施形態の基板Pはグリーンシートを含み、そのグリーンシートには厚み方向に貫通する孔(ビア)が形成されている。基板P(グリーンシート)の裏面には、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)で形成されたフィルムが貼り付けられており、第1移動体4のホルダ部材42は、フィルムFに支持された状態の基板Pを保持する。すなわち、本実施形態においては、第1移動体4のホルダ部材42は、フィルムを介して基板P(グリーンシート)を保持する。
As described above, the substrate P of the present embodiment includes a green sheet, and a hole (via) penetrating in the thickness direction is formed in the green sheet. A film made of, for example, polyethylene terephthalate (PET) is attached to the back surface of the substrate P (green sheet), and the
第1可動部材40の下面には、ガイド部材18を配置可能な凹部44が形成されている。第1可動部材40の凹部44の内面は、ガイド部材18と対向する。上述のように、ガイド部材18には、リニアモータの固定子22が配置されている。ガイド部材18と対向する第1可動部材40の凹部44の内面には、リニアモータの可動子23が配置される。
固定子22及び可動子23を含む駆動装置8は、第1可動部材40をY軸方向に移動可能である。また、第1可動部材40のY軸方向への移動に伴って、その第1可動部材40に搭載されているホルダ部材42(基板P)も、第1可動部材40と一緒にY軸方向に移動する。
A
The driving
本実施形態においては、第1可動部材40とホルダ部材42との間には、複数のアクチュエータ45が配置されている。アクチュエータ45は、例えばピエゾ素子を含む。制御装置10は、これらアクチュエータ45を制御することによって、第1可動部材40上で、基板Pを保持したホルダ部材42を移動(微動)可能である。本実施形態においては、基板Pを保持したホルダ部材42は、アクチュエータ45によって、第1可動部材40上で、X軸、Y軸、Z軸、θX、θY、及びθZ方向の6自由度の方向に移動(微動)可能である。
In the present embodiment, a plurality of
吐出ヘッド3から吐出された液滴Dを基板Pに供給するために、制御装置10は、駆動装置8を用いて第1移動体4を移動させて、吐出ヘッド3の吐出面2と対向する第1位置A1に、第1移動体4(ホルダ部材42)に保持されている基板Pを配置する。また、制御装置10は、第1可動部材40とホルダ部材42との間に配置されているアクチュエータ45を用いて、吐出面2の吐出口1から吐出された液滴Dが基板Pの所定位置に供給されるように、吐出ヘッド3の吐出面2と第1移動体4に保持されている基板Pの表面との間の距離(プラテンギャップ)、吐出ヘッド3の吐出面2と第1移動体4に保持されている基板Pの表面との傾斜方向(θX、θY方向)の位置関係、及び回転方向(θZ方向)の位置関係を調整する。制御装置10は、アクチュエータ45を用いて、吐出ヘッド3の吐出面2と基板Pの表面とがほぼ平行となるように、且つ、プラテンギャップが所定の値になるように、吐出ヘッド3の吐出面2と第1移動体4に保持されている基板Pの表面との位置関係を調整する。
In order to supply the droplets D ejected from the
また、本実施形態においては、各ホルダ部材42における吐出ヘッド3の吐出面2と対向可能なホルダ部材42の上面のうち、基板Pを保持する保持機構41のY軸方向両側には、フラッシング領域46がそれぞれ設けられている。フラッシング領域46は、吐出ヘッド3の吐出口2から吐出された液滴Dを吸収可能な多孔部材の上面で形成されている。多孔部材は、例えばスポンジ状の部材を含む。
In the present embodiment, a flushing region is provided on both sides in the Y-axis direction of the
制御装置10は、吐出ヘッド3より基板Pに液滴Dを供給する前に、吐出ヘッド3の吐出口1と上記のフラッシング領域46とを対向させた状態で、吐出口1より液滴Dを予め吐出する動作、いわゆるフラッシング動作を実行する。
Before supplying the droplet D from the
また、第1移動体4は、基板Pを加熱する加熱装置47を有する。加熱装置47は、ホルダ部材42に設けられている。制御装置10は、ホルダ部材42の加熱装置47を用いて、そのホルダ部材42に保持されている基板Pを加熱可能である。
Further, the first moving
加熱装置47は、吐出ヘッド3の吐出口1より吐出され、基板Pに供給された(接触した)液滴Dに含まれる液体成分を瞬時に気化可能である。液滴吐出装置IJは、加熱装置47を用いて基板Pを加熱しつつ、その加熱された基板Pに吐出ヘッド3の吐出口1より液滴Dを供給することによって、基板Pに接触した液滴Dを瞬時に乾燥可能である。
The
また、基板Pを加熱しつつ、その基板Pに液滴Dを供給することにより、ピニング現象を生じさせることができる。基板Pに供給された後の液滴Dの乾燥過程においては、液滴Dの周縁部における固形分濃度が飽和濃度に達すると、その周縁部において固形分が局所的に析出する。すると、その析出した固形分によって液滴Dの周縁部がピン止めされたような状態となり、それ以降の乾燥に伴う液滴Dの収縮(外径の収縮)が抑制される。このような、周縁部に析出した固形分によって乾燥に伴う液滴Dの収縮が抑制される現象(ピニング現象)を生じさせることによって、基板Pに形成されるパターン(本実施形態においては配線パターン)のエッジ(外形)を良好に規定することができる。 Further, by supplying the droplet D to the substrate P while heating the substrate P, the pinning phenomenon can be caused. In the drying process of the droplet D after being supplied to the substrate P, when the solid content concentration at the peripheral portion of the droplet D reaches the saturation concentration, the solid content locally precipitates at the peripheral portion. Then, the peripheral portion of the droplet D is pinned by the deposited solid content, and the contraction of the droplet D (outer diameter contraction) accompanying the subsequent drying is suppressed. A pattern (pinning phenomenon in this embodiment) formed on the substrate P by causing such a phenomenon (pinning phenomenon) that the shrinkage of the droplets D caused by drying is suppressed by the solid content deposited on the peripheral portion. ) Edge (outer shape) can be well defined.
なお、例えば特開2005−28276号公報、特開2005−144324号公報等に開示されているように、基板Pの表面に配置された液滴Dの乾燥条件、対流条件等を調整して、基板Pに吐出(供給)された液滴Dに、ピニング現象を生じさせるようにしてもよい。 For example, as disclosed in JP-A-2005-28276, JP-A-2005-144324, etc., adjusting the drying conditions, convection conditions, etc. of the droplets D arranged on the surface of the substrate P, You may make it produce the pinning phenomenon in the droplet D discharged (supplied) to the substrate P.
