JP2010168138A - 板取得装置及び板取得方法 - Google Patents

Abstract

【課題】ウェハの２枚取りが防止できるウェハ取得装置を提供したい。
【解決手段】ウェハ取得装置１００は、複数のウェハ１０を重ねて載せる置き台２０と、置き台２０に重ねて載せた複数のウェハ１０のうち１枚目のウェハ１１を保持する吸着パッド３２（保持機構３０）と、保持機構３０が１枚目のウェハ１１を保持してから、１枚目のウェハから２枚目以下のウェハを離隔させる離隔用エアノズル５２と昇降機構８０（離隔機構５０）と、離隔機構５０が１枚目のウェハ１１から２枚目以下のウェハを離隔させる場合に、１枚目のウェハ１１の表面にエアを噴き付けて１枚目のウェハ１１の中央を下方に湾曲させる撓み用エアノズル４２（湾曲機構４０）とを備えている。
【選択図】図１

Description

この発明は、板の２枚取りを防止することができる板取得装置及び板取得方法に関するものである。

従来の２枚取り防止装置には、突起ローラを設け、突起ローラをシート吸着部の吸着面から退避可能に突出させて、シート吸着部に吸着されたシートを変形させるものがあった。

特開平０７−０９７０９２号公報

従来の２枚取り防止装置は、突起ローラを用いているので、突起ローラにより板を物理的に変形あるいは破壊してしまう恐れがあった。

この発明は、積層された複数の板から、２枚取りすることなく、かつ、変形あるいは破壊することなく、１枚目の板を取得しようとするものである。

この発明の板取得装置は、
剛性のある複数の板を重ねて載せる置き台と、
置き台に重ねて載せた複数の板のうち１枚目の板を保持する保持機構と、
保持機構が１枚目の板を保持してから、１枚目の板から２枚目以下の板を離隔させる離隔機構と、
離隔機構が１枚目の板から２枚目以下の板を離隔させる場合に、１枚目の板の表面の流体を流動させて１枚目の板を湾曲させる湾曲機構と
を備えたことを特徴とする。

上記保持機構は、１枚目の板の上面を吸着する吸着パッドを有し、
上記湾曲機構は、１枚目の板の上面の一部に対するエアの噴射または吸引により１枚目の板をたわませる撓み用エアノズルを有することを特徴とする。

上記置き台は、複数の板を重ねたまま上昇させ、保持機構が１枚目の板を保持した場合に、２枚目以下の板を下降させる昇降機構を有し、
上記離隔機構は、１枚目の板と２枚目の板との間にエアを噴き込む離隔用エアノズルを備えたことを特徴とする。

この発明の板取得方法は、
剛性のある複数の板を重ねて載せた置き台から１枚目の板を保持する保持工程と、
保持工程が１枚目の板を保持してから、１枚目の板から２枚目以下の板を離隔させる離隔工程と、
離隔工程により１枚目の板から２枚目以下の板を離隔させる場合に、１枚目の板の表面の流体を流動させて１枚目の板を湾曲させる湾曲工程とを備えたことを特徴とする。

上記保持工程は、複数の板を重ねたまま上昇させ、１枚目の板の周辺部を複数の吸着パッドで吸着し、
上記離隔工程は、１枚目の板と２枚目の板との間に、離隔用エアノズルでエアを噴き込むとともに、２枚目以下の板を下降させ、
上記湾曲工程は、撓み用エアノズルにより、エアの噴射または吸引を行って１枚目の板をたわませることを特徴とする。

この発明は、１枚目の板の表面の流体（たとえば、エア）を流動させて板に正または負の圧力を加えることにより板を湾曲させるので、１枚目の板を２枚目の板から確実に離隔するとともに、１枚目の板の恒久的変形あるいは破壊が防止できる。

実施の形態１のウェハ取得装置１００を示す斜視図である。 実施の形態１のウェハ取得装置１００の動作説明フローである。 実施の形態１のウェハ取得装置１００の動作説明図である。 実施の形態２のウェハ取得装置１００の動作説明図である。 実施の形態３のウェハ取得装置１００の動作説明図である。

