JP2009215194A - Method for producing fluorine-containing pyrazolecarbonitrile derivative, and method for producing fluorine-containing pyrazolecarboxylic acid derivative by utilizing the fluorine-containing pyrazolecarbonitrile derivative - Google Patents
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Abstract
【課題】
含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法、及び該含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体を利用した含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法を、簡便かつ工業的規模での実施が可能なものとして提供することを課題とする。
【解決手段】
含フッ素アシル誘導体とアミノアクリロニトリル誘導体から含フッ素アシルアセトニトリル誘導体を調製した後に、ヒドラジンと反応させることにより、一般式(1)
(1)
(式中、Rfは少なくとも1つのフッ素原子で置換されている炭素数1〜6のアルキル基を表し、R1は水素原子、炭素数1〜6のアルキル基等を表す。)で表される含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体を製造する。該含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体は、アルキル化、続く、加水分解を行なうことにより、含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体に変換できる。
【選択図】なし【Task】
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a fluorinated pyrazole carbonitrile derivative and a method for producing a fluorinated pyrazole carboxylic acid derivative using the fluorinated pyrazole carbonitrile derivative as a simple and industrially feasible method. And
[Solution]
A fluorine-containing acylacetonitrile derivative is prepared from a fluorine-containing acyl derivative and an aminoacrylonitrile derivative and then reacted with hydrazine to give a general formula (1)
(1)
In the formula, Rf represents a C 1-6 alkyl group substituted with at least one fluorine atom, and R 1 represents a hydrogen atom, a C 1-6 alkyl group, or the like. Fluorine pyrazole carbonitrile derivative is produced. The fluorinated pyrazole carbonitrile derivative can be converted to a fluorinated pyrazole carboxylic acid derivative by alkylation followed by hydrolysis.
[Selection figure] None
Description
本発明は、含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法、及び該含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体を利用した含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a fluorine-containing pyrazole carbonitrile derivative and a method for producing a fluorine-containing pyrazole carboxylic acid derivative using the fluorine-containing pyrazole carbonitrile derivative.
含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体を含む化合物群は医薬及び農薬分野における有効な生理活性物質となりうることが知られている。さらにシアノ基は、カルボン酸、アミノメチル基、アミノカルボニル基、アルコキシイミドイル基等の多様な官能基に変換できるために、該含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体は該分野における有用な製造中間体にもなりうる。従って、新規な該含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体及びその製造方法を提供することは重要であり、様々な技術開発が行われてきた。 It is known that a compound group containing a fluorine-containing pyrazole carbonitrile derivative can be an effective physiologically active substance in the fields of medicine and agricultural chemicals. Furthermore, since the cyano group can be converted into various functional groups such as carboxylic acid, aminomethyl group, aminocarbonyl group, and alkoxyimidoyl group, the fluorine-containing pyrazole carbonitrile derivative is also a useful production intermediate in the field. Can be. Therefore, it is important to provide a novel fluorine-containing pyrazole carbonitrile derivative and a method for producing the same, and various technological developments have been performed.
以下に代表的な先行技術例を示す。
(1)[ビス(トリフルオロアセトキシ)ヨード]ベンゼンとヨウ素を使用してトリフルオロメチルピラゾール誘導体をヨウ素化した後に、シアン化銅にてシアノ基を導入する方法(例えば、特許文献1参照)。
(2)ヴィルスマイヤー試薬にてトリフルオロメチルピラゾール誘導体にホルミル基を導入した後に、ヒドロキシルアミン、続くオキシ塩化リンと反応させてピラゾールカルボニトリル誘導体を合成する方法(例えば、特許文献2参照)。
(1) A method of introducing a cyano group with copper cyanide after iodination of a trifluoromethylpyrazole derivative using [bis (trifluoroacetoxy) iodo] benzene and iodine (for example, see Patent Document 1).
(2) A method for synthesizing a pyrazole carbonitrile derivative by introducing a formyl group into a trifluoromethylpyrazole derivative with a Vilsmeier reagent and then reacting with hydroxylamine and subsequent phosphorus oxychloride (see, for example, Patent Document 2).
しかしながら、(1)の方法に関しては、[ビス(トリフルオロアセトキシ)ヨード]ベンゼンやシアン化銅等の試剤は安全上好ましくなく、銅のような遷移金属類は廃棄上の問題がある。さらに、トリフルオロメチル源からの工程数も多く、工業的生産には適していない。(2)についても同様の問題を抱えている。安全上問題となる試剤としてヒドロキシルアミンを使用し、また廃棄上問題となる試剤としてオキシ塩化リンを使用している上、工程数も多い。さらに、大量合成には不向きなシリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を必要とする。 However, with regard to the method (1), reagents such as [bis (trifluoroacetoxy) iodo] benzene and copper cyanide are not preferable for safety, and transition metals such as copper have a problem in disposal. In addition, the number of steps from the trifluoromethyl source is large and is not suitable for industrial production. (2) has the same problem. Hydroxylamine is used as a reagent that causes safety problems, phosphorus oxychloride is used as a reagent that causes disposal problems, and the number of processes is large. Furthermore, purification by silica gel column chromatography that is unsuitable for mass synthesis is required.
本発明は、含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法、及び該含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体を利用した含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法を、簡便かつ工業的規模での実施が可能なものとして提供することを課題とする。 The present invention provides a method for producing a fluorinated pyrazole carbonitrile derivative, and a method for producing a fluorinated pyrazole carboxylic acid derivative using the fluorinated pyrazole carbonitrile derivative, as those that can be carried out simply and on an industrial scale. The task is to do.
前記課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、含フッ素アシル誘導体とアミノアクリロニトリル誘導体から含フッ素アシルアセトニトリル誘導体を調製した後に、ヒドラジンと反応させることにより、含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体を製造できることを見出した。次いで、該含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体をアルキル化剤と反応させることにより、アルキル置換含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体に変換することが可能である。さらに、該アルキル置換含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体は加水分解を行なうことにより、含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体にすることが可能である。この含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体は、1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−4−カルボン酸を始めとする農園芸用殺菌剤等の重要な原料となりうる。こうした方法は簡便であり、大量生産実施が可能な製造方法となりうる。以上により、本発明を完成させるに至った。 As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, it was found that a fluorine-containing pyrazolecarbonitrile derivative can be produced by preparing a fluorine-containing acylacetonitrile derivative from a fluorine-containing acyl derivative and an aminoacrylonitrile derivative and then reacting with hydrazine. It was. Subsequently, the fluorine-containing pyrazole carbonitrile derivative can be converted into an alkyl-substituted fluorine-containing pyrazole carbonitrile derivative by reacting with the alkylating agent. Furthermore, the alkyl-substituted fluorinated pyrazole carbonitrile derivative can be converted to a fluorinated pyrazole carboxylic acid derivative by hydrolysis. This fluorine-containing pyrazole carboxylic acid derivative can be an important raw material for agricultural and horticultural fungicides including 1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole-4-carboxylic acid. Such a method is simple and can be a production method capable of mass production. Thus, the present invention has been completed.
即ち、本発明は以下の通りである。
[1] 下記一般式(1)
That is, the present invention is as follows.
[1] The following general formula (1)
(1)
(式中、Rfは少なくとも1つのフッ素原子で置換されている炭素数1〜6のアルキル基を表し、Xはハロゲン原子、水酸基、またはカルボニルオキシ基を表す。)で表される化合物と、一般式(2)
(1)
Wherein Rf represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms substituted with at least one fluorine atom, and X represents a halogen atom, a hydroxyl group, or a carbonyloxy group; Formula (2)
(2)
(式中、R1は水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数3〜6のシクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、または置換されてもよいアリールアルキル基を表し、R2とR3はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数3〜6のシクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよいアリールアルキル基、もしくは炭素数1〜6の置換されてもよいアシル基、または、R2とR3とが結合する窒素原子とヘテロ原子0〜1個とを含む5〜6員環を形成するのに必要な原子群を表す。)で表される化合物を反応させて、一般式(3)
(2)
(Wherein R1 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, an aryl group which may be substituted, or an arylalkyl group which may be substituted; Each R3 is independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, an aryl group that may be substituted, an arylalkyl group that may be substituted, or 1 carbon atom. -6 represents an optionally substituted acyl group, or an atomic group necessary to form a 5- to 6-membered ring containing 0 to 1 heteroatom and a nitrogen atom to which R2 and R3 are bonded. Is reacted with a compound represented by the general formula (3)
(3)
(式中、Rf、R1、R2及びR3は前記と同義である。)で表される化合物を製造した後に、さらに前記一般式(3)で表される化合物とヒドラジンを反応させる工程を含む、一般式(4)
(3)
(Wherein Rf, R1, R2 and R3 have the same meanings as described above), and further comprising reacting the compound represented by the general formula (3) with hydrazine. General formula (4)
(4)
(式中、RfとR1は前記と同義である。)で表される含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法。
[2] R1が水素原子であり、R2とR3はそれぞれ独立して、炭素数1〜6のアルキル基、もしくは炭素数3〜6のシクロアルキル基、または、R2とR3とが結合する窒素原子とヘテロ原子0〜1個とを含む5〜6員環を形成するのに必要な原子群を表す、[1]に記載の含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法。
[3] Rfはトリフルオロメチル基を表し、R2とR3はともにメチル基を表す、[2]に記載の含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法。
[4] [1]で得られた一般式(4)で表される化合物とアルキル化剤を反応させる工程をさらに含む、一般式(5)
(4)
(Wherein Rf and R1 have the same meanings as described above), and a method for producing a fluorine-containing pyrazole carbonitrile derivative.
[2] R1 is a hydrogen atom, and R2 and R3 are each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, or a nitrogen atom to which R2 and R3 are bonded. And the method for producing a fluorinated pyrazole carbonitrile derivative according to [1], which represents an atomic group necessary for forming a 5- to 6-membered ring containing 0 to 1 heteroatom.
[3] The process for producing a fluorinated pyrazole carbonitrile derivative according to [2], wherein Rf represents a trifluoromethyl group, and R2 and R3 both represent a methyl group.
[4] The method further comprises a step of reacting the compound represented by the general formula (4) obtained in [1] with an alkylating agent.
(5)
(式中、RfとR1は[1]に記載のものと同義であり、R4は炭素数1〜6のアルキル基、炭素数3〜6のシクロアルキル基、置換されてもよいアリールアルキル基を表す。)で表されるアルキル置換含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法。
[5] R1が水素原子であり、R2とR3はそれぞれ独立して炭素数1〜6のアルキル基、もしくは炭素数3〜6のシクロアルキル基、または、R2とR3とが結合する窒素原子とヘテロ原子0〜1個とを含む5〜6員環を形成するのに必要な原子群を表す、[4]に記載のアルキル置換含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法。
[6] Rfはトリフルオロメチル基を表し、R2とR3はともにメチル基を表し、R4は炭素数1〜6のアルキル基を表す、[5]に記載のアルキル置換含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法。
[7] [4]で得られた一般式(5)で表される化合物と水を反応させる工程をさらに含む、一般式(6)
(5)
(In the formula, Rf and R1 have the same meanings as those described in [1], and R4 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, or an arylalkyl group which may be substituted. The method for producing an alkyl-substituted fluorine-containing pyrazole carbonitrile derivative represented by:
[5] R1 is a hydrogen atom, and R2 and R3 are each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, or a nitrogen atom to which R2 and R3 are bonded. The method for producing an alkyl-substituted fluorine-containing pyrazole carbonitrile derivative according to [4], which represents an atomic group necessary for forming a 5- to 6-membered ring containing 0 to 1 heteroatoms.
[6] Rf represents a trifluoromethyl group, R2 and R3 both represent a methyl group, R4 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and the alkyl-substituted fluorine-containing pyrazolecarbonitrile derivative according to [5]. Production method.
[7] The method further comprises a step of reacting the compound represented by the general formula (5) obtained in [4] with water.
(6)
(式中、Rf、R1及びR4は[4]に記載のものと同義である。)で表される含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法。
[8] R1が水素原子であり、R2とR3はそれぞれ独立して炭素数1〜6のアルキル基、もしくは炭素数3〜6のシクロアルキル基、または、R2とR3とが結合する窒素原子とヘテロ原子0〜1個とを含む5〜6員環を形成するのに必要な原子群を表す、[7]に記載の含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法。
[9] Rfはトリフルオロメチル基を表し、R2とR3はともにメチル基を表し、R4は炭素数1〜6のアルキル基を表す、[8]に記載の含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法。
[10] 下記一般式(3)
(6)
(Wherein Rf, R1 and R4 have the same meanings as described in [4]).
[8] R1 is a hydrogen atom, and R2 and R3 are each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, or a nitrogen atom to which R2 and R3 are bonded. The method for producing a fluorinated pyrazole carboxylic acid derivative according to [7], which represents an atomic group necessary for forming a 5- to 6-membered ring containing 0 to 1 heteroatoms.
[9] The method for producing a fluorinated pyrazole carboxylic acid derivative according to [8], wherein Rf represents a trifluoromethyl group, R2 and R3 both represent a methyl group, and R4 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. .
[10] The following general formula (3)
(3)
(式中、Rfは少なくとも1つのフッ素原子で置換されている炭素数1〜6のアルキル基を表し、R1は、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数3〜6のシクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、または置換されてもよいアリールアルキル基を表し、R2とR3はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数3〜6のシクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよいアリールアルキル基、もしくは炭素数1〜6の置換されてもよいアシル基、または、R2とR3とが結合する窒素原子とヘテロ原子0〜1個とを含む5〜6員環を形成するのに必要な原子群を表す。)で表される化合物とヒドラジンを反応させる工程を含む、一般式(4)
(3)
(In the formula, Rf represents a C1-C6 alkyl group substituted with at least one fluorine atom, and R1 represents a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, or a C3-C6 cycloalkyl. Group, an aryl group which may be substituted, or an arylalkyl group which may be substituted, R2 and R3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a cyclohexane having 3 to 6 carbon atoms. An alkyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted arylalkyl group, an optionally substituted acyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a nitrogen atom and a hetero atom 0 to which R2 and R3 are bonded; Which represents a group of atoms necessary to form a 5- to 6-membered ring containing 1 to 5), and a step of reacting hydrazine with the compound represented by the general formula (4)
(4)
(式中、RfとR1は前記と同義である。)で表される含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法。
[11] R1が水素原子であり、R2とR3はそれぞれ独立して炭素数1〜6のアルキル基、もしくは炭素数3〜6のシクロアルキル基、または、R2とR3とが結合する窒素原子とヘテロ原子0〜1個とを含む5〜6員環を形成するのに必要な原子群を表す、[10]に記載の含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法。
[12] Rfはトリフルオロメチル基を表し、R2とR3はともにメチル基を表す、[11]に記載の含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法。
[13] 下記一般式(4)
(4)
(Wherein Rf and R1 have the same meanings as described above), and a method for producing a fluorine-containing pyrazole carbonitrile derivative.
[11] R1 is a hydrogen atom, and R2 and R3 are each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, or a nitrogen atom to which R2 and R3 are bonded. The method for producing a fluorinated pyrazole carbonitrile derivative according to [10], which represents an atomic group necessary for forming a 5- to 6-membered ring containing 0 to 1 heteroatoms.
[12] The process for producing a fluorinated pyrazole carbonitrile derivative according to [11], wherein Rf represents a trifluoromethyl group, and R2 and R3 both represent a methyl group.
[13] The following general formula (4)
(4)
(式中、Rfは少なくとも1つのフッ素原子で置換されている炭素数1〜6のアルキル基を表し、R1は、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数3〜6のシクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、または置換されてもよいアリールアルキル基を表す。)で表される化合物とアルキル化剤を反応させる工程を含む、一般式(5)
(4)
(In the formula, Rf represents a C1-C6 alkyl group substituted with at least one fluorine atom, and R1 represents a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, or a C3-C6 cycloalkyl. Group, an aryl group that may be substituted, or an arylalkyl group that may be substituted) and a step of reacting a compound represented by general formula (5)
(5)
(式中、RfとR1は前記と同義であり、R4は炭素数1〜6のアルキル基、炭素数3〜6のシクロアルキル基、置換されてもよいアリールアルキル基を表す。)で表されるアルキル置換含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法。
[14] R1が水素原子である、[13]に記載のアルキル置換含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法。
[15] Rfはトリフルオロメチル基を表す、[14]に記載のアルキル置換含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法。
(5)
(Wherein Rf and R1 are as defined above, and R4 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, and an arylalkyl group which may be substituted). A process for producing an alkyl-substituted fluorine-containing pyrazole carbonitrile derivative.
[14] The method for producing an alkyl-substituted fluorine-containing pyrazole carbonitrile derivative according to [13], wherein R1 is a hydrogen atom.
[15] The process for producing an alkyl-substituted fluorinated pyrazole carbonitrile derivative according to [14], wherein Rf represents a trifluoromethyl group.
本発明によれば、含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法、及び該含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体を利用した含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法を、簡便かつ工業的規模での生産が可能な方法で提供することができる。 According to the present invention, a method for producing a fluorine-containing pyrazole carbonitrile derivative and a method for producing a fluorine-containing pyrazole carboxylic acid derivative using the fluorine-containing pyrazole carbonitrile derivative can be produced simply and on an industrial scale. Can be offered at.
以下、本発明を詳細に説明する。
一般式(3)で表される含フッ素アシルアセトニトリル誘導体を製造する方法は、一般式(1)で表される化合物と一般式(2)で表される化合物を反応させるアシル化反応を含むものである。本反応は、製造工程の他に、必要に応じて、後処理工程、精製工程をさらに含むことができる。
以下、一般式(1)の説明をする。
The present invention will be described in detail below.
The method for producing the fluorine-containing acylacetonitrile derivative represented by the general formula (3) includes an acylation reaction in which the compound represented by the general formula (1) and the compound represented by the general formula (2) are reacted. . This reaction can further include a post-treatment step and a purification step, if necessary, in addition to the production step.
Hereinafter, the general formula (1) will be described.
一般式(1)中のRfにおける炭素数1〜6のアルキル基は直鎖アルキル基であっても分岐アルキル基であってもよい。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の直鎖状のものや、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、1−メチルブチル基、2−メチルブチル基、3−メチルブチル基、1,1−ジメチルプロピル基、2,2−ジメチルプロピル基、1,2−ジメチルプロピル基、1−メチルペンチル基、2−メチルペンチル基、3−メチルペンチル基、4−メチルペンチル基、1,1−ジメチルブチル基、1,2−ジメチルブチル基、1,3−ジメチルブチル基、2,2−ジメチルブチル基、2,3−ジメチルブチル基、3,3−ジメチルブチル基等の分岐したものを表す。 The alkyl group having 1 to 6 carbon atoms in Rf in the general formula (1) may be a linear alkyl group or a branched alkyl group. Specifically, linear groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, 1-methylbutyl group, 2-methylbutyl group Group, 3-methylbutyl group, 1,1-dimethylpropyl group, 2,2-dimethylpropyl group, 1,2-dimethylpropyl group, 1-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 4 -Methylpentyl group, 1,1-dimethylbutyl group, 1,2-dimethylbutyl group, 1,3-dimethylbutyl group, 2,2-dimethylbutyl group, 2,3-dimethylbutyl group, 3,3-dimethyl It represents a branched one such as a butyl group.
一般式(1)中のRfは、前記炭素数1〜6のアルキル基が少なくとも1つのフッ素原子で置換されていればよい。具体的には、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ヘプタフルオロイソプロピル基、ノナフルオロブチル基等のペルフルオロアルキル基であっても、モノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基等の水素原子を有するフルオロアルキル基であっても、クロロジフルオロメチル基、ブロモジフルオロメチル基等のフッ素原子と他のハロゲン原子とを有するフルオロアルキル基であってもよい。 Rf in the general formula (1) is sufficient if the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is substituted with at least one fluorine atom. Specifically, even if it is a perfluoroalkyl group such as a trifluoromethyl group, a pentafluoroethyl group, a heptafluoropropyl group, a heptafluoroisopropyl group or a nonafluorobutyl group, a hydrogen such as a monofluoromethyl group or a difluoromethyl group Even a fluoroalkyl group having an atom may be a fluoroalkyl group having a fluorine atom and other halogen atoms such as a chlorodifluoromethyl group and a bromodifluoromethyl group.
本発明においてRfは、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、およびヘプタフルオロプロピル基から選ばれるフルオロアルキル基であることが好ましく、トリフルオロメチル基及びジフルオロメチル基であることがより好ましい。 In the present invention, Rf is preferably a fluoroalkyl group selected from a trifluoromethyl group, a difluoromethyl group, a chlorodifluoromethyl group, a pentafluoroethyl group, and a heptafluoropropyl group, and a trifluoromethyl group and a difluoromethyl group It is more preferable that
一般式(1)中のXにおけるハロゲン原子とは、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素を表す。 The halogen atom in X in the general formula (1) represents fluorine, chlorine, bromine and iodine.