以下の説明において、第1移動体4の基板Pを第1位置A1に配置して、その基板Pにパターンを形成するための液滴Dを吐出口1より吐出する処理を適宜、パターン形成処理、と称する。
In the following description, the process of disposing the substrate P of the first moving
次に、図7及び図8を参照しながら、第2移動体5について説明する。図7は、第2移動体5を−X側から見た図、図8は、第2移動体5の動作の一例を説明するための図である。第2移動体5は、吐出ヘッド3の吐出面2を覆うキャッピング装置13を含む。
Next, the 2nd
キャッピング装置13は、吐出ヘッド3の吐出面2を覆うキャップ部材48を備える。
キャップ部材48は、吐出ヘッド3と対向可能な上面と、その上面に形成され、吐出ヘッド3の吐出面2との間で密閉された空間49を形成可能なキャップ部50とを有する。キャップ部50は、キャップ部材48の上面に形成された凹部(溝)を含み、その凹部によって、吐出ヘッド3の吐出面2との間で空間49を形成可能である。キャップ部50は、複数の吐出ヘッド3に対応するように、複数設けられている。
The
The
図8に示すように、キャッピング装置13は、吐出ヘッド3の吐出面2の全てをキャップ部(凹部)50の内側に配置可能である。キャッピング装置13は、例えばキャップ部(凹部)50の内側面の上端と、吐出面2の外側の吐出ヘッド3(プレート部材37)の側面とを接触させることによって、空間49を形成する。
As shown in FIG. 8, the
また、キャッピング装置13は、キャップ部(凹部)50の底面に形成され、空間49の流体を吸引可能な吸引口53と、吸引口53と流路54を介して接続された真空システム55とを有する。
The
第2移動体5は、リニアモータの可動子24を有する第2可動部材51を有し、キャッピング装置13のキャップ部材48は、第2可動部材51上に搭載されている。上述の第1可動部材40と同様、ベース部材17の支持面16と対向する第2可動部材51の下面にはエアベアリングが形成されており、第2可動部材51は、支持面16に対して非接触で支持される。また、上述の第1可動部材40と同様、第2可動部材51の下面には、ガイド部材18を配置可能な凹部が形成されており、可動子24は、ガイド部材18と対向する第2可動部材51の凹部の内面に配置されている。固定子22及び可動子24を含む駆動装置8は、第2可動部材51をY軸方向に移動可能である。また、第2可動部材51のY軸方向への移動に伴って、その第2可動部材51に搭載されているキャッピング装置13のキャップ部材48も、第2可動部材51と一緒にY軸方向に移動する。
The second moving
また、上述の第1移動体4と同様、第2可動部材51とキャップ部材48との間には複数のアクチュエータ52が配置されている。制御装置10は、これらアクチュエータ52を制御することによって、第2可動部材51上で、キャップ部材48を移動(微動)可能である。本実施形態においては、キャップ部材48は、アクチュエータ52によって、第2可動部材51上で、X軸、Y軸、Z軸、θX、θY、及びθZ方向の6自由度の方向に移動(微動)可能である。
Further, similarly to the first moving
キャップ部材48で吐出ヘッド3の吐出面2を覆うために、制御装置10は、駆動装置8を用いて第2移動体5を移動して、吐出ヘッド3の吐出面2と対向する第1位置A1に、第2移動体5のキャッピング装置13を配置する。そして、制御装置10は、第2可動部材51とキャップ部材48との間に配置されているアクチュエータ52を用いて、吐出ヘッド3の吐出面2とキャップ部材48のキャップ部50との間に空間49が形成されるように、吐出ヘッド3の吐出面2とキャップ部材48のキャップ部50との位置関係を調整する。例えば、制御装置10は、アクチュエータ52を用いて、キャップ部材51を+Z方向に移動する。これにより、吐出面2がキャップ部50の内側に配置され、キャップ部50の内側面の上端と、吐出面2の外側の吐出ヘッド3(プレート部材37)の側面とが接触し、空間49が形成される。
In order to cover the
キャッピング装置13は、吐出ヘッド3の吐出面2とキャップ部50との間で空間49を形成した状態で、真空システム55を駆動することによって、空間49の流体を吸引口53を介して吸引可能である。キャッピング装置13は、吸引口53より空間49の流体(主に気体)を吸引して、空間49を負圧にすることができる。キャッピング装置13は、空間49を負圧にすることによって、キャビティ34等、吐出ヘッド3の内部の機能液を、吐出口1を介して吸引可能である。キャッピング装置13は、空間49の流体を吸引することによって、吐出ヘッド3の内部において、吐出口1に向かう機能液の流れを生成できる。
The
なお、図7及び図8を参照して説明したキャッピング装置13は、主に吐出ヘッド3の機能液を吸引する吸引機能を有するが、吐出面2(吐出口1)の乾燥を抑制する機能(保湿機能)を有していてもよい。例えば、キャップ部50の内側に湿った多孔部材(メッシュ部材)を配置し、その湿った多孔部材を含むキャップ部50と吐出ヘッド3の吐出面2とを対向させることによって、吐出面2の乾燥を抑制できる。すなわち、吐出面2とキャップ部50とで形成される空間49の内側に、湿った多孔部材を配置することによって、吐出面2の乾燥を抑制できる。
The
以下の説明において、第2移動体5を第1位置A1に配置して、吐出面2とキャップ部50とを対向させて、吐出面2をキャップ部材48で覆う処理を適宜、キャッピング処理、と称する。
In the following description, the process of placing the second moving
次に、図9及び図10を参照しながら、第3移動体6について説明する。図9は、第3移動体6を−X側から見た図、図10は、第3移動体6の動作の一例を説明するための図である。第3移動体6は、吐出ヘッド3の吐出面2の異物を払うワイピング装置14を含む。
吐出ヘッド3の吐出面2の異物は、液滴を含む。液滴は、機能液の液滴D、及び浸漬装置15の液体の液滴の少なくとも一方を含む。
Next, the 3rd
The foreign matter on the
ワイピング装置14は、吐出ヘッド3の吐出面2と対向した状態で、吐出面2に対して相対的に移動可能なワイピング面56を有するワイピング部材57と、ワイピング部材57のワイピング面56を移動するための駆動機構58と、ワイピング部材57及び駆動機構58を収容するハウジング部材59とを有する。
The wiping
