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JP2009163975A - Organic electroluminescence device and manufacturing method thereof - Google Patents

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JP2009163975A
JP2009163975A JP2008000371A JP2008000371A JP2009163975A JP 2009163975 A JP2009163975 A JP 2009163975A JP 2008000371 A JP2008000371 A JP 2008000371A JP 2008000371 A JP2008000371 A JP 2008000371A JP 2009163975 A JP2009163975 A JP 2009163975A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
sealing material
layer
organic
organic electroluminescence
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2008000371A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takashi Fukagawa
剛史 深川
Shigemitsu Koike
繁光 小池
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2008000371A priority Critical patent/JP2009163975A/en
Publication of JP2009163975A publication Critical patent/JP2009163975A/en
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Abstract

【課題】第1基板に形成された膜を損傷することなく、第1基板と第2基板とを所定の隙間を介して貼り合せることのできる有機EL装置、およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】有機EL装置100を製造するにあたって、第1基板10の周辺領域10cに沿って、紫外線硬化性の第1シール材91aを塗布する第1シール材塗布工程と、第1シール材91aで囲まれた領域内に熱硬化性の第2シール材92aを塗布する第2シール材塗布工程と、第1シール材91aおよび第2シール材92aを間に挟むように第1基板10と第2基板20とを重ね合わせる重ね合わせ工程と、第1シール材91aおよび第2シール材92aを硬化させるシール材固工程とを行なう。第1シール材91aは、第1基板10と第2基板20との間に介在して第1基板10と第2基板20との基板間隔を制御するギャップ材95を含有している。
【選択図】図3
An organic EL device capable of bonding a first substrate and a second substrate through a predetermined gap without damaging a film formed on a first substrate, and a method for manufacturing the same.
In manufacturing an organic EL device 100, a first sealing material application step of applying an ultraviolet curable first sealing material 91a along a peripheral region 10c of a first substrate 10, and a first sealing material 91a. A second sealing material application step of applying a thermosetting second sealing material 92a in the region surrounded by the first substrate 10 and the first sealing material 91a so as to sandwich the first sealing material 91a and the second sealing material 92a. An overlapping process for overlapping the two substrates 20 and a sealing material fixing process for curing the first sealing material 91a and the second sealing material 92a are performed. The first sealing material 91 a includes a gap material 95 that is interposed between the first substrate 10 and the second substrate 20 and controls the substrate distance between the first substrate 10 and the second substrate 20.
[Selection] Figure 3

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセンス(以下有機ELという)装置、およびその製造方法に関するものである。   The present invention relates to an organic electroluminescence (hereinafter referred to as organic EL) device and a method for manufacturing the same.

有機EL装置は、陽極、有機機能層および陰極が積層された有機EL素子を基板上に備えており、低電圧で電子注入効果を高めることを目的に、発光機能層と陰極との層間に、アルカリ金属やアルカリ土類金属を主成分とする電子注入層が配置される場合もある。このような有機EL素子に用いられる有機機能層や、陰極、電子注入層は、非常に活性であるため、大気中に存在する水分と簡単に反応して変質しやすい。かかる変質が起こると、電子注入効果が損なわれ、ダークスポットと呼ばれる非発光部分が発生してしまう。   The organic EL device includes an organic EL element on which a positive electrode, an organic functional layer, and a cathode are stacked on a substrate. For the purpose of enhancing the electron injection effect at a low voltage, between the light emitting functional layer and the cathode, In some cases, an electron injection layer mainly composed of an alkali metal or an alkaline earth metal is disposed. Since the organic functional layer, the cathode, and the electron injection layer used in such an organic EL element are very active, they easily react with moisture present in the atmosphere and are easily altered. When such alteration occurs, the electron injection effect is impaired, and a non-light emitting portion called a dark spot is generated.

そこで、従来は、水分を遮断するガラスなどからなる蓋状のカバーの側板部を接着剤で基板に取り付けて中空構造とするとともに、中空部分に乾燥剤を配置し、接着剤断面から侵入する水分については乾燥剤で捕捉して有機EL素子に到達させない構造が提案されている(特許文献1参照)。
特開2003−223992号公報
Therefore, conventionally, the side plate part of a lid-like cover made of glass or the like that blocks moisture is attached to the substrate with an adhesive to form a hollow structure, and a desiccant is placed in the hollow part to penetrate moisture from the adhesive cross section. Has been proposed for a structure that does not reach the organic EL element by being trapped with a desiccant (see Patent Document 1).
Japanese Patent Laid-Open No. 2003-2231992

しかしながら、特許文献1に開示のように、蓋状のカバーの側板部を接着剤で基板に取り付けるとともに、その中空部分に乾燥剤を配置した構造は、強度面やコスト面でも大きな問題がある。   However, as disclosed in Patent Document 1, the structure in which the side plate portion of the lid-like cover is attached to the substrate with an adhesive and the desiccant is disposed in the hollow portion has significant problems in terms of strength and cost.

そこで、本願発明者は、図8に示すように、第1基板10において、画素電極(陽極)としての第1電極層81、有機機能層82、および陰極としての第2電極層83を備えた有機EL素子80が形成されている側に対して第2基板20をシール材層99で接合することを提案するものである。   Therefore, as shown in FIG. 8, the inventor of the present application includes a first electrode layer 81 as a pixel electrode (anode), an organic functional layer 82, and a second electrode layer 83 as a cathode in the first substrate 10. It is proposed to join the second substrate 20 with the sealing material layer 99 to the side on which the organic EL element 80 is formed.

しかしながら、例えば、図8に示すように、有機EL素子80から白色光を出射させる一方、第2基板20にカラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)を設けることによりカラー表示を行なう場合、高精細化の実現、および隣接する画素間での混色防止という観点から、第1基板10と第2基板20との間隙を狭める必要があるが、第1基板10に第2基板20をシール材層99で接合するだけの構造の場合、第1基板10と第2基板20とが接触し、第1基板10に形成されている膜を損傷させるという問題点がある。例えば、第1基板10に対して、画素領域10aより広い領域にわたって封止膜60を形成した場合、第1基板10と第2基板20との間に隙間を確保しないと、第2基板20が封止膜60に当接して封止膜60を損傷させるという問題点がある。かといって、シール材層99を構成するにあたって、第1基板10と第2基板20との間に介在して第1基板10と第2基板20との基板間隔を制御するギャップ材を含有するシール材を用いると、ギャップ材が封止膜60に当接して封止膜60が損傷するという問題点がある。   However, for example, as shown in FIG. 8, white light is emitted from the organic EL element 80, while color display is provided by providing the color filter layers 22 (R), (G), and (B) on the second substrate 20. When performing, it is necessary to narrow the gap between the first substrate 10 and the second substrate 20 from the viewpoint of realizing high definition and preventing color mixing between adjacent pixels. In the case of a structure in which the first substrate 10 and the second substrate 20 are in contact with each other, there is a problem in that the film formed on the first substrate 10 is damaged. For example, when the sealing film 60 is formed over a wider area than the pixel area 10 a with respect to the first substrate 10, the second substrate 20 is not secured unless a gap is secured between the first substrate 10 and the second substrate 20. There is a problem that the sealing film 60 is damaged by coming into contact with the sealing film 60. However, when the sealing material layer 99 is configured, a gap material is interposed between the first substrate 10 and the second substrate 20 to control the distance between the first substrate 10 and the second substrate 20. When the sealing material is used, there is a problem in that the gap material contacts the sealing film 60 and the sealing film 60 is damaged.

なお、図8に示す構成は、本発明の特徴点を説明しやすいように、本願発明者が案出した参考例であり、従来技術とは相違する。   The configuration shown in FIG. 8 is a reference example devised by the inventor of the present application so as to easily explain the feature points of the present invention, and is different from the prior art.

