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JP2009116218A - Antireflection film, method for forming antireflection film, and translucent member - Google Patents

Antireflection film, method for forming antireflection film, and translucent member Download PDF

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JP2009116218A
JP2009116218A JP2007291608A JP2007291608A JP2009116218A JP 2009116218 A JP2009116218 A JP 2009116218A JP 2007291608 A JP2007291608 A JP 2007291608A JP 2007291608 A JP2007291608 A JP 2007291608A JP 2009116218 A JP2009116218 A JP 2009116218A
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antireflection film
antireflection
forming
cover glass
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JP2007291608A
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Katsumi Suzuki
克己 鈴木
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

【課題】最表面の硬度が高く耐磨耗性に優れると共に、反射率が低い反射防止膜、及び透光部材、並びに反射防止膜の形成方法を提供する。
【解決手段】反射防止膜は、可視光が透過可能な部材の表面に形成された反射防止膜であって、反射防止膜の最表面を構成する膜が、Ｓｉ又はＦを添加したＡｌ2Ｏ3であるＳｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又はＦ−Ａｌ2Ｏ3膜である。反射防止膜の形成方法は、可視光が透過する部材の表面に反射防止膜を形成する反射防止膜の形成方法であって、反射防止膜の最表面を構成する膜として、Ｓｉ又はＦを添加したＡｌ2Ｏ3であるＳｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又はＦ−Ａｌ2Ｏ3膜を形成する最表面形成工程を有し、当該最表面形成工程において、Ｓｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又はＦ−Ａｌ2Ｏ3膜を、ＥＣＲプラズマ励起方式を用いたＥＣＲプラズマスパッタ装置によって形成する。
【選択図】図１The present invention provides an antireflection film, a translucent member, and a method for forming an antireflection film having a high hardness on the outermost surface and excellent wear resistance and a low reflectance.
An antireflection film is an antireflection film formed on a surface of a member that transmits visible light, and a film constituting the outermost surface of the antireflection film is Al 2 O to which Si or F is added. 3 is an Si—Al 2 O 3 film or an F—Al 2 O 3 film. The antireflection film is formed by forming an antireflection film on the surface of a member that transmits visible light, and Si or F is added as a film constituting the outermost surface of the antireflection film. have the Al 2 O 3 is a Si-Al 2 O 3 film or an F-Al 2 O 3 film outermost surface forming step of forming a in the outermost surface forming step, Si-Al 2 O 3 film or F- The Al 2 O 3 film is formed by an ECR plasma sputtering apparatus using an ECR plasma excitation method.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、可視光が透過可能な部材などに形成する反射防止膜、反射防止膜の形成方法、及び可視光が透過可能な透光部材に関する。   The present invention relates to an antireflection film formed on a member that can transmit visible light, a method for forming the antireflection film, and a translucent member that transmits visible light.

腕時計やＦＰＤ（Flat Panel Display：フラットパネルディスプレイ）などの装置において、表示部を保護するために、可視光が透過可能なカバーガラスが設けられている。カバーガラスは、それらを介して表示を視認するため、透過率が高いことが求められる。また、外光が反射されることによる映りこみが少ないことが望ましい。
カバーガラスの素材の屈折率が高いことに起因して反射率が高いことを改善するために、カバーガラスの表面に、屈折率の低い材料を用いて反射膜をコーティングすることが行われている。カバーガラスは表示部を保護するためのものであるため、反射膜の最表面は、硬度が高く耐磨耗性に優れることが必要である。特許文献１には、最表面に硬度が高く耐磨耗性に優れる素材としてＳｉＯ2を被覆した反射防止膜が開示されている。 In a device such as a wristwatch or an FPD (Flat Panel Display), a cover glass capable of transmitting visible light is provided to protect the display unit. The cover glass is required to have high transmittance in order to visually recognize the display through them. Further, it is desirable that there is little reflection due to reflection of external light.
In order to improve the high reflectance due to the high refractive index of the material of the cover glass, the surface of the cover glass is coated with a reflective film using a material having a low refractive index. . Since the cover glass is for protecting the display portion, the outermost surface of the reflective film needs to have high hardness and excellent wear resistance. Patent Document 1 discloses an antireflection film having an outermost surface coated with SiO 2 as a material having high hardness and excellent wear resistance.

特開２００４−２７１４８０号公報JP 2004-271480 A

しかしながら、ＳｉＯ2膜の硬度は８００Ｈｖから１０００Ｈｖ程度であり、耐磨耗性が必ずしも充分ではないという課題があった。例えば腕時計のカバーガラスに用いられるサファイヤガラスの硬度は１８００Ｈｖ程度であり、反射防止膜を形成することによって耐磨耗性を劣化させることを抑制するためには、サファイヤガラスに形成する反射防止膜の硬度は、１８００Ｈｖより高いことが好ましい。 However, the hardness of the SiO 2 film is about 800 Hv to 1000 Hv, and there is a problem that the wear resistance is not always sufficient. For example, the hardness of sapphire glass used for a cover glass of a wristwatch is about 1800 Hv. In order to suppress deterioration of wear resistance by forming an antireflection film, an antireflection film formed on sapphire glass is used. The hardness is preferably higher than 1800 Hv.

本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.

［適用例１］本適用例にかかる反射防止膜は、可視光が透過可能な部材の表面に形成された反射防止膜であって、前記反射防止膜の最表面を構成する膜が、Ｓｉ又はＦを添加したＡｌ2Ｏ3であるＳｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又はＦ−Ａｌ2Ｏ3膜であることを特徴とする。 [Application Example 1] The antireflection film according to this application example is an antireflection film formed on the surface of a member capable of transmitting visible light, and the film constituting the outermost surface of the antireflection film is Si or It is an Si—Al 2 O 3 film or an F—Al 2 O 3 film that is Al 2 O 3 to which F is added.

この反射防止膜によれば、最表面がＳｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又はＦ−Ａｌ2Ｏ3膜となる。本願の発明者は、Ｓｉ又はＦを添加することによってＡｌ2Ｏ3の屈折率を低下させることが可能であることを見出した。Ａｌ2Ｏ3膜は、硬度が高いため、耐磨耗性に優れることが知られている。反射防止膜の最表面をＳｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又はＦ−Ａｌ2Ｏ3膜とすることで、最表面の硬度が高いことから耐磨耗性に優れると共に、最表面層の屈折率が低いことから反射率が低い反射防止膜を形成することができる。 According to this antireflection film, the outermost surface is a Si—Al 2 O 3 film or an F—Al 2 O 3 film. The inventors of the present application have found that the refractive index of Al 2 O 3 can be lowered by adding Si or F. Since the Al 2 O 3 film has a high hardness, it is known to have excellent wear resistance. By making the outermost surface of the antireflection film into a Si—Al 2 O 3 film or an F—Al 2 O 3 film, the outermost surface has a high hardness, so that it has excellent wear resistance and the outermost layer has a refractive index. Since it is low, an antireflection film with low reflectance can be formed.

［適用例２］上記適用例にかかる反射防止膜は、前記Ｓｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又は前記Ｆ−Ａｌ2Ｏ3膜と、Ｉｎ2Ｏ3、Ｎｄ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＣｅＯ2、ＺｎＳ、Ｂｉ2Ｏ3、ＨｆＯ2、Ｔａ2Ｏ5、ＴｉＯ2、Ｓｉ3Ｎ4、ＺｒＯ2、ＡｌＮのいずれかからなる膜と、を備えることが好ましい。 Application Example 2 The antireflection film according to the application example described above includes the Si—Al 2 O 3 film or the F—Al 2 O 3 film, In 2 O 3 , Nd 2 O 3 , Sb 2 O 3 , and CeO. 2 , ZnS, Bi 2 O 3 , HfO 2 , Ta 2 O 5 , TiO 2 , Si 3 N 4 , ZrO 2 , and a film made of AlN.

この反射防止膜によれば、Ｉｎ2Ｏ3、Ｎｄ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＣｅＯ2、ＺｎＳ、Ｂｉ2Ｏ3、ＨｆＯ2、Ｔａ2Ｏ5、ＴｉＯ2、Ｓｉ3Ｎ4、ＺｒＯ2、ＡｌＮのいずれかからなる膜の上にＳｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又はＦ−Ａｌ2Ｏ3膜が形成された２層構造を有する。これにより、単層のＳｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又はＦ−Ａｌ2Ｏ3膜に比べて反射率をさらに低くすることができる。 According to this antireflection film, In 2 O 3 , Nd 2 O 3 , Sb 2 O 3 , CeO 2 , ZnS, Bi 2 O 3 , HfO 2 , Ta 2 O 5 , TiO 2 , Si 3 N 4 , ZrO 2. It has a two-layer structure in which a Si—Al 2 O 3 film or an F—Al 2 O 3 film is formed on a film made of either AlN. Thereby, a reflectance can be made still lower compared with a single layer Si—Al 2 O 3 film or F—Al 2 O 3 film.

