JP2010076929A - 基板搬送アーム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】搬送アーム10は、吸着パッド1により基板を真空吸着により保持して搬送し、ワークステージ上に載置して真空吸着により保持させる。搬送アーム10の吸着パッド1が設けられる側に、吸着パッド1より短い板ばね4等の弾性部材が設けられる。板ばね4は、吸着パッド1の先端より引っ込ませて設けられる。基板を保持した搬送アーム10がワークステージ上で下降するとき、板ばね4は、基板の反っている部分をワークステージの方向に押し付ける。このため、基板は平面に矯正され、基板周辺部からの吸着用真空のリークがなくなり、基板はワークステージに吸着保持される。
【選択図】 図1
Description
図11に、基板を吸着パッドで吊り下げて搬送する搬送アームを供えた搬送装置の構成例を示す。同図は、搬送装置を横から見た図である。
搬送アーム10には、搬送対象となる基板11を吸着する吸着パッド1が、複数、下向きに取り付けられている。吸着パッド1は、主な構成としてパッド部2と軸部3からなる。パッド部2は基板に接触する部分であり、変形が可能なやわらかい樹脂でできている。軸部3は吸着パッド1を搬送アームに固定する部分であり、数mmの範囲で伸縮する。また内部に真空供給路が形成されている。
各吸着パッド1の軸部3には真空配管が接続され、基板11を吸着保持する際には真空が供給される。
搬送アーム10には、搬送アーム移動機構20が取り付けられ、搬送アーム移動機構20により、保持した基板11を所望の位置に移動させる。例えば、露光装置等の場合は、基板を搬送アーム10により保持してワークステージ上まで搬送し、ワークステージ上に載置して真空吸着して保持させ、露光処理等を行なう。
露光処理等が終わると、露光処理等が終わった基板は搬送アーム10により吸着保持され、ワークステージから搬出され、次の工程に送られる。
なお、同図には、Y方向(図面手前奥方向)移動機構は示されていないが、Y方向(図面手前奥方向)に移動する機構を取り付けたものもある。
制御部30は、上記X方向駆動部21及びZ方向駆動部22を制御して、搬送アーム10を所望の位置に移動させるとともに、電磁弁31を駆動して搬送アーム10の吸着パッド1への真空の供給を制御して、吸着パッド1による基板11の吸着保持および解除を制御する。
上記したように、吸着パッド1は、主としてパッド部2と軸部3とから構成されている。パッド部2は基板に触れる部分である。パッド部2の材質は柔らかい樹脂であり、ある程度の変形が可能である。
吸着パッド1は、軸部3において搬送アーム10のプレート10aに取り付けられる。軸部3にはばね3aが取り付けられており、吸着パッド1は取り付けたプレート10aに対して、図面上下方向(Z方向)に数mmの範囲で移動可能である。
図12を使って、搬送アームが反った基板を保持する動作を説明する。
図12(a)において、搬送アーム10の吸着パッド1に真空が供給される。搬送アーム10は、基板11が載置してあるステージ15の直上に移動し下降する。
次に、図12(b)に示すように、吸着パッド1のパッド部2が基板11に接触する。基板11は反っているが、基板の形状に合わせて、軸部3の上下方向(Z方向)の位置が変化し、またパッド2も柔らかであるため形状も変形する。これにより基板11は吸着パッド1に吸着され保持される。次に、搬送アーム10が上昇し、基板11がステージ15から搬出される。
しかし、このように反った基板11を、搬送アーム10から基板11を真空吸着して保持するワークステージに載置しようとすると、ワークステージの表面は平面であるので、ステージと反った基板11の間に隙間ができ、そこからワークステージに供給している吸着用の真空がリークする。そのため、ワークステージは基板を吸着保持することができない。