一般式(1)中のXにおけるカルボニルオキシ基とは、一般式(7) The carbonyloxy group in X in the general formula (1) is the general formula (7).
(7)
(式中、R5は、ハロゲン原子で置換されてもよい炭素数1〜6のアルキル基を表す。)で表される置換基、もしくは、一般式(8)
(7)
(Wherein R5 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom) or a general formula (8)
(8)
(式中、R5は前記と同様である)で表される置換基を表す。
(8)
(Wherein R5 is the same as defined above).
一般式(7)及び一般式(8)中のR5におけるハロゲン原子とは、一般式(1)中のXにおけるハロゲン原子と同義である。 The halogen atom in R5 in General formula (7) and General formula (8) is synonymous with the halogen atom in X in General formula (1).
一般式(7)及び一般式(8)中のR5における炭素数1〜6のアルキル基とは、一般式(1)中のRfにおける炭素数1〜6のアルキル基と同義である。また、これらのアルキル基は1箇所以上にハロゲン原子が置換されてもよく、目的とするアシル基が導入される限りにおいて、特に制限されることはない。2箇所以上にハロゲン原子を置換する場合には、同一もしくは2種類以上のハロゲン原子で置換してもよく、目的とするアシル基が導入される限りにおいて、特に制限されることはない。 The C1-C6 alkyl group in R5 in General formula (7) and General formula (8) is synonymous with the C1-C6 alkyl group in Rf in General formula (1). Further, these alkyl groups may be substituted with halogen atoms at one or more positions, and are not particularly limited as long as the target acyl group is introduced. When substituting halogen atoms at two or more positions, they may be substituted with the same or two or more types of halogen atoms, and there is no particular limitation as long as the target acyl group is introduced.
一般式(1)で表される化合物の使用量は、一般式(2)で表される化合物に対して1当量以上あれば特に限定されることはない。ただし、経済的観点から、1当量以上3当量以下が好ましい。 The usage-amount of the compound represented by General formula (1) will not be specifically limited if it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by General formula (2). However, from an economic viewpoint, 1 equivalent or more and 3 equivalents or less are preferable.
一般式(1)で表される化合物としては、例えば、トリフルオロ酢酸、トリフルオロ酢酸無水物、トリフルオロアセチルクロリド、ジフルオロ酢酸、クロロジフルオロ酢酸、ペンタフルオロプロピオン酸、ヘプタフルオロ酪酸等を挙げることができる。これらは市販品を使用することもできるし、公知の方法で製造したものを使用することもできる。
以下、一般式(2)で表される化合物を説明する。
Examples of the compound represented by the general formula (1) include trifluoroacetic acid, trifluoroacetic anhydride, trifluoroacetyl chloride, difluoroacetic acid, chlorodifluoroacetic acid, pentafluoropropionic acid, heptafluorobutyric acid and the like. it can. These can use a commercial item, and can also use what was manufactured by the well-known method.
Hereinafter, the compound represented by the general formula (2) will be described.
一般式(2)中のR1における炭素数1〜6のアルキル基は、一般式(1)中のRfにおける炭素数1〜6のアルキル基と同義である。 The C1-C6 alkyl group in R1 in General formula (2) is synonymous with the C1-C6 alkyl group in Rf in General formula (1).
一般式(2)中のR1における炭素数3〜6のシクロアルキル基は、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等を表す。 The cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms in R1 in the general formula (2) represents a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, or the like.
一般式(2)中のR1における置換されてもよいアリール基、または置換されてもよいアリールアルキル基に使用される置換基とは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基等のアルキル基;シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基;トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘキサフルオロプロピル基、ヘキサフルオロイソプロピル基、トリフルオロエチル基、ジフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ブロモジフルオロメチル基、モノフルオロメチル基等のハロゲン置換アルキル基;フェニル基等のアリール基;ベンジル基等のアリールアルキル基;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基等のアルコキシ基;シクロプロポキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等のシクロアルコキシ基;トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロエトキシ基、トリクロロエトキシ基等のハロゲン置換アルコキシ基;フェノキシ基等のアリールオキシ基;ベンジルオキシ基等のアリールアルキルオキシ基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、sec−ブトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基;シクロプロポキシカルボニル基、シクロブトキシカルボニル基、シクロペンチルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等のシクロアルコキシカルボニル基;トリフルオロメトキシカルボニル基、ジフルオロメトキシカルボニル基、トリフルオロエトキシカルボニル基、トリクロロエトキシカルボニル基等のハロゲン置換アルコキシカルボニル基;フェノキシカルボニル基等のアリールオキシカルボニル基;ベンジルオキシカルボニル基等のアリールアルキルオキシカルボニル基;メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基等のアルキルチオ基;シクロプロピルチオ基、シクロブチルチオ基、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等のシクロアルキルチオ基;トリフルオロメチルチオ基、ジフルオロメチルチオ基、トリフルオロエチルチオ基等のハロゲン置換アルキルチオ基;フェニルチオ基等のアリールチオ基;ベンジルチオ基等のアリールアルキルチオ基;メタンスルフィニル基、エタンスルフィニル基、プロパンスルフィニル基、ブタンスルフィニル基等のアルキルスルフィニル基;シクロプロパンスルフィニル基、シクロブタンスルフィニル基、シクロペンタンスルフィニル基、シクロヘキサンスルフィニル基等のシクロアルキルスルフィニル基;トリフルオロメタンスルフィニル基、ジフルオロメタンスルフィニル基、トリフルオロエタンスルフィニル基等のハロゲン置換アルキルスルフィニル基;フェニルスルフィニル基等のアリールスルフィニル基;ベンジルスルフィニル基等のアリールアルキルスルフィニル基;メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、プロパンスルホニル基、ブタンスルホニル基等のアルキルスルホニル基;シクロプロパンスルホニル基、シクロブタンスルホニル基、シクロペンタンスルホニル基、シクロヘキサンスルホニル基等のシクロアルキルスルホニル基;トリフルオロメタンスルホニル基、ジフルオロメタンスルホニル基、トリフルオロエタンスルホニル基等のハロゲン置換アルキルスルホニル基;フェニルスルホニル基等のアリールスルホニル基;ベンジルスルホニル基等のアリールアルキルスルホニル基;メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、イソプロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基、イソブチルカルボニル基、sec−ブチルカルボニル基、tert−ブチルカルボニル基等のアルキルカルボニル基;シクロプロピルカルボニル基、シクロブチルカルボニル基、シクロプロピルカルボニル基、シクロペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基等のシクロアルキルカルボニル基;トリフルオロメタンカルボニル基、ジフルオロメタンカルボニル基、トリクロロメタンカルボニル基等のハロゲン置換アルキルカルボニル基;ベンゾイル基等のアリールカルボニル基等;メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、イソブチルカルボニルオキシ基、sec−ブチルカルボニルオキシ基、tert−ブチルカルボニルオキシ基等のアルキルカルボニルオキシ基;シクロプロピルカルボニルオキシ基、シクロブチルカルボニルオキシ基、シクロプロピルカルボニルオキシ基、シクロペンチルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基等のシクロアルキルカルボニルオキシ基;ベンゾイルオキシ基等のアリールカルボニルオキシ基;メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、イソプロピルカルボニルアミノ基、ブチルカルボニルアミノ基、イソブチルカルボニルアミノ基、sec−ブチルカルボニルアミノ基、tert−ブチルカルボニルアミノ基等のアルキルカルボニルアミノ基;シクロプロピルカルボニルアミノ基、シクロブチルカルボニルアミノ基、シクロプロピルカルボニルアミノ基、シクロペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基等のシクロアルキルカルボニルアミノ基;ベンゾイルアミノ基等のアリールカルボニルアミノ基;メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、プロポキシカルボニルアミノ基、イソプロポキシカルボニルアミノ基、ブトキシカルボニルアミノ基、イソブトキシカルボニルアミノ基、sec−ブトキシカルボニルアミノ基、tert−ブトキシカルボニルアミノ基、メトキシカルボニル(メチル)アミノ基、エトキシカルボニル(メチル)アミノ基、プロポキシカルボニル(メチル)アミノ基、イソプロポキシカルボニル(メチル)アミノ基、ブトキシカルボニル(メチル)アミノ基、イソブトキシカルボニル(メチル)アミノ基、sec−ブトキシカルボニル(メチル)アミノ基、tert−ブトキシカルボニル(メチル)アミノ基、メトキシカルボニル(エチル)アミノ基、エトキシカルボニル(エチル)アミノ基、プロポキシカルボニル(エチル)アミノ基、イソプロポキシカルボニル(エチル)アミノ基、ブトキシカルボニル(エチル)アミノ基、イソブトキシカルボニル(エチル)アミノ基、sec−ブトキシカルボニル(エチル)アミノ基、tert−ブトキシカルボニル(エチル)アミノ基等のアルコキシカルボニルアミノ基;シクロプロポキシカルボニルアミノ基、シクロブトキシカルボニルアミノ基、シクロペンチルオキシカルボニルアミノ基、シクロヘキシルオキシカルボニルアミノ基、シクロプロポキシカルボニル(メチル)アミノ基、シクロブトキシカルボニル(メチル)アミノ基、シクロペンチルオキシカルボニル(メチル)アミノ基、シクロヘキシルオキシカルボニル(メチル)アミノ基、シクロプロポキシカルボニル(エチル)アミノ基、シクロブトキシカルボニル(エチル)アミノ基、シクロペンチルオキシカルボニル(エチル)アミノ基、シクロヘキシルオキシカルボニル(エチル)アミノ基等のシクロアルコキシカルボニルアミノ基;トリフルオロメトキシカルボニルアミノ基、ジフルオロメトキシカルボニルアミノ基、トリフルオロエトキシカルボニルアミノ基、トリクロロエトキシカルボニルアミノ基、トリフルオロメトキシカルボニル(メチル)アミノ基、ジフルオロメトキシカルボニル(メチル)アミノ基、トリフルオロエトキシカルボニル(メチル)アミノ基、トリクロロエトキシカルボニル(メチル)アミノ基、トリフルオロメトキシカルボニル(エチル)アミノ基、ジフルオロメトキシカルボニル(エチル)アミノ基、トリフルオロエトキシカルボニル(エチル)アミノ基、トリクロロエトキシカルボニル(エチル)アミノ基等のハロゲン置換アルコキシカルボニルアミノ基;フェノキシカルボニルアミノ基、フェノキシカルボニル(メチル)アミノ基、フェノキシカルボニル(エチル)アミノ基等のアリールオキシカルボニルアミノ基;ベンジルオキシカルボニルアミノ基、ベンジルオキシカルボニル(メチル)アミノ基、ベンジルオキシカルボニル(エチル)アミノ基等のアリールアルキルオキシカルボニルアミノ基;メチルアミノカルボニルオキシ基、エチルアミノカルボニルオキシ基、プロピルアミノカルボニルオキシ基、イソプロピルアミノカルボニルオキシ基、ブチルアミノカルボニルオキシ基、イソブチルアミノカルボニルオキシ基、sec−ブチルアミノカルボニルオキシ基、tert−ブチルアミノカルボニルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルオキシ基、{エチル(メチル)アミノ}カルボニルオキシ基、{プロピル(メチル)アミノ}カルボニルオキシ基、{イソプロピル(メチル)アミノ}カルボニルオキシ基、{ブチル(メチル)アミノ}カルボニルオキシ基、{イソブチル(メチル)アミノ}カルボニルオキシ基、 {sec−ブチル(メチル)アミノ}カルボニルオキシ基、{tert−ブチル(メチル)アミノ}カルボニルオキシ基、{メチル(エチル)アミノ}カルボニルオキシ基、ジエチルアミノカルボニルオキシ基、{プロピル(エチル)アミノ}カルボニルオキシ基、{イソプロピル(エチル)アミノ}カルボニルオキシ基、{ブチル(エチル)アミノ}カルボニルオキシ基、{イソブチル(エチル)アミノ}カルボニルオキシ基、{sec−ブチル(エチル)アミノ}カルボニルオキシ基、{tert−ブチル(エチル)アミノ}カルボニルオキシ基等のアルキルアミノカルボニルオキシ基;シクロプロピルアミノカルボニルオキシ基、シクロブチルアミノカルボニルオキシ基、シクロペンチルアミノカルボニルオキシ基、シクロヘキシルアミノカルボニルオキシ基、{シクロプロピル(メチル)アミノ}カルボニルオキシ基、{シクロブチル(メチル)アミノ}カルボニルオキシ基、{シクロペンチル(メチル)アミノ}カルボニルオキシ基、{シクロヘキシル(メチル)アミノ}カルボニルオキシ基、{シクロプロピル(エチル)アミノ}カルボニルオキシ基、{シクロブチル(エチル)アミノ}カルボニルオキシ基、{シクロペンチル(エチル)アミノ}カルボニルオキシ基、{シクロヘキシル(エチル)アミノ}カルボニルオキシ基等のシクロアルキルアミノカルボニルオキシ基;トリフルオロメチルアミノカルボニルオキシ基、ジフルオロメチルアミノカルボニルオキシ基、トリフルオロエチルアミノカルボニルオキシ基、トリクロロエチルアミノカルボニルオキシ基、{トリフルオロメチル(メチル)アミノ}カルボニルオキシ基、{ジフルオロメチル(メチル)アミノ}カルボニルオキシ基、{トリフルオロエチル(メチル)アミノ}カルボニルオキシ基、{トリクロロエチル(メチル)アミノ}カルボニルオキシ基、{トリフルオロメチル(エチル)アミノ}カルボニルオキシ基、{ジフルオロメチル(エチル)アミノ}カルボニルオキシ基、{トリフルオロエチル(エチル)アミノ}カルボニルオキシ基、{トリクロロエチル(エチル)アミノ}カルボニルオキシ基等のハロゲン置換アルキルアミノカルボニルオキシ基;フェニルアミノカルボニルオキシ基、{フェニル(メチル)アミノ}カルボニルオキシ基、{フェニル(エチル)アミノ}カルボニルオキシ基等のアリールアミノカルボニルオキシ基;ベンジルアミノカルボニルオキシ基、{ベンジル(メチル)アミノ}カルボニルオキシ基、{ベンジル(エチル)アミノ}カルボニルオキシ基等のアリールアルキルアミノカルボニルオキシ基;ピロリジノカルボニルオキシ基、ピペリジノカルボニルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基等の環状アミノカルボニルオキシ基;メチルアミノカルボニルアミノ基、エチルアミノカルボニルアミノ基、プロピルアミノカルボニルアミノ基、イソプロピルアミノカルボニルアミノ基、ブチルアミノカルボニルアミノ基、イソブチルアミノカルボニルアミノ基、sec−ブチルアミノカルボニルアミノ基、tert−ブチルアミノカルボニルアミノ基、ジメチルアミノカ
ルボニルアミノ基、{エチル(メチル)アミノ}カルボニルアミノ基、{プロピル(メチル)アミノ}カルボニルアミノ基、{イソプロピル(メチル)アミノ}カルボニルメチル基、{ブチル(メチル)アミノ}カルボニルアミノ基、{イソブチル(メチル)アミノ}カルボニルアミノ基、{sec−ブチル(メチル)アミノ}カルボニルアミノ基、{tert−ブチル(メチル)アミノ}カルボニルアミノ基、{メチル(エチル)アミノ}カルボニルアミノ基、ジエチルアミノカルボニルアミノ基、{プロピル(エチル)アミノ}カルボニルアミノ基、{イソプロピル(エチル)アミノ}カルボニルアミノ基、{ブチル(エチル)アミノ}カルボニルアミノ基、{イソブチル(エチル)アミノ}カルボニルアミノ基、{sec−ブチル(エチル)アミノ}カルボニルアミノ基、{tert−ブチル(エチル)アミノ}カルボニルアミノ基、メチルアミノカルボニル(メチル)アミノ基、エチルアミノカルボニル(メチル)アミノ基、プロピルアミノカルボニル(メチル)アミノ基、イソプロピルアミノカルボニル(メチル)アミノ基、ブチルアミノカルボニル(メチル)アミノ基、イソブチルアミノカルボニル(メチル)アミノ基、sec−ブチルアミノカルボニル(メチル)アミノ基、tert−ブチルアミノカルボニル(メチル)アミノ基、メチルアミノカルボニル(エチル)アミノ基、エチルアミノカルボニル(エチル)アミノ基、プロピルアミノカルボニル(エチル)アミノ基、イソプロピルアミノカルボニル(エチル)アミノ基、ブチルアミノカルボニル(エチル)アミノ基、イソブチルアミノカルボニル(エチル)アミノ基、sec−ブチルアミノカルボニル(エチル)アミノ基、tert−ブチルアミノカルボニル(エチル)アミノ基、ジメチルアミノカルボニル(メチル)アミノ基、{エチル(メチル)アミノ}カルボニル(メチル)アミノ基、{プロピル(メチル)アミノ}カルボニル(メチル)アミノ基、{イソプロピル(メチル)アミノ}カルボニル(メチル)アミノ基、{ブチル(メチル)アミノ}カルボニル(メチル)アミノ基、{イソブチル(メチル)アミノ}カルボニル(メチル)アミノ基、{sec−ブチル(メチル)アミノ}カルボニル(メチル)アミノ基、{tert−ブチル(メチル)アミノ}カルボニル(メチル)アミノ基、ジメチルアミノカルボニル(エチル)アミノ基、{エチル(メチル)アミノ}カルボニル(エチル)アミノ基、{プロピル(メチル)アミノ}カルボニル(エチル)アミノ基、{イソプロピル(メチル)アミノ}カルボニル(エチル)アミノ基、{ブチル(メチル)アミノ}カルボニル(エチル)アミノ基、{イソブチル(メチル)アミノ}カルボニル(エチル)アミノ基、{sec−ブチル(メチル)アミノ}カルボニル(エチル)アミノ基、{tert−ブチル(メチル)アミノ}カルボニル(エチル)アミノ基、ジエチルアミノカルボニル(メチル)アミノ基、{エチル(プロピル)アミノ}カルボニル(メチル)アミノ基、{エチル(イソプロピル)アミノ}カルボニル(メチル)アミノ基、{ブチル(エチル)アミノ}カルボニル(メチル)アミノ基、{エチル(イソブチル)アミノ}カルボニル(メチル)アミノ基、{sec−ブチル(エチル)アミノ}カルボニル(メチル)アミノ基、{tert−ブチル(エチル)アミノ}カルボニル(メチル)アミノ基、ジエチルアミノカルボニル(エチル)アミノ基、{エチル(プロピル)アミノ}カルボニル(エチル)アミノ基、{エチル(イソプロピル)アミノ}カルボニル(エチル)アミノ基、{エチル(ブチル)アミノ}カルボニル(エチル)アミノ基、{エチル(イソブチル)アミノ}カルボニル(エチル)アミノ基、{sec−ブチル(エチル)アミノ}カルボニル(エチル)アミノ基、{tert−ブチル(エチル)アミノ}カルボニル(エチル)アミノ基等のアルキルアミノカルボニルアミノ基;シクロプロピルアミノカルボニルアミノ基、シクロブチルアミノカルボニルアミノ基、シクロペンチルアミノカルボニルアミノ基、シクロヘキシルアミノカルボニルアミノ基、{シクロプロピル(メチル)アミノ}カルボニルアミノ基、{シクロブチル(メチル)アミノ}カルボニルアミノ基、{シクロペンチル(メチル)アミノ}カルボニルアミノ基、{シクロヘキシル(メチル)アミノ}カルボニルアミノ基、{シクロプロピル(エチル)アミノ}カルボニルアミノ基、{シクロブチル(エチル)アミノ}カルボニルアミノ基、{シクロペンチル(エチル)アミノ}カルボニルアミノ基、{シクロヘキシル(エチル)アミノ}カルボニルアミノ基、シクロプロピルアミノカルボニル(メチル)アミノ基、シクロブチルアミノカルボニル(メチル)アミノ基、シクロペンチルアミノカルボニル(メチル)アミノ基、シクロヘキシルアミノカルボニル(メチル)アミノ基、シクロプロピルアミノカルボニル(エチル)アミノ基、シクロブチルアミノカルボニル(エチル)アミノ基、シクロペンチルアミノカルボニル(エチル)アミノ基、シクロヘキシルアミノカルボニル(エチル)アミノ基、{シクロプロピル(メチル)アミノ}カルボニル(メチル)アミノ基、{シクロブチル(メチル)アミノ}カルボニル(メチル)アミノ基、{シクロペンチル(メチル)アミノ}カルボニル(メチル)アミノ基、{シクロヘキシル(メチル)アミノ}カルボニル(メチル)アミノ基、{シクロプロピル(メチル)アミノ}カルボニル(エチル)アミノ基、{シクロブチル(メチル)アミノ}カルボニル(エチル)アミノ基、{シクロペンチル(メチル)アミノ}カルボニル(エチル)アミノ基、{シクロヘキシル(メチル)アミノ}カルボニル(エチル)アミノ基、{シクロプロピル(エチル)アミノ}カルボニル(メチル)アミノ基、{シクロブチル(エチル)アミノ}カルボニル(メチル)アミノ基、{シクロペンチル(エチル)アミノ}カルボニル(メチル)アミノ基、{シクロヘキシル(エチル)アミノ}カルボニル(メチル)アミノ基、{シクロプロピル(エチル)アミノ}カルボニル(エチル)アミノ基、{シクロブチル(エチル)アミノ}カルボニル(エチル)アミノ基、{シクロペンチル(エチル)アミノ}カルボニル(エチル)アミノ基、{シクロヘキシル(エチル)アミノ}カルボニル(エチル)アミノ基等のシクロアルキルアミノカルボニルアミノ基;トリフルオロメチルアミノカルボニルアミノ基、ジフルオロメチルアミノカルボニルアミノ基、トリフルオロエチルアミノカルボニルアミノ基、トリクロロエチルアミノカルボニルアミノ基、{トリフルオロメチル(メチル)アミノ}カルボニルアミノ基、{ジフルオロメチル(メチル)アミノ}カルボニルアミノ基、{トリフルオロエチル(メチル)アミノ}カルボニルアミノ基、{トリクロロエチル(メチル)アミノ}カルボニルアミノ基、{トリフルオロメチル(エチル)アミノ}カルボニルアミノ基、{ジフルオロメチル(エチル)アミノ}カルボニルアミノ基、{トリフルオロエチル(エチル)アミノ}カルボニルアミノ基、{トリクロロエチル(エチル)アミノ}カルボニルアミノ基、トリフルオロメチルアミノカルボニル(メチル)アミノ基、ジフルオロメチルアミノカルボニル(メチル)アミノ基、トリフルオロエチルアミノカルボニル(メチル)アミノ基、トリクロロエチルアミノカルボニル(メチル)アミノ基、トリフルオロメチルアミノカルボニル(エチル)アミノ基、ジフルオロメチルアミノカルボニル(エチル)アミノ基、トリフルオロエチルアミノカルボニル(エチル)アミノ基、トリクロロエチルアミノカルボニル(エチル)アミノ基、
{トリフルオロメチル(メチル)アミノ}カルボニル(メチル)アミノ基、{ジフルオロメチル(メチル)アミノ}カルボニル(メチル)アミノ基、{トリフルオロエチル(メチル)アミノ}カルボニル(メチル)アミノ基、{トリクロロエチル(メチル)アミノ}カルボニル(メチル)アミノ基、{トリフルオロメチル(メチル)アミノ}カルボニル(エチル)アミノ基、{ジフルオロメチル(メチル)アミノ}カルボニル(エチル)アミノ基、{トリフルオロエチル(メチル)アミノ}カルボニル(エチル)アミノ基、{トリクロロエチル(メチル)アミノ}カルボニル(エチル)アミノ基、{トリフルオロメチル(エチル)アミノ}カルボニル(メチル)アミノ基、{ジフルオロメチル(エチル)アミノ}カルボニル(メチル)アミノ基、{トリフルオロエチル(エチル)アミノ}カルボニル(メチル)アミノ基、{トリクロロエチル(エチル)アミノ}カルボニル(メチル)アミノ基、{トリフルオロメチル(エチル)アミノ}カルボニル(エチル)アミノ基、{ジフルオロメチル(エチル)アミノ}カルボニル(エチル)アミノ基、{トリフルオロエチル(エチル)アミノ}カルボニル(エチル)アミノ基、{トリクロロエチル(エチル)アミノ}カルボニル(エチル)アミノ基等のハロゲン置換アルキルアミノカルボニルアミノ基;フェニルアミノカルボニルアミノ基、{フェニル(メチル)アミノ}カルボニルアミノ基、{フェニル(エチル)アミノ}カルボニルアミノ基、フェニルアミノカルボニル(メチル)アミノ基、フェニルアミノカルボニル(エチル)アミノ基、{メチル(フェニル)アミノ}カルボニル(メチル)アミノ基、{メチル(フェニル)アミノ }カルボニル(エチル)アミノ基、{エチル(フェニル)アミノ}カルボニル(メチル)アミノ基、{エチル(フェニル)アミノ}カルボニル(エチル)アミノ基等のアリールアミノカルボニルアミノ基;ベンジルアミノカルボニルアミノ基、{ベンジル(メチル)アミノ}カルボニルアミノ基、{ベンジル(エチル)アミノ}カルボニルアミノ基、ベンジルアミノカルボニル(メチル)アミノ基、ベンジルアミノカルボニル(エチル)アミノ基、{メチル(ベンジル)アミノ}カルボニル(メチル)アミノ基、{メチル(ベンジル)アミノ}カルボニル(エチル)アミノ基、{エチル(ベンジル)アミノ}カルボニル(メチル)アミノ基、{エチル(ベンジル)アミノ}カルボニル(エチル)アミノ基等のアリールアルキルアミノカルボニルアミノ基;ピロリジノカルボニルアミノ基、ピペリジノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基、ピロリジノカルボニル(メチル)アミノ基、ピペリジノカルボニル(メチル)アミノ基、モルホリノカルボニル(メチル)アミノ基、ピロリジノカルボニル(エチル)アミノ基、ピペリジノカルボニル(エチル)アミノ基、モルホリノカルボニル(エチル)アミノ基等の環状アミノカルボニルオキシ基;メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、イソプロピルアミノカルボニル基、ブチルアミノカルボニル基、イソブチルアミノカルボニル基、sec−ブチルアミノカルボニル基、tert−ブチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、{エチル(メチル)アミノ}カルボニル基、{メチル(プロピル)アミノ}カルボニル基、{イソプロピル(メチル)アミノ}カルボニル基、{ブチル(メチル)アミノ}カルボニル基、{イソブチル(メチル)アミノ}カルボニル基、{sec−ブチル(メチル)アミノ}カルボニル基、{tert−ブチル(メチル)アミノ}カルボニル基、{エチル(メチル)アミノ}カルボニル基、{エチル(プロピル)アミノ}カルボニル基、{エチル(イソプロピル)アミノ}カルボニル基、{ブチル(エチル)アミノ}カルボニル基、{イソブチル(エチル)アミノ}カルボニル基、{sec−ブチル(エチル)アミノ}カルボニル基、{tert−ブチル(エチル)アミノ}カルボニル基等のアルキルアミノカルボニル基;シクロプロピルアミノカルボニル基、シクロブチルアミノカルボニル基、シクロペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、{シクロプロピル(メチル)アミノ}カルボニル基、{シクロブチル(メチル)アミノ}カルボニル基、{シクロペンチル(メチル)アミノ}カルボニル基、{シクロヘキシル(メチル)アミノ}カルボニル基、{シクロプロピル(エチル)アミノ}カルボニル基、{シクロブチル(エチル)アミノ}カルボニル基、{シクロペンチル(エチル)アミノ}カルボニル基、{シクロヘキシル(エチル)アミノ}カルボニル基等のシクロアルキルアミノカルボニル基;トリフルオロメチルアミノカルボニル基、ジフルオロメチルアミノカルボニル基、トリフルオロエチルアミノカルボニル基、トリクロロエチルアミノカルボニル基、{トリフルオロメチル(メチル)アミノ}カルボニル基、{ジフルオロメチル(メチル)アミノ}カルボニル基、{トリフルオロエチル(メチル)アミノ}カルボニル基、{トリクロロエチル(メチル)アミノ}カルボニル基、{トリフルオロメチル(エチル)アミノ}カルボニル基、{ジフルオロメチル(エチル)アミノ}カルボニル基、{トリフルオロエチル(エチル)アミノ}カルボニル基、{トリクロロエチル(エチル)アミノ}カルボニル基等のハロゲン置換アルキルアミノカルボニル基;フェニルアミノカルボニル基、{フェニル(メチル)アミノ}カルボニル基、{フェニル(エチル)アミノ}カルボニル基等のアリールアミノカルボニル基;ベンジルアミノカルボニル基、{ベンジル(メチル)アミノ}カルボニル基、{ベンジル(エチル)アミノ}カルボニル基等のアリールアルキルアミノカルボニル基;ピロリジノカルボニル基、ピペリジノカルボニル基、モルホリノカルボニル基等の環状アミノカルボルニル基;メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、プロポキシカルボニルオキシ基、イソプロポキシカルボニルオキシ基、ブトキシカルボニルオキシ基、イソブトキシカルボニルオキシ基、sec−ブトキシカルボニルオキシ基、tert−ブトキシカルボニルオキシ基等のアルコキシカルボニルオキシ基;シクロプロポキシカルボニルオキシ基、シクロブトキシカルボニルオキシ基、シクロペンチルオキシカルボニルオキシ基、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ基等のシクロアルコキシカルボニルオキシ基;トリフルオロメトキシカルボニルオキシ基、ジフルオロメトキシカルボニルオキシ基、トリフルオロエトキシカルボニルオキシ基、トリクロロエトキシカルボニルオキシ基等のハロゲン置換アルコキシカルボニルオキシ基;フェノキシカルボニルオキシ基等のアリールオキシカルボニルオキシ基;ベンジルオキシカルボニルオキシ基等のアリールアルキルオキシカルボニルオキシ基;メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基等のアルキルアミノ基;ピロリジノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基等の環状アミノ基;tert−ブチルジメチルシリルオキシ基、tert−ブチルジフェニルシリルオキシ基、ジメチルフェニルシリルオキシ基等のシリルオキシ基;塩素、フッ素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子;ニトロ基;シアノ基等が例示される。