［適用例３］上記適用例にかかる反射防止膜は、前記Ｓｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又は前記Ｆ−Ａｌ2Ｏ3膜と、Ａｌ2Ｏ3、ＬａＦ3、ＮｄＦ3、ＣｅＦ3、ＭｇＯ、ＴｈＯ2、ＳｎＯ2、Ｌａ2Ｏ3、ＳｉＯ、Ｉｎ2Ｏ3、Ｎｄ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＣｅＯ2、ＺｎＳ、Ｂｉ2Ｏ3、ＨｆＯ2、Ｔａ2Ｏ5、ＴｉＯ2、Ｓｉ3Ｎ4、ＺｒＯ2、ＡｌＮのいずれかからなる２層以上の膜と、を備えることが好ましい。 Application Example 3 The antireflection film according to the application example includes the Si—Al 2 O 3 film or the F—Al 2 O 3 film, Al 2 O 3 , LaF 3 , NdF 3 , CeF 3 , MgO, ThO 2, SnO 2, La 2 O 3, SiO, In 2 O 3, Nd 2 O 3, Sb 2 O 3, CeO 2, ZnS, Bi 2 O 3, HfO 2, Ta 2 O 5, TiO 2, Si It is preferable to include two or more layers of 3 N 4 , ZrO 2 , or AlN.

この反射防止膜によれば、Ａｌ2Ｏ3、ＬａＦ3、ＮｄＦ3、ＣｅＦ3、ＭｇＯ、ＴｈＯ2、ＳｎＯ2、Ｌａ2Ｏ3、ＳｉＯ、Ｉｎ2Ｏ3、Ｎｄ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＣｅＯ2、ＺｎＳ、Ｂｉ2Ｏ3、ＨｆＯ2、Ｔａ2Ｏ5、ＴｉＯ2、Ｓｉ3Ｎ4、ＺｒＯ2、ＡｌＮのいずれかからなる２層以上の膜の上にＳｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又はＦ−Ａｌ2Ｏ3膜が形成された３層以上の膜からなる構造を有する。これにより、単層のＳｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又はＦ−Ａｌ2Ｏ3膜に比べて反射率をさらに低くすることができる。 According to this antireflection film, Al 2 O 3 , LaF 3 , NdF 3 , CeF 3 , MgO, ThO 2 , SnO 2 , La 2 O 3 , SiO, In 2 O 3 , Nd 2 O 3 , Sb 2 O 3 , CeO 2 , ZnS, Bi 2 O 3 , HfO 2 , Ta 2 O 5 , TiO 2 , Si 3 N 4 , ZrO 2 , AlN on a film of two or more layers, Si—Al 2 O It has a structure composed of three or more layers in which three films or an F—Al 2 O 3 film is formed. Thereby, a reflectance can be made still lower compared with a single layer Si—Al 2 O 3 film or F—Al 2 O 3 film.

［適用例４］本適用例にかかる反射防止膜の形成方法は、可視光が透過する部材の表面に反射防止膜を形成する反射防止膜の形成方法であって、前記反射防止膜の最表面を構成する膜として、Ｓｉ又はＦを添加したＡｌ2Ｏ3であるＳｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又はＦ−Ａｌ2Ｏ3膜を形成する最表面形成工程を有することを特徴とする。 Application Example 4 A method for forming an antireflection film according to this application example is a method for forming an antireflection film on the surface of a member that transmits visible light, and is an outermost surface of the antireflection film. As a film constituting the film, there is provided an outermost surface forming step of forming a Si—Al 2 O 3 film or F—Al 2 O 3 film which is Al 2 O 3 to which Si or F is added.

この反射防止膜の形成方法によれば、形成される反射防止膜の最表面がＳｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又はＦ−Ａｌ2Ｏ3膜となる。本願の発明者は、Ｓｉ又はＦを添加することによってＡｌ2Ｏ3の屈折率を低下させることが可能であることを見出した。Ａｌ2Ｏ3膜は、硬度が高いため、耐磨耗性に優れることが知られている。反射防止膜の最表面をＳｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又はＦ−Ａｌ2Ｏ3膜とすることで、最表面の硬度が高いことから耐磨耗性に優れると共に、最表面層の屈折率が低いことから反射率が低い反射防止膜を形成することができる。 According to this method of forming an antireflection film, the outermost surface of the antireflection film to be formed becomes a Si—Al 2 O 3 film or an F—Al 2 O 3 film. The inventors of the present application have found that the refractive index of Al 2 O 3 can be lowered by adding Si or F. Since the Al 2 O 3 film has a high hardness, it is known to have excellent wear resistance. By making the outermost surface of the antireflection film into a Si—Al 2 O 3 film or an F—Al 2 O 3 film, the outermost surface has a high hardness, so that it has excellent wear resistance and the outermost layer has a refractive index. Since it is low, an antireflection film with low reflectance can be formed.

［適用例５］上記適用例にかかる反射防止膜の形成方法であって、前記最表面形成工程において、前記Ｓｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又は前記Ｆ−Ａｌ2Ｏ3膜を、ＥＣＲプラズマスパッタ装置によって形成することが好ましい。 Application Example 5 A method for forming an antireflection film according to the application example described above, wherein in the outermost surface formation step, the Si-Al 2 O 3 film or the F-Al 2 O 3 film is applied to an ECR plasma sputtering apparatus. It is preferable to form by.

この反射防止膜の形成方法によれば、ＥＣＲ（Electron Cyclotron Resonance：電子サイクロトロン共鳴）プラズマ励起方式を用いたプラズマスパッタ装置を用いて、最表面のＳｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又はＦ−Ａｌ2Ｏ3膜が形成される。ＥＣＲプラズマスパッタ装置を用いることで、他の方法で形成した膜に比べて密度の高い膜を形成することができる。ＥＣＲプラズマスパッタ装置を用いて最表面のＳｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又はＦ−Ａｌ2Ｏ3膜を形成することによって、他の方法で形成したＳｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又はＦ−Ａｌ2Ｏ3膜に比べて硬度が高いＳｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又はＦ−Ａｌ2Ｏ3膜を形成することができる。 According to this method of forming an antireflection film, a plasma sputtering apparatus using an ECR (Electron Cyclotron Resonance) plasma excitation method is used to form the outermost Si—Al 2 O 3 film or F—Al 2 O. Three films are formed. By using an ECR plasma sputtering apparatus, a film having a higher density than films formed by other methods can be formed. Using ECR plasma sputtering apparatus by forming a Si-Al 2 O 3 film or an F-Al 2 O 3 film of the outermost surface to form by other methods Si-Al 2 O 3 film or an F-Al 2 O An Si—Al 2 O 3 film or an F—Al 2 O 3 film having higher hardness than the three films can be formed.

［適用例６］上記適用例にかかる反射防止膜の形成方法であって、前記最表面形成工程において、Ｓｉを含むＡｌをターゲットとして、雰囲気中のＯと反応させることによって前記Ｓｉ−Ａｌ2Ｏ3膜を形成することが好ましい。 Application Example 6 In the method of forming the antireflection film according to the application example described above, the in the outermost surface forming step, the Al containing Si as the target, the Si-Al 2 O by reaction with O in the atmosphere It is preferable to form three films.

この反射防止膜の形成方法によれば、プラズマがターゲットに衝突することによって放出されたＳｉ及びＡｌのスパッタ粒子と雰囲気中のＯとが反応することによって、均一なＳｉ−Ａｌ2Ｏ3膜を形成することができる。 According to this method of forming an antireflection film, a uniform Si—Al 2 O 3 film is formed by reaction between sputtered particles of Si and Al released when plasma collides with a target and O in the atmosphere. Can be formed.

［適用例７］上記適用例にかかる反射防止膜の形成方法であって、前記最表面形成工程において、Ａｌ2Ｏ3をターゲットとして、雰囲気中のＦと反応させることによって前記Ｆ−Ａｌ2Ｏ3膜を形成することが好ましい。 Application Example 7 A method for forming an antireflection film according to the application example described above, wherein, in the outermost surface formation step, Al 2 O 3 is used as a target to react with F in the atmosphere to thereby form F-Al 2 O. It is preferable to form three films.

この反射防止膜の形成方法によれば、プラズマがターゲットに衝突することによって放出されたＡｌ2Ｏ3のスパッタ粒子と雰囲気中のＦとが反応することによって、均一なＦ−Ａｌ2Ｏ3膜を形成することができる。 According to this method of forming an antireflection film, the sputtered particles of Al 2 O 3 emitted by the plasma colliding with the target react with F in the atmosphere, so that a uniform F—Al 2 O 3 film is obtained. Can be formed.

［適用例８］本適用例にかかる透光部材は、可視光が透過可能な透光部材であって、最表面を構成する膜が、Ｓｉ又はＦを添加したＡｌ2Ｏ3であるＳｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又はＦ−Ａｌ2Ｏ3膜である反射防止膜を備えることを特徴とする。 Application Example 8 The light-transmitting member according to this application example is a light-transmitting member that can transmit visible light, and the film that forms the outermost surface is Si— in which Si or F is added to Al 2 O 3. An antireflection film which is an Al 2 O 3 film or an F—Al 2 O 3 film is provided.

