JP2010095393A - 耐食性に優れたセラミックス製熱処理用部材およびその製造方法 - Google Patents
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- 238000005260 corrosion Methods 0.000 title claims abstract description 40
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 title claims abstract description 40
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 title claims abstract description 29
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims abstract description 25
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 12
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 55
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 55
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 40
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 40
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 40
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 19
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 17
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 16
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 8
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 7
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 7
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 6
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 6
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 5
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 5
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 5
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 4
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Hf+4] WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 4
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 3
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 3
- 238000009694 cold isostatic pressing Methods 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 3
- 102100025490 Slit homolog 1 protein Human genes 0.000 description 2
- 101710123186 Slit homolog 1 protein Proteins 0.000 description 2
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 2
- AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)manganese;manganese Chemical compound [Mn].O[Mn]=O.O[Mn]=O AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 2
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 229910002077 partially stabilized zirconia Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N yttrium(III) oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Y+3].[Y+3] RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 1
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 229910000464 lead oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N oxolead Chemical compound [Pb]=O YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 229910001404 rare earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
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Abstract
【解決手段】(a)酸化イットリウムおよび/または酸化セリウムを主成分とし、それに少量の酸化ジルコニウムを含有する焼結体であって、酸化イットリウムおよび/または酸化セリウムと酸化ジルコニウムの合計量が99重量%以上で、
(b)酸化ジルコニウムの含有量が0.1〜10重量%であり、
(c)平均結晶粒径が20〜60μmで、
(d)気孔率が1.0%以下、
であることを特徴とする耐食性に優れたセラミックス製熱処理用部材およびその製造方法。
【選択図】なし
Description
(b)酸化ジルコニウムの含有量が0.1〜10重量%であり、
(c)平均結晶粒径が20〜60μmで、
(d)気孔率が1.0%以下、
であることを特徴とする耐食性に優れたセラミックス製熱処理用部材に関する。
本発明の第2は、原料粉体として、いずれも純度が99.7重量%以上で平均粒子径が0.3〜15μmの酸化イットリウム、酸化セリウム及び酸化ジルコニウムを、酸化イットリウム、酸化セリウム及び酸化ジルコニウムの合計量に対して99重量%以上で、かつ酸化ジルコニウムが0.1〜10重量%の割合になるように配合し、粉砕、分散、混合して平均粒子径が0.3〜2μmの原料粉体を得て、これをセラミックス成形法により、成形、焼成することを特徴とする請求項1記載の耐食性に優れたセラミックス製熱処理用部材の製造方法に関する。
本発明において、酸化イットリウムおよび/または酸化セリウムを主成分とし、これに少量の酸化ジルコニウムを含有する焼結体であって、酸化イットリウムおよび/または酸化セリウムと酸化ジルコニウムの合計量が99重量%以上であることが必要であり、好ましくは99.5重量%以上である。酸化イットリウムおよび/または酸化セリウムを主成分とし、これに少量の酸化ジルコニウムを含有する焼結体であって、酸化イットリウムおよび/または酸化セリウムと酸化ジルコニウムの合計量が99重量%未満である場合は、結果的に不純物を多く含有することとなり、結晶粒界にガラス相もしくは第二相が多く析出し、ここが優先的に腐食され、耐食性が低下するため好ましくない。更に、ガラス相や第二相は耐クリープ性などの高温特性を低下させるため好ましくない。尚、工業的に前記合計量の上限は99.9重量%程度である。
本発明において酸化ジルコニウムの含有量が0.1〜10重量%であることが必要であり、好ましくは0.2〜8重量%、より好ましくは0.2〜6重量%である。酸化ジルコニウムの存在は、焼結性の向上に効果があるだけでなく、焼結体を均一な組織にする効果があり、機械的特性の向上に有効である。酸化ジルコニウムが0.1重量%未満の場合、焼結性が低下し、気孔が発生しやすく、曲げ強さや破壊靱性などの機械的特性が低下し、マイクロクラックやチッピングが発生しやすいなど加工性に劣るため好ましくない。また、酸化ジルコニウムの含有量が10重量%を超える場合、耐食性が低下するため好ましくない。酸化ジルコニウムは、酸化イットリウムや酸化セリウムに比し、耐食性に劣るため、酸化イットリウム、酸化セリウム、酸化イットリウムと酸化セリウムの化合物に完全に固溶する必要がある。つまり、本発明品は、「酸化ジルコニウムが固溶した酸化イットリウム」、「酸化ジルコニウムが固溶した酸化セリウム」、「酸化ジルコニウムが固溶した酸化イットリウムと酸化セリウムの化合物」となる。従って、「酸化イットリウム」、「酸化セリウム」、「酸化イットリウムと酸化セリウムの化合物」がX線回折で検出されても問題はないが、X線回折において酸化イットリウム、酸化セリウム、酸化ジルコニウムのいずれか以外が検出されてはならない。X線回折において、酸化ジルコニウムが検出された場合は、曲げ強さなどの機械的特性が低下するだけでなく、酸化ジルコニウムを起点に腐食が進み、耐食性が低下するため好ましくない。尚、酸化ジルコニウムに含有する酸化ハフニウムは、酸化ジルコニウムとして換算する。
酸化ハフニウムは酸化ジルコニウムを作製するときの原料に0.5〜3.0%程度含有しており、酸化ハフニウムと酸化ジルコニウムを分離するには非常にコストがかかる。更に、酸化ハフニウムと酸化ジルコニウムは同じ様な特性を持っているため混ざっていても問題ないことから、あえて分離せずに使用することが一般的である。
酸化イットリウムと酸化セリウムは単独でも併用でも耐食性に優れているが、焼結性や加工性に問題があり、それを解決するために本発明では、酸化ジルコニウムを添加している
本発明では、X線回折は、該焼結体を研削加工し、ダイヤモンド砥粒で鏡面仕上げを行った後に行う。測定条件は、ターゲットとしてCu、モノクロメータを使用し、電圧40kV、電流40mA、発散スリットを1°、散乱スリットを1°、受光スリットを0.15mmに設定してスキャニングスピードを3°/分とする。
本発明において平均結晶粒径が20〜60μmであることが必要であり、好ましくは30〜50μmである。平均結晶粒径が20μm未満である場合は、高温において耐クリープ性が低下すると共に、結晶粒界を起点に腐食が進み、耐食性が低下するため好ましくない。また、60μmを超える場合は、曲げ強さなどの機械的特性が低下するだけでなく、耐熱衝撃抵抗性や耐久性が低下し、熱処理用部材としての実用性に劣るため、好ましくない。尚、平均結晶粒径は本発明のセラミックス焼結体を鏡面研磨し、熱エッチングを施した後、走査電子顕微鏡により観察し、インターセプト法により10点平均から、下式より求めたものである。
D=1.5×L/n
[D:平均結晶粒径(μm)、L:測定距離(μm)、n:長さL当たりの結晶の数]
本発明において気孔率は1.0%以下であることが必要であり、より好ましくは0.5%以下である。気孔率が1.0%を上廻る場合は、焼結体に気孔が多数形成されているため、気孔が起点となり腐食および反応が進行しやすくなり、耐食性が低下するため好ましくない。しかも、気孔は高温での変形の起点となり、耐クリープ性など高温特性が低下するため好ましくない。尚、本発明における気孔率とは開気孔率を示し、測定はJISR1634に準拠して行う。