The substituent used for the optionally substituted aryl group or the optionally substituted arylalkyl group in R1 in the general formula (2) is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, Alkyl groups such as isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group; cycloalkyl groups such as cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group; trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, hexafluoropropyl group, A halogen-substituted alkyl group such as a hexafluoroisopropyl group, a trifluoroethyl group, a difluoromethyl group, a chlorodifluoromethyl group, a bromodifluoromethyl group and a monofluoromethyl group; an aryl group such as a phenyl group; an arylalkyl group such as a benzyl group; Methoxy group, ethoxy group, pro Alkoxy groups such as xoxy group, isopropoxy group, butoxy group, isobutoxy group, sec-butoxy group, tert-butoxy group; cycloalkoxy groups such as cyclopropoxy group, cyclobutoxy group, cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group; trifluoro Halogen-substituted alkoxy groups such as methoxy group, difluoromethoxy group, trifluoroethoxy group, and trichloroethoxy group; aryloxy groups such as phenoxy group; arylalkyloxy groups such as benzyloxy group; methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, propoxycarbonyl An alkoxycarbonyl group such as a group, isopropoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group, isobutoxycarbonyl group, sec-butoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group; Cycloalkoxycarbonyl groups such as sicarbonyl group, cyclobutoxycarbonyl group, cyclopentyloxycarbonyl group, cyclohexyloxycarbonyl group; halogen substitution such as trifluoromethoxycarbonyl group, difluoromethoxycarbonyl group, trifluoroethoxycarbonyl group, trichloroethoxycarbonyl group Alkoxycarbonyl group; aryloxycarbonyl group such as phenoxycarbonyl group; arylalkyloxycarbonyl group such as benzyloxycarbonyl group; alkylthio group such as methylthio group, ethylthio group, propylthio group, butylthio group; cyclopropylthio group, cyclobutylthio Group, cycloalkylthio group such as cyclopentylthio group, cyclohexylthio group; trifluoromethylthio group, difluoromethylthio group Groups, halogen-substituted alkylthio groups such as trifluoroethylthio groups; arylthio groups such as phenylthio groups; arylalkylthio groups such as benzylthio groups; alkylsulfinyl groups such as methanesulfinyl groups, ethanesulfinyl groups, propanesulfinyl groups, butanesulfinyl groups; Cycloalkylsulfinyl groups such as cyclopropanesulfinyl group, cyclobutanesulfinyl group, cyclopentanesulfinyl group, cyclohexanesulfinyl group; halogen-substituted alkylsulfinyl groups such as trifluoromethanesulfinyl group, difluoromethanesulfinyl group, trifluoroethanesulfinyl group; phenylsulfinyl group Arylsulfinyl groups such as benzylsulfinyl groups; arylalkylsulfinyl groups such as benzylsulfinyl groups; Alkylsulfonyl groups such as ethanesulfonyl group, propanesulfonyl group, butanesulfonyl group; cycloalkylsulfonyl groups such as cyclopropanesulfonyl group, cyclobutanesulfonyl group, cyclopentanesulfonyl group, cyclohexanesulfonyl group; trifluoromethanesulfonyl group, difluoromethanesulfonyl group Halogen substituted alkylsulfonyl groups such as trifluoroethanesulfonyl group; arylsulfonyl groups such as phenylsulfonyl group; arylalkylsulfonyl groups such as benzylsulfonyl group; methylcarbonyl group, ethylcarbonyl group, propylcarbonyl group, isopropylcarbonyl group, butyl Alkylcarbonyl such as carbonyl group, isobutylcarbonyl group, sec-butylcarbonyl group, tert-butylcarbonyl group Groups: cycloalkylcarbonyl groups such as cyclopropylcarbonyl group, cyclobutylcarbonyl group, cyclopropylcarbonyl group, cyclopentylcarbonyl group, cyclohexylcarbonyl group; halogen-substituted alkyls such as trifluoromethanecarbonyl group, difluoromethanecarbonyl group, trichloromethanecarbonyl group Carbonyl group; arylcarbonyl group such as benzoyl group; methylcarbonyloxy group, ethylcarbonyloxy group, propylcarbonyloxy group, isopropylcarbonyloxy group, butylcarbonyloxy group, isobutylcarbonyloxy group, sec-butylcarbonyloxy group, tert -Alkylcarbonyloxy groups such as butylcarbonyloxy group; cyclopropylcarbonyloxy group, cyclobutylcarbonyloxy group Cycloalkylcarbonyloxy groups such as xy group, cyclopropylcarbonyloxy group, cyclopentylcarbonyloxy group, cyclohexylcarbonyloxy group; arylcarbonyloxy groups such as benzoyloxy group; methylcarbonylamino group, ethylcarbonylamino group, propylcarbonylamino group Alkylcarbonylamino groups such as isopropylcarbonylamino group, butylcarbonylamino group, isobutylcarbonylamino group, sec-butylcarbonylamino group, tert-butylcarbonylamino group; cyclopropylcarbonylamino group, cyclobutylcarbonylamino group, cyclopropyl Cycloalkylcarbonylamino groups such as carbonylamino group, cyclopentylcarbonylamino group, and cyclohexylcarbonylamino group Arylcarbonylamino group such as benzoylamino group; methoxycarbonylamino group, ethoxycarbonylamino group, propoxycarbonylamino group, isopropoxycarbonylamino group, butoxycarbonylamino group, isobutoxycarbonylamino group, sec-butoxycarbonylamino group, tert -Butoxycarbonylamino group, methoxycarbonyl (methyl) amino group, ethoxycarbonyl (methyl) amino group, propoxycarbonyl (methyl) amino group, isopropoxycarbonyl (methyl) amino group, butoxycarbonyl (methyl) amino group, isobutoxycarbonyl (Methyl) amino group, sec-butoxycarbonyl (methyl) amino group, tert-butoxycarbonyl (methyl) amino group, methoxycarbonyl (ethyl Amino group, ethoxycarbonyl (ethyl) amino group, propoxycarbonyl (ethyl) amino group, isopropoxycarbonyl (ethyl) amino group, butoxycarbonyl (ethyl) amino group, isobutoxycarbonyl (ethyl) amino group, sec-butoxycarbonyl ( Alkoxy) amino group such as ethyl) amino group, tert-butoxycarbonyl (ethyl) amino group; cyclopropoxycarbonylamino group, cyclobutoxycarbonylamino group, cyclopentyloxycarbonylamino group, cyclohexyloxycarbonylamino group, cyclopropoxycarbonyl (methyl) ) Amino group, cyclobutoxycarbonyl (methyl) amino group, cyclopentyloxycarbonyl (methyl) amino group, cyclohexyloxycarbonyl (methyl) ) Cycloalkoxycarbonylamino groups such as amino group, cyclopropoxycarbonyl (ethyl) amino group, cyclobutoxycarbonyl (ethyl) amino group, cyclopentyloxycarbonyl (ethyl) amino group, cyclohexyloxycarbonyl (ethyl) amino group; trifluoromethoxy Carbonylamino group, difluoromethoxycarbonylamino group, trifluoroethoxycarbonylamino group, trichloroethoxycarbonylamino group, trifluoromethoxycarbonyl (methyl) amino group, difluoromethoxycarbonyl (methyl) amino group, trifluoroethoxycarbonyl (methyl) amino Group, trichloroethoxycarbonyl (methyl) amino group, trifluoromethoxycarbonyl (ethyl) amino group, difluoromethoxycarbo Halogen-substituted alkoxycarbonylamino groups such as ru (ethyl) amino group, trifluoroethoxycarbonyl (ethyl) amino group, trichloroethoxycarbonyl (ethyl) amino group; phenoxycarbonylamino group, phenoxycarbonyl (methyl) amino group, phenoxycarbonyl ( An aryloxycarbonylamino group such as an ethyl) amino group; an arylalkyloxycarbonylamino group such as a benzyloxycarbonylamino group, a benzyloxycarbonyl (methyl) amino group, or a benzyloxycarbonyl (ethyl) amino group; a methylaminocarbonyloxy group; Ethylaminocarbonyloxy group, propylaminocarbonyloxy group, isopropylaminocarbonyloxy group, butylaminocarbonyloxy group, isobutylaminocarbonyl Nyloxy, sec-butylaminocarbonyloxy, tert-butylaminocarbonyloxy, dimethylaminocarbonyloxy, {ethyl (methyl) amino} carbonyloxy, {propyl (methyl) amino} carbonyloxy, {isopropyl ( Methyl) amino} carbonyloxy group, {butyl (methyl) amino} carbonyloxy group, {isobutyl (methyl) amino} carbonyloxy group, {sec-butyl (methyl) amino} carbonyloxy group, {tert-butyl (methyl) Amino} carbonyloxy group, {methyl (ethyl) amino} carbonyloxy group, diethylaminocarbonyloxy group, {propyl (ethyl) amino} carbonyloxy group, {isopropyl (ethyl) amino} carbonyloxy group, {butyl (ethyl) amino } Carbo Alkylaminocarbonyloxy groups such as ruoxy group, {isobutyl (ethyl) amino} carbonyloxy group, {sec-butyl (ethyl) amino} carbonyloxy group, {tert-butyl (ethyl) amino} carbonyloxy group; cyclopropylamino Carbonyloxy group, cyclobutylaminocarbonyloxy group, cyclopentylaminocarbonyloxy group, cyclohexylaminocarbonyloxy group, {cyclopropyl (methyl) amino} carbonyloxy group, {cyclobutyl (methyl) amino} carbonyloxy group, {cyclopentyl (methyl ) Amino} carbonyloxy group, {cyclohexyl (methyl) amino} carbonyloxy group, {cyclopropyl (ethyl) amino} carbonyloxy group, {cyclobutyl (ethyl) amino} carbonyloxy group, Cycloalkylaminocarbonyloxy groups such as lopentyl (ethyl) amino} carbonyloxy group, {cyclohexyl (ethyl) amino} carbonyloxy group; trifluoromethylaminocarbonyloxy group, difluoromethylaminocarbonyloxy group, trifluoroethylaminocarbonyloxy group Group, trichloroethylaminocarbonyloxy group, {trifluoromethyl (methyl) amino} carbonyloxy group, {difluoromethyl (methyl) amino} carbonyloxy group, {trifluoroethyl (methyl) amino} carbonyloxy group, {trichloroethyl (Methyl) amino} carbonyloxy group, {trifluoromethyl (ethyl) amino} carbonyloxy group, {difluoromethyl (ethyl) amino} carbonyloxy group, {trifluoroethyl (ethyl Halogen-substituted alkylaminocarbonyloxy groups such as amino} carbonyloxy group, {trichloroethyl (ethyl) amino} carbonyloxy group; phenylaminocarbonyloxy group, {phenyl (methyl) amino} carbonyloxy group, {phenyl (ethyl) amino } Arylaminocarbonyloxy group such as carbonyloxy group; arylalkylaminocarbonyloxy group such as benzylaminocarbonyloxy group, {benzyl (methyl) amino} carbonyloxy group, {benzyl (ethyl) amino} carbonyloxy group; pyrrolidino Cyclic aminocarbonyloxy group such as carbonyloxy group, piperidinocarbonyloxy group, morpholinocarbonyloxy group; methylaminocarbonylamino group, ethylaminocarbonylamino group, propylaminocarboni Ruamino, isopropylaminocarbonylamino, butylaminocarbonylamino, isobutylaminocarbonylamino, sec-butylaminocarbonylamino, tert-butylaminocarbonylamino, dimethylamino
Rubonylamino group, {ethyl (methyl) amino} carbonylamino group, {propyl (methyl) amino} carbonylamino group, {isopropyl (methyl) amino} carbonylmethyl group, {butyl (methyl) amino} carbonylamino group, {isobutyl (Methyl) amino} carbonylamino group, {sec-butyl (methyl) amino} carbonylamino group, {tert-butyl (methyl) amino} carbonylamino group, {methyl (ethyl) amino} carbonylamino group, diethylaminocarbonylamino group {Propyl (ethyl) amino} carbonylamino group, {isopropyl (ethyl) amino} carbonylamino group, {butyl (ethyl) amino} carbonylamino group, {isobutyl (ethyl) amino} carbonylamino group, {sec-butyl ( Ethyl) amino} carbonylamino group, { ert-butyl (ethyl) amino} carbonylamino group, methylaminocarbonyl (methyl) amino group, ethylaminocarbonyl (methyl) amino group, propylaminocarbonyl (methyl) amino group, isopropylaminocarbonyl (methyl) amino group, butylamino Carbonyl (methyl) amino group, isobutylaminocarbonyl (methyl) amino group, sec-butylaminocarbonyl (methyl) amino group, tert-butylaminocarbonyl (methyl) amino group, methylaminocarbonyl (ethyl) amino group, ethylaminocarbonyl (Ethyl) amino group, propylaminocarbonyl (ethyl) amino group, isopropylaminocarbonyl (ethyl) amino group, butylaminocarbonyl (ethyl) amino group, isobutylaminocarbonyl (e L) amino group, sec-butylaminocarbonyl (ethyl) amino group, tert-butylaminocarbonyl (ethyl) amino group, dimethylaminocarbonyl (methyl) amino group, {ethyl (methyl) amino} carbonyl (methyl) amino group, {Propyl (methyl) amino} carbonyl (methyl) amino group, {isopropyl (methyl) amino} carbonyl (methyl) amino group, {butyl (methyl) amino} carbonyl (methyl) amino group, {isobutyl (methyl) amino} carbonyl (Methyl) amino group, {sec-butyl (methyl) amino} carbonyl (methyl) amino group, {tert-butyl (methyl) amino} carbonyl (methyl) amino group, dimethylaminocarbonyl (ethyl) amino group, {ethyl ( Methyl) amino} carbonyl (ethyl) amino group, {pro Pyr (methyl) amino} carbonyl (ethyl) amino group, {isopropyl (methyl) amino} carbonyl (ethyl) amino group, {butyl (methyl) amino} carbonyl (ethyl) amino group, {isobutyl (methyl) amino} carbonyl ( Ethyl) amino group, {sec-butyl (methyl) amino} carbonyl (ethyl) amino group, {tert-butyl (methyl) amino} carbonyl (ethyl) amino group, diethylaminocarbonyl (methyl) amino group, {ethyl (propyl) Amino} carbonyl (methyl) amino group, {ethyl (isopropyl) amino} carbonyl (methyl) amino group, {butyl (ethyl) amino} carbonyl (methyl) amino group, {ethyl (isobutyl) amino} carbonyl (methyl) amino group , {Sec-butyl (ethyl) amino} carbonyl (methyl) Mino group, {tert-butyl (ethyl) amino} carbonyl (methyl) amino group, diethylaminocarbonyl (ethyl) amino group, {ethyl (propyl) amino} carbonyl (ethyl) amino group, {ethyl (isopropyl) amino} carbonyl ( Ethyl) amino group, {ethyl (butyl) amino} carbonyl (ethyl) amino group, {ethyl (isobutyl) amino} carbonyl (ethyl) amino group, {sec-butyl (ethyl) amino} carbonyl (ethyl) amino group, { tert-butyl (ethyl) amino} carbonyl (ethyl) amino group and other alkylaminocarbonylamino groups; cyclopropylaminocarbonylamino group, cyclobutylaminocarbonylamino group, cyclopentylaminocarbonylamino