この透光部材によれば、透光部材に形成された反射防止膜の最表面がＳｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又はＦ−Ａｌ2Ｏ3膜となる。本願の発明者は、Ｓｉ又はＦを添加することによってＡｌ2Ｏ3の屈折率を低下させることが可能であることを見出した。Ａｌ2Ｏ3膜は、硬度が高いため耐磨耗性に優れることが知られている。反射防止膜の最表面をＳｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又はＦ−Ａｌ2Ｏ3膜とすることで、最表面の硬度が高いことから耐磨耗性に優れると共に、最表面層の屈折率が低いことから反射率が低い反射防止膜を形成することができる。これにより、耐磨耗性に優れると共に、反射率が低い反射防止膜を有する透光部材を形成することができる。 According to this translucent member, the outermost surface of the antireflection film formed on the translucent member is a Si—Al 2 O 3 film or an F—Al 2 O 3 film. The inventors of the present application have found that the refractive index of Al 2 O 3 can be lowered by adding Si or F. An Al 2 O 3 film is known to have excellent wear resistance due to its high hardness. By making the outermost surface of the antireflection film into a Si—Al 2 O 3 film or an F—Al 2 O 3 film, the outermost surface has a high hardness, so that it has excellent wear resistance and the outermost layer has a refractive index. Since it is low, an antireflection film with low reflectance can be formed. Thereby, while being excellent in abrasion resistance, the translucent member which has an antireflection film with low reflectance can be formed.

［適用例９］上記適用例にかかる透光部材において、前記反射防止膜は、前記Ｓｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又は前記Ｆ−Ａｌ2Ｏ3膜と、Ｉｎ2Ｏ3、Ｎｄ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＣｅＯ2、ＺｎＳ、Ｂｉ2Ｏ3、ＨｆＯ2、Ｔａ2Ｏ5、ＴｉＯ2、Ｓｉ3Ｎ4、ＺｒＯ2、ＡｌＮのいずれかからなる膜と、を備えることが好ましい。 Application Example 9 In the light transmissive member according to the application example, the antireflection film includes the Si—Al 2 O 3 film or the F—Al 2 O 3 film, In 2 O 3 , Nd 2 O 3 , And a film made of any of Sb 2 O 3 , CeO 2 , ZnS, Bi 2 O 3 , HfO 2 , Ta 2 O 5 , TiO 2 , Si 3 N 4 , ZrO 2 , and AlN.

この透光部材によれば、透光部材が備える反射防止膜は、Ｉｎ2Ｏ3、Ｎｄ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＣｅＯ2、ＺｎＳ、Ｂｉ2Ｏ3、ＨｆＯ2、Ｔａ2Ｏ5、ＴｉＯ2、Ｓｉ3Ｎ4、ＺｒＯ2、ＡｌＮのいずれかからなる膜の上にＳｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又はＦ−Ａｌ2Ｏ3膜が形成された２層構造を有することで、単層のＳｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又はＦ−Ａｌ2Ｏ3膜に比べて反射率を低くすることができる。このため、反射率が低い反射防止膜を有することで反射率が低い透光部材を実現することができる。 According to this translucent member, the antireflection film included in the translucent member is In 2 O 3 , Nd 2 O 3 , Sb 2 O 3 , CeO 2 , ZnS, Bi 2 O 3 , HfO 2 , Ta 2 O 5. , TiO 2 , Si 3 N 4 , ZrO 2 , AlN on a film made of Si—Al 2 O 3 film or F—Al 2 O 3 film on a single layer, The reflectance can be lowered as compared with the Si—Al 2 O 3 film or the F—Al 2 O 3 film. For this reason, the translucent member with a low reflectance is realizable by having an antireflection film with a low reflectance.

［適用例１０］上記適用例にかかる透光部材において、前記反射防止膜は、前記Ｓｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又は前記Ｆ−Ａｌ2Ｏ3膜と、Ａｌ2Ｏ3、ＬａＦ3、ＮｄＦ3、ＣｅＦ3、ＭｇＯ、ＴｈＯ2、ＳｎＯ2、Ｌａ2Ｏ3、ＳｉＯ、Ｉｎ2Ｏ3、Ｎｄ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＣｅＯ2、ＺｎＳ、Ｂｉ2Ｏ3、ＨｆＯ2、Ｔａ2Ｏ5、ＴｉＯ2、Ｓｉ3Ｎ4、ＺｒＯ2、ＡｌＮのいずれかからなる２層以上の膜と、を備えることが好ましい。 Application Example 10 In the translucent member according to the application example, the antireflection film includes the Si—Al 2 O 3 film or the F—Al 2 O 3 film, Al 2 O 3 , LaF 3 , and NdF 3. , CeF 3 , MgO, ThO 2 , SnO 2 , La 2 O 3 , SiO, In 2 O 3 , Nd 2 O 3 , Sb 2 O 3 , CeO 2 , ZnS, Bi 2 O 3 , HfO 2 , Ta 2 O 5 , and a film having two or more layers made of any one of TiO 2 , Si 3 N 4 , ZrO 2 , and AlN.

この透光部材によれば、透光部材が備える反射防止膜は、Ａｌ2Ｏ3、ＬａＦ3、ＮｄＦ3、ＣｅＦ3、ＭｇＯ、ＴｈＯ2、ＳｎＯ2、Ｌａ2Ｏ3、ＳｉＯ、Ｉｎ2Ｏ3、Ｎｄ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＣｅＯ2、ＺｎＳ、Ｂｉ2Ｏ3、ＨｆＯ2、Ｔａ2Ｏ5、ＴｉＯ2、Ｓｉ3Ｎ4、ＺｒＯ2、ＡｌＮのいずれかからなる２層以上の膜の上にＳｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又はＦ−Ａｌ2Ｏ3膜が形成された３層以上の膜からなる構造を有することで、単層のＳｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又はＦ−Ａｌ2Ｏ3膜に比べて反射率を低くすることができる。このため、反射率が低い反射防止膜を有することで反射率が低い透光部材を実現することができる。 According to this translucent member, the antireflection film included in the translucent member is Al 2 O 3 , LaF 3 , NdF 3 , CeF 3 , MgO, ThO 2 , SnO 2 , La 2 O 3 , SiO, In 2 O. 3 , two or more layers of any of Nd 2 O 3 , Sb 2 O 3 , CeO 2 , ZnS, Bi 2 O 3 , HfO 2 , Ta 2 O 5 , TiO 2 , Si 3 N 4 , ZrO 2 , AlN A single-layer Si—Al 2 O 3 film or F— with a structure composed of three or more layers in which a Si—Al 2 O 3 film or an F—Al 2 O 3 film is formed on the above film. The reflectance can be lowered as compared with the Al 2 O 3 film. For this reason, the translucent member with a low reflectance is realizable by having an antireflection film with a low reflectance.

［適用例１１］本適用例にかかるフラットパネルディスプレイは、上記適用例にかかる透光部材が、表示部のカバーガラスとして用いられていることを特徴とする。   Application Example 11 A flat panel display according to this application example is characterized in that the translucent member according to the application example is used as a cover glass of a display unit.

このフラットパネルディスプレイによれば、上記適用例にかかる透光部材をカバーガラスとして用いることによって、耐磨耗性に優れると共に、反射率が低い表示部のカバーガラスを有するフラットパネルディスプレイを構成することができる。   According to this flat panel display, by using the translucent member according to the above application example as a cover glass, a flat panel display having a cover glass of a display unit having excellent wear resistance and low reflectivity is configured. Can do.

［適用例１２］本適用例にかかる眼鏡は、上記適用例にかかる透光部材が、眼鏡レンズとして用いられていることを特徴とする。   Application Example 12 The eyeglasses according to this application example are characterized in that the translucent member according to the application example is used as a spectacle lens.

この眼鏡によれば、上記適用例にかかる透光部材を眼鏡レンズとして用いることによって、耐磨耗性に優れると共に、反射率が低い眼鏡レンズを備えた眼鏡を構成することができる。   According to this spectacle, by using the translucent member according to the above application example as a spectacle lens, it is possible to configure spectacles including a spectacle lens having excellent wear resistance and low reflectance.

［適用例１３］本適用例にかかる時計は、上記適用例にかかる透光部材が、表示部のカバーガラスとして用いられていることを特徴とする。   Application Example 13 A timepiece according to this application example is characterized in that the translucent member according to the application example is used as a cover glass of a display unit.

この時計によれば、上記適用例にかかる透光部材を表示部のカバーガラスとして用いることによって、耐磨耗性に優れると共に、反射率が低い表示部のカバーガラスを備えた時計を構成することができる。   According to this timepiece, by using the translucent member according to the above application example as a cover glass for the display unit, it is possible to configure a timepiece having a display unit cover glass with excellent wear resistance and low reflectance. Can do.

［適用例１４］上記適用例にかかる時計は、サファイヤガラス上に前記反射防止膜が形成されていることが好ましい。   Application Example 14 In the timepiece according to the application example described above, it is preferable that the antireflection film is formed on sapphire glass.

この時計によれば、輝きが良く透明度の高いサファイヤガラスに、反射率が低い反射防止膜を形成することで、視認性に優れるカバーガラスを形成し、表示部の視認性に優れる時計を構成することができる。   According to this timepiece, by forming an antireflection film having a low reflectance on a sapphire glass having high brightness and high transparency, a cover glass having excellent visibility is formed, and a watch having excellent visibility of the display unit is formed. be able to.

以下、反射防止膜、反射防止膜の形成方法、及び透光部材の一実施形態について図面を参照して、説明する。本実施形態は、透光部材の一例である時計用のカバーガラスを例に説明する。   Hereinafter, an embodiment of an antireflection film, a method for forming the antireflection film, and a translucent member will be described with reference to the drawings. In this embodiment, a cover glass for a watch that is an example of a translucent member will be described as an example.

