JP2010010734A - 圧電振動片及び圧電デバイス - Google Patents
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Abstract
【課題】 予定する振動周波数を得ることができる音叉型圧電振動子(20)を製造することにある。
【解決手段】 音叉型圧電振動片(20)は、表面と裏面とを有する基部(29)と、この基部から所定方向に延びる一対の振動腕(21)と、この一対の振動腕に形成された表裏面及び側面の励振電極(23,25)とを有する音叉型圧電振動片である。そして、振動腕の定常波の節(node)の位置に、表裏面を貫通する第1貫通孔(40)が形成されている。
【選択図】図1
【解決手段】 音叉型圧電振動片(20)は、表面と裏面とを有する基部(29)と、この基部から所定方向に延びる一対の振動腕(21)と、この一対の振動腕に形成された表裏面及び側面の励振電極(23,25)とを有する音叉型圧電振動片である。そして、振動腕の定常波の節(node)の位置に、表裏面を貫通する第1貫通孔(40)が形成されている。
【選択図】図1
Description
本発明は、溝部に貫通孔を設ける音叉型の圧電振動片及び圧電デバイスの技術に関する。
従来、時計や家電製品、各種情報・通信機器やOA機器等の民生・産業用電子機器には、その電子回路のクロック源として水晶振動子、水晶振動片とICチップとを同一パッケージ内に封止した水晶発振子やリアルタイムクロックモジュール等の水晶デバイスが広く使用されている。
特に最近、これら水晶デバイスは、それを搭載する電子機器の小型化・薄型化に伴い、より一層の小型化・薄型化が要求されている。また、低いCI(クリスタルインピーダンス)値を確保して、高品質で安定性に優れた水晶デバイスが要求されている。CI値を低く保持するために、たとえば振動腕構造を有する音叉型水晶振動片が開発され、さらに振動腕に溝部を形成して振動効率を高めたものが用いられている。
特許文献1によれば、図9(a)に示すようにこの音叉型水晶振動片は基部129に振動腕121が設けられ、各振動腕121には溝部127がそれぞれ設けられている。これらの溝部127は電界効率を大幅に向上させCI値を低く抑制する効果がある。また振動腕121と振動腕121との間の最下部は湾曲している。溝部127はこの振動腕121の最下部A−A線より基部129側に少し食い込んで形成されている。また湾曲部126とほぼ同じ位置に貫通孔140が溝部127の中に形成されている。この貫通孔は正方形状に形成されており、この大きさは溝部127の幅と同じでもよい。ただし、図9(a)は図を分かりやすくするため電極を表示していない。
また、この図9(a)に示す音叉型水晶振動片の励振電極部分の拡大図は図9(b)に示す。励振電極は第1励振電極123と第2励振電極125とで構成され、溝部127と貫通孔140にも形成される。図9(b)のB−B断面で示す溝部127と貫通孔140との励振電極の断面図は図9(c)で示すようになる。
このように貫通孔140を設け励振電極を形成することで図9(c)の矢印で表した電気力線の模式図に示すように電界強度が増すことで、振動効率が上がりさらにCI値が低く抑制する効果がある。
しかし、貫通孔140の大きさを大きくしすぎると、貫通孔140内の互いに対面する面同士の振動モードが大きくなり、予定する振動周波数たとえば32.768kHzを得ることができない。
特開2006−217603
上記のように溝部に貫通孔を空けることは位置と大きさにより不安定な音叉型水晶振動片を形成してしまう危険性がある。また、貫通孔の大きさをエッチングの製造工程で制御することはエッチングの特性において難しい作業となる。
本発明の目的は、溝部を形成した音叉型水晶振動子において、貫通孔の位置を適切にすることで予定する振動周波数を得ることができる音叉型水晶振動子を製造することにある。また、本発明の音叉型水晶振動子は製造工程における貫通孔の大きさの違いによる振動周波数のズレを抑え、CI値の低い安定した音叉型水晶振動子を製造することにある。