かかる問題点に鑑みて、本発明の課題は、第1基板に形成された膜を損傷することなく、第1基板と第2基板とを所定の隙間を介して貼り合せることのできる有機EL装置、およびその製造方法を提供することにある。   In view of such a problem, an object of the present invention is to provide an organic EL device capable of bonding a first substrate and a second substrate through a predetermined gap without damaging a film formed on the first substrate. And a method of manufacturing the same.

上記課題を解決するために、本発明では、第1電極層、有機機能層および第2電極層を備えた有機EL素子が画素領域に複数配列された第1基板と、該第1基板において前記有機EL素子が形成されている面側に重ねられた第2基板と、を有する有機EL装置において、前記第1基板と前記第2基板とは、前記画素領域を囲む周辺領域に形成された枠状の第1シール材層と、当該第1シール材層で囲まれた領域の全体に形成された第2シール材層とによって貼り合わされ、前記第1シール材層は、前記第1基板と前記第2基板との間に介在して前記第1基板と前記第2基板との基板間隔を制御するギャップ材を含有していることを特徴とする。   In order to solve the above problems, in the present invention, a first substrate in which a plurality of organic EL elements each including a first electrode layer, an organic functional layer, and a second electrode layer are arranged in a pixel region; In the organic EL device having a second substrate overlaid on the surface side on which the organic EL element is formed, the first substrate and the second substrate are frames formed in a peripheral region surrounding the pixel region. The first sealing material layer is bonded to the first sealing material layer and the second sealing material layer formed over the entire region surrounded by the first sealing material layer, and the first sealing material layer is bonded to the first substrate and the first sealing material layer. A gap material for controlling a substrate interval between the first substrate and the second substrate is interposed between the second substrate and the second substrate.

本明者において、第1基板と第2基板とは、周辺領域に形成された枠状の第1シール材層と、この第1シール材層で囲まれた領域の全体に形成された第2シール材層とによって貼り合わされているため、第1基板に形成されている有機EL素子などを、外部から侵入した水分から保護することができる。また、第1シール材層は、第1基板と第2基板との基板間隔を制御するギャップ材を含有しているので、第1基板と第2基板との間隙を制御することができる。このため、第1基板と第2基板とが当接することがないので、第1基板の画素領域に形成されている膜を損傷することがない。さらに、ギャップ材は、周辺領域に形成された第1シール材層に含まれているため、第1基板の画素領域に当接しないので、第1基板の画素領域に形成されている膜を損傷することがない。   In the present writer, the first substrate and the second substrate include a frame-shaped first sealing material layer formed in the peripheral region and a second region formed in the entire region surrounded by the first sealing material layer. Since they are bonded together by the sealing material layer, the organic EL elements and the like formed on the first substrate can be protected from moisture entering from the outside. Moreover, since the 1st sealing material layer contains the gap material which controls the board | substrate space | interval of a 1st board | substrate and a 2nd board | substrate, the clearance gap between a 1st board | substrate and a 2nd board | substrate can be controlled. For this reason, since the first substrate and the second substrate do not contact each other, the film formed in the pixel region of the first substrate is not damaged. Further, since the gap material is included in the first sealing material layer formed in the peripheral region, the gap material does not contact the pixel region of the first substrate, so that the film formed in the pixel region of the first substrate is damaged. There is nothing to do.

本発明において、前記第2基板および前記第2シール材層は透光性であり、前記第2基板には、前記複数の有機EL素子と対向する各領域に異なる色のカラーフィルタ層が形成されていることが好ましい。このように構成すると、このように構成すると、複数の有機EL素子の各々から白色光や各色の混合光を出射させるとともに、かかる光を、カラーフィルタ層を介して出射させることができるので、カラー画像を表示することができる。また、第1シール材層が含有するギャップ材によって、第1基板と第2基板との間隙が制御され、第1基板と第2基板とが当接することを確実に防止することができので、第1基板と第2基板との間隙を狭めることができる。従って、第2基板に形成したカラーフィルタ層を利用してカラー表示を行なう場合での高精細化を実現することができるとともに、混色の発生を防止することができる。   In the present invention, the second substrate and the second sealing material layer are translucent, and a color filter layer of a different color is formed on each region facing the plurality of organic EL elements on the second substrate. It is preferable. With this configuration, when configured in this way, white light and mixed light of each color can be emitted from each of the plurality of organic EL elements, and such light can be emitted through the color filter layer. An image can be displayed. Moreover, the gap between the first substrate and the second substrate is controlled by the gap material contained in the first sealing material layer, and it is possible to reliably prevent the first substrate and the second substrate from coming into contact with each other. The gap between the first substrate and the second substrate can be narrowed. Therefore, it is possible to achieve high definition when color display is performed using the color filter layer formed on the second substrate, and it is possible to prevent color mixing.

本発明では、前記第1基板において、少なくとも前記画素領域には、前記第2電極層の上層に封止膜が形成されていることが好ましい。このように構成すると、第1基板に形成されている有機EL素子などを、外部から侵入した水分から確実に保護することができる。また、第1シール材層が含有するギャップ材によって、第1基板と第2基板との間隙が制御されているため、第2基板が封止膜に当接すること、およびギャップ材が封止膜に当接することがないので、第1基板と第2基板とを貼り合わせても封止膜が損傷することがない。   In the present invention, it is preferable that a sealing film is formed on the second electrode layer in at least the pixel region of the first substrate. If comprised in this way, the organic EL element etc. which are formed in the 1st board | substrate can be reliably protected from the moisture which penetrate | invaded from the outside. In addition, since the gap between the first substrate and the second substrate is controlled by the gap material contained in the first sealing material layer, the second substrate contacts the sealing film, and the gap material is the sealing film. Therefore, even if the first substrate and the second substrate are bonded together, the sealing film is not damaged.

本発明では、第1電極層、有機機能層および第2電極層を備えた有機EL素子が画素領域に複数配列された第1基板と、該第1基板において前記有機EL素子が形成されている面側に重ねられた第2基板と、を有する有機EL装置の製造方法において、前記第1基板または/および前記第2基板において前記画素領域を外周側で囲む周辺領域に対して、前記第1基板と前記第2基板との間に介在して前記第1基板と前記第2基板との基板間隔を制御するギャップ材を含有する第1シール材を塗布する第1シール材塗布工程と、前記第1基板または/および前記第2基板において前記第1シール材で囲まれた領域内に第2シール材を塗布する第2シール材塗布工程と、前記第1シール材および前記第2シール材を挟んで前記第1基板と前記第2基板とを重ね合わせる重ね合わせ工程と、前記第1シール材を固化させて第1シール材層を形成するとともに、前記第2シール材を固化させて第2シール材層を形成するシール材固化工程と、を有することを特徴とする。   In the present invention, a first substrate in which a plurality of organic EL elements each including a first electrode layer, an organic functional layer, and a second electrode layer are arranged in a pixel region, and the organic EL element is formed on the first substrate. In the manufacturing method of the organic EL device having the second substrate stacked on the surface side, the first substrate and / or the second substrate, the first region with respect to a peripheral region surrounding the pixel region on the outer peripheral side. A first sealing material application step of applying a first sealing material containing a gap material interposed between the substrate and the second substrate to control a substrate distance between the first substrate and the second substrate; A second sealing material application step of applying a second sealing material in a region surrounded by the first sealing material on the first substrate or / and the second substrate; and the first sealing material and the second sealing material. Sandwiching the first substrate and the second An overlapping step of overlapping the plate, and a sealing material solidifying step of solidifying the first sealing material to form a first sealing material layer and solidifying the second sealing material to form a second sealing material layer It is characterized by having.