＜Ｓｉ−Ａｌ2Ｏ3２層反射防止膜＞
最初に、表層がＳｉ−Ａｌ2Ｏ3膜である２層構造の反射防止膜について、図１を参照して説明する。図１（ａ）は、Ｓｉ−Ａｌ2Ｏ3膜を有する２層構造の反射防止膜が形成されたカバーガラスの断面を示す模式図であり、図１（ｂ）は、Ｓｉ−Ａｌ2Ｏ3膜を有する２層構造の反射防止膜の特性を示す表である。 <Si-Al 2 O 3 bilayer antireflection film>
First, an antireflection film having a two-layer structure whose surface layer is a Si—Al 2 O 3 film will be described with reference to FIG. 1 (a) is a schematic view showing a two-layer cross-section of the cover glass on which the antireflection film is formed of a structure having a Si-Al 2 O 3 film, FIG. 1 (b), Si-Al 2 O It is a table | surface which shows the characteristic of the anti-reflective film of the 2 layer structure which has 3 films | membranes.

図１（ａ）に示すように、カバーガラス１は、サファイヤガラス１０の表面に、反射防止膜２０が形成されている。反射防止膜２０は、表層膜２１及び第２層膜２２の、２層の膜を有している。図１（ａ）に示した反射防止膜２０の第２層膜２２は、ＺｒＯ2からなり、厚さが約１２６．３ｎｍである。反射防止膜２０の表層膜２１は、Ｓｉ−Ａｌ2Ｏ3からなり、厚さが約８５．５ｎｍである。
表層膜２１及び第２層膜２２の膜厚は、当該膜の一方の面で反射した光ともう一方の面で反射した光とが１／２波長ずれるような厚さに設定することが好ましい。表層膜２１及び第２層膜２２の膜厚は、Ｓｉ−Ａｌ2Ｏ3又はＺｒＯ2の屈折率を考慮して、可視光の波長領域のほぼ中央の波長である６００ｎｍの光において、反射防止膜として好ましい厚さに設定してある。 As shown in FIG. 1A, the cover glass 1 has an antireflection film 20 formed on the surface of a sapphire glass 10. The antireflection film 20 has two layers of a surface layer film 21 and a second layer film 22. The second layer film 22 of the antireflection film 20 shown in FIG. 1A is made of ZrO 2 and has a thickness of about 126.3 nm. The surface film 21 of the antireflection film 20 is made of Si—Al 2 O 3 and has a thickness of about 85.5 nm.
The film thickness of the surface layer film 21 and the second layer film 22 is preferably set to such a thickness that the light reflected on one surface of the film and the light reflected on the other surface are shifted by a half wavelength. . The film thickness of the surface layer film 21 and the second layer film 22 is an antireflection for light having a wavelength of approximately 600 nm which is a wavelength in the middle of the visible light wavelength range in consideration of the refractive index of Si—Al 2 O 3 or ZrO 2. The thickness is set to be preferable for the film.

図１（ｂ）に示すように、表層膜２１としてＳｉ−Ａｌ2Ｏ3からなる膜を有する２層構造の反射防止膜２０を備えたカバーガラス１は、表層膜２１の屈折率が１．５２であり、硬度が１８００Ｈｖである。反射率は、１．２％であった。
表層膜としてＳｉＯ2の膜を有する２層構造の反射防止膜を備えたカバーガラスは、表層膜の屈折率が１．４６であり、硬度が８００Ｈｖである。反射率は、０．８％であった。８００Ｈｖの硬度は、カバーガラスとしては、必要な最低限度の硬度である。表層膜としてＡｌ2Ｏ3の膜を有する２層構造の反射防止膜を備えたカバーガラスは、表層膜の屈折率が１．６３であり、硬度が２４００Ｈｖである。反射率は、３．０％であった。３．０％の反射率は、カバーガラスの反射率としては、好ましくない反射率である。
カバーガラス１の表層膜２１の硬度１８００Ｈｖは、サファイヤガラスの硬度１８００Ｈｖと同等であり、直接触れられる可能性が高いことから、ＦＰＤなどより硬度が高いことが必要である腕時計用のカバーガラスとしても充分な硬度である。
カバーガラス１は、反射防止膜２０の表層膜２１の材料をＡｌ2Ｏ3にＳｉを添加したＳｉ−Ａｌ2Ｏ3にすることで、反射防止膜の表層膜の材料がＡｌ2Ｏ3である反射防止膜に比べて、反射率が半分以下に改善して、好適な反射率になっている。
反射率は、分光光度計を用いて、４００ｎｍから８００ｎｍの波長の光について、入射角５°における反射光の強度を測定し、視感感度補正をかけて求めた。 As shown in FIG. 1B, the cover glass 1 provided with the antireflection film 20 having a two-layer structure having a film made of Si—Al 2 O 3 as the surface film 21 has a refractive index of 1. 52 and the hardness is 1800 Hv. The reflectance was 1.2%.
The cover glass provided with the antireflection film having the two-layer structure having the SiO 2 film as the surface layer film has a refractive index of 1.46 and a hardness of 800 Hv. The reflectance was 0.8%. The hardness of 800 Hv is the minimum hardness necessary for the cover glass. The cover glass provided with the antireflection film having a two-layer structure having an Al 2 O 3 film as the surface layer film has a refractive index of the surface layer film of 1.63 and a hardness of 2400 Hv. The reflectance was 3.0%. The reflectance of 3.0% is an unfavorable reflectance as the reflectance of the cover glass.
The hardness 1800Hv of the surface film 21 of the cover glass 1 is equivalent to the hardness 1800Hv of sapphire glass, and since it is highly likely to be touched directly, it can be used as a cover glass for a wristwatch that requires a higher hardness than FPD or the like. The hardness is sufficient.
Cover glass 1, the material of the surface layer film 21 of the antireflection film 20 by the Si-Al 2 O 3 with the addition of Si to Al 2 O 3, the material of the surface layer film of the antireflection film in Al 2 O 3 Compared with a certain antireflection film, the reflectance is improved to half or less, and a suitable reflectance is obtained.
The reflectance was obtained by measuring the intensity of reflected light at an incident angle of 5 ° for light having a wavelength of 400 nm to 800 nm using a spectrophotometer and correcting the luminous sensitivity.

＜Ｆ−Ａｌ2Ｏ3２層反射防止膜＞
次に、表層がＦ−Ａｌ2Ｏ3膜である２層構造の反射防止膜について、図２を参照して説明する。図２（ａ）は、Ｆ−Ａｌ2Ｏ3膜を有する２層構造の反射防止膜が形成されたカバーガラスの断面を示す模式図であり、図２（ｂ）は、Ｆ−Ａｌ2Ｏ3膜を有する２層構造の反射防止膜の特性を示す表である。 <F-Al 2 O 3 two-layer antireflection film>
Next, an antireflection film having a two-layer structure whose surface layer is an F—Al 2 O 3 film will be described with reference to FIG. 2 (a) is a schematic diagram showing a F-Al 2 O 3 film two layers cross-section of the cover glass on which the antireflection film is formed of a structure having, FIG. 2 (b), F-Al 2 O It is a table | surface which shows the characteristic of the anti-reflective film of the 2 layer structure which has 3 films | membranes.

図２（ａ）に示すように、カバーガラス２は、サファイヤガラス１０の表面に、反射防止膜２５が形成されている。反射防止膜２５は、表層膜２６及び第２層膜２７の、２層の膜を有している。図２（ａ）に示した反射防止膜２５の第２層膜２７は、ＺｒＯ2からなり、厚さが約１２６．０ｎｍである。反射防止膜２５の表層膜２６は、Ｆ−Ａｌ2Ｏ3からなり、厚さが約８６．７ｎｍである。
表層膜２６及び第２層膜２７の膜厚は、当該膜の一方の面で反射した光ともう一方の面で反射した光とが１／２波長ずれるような厚さに設定することが好ましい。表層膜２６及び第２層膜２７の膜厚は、Ｆ−Ａｌ2Ｏ3又はＺｒＯ2の屈折率を考慮して、可視光の波長領域のほぼ中央の波長である６００ｎｍの光において、反射防止膜として好ましい厚さに設定してある。 As shown in FIG. 2A, the cover glass 2 has an antireflection film 25 formed on the surface of the sapphire glass 10. The antireflection film 25 has two layers of a surface layer film 26 and a second layer film 27. The second layer film 27 of the antireflection film 25 shown in FIG. 2A is made of ZrO 2 and has a thickness of about 126.0 nm. The surface film 26 of the antireflection film 25 is made of F-Al 2 O 3 and has a thickness of about 86.7 nm.
The film thickness of the surface layer film 26 and the second layer film 27 is preferably set to such a thickness that the light reflected on one surface of the film and the light reflected on the other surface are shifted by ½ wavelength. . The film thickness of the surface layer film 26 and the second layer film 27 is an antireflection for light of 600 nm, which is the wavelength at the center of the visible light wavelength range, considering the refractive index of F-Al 2 O 3 or ZrO 2. The thickness is set to be preferable for the film.