本発明は、上記問題点を解決するためになされたものであって、本発明の目的は、反っているプリント基板をワークステージ載置する際に、基板をワークステージに向かって押さえつけて反りを矯正し、ステージの表面に沿って平面になるようにし、基板とワークステージと基板との間で吸着用の真空がリークするのを防ぎ、ワークステージが基板を吸着保持できるようにすることである。
基板搬送アームの吸着パッドが設けられる側に、吸着パッドより短い弾性部材を設ける。弾性部材は、基板搬送アームが基板を搬送している際に、基板を吸着パッドから剥さないように、吸着パッドより短くし、吸着パッドの先端より引っ込ませて設ける。そして、基板をワークステージ上に載置する際、基板を弾性部材により押し付け、基板を平らにする。
なお、弾性部材は、基板の周辺部をワークステージ側に押さえられるような位置に取り付けるのが好ましい。
このため、基板はステージの表面に沿って平らになる。したがって、基板とステージの間に隙間がなくなり、ワークステージに供給しているワーク吸着用の真空のリークがなくなり、ワークステージは基板を吸着することができる。
すなわち、搬送アーム10には、基板11を吸着するためのパッド部2と軸部3からなる吸着パッド1が、複数、下向きに取り付けられている。パッド部2は、前述したように変形が可能なやわらかい樹脂で形成され、軸部3には内部に真空供給路が形成されている。吸着パッド1は、前述したように例えば基板の周辺部に対応した位置や、基板11に形成される回路等のパターンとパターンの間に対応した位置に設けられる。
搬送アーム移動機構20は、例えば、前記したように、X方向駆動部21及びZ方向駆動部22から構成され、Z方向ガイド13、X方向ガイド14に沿って搬送アーム10を移動させる。なお、Y方向(図面手前奥方向)移動機構を設けて、Y方向(図面手前奥方向)に移動するように構成してもよい。
制御部30は、上記X方向駆動部21及びZ方向駆動部22を制御して、搬送アーム10を所望の位置に移動させるとともに、電磁弁31を駆動して搬送アーム10の吸着パッド1への真空の供給を制御して、吸着パッド1による基板11の吸着保持および解除を制御する。
図2、図3に示すように、吸着パッド1は、基板11の接触が許されている位置(周辺部等のパターンが形成されない位置)を吸着するように、搬送アーム10のプレート10aに取り付けられる。
背景技術において説明したように、吸着パッド1は、取り付けられるプレート10に対して上下方向(Z方向)に数mmの範囲で移動可能である。また、パッドの材質は柔らかい樹脂であり、ある程度の変形が可能である。
なお、本実施例において示した吸着パッド1は、図9(a)に示すようなパッドの部分が吸盤形のものであるが、基板の多少の変形に対応できる柔軟さを有するものであれば、他の形状でも良い。パッドの他の例としては、図9(b)のようなベローズを用いた物や、(c)のようなスポンジを用いた物などがある。
板ばね4は、一方の端が、例えばねじ4bにより板ばね取付ブロック4aに固定され、板ばね取付ブロック4aは、搬送アーム10のプレート10aに固定される。板ばね4のもう一方の端は、吸着パッド1が並ぶ列まで伸び、開放されている。
図2(b)に示すように、板ばね4の開放されている側に下から力を加えると、弾性によりそれを押し返す力が働く。
板ばね4は、吸着パッド1より短く(高さが低く)、板ばね4の開放されている側は、基板が吸着されていない状態では、吸着パッド1の先端よりもやや引っ込んで設ける。これは、吸着パッド1が基板を吸着して搬送している際に、板ばね4が基板に当たって、基板を吸着パッド1から引き剥がすことがないようにするためである。
実際には、吸着パッド1が基板を吸着保持している際に、板ばね4の先端と基板とは、0.5mmほど隙間が開くように設計している(図2(a)参照)。
図4に、搬送アーム10が、ステージ15から、反りが生じている基板11を保持して吊り上げるまでを示す。
図4(a)に示すように、搬送アーム10に取り付けた吸着パッド1に真空が供給される。搬送アーム10は基板11が載せられたステージ15の直上に移動して下降する。