本発明では、重ね合わせ工程において第1シール材および第2シール材を間に挟むように基板同士を重ね合わせ、基板間で第2シール材を展開させるとともに、第2シール材を第1シール材によって堰き止めるため、第1基板と第2基板とは、周辺領域に形成された枠状の第1シール材層と、この第1シール材層で囲まれた領域の全体に形成された第2シール材層とによって貼り合わされた構造を実現でき、かかる構造によれば、第1基板に形成されている有機EL素子などを、外部から侵入した水分から保護することができる。また、第1シール材の塗布、および第2シール材の塗布を連続して行い、しかる後に、第1シール材および第2シール材を固化させるので、生産性を向上することができる。さらに、第1シール材層は、第1基板と第2基板との基板間隔を制御するギャップ材を含有しているので、第1基板と第2基板との間隙を制御することができる。このため、第1基板と第2基板とが当接することがないので、第1基板の画素領域に形成されている膜を損傷することがない。さらにまた、ギャップ材は、周辺領域に形成された第1シール材層に含まれているため、第1基板の画素領域に当接しないので、第1基板の画素領域に形成されている膜を損傷することがない。   In the present invention, in the overlapping step, the substrates are overlapped so as to sandwich the first sealing material and the second sealing material, the second sealing material is developed between the substrates, and the second sealing material is used as the first sealing material. Therefore, the first substrate and the second substrate include a frame-shaped first sealing material layer formed in the peripheral region and a second region formed in the entire region surrounded by the first sealing material layer. A structure bonded with the sealing material layer can be realized, and according to such a structure, the organic EL element and the like formed on the first substrate can be protected from moisture entering from the outside. In addition, since the first sealing material and the second sealing material are continuously applied and then the first sealing material and the second sealing material are solidified, the productivity can be improved. Furthermore, since the first sealing material layer contains a gap material that controls the substrate distance between the first substrate and the second substrate, the gap between the first substrate and the second substrate can be controlled. For this reason, since the first substrate and the second substrate do not contact each other, the film formed in the pixel region of the first substrate is not damaged. Furthermore, since the gap material is included in the first sealing material layer formed in the peripheral region, the gap material does not contact the pixel region of the first substrate. There is no damage.

本発明において、前記重ね合わせ工程では、減圧雰囲気中で前記第1基板および前記第2基板の一方を他方に押圧するように前記第1基板と前記第2基板とを重ね合わせ、前記第2シール材を前記第1基板と前記第2基板との間で展開することが好ましい。このように構成すると、第1基板と第2基板との間に気泡が混入することを防止することができる。また、常圧に戻した際、大気圧によって加圧されたのと同様な状態になるので、第1基板と第2基板との間で第2シール材が隅々まで行き渡り、第2シール材の充填性が向上する。   In the present invention, in the overlaying step, the first substrate and the second substrate are overlapped so that one of the first substrate and the second substrate is pressed against the other in a reduced-pressure atmosphere, and the second seal Preferably, a material is spread between the first substrate and the second substrate. If comprised in this way, it can prevent that a bubble mixes between a 1st board | substrate and a 2nd board | substrate. Further, when the pressure is returned to the normal pressure, the state is the same as when the pressure is increased by the atmospheric pressure, so that the second sealing material reaches every corner between the first substrate and the second substrate, and the second sealing material. The filling property of the is improved.

本発明において、前記第1シール材は、前記第2シール材よりも粘度が高いことが好ましい。このように構成すると、第1シール材塗布工程で第1シール材を塗布した際、第1シール材の流出を防止することができる。また、重ね合わせ工程において、第2シール材は第1シール材を外側に向けて押圧するが、第1シール材の粘度が高いため、第2シール材が第1シール材を突き破ることがなく、第2シール材の流出を防止することができる。また、第2シール材は粘度が低いため、第2シール材については、第1シール材で囲まれた領域の全体にわたって充填することができる。   In the present invention, the first sealing material preferably has a higher viscosity than the second sealing material. If comprised in this way, when the 1st sealing material is applied in the 1st sealing material application process, the outflow of the 1st sealing material can be prevented. Further, in the overlapping step, the second sealing material presses the first sealing material toward the outside, but since the viscosity of the first sealing material is high, the second sealing material does not break through the first sealing material, The outflow of the second sealing material can be prevented. Moreover, since the viscosity of the second sealing material is low, the second sealing material can be filled over the entire region surrounded by the first sealing material.

本発明において、前記第1シール材は光硬化性であり、前記第2シール材は熱硬化性であることが好ましい。このように構成すると、シール材固化工程において、第1シール材および第2シール材を所定の順序に選択的に固化させることができる。また、画素領域では第1基板および第2基板に各種の遮光性の膜が形成されることが多く、このような場合、第2シール材に十分な光を照射することができないが、第2シール材が熱硬化性であるため、確実に固化させることができる。   In the present invention, it is preferable that the first sealing material is photocurable and the second sealing material is thermosetting. If comprised in this way, in a sealing material solidification process, a 1st sealing material and a 2nd sealing material can be selectively solidified in a predetermined order. In the pixel region, various light-shielding films are often formed on the first substrate and the second substrate. In such a case, the second sealing material cannot be irradiated with sufficient light. Since the sealing material is thermosetting, it can be solidified reliably.

本発明において、前記シール材固化工程では、前記第1シール材を固化させた後、前記第2シール材を固化させることができる。このように構成すると、第2シール材を固化させる前に第1シール材で第1基板と第2基板とを貼り合せることができるので、第2シール材を固化させる際、粘弾性変化が起こっても、第1基板と第2基板とに位置ずれが発生しない。   In the present invention, in the sealing material solidifying step, the second sealing material can be solidified after the first sealing material is solidified. If comprised in this way, since a 1st board | substrate and a 2nd board | substrate can be bonded together with a 1st sealing material before solidifying a 2nd sealing material, when solidifying a 2nd sealing material, a viscoelastic change will occur. Even in this case, no displacement occurs between the first substrate and the second substrate.

本発明において、前記第2シール材塗布工程では、前記第2シール材の塗布量(体積)を、前記第1基板、前記第2基板および前記第1シール材層で囲まれた空間の体積と、前記第2シール材を固化させた際の体積収縮率との積に相当する量に設定することが好ましい。このように構成すると、第2シール材が過剰に塗布されることがないので、重ね合わせ工程において、第2シール材は第1シール材を外側に向けて過大な力で押圧することがない。従って、第2シール材が第1シール材を突き破ることがなく、第2シール材の流出を防止することができる。   In the present invention, in the second sealing material application step, the application amount (volume) of the second sealing material is defined as the volume of the space surrounded by the first substrate, the second substrate, and the first sealing material layer. It is preferable to set the amount corresponding to the product of the volume shrinkage rate when the second sealing material is solidified. If comprised in this way, since a 2nd sealing material will not be apply | coated excessively, in a superposition process, a 2nd sealing material does not press a 1st sealing material to an outer side with an excessive force. Therefore, the second sealing material does not break through the first sealing material, and the second sealing material can be prevented from flowing out.

本発明を適用した有機EL装置は、携帯電話機あるいはモバイルコンピュータなどの電子機器において直視型の表示部などとして用いられる。   An organic EL device to which the present invention is applied is used as a direct-view display unit or the like in an electronic device such as a mobile phone or a mobile computer.

以下、本発明の実施の形態を説明する。以下の説明で参照する図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。また、以下の説明では、図8を参照して説明した構成との対応が分りやすいように、可能な限り、対応する部分には同一の符号を付して説明する。   Embodiments of the present invention will be described below. In the drawings to be referred to in the following description, the scales of the layers and the members are different from each other in order to make the layers and the members large enough to be recognized on the drawings. Further, in the following description, as much as possible, the same reference numerals are assigned to the corresponding portions so that the correspondence with the configuration described with reference to FIG. 8 can be easily understood.