実施の形態１．
板取得装置が扱う板とは、半導体基板（ウェハ）やセラミック基板やガラス基板やプリント基板や回路基板などの薄板あるいは平板である。板は、金属板や木板や樹脂板や石板や合板や積層板や複合板でも構わない。板は、圧力が印加されることにより湾曲し、圧力から解放されることにより元の形状に戻る材質でできている。即ち、板は、剛性があり、弾力性があるものであり、撓むものである。

以下、この実施の形態１では、板取得装置と板取得方法の一例として、板がウェハであるウェハ取得装置とウェハ取得方法を説明する。
図１は、ウェハ取得装置１００を示す斜視図である。
図２は、ウェハ取得装置１００の動作説明フローである。
図３は、ウェハ取得装置１００の動作説明図である。

この実施の形態のウェハ取得装置１００は、図１に示すように、
複数のウェハ１０を重ねて載せる置き台２０と、
置き台２０に重ねて載せた複数のウェハ１０のうち１枚目のウェハ１１を保持する保持機構３０と、
保持機構３０が１枚目のウェハ１１を保持してから、１枚目のウェハから２枚目以下のウェハを離隔させる離隔機構５０と、
離隔機構５０が１枚目のウェハ１１から２枚目以下のウェハを離隔させる場合に、１枚目のウェハ１１の表面の流体を流動させて１枚目のウェハ１１を湾曲させる湾曲機構４０と
を備えたことを特徴とする。

上記保持機構３０は、１枚目のウェハ１１の上面を吸着する吸着パッド３２を有し、
上記湾曲機構４０は、１枚目のウェハ１１の上面の一部に対するエアの噴射または吸引により１枚目のウェハ１１をたわませる撓み用エアノズルを有することを特徴とする。

上記置き台２０は、複数のウェハ１０を重ねたまま上昇させ、保持機構３０が１枚目のウェハ１１を保持した場合に、２枚目以下のウェハを下降させる昇降機構８０を有し、
上記離隔機構５０は、１枚目のウェハ１１と２枚目のウェハ１２との間にエアを噴き込む離隔用エアノズル５２を備えたことを特徴とする。

この実施の形態１のウェハ取得方法は、図２に示すように、
複数のウェハ１０を重ねて載せた置き台２０から１枚目のウェハ１１を保持する保持工程Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３と、
保持工程が１枚目のウェハ１１を保持してから、１枚目のウェハ１１から２枚目以下のウェハを離隔させる離隔工程Ｓ４、Ｓ５と、
離隔工程により１枚目のウェハ１１から２枚目以下のウェハを離隔させる場合に、１枚目のウェハ１１の表面の流体を流動させてウェハを湾曲させる湾曲工程Ｓ６とを備えたことを特徴とする。

上記保持工程は、複数のウェハ１０を重ねたまま上昇させ、１枚目のウェハ１１の周辺部を複数の吸着パッド３２で吸着し、
上記離隔工程は、１枚目のウェハ１１と２枚目のウェハとの間に、離隔用エアノズル５２でエアを噴き込むとともに、２枚目以下のウェハを下降させ、
上記湾曲工程は、撓み用エアノズル４２により、エアの噴射または吸引を行って１枚目のウェハ１１をたわませることを特徴とする。

ウェハ取得装置１００が取り出すウェハ１０とは、一般的に半導体基板のことであるが、セラミック基板やガラス基板を含む場合もある。ウェハ１０は薄板である。ウェハ１０は、圧力が印加されることにより湾曲し、圧力から解放されることにより元の形状に戻る材質でできている。即ち、ウェハ１０は、剛性や弾力性があるものであり、撓むものである。
ウェハ１０の形状は、図１では、四角形であるが、その他の多角形でもよいし、円形でもよく、ウェハ１０の形状は問わない。

以下、図１を用いて、ウェハ取得装置１００の構成を詳細に説明する。
ウェハ取得装置１００は、置き台２０、保持機構３０、湾曲機構４０、離隔機構５０，搬出機構６０、エアコントローラ７０，昇降機構８０、制御部９０を備えている。

置き台２０は、テーブル２４にウェハラック２６を固定している。ウェハラック２６には、ウェハ１０の四角のコーナーを支持する４本の柱がある。ウェハラック２６に、複数のウェハ１０を重ねて積層する。テーブル２４とウェハラック２６の底には孔（穴）があり、昇降機構８０が昇降できる。昇降機構８０の昇降によりウェハ１０が積層されたまま、ウェハラック２６を上下する。