図２（ｂ）に示すように、表層膜２６としてＦ−Ａｌ2Ｏ3からなる膜を有する２層構造の反射防止膜２５を備えたカバーガラス２は、表層膜２６の屈折率が１．５０であり、硬度が１８００Ｈｖである。反射率は、１．０％であった。
表層膜としてＳｉＯ2の膜を有する２層構造の反射防止膜を備えたカバーガラス及び表層膜としてＡｌ2Ｏ3の膜を有する２層構造の反射防止膜を備えたカバーガラスは、図１を参照して説明したカバーガラスと同様の特性である。
カバーガラス２の表層膜２６の硬度１８００Ｈｖは、サファイヤガラスの硬度１８００Ｈｖと同等であり、直接触れられる可能性が高いことから、ＦＰＤなどより硬度が高いことが必要である腕時計用のカバーガラスとしても充分な硬度である。
カバーガラス２は、反射防止膜２５の表層膜２６の材料をＡｌ2Ｏ3にＦを添加したＦ−Ａｌ2Ｏ3にすることで、反射防止膜の表層膜の材料がＡｌ2Ｏ3である反射防止膜に比べて、反射率が大幅に改善して、好適な反射率になっている。
反射率は、分光光度計を用いて、４００ｎｍから８００ｎｍの波長の光について、入射角５°における反射光の強度を測定し、視感感度補正をかけて求めた。 As shown in FIG. 2B, the cover glass 2 provided with the antireflection film 25 having a two-layer structure having a film made of F-Al 2 O 3 as the surface film 26 has a refractive index of 1. 50 and the hardness is 1800 Hv. The reflectance was 1.0%.
A cover glass having a two-layer antireflection film having a SiO 2 film as a surface film and a cover glass having a two-layer antireflection film having an Al 2 O 3 film as a surface film are shown in FIG. It is the characteristic similar to the cover glass demonstrated with reference.
Hardness 1800Hv of the surface layer film 26 of the cover glass 2 is equivalent to the hardness 1800Hv of sapphire glass, and since it is highly likely to be directly touched, it can be used as a cover glass for a wristwatch that requires higher hardness than FPD or the like. The hardness is sufficient.
Cover glass 2, the material of the surface layer film 26 of the antireflection film 25 by the F-Al 2 O 3 with the addition of F to Al 2 O 3, the material of the surface layer film of the antireflection film in Al 2 O 3 Compared with a certain antireflection film, the reflectivity is greatly improved, and a suitable reflectivity is obtained.
The reflectance was obtained by measuring the intensity of reflected light at an incident angle of 5 ° for light having a wavelength of 400 nm to 800 nm using a spectrophotometer and correcting the luminous sensitivity.

＜Ｆ−Ａｌ2Ｏ3３層反射防止膜＞
次に、表層がＦ−Ａｌ2Ｏ3膜である３層構造の反射防止膜について、図３を参照して説明する。図３（ａ）は、Ｆ−Ａｌ2Ｏ3膜を有する３層構造の反射防止膜が形成されたカバーガラスの断面を示す模式図であり、図３（ｂ）は、Ｆ−Ａｌ2Ｏ3膜を有する３層構造の反射防止膜の特性を示す表である。 <F-Al 2 O 3 three-layer antireflection film>
Next, an antireflection film having a three-layer structure whose surface layer is an F—Al 2 O 3 film will be described with reference to FIG. 3 (a) is a schematic diagram showing a F-Al 2 O 3 film 3 layer cross-section of the cover glass on which the antireflection film is formed of a structure having, FIG. 3 (b), F-Al 2 O It is a table | surface which shows the characteristic of the anti-reflective film of the 3 layer structure which has 3 films | membranes.

図３（ａ）に示すように、カバーガラス３は、サファイヤガラス１０の表面に、反射防止膜３０が形成されている。反射防止膜３０は、表層膜３１、第２層膜３２、及び第３層膜３３の、３層の膜を有している。図３（ａ）に示した反射防止膜３０の第３層膜３３は、ＴｈＯ2からなり、厚さが約８５．５ｎｍである。第２層膜３２は、ＴｉＯ2からなり、厚さが約１１６．８ｎｍである。反射防止膜３０の表層膜３１は、Ｆ−Ａｌ2Ｏ3からなり、厚さが約８６．８ｎｍである。
表層膜３１、第２層膜３２、及び第３層膜３３の膜厚は、当該膜の一方の面で反射した光ともう一方の面で反射した光とが１／２波長ずれるような厚さに設定することが好ましい。表層膜３１、第２層膜３２、及び第３層膜３３の膜厚は、Ｆ−Ａｌ2Ｏ3、ＴｉＯ2又はＴｈＯ2の屈折率を考慮して、可視光の波長領域のほぼ中央の波長である６００ｎｍの光において、反射防止膜として好ましい厚さに設定してある。 As shown in FIG. 3A, the cover glass 3 has an antireflection film 30 formed on the surface of the sapphire glass 10. The antireflection film 30 has a three-layer film including a surface layer film 31, a second layer film 32, and a third layer film 33. The third layer film 33 of the antireflection film 30 shown in FIG. 3A is made of ThO 2 and has a thickness of about 85.5 nm. The second layer film 32 is made of TiO 2 and has a thickness of about 116.8 nm. The surface layer film 31 of the antireflection film 30 is made of F—Al 2 O 3 and has a thickness of about 86.8 nm.
The film thicknesses of the surface layer film 31, the second layer film 32, and the third layer film 33 are such that the light reflected on one surface of the film is shifted from the light reflected on the other surface by a half wavelength. It is preferable to set this. The film thicknesses of the surface layer film 31, the second layer film 32, and the third layer film 33 are approximately the center of the wavelength region of visible light in consideration of the refractive index of F-Al 2 O 3 , TiO 2, or ThO 2 . For light having a wavelength of 600 nm, the thickness is preferably set as an antireflection film.

図３（ｂ）に示すように、表層膜３１としてＦ−Ａｌ2Ｏ3の膜を有する３層構造の反射防止膜３０を備えたカバーガラス３は、表層膜３１の屈折率が１．５０であり、硬度が１８００Ｈｖである。反射率は、０．６％であった。表層膜としてＳｉＯ2の膜を有する３層構造の反射防止膜を備えたカバーガラスは、表層膜の屈折率が１．４６であり、硬度が８００Ｈｖである。反射率は、０．５％であった。８００Ｈｖの硬度は、カバーガラスとしては、必要な最低限度の硬度である。表層膜としてＡｌ2Ｏ3の膜を有する３層構造の反射防止膜を備えたカバーガラスは、表層膜の屈折率が１．６３であり、硬度が２４００Ｈｖである。反射率は、２．０％であった。２．０％の反射率は、カバーガラスの反射率としては、許容可能な最低限度の反射率である。
カバーガラス３の表層膜３１の硬度１８００Ｈｖは、サファイヤガラスの硬度１８００Ｈｖと同等であり、直接触れられる可能性が高いことから、ＦＰＤなどより硬度が高いことが必要である腕時計用のカバーガラスとしても充分な硬度である。
カバーガラス３は、反射防止膜３０の表層膜３１の材料をＡｌ2Ｏ3にＦを添加したＦ−Ａｌ2Ｏ3にすることで、反射防止膜の表層膜の材料がＡｌ2Ｏ3である反射防止膜に比べて、反射率が大幅に改善して、好適な反射率になっている。
反射率は、分光光度計を用いて、４００ｎｍから８００ｎｍの波長の光について、入射角５°における反射光の強度を測定し、視感感度補正をかけて求めた。 As shown in FIG. 3B, the cover glass 3 provided with the antireflection film 30 having the three-layer structure having the F—Al 2 O 3 film as the surface film 31 has a refractive index of the surface film 31 of 1.50. And the hardness is 1800 Hv. The reflectance was 0.6%. The cover glass provided with the antireflection film having the three-layer structure having the SiO 2 film as the surface layer film has a refractive index of 1.46 and a hardness of 800 Hv. The reflectance was 0.5%. The hardness of 800 Hv is the minimum hardness necessary for the cover glass. A cover glass having an antireflection film having a three-layer structure having an Al 2 O 3 film as a surface layer film has a refractive index of the surface layer film of 1.63 and a hardness of 2400 Hv. The reflectance was 2.0%. The reflectance of 2.0% is the minimum allowable reflectance for the cover glass.
Since the hardness 1800Hv of the surface film 31 of the cover glass 3 is equivalent to the hardness 1800Hv of the sapphire glass and is highly likely to be directly touched, it can be used as a cover glass for a wristwatch that requires a higher hardness than FPD or the like. The hardness is sufficient.
Cover glass 3, the material of the surface layer film 31 of the antireflection film 30 by the F-Al 2 O 3 with the addition of F to Al 2 O 3, the material of the surface layer film of the antireflection film in Al 2 O 3 Compared with a certain antireflection film, the reflectivity is greatly improved, and a suitable reflectivity is obtained.
The reflectance was obtained by measuring the intensity of reflected light at an incident angle of 5 ° for light having a wavelength of 400 nm to 800 nm using a spectrophotometer and correcting the luminous sensitivity.

＜Ｓｉ−Ａｌ2Ｏ3膜の形成＞
次に、Ｓｉ−Ａｌ2Ｏ3膜の形成方法について、図４及び図５を参照して説明する。ここでは、ＥＣＲ（Electron Cyclotron Resonance：電子サイクロトロン共鳴）プラズマ励起方式を用いたＥＣＲプラズマスパッタ装置を用いてＳｉ−Ａｌ2Ｏ3膜を形成する場合について説明する。 <Formation of Si-Al 2 O 3 Film>
Next, a method for forming the Si—Al 2 O 3 film will be described with reference to FIGS. Here, a case where an Si—Al 2 O 3 film is formed using an ECR plasma sputtering apparatus using an ECR (Electron Cyclotron Resonance) plasma excitation method will be described.