(全体構成)
図1は、本発明を適用した有機EL装置の電気的な構成を示す等価回路図である。図1に示す有機EL装置100において、第1基板10上には、複数の走査線3aと、走査線3aに対して交差する方向に延びる複数のデータ線6aと、走査線3aに対して並列して延在する複数の電源線3eとを有している。また、第1基板10において、矩形形状の画素領域10aには複数の画素100aがマトリクス状に配列されている。データ線6aにはデータ線駆動回路101が接続され、走査線3aには走査線駆動回路104が接続されている。画素領域10aの各々には、走査線3aを介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用の薄膜トランジスタ30bと、このスイッチング用の薄膜トランジスタ30bを介してデータ線6aから供給される画素信号を保持する保持容量70と、保持容量70によって保持された画素信号がゲート電極に供給される駆動用の薄膜トランジスタ30cと、この薄膜トランジスタ30cを介して電源線3eに電気的に接続したときに電源線3eから駆動電流が流れ込む第1電極層81(陽極層)と、この第1電極層81と陰極層との間に有機機能層が挟まれた有機EL素子80とが形成されている。
(overall structure)
FIG. 1 is an equivalent circuit diagram showing an electrical configuration of an organic EL device to which the present invention is applied. In the organic EL device 100 shown in FIG. 1, on the first substrate 10, a plurality of scanning lines 3a, a plurality of data lines 6a extending in a direction intersecting the scanning lines 3a, and a scanning line 3a are arranged in parallel. And a plurality of power supply lines 3e extending. In the first substrate 10, a plurality of pixels 100a are arranged in a matrix in a rectangular pixel region 10a. A data line driving circuit 101 is connected to the data line 6a, and a scanning line driving circuit 104 is connected to the scanning line 3a. Each pixel region 10a holds a switching thin film transistor 30b to which a scanning signal is supplied to the gate electrode via the scanning line 3a, and a pixel signal supplied from the data line 6a via the switching thin film transistor 30b. The storage capacitor 70 to be driven, the driving thin film transistor 30c to which the pixel signal held by the storage capacitor 70 is supplied to the gate electrode, and the power supply line 3e when electrically connected to the power supply line 3e through the thin film transistor 30c. A first electrode layer 81 (anode layer) into which a driving current flows and an organic EL element 80 in which an organic functional layer is sandwiched between the first electrode layer 81 and the cathode layer are formed.

かかる構成によれば、走査線3aが駆動されてスイッチング用の薄膜トランジスタ30bがオンになると、そのときのデータ線6aの電位が保持容量70に保持され、保持容量70が保持する電荷に応じて、駆動用の薄膜トランジスタ30cのオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用の薄膜トランジスタ30cのチャネルを介して、電源線3eから第1電極層81に電流が流れ、さらに有機機能層を介して対極層に電流が流れる。その結果、有機EL素子80は、これを流れる電流量に応じて発光する。   According to this configuration, when the scanning line 3a is driven and the switching thin film transistor 30b is turned on, the potential of the data line 6a at that time is held in the holding capacitor 70, and according to the charge held in the holding capacitor 70, The on / off state of the driving thin film transistor 30c is determined. Then, a current flows from the power supply line 3e to the first electrode layer 81 through the channel of the driving thin film transistor 30c, and further a current flows to the counter electrode layer through the organic functional layer. As a result, the organic EL element 80 emits light according to the amount of current flowing therethrough.

このように構成した有機EL装置100において、複数の画素100aは各々、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)に対応し、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の3つの画素100aによって1つのピクセルを構成している。本形態において、有機EL素子80は、白色光、または赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の混合色光が出射され、画素100aが赤色(R)、緑色(G)、青色(B)のいずれに対応するかは、後述するカラーフィルタ層によって規定されている。   In the organic EL device 100 configured as described above, each of the plurality of pixels 100a corresponds to red (R), green (G), and blue (B), and red (R), green (G), and blue (B). The three pixels 100a constitute one pixel. In this embodiment, the organic EL element 80 emits white light or mixed color light of red (R), green (G), and blue (B), and the pixel 100a is red (R), green (G), blue ( Which of B) corresponds is defined by a color filter layer described later.

なお、図1に示す構成では、電源線3eは走査線3aと並列していたが、電源線3eがデータ線6aに並列している構成を採用してもよい。また、図1に示す構成では、電源線3eを利用して保持容量70を構成していたが、電源線3eとは別に容量線を形成し、かかる容量線によって保持容量70を構成してもよい。   In the configuration shown in FIG. 1, the power supply line 3e is parallel to the scanning line 3a. However, a configuration in which the power supply line 3e is parallel to the data line 6a may be adopted. In the configuration shown in FIG. 1, the storage capacitor 70 is configured using the power supply line 3e. However, the storage capacitor 70 may be configured by forming a capacitance line separately from the power supply line 3e. Good.

(有機EL装置の具体的構成)
図2(a)、(b)は各々、本発明を適用した有機EL装置の平面的な構成を各構成要素と共に第2基板側から見た平面図、およびそのJ−J′断面図である。なお、図2(b)にはカラーフィルタ層などの図示を省略してある。図2(a)、(b)において、本形態の有機EL装置100では、素子基板としての第1基板10と、封止基板およびカラーフィルタ層基板の双方の機能を担う第2基板20とを備えており、第1基板10において、複数の有機EL素子80が形成されている面側に第2基板20が重ねて配置されている。
(Specific configuration of organic EL device)
2A and 2B are a plan view of the organic EL device to which the present invention is applied as viewed from the second substrate side together with the respective components, and a JJ ′ sectional view thereof. . In addition, illustration of a color filter layer etc. is abbreviate | omitted in FIG.2 (b). 2A and 2B, in the organic EL device 100 of the present embodiment, a first substrate 10 as an element substrate and a second substrate 20 that functions as both a sealing substrate and a color filter layer substrate are provided. In the first substrate 10, the second substrate 20 is disposed so as to overlap the surface side on which the plurality of organic EL elements 80 are formed.

ここで、第1基板10と第2基板20とは、第1シール材層91および第2シール材層92によって貼り合わされている。かかる第1シール材層91および第2シール材層92の詳細な構成は後述するが、第1シール材層91は、図2(a)にドットを密に付した領域で示してあるように、画素領域10aの周りを囲む周辺領域10cに沿って枠状に形成されている。これに対して、第2シール材層92は、図2(a)にドットを疎に付した領域で示してあるように、第1シール材層91で囲まれた領域の全体にわたって形成されている。   Here, the first substrate 10 and the second substrate 20 are bonded together by the first sealing material layer 91 and the second sealing material layer 92. Although the detailed configuration of the first sealing material layer 91 and the second sealing material layer 92 will be described later, the first sealing material layer 91 is shown by a region where dots are densely attached in FIG. A frame is formed along a peripheral region 10c surrounding the pixel region 10a. On the other hand, the second sealing material layer 92 is formed over the entire area surrounded by the first sealing material layer 91, as shown by the area where dots are sparsely attached in FIG. Yes.

なお、第1基板10において、第2基板20からの張り出し領域には端子102が形成されている。また、第1基板10において、周辺領域10cや、画素領域10aと周辺領域10cとに挟まれた領域を利用して、図1を参照して説明したデータ線駆動回路101および走査線駆動回路104(図示せず)が形成されている。   In the first substrate 10, a terminal 102 is formed in an overhanging region from the second substrate 20. In the first substrate 10, the data line driving circuit 101 and the scanning line driving circuit 104 described with reference to FIG. 1 are used by using the peripheral region 10 c or a region sandwiched between the pixel region 10 a and the peripheral region 10 c. (Not shown) is formed.