保持機構３０は、吸着パッド３２、センサ３４、ピックユニット３６を有している。
吸着パッド３２は、ピックユニット３６に固定され、ウェハ１０のコーナーのほぼ周縁部（周辺部または端部）に対応する位置に４個ある。撓みを大きくするために、吸着パッド３２の位置は、なるべくウェハ１０の端部が望ましい。
吸着パッド３２には、エアコントローラ７０からエアパイプ７２が接続され、エアコントローラ７０がエアを吸引することにより、吸着パッド３２がウェハ１０を吸着する。
センサ３４は、積層された複数のウェハ１０の１枚目のウェハ１１が吸着パッド３２に吸着される吸着位置まで上昇したか否かを判定する。センサ３４のセンサ信号により、制御部９０が昇降機構８０により１枚目のウェハ１１を吸着位置まで上昇させる。
センサ３４は、テーブル２４に固定されているが、ピックユニット３６に固定されていてもよい。また、センサ３４は、上下方向に、センス位置を変更調節できるようにしておくことが望ましい。

湾曲機構４０は、撓み用エアノズル４２を有している。撓み用エアノズル４２は、ピックユニット３６に固定され、４本の吸着パッド３２のほぼ中央部に１個ある。撓みを大きくするために、撓み用エアノズル４２の位置は、なるべくウェハ１０の中央部が望ましい。撓み用エアノズル４２の上下の長さは、吸着パッド３２の上下の長さよりも短い。
撓み用エアノズル４２には、エアコントローラ７０からエアパイプ７２が接続され、エアコントローラ７０が圧縮エアを出力することにより、撓み用エアノズル４２から１枚目のウェハ１１の中央表面にエアが噴出し、１枚目のウェハ１１の中央表面が下方に湾曲する。
撓み用エアノズル４２から噴出するエアの圧力は、１枚目のウェハ１１（ウェハ１０）の持つ合成や弾力性を破壊しない範囲のものであり、撓み用エアノズル４２からのエアの噴出をやめれば、１枚目のウェハ１１（ウェハ１０）は剛性あるいは弾力性により元通り平板に復帰する。
従来のように突起物を用いてウェハ１０を湾曲させると、ウェハ１０の一部分を変形させたり、ウェハ１０を傷つけたり、ウェハ１０を破壊したりする恐れがあるが、エアを用いれば、ウェハ１０にかかる圧力が分散され、ウェハ１０に傷がつくことはない、また、ウェハ１０を変形・破壊する恐れが減少する。

離隔機構５０は、離隔用エアノズル５２を有している。
離隔用エアノズル５２は、置き台２０に固定され、１枚目のウェハ１１と２枚目のウェハ１２の側面（即ち、ほぼ吸着位置の高さ）に２個ある。離隔作用を大きくするために、離隔用エアノズル５２の噴き出し口は、１枚目のウェハ１１と２枚目のウェハ１２の間にエアを噴き込みやすいように、がま口状あるいは鰐口状あるいはスリット状に横広になっている。また、噴き出し口の方向を変えることができ、エア吹き出し方向が調整できる。撓み用エアノズル４２の位置は、なるべく１枚目のウェハ１１の側面中央部が望ましい。
離隔用エアノズル５２には、エアコントローラ７０からエアパイプ７２が接続され、エアコントローラ７０が圧縮エアを出力することにより、離隔用エアノズル５２から、１枚目のウェハ１１と２枚目のウェハ１２の側面の隙間にエアが噴き込まれ、１枚目のウェハ１１と２枚目のウェハ１２の離隔を促進する。

搬出機構６０は、上下スライド溝６２と左右スライド溝６４とを有している。上下スライド溝６２は、ピックユニット３６の上下移動をガイドする。左右スライド溝６４は、ピックユニット３６の左右移動をガイドする。搬出機構６０には、リニアモータやリニアガイドがあり、ピックユニット３６を、上下スライド溝６２と左右スライド溝６４に沿って、移動させる。

エアコントローラ７０は、エア圧縮機と真空ポンプなどを有し、エアパイプ７２を介して、吸着パッド３２からエアを吸引させ、撓み用エアノズル４２と離隔用エアノズル５２からエアを噴出させる。また、１枚目のウェハ１１の剛性、即ち、曲げや反りやねじれなどに対して破壊に耐えうる強度により、エアの圧力を制御する。エアコントローラ７０は、置き台２０に設けられている。エアコントローラ７０の一部が、ピックユニット３６に設けられていてもよい。