上記目的を達成するために、第1の観点の圧電振動片は、表面と裏面とを有する基部と、この基部から所定方向に延びる一対の振動腕と、この一対の振動腕に形成された表裏面及び側面の励振電極とを有する音叉型圧電振動片である。そして、振動腕の定常波の節(node)の位置に、表裏面を貫通する第1貫通孔が形成されている。
この構成により、振動腕の節(node)に貫通孔40を空けることで節(node)を基準とした振動を得やすくなり、所定の定常波を安定して発振することができる。
この構成により、振動腕の節(node)に貫通孔40を空けることで節(node)を基準とした振動を得やすくなり、所定の定常波を安定して発振することができる。
第2の観点の音叉型圧電振動片は、振動腕の表面と裏面とに所定方向に延びる溝部が形成され、この溝部に第1貫通孔が形成されている。
この構成により、振動腕の振動効率が増しCI値を低減させることができる。
この構成により、振動腕の振動効率が増しCI値を低減させることができる。
第3の観点の音叉型圧電振動片は、第1貫通孔には励振電極が形成されており、この励振電極は表面の励振電極と裏面の励振電極とを導通させる。
この構成により、電界強度を増加させ効率よく振動することになる。
この構成により、電界強度を増加させ効率よく振動することになる。
第4の観点の音叉型圧電振動片は、第3の観点において一対の振動腕のうちの片方の表裏面の励振電極から他方の側面電極へと接続する接続電極が基部に形成されていない。
接続電極は0.01mm程度の線幅になるような箇所があったため断線などの問題が生じていたが、この接続電極が不要となることで不良率を下げることができる。
接続電極は0.01mm程度の線幅になるような箇所があったため断線などの問題が生じていたが、この接続電極が不要となることで不良率を下げることができる。
第5の観点の音叉型圧電振動片は、第2の観点において溝部が一対の振動腕のぞれぞれの表裏面に2以上所定方向にずれて形成されている。
この構成により、溝部が2以上に分割されているため、CI値を低減するとともに振動腕の剛性を高めることができる。
この構成により、溝部が2以上に分割されているため、CI値を低減するとともに振動腕の剛性を高めることができる。
第6の観点の音叉型圧電振動片は、基部から振動腕が延びる根元近傍に、表面の励振電極と裏面の励振電極とを導通させる第2貫通孔を有する。
この構成により、電界を増強させ振動腕の基部付近の振動を補助する。
この構成により、電界を増強させ振動腕の基部付近の振動を補助する。
第7の観点の圧電デバイスは、第1ないし第6の観点のいずれかの音叉型圧電振動片と、音叉型圧電振動片を収納するパッケージと、を備える。
上記のように所定の定常波を安定して発振することができる音叉型圧電デバイスを使うため、安定した圧電デバイスとなる。
上記のように所定の定常波を安定して発振することができる音叉型圧電デバイスを使うため、安定した圧電デバイスとなる。
本発明によれば、貫通孔を適切な位置で形成することで、高品質で安定性に優れた水晶デバイスを製造することが可能となる。以下、図面を参照しながら本発明の実施形態を説明する。
<音叉型水晶振動片20の構成>
図1(a)は、2つの振動腕21をもち、振動腕21に4箇所の溝部27を持つ音叉型水晶振動片20の全体構成を示した平面図である。例えば貫通孔40は振動腕21aの中央付近の溝部27a内に位置する。図1(b)は、音叉型水晶振動片20の振動腕21aのB−B断面図である。貫通孔40は溝部27aを貫通し第1励振電極23dが表裏で繋がっている。また、反対側の振動腕21bは第2励振電極25dが表裏で繋がる。
図1(a)は、2つの振動腕21をもち、振動腕21に4箇所の溝部27を持つ音叉型水晶振動片20の全体構成を示した平面図である。例えば貫通孔40は振動腕21aの中央付近の溝部27a内に位置する。図1(b)は、音叉型水晶振動片20の振動腕21aのB−B断面図である。貫通孔40は溝部27aを貫通し第1励振電極23dが表裏で繋がっている。また、反対側の振動腕21bは第2励振電極25dが表裏で繋がる。