group, cyclohexylaminocarbonylamino group, {cycline Propyl (methyl) amino} carbonylamino group, {cyclobutyl (methyl) amino} carbonylamino group, {cyclopentyl (methyl) amino} carbonylamino group, {cyclohexyl (methyl) amino} carbonylamino group, {cyclopropyl (ethyl) amino } Carbonylamino group, {Cyclobutyl (ethyl) amino} carbonylamino group, {Cyclopentyl (ethyl) amino} carbonylamino group, {Cyclohexyl (ethyl) amino} carbonylamino group, Cyclopropylaminocarbonyl (methyl) amino group, Cyclobutyl Aminocarbonyl (methyl) amino group, cyclopentylaminocarbonyl (methyl) amino group, cyclohexylaminocarbonyl (methyl) amino group, cyclopropylaminocarbonyl (ethyl) amino group, cyclobutylamino Carbonyl (ethyl) amino group, cyclopentylaminocarbonyl (ethyl) amino group, cyclohexylaminocarbonyl (ethyl) amino group, {cyclopropyl (methyl) amino} carbonyl (methyl) amino group, {cyclobutyl (methyl) amino} carbonyl (methyl ) Amino group, {cyclopentyl (methyl) amino} carbonyl (methyl) amino group, {cyclohexyl (methyl) amino} carbonyl (methyl) amino group, {cyclopropyl (methyl) amino} carbonyl (ethyl) amino group, {cyclobutyl ( Methyl) amino} carbonyl (ethyl) amino group, {cyclopentyl (methyl) amino} carbonyl (ethyl) amino group, {cyclohexyl (methyl) amino} carbonyl (ethyl) amino group, {cyclopropyl (ethyl) amino} carbonyl (methyl Amino group, {cyclobutyl (ethyl) amino} carbonyl (methyl) amino group, {cyclopentyl (ethyl) amino} carbonyl (methyl) amino group, {cyclohexyl (ethyl) amino} carbonyl (methyl) amino group, {cyclopropyl (ethyl) ) Amino} carbonyl (ethyl) amino group, {cyclobutyl (ethyl) amino} carbonyl (ethyl) amino group, {cyclopentyl (ethyl) amino} carbonyl (ethyl) amino group, {cyclohexyl (ethyl) amino} carbonyl (ethyl) amino A cycloalkylaminocarbonylamino group such as a group; trifluoromethylaminocarbonylamino group, difluoromethylaminocarbonylamino group, trifluoroethylaminocarbonylamino group, trichloroethylaminocarbonylamino group, {trifluorome Ru (methyl) amino} carbonylamino group, {difluoromethyl (methyl) amino} carbonylamino group, {trifluoroethyl (methyl) amino} carbonylamino group, {trichloroethyl (methyl) amino} carbonylamino group, {trifluoro Methyl (ethyl) amino} carbonylamino group, {difluoromethyl (ethyl) amino} carbonylamino group, {trifluoroethyl (ethyl) amino} carbonylamino group, {trichloroethyl (ethyl) amino} carbonylamino group, trifluoromethyl Aminocarbonyl (methyl) amino group, difluoromethylaminocarbonyl (methyl) amino group, trifluoroethylaminocarbonyl (methyl) amino group, trichloroethylaminocarbonyl (methyl) amino group, trifluoromethylaminocarbonyl ( Ethyl) amino group, difluoromethylaminocarbonyl (ethyl) amino group, trifluoroethylaminocarbonyl (ethyl) amino group, trichloroethylaminocarbonyl (ethyl) amino group,
{Trifluoromethyl (methyl) amino} carbonyl (methyl) amino group, {difluoromethyl (methyl) amino} carbonyl (methyl) amino group, {trifluoroethyl (methyl) amino} carbonyl (methyl) amino group, {trichloroethyl (Methyl) amino} carbonyl (methyl) amino group, {trifluoromethyl (methyl) amino} carbonyl (ethyl) amino group, {difluoromethyl (methyl) amino} carbonyl (ethyl) amino group, {trifluoroethyl (methyl) Amino} carbonyl (ethyl) amino group, {trichloroethyl (methyl) amino} carbonyl (ethyl) amino group, {trifluoromethyl (ethyl) amino} carbonyl (methyl) amino group, {difluoromethyl (ethyl) amino} carbonyl ( Methyl) amino group, {trifluoroethyl (d L) amino} carbonyl (methyl) amino group, {trichloroethyl (ethyl) amino} carbonyl (methyl) amino group, {trifluoromethyl (ethyl) amino} carbonyl (ethyl) amino group, {difluoromethyl (ethyl) amino} Halogen-substituted alkylaminocarbonylamino groups such as carbonyl (ethyl) amino group, {trifluoroethyl (ethyl) amino} carbonyl (ethyl) amino group, {trichloroethyl (ethyl) amino} carbonyl (ethyl) amino group; phenylaminocarbonyl Amino group, {phenyl (methyl) amino} carbonylamino group, {phenyl (ethyl) amino} carbonylamino group, phenylaminocarbonyl (methyl) amino group, phenylaminocarbonyl (ethyl) amino group, {methyl (phenyl) amino} Carbonyl (methyl ) Amino group, {methyl (phenyl) amino} carbonyl (ethyl) amino group, {ethyl (phenyl) amino} carbonyl (methyl) amino group, {ethyl (phenyl) amino} carbonyl (ethyl) amino group, etc. arylaminocarbonyl Amino group; benzylaminocarbonylamino group, {benzyl (methyl) amino} carbonylamino group, {benzyl (ethyl) amino} carbonylamino group, benzylaminocarbonyl (methyl) amino group, benzylaminocarbonyl (ethyl) amino group, { Methyl (benzyl) amino} carbonyl (methyl) amino group, {methyl (benzyl) amino} carbonyl (ethyl) amino group, {ethyl (benzyl) amino} carbonyl (methyl) amino group, {ethyl (benzyl) amino} carbonyl ( Aryl) arylalkyl such as amino group Aminocarbonylamino group; pyrrolidinocarbonylamino group, piperidinocarbonylamino group, morpholinocarbonylamino group, pyrrolidinocarbonyl (methyl) amino group, piperidinocarbonyl (methyl) amino group, morpholinocarbonyl (methyl) amino group, Cyclic aminocarbonyloxy groups such as pyrrolidinocarbonyl (ethyl) amino group, piperidinocarbonyl (ethyl) amino group, morpholinocarbonyl (ethyl) amino group; methylaminocarbonyl group, ethylaminocarbonyl group, propylaminocarbonyl group, isopropyl Aminocarbonyl group, butylaminocarbonyl group, isobutylaminocarbonyl group, sec-butylaminocarbonyl group, tert-butylaminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, {ethyl (methyl L) amino} carbonyl group, {methyl (propyl) amino} carbonyl group, {isopropyl (methyl) amino} carbonyl group, {butyl (methyl) amino} carbonyl group, {isobutyl (methyl) amino} carbonyl group, {sec- Butyl (methyl) amino} carbonyl group, {tert-butyl (methyl) amino} carbonyl group, {ethyl (methyl) amino} carbonyl group, {ethyl (propyl) amino} carbonyl group, {ethyl (isopropyl) amino} carbonyl group , {Butyl (ethyl) amino} carbonyl group, {isobutyl (ethyl) amino} carbonyl group, {sec-butyl (ethyl) amino} carbonyl group, {tert-butyl (ethyl) amino} carbonyl group, etc. alkylaminocarbonyl groups A cyclopropylaminocarbonyl group, a cyclobutylaminocarbonyl group, Clopentylaminocarbonyl group, cyclohexylaminocarbonyl group, {cyclopropyl (methyl) amino} carbonyl group, {cyclobutyl (methyl) amino} carbonyl group, {cyclopentyl (methyl) amino} carbonyl group, {cyclohexyl (methyl) amino} carbonyl A cycloalkylaminocarbonyl group such as a group, {cyclopropyl (ethyl) amino} carbonyl group, {cyclobutyl (ethyl) amino} carbonyl group, {cyclopentyl (ethyl) amino} carbonyl group, {cyclohexyl (ethyl) amino} carbonyl group; Trifluoromethylaminocarbonyl group, difluoromethylaminocarbonyl group, trifluoroethylaminocarbonyl group, trichloroethylaminocarbonyl group, {trifluoromethyl (methyl) amino} carbonyl group, {diflu Romethyl (methyl) amino} carbonyl group, {trifluoroethyl (methyl) amino} carbonyl group, {trichloroethyl (methyl) amino} carbonyl group, {trifluoromethyl (ethyl) amino} carbonyl group, {difluoromethyl (ethyl) Amino} carbonyl group, {trifluoroethyl (ethyl) amino} carbonyl group, halogen-substituted alkylaminocarbonyl group such as {trichloroethyl (ethyl) amino} carbonyl group; phenylaminocarbonyl group, {phenyl (methyl) amino} carbonyl group , {Arylaminocarbonyl groups such as phenyl (ethyl) amino} carbonyl group; arylalkylaminocarbonyl groups such as benzylaminocarbonyl group, {benzyl (methyl) amino} carbonyl group, {benzyl (ethyl) amino} carbonyl group; pyrrolidinoca Cyclic aminocarbonyl groups such as bonyl group, piperidinocarbonyl group, morpholinocarbonyl group; methoxycarbonyloxy group, ethoxycarbonyloxy group, propoxycarbonyloxy group, isopropoxycarbonyloxy group, butoxycarbonyloxy group, isobutoxycarbonyl Alkoxycarbonyloxy groups such as oxy group, sec-butoxycarbonyloxy group, tert-butoxycarbonyloxy group; cycloalkoxy such as cyclopropoxycarbonyloxy group, cyclobutoxycarbonyloxy group, cyclopentyloxycarbonyloxy group, cyclohexyloxycarbonyloxy group, etc. Carbonyloxy group; trifluoromethoxycarbonyloxy group, difluoromethoxycarbonyloxy group, trifluoroethoxycarbonyl A halogen-substituted alkoxycarbonyloxy group such as a ruoxy group or a trichloroethoxycarbonyloxy group; an aryloxycarbonyloxy group such as a phenoxycarbonyloxy group; an arylalkyloxycarbonyloxy group such as a benzyloxycarbonyloxy group; a methylamino group or an ethylamino group Alkylamino groups such as propylamino group, isopropylamino group, dimethylamino group, diethylamino group, dipropylamino group and diisopropylamino group; cyclic amino groups such as pyrrolidino group, piperidino group and morpholino group; tert-butyldimethylsilyloxy Groups, silyloxy groups such as tert-butyldiphenylsilyloxy group, dimethylphenylsilyloxy group; halogen atoms such as chlorine, fluorine, bromine, iodine; nitro group; cyano group It is shown.
前記置換基の置換位置はアリールアルキル基を構成するアリール基上であっても、アルキル部位であってもよいが、アリール基上であることが好ましい。またアリール基上の置換基数は限定されることはない。2箇所以上の置換基で置換される場合、同一もしくは2種類以上の置換基で構成されてよく、特に限定されることはない。 The substitution position of the substituent may be on the aryl group constituting the arylalkyl group or an alkyl moiety, but is preferably on the aryl group. Further, the number of substituents on the aryl group is not limited. When substituted with two or more substituents, they may be composed of the same or two or more kinds of substituents, and are not particularly limited.
一般式(2)中のR1におけるアリール基とは、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基、フェナンスリル基等を表す。 The aryl group in R1 in the general formula (2) represents a phenyl group, a naphthyl group, an anthranyl group, a phenanthryl group, or the like.
一般式(2)中のR1におけるアリールアルキル基のアリール基とは、前記アリール基と同義である。 The aryl group of the arylalkyl group in R1 in the general formula (2) has the same meaning as the aryl group.
一般式(2)中のR1とR2におけるアリールアルキル基のアルキル部位は、炭素数1〜4のアルキレン基を表す。
一般式(2)中のR2とR3は、それぞれ独立している。
The alkyl part of the arylalkyl group in R1 and R2 in the general formula (2) represents an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms.
R2 and R3 in the general formula (2) are independent of each other.
一般式(2)中のR2もしくはR3における炭素数1〜6のアルキル基は、一般式(1)中のRfにおける炭素数1〜6のアルキル基と同義である。 The C1-C6 alkyl group in R2 or R3 in General formula (2) is synonymous with the C1-C6 alkyl group in Rf in General formula (1).
一般式(2)中のR2もしくはR3における炭素数3〜6のシクロアルキル基は、一般式(2)中のR1における炭素数3〜6のシクロアルキル基と同義である。 The cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms in R2 or R3 in the general formula (2) has the same meaning as the cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms in R1 in the general formula (2).
一般式(2)中のR2もしくはR3における置換されてもよいアリール基は、一般式(2)中のR1における置換されてもよいアリール基と同義である。 The aryl group which may be substituted in R2 or R3 in the general formula (2) has the same meaning as the aryl group which may be substituted in R1 in the general formula (2).
一般式(2)中のR2もしくはR3における置換されてもよいアリールアルキル基とは、一般式(2)中のR1における置換されてもよいアリールアルキル基と同義である。 The arylalkyl group which may be substituted in R2 or R3 in the general formula (2) has the same meaning as the arylalkyl group which may be substituted in R1 in the general formula (2).
一般式(2)中のR2もしくはR3における炭素数1〜6の置換されてもよいアシル基の置換基とは、一般式(2)中のR1における置換されてもよいアリール基、または置換されてもよいアリールアルキル基中に使用される置換基と同義である。 The substituent of the acyl group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted in R2 or R3 in the general formula (2) is an aryl group which may be substituted in R1 in the general formula (2) or a substituted group. It is synonymous with the substituent used in the arylalkyl group which may be.
一般式(2)中のR2もしくはR3における炭素数1〜6の置換されてもよいアシル基でのアシル基とは、ホルミル基、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、イソプロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基、イソブチルカルボニル基、sec−ブチルカルボニル基、tert−ブチルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、イソアミルカルボニル基、3−メチル−2−ブチルカルボニル基、tert−ペンチルカルボニル基、neo−ペンチルカルボニル基、2−ペンチルカルボニル基、3−ペンチルカルボニル基等を表す。 The acyl group in the acyl group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted in R2 or R3 in the general formula (2) is a formyl group, a methylcarbonyl group, an ethylcarbonyl group, a propylcarbonyl group, an isopropylcarbonyl group, Butylcarbonyl group, isobutylcarbonyl group, sec-butylcarbonyl group, tert-butylcarbonyl group, pentylcarbonyl group, isoamylcarbonyl group, 3-methyl-2-butylcarbonyl group, tert-pentylcarbonyl group, neo-pentylcarbonyl group, 2-pentylcarbonyl group, 3-pentylcarbonyl group and the like are represented.
一般式(2)中のR2およびR3は、ヘテロ原子0〜1個を含む5〜6員環構造を形成するのに必要な原子群であってもよい。5〜6員環構造の具体例としては、ピロリジノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基等である。 R2 and R3 in the general formula (2) may be an atomic group necessary for forming a 5- to 6-membered ring structure containing 0 to 1 heteroatoms. Specific examples of the 5-6 membered ring structure include pyrrolidino group, piperidino group, morpholino group and the like.
一般式(2)で表される化合物は、トランス体もしくはシス体のいずれか一方の構造である化合物、またはトランス体とシス体が任意の割合で混合した化合物でよく、その構造は限定されることはない。 The compound represented by the general formula (2) may be a compound having a structure of either a trans isomer or a cis isomer, or a compound in which a trans isomer and a cis isomer are mixed at an arbitrary ratio, and the structure is limited. There is nothing.
一般式(2)で表される化合物は、市販品を使用することもできるし、また、特開昭55−130950号公報や米国特許第3966791号明細書等を参考にして製造されたものを使用することもできる。 As the compound represented by the general formula (2), a commercially available product can be used, or a compound produced by referring to JP-A-55-130950, US Pat. No. 3,966,791, etc. It can also be used.
一般式(2)で表される化合物として、R1が水素であり、R2とR3がそれぞれ独立して、炭素数1〜6のアルキル基、もしくは炭素数3〜6のシクロアルキル基、または、R2とR3とが結合する窒素原子とヘテロ原子0〜1個とを含む5〜6員環を形成するのに必要な原子群を表すものが本発明に好ましく使用される。さらに好ましくは、R1が水素であり、R2とR3がともにメチル基である化合物である。
以下、一般式(3)で表される化合物について説明する。
As a compound represented by the general formula (2), R1 is hydrogen, and R2 and R3 are each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, or R2 What represents an atomic group required in order to form a 5-6 membered ring containing the nitrogen atom which R3 and R3 couple | bond, and 0-1 heteroatoms is used preferably. More preferred is a compound wherein R1 is hydrogen and R2 and R3 are both methyl groups.