昇降機構８０は、ピストンシリンダなどを有し、上昇機構と下降機構とを備えている。昇降機構８０の昇降により、置き台２０に対して、ウェハ１０を上下させる。昇降機構８０の上昇機構は、ウェハ１０を上昇させ保持機構３０の機能を果たす。昇降機構８０の下降機構は、ウェハ１０を下降させ離隔機構５０の機能を果たす。

制御部９０には、置き台２０に収納された中央処理装置（ＣＰＵ）、メモリ、プログラムなどの電子計算機処理が可能なハードウエア・ソフトウエアがある。また、制御部９０は、置き台２０に設けられており、操作卓や表示画面を備え、操作者に対して、キー入力操作や画面表示などのインターフェース提供している。制御部９０からは、搬出機構６０、エアコントローラ７０、昇降機構８０に対して制御信号９２、９４、９６が出力され、センサ３４からセンサ信号９８が入力され、保持機構３０、湾曲機構４０、離隔機構５０の動作を制御する。エアコントローラ７０のエアの吸引力や噴出力は、操作者からのキー入力操作により設定あるいは変更される。

以下、図２と図３を用いて、ウェハ取得装置１００の動作を詳細に説明する。
以下に述べる動作は、すべて、制御部９０で動作するＣＰＵとプログラムから出力された制御信号９２，９４，９６により行われるものである。

＊＊保持工程（Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３）
＊パッド下降工程Ｓ１
吸着パッド３２が所定の吸着位置になるまで、搬出機構６０がピックユニット３６を上下スライド溝６２に沿って下降させる。
＊ウェハ上昇工程Ｓ２
制御部９０が、複数のウェハ１０を重ねたまま、１枚目のウェハ１１をセンサ３４が検出できるまで、昇降機構８０を上昇させる。１枚目のウェハ１１をセンサ３４が検出する位置は、吸着位置であり、吸着位置は、吸着パッド３２が１枚目のウェハ１１を吸着することができる位置である。吸着位置で、１枚目のウェハ１１と吸着パッド３２がほぼ接することになる。吸着位置で、吸着パッド３２が１枚目のウェハ１１と衝突しないようにするためにセンサ３４で１枚目のウェハ１１の上昇位置を監視する。

＊１枚目のウェハ吸着工程Ｓ３
エアコントローラ７０が４本の吸着パッド３２の吸引を同時に開始し、４本の吸着パッド３２が、１枚目のウェハ１１の周辺部を吸着して、１枚目のウェハ１１を吸着位置に保持する。

＊＊離隔工程（Ｓ４、Ｓ５）
＊２枚目以下のウェハ下降工程Ｓ４
吸着パッド３２が１枚目のウェハ１１を保持してから、制御部９０が、昇降機構８０を下降させ、１枚目のウェハ１１から２枚目以下のウェハを重力により下方に離隔させる。
＊横エアブロー工程Ｓ５
制御部９０が昇降機構８０を下降させると同時に、制御部９０が、エアコントローラ７０により、１枚目のウェハ１１と２枚目のウェハとの間に、離隔用エアノズル５２でエアを噴き込む。