図4(b)に示すように、基板11の形状に合わせて、吸着パッド1の上下方向(Z方向)の位置やパッド部2の形状が変化し、基板11は吸着パッド1に吸着保持される。
次に、搬送アーム10が上昇し、基板11がステージ15から搬出される。ここまでは、背景技術の説明と同じである。この段階では板ばね4は吸着パッド1より短かく、吸着パッドの先端よりも引っ込んで設けられているので働かない。
図5(b)に示すように、ワークステージ16の表面に形成されている真空吸着溝16aに真空が供給される。反りが生じた基板11を保持している搬送アーム10が下降し、反っている基板11の一部がワークステージ16の表面に接触する。
図6(b)は、この段階での、板ばね4の部分を横から見た図である。基板11の一部がワークステージ16の表面と接触すると、反動で基板11の反っている(浮いている)側の周辺部が持ち上がる。
吸着パッド1はプレート10a側に移動し、基板11の反っている部分の周辺部が板ばね4の端に接触する。基板11は、板ばね4を下から押し上げようとするが、反対に板ばね4の弾性によりワークステージ16の方向に押し付けられる。
図8(a)に示すように、搬送アーム10がさらに下降する。基板11の周辺部は、板ばね4によりワークステージ16に押し付けられ、ワークステージ16の表面に沿って平面に矯正される。ワークステージ16と基板11との間に隙間がなくなり、真空吸着溝16aに供給されている真空のリークがなくなる。基板周辺部からの吸着用真空のリークがなくなるので、基板11の中央部に反りがあり基板11の中央部とワークステージ16との間に空間があったとしても、やがてはこの空間も引かれて真空になり、基板11はワークステージ16に吸着保持される。
ついで、図8(b)に示すように、吸着パッド1への真空の供給を停止し、搬送アーム10は基板11の保持を解除して上昇する。なお、真空配管32にエアーを供給できるようにしておき、基板11の保持を解除する時、バックブローしてもよい。
また、基板11を吸着保持するワークステージ16には、周辺部にリップシールを取り付け、反りが生じた基板を吸着保持しやすくしたものがある。そのようなリップシールを設けたワークステージの場合は、図10(b)に示すように、板ばね4(弾性部材)が基板11を押さえつける位置は、リップシール16bが設けられている位置と一致させることが望ましい。このようにすることで、基板11の周辺部からの真空のリークを防ぎやすくなる。
さらに、図1や図3などに示したように、吸着パッド1と板ばね4(弾性部材)は交互に、吸着パッド1と板ばね4の数がほぼ同数になるように設けたが、板ばね4(弾性部材)の数はもっと少なくしても良いし、反対に多くしても良い。基板11の厚さや材質の違いにより、反りを矯正する(反っている基板をワークステージに押し付ける)ための力の大きさは異なる。搬送アーム10に設ける板ばね4(弾性部材)の位置や個数は、搬送する基板の種類に応じて適宜設計する。
ただし、その場合でも、基板の搬送中に弾性部材が吸着パッドから基板を引き剥がさないように、弾性部材の先は、基板が吸着されていない状態では、吸着パッドの先端よりもやや引っ込んでいなければならない。
2 パッド部
3 軸部
3a ばね
4 板ばね
4a 板ばね取付ブロック
10 搬送アーム
10a 搬送アームのプレート
11 基板
12 ベースプレート
13 Z方向ガイド
14 X方向ガイド
15 ステージ
16 ワークステージ
16a 真空吸着溝
16b リップシール
20 搬送アーム駆動機構
21 X方向駆動部
22 Z方向駆動部
30 制御部
31 電磁弁
32 真空配管
Claims (1)
- 基板を吸着パッドにより下側に保持して搬送し、該基板を真空吸着して保持するワークステージ上に載置するための基板搬送アームにおいて、
基板搬送アームの吸着パッドが設けられる側には、吸着パッドより短い弾性部材が吸着パッドの先端より引っ込んで設けられている
ことを特徴とする基板搬送アーム。
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