ワイピング部材57の少なくとも一部は、吐出ヘッド3と対向可能なハウジング部材59の上面に形成された開口60より露出(突出)しており、吐出ヘッド3の吐出面2と対向可能である。ワイピング装置14は、吐出ヘッド3の吐出面2とワイピング部材57のワイピング面56とを対向させた状態で、吐出面2に対してワイピング部材57のワイピング面56を移動することによって、そのワイピング面56で吐出ヘッド3の吐出面2に付着している異物を払う(除去する)ことができる。
At least a part of the wiping
本実施形態においては、ワイピング部材57はシート状の部材である。ワイピング部材57は、液体を吸収可能な材料で形成されている。ワイピング部材57は、例えば不織布を含む。なお、ワイピング部材57は、例えばポリエステル等の織布であってもよい。液体を吸収可能な材料でワイピング部材57を形成することによって、吐出ヘッド3の吐出面2に付着している異物が液滴である場合、その液滴(異物)を良好に除去できる。
In the present embodiment, the wiping
ワイピング部材57のワイピング面56を移動するための駆動機構58は、ワイピング部材57を支持しながら回転する複数のローラを有する。駆動機構58は、ハウジング部材59の内側に配置され、シート状のワイピング部材57を繰り出す繰り出しローラ61と、ワイピング部材57を巻き取る巻き取りローラ62と、吐出ヘッド3の吐出面2に最も近い位置に配置され、吐出ヘッド3の吐出面2と対向するワイピング部材57のワイピング面56と反対側の面を支持する支持ローラ63とを有する。繰り出しローラ61、及び巻き取りローラ62のそれぞれは、回転モータ等のアクチュエータ64、65によって回転する。ワイピング装置14は、アクチュエータ64、65を制御して、ワイピング部材57のワイピング面56を所定速度で移動(走行)させる。また、駆動機構58は、ワイピング部材57の移動(走行)を案内するガイドローラ、及びワイピング部材57の張力を調整可能なテンションローラを備える。
The
第3移動体6は、リニアモータの可動子25を有する第3可動部材66を有し、ワイピング装置14のハウジング部材59は、第3可動部材66上に搭載されている。上述の第1可動部材40と同様、ベース部材17の支持面16と対向する第3可動部材66の下面にはエアベアリングが形成されており、第3可動部材66は、支持面16に対して非接触で支持される。また、上述の第1可動部材40と同様、第3可動部材66の下面には、ガイド部材18を配置可能な凹部が形成されており、可動子25は、ガイド部材18と対向する第3可動部材66の凹部の内面に配置されている。固定子22及び可動子25を含む駆動装置8は、第3可動部材66をY軸方向に移動可能である。また、第3可動部材66のY軸方向への移動に伴って、その第3可動部材66に搭載されているワイピング装置14のハウジング部材59も、第3可動部材66と一緒にY軸方向に移動する。
The third moving
また、上述の第1移動体4と同様、第3可動部材66とハウジング部材59との間には複数のアクチュエータ67が配置されている。制御装置10は、これらアクチュエータ67を制御することによって、第3可動部材66上で、ハウジング部材59を移動(微動)可能である。本実施形態においては、ハウジング部材59は、アクチュエータ67によって、第3可動部材66上で、X軸、Y軸、Z軸、θX、θY、及びθZ方向の6自由度の方向に移動(微動)可能である。また、ワイピング装置14のワイピング部材57及びローラを含む駆動機構58は、ハウジング部材59の移動に伴って、第3可動部材66上で、ハウジング部材59と一緒に移動する。
Further, similarly to the first moving
ワイピング部材57で吐出ヘッド3の吐出面2の異物を払うために、制御装置10は、駆動装置8を用いて第3移動体6を移動して、吐出ヘッド3の吐出面2と対向する第1位置A1に、第3移動体6のワイピング装置14を配置する。そして、制御装置10は、第3可動部材66とハウジング部材59との間に配置されているアクチュエータ67を用いて、ワイピング面56で吐出面2の異物を払うことができるように、吐出ヘッド3の吐出面2と支持ローラ63に支持されている部分のワイピング部材57のワイピング面56との位置関係を調整する。例えば、制御装置10は、アクチュエータ67を用いて、ハウジング部材59をZ軸方向に移動する。ハウジング部材59のZ軸方向の移動に伴って、ワイピング部材57を支持する支持ローラ63もZ軸方向に移動する。制御装置10は、アクチュエータ67を用いて、吐出ヘッド3の吐出面2と支持ローラ63に支持されている部分のワイピング部材57のワイピング面56との間のZ軸方向の距離(ギャップ)を調整する。そして、制御装置10は、繰り出しローラ61、及び巻き取りローラ62を駆動して、吐出ヘッド3の吐出面2に対してワイピング部材57のワイピング面56を移動(走行)させる。これにより、ワイピング装置14は、吐出ヘッド3の吐出面2に付着している異物を払う(除去する)ことができる。
In order to wipe off the foreign matter on the
以下の説明において、第3移動体6を第1位置A1に配置して、吐出面2とワイピング面56とを対向させて、吐出面2の異物を払う処理を適宜、ワイピング処理、と称する。
In the following description, the process in which the third moving
次に、図11及び図12を参照しながら、第4移動体7について説明する。図11は、第4移動体7を−X側から見た図、図12は、第4移動体7の動作の一例を説明するための図である。第4移動体7は、吐出ヘッド3の少なくとも一部を機能液以外の液体に浸ける浸漬装置15を含む。
Next, the 4th moving
浸漬装置15は、液体を収容する容器68を備える。浸漬装置15の液体は、吐出ヘッド3の少なくとも一部をクリーニングするためのクリーニング用液体、及び吐出ヘッド3の少なくとも一部を冷却するための冷却用液体の少なくとも一方を含む。浸漬装置15の容器68の上部には開口69が形成されており、吐出ヘッド3は、その開口69を介して、容器68の内側の空間に移動可能(進入可能)である。制御装置10は、吐出ヘッド3を浸漬装置15の容器68の内側の空間に配置して液体に浸けることによって、吐出面2、吐出口1等、吐出ヘッド3の少なくとも一部をクリーニングしたり、冷却したりすることができる。
The dipping
浸漬装置15の液体として、例えば機能液の分散媒を用いることができる。本実施形態の分散媒は、水を主成分とした液体であるため、浸漬装置15の液体として、水、もしくは水を主成分とした液体を用いることができる。これにより、吐出面2、吐出口1等、吐出ヘッド3の少なくとも一部をクリーニングしたり、冷却したりすることができる。
As the liquid of the