音叉型水晶振動片20の母材は、Z板に加工された水晶単結晶ウエハ10で形成されている。小型で必要な性能を得るために、図1(a)に示すように、音叉型水晶振動片20は、基部29と、この基部29の一端部からY方向に向けて、二股に別れて平行に延びる一対の振動腕21を備えている。一対の振動腕21の根元26は、テーパー部を設けることによって、周囲温度の変化に起因する共振周波数の変動やバラツキを抑えている。根元26のテーパー部の形状はU字形状でもV字形状などでもよい。以下、本実施形態では一対の振動腕21を備えた音叉型水晶振動片20で説明するが、3本または4本の振動腕21を備えた音叉型水晶振動片20であってもよい。また振動腕21は製造工程での過振幅で互いに衝突しない間隔を持つ必要がある。
音叉型水晶振動片20は、たとえば32.768kHzで信号を発信する振動片で、極めて小型の振動片となっており、全体の長さが1.7mm程度、幅0.5mm程度である。音叉型水晶振動片20の振動腕21の表裏両面には、溝部27が形成されている。一本の振動腕21の表面には2箇所の溝部27が形成されており、振動腕21の裏面側にも同様に2箇所の溝部27が形成されている。つまり、一対の振動腕21には表裏で8箇所の溝部27が形成される。溝部27を複数に分割することで振動腕21の剛性(強度)を上げることができる。溝部27の深さは、水晶単結晶ウエハ10の厚さの約35〜45%であり、表裏両面に溝部27があるため、図1(b)に示すように、溝部27の断面は、略H型に形成されている。溝部27は、CI値の上昇を抑えるために設けられている。本実施形態では、たとえば水晶単結晶ウエハ10の厚さが120μmであり、溝部27の深さが表裏で100μm程度となる。
音叉型水晶振動片20の基部29は、その全体が略板状に形成されている。振動腕21に対する基部29の長さは、約36%となっている。音叉型水晶振動片20の基部29の一端で且つ一対の振動腕21の根元には、連結部28が2箇所設けられている。連結部28は、水晶単結晶ウエハ10から、図1に示す音叉形状をフォトリソグラフィ及びウェットエッチングで形成する際に、水晶単結晶ウエハ10と音叉型水晶振動片20とを連結する部分である。
音叉型水晶振動片20の振動腕21及び基部29には、第1電極パターン23と第2電極パターン25とが形成されている。第1電極パターン23と第2電極パターン25とはともに、50オングストローム〜1000オングストロームのクロム(Cr)層の上に100オングストローム〜1000オングストロームの金(Au)層が形成された構成になっている。すなわち、第1層と第2層とを合わせると、150オングストローム〜20000オングストロームの電極パターンの厚さになる。また、クロム(Cr)層の代わりに、タングステン(W)層、ニッケル(Ni)層、ニッケルタングステン層またはチタン(Ti)層を使用してもよく、また金(Au)層の代わりに、銀(Ag)層を使用してもよい。また、一層からなる場合もあり、このときは、たとえばアルミ(Al)層、銅(Cu)層またはケイ素(Si)層が用いられる。
音叉型水晶振動片20の基部29には、図1(a)に示すように、第1基部電極23aと第2基部電極25aとが形成され、腕部21aの溝部27には、第1励振電極23d,腕部21bの溝部27には第2励振電極25dがそれぞれ形成される。また、図1(b)に示すように、腕部21aの両側面には、第2励振(側面)電極25cが形成されている。また、腕部21bの両側面には、第1励振(側面)電極23cが形成されている。
<単結晶水晶ウエハの構成>
図2は、音叉型水晶振動片の外形を形成した水晶単結晶ウエハを示す平面図である。
図2は、音叉型水晶振動片の外形を形成した水晶単結晶ウエハを示す平面図である。
図2(a)は、円形の水晶単結晶ウエハ10である。この円形の水晶単結晶ウエハ10は、たとえば厚さ120μmの人工水晶からなり、円形の水晶単結晶ウエハ10の直径は3インチまたは4インチである。さらに、円形の水晶単結晶ウエハ10の軸方向が特定できるように、水晶単結晶ウエハ10の周縁部の一部には、水晶の結晶方向を特定するオリエンテーションフラット10cが形成されている。
また、図2(b)は、矩形の水晶単結晶ウエハ15である。この矩形の水晶単結晶ウエハ15も、たとえば厚さ120μmの人工水晶からなり、その矩形の水晶単結晶ウエハ15の一辺は2インチである。そして、矩形の水晶単結晶ウエハ15の軸方向が特定できるように、矩形の水晶単結晶ウエハ15の周縁部の一部には、水晶の結晶方向を特定するオリエンテーションフラット15cが形成されている。