酸化セリウム、酸化イットリウムおよび酸化ジルコニウム原料粉体は、いずれも純度99.7重量%以上が必要で、より好ましくは99.9重量%以上である。尚、粉砕・分散工程での不純物の混入を考えると、用いる粉体の平均粒子径は0.3〜15μmが必要で、より好ましくは1〜10μmである。平均粒子径が15μmを超える場合は、目的の粒度までの粉砕・分散時間が長くなり、結果的に粉砕機からの摩耗粉の混入により不純物量が増加するため好ましくない。平均粒子径が0.3μm未満の場合は、粉体の凝集が起こりやすく、成形性等の低下をきたすので好ましくない。
酸化イットリウム、酸化セリウム及び酸化ジルコニウム原料粉体の純度が99.7重量%未満の場合は、不純物を多く含有することとなり、結晶粒界にガラス相もしくは、第二相が多く析出し、優先的に腐食され、耐食性が低下するため好ましくない。更に、ガラス相や第二相は耐クリープ性などの高温特性を低下させるため好ましくない。
得られた成形体は大気中1500〜1750℃、好ましくは1550〜1700℃で焼成する。焼成温度が1500℃未満の場合は、焼結が不十分なため気孔が増加し、耐食性が低下するため好ましくなく、1750℃を超える場合は、焼結性は向上するものの、異常粒成長並びに粒界に気孔が発生しやすくなり、更に曲げ強さなどの機械的特性の低下により加工性が低下するため、好ましくない。
(1)耐食性に優れているために、被焼成物を汚染することを防止できる。
(2)加工性に優れており、容易に所定の形状への加工ができる。
(3)高温特性に優れているため、高温での変形等が少ない。
原料として、純度99.9重量%、平均粒子径が0.5μmの酸化イットリウムと、純度が99.7重量%、平均粒子径が3.4μmの酸化セリウムと、純度99.9重量%、平均粒子径が7μmの酸化ジルコニウムを用いた。表1に示す通り、所定の組成となるように、酸化イットリウム、酸化セリウム、酸化ジルコニウムの各原料粉体を、酸化ジルコニウム製ボール及びポットミル(ニッカトー製YTZ・・登録商標)を用い、溶媒として水を用いて粉砕・分散・混合し、スラリーを作製した。得られたスラリーの粉砕粉体の平均粒子径を表1に示す。その得られたスラリーをスプレードライヤーで乾燥して顆粒を作製し、所定の金型を用い20MPaで予備成形を行った後、CIP(冷間等方圧成形)で100MPaの圧力で成形を行い、1600〜1770℃で焼成し、□50mm、厚さ5mmの角板状の酸化イットリウム、酸化セリウムおよび酸化ジルコニウムよりなる焼結体を作製した。酸化イットリウム、酸化セリウム、酸化ジルコニウムよりなる焼結体の特性を表1に示す。
耐食性試験は各焼結体の上に、酸化ビスマスの成形体をのせ、電気炉中で750℃において10時間熱処理した後に酸化ビスマスの侵食深さを測定した。尚、侵食深さは、焼結体断面を鏡面研磨し、エネルギー分散形X線分析(EDX)により分析して測定した。その結果を表1に示す。
なお、侵食深さとは、酸化ビスマス成分が焼結体に侵食した深さのことである。耐食性に優れる焼結体であれば、ほとんど侵食されないので侵食深さは小さくなる(例:侵食深さ<0.1mm)。逆に耐食性に劣る焼結体であれば、かなり侵食されるので、侵食深さは大きくなる(例:侵食深さ4.3mm)。侵食深さの測定はエネルギー分散形X線分析(EDX)で、酸化ビスマス成分が焼結体に侵食した深さを測定したものである。
加工性試験は、NC精密平面研削機を用いた。砥石は、砥石の形状:外径φ250mm×厚み1mm、砥粒にダイヤモンド(粒度#140)、結合剤にレジンボンドB2K2(商品名)、を用いた。加工条件は、砥石の回転数:1700rpm、送り速度:2000mm/min、切り込み量:12μmで行った。加工性は加工後の試料の割れ、チッピング、及び蛍光探傷によるクラックの有無により評価した。その結果を表1に示す。
本発明の焼結体は、下記表1より明らかなように、優れた耐食性及び加工性を有している。しかしながら、本発明の要件を少なくとも一つ以上を満足していない焼結体は耐食性、加工性のいずれか一つ以上が劣っており、熱処理用部材として満足できるものではなかった。
Claims (2)
- (a)酸化イットリウムおよび/または酸化セリウムを主成分とし、それに少量の酸化ジルコニウムを含有する焼結体であって、酸化イットリウムおよび/または酸化セリウムと酸化ジルコニウムの合計量が99重量%以上で、
(b)酸化ジルコニウムの含有量が0.1〜10重量%であり、
(c)平均結晶粒径が20〜60μmで、
(d)気孔率が1.0%以下、
であることを特徴とする耐食性に優れたセラミックス製熱処理用部材。 - 原料粉体として、いずれも純度が99.7重量%以上で平均粒子径が0.3〜15μmの酸化イットリウム、酸化セリウム及び酸化ジルコニウムを、酸化イットリウム、酸化セリウム及び酸化ジルコニウムの合計量に対して99重量%以上で、かつ酸化ジルコニウムが0.1〜10重量%の割合になるように配合し、粉砕、分散、混合して平均粒子径が0.3〜2μmの原料粉体を得て、これをセラミックス成形法により、成形、焼成することを特徴とする請求項1記載の耐食性に優れたセラミックス製熱処理用部材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008265298A JP2010095393A (ja) | 2008-10-14 | 2008-10-14 | 耐食性に優れたセラミックス製熱処理用部材およびその製造方法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008265298A JP2010095393A (ja) | 2008-10-14 | 2008-10-14 | 耐食性に優れたセラミックス製熱処理用部材およびその製造方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2010095393A true JP2010095393A (ja) | 2010-04-30 |
Family
ID=42257357
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008265298A Pending JP2010095393A (ja) | 2008-10-14 | 2008-10-14 | 耐食性に優れたセラミックス製熱処理用部材およびその製造方法 |
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