Hereinafter, the compound represented by the general formula (3) will be described.
一般式(3)中のRfは、一般式(1)中のRfと同義である。
一般式(3)中のR1は、一般式(2)中のR1と同義である。
一般式(3)中のR2もしくはR3は、一般式(2)におけるR2もしくはR3と同義である。
Rf in the general formula (3) has the same meaning as Rf in the general formula (1).
R1 in the general formula (3) has the same meaning as R1 in the general formula (2).
R2 or R3 in the general formula (3) has the same meaning as R2 or R3 in the general formula (2).
一般式(3)で表される化合物は、トランス体もしくはシス体のいずれか一方の構造である化合物、またはトランス体とシス体が任意の割合で混合した化合物でよく、その構造は限定されることはない。
以下、本アシル化反応について説明する。
以下、一般式(1)中のXがハロゲン原子である反応を説明する。
The compound represented by the general formula (3) may be a compound having a structure of either a trans isomer or a cis isomer, or a compound in which a trans isomer and a cis isomer are mixed in an arbitrary ratio, and the structure is limited. There is nothing.
Hereinafter, this acylation reaction will be described.
Hereinafter, the reaction in which X in the general formula (1) is a halogen atom will be described.
一般式(1)で表される化合物と一般式(2)で表される化合物を反応させる際に、塩基を使用することが好ましい。
使用する塩基は、有機塩基や無機塩基である。
When reacting the compound represented by the general formula (1) and the compound represented by the general formula (2), it is preferable to use a base.
The base used is an organic base or an inorganic base.
有機塩基の具体例として、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリオクチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の3級アミン、ピリジン、コリジン、ルチジン、4−ジメチルアミノピリジン等の芳香族アミン等を挙げることができ、無機塩基の具体例として、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等が挙げられる。これらの塩基は、単独で使用することもできるし、2種類以上を任意の割合で混合することも可能である。 Specific examples of the organic base include triethylamine, tributylamine, trioctylamine, diisopropylethylamine, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene, and the like. And aromatic amines such as pyridine, collidine, lutidine, 4-dimethylaminopyridine, and the like. Specific examples of the inorganic base include sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, lithium carbonate, sodium carbonate, carbonic acid. Examples include potassium and cesium carbonate. These bases can be used alone, or two or more kinds can be mixed at an arbitrary ratio.
使用する塩基の当量は、一般式(2)に対して1当量以上あれば、特に限定されることはない。経済的観点から、1当量以上5当量以下が好ましい。 If the equivalent of the base to be used is 1 equivalent or more with respect to General formula (2), it will not be specifically limited. From an economical viewpoint, 1 equivalent or more and 5 equivalent or less are preferable.
反応には溶媒を使用することができる。反応に使用する溶媒は、一般式(1)で表される化合物と反応しなければ、特に限定されることはない。 A solvent can be used for the reaction. The solvent used for the reaction is not particularly limited as long as it does not react with the compound represented by the general formula (1).
溶媒の具体例として、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、アニソール等の芳香族系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、およびメチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒等の非プロトン性溶媒が挙げられる。これらの溶媒は単独、或いは2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 Specific examples of the solvent include halogen solvents such as dichloromethane, chloroform and 1,2-dichloroethane, aromatic solvents such as benzene, toluene, xylene and anisole, hydrocarbon solvents such as hexane, heptane and cyclohexane, ethyl acetate, Ester solvents such as butyl acetate and isopropyl acetate, ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, 1,2-dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane, nitrile solvents such as acetonitrile and propionitrile, and methyl isobutyl ketone Examples include aprotic solvents such as ketone solvents. These solvents can be used alone or in admixture of two or more at any ratio.
溶媒の使用量は、特に限定されることはないが、通常、一般式(2)の重量に対して、3倍以上40倍以下の重量が好ましい。 Although the usage-amount of a solvent is not specifically limited, Usually the weight of 3 times or more and 40 times or less is preferable with respect to the weight of General formula (2).
反応温度に関しては、各化合物が分解しないように設定すれば特に限定されることはないが、通常、−30℃以上150℃以下もしくは溶媒の沸点以下とすることができる。
一般式(1)で表される化合物のXがハロゲン原子の場合、一般式(1)中のRfが少なくとも1つのフッ素原子で置換されている炭素数1〜3のアルキル基である化合物が好ましく本発明に適合できる。さらに好ましくは、一般式(1)で表される化合物がトリフルオロアセチルクロリド、トリフルオロアセチルフルオリドである。
以下、一般式(1)中のXが水酸基である場合の反応を説明する。
The reaction temperature is not particularly limited as long as each compound is not decomposed, but it can usually be set to −30 ° C. or higher and 150 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
When X of the compound represented by the general formula (1) is a halogen atom, a compound in which Rf in the general formula (1) is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms substituted with at least one fluorine atom is preferable. It can be adapted to the present invention. More preferably, the compound represented by the general formula (1) is trifluoroacetyl chloride or trifluoroacetyl fluoride.
Hereinafter, the reaction when X in the general formula (1) is a hydroxyl group will be described.
一般式(1)のXが水酸基である場合、ハロゲン化剤やイミダゾール化剤等を使用することが好ましい。 When X in the general formula (1) is a hydroxyl group, it is preferable to use a halogenating agent or an imidazoling agent.
ハロゲン化剤は、一般式(1)で表される化合物の水酸基をハロゲンに置換することが可能な試剤を選択すればよく、反応が進行する限りにおいて特に制限を設けるものではない。 What is necessary is just to select the reagent which can substitute the hydroxyl group of the compound represented by General formula (1) with a halogen as a halogenating agent, and as long as reaction advances, there will be no restriction | limiting in particular.
ハロゲン化剤の具体例としては、塩化スルフリル、塩化チオニル、臭化チオニル等の含硫黄ハロゲン化剤、オキサリルクロライド、オキサリルブロミド、ホスゲン等の含カルボニルハロゲン化剤、オキシ塩化リン、三塩化リン、三臭化リン、五塩化リン等の含リンハロゲン化剤等が挙げられる
ハロゲン化剤の使用量は、一般式(1)に対して1当量以上あれば特に制限されることはないが、経済的観点から、通常、1当量以上3当量以下である。
Specific examples of the halogenating agent include sulfur-containing halogenating agents such as sulfuryl chloride, thionyl chloride and thionyl bromide, carbonyl-containing halogenating agents such as oxalyl chloride, oxalyl bromide and phosgene, phosphorus oxychloride, phosphorus trichloride, Examples thereof include phosphorus-containing halogenating agents such as phosphorus bromide and phosphorus pentachloride The amount of the halogenating agent used is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more with respect to the general formula (1), but is economical. From the viewpoint, it is usually 1 equivalent or more and 3 equivalents or less.
ハロゲン化剤は、ジメチルホルムアミド等のホルムアミド誘導体を添加し、ヴィルスマイヤー試薬に変換して使用することも可能である。 As the halogenating agent, a formamide derivative such as dimethylformamide may be added and converted into a Vilsmeier reagent for use.
ヴィルスマイヤー試薬とは、一般式(9) Vilsmeier reagent is the general formula (9)
(9)
(式中、R6とR7はそれぞれ独立していて、炭素数1〜6のアルキル基を表し、Yはハロゲン原子を表す。)で表される化合物を含む塩である。
(9)
(Wherein R6 and R7 are each independently a C1-6 alkyl group, and Y represents a halogen atom).
一般式(9)中のR6及びR7における炭素数1〜6のアルキル基は、一般式(1)中のRfにおける炭素数1〜6のアルキル基と同義である。 The C1-C6 alkyl group in R6 and R7 in General formula (9) is synonymous with the C1-C6 alkyl group in Rf in General formula (1).
一般式(9)中のハロゲン原子とは、一般式(1)中のハロゲン原子と同義である。 The halogen atom in General formula (9) is synonymous with the halogen atom in General formula (1).
また、イミダゾール化剤の具体例としては、N,N’−カルボニルジイミダゾールが挙げられる。 A specific example of the imidazoling agent is N, N′-carbonyldiimidazole.
イミダゾール化剤の使用量は、一般式(1)で表される化合物に対して1当量以上あれば特に制限されることはないが、経済的観点から、通常、1当量以上3当量以下である。 The amount of the imidazole agent used is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by the general formula (1), but is usually 1 equivalent or more and 3 equivalents or less from an economic viewpoint. .
一般式(1)で表される化合物と一般式(2)で表される化合物を反応させる際に、塩基を使用することが好ましい。 When reacting the compound represented by the general formula (1) and the compound represented by the general formula (2), it is preferable to use a base.
使用する塩基は、有機塩基や無機塩基である。 The base used is an organic base or an inorganic base.
有機塩基の具体例として、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリオクチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の3級アミン、ピリジン、コリジン、ルチジン、4−ジメチルアミノピリジン等の芳香族アミン等を挙げることができ、無機塩基の具体例として、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等が挙げられる。これらの塩基は、単独で使用することもできるし、2種類以上を任意の割合で混合することも可能である。 Specific examples of the organic base include triethylamine, tributylamine, trioctylamine, diisopropylethylamine, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene, and the like. And aromatic amines such as pyridine, collidine, lutidine, 4-dimethylaminopyridine, and the like. Specific examples of the inorganic base include sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, lithium carbonate, sodium carbonate, carbonic acid. Examples include potassium and cesium carbonate. These bases can be used alone, or two or more kinds can be mixed at an arbitrary ratio.
使用する塩基の当量は、一般式(2)に対して2当量以上あれば、特に限定されることはない。経済的観点から、2当量以上5当量以下が好ましい。 The equivalent of the base to be used is not particularly limited as long as it is 2 equivalents or more with respect to the general formula (2). From an economical viewpoint, 2 to 5 equivalents are preferable.
反応には溶媒を使用することができる。反応に使用する溶媒は、一般式(1)で表される化合物と反応しなければ、特に限定されることはない。 A solvent can be used for the reaction. The solvent used for the reaction is not particularly limited as long as it does not react with the compound represented by the general formula (1).
溶媒の具体例として、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、アニソール等の芳香族系溶媒、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、およびメチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒等の非プロトン系溶媒が挙げられる。 Specific examples of the solvent include halogen solvents such as dichloromethane, chloroform and 1,2-dichloroethane, aromatic solvents such as benzene, toluene, xylene and anisole, hydrocarbon solvents such as hexane and heptane, ethyl acetate and butyl acetate. , Ester solvents such as isopropyl acetate, ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, 1,2-dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane, nitrile solvents such as acetonitrile and propionitrile, and ketone systems such as methyl isobutyl ketone Examples include aprotic solvents such as solvents.
溶媒の使用量は特に限定されることはないが、通常、一般式(2)で表される化合物の重量に対して、3倍以上40倍以下の重量が好ましい。 Although the usage-amount of a solvent is not specifically limited, The weight of 3 times or more and 40 times or less is preferable normally with respect to the weight of the compound represented by General formula (2).
反応温度に関しては、各化合物が分解しないように設定すれば特に限定されることはないが、通常、−30℃以上150℃以下もしくは溶媒の沸点以下である。
試剤の装入方法に関しては、一般式(1)で表される化合物と一般式(2)で表される化合物と塩基を含む溶媒に対して、最後にハロゲン化剤を装入することが好ましい。また、一般式(1)で表される化合物と一般式(2)で表される化合物と塩基を含む溶媒には必要に応じて、ホルムアミド誘導体を加えてもよい。この装入方法によって、一般式(3)で表される化合物の収率が著しく改善される。
The reaction temperature is not particularly limited as long as it is set so that each compound does not decompose, but it is usually from −30 ° C. to 150 ° C. or the boiling point of the solvent.
With regard to the method of charging the reagent, it is preferable to charge the halogenating agent last with respect to the solvent represented by the compound represented by the general formula (1), the compound represented by the general formula (2) and the base. . Moreover, you may add a formamide derivative to the solvent containing the compound represented by General formula (1), the compound represented by General formula (2), and a base as needed. By this charging method, the yield of the compound represented by the general formula (3) is remarkably improved.
一般式(1)で表される化合物のXが水酸基の場合、一般式(1)中のRfが少なくとも1つのフッ素原子で置換されている炭素数1〜3のアルキル基が好ましく本発明に適合できる。または、一般式(1)で表される化合物がトリフルオロ酢酸、ジフルオロ酢酸、クロロジフルオロ酢酸、ペンタフルオロプロピオン酸、ヘプタフルオロ酪酸に好ましく適合できる。さらに好ましくは、トリフルオロ酢酸、ジフルオロ酢酸である。
以下、一般式(1)中のXがカルボニルオキシ基である反応を説明する。
When X of the compound represented by the general formula (1) is a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms in which Rf in the general formula (1) is substituted with at least one fluorine atom is preferable and conforms to the present invention. it can. Alternatively, the compound represented by the general formula (1) can be preferably adapted to trifluoroacetic acid, difluoroacetic acid, chlorodifluoroacetic acid, pentafluoropropionic acid, and heptafluorobutyric acid. More preferred are trifluoroacetic acid and difluoroacetic acid.
Hereinafter, the reaction in which X in the general formula (1) is a carbonyloxy group will be described.
一般式(1)で表される化合物と一般式(2)で表される化合物を反応させる際に、塩基を使用することができるが、必須ではない。
塩基を使用する場合は、有機塩基や無機塩基である。
In reacting the compound represented by the general formula (1) and the compound represented by the general formula (2), a base can be used, but it is not essential.
When a base is used, it is an organic base or an inorganic base.
有機塩基の具体例として、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリオクチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の3級アミン、ピリジン、コリジン、ルチジン、4−ジメチルアミノピリジン等の芳香族アミン等を挙げることができ、無機塩基の具体例として、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等が挙げられる。これらの塩基は、単独で使用することもできるし、2種類以上を任意の割合で混合することも可能である。
使用する塩基の当量は、特に限定されることはない。経済的観点から、5当量以下である。
Specific examples of the organic base include triethylamine, tributylamine, trioctylamine, diisopropylethylamine, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene, and the like. And aromatic amines such as pyridine, collidine, lutidine, 4-dimethylaminopyridine, and the like. Specific examples of the inorganic base include sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, lithium carbonate, sodium carbonate, carbonic acid. Examples include potassium and cesium carbonate. These bases can be used alone, or two or more kinds can be mixed at an arbitrary ratio.
The equivalent of the base used is not particularly limited. From an economical viewpoint, it is 5 equivalents or less.
反応には溶媒を使用することができる。反応に使用する溶媒は、一般式(1)で表される化合物と反応しなければ、特に限定されることはない。 A solvent can be used for the reaction. The solvent used for the reaction is not particularly limited as long as it does not react with the compound represented by the general formula (1).
溶媒の具体例として、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、アニソール等の芳香族系溶媒、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、およびメチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒等の非プロトン性溶媒が挙げられる。 Specific examples of the solvent include halogen solvents such as dichloromethane, chloroform and 1,2-dichloroethane, aromatic solvents such as benzene, toluene, xylene and anisole, hydrocarbon solvents such as hexane and heptane, ethyl acetate and butyl acetate. , Ester solvents such as isopropyl acetate, ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, 1,2-dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane, nitrile solvents such as acetonitrile and propionitrile, and ketone systems such as methyl isobutyl ketone Examples include aprotic solvents such as solvents.
溶媒の使用量は特に限定されることはないが、通常、一般式(2)で表される化合物の重量に対して、3倍以上40倍以下の重量が好ましい。 Although the usage-amount of a solvent is not specifically limited, The weight of 3 times or more and 40 times or less is preferable normally with respect to the weight of the compound represented by General formula (2).
反応温度に関しては、各化合物が分解しないように設定すれば特に限定されることはないが、通常、−30℃以上150℃以下もしくは溶媒の沸点以下とすることができる。 The reaction temperature is not particularly limited as long as each compound is not decomposed, but it can usually be set to −30 ° C. or higher and 150 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
一般式(1)で表される化合物のXがカルボニルオキシ基の場合、Xが一般式(7)で表される置換基であり、かつ一般式(7)中のR5がRfである対称な化合物(−O(C=O)Rfと表される)が本発明に適合できる。さらに好ましくは、一般式(1)で表される化合物がトリフルオロ酢酸無水物である。
以下、後処理工程に関して説明する。これらの後処理は、Xがハロゲン原子、水酸基、カルボニルオキシ基である場合の各反応において共通である。
When X of the compound represented by the general formula (1) is a carbonyloxy group, X is a substituent represented by the general formula (7), and R5 in the general formula (7) is Rf. A compound (denoted -O (C = O) Rf) is compatible with the present invention. More preferably, the compound represented by the general formula (1) is trifluoroacetic anhydride.
Hereinafter, the post-processing process will be described. These post-treatments are common in each reaction when X is a halogen atom, a hydroxyl group or a carbonyloxy group.
一般式(1)で表される化合物と一般式(2)で表される化合物を反応させることによって得られる一般式(3)で表される化合物を含む反応混合物は、水、アルカリ水溶液、酸性水溶液、或いは食塩水で洗浄することができる。 The reaction mixture containing the compound represented by the general formula (3) obtained by reacting the compound represented by the general formula (1) with the compound represented by the general formula (2) is water, an alkaline aqueous solution, an acidic solution. It can be washed with an aqueous solution or saline.
洗浄に使用するアルカリ水溶液、酸性水溶液は、一般式(3)で表される化合物が分解しない限りにおいて特に制限されるものではなく、通常、炭酸水素ナトリウム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液、水酸化ナトリウム水溶液、炭酸水素カリウム水溶液、炭酸カリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液等のアルカリ水溶液や、塩酸水溶液、硫酸水溶液等の酸性水溶液が例示される。
反応混合物を洗浄する回数は、特に限定されることはない。
The alkaline aqueous solution and acidic aqueous solution used for washing are not particularly limited as long as the compound represented by the general formula (3) is not decomposed, and are usually sodium hydrogen carbonate aqueous solution, sodium carbonate aqueous solution, sodium hydroxide aqueous solution, Examples include alkaline aqueous solutions such as potassium hydrogen carbonate aqueous solution, potassium carbonate aqueous solution and potassium hydroxide aqueous solution, and acidic aqueous solutions such as hydrochloric acid aqueous solution and sulfuric acid aqueous solution.
The number of times of washing the reaction mixture is not particularly limited.
水、アルカリ水溶液、或いは酸性水溶液で洗浄した一般式(3)で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等で脱水を行うことが可能である。 The reaction mixture containing the compound represented by the general formula (3) washed with water, an aqueous alkaline solution, or an acidic aqueous solution can be dehydrated with sodium sulfate, magnesium sulfate, or the like.
水、アルカリ水溶液、酸性水溶液、或いは食塩水で洗浄した一般式(3)で表される化合物を含む反応混合物、もしくは硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等で脱水後の反応混合物は、そのまま次工程のピラゾール化に使用することができる。また、溶媒を留去した後に次工程に使用しても良い。さらには、再結晶、再沈殿、溶媒洗浄、蒸留等によって精製した後に次工程に使用してもよい。 The reaction mixture containing the compound represented by the general formula (3) washed with water, an alkaline aqueous solution, an acidic aqueous solution, or a saline solution, or a reaction mixture after dehydration with sodium sulfate, magnesium sulfate, or the like is subjected to pyrazolation in the next step as it is. Can be used for Moreover, you may use for the following process, after distilling a solvent off. Further, after purification by recrystallization, reprecipitation, solvent washing, distillation or the like, it may be used in the next step.
再結晶、再沈殿、溶媒洗浄を行う際に使用する溶媒は、一般式(3)で表される化合物が分解されない限りにおいて特に制限されることはない。 The solvent used in performing recrystallization, reprecipitation, and solvent washing is not particularly limited as long as the compound represented by the general formula (3) is not decomposed.
再結晶、再沈殿、溶媒洗浄に使用する溶媒の具体例として、水、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、アニソール等の芳香族系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、1,2−ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶媒、ヘプタン、ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、およびメチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒等が挙げられる。単独、或いは2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 Specific examples of solvents used for recrystallization, reprecipitation, and solvent washing include water, halogen solvents such as dichloromethane, chloroform, and 1,2-dichloroethane, aromatic solvents such as benzene, toluene, xylene, and anisole, and diethyl ether. , Ether solvents such as diisopropyl ether, 1,2-dimethoxyethane, alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, hydrocarbon solvents such as heptane, hexane, cyclohexane, ethyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, etc. Examples thereof include ester solvents, nitrile solvents such as acetonitrile and propionitrile, and ketone solvents such as methyl isobutyl ketone. It can be used alone or in admixture of two or more at any ratio.