図2(a)の円形の水晶単結晶ウエハ10及び図2(b)の矩形の水晶単結晶ウエハ15は、工程管理及びウエハ強度との関係で、複数の窓部18が設けられ、その窓部に複数の音叉型水晶振動片20が形成されている。各窓部18において、水晶ウエハ10と音叉型水晶振動片20とを接続するため接続部28が形成されている。
≪実施形態1≫
音叉型水晶振動片20はたとえば32.768kHzの定常波を発振する。定常波は、力または振動を与えることで図3(a)に示すような2倍振動の定常波を発振する。この定常波は節(node)という動かない点を持つ。この節(node)は2箇所あり、2倍振動をする限り位置が変わることがない。
音叉型水晶振動片20はたとえば32.768kHzの定常波を発振する。定常波は、力または振動を与えることで図3(a)に示すような2倍振動の定常波を発振する。この定常波は節(node)という動かない点を持つ。この節(node)は2箇所あり、2倍振動をする限り位置が変わることがない。
図3(b)は概念上の音叉が定常波で振動する状態を示した図である。力または振動を与えることで音叉は2倍振動の定常波を発振する。金属製などの音叉も節(node)を持ち2倍振動では2箇所の節(node)を持つ。
音叉型水晶振動片20も同様に振動腕21が基部29に固定されているが概念上の音叉と同様に励振電極からの電界を受けることで2倍振動の定常波を発振し、2箇所の節(node)を持つ。図3(c)はその節(node)の位置と2倍振動の様子を示す。但し、図3(b)に描かれた2箇所の節(node)よりも、図3(c)に描かれる音叉型水晶振動片20では基部29側に2箇所の節(node)が移動している。なぜなら、金属製などの音叉よりも振動腕21が基部29にしっかりと固定されているためである。
図3(d)は図1(a)のA−A断面を示している。図3(d)では節(node)の位置に貫通孔40を形成した場合の断面図である。図3(d)では基部29から1箇所目の溝部27である溝部27aと溝部27cとの間で貫通孔40を空けている。もちろん、音叉型水晶振動片20の節(node)の位置により貫通孔40の位置を変えることができる。また、この貫通孔40の位置は基部から2箇所目である溝部27bと溝部27dとの間に空けてもよい。
節(node)の位置はその振動数の定常波でその位置が異なる。例えば両端が自由(自由端)である基本振動は図4(a)に示すような1箇所の節(node)を持つ。また、2倍振動は図4(b)に示すような2箇所の節(node)を持つ。また、3倍振動は図4(c)に示すような3箇所の節(node)を持つ。また、4倍振動は図4(d)に示すような4箇所の節(node)を持つ。このように節(node)位置はその振動数により振動部材の長さを分割するように決まるため、それぞれ位置が異なる。
このため、音叉型水晶振動片20の節(node)に電界強度を増加させる貫通孔40を空けることは節(node)を基準とした振動を得やすくなり、2倍振動である32.768kHzの定常波を安定して発振することができ、また振動効率が増しCI値が低減する。そして他の3倍振動、4倍振動などが発生しにくくなる。なお貫通孔40の孔形状は四角形状でも丸形状でもよい。
以上のように、貫通孔40の位置は音叉型水晶振動片20の適切な位置に開けることで、より精度が良く安定した音叉型水晶振動片20を形成することができる。
また、貫通孔40を空けることは励振電極の配線図を簡便にすることができ、製造工程での断線を防ぐ効果がある。
図1(b)で示したように音叉型水晶振動片20は貫通孔40内に励振電極を形成することで振動腕21aの溝部27bの第1励振電極23dが表裏でつながる。これにより図3(d)で示す溝部27aと溝部27bと溝部27cと溝部27dとが同電位になる。同様に振動腕21bの溝部27aと溝部27bとが溝部27cと溝部27dとが第2励振電極25dでつながり同電位になる。