＊＊湾曲工程（Ｓ６、Ｓ７）
＊上エアブロー工程Ｓ６
吸着パッド３２が１枚目のウェハ１１を保持してから、制御部９０が昇降機構８０を下降させると同時あるいはその直後に、制御部９０が、エアコントローラ７０により撓み用エアノズル４２のエア噴出を開始する。撓み用エアノズル４２からは３６０度方向にエアが噴出する。１枚目のウェハ１１の表面中央において下方にエア圧力がかかるので、１枚目のウェハ１１の中央が下方に押し下げられ、１枚目のウェハ１１が球面状にたわみ、１枚目のウェハ１１の断面が弧状あるいは弓状を呈するように、１枚目のウェハ１１が湾曲する。
その際、２枚目以下のウェハが重力により下方に離れていくので、１枚目のウェハ１１と２枚目のウェハ１２の間に隙間が発生し、１枚目のウェハ１１の中央部は下方に湾曲することができる。逆に、１枚目のウェハ１１の中央部が下方に下がるので、２枚目のウェハ１２を下方におすことになり、２枚目のウェハ１２が下方に離れていくのを促進する。
１枚目のウェハ１１の中央部が下方に湾曲すれば、吸着パッド３２を支点として、１枚目のウェハ１１の周囲が上方に持ちあがり、１枚目のウェハ１１の縁側部分は１枚目のウェハ１１の中央部分に比べて２枚目のウェハ１２と離れることになる。こうして、１枚目のウェハ１１と２枚目のウェハ１２との間に、離隔用エアノズル５２からのエアが容易に吹き込まれ離隔作用が増進される。
離隔用エアノズル５２からのエアが１枚目のウェハ１１と２枚目のウェハ１２との間に、吹き込まれ始めたら、制御部９０が、エアコントローラ７０による撓み用エアノズル４２からのエアの噴出を、すぐに終了する。撓み用エアノズル４２からのエアの噴出が終了すれば、１枚目のウェハ１１は剛性・弾力により元の平板に復元する。この復元により、１枚目のウェハ１１の中央部が上昇して、１枚目のウェハ１１と２枚目のウェハ１２との間にエアが積極的に吸引される。
エアコントローラ７０による離隔用エアノズル５２からのエアの噴出は、２枚目のウェハ１２の下降により１枚目のウェハ１１と２枚目のウェハ１２とが所定の距離だけ離れた後に終了する。

＊＊搬出工程（Ｓ７）
＊パッド上昇工程Ｓ７
制御部９０が、搬出機構６０によりピックユニット３６を上下スライド溝６２に沿って上昇させる。一緒に、吸着パッド３２に保持された１枚目のウェハ１１も上昇する。搬出機構６０は、ピックユニット３６を左右スライド溝６４に沿って搬出する。搬出後に、制御部９０がエアコントローラ７０による吸着パッド３２の吸着を終了させて、１枚目のウェハ１１を吸着パッド３２からリリースする。

制御部９０による動作開始タイミングは以下の通り、同時刻である。
吸着パッド３２の吸着開始時刻
＝撓み用エアノズル４２の噴射開始時刻
＝離隔用エアノズル５２の噴射開始時刻
なお、１枚目のウェハ１１の上面のゴミを吹き払うために、撓み用エアノズル４２の噴射開始時刻を吸着パッド３２の吸着開始時刻の前にしてもよい。１枚目のウェハ１１の表面がきれいになるので、吸着パッド３２が１枚目のウェハ１１を確実に吸着することができる。

制御部９０による動作終了タイミングは以下の通り、差がある。
撓み用エアノズル４２の噴射終了時刻
＜離隔用エアノズル５２の噴射終了時刻
＜吸着パッド３２の吸着終了時刻

実施の形態２．
図４は、実施の形態２のウェハ取得装置１００の動作説明図である。

（ａ）に示すように、撓み用エアノズル４２からエアを吸引して、１枚目のウェハ１１の中央を上方に持ち上げてもよい。この場合には、１枚目のウェハ１１の中央部が上昇するので、１枚目のウェハ１１と２枚目のウェハ１２との間にエアが積極的に吸引される。

（ｂ）に示すように、吸着パッド３２を１個だけ、中央に配置して、４個の撓み用エアノズル４２を１枚目のウェハ１１の４角に配置して、１枚目のウェハ１１のコーナーを下方に反らせてもよい。撓み用エアノズル４２は、離隔用エアノズル５２の近傍にあることが望ましい。

（ｃ）に示すように、吸着パッド３２を１個だけ、中央に配置して、４個の撓み用エアノズル４２を１枚目のウェハ１１の４角に配置して、１枚目のウェハ１１のコーナーを上方に反らせてもよい。撓み用エアノズル４２は、離隔用エアノズル５２の近傍にあることが望ましい。

実施の形態３．
図５に示すように、撓み用エアノズル４２の噴射口を所定の方向に切り裂いて、エアを１８０度（直線）方向に噴き出してもよい。この場合、１枚目のウェハ１１の１８０度（直線）方向と直交する方向の断面が弧状・弓状になりやすい。３６０度方向にエアを噴くよりも１枚目のウェハ１１が弧状・弓状になりやすく、１枚目のウェハ１１の両側から離隔用エアノズル５２によりエアを噴き込み易い。