第4移動体7は、リニアモータの可動子26を有する第4可動部材70を有し、浸漬装置15の容器68は、第4可動部材70上に搭載されている。上述の第1可動部材40と同様、ベース部材17の支持面16と対向する第4可動部材70の下面にはエアベアリングが形成されており、第4可動部材70は、支持面16に対して非接触で支持される。また、上述の第1可動部材40と同様、第4可動部材70の下面には、ガイド部材18を配置可能な凹部が形成されており、可動子26は、ガイド部材18と対向する第4可動部材70の凹部の内面に配置されている。固定子22及び可動子26を含む駆動装置8は、第4可動部材70をY軸方向に移動可能である。また、第4可動部材70のY軸方向への移動に伴って、その第4可動部材70に搭載されている浸漬装置15の容器68も、第4可動部材70と一緒にY軸方向に移動する。
The fourth moving
また、上述の第1移動体4と同様、第4可動部材70と容器68との間には複数のアクチュエータ71が配置されている。制御装置10は、これらアクチュエータ71を制御することによって、第4可動部材70上で、容器68を移動(微動)可能である。本実施形態においては、容器68は、アクチュエータ71によって、第4可動部材70上で、X軸、Y軸、Z軸、θX、θY、及びθZ方向の6自由度の方向に移動(微動)可能である。
また、浸漬装置15の容器68に収容されている液体の表面は、容器68の移動に伴って、第4可動部材70上で、容器68と一緒に移動する。
Further, similarly to the first moving
Further, the surface of the liquid stored in the
浸漬装置15の液体に吐出ヘッド3の少なくとも一部を浸けるために、制御装置10は、駆動装置8を用いて第4移動体7を移動して、吐出ヘッド3の吐出面2と対向する第1位置A1に、第4移動体7の浸漬装置15を配置する。そして、制御装置10は、第4可動部材70と容器68との間に配置されているアクチュエータ71を用いて、少なくとも吐出ヘッド3の吐出面2が容器68の液体に浸かるように、吐出ヘッド3の吐出面2と容器68(液体の表面)との位置関係を調整する。例えば、制御装置10は、アクチュエータ71を用いて、容器68を+Z方向に移動する。容器68の+Z方向への移動に伴って、容器68に収容されている液体の表面は、吐出ヘッド3に近づくように移動する。これにより、浸漬装置15は、吐出ヘッド3の少なくとも一部を液体に浸けることができる。
また、制御装置10は、アクチュエータ71を用いて容器68を−Z方向に移動することによって、容器68に収容されている液体と吐出ヘッド3とを離すことができる。
In order to immerse at least a part of the
In addition, the
以下の説明において、第4移動体7を第1位置A1に配置して、吐出面2と容器68の液体の表面とを対向させて、吐出ヘッド3の少なくとも一部を容器68の液体に浸ける処理を適宜、浸漬処理、と称する。
In the following description, the fourth moving
また、以下の説明において、吐出ヘッド3をメンテナンスする処理を適宜、メンテナンス処理、と称する。メンテナンス処理は、上述のキャッピング処理、ワイピング処理、及び浸漬処理の少なくとも一つを含む。
In the following description, a process for maintaining the
図2に示すように、断熱部材29は、第1移動体4を含む各移動体5、6、7の移動経路の少なくとも一部に配置されている。断熱部材29は、第1移動体4の熱の周囲への放散を遮る。上述のように、第1移動体4(ホルダ部材42)は、基板Pを加熱する加熱装置47を含む。断熱部材29は、加熱装置47を含む第1移動体4から発する熱の周囲への放散を遮る。
As shown in FIG. 2, the
断熱部材29は、第1位置A1以外の移動体4、5、6、7の移動経路に配置される。
すなわち、断熱部材29は、吐出ヘッド3を用いた処理が実行される第1位置A1には配置されない。これにより、吐出ヘッド3と各移動体4、5、6、7との協働による各種処理(パターン形成処理、メンテナンス処理等)の実行は妨げられない。
The
That is, the
また、断熱部材29は、基板搬送装置27による処理が実行される第2位置A2にも配置されない。すなわち、本実施形態においては、断熱部材29は、第1位置A1及び第2位置A2以外の移動体4、5、6、7の移動経路に配置される。これにより、第2位置A2に配置された第1移動体4に対する基板搬送装置27による基板Pの搬入動作、及び第1移動体4からの基板Pの搬出動作は妨げられない。
Further, the
本実施形態においては、断熱部材29は、ベース部材17上の各移動体4、5、6、7と離れた位置で、移動体4、5、6、7を囲むように配置される。断熱部材29は、各移動体4、5、6、7が移動可能な内部空間72を形成する。具体的には、断熱部材29は、ベース部材17の支持面16との間で、各移動体4、5、6、7が移動可能(配置可能)な内部空間72を形成する。断熱部材29は、内部空間72に配置されている第1移動体4の熱の外部空間73への放散を遮る。外部空間73は、内部空間72に対して断熱部材29の外側の空間である。本実施形態においては、外部空間73は、チャンバ本体30(チャンバ本体30の内面)と断熱部材29(断熱部材29の外面)との間の空間を含む。
In the present embodiment, the
チャンバ装置32の空調装置31は、少なくとも外部空間73の温度を調整する。これにより、チャンバ本体30内の各機器、部材は、所望の環境(温度)に配置される。
断熱部材29は、断熱性を有し、内部空間72に配置されている第1移動体4の熱の外部空間73への放散を遮ることができる材料で形成されている。本実施形態においては、断熱部材29は、例えば発泡スチロール、発泡ウレタン等、断熱性を有する合成樹脂製である。
The
The
本実施形態の断熱部材29は、トンネル状であり、断熱部材29のY軸方向の両側には、各移動体4、5、6、7が通過可能な開口(出入口)74が形成されている。開口74は、断熱部材29によって形成される内部空間72と外部空間73とを連通するように形成されている。
The
次に、上述の構成を有する液滴吐出装置IJを用いてデバイスを製造する手順の一例について説明する。
ここでは、上述した低温同時焼成セラミックス多層回路基板を形成するに際し、焼成前の複数のLTCC基板(グリーンシート)に対して機能液(導電性微粒子を含む分散液)の液滴を吐出して描画処理を順次行う例を用いて説明する。
Next, an example of a procedure for manufacturing a device using the droplet discharge apparatus IJ having the above-described configuration will be described.