溶媒の使用量は、目的とする収量、純度に合わせて設定すれば特に限定されることはない。通常、一般式(3)で表される化合物の重量に対して1倍以上40倍以下の重量が好ましい。 The amount of the solvent used is not particularly limited as long as it is set according to the intended yield and purity. Usually, the weight is 1 to 40 times the weight of the compound represented by the general formula (3).
本アシル化反応は、R1が水素であり、R2とR3はそれぞれ独立して、炭素数1〜6のアルキル基、もしくは炭素数3〜6のシクロアルキル基、または、R2とR3とが結合する窒素原子とヘテロ原子0〜1個とを含む5〜6員環を形成するのに必要な原子群を表す化合物群に好ましく適合できる。さらに好ましくは、Rfはトリフルオロメチル基及びジフルオロメチル基を表し、R1は水素であり、R2とR3はともにメチル基を表す化合物群に好ましく適合できる。
一般式(4)で表される含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体を製造する方法は、一般式(3)で表される化合物とヒドラジンを反応させる環化反応を含むものである。本反応は、製造工程の他に、必要に応じて、後処理工程、精製工程をさらに含むことができる。
以下、ヒドラジンについて述べる。
In this acylation reaction, R1 is hydrogen, and R2 and R3 are each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, or R2 and R3 are bonded to each other. It can be preferably adapted to a compound group representing an atomic group necessary to form a 5- to 6-membered ring containing a nitrogen atom and 0 to 1 heteroatom. More preferably, Rf represents a trifluoromethyl group and a difluoromethyl group, R1 is hydrogen, and R2 and R3 can be preferably adapted to a group of compounds each representing a methyl group.
The method for producing the fluorine-containing pyrazole carbonitrile derivative represented by the general formula (4) includes a cyclization reaction in which the compound represented by the general formula (3) is reacted with hydrazine. This reaction can further include a post-treatment step and a purification step, if necessary, in addition to the production step.
Hereinafter, hydrazine will be described.
ヒドラジンは市販品を使用することができる。
ヒドラジンは無水物、水和物のいずれでもよく、その形態は問わない。
ヒドラジンの使用量は、一般式(3)で表される化合物に対して1当量以上あれば特に限定されることはないが、経済的観点から1当量以上5当量以下である。
Hydrazine can use a commercial item.
Hydrazine may be either an anhydride or a hydrate, and the form is not limited.
Although the usage-amount of hydrazine will not be specifically limited if it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by General formula (3), It is 1 equivalent or more and 5 equivalent or less from an economical viewpoint.
以下、一般式(4)について説明する。
一般式(4)中のRfは、一般式(1)中のRfと同義である。
一般式(4)中のR1は、一般式(2)中のR1と同義である。
以下、本環化反応について説明する。
Hereinafter, the general formula (4) will be described.
Rf in the general formula (4) has the same meaning as Rf in the general formula (1).
R1 in the general formula (4) has the same meaning as R1 in the general formula (2).
Hereinafter, this cyclization reaction will be described.
一般式(3)で表される化合物とヒドラジンとの反応は、一般式(3)で表される化合物をヒドラジンに装入する方法、或いは、ヒドラジンを一般式(3)で表される化合物に装入する方法のいずれでもよい。この際、一般式(3)もしくはヒドラジンは、適当な溶媒に溶解、もしくは懸濁させて使用することが可能である。 The reaction between the compound represented by the general formula (3) and hydrazine can be carried out by charging the compound represented by the general formula (3) into hydrazine or by converting the hydrazine into a compound represented by the general formula (3). Any of the charging methods may be used. At this time, the general formula (3) or hydrazine can be used by dissolving or suspending in an appropriate solvent.
本反応には溶媒を使用することができる。使用する溶媒は、反応が進行する限りにおいて、特に限定されることはない。使用する溶媒の具体例として、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、アニソール等の芳香族系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、1,2−ジメトキエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ヘプタン、ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、1,3−ジメチル−3,4,5,6−テトラヒドロ−2(1H)−ピリミジノン等のウレア系溶媒、ジメチルスルホオキシド等のスルホニルオキシド系溶媒、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、および水等が挙げられる。これらの溶媒は単独、或いは2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 A solvent can be used for this reaction. The solvent to be used is not particularly limited as long as the reaction proceeds. Specific examples of the solvent to be used include halogen solvents such as dichloromethane, chloroform and 1,2-dichloroethane, aromatic solvents such as benzene, toluene, xylene and anisole, diethyl ether, diisopropyl ether, 1,2-dimethoxyethane and tetrahydrofuran. , Ether solvents such as dioxane, hydrocarbon solvents such as heptane, hexane and cyclohexane, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N Amide solvents such as 1, N-dimethylacetamide, urea solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, 1,3-dimethyl-3,4,5,6-tetrahydro-2 (1H) -pyrimidinone Sulfonyl oxides such as dimethyl sulfoxide Solvents include ketone solvents such as methyl isobutyl ketone, and water and the like. These solvents can be used alone or in admixture of two or more at any ratio.
溶媒の使用量は特に限定されることはないが、通常、一般式(3)で表される化合物の重量に対して、3倍以上40倍以下の重量が好ましい
反応温度に関しては、目的とする反応が進行すれば特に制限を設けるものではないが、通常、−40℃以上150℃以下、もしくは溶媒の沸点以下とすることができる。
The amount of the solvent used is not particularly limited, but usually it is preferably 3 to 40 times the weight of the compound represented by the general formula (3). Although there is no particular limitation as long as the reaction proceeds, it can usually be set to −40 ° C. or higher and 150 ° C. or lower, or below the boiling point of the solvent.
一般式(4)の化合物を含む反応混合物の後処理は、該一般式(4)の化合物が分解しない限りにおいて、特に制限されることがなく実施できる。以下に後処理方法の具体例を述べる。 The post-treatment of the reaction mixture containing the compound of the general formula (4) can be carried out without any particular limitation as long as the compound of the general formula (4) is not decomposed. A specific example of the post-processing method will be described below.
水と相溶しない有機溶媒と水から構成される二層系溶媒が反応溶媒である反応混合物に関しては、分液することによって、一般式(4)で表される化合物を含む有機層を得ることができる。 Regarding a reaction mixture in which a two-layer solvent composed of an organic solvent incompatible with water and water is a reaction solvent, an organic layer containing a compound represented by the general formula (4) is obtained by liquid separation. Can do.
水と相溶する有機溶媒と水から構成される均一系溶媒が反応溶媒である反応混合物に関しては、減圧下で有機溶媒を留去した後に、水と分離する有機溶媒によって一般式(4)で表される化合物を抽出することができる。 Regarding a reaction mixture in which a homogeneous solvent composed of an organic solvent compatible with water and water is the reaction solvent, the organic solvent is distilled off under reduced pressure, and then the organic solvent separated from water is represented by the general formula (4). The compounds represented can be extracted.
水と相溶しない有機溶媒が反応溶媒である反応混合物に関しては、そのまま減圧下で溶媒を留去して、一般式(4)で表される化合物を得ることができる。もしくは、溶媒留去の前に、後述する分液操作を実施してもよい。 Regarding the reaction mixture in which the organic solvent incompatible with water is the reaction solvent, the solvent can be distilled off under reduced pressure as it is to obtain the compound represented by the general formula (4). Or you may implement the liquid separation operation mentioned later before solvent distillation.
水と相溶する有機溶媒が反応溶媒である反応混合物に関しては、そのまま減圧下で溶媒を留去して、一般式(4)で表される化合物を得ることができる。溶媒留去の後に、水と分離する有機溶媒と水を加えて、以下に示す分液操作を実施してもよい。 Regarding the reaction mixture in which the organic solvent compatible with water is the reaction solvent, the solvent can be distilled off under reduced pressure as it is to obtain the compound represented by the general formula (4). After distilling off the solvent, an organic solvent that separates from water and water may be added, and the following liquid separation operation may be performed.
水が反応溶媒である反応混合物に関しては、一般式(4)で表される化合物が析出した際には析出物を濾取すればよい。該化合物が析出しない場合は、水と分離する有機溶媒を加えて抽出することが可能である。 Regarding the reaction mixture in which water is the reaction solvent, the precipitate may be collected by filtration when the compound represented by the general formula (4) is precipitated. If the compound does not precipitate, it can be extracted by adding an organic solvent that separates from water.
一般式(4)で表される化合物を含む有機層を、水、酸性水溶液、アルカリ水溶液、或いは食塩水で洗浄することができる。洗浄回数、洗浄順序等は、該化合物が分解しないかぎりにおいて、特に限定されることはない。 The organic layer containing the compound represented by the general formula (4) can be washed with water, an acidic aqueous solution, an alkaline aqueous solution, or a saline solution. The number of washings, washing order, etc. are not particularly limited as long as the compound is not decomposed.
洗浄に使用する酸性水溶液、アルカリ水溶液は、一般式(4)で表される化合物が分解しない限りにおいて特に制限されることはない。通常、塩酸水溶液、硫酸水溶液等の酸性水溶液や、炭酸水素ナトリウム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液、水酸化ナトリウム水溶液、炭酸水素カリウム水溶液、炭酸カリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液等のアルカリ水溶液が例示される。 The acidic aqueous solution and alkaline aqueous solution used for washing are not particularly limited as long as the compound represented by the general formula (4) is not decomposed. Usually, acidic aqueous solutions, such as hydrochloric acid aqueous solution and sulfuric acid aqueous solution, and alkaline aqueous solutions, such as sodium hydrogen carbonate aqueous solution, sodium carbonate aqueous solution, sodium hydroxide aqueous solution, potassium hydrogen carbonate aqueous solution, potassium carbonate aqueous solution, potassium hydroxide aqueous solution, are illustrated.
一般式(4)で表される化合物を含む有機層を、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等で脱水を行うことが可能である。 The organic layer containing the compound represented by the general formula (4) can be dehydrated with sodium sulfate, magnesium sulfate or the like.
一般式(4)で表される化合物を含む有機層を、そのまま次工程のアルキル化工程に使用することができる。また、減圧下で溶媒留去した後に該化合物をアルキル化することも可能である。 The organic layer containing the compound represented by the general formula (4) can be used as it is in the next alkylation step. It is also possible to alkylate the compound after distilling off the solvent under reduced pressure.
一般式(4)で表される化合物の純度を挙げるために、蒸留、再結晶、再沈殿、溶媒洗浄等を実施することができる。 In order to increase the purity of the compound represented by the general formula (4), distillation, recrystallization, reprecipitation, solvent washing and the like can be performed.
再結晶、再沈殿、溶媒洗浄を行う際に使用する溶媒は、一般式(4)で表される化合物が分解されない限りにおいて特に制限されることはない。 The solvent used for recrystallization, reprecipitation, and solvent washing is not particularly limited as long as the compound represented by the general formula (4) is not decomposed.
再結晶、再沈殿、溶媒洗浄に使用する溶媒の具体例として、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、アニソール等の芳香族系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶媒、ヘプタン、ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、および水等が挙げられる。これらの溶媒は単独、或いは2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 Specific examples of solvents used for recrystallization, reprecipitation, and solvent washing include halogen solvents such as dichloromethane, chloroform, and 1,2-dichloroethane, aromatic solvents such as benzene, toluene, xylene, and anisole, diethyl ether, and diisopropyl. Ether solvents such as ether, 1,2-dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane, alcohol solvents such as methanol, ethanol and isopropyl alcohol, hydrocarbon solvents such as heptane, hexane and cyclohexane, ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate Ester solvents such as acetonitrile, nitrile solvents such as acetonitrile and propionitrile, ketone solvents such as methyl isobutyl ketone, and water. These solvents can be used alone or in admixture of two or more at any ratio.
溶媒の使用量は、目的とする収量、純度に合わせて設定すればよく、特に限定されることはない。通常、一般式(4)で表される化合物の重量に対して1倍以上40倍以下の重量が好ましい。 The amount of the solvent used may be set according to the target yield and purity, and is not particularly limited. Usually, the weight is 1 to 40 times the weight of the compound represented by the general formula (4).
以上、本ピラゾール環化反応は、R1が水素であり、R2とR3はそれぞれ独立して、炭素数1〜6のアルキル基、もしくは炭素数3〜6のシクロアルキル基、または、R2とR3とが結合する窒素原子とヘテロ原子0〜1個とを含む5〜6員環を形成するのに必要な原子群を表す化合物群に好ましく適合できる。さらに好ましくは、Rfはトリフルオロメチル基及びジフルオロメチル基を表し、R1は水素であり、R2とR3はともにメチル基を表す化合物郡に好ましく適合できる。
一般式(5)で表されるアルキル置換含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体を製造する方法は、一般式(4)で表される化合物とアルキル化剤を反応させるアルキル化反応を含むものである。本反応は、製造工程の他に、必要に応じて、後処理工程、精製工程をさらに含むことができる。
As described above, in this pyrazole cyclization reaction, R1 is hydrogen, and R2 and R3 are each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, or R2 and R3, Can be preferably adapted to a group of compounds representing an atomic group necessary to form a 5- to 6-membered ring containing a nitrogen atom to which is bonded and 0 to 1 heteroatoms. More preferably, Rf represents a trifluoromethyl group and a difluoromethyl group, R1 is hydrogen, and R2 and R3 can be preferably adapted to a group of compounds each representing a methyl group.
The method for producing an alkyl-substituted fluorine-containing pyrazole carbonitrile derivative represented by the general formula (5) includes an alkylation reaction in which the compound represented by the general formula (4) is reacted with an alkylating agent. This reaction can further include a post-treatment step and a purification step, if necessary, in addition to the production step.
以下、アルキル化剤について説明する。
アルキル化剤は、一般式(4)で表されるピラゾール誘導体における1位の窒素原子をアルキル化することが可能なものであれば、特に限定されることはない。
Hereinafter, the alkylating agent will be described.
The alkylating agent is not particularly limited as long as it can alkylate the nitrogen atom at the 1-position in the pyrazole derivative represented by the general formula (4).
アルキル化剤の具体例として、ジメチル硫酸、ジエチル硫酸、ジプロピル硫酸、ジイソプロピル硫酸、ジブチル硫酸等のジアルキル硫酸; 臭化メチル、ヨウ化メチル、塩化エチル、臭化エチル、ヨウ化エチル、塩化プロピル、臭化プロピル、ヨウ化プロピル、塩化イソプロピル、臭化イソプロピル、ヨウ化イソプロピル、塩化ブチル、臭化ブチル、ヨウ化ブチル、塩化イソブチル、臭化イソブチル、ヨウ化イソブチル、塩化sec−ブチル、臭化sec−ブチル、ヨウ化sec−ブチル、塩化ペンチル、臭化ペンチル、ヨウ化ペンチル、塩化イソペンチル、臭化イソペンチル、ヨウ化イソペンチル、2−ブロモペンチル、3−ブロモペンチル、1−クロロ−2−メチルブタン、1−ヨード−2−メチルブタン、1−クロロ−2,2−ジメチルプロパン、1−ブロモ−2,2−ジメチルプロパン、塩化ヘキシル、臭化ヘキシル、ヨウ化ヘキシル、2−クロロヘキサン、2−ブロモヘキサン、3−クロロへキサン、3−ブロモへキサン、1−ブロモ−4−メチルペンタン等のハロゲン化アルキル;臭化シクロプロピル、塩化シクロブチル、臭化シクロブチル、塩化シクロペンチル、臭化シクロペンチル、塩化シクロヘキシル、臭化シクロヘキシル、ヨウ化シクロヘキシル等のハロゲン化シクロアルキル;塩化ベンジル、臭化ベンジル、塩化フェネチル、臭化フェネチル、ヨウ化フェネチル、3−フェニルプロピルクロリド、3−フェニルプロピルブロミド、4−フェニルブチルクロリド、4−フェニルブチルブロミド等のハロゲン化アリールアルキル;炭酸ジメチル、炭酸ジエチル等の炭酸ジアルキル等が挙げられる。 Specific examples of the alkylating agent include dialkyl sulfates such as dimethyl sulfate, diethyl sulfate, dipropyl sulfate, diisopropyl sulfate, and dibutyl sulfate; methyl bromide, methyl iodide, ethyl chloride, ethyl bromide, ethyl iodide, propyl chloride, odor Propyl iodide, Propyl iodide, Isopropyl chloride, Isopropyl bromide, Isopropyl iodide, Butyl chloride, Butyl bromide, Butyl iodide, Isobutyl chloride, Isobutyl bromide, Isobutyl iodide, sec-butyl chloride, sec-butyl bromide , Sec-butyl iodide, pentyl chloride, pentyl bromide, pentyl iodide, isopentyl chloride, isopentyl bromide, isopentyl iodide, 2-bromopentyl, 3-bromopentyl, 1-chloro-2-methylbutane, 1-iodo 2-methylbutane, 1-chloro-2,2-dimethyl Propane, 1-bromo-2,2-dimethylpropane, hexyl chloride, hexyl bromide, hexyl iodide, 2-chlorohexane, 2-bromohexane, 3-chlorohexane, 3-bromohexane, 1-bromo- Halogenated alkyl such as 4-methylpentane; Halogenated cycloalkyl such as cyclopropyl bromide, cyclobutyl chloride, cyclobutyl bromide, cyclopentyl chloride, cyclopentyl bromide, cyclohexyl chloride, cyclohexyl bromide, cyclohexyl iodide; benzyl chloride, odor Arylalkyl halides such as benzyl chloride, phenethyl chloride, phenethyl bromide, phenethyl iodide, 3-phenylpropyl chloride, 3-phenylpropyl bromide, 4-phenylbutyl chloride, 4-phenylbutyl bromide; dimethyl carbonate, diethyl carbonate, etc. of And dialkyl carbonate.
アルキル化剤の使用量は、一般式(4)で表される化合物に対して1当量以上あれば特に限定されることはなく、溶媒として使用することも可能である。
以下、一般式(5)で表される化合物について説明する。
The amount of the alkylating agent used is not particularly limited as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by the general formula (4), and can be used as a solvent.
Hereinafter, the compound represented by Formula (5) will be described.
一般式(5)中のRfは、一般式(1)中のRfと同義である。
一般式(5)中のR1は、一般式(2)中のR1と同義である。
一般式(5)中のR4における炭素数1〜6のアルキル基は、一般式(1)中のRfにおける炭素数1〜6のアルキル基と同義である。
Rf in the general formula (5) has the same meaning as Rf in the general formula (1).
R1 in the general formula (5) has the same meaning as R1 in the general formula (2).
The C1-C6 alkyl group in R4 in General formula (5) is synonymous with the C1-C6 alkyl group in Rf in General formula (1).
一般式(5)中のR4における炭素数3〜6のシクロアルキル基は、一般式(2)中のR1における炭素数3〜6のシクロアルキル基と同義である。 The C3-C6 cycloalkyl group in R4 in General formula (5) is synonymous with the C3-C6 cycloalkyl group in R1 in General formula (2).
一般式(5)中のR4における置換されてもよいアリールアルキル基は、一般式(2)中のR1における置換されてもよいアリールアルキル基と同義である。
以下、本アルキル化反応について説明する。
本反応には、塩基を使用することができる。塩基とは、有機塩基および無機塩基であるが、反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。
The arylalkyl group which may be substituted in R4 in the general formula (5) has the same meaning as the arylalkyl group which may be substituted in R1 in the general formula (2).
Hereinafter, this alkylation reaction will be described.
A base can be used for this reaction. The base is an organic base or an inorganic base, but is not particularly limited as long as the reaction proceeds.
有機塩基の具体例として、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等の金属アルコキシド、ジイソプロピルアミン等の2級アミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリオクチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の3級アミン、ピリジン、コリジン、ルチジン、および4−ジメチルアミノピリジン等の芳香族アミン等が挙げられる。 Specific examples of the organic base include metal alkoxides such as sodium methoxide and sodium ethoxide, secondary amines such as diisopropylamine, triethylamine, tributylamine, trioctylamine, diisopropylethylamine, 1,4-diazabicyclo [2.2.2. ], Tertiary amines such as octane and 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene, and aromatic amines such as pyridine, collidine, lutidine, and 4-dimethylaminopyridine.
無機塩基の具体例として、水素化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等が挙げられる。 Specific examples of the inorganic base include sodium hydride, lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate and the like.
これらの塩基は、単独で使用することもできるし、2種類以上を任意の割合で混合することも可能である。
塩基の使用量は、目的とする反応が進行する限りにおいて、特に制限を設けるものではないが、通常、1当量以上10当量以下である。
These bases can be used alone, or two or more kinds can be mixed at an arbitrary ratio.
The amount of the base used is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but is usually 1 equivalent or more and 10 equivalents or less.