図４は、ＥＣＲプラズマスパッタ装置の構成を示す模式図である。図４に示すように、ＥＣＲプラズマスパッタ装置５０は、成膜する基材を載置する載置台５６が中に配設されたチャンバ５１を備えている。チャンバ５１の一端には、載置台５６に臨むようにＥＣＲプラズマ源５２が配設されている。ＥＣＲプラズマ源５２から載置台５６方向の空間に発生する電場に直交する磁場を形成できる位置に磁石５４が配設されている。磁石５４の載置台５６の側には、ターゲット台が設けてあり、ターゲット４０がセットされる。ターゲット４０には、ターゲット電源５５によって負のバイアス電圧が印加される。チャンバ５１には、チャンバ５１内に反応気体を導入するための気体導入路５７と、チャンバ５１内から反応済みの反応気体を排出するための排気路５８と、が結合されている。   FIG. 4 is a schematic diagram showing the configuration of the ECR plasma sputtering apparatus. As shown in FIG. 4, the ECR plasma sputtering apparatus 50 includes a chamber 51 in which a mounting table 56 for mounting a substrate on which a film is formed is disposed. An ECR plasma source 52 is disposed at one end of the chamber 51 so as to face the mounting table 56. A magnet 54 is disposed at a position where a magnetic field perpendicular to the electric field generated in the space in the direction of the mounting table 56 from the ECR plasma source 52 can be formed. A target base is provided on the mounting base 56 side of the magnet 54, and the target 40 is set. A negative bias voltage is applied to the target 40 by the target power supply 55. A gas introduction path 57 for introducing a reaction gas into the chamber 51 and an exhaust path 58 for discharging the reacted gas after reaction from the chamber 51 are coupled to the chamber 51.

Ｓｉ−Ａｌ2Ｏ3膜の形成は、図４に示すように、載置台５６に、サファイヤガラス１０、又は第２層膜２２などが形成されたサファイヤガラス１０をセットする。ターゲット４０としては、ＳｉとＡｌの混合物を用いる。気体導入路５７から、Ｏ2をチャンバ５１内に導入する。
ＥＣＲプラズマ源５２から発生されたマイクロ波と、磁石５４によって形成された磁場とによる電子サイクロトロン共鳴によって、ＥＣＲプラズマが発生する。ターゲット４０としてのＳｉ−Ａｌに印加されたバイアス電圧によって、プラズマがターゲット４０に衝突して、ＳｉやＡｌのスパッタ粒子が放出される。ＳｉやＡｌのスパッタ粒子は、チャンバ５１内に導入されているＯ2ガスと反応して、載置台５６にセットされたサファイヤガラス１０などの表面に到達して付着し、Ｓｉ−Ａｌ2Ｏ3膜が形成される。 As shown in FIG. 4, the Si—Al 2 O 3 film is formed by setting the sapphire glass 10 or the sapphire glass 10 on which the second layer film 22 or the like is formed on the mounting table 56. As the target 40, a mixture of Si and Al is used. O 2 is introduced into the chamber 51 from the gas introduction path 57.
ECR plasma is generated by electron cyclotron resonance caused by the microwave generated from the ECR plasma source 52 and the magnetic field formed by the magnet 54. Due to the bias voltage applied to Si-Al as the target 40, the plasma collides with the target 40, and sputtered particles of Si or Al are emitted. The sputtered particles of Si and Al react with the O 2 gas introduced into the chamber 51 to reach and adhere to the surface of the sapphire glass 10 set on the mounting table 56, and Si—Al 2 O 3 A film is formed.

図５は、形成されたＳｉ−Ａｌ2Ｏ3の膜の特性を示す表である。図５に示したように、ＥＣＲプラズマスパッタ装置５０を用いて形成したＳｉ−Ａｌ2Ｏ3膜は、屈折率が１．５３であり、硬度が２２００Ｈｖである。反応性蒸着を用いて形成したＳｉ−Ａｌ2Ｏ3膜は、屈折率が１．４６であり、硬度が１２００Ｈｖであり、ＥＣＲプラズマスパッタを用いることで、硬度の改善がみられる。
ＤＣリアクティブスパッタによるＳｉ−Ａｌ2Ｏ3膜は、屈折率が１．５２であり、硬度が１８００Ｈｖである。ＤＣリアクティブスパッタによっても、低屈折率で、高硬度のＳｉ−Ａｌ2Ｏ3膜が得られる。 FIG. 5 is a table showing the characteristics of the formed Si—Al 2 O 3 film. As shown in FIG. 5, the Si—Al 2 O 3 film formed using the ECR plasma sputtering apparatus 50 has a refractive index of 1.53 and a hardness of 2200 Hv. The Si—Al 2 O 3 film formed by reactive vapor deposition has a refractive index of 1.46 and a hardness of 1200 Hv, and an improvement in hardness can be seen by using ECR plasma sputtering.
The Si—Al 2 O 3 film formed by DC reactive sputtering has a refractive index of 1.52 and a hardness of 1800 Hv. Also by DC reactive sputtering, a Si—Al 2 O 3 film having a low refractive index and high hardness can be obtained.

Ｆ−Ａｌ2Ｏ3膜もＳｉ−Ａｌ2Ｏ3膜と同様に、ＥＣＲプラズマスパッタ装置を用いることで、より高硬度のＦ−Ａｌ2Ｏ3膜を形成することができる。Ｆ−Ａｌ2Ｏ3膜をＥＣＲプラズマスパッタ装置５０を用いて形成する場合には、ターゲットとしてＡｌを用い、チャンバ５１内に導入する反応ガスとしてＦ2、またはＣＦ4を用いる。 F-Al 2 O 3 film is also similar to the Si-Al 2 O 3 film, by using the ECR plasma sputtering apparatus, it is possible to form the F-Al 2 O 3 film having a higher hardness. When the F-Al 2 O 3 film is formed using the ECR plasma sputtering apparatus 50, Al is used as a target, and F 2 or CF 4 is used as a reaction gas introduced into the chamber 51.

以上、添付図面を参照して好適な実施形態について説明したが、好適な実施形態は、前記実施形態に限らない。要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論であり、以下のように実施することもできる。   As mentioned above, although preferred embodiment was described with reference to the accompanying drawing, suitable embodiment is not restricted to the said embodiment. It goes without saying that various changes can be made without departing from the scope of the invention, and the following can also be implemented.

（変形例１）前記実施形態においては、反射防止膜２０の第２層膜２２及び反射防止膜２５の第２層膜２７は、ＺｒＯ2からなる膜であったが、表層膜がＳｉ−Ａｌ2Ｏ3又はＦ−Ａｌ2Ｏ3からなる膜である２層構造の反射防止膜において、第２層膜がＺｒＯ2からなる膜であることは必須ではない。２層構造の反射防止膜においては、反射防止膜の反射率を低くするために、表層膜と第２層膜と基材とのそれぞれの屈折率が、この順番で「低」、「高」、「中」の関係になることが好ましい。第２層膜の材料としては、表層膜のＳｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又はＦ−Ａｌ2Ｏ3膜、及び基材に対して、この屈折率の関係を保てる屈折率であって、可視光に対して透明な膜を形成可能な材料であればよい。このような材料としては、例えば、Ｉｎ2Ｏ3、Ｎｄ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＣｅＯ2、ＺｎＳ、Ｂｉ2Ｏ3、ＨｆＯ2、Ｔａ2Ｏ5、ＴｉＯ2、Ｓｉ3Ｎ4、ＡｌＮなどが挙げられる。 (Modification 1) In the above embodiment, the second layer film 22 of the antireflection film 20 and the second layer film 27 of the antireflection film 25 are films made of ZrO 2 , but the surface layer film is Si—Al. In the antireflection film having a two-layer structure which is a film made of 2 O 3 or F—Al 2 O 3, it is not essential that the second layer film is a film made of ZrO 2 . In the antireflection film having a two-layer structure, in order to reduce the reflectance of the antireflection film, the refractive indexes of the surface layer film, the second layer film, and the base material are “low” and “high” in this order. , “Medium” is preferable. The material of the second layer film is a refractive index that can maintain the relationship of this refractive index with respect to the Si-Al 2 O 3 film or F-Al 2 O 3 film of the surface layer film and the base material, and visible light Any material that can form a transparent film can be used. Examples of such materials include In 2 O 3 , Nd 2 O 3 , Sb 2 O 3 , CeO 2 , ZnS, Bi 2 O 3 , HfO 2 , Ta 2 O 5 , TiO 2 , Si 3 N 4 , AlN etc. are mentioned.