Here, when forming the above-mentioned low-temperature co-fired ceramic multilayer circuit board, drawing is performed by discharging droplets of functional liquid (dispersed liquid containing conductive fine particles) onto a plurality of LTCC boards (green sheets) before firing. A description will be given using an example in which processing is sequentially performed.
この多層回路基板は、図13(a)に模式的に示すように、焼成前の基板G1〜G10(適宜、基板Gと総称する)を順次下層から積層し、圧着及び焼結することにより製造されるものである。
各基板G1〜G10に対しては、形成すべきパターンに応じて上記液滴が吐出されて描画される。各基板G1〜G10に対しては、図13(a)に示す描画率で描画されるものとする。本実施形態における描画率(描画デューティ)とは、各基板G1〜G10における描画可能領域(面積)に対する実際に描画される領域(面積)の割合で示されるものである。換言すると、この描画率は、吐出ヘッド3からの液滴吐出で描画される描画可能領域のドット数に対する実際に描画される領域のドット数で示されるものである。
As schematically shown in FIG. 13 (a), this multilayer circuit board is manufactured by sequentially laminating substrates G1 to G10 before firing (generally referred to as substrate G as appropriate) from the lower layers, and pressing and sintering. It is what is done.
On each of the substrates G1 to G10, the droplets are ejected and drawn according to the pattern to be formed. It is assumed that the substrates G1 to G10 are drawn at the drawing rate shown in FIG. The drawing rate (drawing duty) in this embodiment is indicated by the ratio of the area (area) actually drawn to the drawable area (area) in each of the substrates G1 to G10. In other words, this drawing rate is indicated by the number of dots in the actually drawn area with respect to the number of dots in the drawable area drawn by discharging the droplets from the
従来では、下層に位置する基板G1から順次描画処理を行っていたが、本実施形態では、各基板G1〜G10の描画率に基づき、描画処理を行った基板の後に、当該基板の描画率よりも小さい描画率の基板に対して描画処理を行うように、描画率の大きな基板から描画率が小さな基板に向かう順番で描画処理を行う。
すなわち、本実施形態では、図13(b)に示すように、基板G1→G2→G4→G7→G8→G3→G9→G6→G10→G5の順序で描画処理を行う。
Conventionally, the drawing process is sequentially performed from the substrate G1 positioned in the lower layer. However, in the present embodiment, the drawing rate of each of the substrates G1 to G10 is determined based on the drawing rate of each of the substrates. In addition, the drawing process is performed in the order from the substrate having the higher drawing rate to the substrate having the lower drawing rate so that the drawing process is performed on the substrate having the lower drawing rate.
That is, in this embodiment, as shown in FIG. 13B, the drawing processing is performed in the order of the substrate G1, G2, G4, G7, G8, G3, G9, G6, G10, and G5.
具体的には、まず、制御装置10は、駆動装置8を制御して、第2位置A2に第1移動体4を配置する。制御装置10は、基板搬送装置27を用いて、第2位置A2に配置された第1移動体4に基板P(例えば、基板G1(G))を搬入する。制御装置10は、駆動装置8を制御して、基板Pを保持した第1移動体4を、第1位置A1に移動させる。
Specifically, first, the
図14は、基板Pを保持した第1移動体4が第1位置A1に配置されている状態を示す模式図である。制御装置10は、フラッシング領域46に対して、吐出ヘッド3から機能液の液滴を予備吐出させた後に、吐出ヘッド3の吐出面2と対向する第1位置A1に、基板Pを保持した第1移動体4を配置する。そして、制御装置10は、制御器12及び駆動装置8を制御して、第1移動体4の基板Pを吐出ヘッド3の吐出口1に対してY軸方向に移動しつつ、吐出ヘッド3の吐出口1より、基板Pに液滴Dを吐出(供給)する。これにより、基板Pには、液滴Dによりパターンが形成される。制御装置10は、加熱装置47で基板Pを加熱しつつ、その基板Pに液滴Dを吐出する。
FIG. 14 is a schematic diagram illustrating a state in which the first moving
本実施形態においては、複数の吐出ヘッド3の吐出口1のうち、最も+X側の吐出口1と最も−X側の吐出口1との距離と、基板PのX軸方向の大きさとほぼ等しくすることにより、液滴吐出装置IJは、第1移動体4の基板Pを吐出ヘッド3の吐出口1に対してY軸方向に移動しつつ吐出ヘッド3の吐出口1より基板Pに液滴Dを吐出(供給)する際、基板PのY軸方向への1回のみの移動によって、基板Pの表面のほぼ全域に液滴Dを供給できる。
In the present embodiment, among the
なお、液滴吐出装置IJは、第1移動体4の基板Pを吐出ヘッド3の吐出口1に対してY軸方向に移動しつつ吐出ヘッド3の吐出口1より基板Pに液滴Dを吐出(供給)する動作を複数回繰り返してもよい。例えば、基板Pを+Y方向に移動しつつ液滴Dを吐出する動作と、基板Pを−Y方向に移動しつつ液滴Dを吐出する動作とを複数回繰り返してもよい。また、例えば特開2004−146796号公報等に開示されているように、基板PのY軸方向への移動毎に、基板PのX軸方向に関する位置を僅かな距離(例えば1つのピクセル分)だけ変化させてもよい。
In addition, the droplet discharge device IJ moves the substrate P of the first moving
なお、上述のように、本実施形態の基板Pは、焼結前のLTCC基板(グリーンシート)であって、フィルムFに支持されている。液滴吐出装置IJは、フィルムFに支持された状態の基板P(グリーンシート)に液滴Dを吐出する。
基板Pに対する液滴Dの吐出動作が終了した後、制御装置10は、第1移動体4から基板Pを搬出するために、駆動装置8を制御して、第1移動体4を第2位置A2に移動する。本実施形態においては、駆動装置8は、複数の移動体4、5、6、7を−Y方向(第1位置A1から第2位置A2へ向かう方向)に一緒に移動する。
第1位置A1と第2位置A2との間の第1移動体4の移動経路には断熱部材29が配置されているので、第1位置A1と第2位置A2との間を移動する第1移動体4の熱が外部空間73へ放散されることを抑制できる。
As described above, the substrate P of the present embodiment is an LTCC substrate (green sheet) before sintering, and is supported by the film F. The droplet discharge device IJ discharges the droplet D onto the substrate P (green sheet) supported by the film F.