このように溝部27の励振電極が表裏面で導通することは、図9(b)で示す表面の細い接続電極123aが不要になる。この接続電極123aは表面の第1励振電極23dと第1励振(側面)電極23cとを接続させる電極である。同様に裏面には第2励振電極25dと第2励振(側面)電極25cとを接続させる接続電極125a(不図示)が形成されており、この接続電極125aも不要となる。接続電極123a又は125aは0.01mm程度の線幅になるような箇所を形成しなければならないため断線などの問題が生じていたが、これらが不要となり断線の心配がなくなり、不良率が下がる。
つまり、図1(a)に示すような配線パターンに簡略化でき、同様に裏面も簡略化できる。また、本実施例の配線パターンは基部29を広く使うことができるため、基部の他の配線を太くし断線しにくくすることや、静電気の放電反応により損傷されることを回避するなどの対策を講じやすくする。ただし、励振電極123aは貫通孔40内の励振電極の断線時における代替回路として形成しても良い。
≪実施形態2≫
実施形態1では貫通部40を各振動腕21に1つ形成したが、一対の振動腕21の根元26付近に貫通孔を設け、音叉型水晶振動片20に4つの貫通孔を形成することで、より振動効率をあげCI値を低減することができる。
実施形態1では貫通部40を各振動腕21に1つ形成したが、一対の振動腕21の根元26付近に貫通孔を設け、音叉型水晶振動片20に4つの貫通孔を形成することで、より振動効率をあげCI値を低減することができる。
たとえば図3(b)の金属製の音叉ではUの字型に曲げた金属板とそれを支える棒との接合点41が点又は少ない面積で接合され、2倍振動を阻害しないような作りとなっている。しかし音叉型水晶振動片20の振動椀21は基部29の面から突き出た格好となるため、基部29が振動を抑制し、また振動を吸収することで振動効率を下げ、また振動の漏れの原因の一つになっていた。
このため実施形態2では図5(a)に示すように一対の振動腕21の根元26付近に励振電極を伴った貫通孔40bを2箇所設けることで、電界を増強させ基部付近の振動を補助する。これにより貫通孔40bは振動効率を上げることができる。
また、音叉型水晶振動片20は図5(b)に示すように根元26の最下部のライン26Lより溝部27を基部側にずらし、溝部27が基部29側に食い込む形に形成してもよい。また、この音叉型水晶振動片20の貫通孔40bは最下部ライン26Lより少し下に形成することで、上記と同様に振動効率を上げることができる。
しかし、貫通孔40bは振動の補助をすることが目的なため、貫通孔40bの大きさを大きくし過ぎると、電界強度が上がり過ぎて節(node)の役目をしてしまう。これにより貫通孔40bは、2倍振動を阻害することとなる。このように根元26付近の貫通孔40bは位置と大きさとが重要になるため、形成時に十分な注意が必要である。
<音叉型水晶振動デバイスの製造工程>
図6は音叉型水晶振動片20の外形、溝部27及び貫通孔を形成するための製造工程のフローチャートである。なお、図6の右図は図1のC−C断面部分についての単結晶水晶ウエハ10の一部を示している。ただし、下記の製造工程は製造方法の一例を示したものであり、これに限るものでない。
図6は音叉型水晶振動片20の外形、溝部27及び貫通孔を形成するための製造工程のフローチャートである。なお、図6の右図は図1のC−C断面部分についての単結晶水晶ウエハ10の一部を示している。ただし、下記の製造工程は製造方法の一例を示したものであり、これに限るものでない。
図6のステップS111では、図6(a)で示すように研磨洗浄された単結晶水晶ウエハ10にスパッタ法で金属膜32を形成する。この金属膜32はたとえばクロム(Cr)の下地膜に金(Au)を積層したものが用いられる。ステップS112では、金属膜32の上にフォトレジストをたとえばスプレー法で全体を均一に塗布しレジスト膜36を形成する(図6(b))。
ステップS113では、音叉型水晶振動片20の外形と貫通部40とを有するフォトマスクを用いて露光し、露光されたフォトレジスト42は、現像して除去する。(図6(c))。
ステップS114では、エッチングによりレジスト膜36で覆われていない金属膜32の部分を除去し、次に単結晶水晶ウエハ10に残るレジスト膜36をすべて除去する(図6(d))。