(有機EL素子の構成)
図3は、本発明を適用した有機EL装置の断面構成を模式的に示す断面図である。なお、図3には、有機EL素子として、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)に対応する3つの有機EL素子のみを示してある。
(Configuration of organic EL element)
FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing a cross-sectional configuration of an organic EL device to which the present invention is applied. FIG. 3 shows only three organic EL elements corresponding to red (R), green (G), and blue (B) as organic EL elements.

図3に示すように、第1基板10は、石英基板、ガラス基板、セラミック基板、金属基板などからなる支持基板10dを備えている。支持基板10dの表面には、絶縁膜11、12、13、14、15が形成され、絶縁膜15の上層には有機EL素子80が形成されている。本形態において、絶縁膜11、12、13、15は、酸化シリコン膜や窒化シリコン膜などから形成され、絶縁膜14は、厚さが1.5〜2.0μmの厚い感光性樹脂からなる平坦化膜として形成されている。絶縁膜11は下地絶縁層であり、図示を省略するが、絶縁膜11、12、13、14の層間などを利用して、図1を参照して説明した薄膜トランジスタ30b、30c、保持容量70、各種配線や各駆動回路が形成されている。また、絶縁膜12、13、14、15に形成されたコンタクトホールを利用して、異なる層間に形成された導電膜同士の電気的な接続が行なわれている。   As shown in FIG. 3, the first substrate 10 includes a support substrate 10d made of a quartz substrate, a glass substrate, a ceramic substrate, a metal substrate, or the like. Insulating films 11, 12, 13, 14, and 15 are formed on the surface of the support substrate 10 d, and an organic EL element 80 is formed on the insulating film 15. In this embodiment, the insulating films 11, 12, 13, and 15 are formed of a silicon oxide film, a silicon nitride film, or the like, and the insulating film 14 is a flat film made of a thick photosensitive resin having a thickness of 1.5 to 2.0 μm. It is formed as a chemical film. The insulating film 11 is a base insulating layer, and although not shown, the thin film transistors 30b and 30c, the storage capacitor 70, and the like described with reference to FIG. 1 using the layers of the insulating films 11, 12, 13, and 14 are used. Various wirings and driving circuits are formed. In addition, the conductive films formed between different layers are electrically connected to each other by using the contact holes formed in the insulating films 12, 13, 14, and 15.

本形態の有機EL装置100は、トップエミッション型であり、矢印L1で示すように、支持基板10dからみて有機EL素子80が形成されている側から光を取り出すので、支持基板10dとしては、アルミナなどのセラミックス、ステンレススチールなどといった不透明な基板を用いることができる。また、絶縁膜14、15の層間には、アルミニウム、銀、それらの合金からなる光反射層41が形成されており、有機EL素子80から支持基板10dに向けて出射された光を光反射層41で反射することにより、光を出射可能である。なお、有機EL装置100をボトムエミッション型で構成した場合、支持基板10dの側から光を取り出すので、支持基板10dとしては、ガラスなどの透明基板が用いられる。   The organic EL device 100 of the present embodiment is a top emission type, and, as indicated by an arrow L1, light is extracted from the side where the organic EL element 80 is formed as viewed from the support substrate 10d. Opaque substrates such as ceramics, stainless steel, etc. can be used. In addition, a light reflection layer 41 made of aluminum, silver, or an alloy thereof is formed between the insulating films 14 and 15, and light emitted from the organic EL element 80 toward the support substrate 10d is reflected on the light reflection layer. By reflecting at 41, light can be emitted. When the organic EL device 100 is configured as a bottom emission type, light is extracted from the support substrate 10d side, and therefore a transparent substrate such as glass is used as the support substrate 10d.

第1基板10では、絶縁膜15の上層にITO膜などからなる第1電極層81(陽極/画素電極)が島状に形成されており、第1電極層81の上層には、発光領域を規定するための開口部を備えた感光性樹脂などからなる厚い隔壁51が形成されている。   In the first substrate 10, a first electrode layer 81 (anode / pixel electrode) made of an ITO film or the like is formed in an island shape on the insulating film 15, and a light emitting region is formed on the upper layer of the first electrode layer 81. A thick partition wall 51 made of a photosensitive resin or the like having an opening for defining is formed.

第1電極層81の上層には、有機機能層82および第2電極層83(陰極)が積層されており、第1電極層81、有機機能層82および第2電極層83によって、有機EL素子80が形成されている。本形態において、有機機能層82および第2電極層83は、隔壁51が形成されている領域も含めて、画素領域10aの全面にわたって形成されている。   An organic functional layer 82 and a second electrode layer 83 (cathode) are laminated on the upper layer of the first electrode layer 81, and the organic EL element is formed by the first electrode layer 81, the organic functional layer 82, and the second electrode layer 83. 80 is formed. In this embodiment, the organic functional layer 82 and the second electrode layer 83 are formed over the entire surface of the pixel region 10a including the region where the partition walls 51 are formed.

本形態において、有機機能層82は、トリアリールアミン(ATP)多量体からなる正孔注入層、TPD(トリフェニルジアミン)系正孔輸送層、アントラセン系ドーパントやルブレン系ドーパントを含むスチリルアミン系材料(ホスト)からなる発光層、アルミニウムキノリノール(Alq3)からなる電子注入層をこの順に積層した構造を有しており、その上層にMgAgなどの薄膜金属からなる第2電極層83が形成されている。また、有機機能層82と第2電極層83との間には、LiFからなる電子注入バッファ層が形成されることもある。これらの材料のうち、有機機能層82を構成する各層、および電子注入バッファ層は、加熱ボート(るつぼ)を用いた真空蒸着法で順次形成することができる。また、第2電極層83などを構成する金属系材料については真空蒸着法により形成でき、第1電極層81を構成するITOなどの酸化物材料についてはECRプラズマスパッタ法やプラズマガン方式イオンプレーティング法、マグネトロンスパッタ法などの高密度プラズマ成膜法により形成することができる。 In this embodiment, the organic functional layer 82 includes a hole injection layer made of a triarylamine (ATP) multimer, a TPD (triphenyldiamine) -based hole transport layer, an styrylamine-based material containing an anthracene-based dopant or a rubrene-based dopant. A light emitting layer made of (host) and an electron injection layer made of aluminum quinolinol (Alq 3 ) are laminated in this order, and a second electrode layer 83 made of a thin film metal such as MgAg is formed thereon. Yes. In addition, an electron injection buffer layer made of LiF may be formed between the organic functional layer 82 and the second electrode layer 83. Among these materials, each layer constituting the organic functional layer 82 and the electron injection buffer layer can be sequentially formed by a vacuum evaporation method using a heating boat (crucible). Further, the metal material constituting the second electrode layer 83 and the like can be formed by a vacuum deposition method, and the oxide material such as ITO constituting the first electrode layer 81 can be formed by an ECR plasma sputtering method or a plasma gun type ion plating. It can be formed by a high-density plasma film forming method such as a method or a magnetron sputtering method.