After the operation of ejecting the droplets D on the substrate P is completed, the
Since the
図15は、基板Pを保持した第1移動体4が第2位置A2に配置されている状態を示す模式図である。本実施形態においては、基板Pを保持可能な第1移動体4は、複数(4つ)の移動体4、5、6、7のうち、最も−Y側(第2位置A2側)に配置されている移動体である。図15に示すように、第1移動体4が第2位置A2に配置されているときに、複数(4つ)の移動体4、5、6、7のうち、最も+Y側(第1位置A1側)に配置されている第4移動体7が第1位置A1に配置されるように、各移動体4、5、6、7の大きさ、数、及び第1位置A1と第2位置A2との距離等が設定されている。したがって、図15に示すように、第1移動体4が第2位置A2に配置されているとき、第1位置A1には第4移動体7が配置される。
FIG. 15 is a schematic diagram illustrating a state in which the first moving
制御装置10は、基板搬送装置27を用いて、第2位置A2に配置された第1移動体4から基板P(例えば、基板G1)を搬出するとともに、その第1移動体4に新たな基板P(例えば、基板G2)を搬入する一方、第1位置A1に配置された第4移動体7を用いて、吐出ヘッド3のメンテナンス処理を実行する。
The
第4移動体7の浸漬装置15は、吐出ヘッド3と協働して、メンテナンス処理(浸漬処理)を実行する。制御装置10は、図12等を参照して説明したように、浸漬装置15の液体に吐出ヘッド3を浸けて、吐出ヘッド3をクリーニングする。また、上述のように、第1移動体4の基板Pと対向した状態で液滴Dを吐出することによって、吐出ヘッド3(プレート部材37)は、加熱装置47を含む第1移動体4の熱によって加熱される可能性がある。吐出ヘッド3のプレート部材37が加熱され、その状態を放置しておくと、例えばプレート部材37が熱変形し、プレート部材37に形成されている吐出口1同士の距離(ノズルピッチ)が変動する可能性がある。ノズルピッチが変動すると、基板Pの所望の位置に液滴Dを供給できず、製造されるデバイスの性能が劣化する。本実施形態においては、浸漬装置15の液体に吐出ヘッド3を浸けることによって、加熱された吐出ヘッド3(プレート部材37)を冷却し、吐出ヘッド3(プレート部材37)を最適な温度に戻す(調整する)ことができる。したがって、ノズルピッチが変動する等の不具合の発生を抑制できる。
The dipping
また、本実施形態においては、制御装置10は、第1位置A1に配置された第4移動体7による吐出ヘッド3に対するメンテナンス処理と、第2位置A2に配置された第1移動体4を用いた処理(基板Pの搬出、搬入処理)の少なくとも一部とを並行して実行可能である。これにより、液滴吐出装置IJの処理効率を向上できる。
Further, in the present embodiment, the
第4移動体7を用いた処理(浸漬処理)が終了した後、制御装置10は、駆動装置8を制御して、複数の移動体4、5、6、7を+Y方向(第2位置A2から第1位置A1へ向かう方向)に一緒に移動し、第1位置A1に第3移動体6を配置する。制御装置10は、第1位置A1に配置された第3移動体6を用いて、吐出ヘッド3のメンテナンス処理を実行する。第3移動体6のワイピング装置14は、吐出ヘッド3と協働して、メンテナンス処理(ワイピング処理)を実行する。制御装置10は、図10等を参照して説明したように、ワイピング装置14のワイピング部材57を用いて、吐出ヘッド3の吐出面2に付着している異物を払う。本実施形態においては、ワイピング装置14によるワイピング処理の前に、浸漬装置15による浸漬処理が実行されている。吐出ヘッド3の吐出面2には、浸漬装置15の液体の液滴が残留している可能性がある。制御装置10は、ワイピング装置14を用いて、吐出ヘッド3の吐出面2に残留した浸漬装置15の液体の液滴を払う(除去する)。
After the processing (immersion processing) using the fourth moving
第3移動体6による吐出ヘッド3に対するワイピング処理が終了した後、制御装置10は、駆動装置8を制御して、複数の移動体4、5、6、7を+Y方向(第2位置A2から第1位置A1へ向かう方向)に一緒に移動し、第1位置A1に第2移動体5を配置する。
制御装置10は、第1位置A1に配置された第2移動体5を用いて、吐出ヘッド3のメンテナンス処理を実行する。第2移動体5のキャッピング装置13は、吐出ヘッド3と協働して、メンテナンス処理(キャッピング処理)を実行する。制御装置10は、図8等を参照して説明したように、キャッピング装置13を用いて、吐出ヘッド3の吐出口1を吸引する。
After the wiping process for the
The
なお、キャッピング処理の終了後、第1位置A1に第2移動体6を配置して、ワイピング処理を実行することができる。キャッピング処理の終了後において、吐出面2に異物(液滴を含む)が付着している場合でも、ワイピング処理によって、その異物を除去できる。
第2移動体5による吐出ヘッド3に対するキャッピング処理が終了した後、制御装置10は、駆動装置8を制御して、複数の移動体4、5、6、7を+Y方向(第2位置A2から第1位置A1へ向かう方向)に一緒に移動し、第1位置A1に第1移動体4を配置する。制御装置10は、第1位置A1に配置された第1移動体4に保持されている基板Pに対して、吐出ヘッド3より液滴Dを吐出する処理(パターン形成処理)を開始する。第1移動体4は、吐出ヘッド3と協働して、液滴Dで基板Pにパターンを形成する処理(パターン形成処理)を実行する。
After the capping process is completed, the second moving
After the capping process on the
このように、本実施形態においては、制御装置10は、複数の移動体4、5、6、7を第1位置A1に順次配置して、その第1位置A1に配置された移動体4、5、6、7と吐出ヘッド3との協働による処理を実行する。本実施形態においては、複数の移動体4、5、6、7は、吐出ヘッド3と協働して所定の処理を実行する順序で、第1位置A1(+Y側)から第2位置A2(−Y側)に向かって配置されている。すなわち、上述のように、制御装置10は、第1位置A1に、第4移動体7、第3移動体6、第2移動体5、及び第1移動体4を順次配置して、第4移動体7を用いた浸漬処理、第3移動体6を用いたワイピング処理、第2移動体5を用いたキャッピング処理、及び第1移動体4を用いたパターン形成処理を順次実行する。本実施形態においては、第1位置A1から第2位置A2に向かって、第4移動体7、第3移動体6、第2移動体5、及び第1移動体4の順で配置されている。
Thus, in the present embodiment, the
液滴Dでパターンが形成された後の基板Pからは、フィルムが取り除かれる。そして、上記の液滴吐出処理(描画処理)を基板G1→G2→G4→G7→G8→G3→G9→G6→G10→G5の順序で繰り返すことにより、各基板G1〜G10に所定のパターンが形成される。そして、各パターンを有する複数の基板P(G1〜G10)が積層され、その基板Pの積層体が形成される。その後、基板Pの積層体が加熱処理される。これにより、基板P上の液滴Dが乾燥、焼成されるとともに、基板P(グリーンシート)も焼成される。これにより、所定の配線パターンを有するLTCC基板(LTCC多層回路基板)が形成される。 The film is removed from the substrate P after the pattern is formed with the droplets D. A predetermined pattern is formed on each of the substrates G1 to G10 by repeating the droplet discharge processing (drawing processing) in the order of the substrates G1, G2, G4, G7, G8, G3, G9, G6, G10, and G5. It is formed. And the some board | substrate P (G1-G10) which has each pattern is laminated | stacked, and the laminated body of the board | substrate P is formed. Thereafter, the laminated body of the substrates P is heat-treated. Thereby, the droplets D on the substrate P are dried and fired, and the substrate P (green sheet) is also fired. Thereby, an LTCC substrate (LTCC multilayer circuit substrate) having a predetermined wiring pattern is formed.