ステップS115では、再び水晶ウエハ10及び金属膜32の上にフォトレジストをたとえばスプレー法で全体を均一に塗布しレジスト膜36を形成する(図6(e))。
ステップS116では、溝部27を有するフォトマスクを用いて露光し、露光されたフォトレジスト42は、現像して除去する。(図6(f))。
ステップS117では、金属膜32がエッチングされ単結晶水晶ウエハ10が現れている箇所を、水晶のエッチング液であるフッ酸を用いウェットエッチングすることで外形と貫通孔40とを貫通させる(図6(g)。
ステップS118では、レジスト膜36で覆われていない金属膜32の部分をエッチングにより除去する(図6(h))。
ステップS118では、レジスト膜36で覆われていない金属膜32の部分をエッチングにより除去する(図6(h))。
ステップS119において現れた単結晶水晶ウエハ10に対してフッ酸を用いてウェットエッチングする。このウェットエッチングはいわゆるハーフエッチングという途中までエッチングする作業により溝部27を形成する(図6(i))。
ステップS120では、残ったレジスト膜36及び金属膜32を除去する。すると貫通部40を有する溝27が形成される(図6(j))。
ステップS120では、残ったレジスト膜36及び金属膜32を除去する。すると貫通部40を有する溝27が形成される(図6(j))。
<電極の形成及び周波数調整及びパッケージングの工程>
上記の製造工程で作成した音叉型水晶振動片20は次に電極を形成し、周波数調整を行いパッケージングする。図7はその工程のフローチャートを示す。
上記の製造工程で作成した音叉型水晶振動片20は次に電極を形成し、周波数調整を行いパッケージングする。図7はその工程のフローチャートを示す。
ステップS141では、音叉型水晶振動片20を純水で洗浄し、音叉型水晶振動片20の全面に駆動電極としての励振電極などを形成するための金属膜32を蒸着またはスパッタリング等の手法により形成する。
ステップS142では、スプレーを使って全面にフォトレジストを塗布する。音叉型水晶振動片20には溝部27などが形成されているため、溝部27にも均一にフォトレジストを塗布する。
ステップS143では、第1電極パターン23及び第2電極パターン25と対応したフォトマスクを用意して、電極パターンをフォトレジスト層が塗布された水晶単結晶ウエハ10に露光する。第1電極パターン23及び第2電極パターン25は音叉型水晶振動片20の両面に形成する必要があるため、音叉型水晶振動片20の両面を露光する。
ステップS144では、フォトレジスト層を現像後、感光したフォトレジスト層を除去する。残るフォトレジストは第1電極パターン23及び第2電極パターン25と対応したフォトレジスト層になる。さらに電極となる金属膜32のエッチングを行う。すなわち、電極パターンと対応したフォトレジスト層から露出した金層をたとえば、ヨウ素とヨウ化カリウムの水溶液でエッチングし、次にクロム層をたとえば硝酸第2セリウムアンモニウムと酢酸との水溶液でエッチングする。
続いて、ステップS145で、残ったフォトレジストを除去する。これらの工程を経て、音叉型水晶振動片20には励振電極などが正確な位置及び電極幅で形成される。
続いて、ステップS145で、残ったフォトレジストを除去する。これらの工程を経て、音叉型水晶振動片20には励振電極などが正確な位置及び電極幅で形成される。
これまでの工程により、第1電極パターン23、第2電極パターン25及び溝部27及び貫通孔40が形成された音叉型水晶振動片20が得られた。
そこで、ステップS146では、図8(b)で示すセラミック製のパッケージ51に音叉型水晶振動片20を導電性接着剤31で接着する。具体的には、音叉型水晶振動片20の基部29を、配線層81に塗布した導電性接着剤31の上に載置して、導電性接着剤31を仮硬化させる。次に、硬化炉で導電性接着剤31を本硬化することにより音叉型水晶振動片20を端子電極82に対して接合する。
そこで、ステップS146では、図8(b)で示すセラミック製のパッケージ51に音叉型水晶振動片20を導電性接着剤31で接着する。具体的には、音叉型水晶振動片20の基部29を、配線層81に塗布した導電性接着剤31の上に載置して、導電性接着剤31を仮硬化させる。次に、硬化炉で導電性接着剤31を本硬化することにより音叉型水晶振動片20を端子電極82に対して接合する。