（変形例２）前記実施形態においては、反射防止膜３０の第２層膜３２は、ＴｉＯ2からなる膜であり、第３層膜３３は、ＴｈＯ2からなる膜であったが、表層膜がＦ−Ａｌ2Ｏ3である３層構造の反射防止膜において、第２層膜がＴｉＯ2からなる膜であり、第３層膜がＴｈＯ2からなる膜であることは必須ではない。３層構造の反射防止膜においては、反射防止膜の反射率を低くするために、表層膜と第２層膜と第３層膜と基材とのそれぞれの屈折率が、この順番で「低」、「高」、「中」、「中」の関係になることが好ましい。第２層膜及び第３層膜の材料としては、表層膜のＦ−Ａｌ2Ｏ3膜及び基材の屈折率に対して、この屈折率の関係を保てる屈折率であって、可視光に対して透明な膜を形成可能な材料であればよい。このような材料としては、例えば、Ａｌ2Ｏ3、ＬａＦ3、ＮｄＦ3、ＣｅＦ3、ＭｇＯ、ＳｎＯ2、Ｌａ2Ｏ3、ＳｉＯ、Ｉｎ2Ｏ3、Ｎｄ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＣｅＯ2、ＺｎＳ、Ｂｉ2Ｏ3、ＨｆＯ2、Ｔａ2Ｏ5、Ｓｉ3Ｎ4、ＺｒＯ2、ＡｌＮなどが挙げられる。 (Modification 2) In the above embodiment, the second layer film 32 of the antireflection film 30 is a film made of TiO 2 , and the third layer film 33 is a film made of ThO 2. In the antireflection film having a three-layer structure in which F is Al 2 O 3 , it is not essential that the second layer film is a film made of TiO 2 and the third layer film is a film made of ThO 2 . In the antireflection film having a three-layer structure, the refractive indexes of the surface layer film, the second layer film, the third layer film, and the substrate are reduced in this order in order to reduce the reflectance of the antireflection film. ”,“ High ”,“ medium ”, and“ medium ”. The material of the second layer film and the third layer film is a refractive index that can maintain the relationship of this refractive index with respect to the refractive index of the F-Al 2 O 3 film of the surface layer film and the substrate, Any material that can form a transparent film may be used. Examples of such materials include Al 2 O 3 , LaF 3 , NdF 3 , CeF 3 , MgO, SnO 2 , La 2 O 3 , SiO, In 2 O 3 , Nd 2 O 3 , Sb 2 O 3 , CeO 2, ZnS, Bi 2 O 3, HfO 2, Ta 2 O 5, Si 3 N 4, ZrO 2, AlN or the like can be mentioned.

（変形例３）前記実施形態においては、３層構造の反射防止膜として、表層膜がＦ−Ａｌ2Ｏ3である反射防止膜３０について説明したが、３層構造の反射防止膜の表層膜はＦ−Ａｌ2Ｏ3に限らない。表層膜がＳｉ−Ａｌ2Ｏ3からなる３層構造の反射防止膜であってもよい。 (Modification 3) In the above embodiment, the antireflection film 30 whose surface layer film is F-Al 2 O 3 has been described as the antireflection film having a three-layer structure. Is not limited to F-Al 2 O 3 . The surface layer film may be an antireflection film having a three-layer structure made of Si—Al 2 O 3 .

（変形例４）前記実施形態においては、２層構造の反射防止膜２０及び反射防止膜２５、並びに３層構造の反射防止膜３０について説明したが、表層膜がＳｉ−Ａｌ2Ｏ3又はＦ−Ａｌ2Ｏ3からなる反射防止膜が２層構造又は３層構造であることは必須ではない。反射防止膜は、Ｓｉ−Ａｌ2Ｏ3又はＦ−Ａｌ2Ｏ3の単層膜であってもよい。また、４層以上の膜が積層した反射防止膜であってもよい。４層以上の膜が積層した反射防止膜の第２層膜以降の各膜を形成する好適な材料としては、例えば、Ａｌ2Ｏ3、ＬａＦ3、ＮｄＦ3、ＣｅＦ3、ＭｇＯ、ＴｈＯ2、ＳｎＯ2、Ｌａ2Ｏ3、ＳｉＯ、Ｉｎ2Ｏ3、Ｎｄ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＣｅＯ2、ＺｎＳ、Ｂｉ2Ｏ3、ＨｆＯ2、Ｔａ2Ｏ5、ＴｉＯ2、Ｓｉ3Ｎ4、ＺｒＯ2、ＡｌＮなどが挙げられる。 (Modification 4) In the above-described embodiment, the antireflection film 20 and the antireflection film 25 having the two-layer structure and the antireflection film 30 having the three-layer structure have been described. However, the surface layer film is Si—Al 2 O 3 or F. it is not essential antireflection film made -al 2 O 3 has a two-layer structure or a three-layer structure. The antireflection film may be a single-layer film of Si—Al 2 O 3 or F—Al 2 O 3 . Further, it may be an antireflection film in which four or more layers are laminated. Suitable materials for forming the second and subsequent layers of the antireflection film in which four or more layers are laminated include, for example, Al 2 O 3 , LaF 3 , NdF 3 , CeF 3 , MgO, ThO 2 , SnO 2, La 2 O 3, SiO, In 2 O 3, Nd 2 O 3, Sb 2 O 3, CeO 2, ZnS, Bi 2 O 3, HfO 2, Ta 2 O 5, TiO 2, Si 3 N 4 , ZrO 2 , AlN, and the like.

（変形例５）前記実施形態においては、反射防止膜２０が形成された時計用のカバーガラス１、反射防止膜２５が形成された時計用のカバーガラス２、及び反射防止膜３０が形成された時計用のカバーガラス３について説明したが、反射防止膜を形成する対象は時計用のカバーガラスに限らない。ＦＰＤにおける表示部を保護するためのカバーガラスや、眼鏡レンズや、車の窓ガラスや、各種計測器における表示部を保護するためのカバーガラスにおいても、上述したような、表層膜がＳｉ−Ａｌ2Ｏ3又はＦ−Ａｌ2Ｏ3からなる膜を形成することで、好適な反射防止膜を形成することができる。 (Modification 5) In the above embodiment, the timepiece cover glass 1 on which the antireflection film 20 is formed, the timepiece cover glass 2 on which the antireflection film 25 is formed, and the antireflection film 30 are formed. Although the watch cover glass 3 has been described, the object on which the antireflection film is formed is not limited to the watch cover glass. In the cover glass for protecting the display part in the FPD, the spectacle lens, the car window glass, and the cover glass for protecting the display part in various measuring instruments, the surface layer film as described above is Si-Al. By forming a film made of 2 O 3 or F—Al 2 O 3 , a suitable antireflection film can be formed.

（変形例６）前記実施形態においては、カバーガラス１、カバーガラス２、及びカバーガラス３の基材はサファイヤガラスであったが、反射防止膜を形成する基材がサファイヤガラスであることは必須ではない。時計のカバーガラスや、ＦＰＤの表示部のカバーガラスや、眼鏡レンズや、車の窓ガラスや、各種計測器の表示部のカバーガラスとして用いられる各種材料においても、上述したような、表層膜がＳｉ−Ａｌ2Ｏ3又はＦ−Ａｌ2Ｏ3からなる膜を形成することで、好適な反射防止膜を形成することができる。 (Modification 6) In the said embodiment, although the base material of the cover glass 1, the cover glass 2, and the cover glass 3 was sapphire glass, it is essential that the base material which forms an antireflection film is sapphire glass. is not. As described above, the surface layer film is also used in various materials used as a cover glass of a watch, a cover glass of an FPD display unit, an eyeglass lens, a car window glass, or a display unit of various measuring instruments. By forming a film made of Si—Al 2 O 3 or F—Al 2 O 3 , a suitable antireflection film can be formed.

（変形例７）前記実施形態においては、カバーガラス１、カバーガラス２、又はカバーガラス３において、反射防止膜２０、反射防止膜２５、又は反射防止膜３０を、それぞれサファイヤガラス１０の片面に形成していたが、反射防止膜を形成するのはカバーガラスの基材の片面のみに限らない。基材の両面にそれぞれ反射防止膜を形成してもよい。基材の両面に反射防止膜を形成することによって、より透過率が高い透光部材を形成することができる。   (Modification 7) In the embodiment, in the cover glass 1, the cover glass 2, or the cover glass 3, the antireflection film 20, the antireflection film 25, or the antireflection film 30 is formed on one surface of the sapphire glass 10, respectively. However, the formation of the antireflection film is not limited to only one side of the base material of the cover glass. An antireflection film may be formed on each side of the substrate. By forming the antireflection film on both surfaces of the base material, it is possible to form a translucent member having higher transmittance.

（ａ）は、Ｓｉ−Ａｌ2Ｏ3膜を有する２層構造の反射防止膜が形成されたカバーガラスの断面を示す模式図。（ｂ）は、Ｓｉ−Ａｌ2Ｏ3膜を有する２層構造の反射防止膜の特性を示す表。(A) is a schematic view showing the Si-Al 2 O 3 film two layers cross-section of the cover glass on which the antireflection film is formed of a structure with. (B) is a table showing the characteristics of the antireflection film of the two-layer structure having a Si-Al 2 O 3 film. （ａ）は、Ｆ−Ａｌ2Ｏ3膜を有する２層構造の反射防止膜が形成されたカバーガラスの断面を示す模式図。（ｂ）は、Ｆ−Ａｌ2Ｏ3膜を有する２層構造の反射防止膜の特性を示す表。(A) is a schematic diagram showing a F-Al 2 O 3 film two layers cross-section of the cover glass on which the antireflection film is formed of a structure with. (B) is a table showing the characteristics of the antireflection film of the two-layer structure having an F-Al 2 O 3 film. （ａ）は、Ｆ−Ａｌ2Ｏ3膜を有する３層構造の反射防止膜が形成されたカバーガラスの断面を示す模式図。（ｂ）は、Ｆ−Ａｌ2Ｏ3膜を有する３層構造の反射防止膜の特性を示す表。(A) is a schematic diagram showing a F-Al 2 O 3 film 3 layer cross-section of the cover glass on which the antireflection film is formed of a structure with. (B) is a table showing the characteristics of the three-layered antireflection film having a F-Al 2 O 3 film. ＥＣＲプラズマスパッタ装置の構成を示す模式図。The schematic diagram which shows the structure of an ECR plasma sputtering apparatus. 形成されたＳｉ−Ａｌ2Ｏ3の膜の特性を示す表。Table showing characteristics of films of the formed Si-Al 2 O 3.