以上のように、本実施形態では、各基板G1〜G10毎の描画率に基づき、描画率が順次小さくなる順序で機能液の液滴を吐出するため、前の基板Pに対する液滴吐出で用いていた吐出口1、またはその近傍の吐出口1を用いることができるため、滞留時間の少ない機能液を用いて描画処理を行うことができる。そのため、本実施形態では、描画処理前に行う予備吐出を最低限の量で済ませることが可能となり、描画領域の密度が変化する場合であっても、機能液の使用効率を向上させることができ、コストを抑制することができる。
As described above, in the present embodiment, functional liquid droplets are ejected in order of decreasing drawing ratio based on the drawing ratio for each of the substrates G1 to G10. Since the
(第2実施形態)
続いて、本発明の第2実施形態について、図16及び図17を参照して説明する。
この図において、図1乃至図15に示す第1実施形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
In this figure, the same reference numerals are given to the same elements as those of the first embodiment shown in FIGS. 1 to 15, and the description thereof is omitted.
図16に示すように、本実施形態では、第1移動体4における第1可動部材40に、基板P(適宜、符合PA、PBで表す)を保持する保持機構(保持部)41を有し吐出ヘッド3に対する相対移動方向であるY方向に沿って複数(ここでは2つ)設けられたホルダ部材42(適宜、符合42A、42Bで表す)と、ホルダ部材42の+Y側に間隔をあけて配置され吐出ヘッド3から機能液の液滴が予備吐出されるフラッシング領域FAとが備えられている。フラッシング領域FAは、フラッシング領域46と同様の材料で形成されている。本実施形態では、ホルダ部材42の上面のうち、基板Pを保持する保持機構41のY軸方向の一方側(−Y側)にフラッシング領域46が設けられている。
他の構成は、上記第1実施形態と同様である。
As shown in FIG. 16, in the present embodiment, the first
Other configurations are the same as those of the first embodiment.
上記構成の液滴吐出装置IJでは、制御装置10が制御器12及び駆動装置8を制御して、吐出ヘッド3に対して第1移動体4を+Y方向に相対移動させつつ、吐出ヘッド3から機能液の液滴を吐出させることにより、ホルダ部材42Aに保持された基板P(PA)、ホルダ部材42Bに保持された基板P(PB)に順次描画処理を行うことができる。
In the droplet discharge device IJ configured as described above, the
本実施形態では、図17に示すように、各基板G1〜G10における描画率に基づいて、ホルダ部材42A、42Bに保持されて連続的に描画処理が行われる基板の対(基板群)を設定している。より詳細には、2枚の基板の平均描画率が順次小さくなるように、基板G1、G2で基板群KG1を形成し、基板G4、G7で基板群KG2を形成し、基板G8、G3で基板群KG3を形成し、基板G9、G6で基板群KG4を形成し、基板G10、G5で基板群KG5を形成している。そして、基板群KG1〜KG5に対して描画処理を行う順序は、描画処理を行った基板群の後に、当該基板群の平均描画率よりも小さい平均描画率を有する基板群に対して描画処理を行うように、KG1→KG2→KG3→KG4→KG5の順序で行う。また、各基板群KG1〜KG5においても、同様に、描画率が小さくなる順序(例えば基板群KG5では、基板G10→基板G5の順序)で描画処理が行われる。
In the present embodiment, as shown in FIG. 17, a pair of substrates (substrate group) that is held by the
このように、本実施形態では、複数の基板に対して連続的な描画処理が可能な液滴吐出装置IJを用いる場合でも、滞留時間の少ない機能液を吐出することが可能になり、予備吐出量を減らして機能液の使用効率を向上させることができるとともに、一回の走査で複数枚の基板Pに対して液滴吐出処理を行うことができ、生産性を向上させることが可能になる。特に、本実施形態では、ホルダ部材42A、42Bの基板PA、PBに対して、互いに異なる吐出パターンで液滴吐出を行うことにより、容易に少量多品種製造に対応することができる。
なお、本実施形態のように、ホルダ部材42A、42Bの基板PA、PBに対して、連続的な描画処理を行う場合には、基板間の移動時間が短いため、描画率に大きな差がない場合には、必ずしも、描画率が小さくなる順序で描画する必要はない(例えば、基板群KG4において、基板G6→G9の順序で描画する)。
As described above, in the present embodiment, even when the droplet discharge device IJ capable of performing continuous drawing processing on a plurality of substrates is used, it is possible to discharge a functional liquid having a short residence time. It is possible to improve the use efficiency of the functional liquid by reducing the amount, and it is possible to perform a droplet discharge process on a plurality of substrates P in one scan, thereby improving productivity. . In particular, in the present embodiment, it is possible to easily cope with small-quantity, multi-product manufacturing by discharging droplets with different discharge patterns to the substrates PA, PB of the
Note that when the continuous drawing process is performed on the substrates PA and PB of the
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。 As described above, the preferred embodiments according to the present invention have been described with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited to the examples. Various shapes, combinations, and the like of the constituent members shown in the above-described examples are examples, and various modifications can be made based on design requirements and the like without departing from the gist of the present invention.