ステップS147では、さらに、音叉型水晶振動片20の振動腕21の先端にレーザー光を照射して、振動腕21の錘金属層の一部を蒸散・昇華させ、質量削減方式による周波数調整を行う。
次に、ステップS148で、真空チャンバ内などに図8(b)で示す音叉型水晶振動片20を収容したパッケージ51を移し、蓋体71を封止材57により接合する。
続いてステップS149で、最後に水晶振動デバイス50の駆動特性などの検査を行い、水晶振動デバイス50を完成させる。
次に、ステップS148で、真空チャンバ内などに図8(b)で示す音叉型水晶振動片20を収容したパッケージ51を移し、蓋体71を封止材57により接合する。
続いてステップS149で、最後に水晶振動デバイス50の駆動特性などの検査を行い、水晶振動デバイス50を完成させる。
<水晶振動デバイス50の構成>
上記の水晶振動デバイス50について、図面を参照して説明する。図8は、本発明の実施形態にかかる水晶振動デバイス50の概略図を示している。図8(a)は全体斜視図であり、図8(b)は断面図であり、図8(c)は金属蓋体71を取り外した上面図である。
上記の水晶振動デバイス50について、図面を参照して説明する。図8は、本発明の実施形態にかかる水晶振動デバイス50の概略図を示している。図8(a)は全体斜視図であり、図8(b)は断面図であり、図8(c)は金属蓋体71を取り外した上面図である。
表面実装型の水晶振動デバイス50は、絶縁性のセラミックパッケージ51と水晶振動デバイス50のパッケージを覆う金属蓋体71とからなる。金属蓋体71は、コバール(鉄(Fe)/ニッケル(Ni)/コバルト(Co)合金)製である。セラミックパッケージ51は、アルミナを主原料とするセラミック粉末及びバインダ等を含むスラリーを用いたグリーンシートからプレス抜きされた底面用セラミック層51a、壁用セラミック層51b及び台座用底面用セラミック層51cからなる。パッケージを構成するセラミックパッケージ51の材料として、アルミナを主原料とするセラミック粉末の代わりにガラスセラミックを使用したり、無収縮ガラスセラミック基板を用いたりしてもよい。図8(b)から理解されるように、これら複数のセラミック層51a〜51cから構成されたパッケージは、キャビティ58を形成し、このキャビティ58内に、音叉型水晶振動片20を実装する。
基部29の配線パターンは、導電性接着剤31と導通接続する接着領域を有している。音叉型水晶振動片20は、底面用セラミック層51aと水平になるように導電性接着剤31で接着されて、所定の振動を発生する。台座用セラミック層51cの上面の一部には、音叉型水晶振動片20の接着領域と導通を取る配線層81が形成されている。セラミックパッケージ51の下面に形成された少なくとも2つの端子電極82は、不図示のプリント基板に表面実装された際の外部端子である。また、内部配線83は配線層81、端子電極82を接続する電気的導通部である。壁用セラミック層51bの上端にはメタライズ層があり、金属蓋体71の接合のために、メタライズ層上に形成された低温金属ろう材からなる封止材57が形成されている。壁用セラミック層51bと金属蓋体71は、封止材57を介して溶着されている。
本実施形態では、一本の振動腕21の表面と裏面に2箇所の溝部27が形成されている場合で述べたが、一本の振動腕21の表面と裏面に1箇所または3箇所以上の溝部を持つ複雑な音叉型水晶振動片20でも同様な効果がある。
以上、本発明の好適実施例について詳細に説明したが、当業者に明らかなように、本発明はその技術的範囲内において上記各実施例に様々な変更・変形を加えて実施することができる。たとえば、本発明の音叉型圧電振動片は、水晶以外にニオブ酸リチウム等の様々な圧電単結晶材料を用いることができる。
10 … 円形の単結晶水晶ウエハ
15 … 矩形の水晶単結晶ウエハ
18 … 窓部
20 … 音叉型水晶振動片
21 … 振動腕
23 … 第1電極パターン
25 … 第2電極パターン
26 … 根元(テーパー部)
27 … 溝部
28 … 連結部
29 … 基部
31 … 導電性接着剤