本反応は、溶媒を使用することができる。使用する溶媒は、反応が進行する限りにおいて、特に限定されることはない。使用する溶媒の具体例として、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、アニソール等の芳香族系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、1,2−ジメトキエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ヘプタン、ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、1,3−ジメチル−3,4,5,6−テトラヒドロ−2(1H)−ピリミジノン等のウレア系溶媒、ジメチルスルホオキシド等のスルホニルオキシド系溶媒、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は単独、或いは2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 In this reaction, a solvent can be used. The solvent to be used is not particularly limited as long as the reaction proceeds. Specific examples of the solvent to be used include halogen solvents such as dichloromethane, chloroform and 1,2-dichloroethane, aromatic solvents such as benzene, toluene, xylene and anisole, diethyl ether, diisopropyl ether, 1,2-dimethoxyethane and tetrahydrofuran. , Ether solvents such as dioxane, hydrocarbon solvents such as heptane, hexane and cyclohexane, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N Amide solvents such as 1, N-dimethylacetamide, urea solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, 1,3-dimethyl-3,4,5,6-tetrahydro-2 (1H) -pyrimidinone Sulfonyl oxides such as dimethyl sulfoxide Solvents include ketone solvents such as methyl isobutyl ketone. These solvents can be used alone or in admixture of two or more at any ratio.
溶媒の使用量は特に限定されることはないが、通常、一般式(4)で表される化合物の重量に対して、3倍以上40倍以下の重量が好ましい
反応温度に関しては、目的とする反応が進行すれば特に制限を設けるものではないが、通常、−40℃以上150℃以下、もしくは溶媒の沸点以下とすることができる。
The amount of the solvent used is not particularly limited, but usually it is preferably 3 to 40 times the weight of the compound represented by the general formula (4). Although there is no particular limitation as long as the reaction proceeds, it can usually be set to −40 ° C. or higher and 150 ° C. or lower, or below the boiling point of the solvent.
水と相溶しない有機溶媒が反応溶媒である反応混合物に関しては、そのまま減圧下で溶媒を留去して、一般式(5)で表される化合物を得ることができる。もしくは、溶媒留去の前に、後述する分液操作を実施してもよい。 For a reaction mixture in which an organic solvent incompatible with water is a reaction solvent, the solvent can be distilled off under reduced pressure as it is to obtain a compound represented by the general formula (5). Or you may implement the liquid separation operation mentioned later before solvent distillation.
水と相溶する有機溶媒が反応溶媒である反応混合物に関しては、そのまま減圧下で溶媒を留去して、一般式(5)で表される化合物を得ることができる。溶媒留去の後に、水と分離する有機溶媒と水を加えて、後述する分液操作を実施してもよい。 Regarding the reaction mixture in which the organic solvent compatible with water is the reaction solvent, the solvent can be distilled off under reduced pressure as it is to obtain the compound represented by the general formula (5). After distilling off the solvent, an organic solvent that separates from water and water may be added and a liquid separation operation described later may be performed.
一般式(5)で表される化合物を含む有機層を、水、酸性水溶液、アルカリ水溶液、或いは食塩水で洗浄することができる。洗浄回数、洗浄順序等は、該化合物が分解しないかぎりにおいて、特に限定されることはない。 The organic layer containing the compound represented by the general formula (5) can be washed with water, an acidic aqueous solution, an alkaline aqueous solution, or a saline solution. The number of washings, washing order, etc. are not particularly limited as long as the compound is not decomposed.
洗浄に使用する酸性水溶液、アルカリ水溶液は、一般式(5)で表される化合物が分解しない限りにおいて特に制限されることはない。通常、塩酸水溶液、硫酸水溶液等の酸性水溶液や、炭酸水素ナトリウム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液、水酸化ナトリウム水溶液、炭酸水素カリウム水溶液、炭酸カリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液等のアルカリ水溶液が例示される。 The acidic aqueous solution and alkaline aqueous solution used for washing are not particularly limited as long as the compound represented by the general formula (5) is not decomposed. Usually, acidic aqueous solutions, such as hydrochloric acid aqueous solution and sulfuric acid aqueous solution, and alkaline aqueous solutions, such as sodium hydrogen carbonate aqueous solution, sodium carbonate aqueous solution, sodium hydroxide aqueous solution, potassium hydrogen carbonate aqueous solution, potassium carbonate aqueous solution, potassium hydroxide aqueous solution, are illustrated.
一般式(5)で表される化合物を含む有機層を、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等で脱水を行うことが可能である。 The organic layer containing the compound represented by the general formula (5) can be dehydrated with sodium sulfate, magnesium sulfate or the like.
一般式(5)で表される化合物を含む有機層を、そのまま次工程の加水分解工程に使用することができる。また、減圧下で溶媒留去した後に該化合物を加水分解することも可能である。 The organic layer containing the compound represented by the general formula (5) can be used as it is in the subsequent hydrolysis step. It is also possible to hydrolyze the compound after distilling off the solvent under reduced pressure.
一般式(5)で表される化合物の純度を挙げるために、蒸留、再結晶、再沈殿、溶媒洗浄等を実施することができる。
再結晶、再沈殿、溶媒洗浄を行う際に使用する溶媒は、一般式(5)で表される化合物が分解されない限りにおいて特に制限されることはない。
In order to increase the purity of the compound represented by the general formula (5), distillation, recrystallization, reprecipitation, solvent washing and the like can be performed.
The solvent used for recrystallization, reprecipitation, and solvent washing is not particularly limited as long as the compound represented by the general formula (5) is not decomposed.
再結晶、再沈殿、溶媒洗浄に使用する溶媒の具体例として、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、アニソール等の芳香族系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶媒、ヘプタン、ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、および水等が挙げられる。これらの溶媒は単独、或いは2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 Specific examples of solvents used for recrystallization, reprecipitation, and solvent washing include halogen solvents such as dichloromethane, chloroform, and 1,2-dichloroethane, aromatic solvents such as benzene, toluene, xylene, and anisole, diethyl ether, and diisopropyl. Ether solvents such as ether, 1,2-dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane, alcohol solvents such as methanol, ethanol and isopropyl alcohol, hydrocarbon solvents such as heptane, hexane and cyclohexane, ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate Ester solvents such as acetonitrile, nitrile solvents such as acetonitrile and propionitrile, ketone solvents such as methyl isobutyl ketone, and water. These solvents can be used alone or in admixture of two or more at any ratio.
溶媒の使用量は、目的とする収量、純度に合わせて設定すればよく、特に限定されることはない。通常、一般式(5)で表される化合物の重量に対して1倍以上40倍以下の重量が好ましい。 The amount of the solvent used may be set according to the target yield and purity, and is not particularly limited. Usually, the weight is 1 to 40 times the weight of the compound represented by the general formula (5).
本アルキル化反応は、R1が水素である化合物群と、アルキル化剤がジアルキル硫酸及び炭酸ジアルキルであるものに好ましく適応することができる。さらに好ましくは、Rfがトリフルオロメチル基及びジフルオロメチル基、R1が水素である化合物群と、アルキル化剤がジメチル硫酸、ジエチル硫酸、炭酸ジメチル、炭酸ジエチルであるものに好ましく適応することができる。
一般式(6)で表される含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体を製造する方法は、一般式(5)で表される化合物と水を反応させる加水分解反応を含むものである。本反応は、製造工程の他に、必要に応じて、後処理工程、精製工程をさらに含むことができる。
以下、一般式(6)で表される化合物を説明する。
This alkylation reaction can be preferably applied to a group of compounds in which R1 is hydrogen and those in which the alkylating agent is a dialkylsulfuric acid and a dialkyl carbonate. More preferably, it can be preferably applied to a group of compounds in which Rf is a trifluoromethyl group and a difluoromethyl group, R1 is hydrogen, and those in which the alkylating agent is dimethyl sulfate, diethyl sulfate, dimethyl carbonate, or diethyl carbonate.
The method for producing the fluorine-containing pyrazole carboxylic acid derivative represented by the general formula (6) includes a hydrolysis reaction in which the compound represented by the general formula (5) is reacted with water. This reaction can further include a post-treatment step and a purification step, if necessary, in addition to the production step.
Hereinafter, the compound represented by the general formula (6) will be described.
一般式(6)中のRfは、一般式(1)中のRfと同義である。
一般式(6)中のR1は、一般式(2)中のR1と同義である。
一般式(6)中のR4は、一般式(5)中のR4と同義である。
以下、本加水分解反応について説明する。
Rf in the general formula (6) has the same meaning as Rf in the general formula (1).
R1 in the general formula (6) has the same meaning as R1 in the general formula (2).
R4 in the general formula (6) has the same meaning as R4 in the general formula (5).
Hereinafter, this hydrolysis reaction will be described.
加水分解反応を進行させるためには、酸もしくは塩基を用いることが好ましい。
先ず、酸性条件下で、一般式(5)で表される化合物と水を反応させて、一般式(6)で表される化合物に変換する加水分解反応について記載する。
In order to advance the hydrolysis reaction, it is preferable to use an acid or a base.
First, a hydrolysis reaction in which a compound represented by the general formula (5) is reacted with water under acidic conditions to convert it into a compound represented by the general formula (6) will be described.
水の使用量は、一般式(5)で表される化合物に対して2当量以上あれば、特に限定されることはない。また、水は溶媒としても利用することできる。溶媒としての使用量は、前記の当量数を満たしていれば特に限定されることはない。通常、その上限は一般式(5)で表される化合物に対して40倍以下の重量とすることができる。 If the usage-amount of water is 2 equivalent or more with respect to the compound represented by General formula (5), it will not specifically limit. Water can also be used as a solvent. The amount used as a solvent is not particularly limited as long as the number of equivalents is satisfied. Usually, the upper limit can be 40 times or less with respect to the compound represented by General formula (5).
使用する酸は、反応が進行する限りにおいて特に限定されるものではなく、有機酸、無機酸である。
有機酸の具体例として、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等のスルホン酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等のカルボン酸等が挙げられる。
無機酸の具体例として、塩酸、臭化水素酸、硫酸等が挙げられる。
The acid to be used is not particularly limited as long as the reaction proceeds, and is an organic acid or an inorganic acid.
Specific examples of the organic acid include sulfonic acids such as methanesulfonic acid and toluenesulfonic acid, and carboxylic acids such as trichloroacetic acid and trifluoroacetic acid.
Specific examples of the inorganic acid include hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid and the like.
酸の使用量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。通常、一般式(5)で表される化合物に対して0.1当量以上であればよい。 The amount of acid used is not particularly limited as long as the target reaction proceeds. Usually, it should just be 0.1 equivalent or more with respect to the compound represented by General formula (5).
本発明においては溶媒を使用することができる。使用する溶媒は、酢酸等のカルボン酸系溶媒、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、および水等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で使用することもできるが、2種類以上を任意の割合で混合することも可能である。 In the present invention, a solvent can be used. Examples of the solvent to be used include carboxylic acid solvents such as acetic acid, alcohol solvents such as methanol, ethanol, propanol, isopropyl alcohol and butanol, ether solvents such as tetrahydrofuran and dioxane, and water. These solvents can be used alone, but two or more kinds can be mixed at an arbitrary ratio.
溶媒の使用量は特に限定されることはないが、通常、一般式(5)で表される化合物の重量に対して、3倍以上40倍以下の重量が好ましい。 Although the usage-amount of a solvent is not specifically limited, The weight of 3 times or more and 40 times or less is preferable normally with respect to the weight of the compound represented by General formula (5).
反応温度に関しては、目的とする反応が進行すれば特に制限を設けるものではないが、通常、0℃以上150℃以下、もしくは溶媒の沸点以下とすることができる。 The reaction temperature is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but it can usually be 0 ° C. or higher and 150 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
酸性条件下で得られる一般式(6)で表される化合物を含む反応混合物の後処理方法に関しては、目的物である一般式(6)で表される化合物が分解されない限りにおいて、特に制限を設けるものではない。以下、後処理方法の具体例を述べる。 Regarding the post-treatment method of the reaction mixture containing the compound represented by the general formula (6) obtained under acidic conditions, there is a particular limitation as long as the compound represented by the general formula (6) as the target product is not decomposed. Not provided. Hereinafter, a specific example of the post-processing method will be described.
反応混合物、もしくは溶媒留去した反応混合物から一般式(6)で表される化合物が析出した場合は、析出物を濾取すればよい。 When the compound represented by the general formula (6) is precipitated from the reaction mixture or the reaction mixture obtained by distilling off the solvent, the precipitate may be collected by filtration.
反応混合物や溶媒留去した反応混合物については、分液を実施することができる。その際、必要であるならば水や有機溶媒を追加することができる。分液に使用する水は、塩化ナトリウムのような塩を含んでいてもよい。また、分液回数は特に限定されることはない。 Separation can be performed on the reaction mixture or the reaction mixture obtained by distilling off the solvent. At that time, if necessary, water or an organic solvent can be added. The water used for liquid separation may contain a salt such as sodium chloride. Further, the number of times of liquid separation is not particularly limited.
分液に使用する有機溶媒は、一般式(6)で表される化合物が分解されない限りにおいて、特に制限されることはない。 The organic solvent used for liquid separation is not particularly limited as long as the compound represented by the general formula (6) is not decomposed.
有機溶媒の具体例として、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、アニソール等の芳香族系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル系溶媒、ヘプタン、ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、および酢酸ブチル等のエステル系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は単独、或いは2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 Specific examples of organic solvents include halogen solvents such as dichloromethane, chloroform and 1,2-dichloroethane, aromatic solvents such as benzene, toluene, xylene and anisole, ether solvents such as diethyl ether and diisopropyl ether, heptane and hexane. And hydrocarbon solvents such as cyclohexane, and ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, and butyl acetate. These solvents can be used alone or in admixture of two or more at any ratio.
有機溶媒の使用量は特に限定されることはないが、通常、一般式(6)で表される化合物の重量に対して1倍以上40倍以下の重量が好ましい
分液して得られる一般式(6)で表される化合物を含む有機層を、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等で脱水を行うことが可能である。
The amount of the organic solvent used is not particularly limited, but usually a weight of 1 to 40 times the weight of the compound represented by the general formula (6) is preferable. The organic layer containing the compound represented by (6) can be dehydrated with sodium sulfate, magnesium sulfate or the like.
分液して得られる一般式(6)で表される化合物を含む有機層、もしくは硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等で脱水後の有機層を、減圧下で溶媒留去することによって該化合物を得ることができる。また、要求される純度に応じて、得られた該化合物を、再結晶、再沈殿、溶媒洗浄、蒸留等にて精製することが可能である。 The organic layer containing the compound represented by the general formula (6) obtained by liquid separation or the organic layer after dehydration with sodium sulfate, magnesium sulfate, or the like is obtained by distilling off the solvent under reduced pressure. Can do. Depending on the required purity, the obtained compound can be purified by recrystallization, reprecipitation, solvent washing, distillation or the like.
再結晶、再沈殿、溶媒洗浄を行う際に使用する溶媒は、一般式(6)で表される化合物が分解されない限りにおいて特に制限されることはない。
再結晶、再沈殿、溶媒洗浄に使用する溶媒の具体例として、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、アニソール等の芳香族系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶媒、ヘプタン、ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、および水等が挙げられる。これらの溶媒は単独、或いは2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
The solvent used when performing recrystallization, reprecipitation, and solvent washing is not particularly limited as long as the compound represented by the general formula (6) is not decomposed.
Specific examples of solvents used for recrystallization, reprecipitation, and solvent washing include halogen solvents such as dichloromethane, chloroform, and 1,2-dichloroethane, aromatic solvents such as benzene, toluene, xylene, and anisole, diethyl ether, and diisopropyl. Ether solvents such as ether, 1,2-dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane, alcohol solvents such as methanol, ethanol and isopropyl alcohol, hydrocarbon solvents such as heptane, hexane and cyclohexane, ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate And ester solvents such as acetonitrile, nitrile solvents such as acetonitrile and propionitrile, and water. These solvents can be used alone or in admixture of two or more at any ratio.
溶媒の使用量は、目的とする収量、純度に合わせて設定すればよく、特に制限されることはない。通常、一般式(6)で表される化合物の重量に対して1倍以上40倍以下の重量が好ましい。
次に、塩基性条件下で、一般式(5)で表される化合物と水とを反応させて、一般式(6)で表される化合物に変換する加水分解反応について記載する。
The amount of the solvent used may be set according to the target yield and purity, and is not particularly limited. Usually, the weight is 1 to 40 times the weight of the compound represented by the general formula (6).
Next, the hydrolysis reaction in which the compound represented by the general formula (5) is reacted with water under basic conditions to convert it into the compound represented by the general formula (6) will be described.
水の使用量は、一般式(5)で表される化合物に対して2当量以上あれば、特に限定されることはない。この際、水は溶媒としても利用することができる。溶媒としての使用量は、前記の当量数を満たしていれば特に限定されることはない。通常、その上限は一般式(5)で表される化合物に対して40倍以下の重量である。 If the usage-amount of water is 2 equivalent or more with respect to the compound represented by General formula (5), it will not specifically limit. At this time, water can also be used as a solvent. The amount used as a solvent is not particularly limited as long as the number of equivalents is satisfied. Usually, the upper limit is 40 times or less the weight of the compound represented by the general formula (5).
使用する塩基は、反応が進行する限りにおいて特に制限を設けるものではなく、有機塩基、無機塩基である。 The base to be used is not particularly limited as long as the reaction proceeds, and is an organic base or an inorganic base.
有機塩基の具体例として、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等の金属アルコキシド、ジイソプロピルアミン等の2級アミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリオクチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の3級アミン、ピリジン、コリジン、ルチジン、および4−ジメチルアミノピリジン等の芳香族アミン等が挙げられる。 Specific examples of the organic base include metal alkoxides such as sodium methoxide and sodium ethoxide, secondary amines such as diisopropylamine, triethylamine, tributylamine, trioctylamine, diisopropylethylamine, 1,4-diazabicyclo [2.2.2. ], Tertiary amines such as octane and 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene, and aromatic amines such as pyridine, collidine, lutidine, and 4-dimethylaminopyridine.
無機塩基の具体例として、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等が挙げられる。 Specific examples of the inorganic base include lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate and the like.
これらの塩基は、単独で使用することもできるし、2種類以上を任意の割合で混合することも可能である。 These bases can be used alone, or two or more kinds can be mixed at an arbitrary ratio.
塩基の使用量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。通常、一般式(5)で表される化合物に対して0.1当量以上20当量以下とすることができる。 The amount of the base used is not particularly limited as long as the target reaction proceeds. Usually, it is 0.1 equivalent or more and 20 equivalent or less with respect to the compound represented by General formula (5).
反応には溶媒を使用することができる。使用する溶媒は、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、および水等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で使用することもできるが、2種類以上を任意の割合で混合することも可能である。 A solvent can be used for the reaction. Examples of the solvent to be used include alcohol solvents such as methanol, ethanol, propanol, isopropyl alcohol and butanol, ether solvents such as tetrahydrofuran and dioxane, and water. These solvents can be used alone, but two or more kinds can be mixed at an arbitrary ratio.
溶媒の使用量は、特に限定されることはない。通常、一般式(5)で表される化合物の重量に対して、3倍以上40倍以下の重量が好ましい。 The amount of solvent used is not particularly limited. Usually, a weight of 3 to 40 times the weight of the compound represented by the general formula (5) is preferable.
反応温度に関しては、目的とする反応が進行すれば特に制限を設けるものではないが、通常、0℃以上150℃以下、もしくは溶媒の沸点以下とすることができる。 The reaction temperature is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but it can usually be 0 ° C. or higher and 150 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
塩基性条件下で得られる一般式(6)で表される化合物を含む反応混合物を後処理する方法は、目的物である一般式(6)で表される化合物が分解されない限りにおいて、特に制限されることがない。以下、後処理方法の具体例を述べる。 The method of post-treating the reaction mixture containing the compound represented by the general formula (6) obtained under basic conditions is not particularly limited as long as the compound represented by the general formula (6) as the target product is not decomposed. It will not be done. Hereinafter, a specific example of the post-processing method will be described.
塩基性条件下、一般式(5)で表される化合物と水とを反応させることによって得られる一般式(6)で表される化合物は、反応混合物中では塩の状態で存在する。その塩が反応混合物中で析出する場合は析出物を濾取すればよい。一方、塩が析出しない場合は、水と分離可能な有機溶媒を加えて分液することにより、不純物を除去することが可能である。分液操作の前には、減圧下で溶媒を留去することや、水もしくは有機溶媒を追加することができる。 The compound represented by the general formula (6) obtained by reacting the compound represented by the general formula (5) with water under basic conditions exists in a salt state in the reaction mixture. When the salt precipitates in the reaction mixture, the precipitate may be collected by filtration. On the other hand, when the salt does not precipitate, it is possible to remove impurities by adding an organic solvent separable from water and separating the solution. Prior to the liquid separation operation, the solvent can be distilled off under reduced pressure, or water or an organic solvent can be added.