本形態において、有機EL素子80は、白色光、または赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の混合色光を出射する。このため、有機EL装置100では、第2基板20において、有機EL素子80と対向する位置に形成した赤色(R)、緑色(G)、青色(B)のカラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)によって色変換を行なうことにより、フルカラー表示を行なう。すなわち、第2基板20には、ポリエチレンテレフタレート、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリオレフィンなどプラスチック基板や、ガラス基板などからなる透光性の支持基板20dに、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)のカラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)、カラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)の間で光の漏洩を防止するための遮光層23(ブラックマトリックス層)、透光性の平坦化膜24、酸窒化シリコン層などからなる透光性のガスバリア層25がこの順に形成されている。本形態において、カラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)、遮光層23、平坦化膜24、およびガスバリア層25は、第2基板20の画素領域10aのみに形成され、周辺領域10cには形成されていない。このため、第2基板20の周辺領域10cでは、支持基板20dが露出している。   In this embodiment, the organic EL element 80 emits white light or mixed color light of red (R), green (G), and blue (B). For this reason, in the organic EL device 100, the red (R), green (G), and blue (B) color filter layers 22 (R) formed on the second substrate 20 at positions facing the organic EL element 80 ( Full color display is performed by performing color conversion according to G) and (B). That is, the second substrate 20 has a transparent support substrate 20d made of a plastic substrate such as polyethylene terephthalate, acrylic resin, polycarbonate, polyolefin, or a glass substrate, and red (R), green (G), blue (B ) Color filter layer 22 (R), (G), (B), color filter layer 22 (R), (G), light shielding layer 23 (black matrix for preventing leakage of light) between (B) Layer), a light-transmitting planarizing film 24, a light-transmitting gas barrier layer 25 made of a silicon oxynitride layer, and the like are formed in this order. In this embodiment, the color filter layers 22 (R), (G), and (B), the light shielding layer 23, the planarizing film 24, and the gas barrier layer 25 are formed only in the pixel region 10 a of the second substrate 20, and the peripheral region It is not formed in 10c. For this reason, the support substrate 20d is exposed in the peripheral region 10c of the second substrate 20.

カラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)は、透明樹脂バインダーに顔料または染料が混合されている層であり、赤(R)、緑(G)、青(B)を用いるのが基本であるが、目的に応じてライトブルーやライトシアン、白などを加えてもよい。カラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)の厚みは、光線透過率を考慮して極力薄い方がよく、0.1〜1.5μmの範囲で形成され、その厚さは、対応する色によって相違させることもある。遮光層23は、黒色顔料を含んだ樹脂からなり、その厚さは、カラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)よりも厚く、1〜2μm前後の膜厚が好ましいが、これ以上の膜厚であってもよい。なお、第2基板20には、紫外線の入射を防止する紫外線遮断・吸収層や、光反射防止層、放熱層などの機能層が形成されることもある。   The color filter layers 22 (R), (G), and (B) are layers in which pigments or dyes are mixed in a transparent resin binder, and red (R), green (G), and blue (B) are used. However, light blue, light cyan, white, etc. may be added depending on the purpose. The thickness of the color filter layers 22 (R), (G), and (B) is preferably as thin as possible in consideration of the light transmittance, and is formed in a range of 0.1 to 1.5 μm. It may be different depending on the corresponding color. The light shielding layer 23 is made of a resin containing a black pigment, and the thickness thereof is thicker than the color filter layers 22 (R), (G), and (B), and a film thickness of about 1 to 2 μm is preferable. The above film thickness may be sufficient. The second substrate 20 may be provided with a functional layer such as an ultraviolet blocking / absorbing layer that prevents the incidence of ultraviolet rays, a light reflection preventing layer, or a heat dissipation layer.

このような構成を採用した場合、高精細化の実現および混色防止という観点から、カラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)と有機機能層82との距離d、カラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)と有機機能層82との間に介在する材料の屈折率n、および隣接するカラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)同士の距離sは、以下の関係
(n×s)/√(d2+s2)≧1
を満たすことが好ましい。すなわち、カラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)と有機機能層82との距離dが短いことが好ましく、それ故、第1基板10と第2基板20との間隙は狭い方が好ましい。
When such a configuration is adopted, the distance d between the color filter layers 22 (R), (G), and (B) and the organic functional layer 82, the color filter layer 22 from the viewpoint of realizing high definition and preventing color mixing. The refractive index n of the material interposed between (R), (G), (B) and the organic functional layer 82 and the distance s between the adjacent color filter layers 22 (R), (G), (B). Is the following relationship (n × s) / √ (d 2 + s 2 ) ≧ 1
It is preferable to satisfy. That is, it is preferable that the distance d between the color filter layers 22 (R), (G), and (B) and the organic functional layer 82 is short, and therefore the gap between the first substrate 10 and the second substrate 20 is narrower. Is preferred.

(封止構造)
このように構成した有機EL装置100において、有機機能層82、陰極として用いた第2電極層83、電子注入層などは、水分により劣化しやすく、かかる劣化は、電子注入効果の劣化を惹き起こし、ダークスポットと呼ばれる非発光部分を発生させてしまう。そこで、本形態では、第2基板20を封止基板として第1基板10と貼り合せた構成と、第1基板10に対して以下に説明する封止膜60を形成した構成とを併用する。
(Sealing structure)
In the organic EL device 100 configured as described above, the organic functional layer 82, the second electrode layer 83 used as the cathode, the electron injection layer, and the like are easily deteriorated by moisture, and such deterioration causes deterioration of the electron injection effect. , A non-light-emitting portion called a dark spot is generated. Therefore, in this embodiment, the configuration in which the second substrate 20 is used as a sealing substrate and the first substrate 10 are bonded together and the configuration in which the sealing film 60 described below is formed on the first substrate 10 are used in combination.

まず、第1基板10には、第2電極層83の上層に画素領域10aよりも広い領域にわたって封止膜60が形成されている。かかる封止膜60として、本形態では、第2電極層83上に積層されたシリコン化合物層からなる第1膜61、この第1膜61上に積層された樹脂層からなる第2膜62、およびこの第2膜62上に積層されたシリコン化合物からなる第3膜63を備えた積層膜が用いられている。第1膜61および第3膜63は、高密度プラズマ源を用いた高密度プラズマ気相成長法、例えば、ブラズマガン方式イオンプレーティング、ECRプラズマスパッタ、ECRプラズマCVD、表面波プラズマCVD、ICP−CVDなどを用いて成膜された窒化シリコン(SiNx)や酸窒化シリコン(SiOxy)などから構成されており、かかる薄膜は、低温で成膜しても水分を確実に遮断する高密度ガスバリア層として機能する。第2層62は、樹脂層から構成されており、隔壁51や配線などに起因する表面凹凸を平坦化して第1膜61および第2膜62にクラックが発生するのを防止する有機緩衝層として機能している。 First, the sealing film 60 is formed on the first substrate 10 over the second electrode layer 83 over a region wider than the pixel region 10a. As the sealing film 60, in this embodiment, a first film 61 made of a silicon compound layer laminated on the second electrode layer 83, a second film 62 made of a resin layer laminated on the first film 61, In addition, a laminated film including a third film 63 made of a silicon compound laminated on the second film 62 is used. The first film 61 and the third film 63 are formed by a high-density plasma vapor deposition method using a high-density plasma source, for example, plasma gun type ion plating, ECR plasma sputtering, ECR plasma CVD, surface wave plasma CVD, ICP-CVD. It is composed of silicon nitride (SiN x ), silicon oxynitride (SiO x N y ), etc. that are deposited using such a method, and such a thin film has a high density that reliably blocks moisture even when deposited at low temperatures. Functions as a gas barrier layer. The second layer 62 is composed of a resin layer, and serves as an organic buffer layer that flattens surface irregularities caused by the partition walls 51 and wirings and prevents cracks in the first film 61 and the second film 62. It is functioning.