符号の説明Explanation of symbols

１，２，３…カバーガラス、１０…サファイヤガラス、２０，２５，３０…反射防止膜、２１，２６，３１…表層膜、２２，２７，３２…第２層膜、３３…第３層膜、４０…ターゲット、５０…ＥＣＲプラズマスパッタ装置、５２…ＥＣＲプラズマ源、５４…磁石、５７…気体導入路、５８…排気路。   1, 2, 3 ... cover glass, 10 ... sapphire glass, 20, 25, 30 ... antireflection film, 21, 26, 31 ... surface layer film, 22, 27, 32 ... second layer film, 33 ... third layer film 40 ... target, 50 ... ECR plasma sputtering device, 52 ... ECR plasma source, 54 ... magnet, 57 ... gas introduction path, 58 ... exhaust path.

Claims (14)

可視光が透過可能な部材の表面に形成された反射防止膜であって、前記反射防止膜の最表面を構成する膜が、Ｓｉ又はＦを添加したＡｌ2Ｏ3であるＳｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又はＦ−Ａｌ2Ｏ3膜であることを特徴とする反射防止膜。 Si-Al 2 O, which is an antireflection film formed on the surface of a member capable of transmitting visible light, and the film constituting the outermost surface of the antireflection film is Al 2 O 3 to which Si or F is added 3 film or F-Al 2 O 3 film antireflection film which is a. 前記Ｓｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又は前記Ｆ−Ａｌ2Ｏ3膜と、Ｉｎ2Ｏ3、Ｎｄ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＣｅＯ2、ＺｎＳ、Ｂｉ2Ｏ3、ＨｆＯ2、Ｔａ2Ｏ5、ＴｉＯ2、Ｓｉ3Ｎ4、ＺｒＯ2、ＡｌＮのいずれかからなる膜と、を備えることを特徴とする請求項１に記載の反射防止膜。 The Si-Al 2 O 3 film or the F-Al 2 O 3 film and In 2 O 3 , Nd 2 O 3 , Sb 2 O 3 , CeO 2 , ZnS, Bi 2 O 3 , HfO 2 , Ta 2 O 5. An antireflection film according to claim 1, comprising a film made of any one of 5 , TiO 2 , Si 3 N 4 , ZrO 2 , and AlN. 前記Ｓｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又は前記Ｆ−Ａｌ2Ｏ3膜と、Ａｌ2Ｏ3、ＬａＦ3、ＮｄＦ3、ＣｅＦ3、ＭｇＯ、ＴｈＯ2、ＳｎＯ2、Ｌａ2Ｏ3、ＳｉＯ、Ｉｎ2Ｏ3、Ｎｄ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＣｅＯ2、ＺｎＳ、Ｂｉ2Ｏ3、ＨｆＯ2、Ｔａ2Ｏ5、ＴｉＯ2、Ｓｉ3Ｎ4、ＺｒＯ2、ＡｌＮのいずれかからなる２層以上の膜と、を備えることを特徴とする請求項１に記載の反射防止膜。 The Si-Al 2 O 3 film or the F-Al 2 O 3 film and Al 2 O 3 , LaF 3 , NdF 3 , CeF 3 , MgO, ThO 2 , SnO 2 , La 2 O 3 , SiO, In 2 Two layers made of any of O 3 , Nd 2 O 3 , Sb 2 O 3 , CeO 2 , ZnS, Bi 2 O 3 , HfO 2 , Ta 2 O 5 , TiO 2 , Si 3 N 4 , ZrO 2 , AlN The antireflection film according to claim 1, comprising the above film. 可視光が透過する部材の表面に反射防止膜を形成する反射防止膜の形成方法であって、
前記反射防止膜の最表面を構成する膜として、Ｓｉ又はＦを添加したＡｌ2Ｏ3であるＳｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又はＦ−Ａｌ2Ｏ3膜を形成する最表面形成工程を有することを特徴とする反射防止膜の形成方法。 A method of forming an antireflection film that forms an antireflection film on the surface of a member that transmits visible light,
An outermost surface forming step of forming an Si—Al 2 O 3 film or an F—Al 2 O 3 film, which is Al 2 O 3 to which Si or F is added, as a film constituting the outermost surface of the antireflection film; A method for forming an antireflective film. 前記最表面形成工程において、前記Ｓｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又は前記Ｆ−Ａｌ2Ｏ3膜を、ＥＣＲプラズマスパッタ装置によって形成することを特徴とする、請求項４に記載の反射防止膜の形成方法。 In the uppermost surface forming step, the Si-Al 2 O 3 film or the F-Al 2 O 3 film, and forming by ECR plasma sputtering apparatus, formation of an antireflection film according to claim 4 Method. 前記最表面形成工程において、Ｓｉを含むＡｌをターゲットとして、雰囲気中のＯと反応させることによって前記Ｓｉ−Ａｌ2Ｏ3膜を形成することを特徴とする、請求項５に記載の反射防止膜の形成方法。 6. The antireflection film according to claim 5, wherein in the outermost surface forming step, the Si—Al 2 O 3 film is formed by reacting with Al in an atmosphere using Al containing Si as a target. 7. Forming method. 前記最表面形成工程において、Ａｌ2Ｏ3をターゲットとして、雰囲気中のＦと反応させることによって前記Ｆ−Ａｌ2Ｏ3膜を形成することを特徴とする、請求項５に記載の反射防止膜の形成方法。 In the uppermost surface forming step, the for Al 2 O 3 target, and forming the F-Al 2 O 3 film by reacting with F in the atmosphere, the anti-reflection film according to claim 5 Forming method. 可視光が透過可能な透光部材であって、
最表面を構成する膜が、Ｓｉ又はＦを添加したＡｌ2Ｏ3であるＳｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又はＦ−Ａｌ2Ｏ3膜である反射防止膜を備えることを特徴とする透光部材。 A translucent member capable of transmitting visible light,
The translucent member is characterized in that the film constituting the outermost surface includes an antireflection film that is an Si—Al 2 O 3 film or an F—Al 2 O 3 film that is Al 2 O 3 to which Si or F is added. . 前記反射防止膜は、前記Ｓｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又は前記Ｆ−Ａｌ2Ｏ3膜と、Ｉｎ2Ｏ3、Ｎｄ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＣｅＯ2、ＺｎＳ、Ｂｉ2Ｏ3、ＨｆＯ2、Ｔａ2Ｏ5、ＴｉＯ2、Ｓｉ3Ｎ4、ＺｒＯ2、ＡｌＮのいずれかからなる膜と、を備えることを特徴とする、請求項８に記載の透光部材。 The antireflection film includes the Si-Al 2 O 3 film or the F-Al 2 O 3 film, In 2 O 3 , Nd 2 O 3 , Sb 2 O 3 , CeO 2 , ZnS, Bi 2 O 3 , The translucent member according to claim 8, comprising a film made of any of HfO 2 , Ta 2 O 5 , TiO 2 , Si 3 N 4 , ZrO 2 , and AlN. 前記反射防止膜は、前記Ｓｉ−Ａｌ2Ｏ3膜又は前記Ｆ−Ａｌ2Ｏ3膜と、Ａｌ2Ｏ3、ＬａＦ3、ＮｄＦ3、ＣｅＦ3、ＭｇＯ、ＴｈＯ2、ＳｎＯ2、Ｌａ2Ｏ3、ＳｉＯ、Ｉｎ2Ｏ3、Ｎｄ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＣｅＯ2、ＺｎＳ、Ｂｉ2Ｏ3、ＨｆＯ2、Ｔａ2Ｏ5、ＴｉＯ2、Ｓｉ3Ｎ4、ＺｒＯ2、ＡｌＮのいずれかからなる２層以上の膜と、を備えることを特徴とする、請求項８に記載の透光部材。 The antireflection film includes the Si—Al 2 O 3 film or the F—Al 2 O 3 film, Al 2 O 3 , LaF 3 , NdF 3 , CeF 3 , MgO, ThO 2 , SnO 2 , La 2 O. 3 , SiO, In 2 O 3 , Nd 2 O 3 , Sb 2 O 3 , CeO 2 , ZnS, Bi 2 O 3 , HfO 2 , Ta 2 O 5 , TiO 2 , Si 3 N 4 , ZrO 2 , AlN The translucent member according to claim 8, comprising two or more layers of films. 請求項８乃至１０のいずれか一項に記載の透光部材が、表示部のカバーガラスとして用いられていることを特徴とする、フラットパネルディスプレイ。   The flat panel display characterized by using the translucent member as described in any one of Claims 8 thru | or 10 as a cover glass of a display part. 請求項８乃至１０のいずれか一項に記載の透光部材が、眼鏡レンズとして用いられていることを特徴とする、眼鏡。   The spectacles characterized by using the translucent member as described in any one of Claims 8 thru | or 10 as a spectacles lens. 請求項８乃至１０のいずれか一項に記載の透光部材が、表示部のカバーガラスとして用いられていることを特徴とする、時計。   A timepiece, wherein the light-transmitting member according to any one of claims 8 to 10 is used as a cover glass of a display unit. 前記透光部材は、サファイヤガラス上に前記反射防止膜が形成されていることを特徴とする、請求項１３に記載の時計。   The timepiece according to claim 13, wherein the translucent member has the antireflection film formed on sapphire glass.
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