濾取して得られた塩、分液精製した反応混合物に含まれる塩、或いは未処理の反応混合物中に含まれる塩に対して、酸を加えることにより、一般式(6)で表される化合物に変換することができる。 It is represented by the general formula (6) by adding an acid to the salt obtained by filtration, the salt contained in the separation-purified reaction mixture, or the salt contained in the untreated reaction mixture. Can be converted to compounds.
添加する酸は、メタンスルホン酸、スルホン酸等の有機酸や、塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無機酸等が挙げられる。 Examples of the acid to be added include organic acids such as methanesulfonic acid and sulfonic acid, and inorganic acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid, and sulfuric acid.
酸の使用量は、反応に使用した塩基と発生するアンモニアの総和したモル数に対して1当量あれば、特に制限されることはない。 The amount of the acid used is not particularly limited as long as it is 1 equivalent to the total number of moles of the base used in the reaction and the generated ammonia.
酸添加によって調製された一般式(6)で表される化合物の取り出し方法に関しては、反応混合物から該化合物が析出する場合は析出物を濾取すればよい。また、析出に関係なく、該化合物を有機溶媒で抽出することもできる。抽出した有機層を減圧下で溶媒留去することによって、該化合物が得られる。減圧留去の前には、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等で脱水を行うことが可能である。こうして得られた該化合物は、要求される純度に応じて、再結晶、再沈殿、溶媒洗浄、蒸留等の精製を行うことが可能である。 Regarding the method for taking out the compound represented by the general formula (6) prepared by acid addition, when the compound is precipitated from the reaction mixture, the precipitate may be collected by filtration. Moreover, this compound can also be extracted with an organic solvent irrespective of precipitation. The compound is obtained by distilling off the solvent of the extracted organic layer under reduced pressure. Before depressurizing distillation, dehydration can be performed with sodium sulfate, magnesium sulfate or the like. The compound thus obtained can be purified by recrystallization, reprecipitation, solvent washing, distillation or the like according to the required purity.
再結晶、再沈殿、溶媒洗浄を行う際に使用する溶媒は、一般式(6)で表される化合物が分解されない限りにおいて特に制限されることはない。 The solvent used when performing recrystallization, reprecipitation, and solvent washing is not particularly limited as long as the compound represented by the general formula (6) is not decomposed.
再結晶、再沈殿、溶媒洗浄に使用する溶媒の具体例として、水、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、アニソール等の芳香族系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶媒、ヘプタン、ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、およびアセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は単独、或いは2種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。 Specific examples of solvents used for recrystallization, reprecipitation, and solvent washing include water, halogenated solvents such as dichloromethane, chloroform, and 1,2-dichloroethane, aromatic solvents such as benzene, toluene, xylene, and anisole, and diethyl ether. , Ether solvents such as diisopropyl ether, 1,2-dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane, alcohol solvents such as methanol, ethanol and isopropyl alcohol, hydrocarbon solvents such as heptane, hexane and cyclohexane, ethyl acetate, isopropyl acetate, Examples thereof include ester solvents such as butyl acetate, and nitrile solvents such as acetonitrile and propionitrile. These solvents can be used alone or in admixture of two or more at any ratio.
溶媒の使用量は、目的とする収量、純度に合わせて設定すればよく、特に限定されることはない。通常、一般式(6)で表される化合物の重量に対して1倍以上40倍以下の重量が好ましい。 The amount of the solvent used may be set according to the target yield and purity, and is not particularly limited. Usually, the weight is 1 to 40 times the weight of the compound represented by the general formula (6).
本加水分解反応は、R1が水素を表す化合物群に好ましく適合できる。さらに好ましくは、Rfはトリフルオロメチル基またはジフルオロメチル基であり、R1は水素であり、R4は炭素数1〜6のアルキル基である化合物群に好ましく適合できる。 This hydrolysis reaction can be preferably adapted to a group of compounds in which R1 represents hydrogen. More preferably, Rf is a trifluoromethyl group or a difluoromethyl group, R1 is hydrogen, and R4 is preferably compatible with a group of compounds having 1 to 6 carbon atoms.
以上に示した方法によって、含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法、及び該含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体を利用した含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法を提供することが可能になった。
By the methods described above, it has become possible to provide a method for producing a fluorinated pyrazole carbonitrile derivative and a method for producing a fluorinated pyrazole carboxylic acid derivative using the fluorinated pyrazole carbonitrile derivative.
以下に実施例により、本発明を更に詳細に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。 The present invention will be illustrated in more detail by the following examples, but the present invention is not limited thereto.
以下、3−ジメチルアミノ−アクリロニトリルを化合物(I)、3−(ジメチルアミノ)−2−トリフルオロアセチルアクリロニトリルを化合物(II)、3−トリフルオロメチル−1H−ピラゾール−4−カルボニトリルを化合物(III)、1−メチル−3−トリフルオロメチル−1H−ピラゾール−4−カルボニトリルを化合物(IV)、1−メチル−3−(トリフルオロメチル)−1H−ピラゾール−4−カルボン酸を化合物(V)、高速液体クロマトグラフィーをHPLCと称する。
[実施例1]トリフルオロ酢酸とホスゲンによる化合物(II)の合成
Hereinafter, 3-dimethylamino-acrylonitrile is compound (I), 3- (dimethylamino) -2-trifluoroacetylacrylonitrile is compound (II), 3-trifluoromethyl-1H-pyrazole-4-carbonitrile is compound ( III), 1-methyl-3-trifluoromethyl-1H-pyrazole-4-carbonitrile as compound (IV), 1-methyl-3- (trifluoromethyl) -1H-pyrazole-4-carboxylic acid as compound ( V) High performance liquid chromatography is referred to as HPLC.
Example 1 Synthesis of Compound (II) with Trifluoroacetic Acid and Phosgene
窒素雰囲気下、95重量%の化合物(I) 4.65gとトリエチルアミン 9.30gを含むトルエン 80mlに氷冷下でトリフルオロ酢酸 5.24gを滴下した。次いで、ホスゲン 5.00gを含むトルエン 40mlを滴下した。滴下終了後、室温まで昇温し、2時間攪拌した。反応液に窒素を1時間通気した後に、HPLCによって反応収率を観測すると、化合物(II)は定量的に生成していた。次に、水 120mlを加えて分液した後に、有機層を飽和重曹水 120mlで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを除去した後に減圧下で溶媒留去を行い、残渣にイソプロピルエーテルを加えて攪拌した。析出物を濾取し、得られた淡褐色固体は化合物(II) 7.32g(収率83%)であった。
化合物(II)の物質データ
1H NMR(CDCl3) δ3.38 (1H, s), 3.58 (1H, s), 7.96 (1H, s).
13C NMR(CDCl3) δ39.45, 48.89, 75.08, 116.03, 116.69(q,J=290.4Hz), 159.61, 176.25(q,J=34.3Hz).
IR(cm−1) 1140, 1186, 1624, 2210.
融点 68.4−69.3℃
[実施例2]化合物(III)の合成
Under a nitrogen atmosphere, 5.24 g of trifluoroacetic acid was added dropwise to 80 ml of toluene containing 4.65 g of 95% by weight of Compound (I) and 9.30 g of triethylamine under ice cooling. Next, 40 ml of toluene containing 5.00 g of phosgene was added dropwise. After completion of dropping, the temperature was raised to room temperature and stirred for 2 hours. Nitrogen was bubbled through the reaction solution for 1 hour, and then the reaction yield was observed by HPLC. Compound (II) was quantitatively produced. Next, 120 ml of water was added for liquid separation, and the organic layer was washed with 120 ml of saturated aqueous sodium hydrogen carbonate and dried over sodium sulfate. After removing sodium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and isopropyl ether was added to the residue and stirred. The precipitate was collected by filtration, and the resulting light brown solid was 7.32 g (yield 83%) of compound (II).
Substance data of compound (II)
1 H NMR (CDCl 3 ) δ 3.38 (1H, s), 3.58 (1H, s), 7.96 (1H, s).
13 C NMR (CDCl 3 ) δ 39.45, 48.89, 75.08, 116.03, 116.69 (q, J = 290.4 Hz), 159.61, 176.25 (q, J = 34. 3 Hz).
IR (cm <-1 >) 1140, 1186, 1624, 2210.
Melting point 68.4-69.3 ° C
[Example 2] Synthesis of compound (III)
氷冷下、98重量%ヒドラジン1水和物 1.60gを含むエタノール 20mlに対して、実施例1と同様の操作で得られた化合物(II) 5.0gを含むエタノール60mlを滴下した。室温で5時間撹拌した後に、減圧下で濃縮を行なった。残渣に酢酸エチルと水を加えて分液し、分離した有機層に硫酸マグネシウムを加えた。乾燥剤を濾別し、減圧下で濃縮を行なった。残渣にヘキサンとジイソプロピルエーテルを加えて撹拌し、析出物を濾取した。得られた淡黄色の固体は、表題の化合物(III) 3.59gであった。
化合物(III)の物質データ
1H NMR(DMSO−d6) δ8.90 (1H,s).
13C NMR(CDCl3) δ89.13, 111.50, 120.31 (q, J=269.6Hz), 138.40, 142.2 (q, J=38.0Hz).
[実施例3]化合物(IV)の合成 その1
Under ice cooling, 60 ml of ethanol containing 5.0 g of the compound (II) obtained in the same manner as in Example 1 was added dropwise to 20 ml of ethanol containing 1.60 g of 98% by weight hydrazine monohydrate. After stirring at room temperature for 5 hours, concentration was performed under reduced pressure. Ethyl acetate and water were added to the residue for liquid separation, and magnesium sulfate was added to the separated organic layer. The desiccant was filtered off and concentrated under reduced pressure. Hexane and diisopropyl ether were added to the residue and stirred, and the precipitate was collected by filtration. The pale yellow solid obtained was 3.59 g of the title compound (III).
Substance data of compound (III)
1 H NMR (DMSO-d 6 ) δ 8.90 (1H, s).
13 C NMR (CDCl 3 ) δ 89.13, 111.50, 120.31 (q, J = 269.6 Hz), 138.40, 142.2 (q, J = 38.0 Hz).
Example 3 Synthesis of Compound (IV) 1
化合物(III) 2.0gと炭酸カリウム 2.06gを含むDMF 20mlに、ジメチル硫酸 1.88gを滴下した後に、80℃で2時間撹拌した。室温まで冷却し、反応混合物をHPLCにて観測すると化合物(IV)が収率79%で生成していた。次いで、析出物を濾別し、濾液を減圧下で濃縮した後に、残渣に水と酢酸エチルを加えて分液した。分離した有機層をさらに水洗した後に、硫酸マグネシウムを加えて乾燥した。乾燥剤を除去し、減圧下で乾燥して表題の化合物(IV) 1.90gを純度85.9%の黄色油状物質として得た。収率 75%。
物質データ(IV)
1H NMR(CDCl3) δ4.03 (3H,s), 7.91 (1H,s).
[実施例4]化合物(V)の合成
1.88 g of dimethyl sulfate was added dropwise to 20 ml of DMF containing 2.0 g of compound (III) and 2.06 g of potassium carbonate, followed by stirring at 80 ° C. for 2 hours. After cooling to room temperature and observing the reaction mixture by HPLC, compound (IV) was produced in a yield of 79%. Then, the precipitate was separated by filtration, and the filtrate was concentrated under reduced pressure, and then water and ethyl acetate were added to the residue for liquid separation. The separated organic layer was further washed with water and then dried by adding magnesium sulfate. The desiccant was removed and dried under reduced pressure to give 1.90 g of the title compound (IV) as a yellow oil with a purity of 85.9%. Yield 75%.
Material data (IV)
1 H NMR (CDCl 3 ) δ 4.03 (3H, s), 7.91 (1H, s).
Example 4 Synthesis of Compound (V)
実施例3で得た化合物(IV) 1.87g(純度換算すると1.61g)を水酸化ナトリウム 2.36gを含む水 15mlに加えて、周囲温度100℃で3時間撹拌した。室温まで冷却した後に、濃塩酸で反応混合液を酸性にした。析出物を濾過し、表題の化合物(V) 1.73gを淡黄色固体として得た。収率 97%。
[実施例5]化合物(IV)の合成 その2
化合物(III) 0.5gと炭酸カリウム 0.51gを含む炭酸ジメチル 5mlを90℃で7.5時間反応した。室温まで冷却した後に、反応混合液をHPLCにて観測すると、化合物(IV)が収率76%で生成していた。
[実施例6]化合物(IV)の合成 その3
化合物(III) 0.5gと炭酸リチウム 0.27gを含むDMF 5mlを加えて80℃で30分間撹拌した。室温まで冷却した後に、ジメチル硫酸352μlを滴下して、80℃で3時間反応した。室温まで冷却した後に、反応混合物をHPLCにて観測すると、化合物(IV)が65%で生成していた。
[実施例7]化合物(IV)の合成 その4
炭酸リチウムを炭酸ナトリウムにして、実施例6と同様に反応を行なった。反応混合物をHPLCにて観測すると、化合物(IV)が83%で生成していた。
[実施例8]化合物(IV)の合成 その4
炭酸リチウムを炭酸セシウムにして、実施例6と同様に反応を行なった。反応混合物をHPLCにて観測すると、化合物(IV)が80%で生成していた。
1.87 g of compound (IV) obtained in Example 3 (1.61 g in terms of purity) was added to 15 ml of water containing 2.36 g of sodium hydroxide, and the mixture was stirred at an ambient temperature of 100 ° C. for 3 hours. After cooling to room temperature, the reaction mixture was acidified with concentrated hydrochloric acid. The precipitate was filtered to obtain 1.73 g of the title compound (V) as a pale yellow solid. Yield 97%.
[Example 5] Synthesis of Compound (IV) 2
5 ml of dimethyl carbonate containing 0.5 g of compound (III) and 0.51 g of potassium carbonate was reacted at 90 ° C. for 7.5 hours. After cooling to room temperature, the reaction mixture was observed by HPLC. Compound (IV) was produced in a yield of 76%.
Example 6 Synthesis of Compound (IV) 3
5 ml of DMF containing 0.5 g of compound (III) and 0.27 g of lithium carbonate was added and stirred at 80 ° C. for 30 minutes. After cooling to room temperature, 352 μl of dimethyl sulfuric acid was added dropwise and reacted at 80 ° C. for 3 hours. After cooling to room temperature, the reaction mixture was observed by HPLC. Compound (IV) was formed at 65%.
Example 7 Synthesis of Compound (IV) 4
The reaction was carried out in the same manner as in Example 6 except that lithium carbonate was changed to sodium carbonate. When the reaction mixture was observed by HPLC, compound (IV) was produced at 83%.
Example 8 Synthesis of Compound (IV) 4
The reaction was carried out in the same manner as in Example 6 except that lithium carbonate was changed to cesium carbonate. When the reaction mixture was observed by HPLC, compound (IV) was produced at 80%.
本発明によって、含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造、及び該含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体を利用した含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造が可能になった。本方法は、大量生産を実施する上で問題となる試剤を使用しない上、操作が簡便であるので、工業的製造方法としても適している。また、含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体から誘導することのできる含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体は、農園芸用殺菌剤等の重要な原料になりうる。以上より、医薬及び農薬分野において、本発明の有用性は非常に高く、産業上の利用可能性は高い。 According to the present invention, it has become possible to produce a fluorinated pyrazole carbonitrile derivative and a fluorinated pyrazole carboxylic acid derivative using the fluorinated pyrazole carbonitrile derivative. This method is suitable as an industrial production method because it does not use a reagent that causes problems in mass production and is easy to operate. In addition, a fluorinated pyrazole carboxylic acid derivative that can be derived from a fluorinated pyrazole carbonitrile derivative can be an important raw material for agricultural and horticultural fungicides. From the above, in the fields of medicine and agricultural chemicals, the usefulness of the present invention is very high and the industrial applicability is high.
Claims (15)
(式中、Rfは少なくとも1つのフッ素原子で置換されている炭素数1〜6のアルキル基を表し、Xはハロゲン原子、水酸基、またはカルボニルオキシ基を表す。)で表される化合物と、一般式(2)
(式中、R1は水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数3〜6のシクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、または置換されてもよいアリールアルキル基を表し、R2とR3はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数3〜6のシクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよいアリールアルキル基、もしくは炭素数1〜6の置換されてもよいアシル基、または、R2とR3とが結合する窒素原子とヘテロ原子0〜1個とを含む5〜6員環を形成するのに必要な原子群を表す。)で表される化合物を反応させて得られる、一般式(3)
(式中、Rf、R1、R2及びR3は前記と同義である。)で表される化合物とヒドラジンを反応させる工程を含む、一般式(4)
(式中、RfとR1は前記と同義である。)で表される含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法。 General formula (1)
Wherein Rf represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms substituted with at least one fluorine atom, and X represents a halogen atom, a hydroxyl group, or a carbonyloxy group; Formula (2)
(Wherein R1 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, an aryl group which may be substituted, or an arylalkyl group which may be substituted; Each R3 is independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, an aryl group that may be substituted, an arylalkyl group that may be substituted, or 1 carbon atom. -6 represents an optionally substituted acyl group, or an atomic group necessary to form a 5- to 6-membered ring containing 0 to 1 heteroatom and a nitrogen atom to which R2 and R3 are bonded. Obtained by reacting a compound represented by the general formula (3)
(Wherein Rf, R1, R2 and R3 have the same meanings as described above) and a step of reacting hydrazine with the compound represented by the general formula (4)
(Wherein Rf and R1 have the same meanings as described above), and a method for producing a fluorine-containing pyrazole carbonitrile derivative.
(式中、RfとR1は請求項1に記載のものと同義であり、R4は炭素数1〜6のアルキル基、炭素数3〜6のシクロアルキル基、置換されてもよいアリールアルキル基を表す。)で表されるアルキル置換含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法。 The method further comprises a step of reacting the compound represented by the general formula (4) obtained in claim 1 with an alkylating agent.
Wherein Rf and R1 are as defined in claim 1, and R4 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, or an arylalkyl group which may be substituted. The method for producing an alkyl-substituted fluorine-containing pyrazole carbonitrile derivative represented by:
(式中、Rf、R1及びR4は請求項4に記載のものと同義である。)で表される含フッ素ピラゾールカルボン酸誘導体の製造方法。 The method further comprises a step of reacting the compound represented by the general formula (5) obtained in claim 4 with water.
(Wherein, Rf, R1, and R4 have the same meanings as described in claim 4).
(式中、Rfは少なくとも1つのフッ素原子で置換されている炭素数1〜6のアルキル基を表し、R1は、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数3〜6のシクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、または置換されてもよいアリールアルキル基を表し、R2とR3はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数3〜6のシクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよいアリールアルキル基、もしくは炭素数1〜6の置換されてもよいアシル基、または、R2とR3とが結合する窒素原子とヘテロ原子0〜1個とを含む5〜6員環を形成するのに必要な原子群を表す。)で表される化合物とヒドラジンを反応させる工程を含む、一般式(4)
(式中、RfとR1は前記と同義である。)で表される含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法。 General formula (3)
(In the formula, Rf represents a C1-C6 alkyl group substituted with at least one fluorine atom, and R1 represents a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, or a C3-C6 cycloalkyl. Group, an aryl group which may be substituted, or an arylalkyl group which may be substituted, R2 and R3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a cyclohexane having 3 to 6 carbon atoms. An alkyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted arylalkyl group, an optionally substituted acyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a nitrogen atom and a hetero atom 0 to which R2 and R3 are bonded; Which represents a group of atoms necessary to form a 5- to 6-membered ring containing 1 to 5), and a step of reacting hydrazine with the compound represented by the general formula (4)
(Wherein Rf and R1 have the same meanings as described above), and a method for producing a fluorine-containing pyrazole carbonitrile derivative.
(式中、Rfは少なくとも1つのフッ素原子で置換されている炭素数1〜6のアルキル基を表し、R1は、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数3〜6のシクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、または置換されてもよいアリールアルキル基を表す。)で表される化合物とアルキル化剤を反応させる工程を含む、一般式(5)
(式中、RfとR1は前記と同義であり、R4は炭素数1〜6のアルキル基、炭素数3〜6のシクロアルキル基、置換されてもよいアリールアルキル基を表す。)で表されるアルキル置換含フッ素ピラゾールカルボニトリル誘導体の製造方法。 General formula (4)
(In the formula, Rf represents a C1-C6 alkyl group substituted with at least one fluorine atom, and R1 represents a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, or a C3-C6 cycloalkyl. Group, an aryl group that may be substituted, or an arylalkyl group that may be substituted) and a step of reacting a compound represented by general formula (5)
(Wherein Rf and R1 are as defined above, and R4 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, and an arylalkyl group which may be substituted). A process for producing an alkyl-substituted fluorine-containing pyrazole carbonitrile derivative.
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