本形態では、封止膜60を構成する第1膜61および第3膜63(高密度ガスバリア層)は、画素領域10a、画素領域10aの近傍領域、および画素領域10aから離れた周辺領域10cの全てを含む第1基板10の全面に形成されている。これに対して、第2層62(有機緩衝層)は、画素領域10a、および画素領域10aの近傍領域のみに分厚く形成され、画素領域10aから離れた周辺領域10cには形成されていない。また、絶縁膜14、15は概ね、画素領域10aのみ形成されている。   In this embodiment, the first film 61 and the third film 63 (high-density gas barrier layer) constituting the sealing film 60 are formed in the pixel region 10a, the vicinity region of the pixel region 10a, and the peripheral region 10c far from the pixel region 10a. It is formed on the entire surface of the first substrate 10 including all. On the other hand, the second layer 62 (organic buffer layer) is formed thick only in the pixel region 10a and a region near the pixel region 10a, and is not formed in the peripheral region 10c far from the pixel region 10a. The insulating films 14 and 15 are generally formed only in the pixel region 10a.

次に、本形態では、図2(a)、(b)、および図3に示すように、第1基板10と第2基板20との間では、周辺領域10cに沿って第1シール材層91が矩形枠状に形成され、周辺領域10cで囲まれた領域の全体にわたって透光性の第2シール材層92が形成されており、第1基板10と第2基板20とは、第1シール材層91および第2シール材層92によって貼り合わされている。   Next, in this embodiment, as shown in FIGS. 2A, 2 </ b> B, and 3, between the first substrate 10 and the second substrate 20, the first sealing material layer is formed along the peripheral region 10 c. 91 is formed in a rectangular frame shape, and a translucent second sealing material layer 92 is formed over the entire region surrounded by the peripheral region 10c, and the first substrate 10 and the second substrate 20 are formed of the first substrate 10 and the second substrate 20, respectively. The sealing material layer 91 and the second sealing material layer 92 are bonded together.

本形態において、第1シール材層91(第1シール材91a)には、紫外線によって硬化するエポキシ系接着剤が用いられ、かかるエポキシ系接着剤としては、好ましくはエポキシ基を有する分子量3000以下のエポキシモノマー/オリゴマー(モノマーの定義:分子量1000以下、オリゴマーの定義:分子量1000〜3000)が用いられる。より具体的には、第1シール材層91には、例えば、ビスフェノールA型エポキシオリゴマーやビスフェノールF型エポキシオリゴマー、フェノールノボラック型エポキシオリゴマー、3,4-エポキシシクロヘキセニルメチル-3′,4′-エポキシシクロヘキセンカルボキシレート、ε-カプロラクトン変性3、4-エポキシシクロヘキシルメチル3′,4′-エポキシシクロヘキサンカルボキレートなどが単独もしくは複数組み合わされて用いられる。また、エポキシモノマー/オリゴマーと反応する硬化剤としては、ジアゾニウム塩、ジフェニルヨウドニウム塩、トリフェニルスルフォニウム塩、スルホン酸エステル、鉄アレーン錯体、シラノール/アルミニウム錯体などのカチオン重合反応を起こす光反応型開始剤が添加され、主に紫外線の照射によってカチオン重合反応を起こす。   In this embodiment, an epoxy adhesive that is cured by ultraviolet rays is used for the first sealing material layer 91 (first sealing material 91a), and the epoxy adhesive preferably has an epoxy group and a molecular weight of 3000 or less. Epoxy monomer / oligomer (monomer definition: molecular weight 1000 or less, oligomer definition: molecular weight 1000 to 3000) is used. More specifically, the first sealing material layer 91 includes, for example, bisphenol A type epoxy oligomer, bisphenol F type epoxy oligomer, phenol novolac type epoxy oligomer, 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ′, 4′- Epoxycyclohexenecarboxylate, ε-caprolactone-modified 3,4-epoxycyclohexylmethyl 3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate, etc. are used alone or in combination. In addition, as a curing agent that reacts with epoxy monomer / oligomer, photoreactive type that causes cationic polymerization reaction such as diazonium salt, diphenyliodonium salt, triphenylsulfonium salt, sulfonate ester, iron arene complex, silanol / aluminum complex, etc. An initiator is added, and a cationic polymerization reaction is caused mainly by ultraviolet irradiation.

第2シール材層92(第2シール材92a)は、第1基板10と第2基板20との間に介在して第1基板10と第2基板20との基板間隔を制御するビーズ状あるいはファイバー状のギャップ材95が樹脂96中に分散された構造になっており、第1基板10と第2基板20との間隙はギャップ材95によって制御されている。   The second sealing material layer 92 (second sealing material 92a) is interposed between the first substrate 10 and the second substrate 20, and is shaped like a bead that controls the substrate distance between the first substrate 10 and the second substrate 20. The fiber-shaped gap material 95 is dispersed in the resin 96, and the gap between the first substrate 10 and the second substrate 20 is controlled by the gap material 95.

第2シール材層92において、樹脂96には、熱によって硬化するエポキシ系接着剤が用いられている。かかるエポキシ系接着剤の原料主成分としては、流動性に優れかつ溶媒のような揮発成分を持たない有機化合物材料である必要があり、好ましくはエポキシ基を有する分子量3000以下のエポキシモノオリゴマー、より好ましくは分子量1000以下のエポキシモノマーなどである。例えば、第2シール材層92の形成には、硬ビスフェノールA型エポキシモノマーやビスフェノールF型エポキシモノマー、ノボラック形フェノールエポキシモノマー、3,4-エポキシシクロヘキセニルメチル-3′,4′-エポキシシクロヘキセンカルボキシレート、ε-カプロラクトン変性3,4-エポキシシクロヘキシルメチル3′,4′-エポキシシクロヘキサンカルボキレートなどが単独もしくは複数組み合わされて用いられる。また、エポキシモノマーと反応する硬化剤としては、強靭で耐熱性に優れる硬化皮膜を形成する付加重合型が良く、芳香族アミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ポリエーテルジアミンなどのアミン類や、3−メチル−1,2,3,6−テトラヒドロ無水フタル酸、1,2,4,5−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物などの酸無水物系硬化剤、ジシアンジアミドなどが挙げられる。これらと、芳香族アミノアルコールやアルコール類、メルカプタンなどの反応開始剤または3級アミン触媒、シランカップリング剤と共に混合されて用いられる。   In the second sealing material layer 92, an epoxy adhesive that is cured by heat is used for the resin 96. As a raw material main component of such an epoxy-based adhesive, it is necessary to be an organic compound material that is excellent in fluidity and does not have a volatile component such as a solvent, and preferably an epoxy monooligomer having an epoxy group and a molecular weight of 3000 or less. Preferred are epoxy monomers having a molecular weight of 1000 or less. For example, the second sealing material layer 92 may be formed by using a hard bisphenol A type epoxy monomer, a bisphenol F type epoxy monomer, a novolac type phenol epoxy monomer, 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ', 4'-epoxycyclohexene carboxy. Rate, ε-caprolactone-modified 3,4-epoxycyclohexylmethyl 3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarbochelate, etc. may be used alone or in combination. Further, as the curing agent that reacts with the epoxy monomer, an addition polymerization type that forms a tough and excellent heat-resistant cured film is good, and amines such as aromatic amine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, and polyetherdiamine, Methyl-1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride, 1,2,4,5-benzenetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, etc. An acid anhydride type hardening | curing agent, dicyandiamide, etc. are mentioned. These are mixed with a reaction initiator such as aromatic amino alcohol, alcohol, mercaptan, tertiary amine catalyst or silane coupling agent.

(製造方法)
図4および図5を参照して、本形態の有機EL装置100の製造方法を説明する。図4および図5は、本形態の有機EL装置100の製造工程のうち、第1基板10に有機EL素子80や封止膜60などを形成した後、第1基板10と第2基板20とを貼り合せる直前までの様子を示す工程断面図、およびかかる工程を大型基板の状態で行なう様子を模式的に示す説明図である。
(Production method)
With reference to FIG. 4 and FIG. 5, the manufacturing method of the organic electroluminescent apparatus 100 of this form is demonstrated. 4 and FIG. 5 show the first substrate 10 and the second substrate 20 after the organic EL element 80 and the sealing film 60 are formed on the first substrate 10 in the manufacturing process of the organic EL device 100 of this embodiment. It is process sectional drawing which shows the mode until just before bonding, and explanatory drawing which shows typically a mode that this process is performed in the state of a large sized substrate.