32 … 金属膜
36 … フォトレジスト層
40、40b … 貫通孔
42 … 露光されたフォトレジスト
50 … 水晶振動デバイス
51 … セラミックパッケージ
57 … 封止材
58 … キャビティ
71 … 蓋体
81 … 配線層
82 … 端子電極
83 … 内部配線
15 … 矩形の水晶単結晶ウエハ
18 … 窓部
20 … 音叉型水晶振動片
21 … 振動腕
23 … 第1電極パターン
25 … 第2電極パターン
26 … 根元(テーパー部)
27 … 溝部
28 … 連結部
29 … 基部
31 … 導電性接着剤
32 … 金属膜
36 … フォトレジスト層
40、40b … 貫通孔
42 … 露光されたフォトレジスト
50 … 水晶振動デバイス
51 … セラミックパッケージ
57 … 封止材
58 … キャビティ
71 … 蓋体
81 … 配線層
82 … 端子電極
83 … 内部配線
Claims (7)
- 表面と裏面とを有する基部と、この基部から所定方向に延びる一対の振動腕と、この一対の振動腕に形成された表裏面及び側面の励振電極とを有する音叉型圧電振動片であって、
前記振動腕の定常波の節(node)の位置に、表裏面を貫通する第1貫通孔が形成されていることを特徴とする音叉型圧電振動片。 - 前記振動腕の表面と裏面とに所定方向に延びる溝部が形成され、この溝部に前記第1貫通孔が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の音叉型圧電振動片。
- 前記第1貫通孔には励振電極が形成されており、この励振電極は表面の励振電極と裏面の励振電極とを導通させることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の音叉型圧電振動片。
- 前記一対の振動腕のうちの片方の表裏面の励振電極から他方の側面電極へと接続する接続電極が前記基部に形成されていないことを特徴とする請求項3に記載の水晶振動片。
- 前記溝部は一対の振動腕のぞれぞれの表裏面に2以上所定方向にずれて形成されていることを特徴とする請求項2に記載の音叉型圧電振動片。
- 前記基部から振動腕が延びる根元近傍に、前記表面の励振電極と裏面の励振電極とを導通させる第2貫通孔を有することを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれか一項に記載の音叉型圧電振動片。
- 請求項1ないし請求項6のいずれか一項に記載の音叉型圧電振動片と、
前記音叉型圧電振動片を収納するパッケージと、
を備えることを特徴とする圧電デバイス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008163985A JP2010010734A (ja) | 2008-06-24 | 2008-06-24 | 圧電振動片及び圧電デバイス |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2010010734A true JP2010010734A (ja) | 2010-01-14 |
Family
ID=41590769
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2008163985A Pending JP2010010734A (ja) | 2008-06-24 | 2008-06-24 | 圧電振動片及び圧電デバイス |
Country Status (1)
| Country | Link |
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| JP (1) | JP2010010734A (ja) |
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-
2008
- 2008-06-24 JP JP2008163985A patent/JP2010010734A/ja active Pending
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