実施の形態４．
以下、主として実施の形態１〜３の相違部分について説明する。

エア（空気）の代わりに、撓み用エアノズル４２から窒素ガスや二酸化炭素ガスなどの気体を噴出してもよい。また、水中にある場合や洗浄中の場合は、撓み用エアノズル４２から水や洗浄液を噴出してもよい。撓み用エアノズル４２からは、気体や液体などの流体が噴出できればよい。
湾曲機構４０は、撓み用エアノズル４２の代わりに１枚目のウェハ１１に上から下への正の圧力または下から上への負の圧力をかけることができるものであればよい。湾曲機構４０は、１枚目のウェハ１１の表面に気体や液体などの流体を吹き付けることにより、あるいは、１枚目のウェハ１１の表面から気体や液体などの流体を吸引することにより、１枚目のウェハ１１の表面の流体を流動させて１枚目のウェハ１１を湾曲させることができればよい。

吸着パッド３２の代わりに、磁石や電磁石や粘着剤などの吸着材や吸着具を用いてもよい。
吸着パッド３２は、エアの吸引により吸着するものではなく、単にウェハに押し付けられることにより真空吸着する椀状のパッドでも構わない。

離隔用エアノズル５２は、離隔を補助するものであり、２枚目のウェハ１２以下が自重により降下するのであれば、離隔用エアノズル５２はなくてもよい。

吸着パッド３２、センサ３４、撓み用エアノズル４２、離隔用エアノズル５２の数と位置とは、ウェハ１０のサイズと厚さと重さと剛性・弾力性とに応じて適宜変更して用いればよい。

１０ ウェハ、１１ １枚目のウェハ、１２ ２枚目のウェハ、２０ 置き台、２４ テーブル、２６ ウェハラック、３０ 保持機構、３２ 吸着パッド、３４ センサ、３６ ピックユニット、４０ 湾曲機構、４２ 撓み用エアノズル、５０ 離隔機構、５２ 離隔用エアノズル、６０ 搬出機構、６２ 上下スライド溝、６４ 左右スライド溝、７０ エアコントローラ、７２ エアパイプ、８０ 昇降機構、８２ 制御信号、９０ 制御部、１００ ウェハ取得装置。

Claims (5)

1. 剛性のある複数の板を重ねて載せる置き台と、
   置き台に重ねて載せた複数の板のうち１枚目の板を保持する保持機構と、
   保持機構が１枚目の板を保持してから、１枚目の板から２枚目以下の板を離隔させる離隔機構と、
   離隔機構が１枚目の板から２枚目以下の板を離隔させる場合に、１枚目の板の表面の流体を流動させて１枚目の板を湾曲させる湾曲機構と
   を備えたことを特徴とする板取得装置。
2. 上記保持機構は、１枚目の板の上面を吸着する吸着パッドを有し、
   上記湾曲機構は、１枚目の板の上面の一部に対するエアの噴射または吸引により１枚目の板をたわませる撓み用エアノズルを有することを特徴とする請求項１記載の板取得装置。
3. 上記置き台は、複数の板を重ねたまま上昇させ、保持機構が１枚目の板を保持した場合に、２枚目以下の板を下降させる昇降機構を有し、
   上記離隔機構は、１枚目の板と２枚目の板との間にエアを噴き込む離隔用エアノズルを備えたことを特徴とする請求項１又は２記載の板取得装置。
4. 剛性のある複数の板を重ねて載せた置き台から１枚目の板を保持する保持工程と、
   保持工程が１枚目の板を保持してから、１枚目の板から２枚目以下の板を離隔させる離隔工程と、
   離隔工程により１枚目の板から２枚目以下の板を離隔させる場合に、１枚目の板の表面の流体を流動させて１枚目の板を湾曲させる湾曲工程と
   を備えたことを特徴とする板取得方法。
5. 上記保持工程は、複数の板を重ねたまま上昇させ、１枚目の板の周辺部を複数の吸着パッドで吸着し、
   上記離隔工程は、１枚目の板と２枚目の板との間に、離隔用エアノズルでエアを噴き込むとともに、２枚目以下の板を下降させ、
   上記湾曲工程は、撓み用エアノズルにより、エアの噴射または吸引を行って１枚目の板をたわませる
   ことを特徴とする請求項４記載の板取得方法。

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