例えば、上記実施形態では、10枚の基板を積層する例を示したが、これに限定されるものではなく、複数の基板に描画処理を行う場合に広く適用可能である。また、上記実施形態では、ホルダ部材が2基用いられる構成を例示したが、3基以上設けられる構成であってもよい。この場合、基板に吐出するパターンとしては3種類以上であってもよいことは言うまでもない。 For example, in the above-described embodiment, an example in which ten substrates are stacked has been described. However, the present invention is not limited to this, and the present invention can be widely applied when drawing processing is performed on a plurality of substrates. Moreover, in the said embodiment, although the structure using two holder members was illustrated, the structure provided 3 or more may be sufficient. In this case, it goes without saying that three or more types of patterns may be discharged onto the substrate.
また、上記実施形態では、基板PがLTCC基板(グリーンシート)であり、基板Pに配線パターン(回路パターン)を形成する場合を例にして説明したが、基板Pとしては、グリーンシートのみならず、ガラス基板、半導体ウエハ等、製造するデバイスに応じて、適宜選択可能であり、別種の基板を複数用いる場合にも適用可能である。
また、使用される機能液の導電性微粒子としても、銀のみならず、例えば特開2005−34837号公報等に開示されているような、金、銅、パラジウム、及びニッケル等の金属微粒子であってもよいし、導電性ポリマーであってもよい。また、使用される分散媒も、導電性微粒子に応じて適宜選択可能である。
また、配線パターンのみならず、薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transistor)の少なくとも一部を形成することもできる。
In the above embodiment, the substrate P is an LTCC substrate (green sheet) and a wiring pattern (circuit pattern) is formed on the substrate P as an example. However, the substrate P is not limited to a green sheet. It can be appropriately selected according to the device to be manufactured, such as a glass substrate or a semiconductor wafer, and can also be applied to the case of using a plurality of different types of substrates.
Further, the conductive fine particles of the functional liquid used are not only silver but also metal fine particles such as gold, copper, palladium, and nickel as disclosed in, for example, JP-A-2005-34837. It may be a conductive polymer. Moreover, the dispersion medium used can also be suitably selected according to electroconductive fine particles.
In addition to the wiring pattern, at least a part of a thin film transistor (TFT) can be formed.
また、液滴吐出装置IJを用いて製造可能なデバイスとしては、回路基板に限られず、例えばカラーフィルタ、配向膜等、液晶装置の少なくとも一部を形成することができるし、有機EL装置の少なくとも一部を形成することもできる。 A device that can be manufactured using the droplet discharge device IJ is not limited to a circuit board, and can form at least a part of a liquid crystal device such as a color filter, an alignment film, or the like, or at least an organic EL device. A part can also be formed.
IJ…液滴吐出装置、 D…液滴、 FA…フラッシング領域、 G1〜G10、P、PA、PB…基板、 3…吐出ヘッド、 4…第1移動体(移動体)、 10…制御装置(吐出制御装置)、 41…保持機構(保持部)、 42…ホルダ部材(テーブル)、 46、46A、46B…フラッシング領域 IJ: Droplet discharge device, D: Droplet, FA: Flushing region, G1 to G10, P, PA, PB ... Substrate, 3 ... Discharge head, 4 ... First moving body (moving body), 10 ... Control device ( Discharge control device), 41 ... Holding mechanism (holding unit), 42 ... Holder member (table), 46, 46A, 46B ... Flushing region
Claims (7)
複数の前記基板に対して順次描画処理を行う際に、各基板毎の描画率に基づいて、描画処理を行う順序を設定することを特徴とする液滴吐出方法。 A droplet discharge method for drawing at a drawing rate corresponding to a pattern to be formed for each substrate by moving the substrate relative to the discharge head, discharging droplets of the functional liquid to a predetermined drawing region of the substrate Because
A droplet discharge method characterized in that, when performing drawing processing on a plurality of the substrates in sequence, an order in which drawing processing is performed is set based on a drawing rate for each substrate.
描画処理を行った前記基板の後に、当該基板の描画率よりも小さい描画率を有する基板に対して描画処理を行うことを特徴とする液滴吐出方法。 The droplet discharge method according to claim 1.
A droplet discharge method comprising: performing a drawing process on a substrate having a drawing rate smaller than a drawing rate of the substrate after the substrate subjected to the drawing process.
前記基板を前記相対移動方向に沿って複数配置した基板群に順次描画処理を行う際に、前記基板の配置順序を各基板毎の描画率に基づいて設定することを特徴とする液滴吐出方法。 The droplet discharge method according to claim 1.
A droplet discharge method characterized in that, when performing a drawing process sequentially on a group of substrates in which a plurality of the substrates are arranged along the relative movement direction, the arrangement order of the substrates is set based on a drawing rate for each substrate. .
複数の前記基板群に対して順次描画処理を行う際に、各基板群における前記複数の基板の平均描画率に基づいて、描画処理を行う順序を設定することを特徴とする液滴吐出方法。 The droplet discharge method according to claim 3.
A droplet discharge method, wherein when performing a drawing process sequentially on a plurality of the substrate groups, an order of performing the drawing processes is set based on an average drawing rate of the plurality of substrates in each substrate group.
描画処理を行った前記基板群の後に、当該基板群の平均描画率よりも小さい平均描画率を有する基板群に対して描画処理を行うことを特徴とする液滴吐出方法。 The droplet discharge method according to claim 4.
A droplet discharge method, comprising: performing a drawing process on a substrate group having an average drawing rate smaller than an average drawing rate of the substrate group after the substrate group on which the drawing process has been performed.
前記基板群における複数の基板に対して、描画処理を行った前記基板の後に、当該基板の描画率よりも小さい描画率を有する基板に対して描画処理を行うことを特徴とする液滴吐出方法。 In the droplet discharge method according to any one of claims 3 to 5,
A droplet discharge method comprising: performing drawing processing on a substrate having a drawing rate smaller than a drawing rate of the substrate after the substrate subjected to drawing processing on a plurality of substrates in the substrate group .
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| JP2009038947A JP2010199112A (en) | 2009-02-23 | 2009-02-23 | Method of discharging droplets |
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013211383A (en) * | 2012-03-30 | 2013-10-10 | Dainippon Printing Co Ltd | Formation method and formation device of organic semiconductor layer |
| JP2023093095A (en) * | 2021-12-22 | 2023-07-04 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | Guiding device, work transfer stage and inkjet printing device |
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2009
- 2009-02-23 JP JP2009038947A patent/JP2010199112A/en not_active Withdrawn
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