本形態の有機EL装置100を製造するにあたっては、第1基板10および第2基板20を単品サイズの大きさにして貼り合せる方法の他、第1基板10および第2基板20を多数取りできる大型基板の状態で貼り合わせ、その後、大型基板を単品サイズの大きさに切断する方法を採用することもある。これらのいずれの方法を採用しても、基本的な構成は同一であるので、図4を参照して、単品サイズの大きさの第1基板10と第2基板20とを貼り合せる様子を中心に説明するとともに、図5を参照して、大型基板で基板同士を貼り合わせる方法を併せて説明する。   In manufacturing the organic EL device 100 of the present embodiment, in addition to a method of bonding the first substrate 10 and the second substrate 20 in a single product size, a large size capable of taking a large number of the first substrate 10 and the second substrate 20. In some cases, the substrates are bonded together and then a large substrate is cut into a single size. Since any one of these methods is adopted, the basic configuration is the same, and therefore, with reference to FIG. 4, the manner in which the first substrate 10 and the second substrate 20 having a single product size are bonded together is mainly described. A method for bonding substrates together with a large substrate will also be described with reference to FIG.

まず、図4(a)に示すように、第1基板10に有機EL素子80や封止層60を形成した後、図4(b)に示す第1シール材塗布工程において、ディスペンサ描画、スクリーン印刷法、マイクロピエゾヘッドを用いたインクジェット法などにより、第1基板10の周辺領域10cに対して、前記した光硬化性のエポキシ樹脂材料からなる樹脂96中にギャップ材95が分散された第1シール材91aを1mm以下の狭い幅寸法に塗布する。ここで、第1シール材91aを1mm以下の狭い幅寸法に塗布するという観点から、第1シール材91aの塗布時の粘度は、室温で10万mPa・s以上が好ましい。また、第1シール料91aは、水分を含んでいると、気泡が発生し、強度が低下するため、含水率は0.1wt%(1000ppm)以下に脱水されていることが好ましい。   First, as shown in FIG. 4A, after forming the organic EL element 80 and the sealing layer 60 on the first substrate 10, in the first sealing material application step shown in FIG. The gap material 95 is dispersed in the resin 96 made of the above-described photo-curable epoxy resin material with respect to the peripheral region 10c of the first substrate 10 by a printing method, an inkjet method using a micro piezo head, or the like. The sealing material 91a is applied to a narrow width dimension of 1 mm or less. Here, from the viewpoint of applying the first sealing material 91a to a narrow width dimension of 1 mm or less, the viscosity at the time of applying the first sealing material 91a is preferably 100,000 mPa · s or more at room temperature. In addition, when the first sealing material 91a contains moisture, bubbles are generated and the strength is reduced. Therefore, the moisture content is preferably dehydrated to 0.1 wt% (1000 ppm) or less.

かかる工程を大型基板の状態で行なう場合には、図5(a)に示すように、大型基板10xのうち、単品サイズの第1基板10を切り出す際のスクライブ線(図示せず)に沿って第1シール材91aを塗布する。   When this process is performed in the state of a large substrate, as shown in FIG. 5A, along a scribe line (not shown) when cutting out the single substrate 1 of the large substrate 10x. The first sealing material 91a is applied.

次に、図4(c)に示す第2シール材塗布工程において、ディスペンサ描画、スクリーン印刷法、マイクロピエゾヘッドを用いたインクジェット法などにより、第1基板10において、第1シール材91a囲まれた領域内に、前記した熱硬化性のエポキシ樹脂材料からなる第2シール材92aを塗布する。かかる第2シール材92aは、ベタ状、ドット状、ストライプ状などのパターンに塗布される。第2シール材92aの塗布時の粘度は、薄膜でかつ充填性を上げるという観点から、2000mPa・s以下であることが好ましい。かかる第2シール材92aについても、多量の水分を含んでいると硬化阻害を起こしやすいため、第2シール材92aについても、第1シール材91aと同様、水分を含んでいると、気泡が発生し、強度が低下するため、含水率は0.1wt%(1000ppm)以下に脱水されていることが好ましい。また、第2シール材92aに対して、酸無水の開環を促進する硬化促進剤やカチオン重合反応を起こす光反応型開始剤などを添加しておけば、低温かつ短時間での硬化が可能となる。   Next, in the second sealing material application step shown in FIG. 4C, the first sealing material 91a is surrounded by the first substrate 10 by a dispenser drawing, a screen printing method, an ink jet method using a micro piezo head, or the like. The second sealing material 92a made of the above-described thermosetting epoxy resin material is applied in the region. The second sealing material 92a is applied in a pattern such as a solid shape, a dot shape, or a stripe shape. The viscosity at the time of application of the second sealing material 92a is preferably 2000 mPa · s or less from the viewpoint of increasing the filling property with a thin film. Since the second sealing material 92a is also susceptible to curing inhibition if it contains a large amount of water, bubbles are generated when the second sealing material 92a contains water as well as the first sealing material 91a. In order to reduce the strength, the water content is preferably dehydrated to 0.1 wt% (1000 ppm) or less. In addition, if a curing accelerator that promotes ring opening of acid anhydride or a photoreactive initiator that causes a cationic polymerization reaction is added to the second sealing material 92a, curing can be performed at a low temperature in a short time. It becomes.

かかる工程を大型基板の状態で行なう場合には、図5(b)に示すように、大型基板10xにおいて第1シール材91aで囲まれた領域内に第2シール材92aを塗布する。   When this process is performed in the state of a large substrate, as shown in FIG. 5B, the second seal material 92a is applied in the region surrounded by the first seal material 91a in the large substrate 10x.

かかる第2シール材塗布工程を行なう際、第2シール材92aの塗布量(体積)については、図2および図3に示すようにシール材固化工程を行なった後において、第1基板10、第2基板20および第1シール材91で囲まれた空間の体積と、第2シール材92aを硬化させた際の体積収縮率との積に相当する量に設定する。   When the second sealing material application step is performed, the application amount (volume) of the second sealing material 92a is determined after the sealing material solidifying step is performed as shown in FIGS. The volume is set to an amount corresponding to the product of the volume of the space surrounded by the two substrates 20 and the first sealing material 91 and the volume shrinkage rate when the second sealing material 92a is cured.

次に、重ね合わせ工程では、真空度1Pa程度の減圧雰囲気中で、図2(b)および図3に示すように、第1シール材91aおよび第2シール材92aを間に挟むように第1基板10と第2基板20とをアライメントしながら重ね合わせる。その際、約600N程度の力で第2基板20を第1基板10に向けて加圧し、この状態を約200秒保持する。かかる重ね合わせ工程では、まず、第1シール材91aが第2基板20に接触して内側が密閉され、その後、第1基板10と第2基板20との間で第2シール材92aが展開する。   Next, in the overlapping process, as shown in FIG. 2B and FIG. 3, the first sealing material 91a and the second sealing material 92a are sandwiched between the first sealing material 91a and the first sealing material 92a in a reduced pressure atmosphere with a degree of vacuum of about 1 Pa. The substrate 10 and the second substrate 20 are overlaid while being aligned. At that time, the second substrate 20 is pressed toward the first substrate 10 with a force of about 600 N, and this state is maintained for about 200 seconds. In the superimposing step, first, the first sealing material 91a comes into contact with the second substrate 20 to seal the inside, and then the second sealing material 92a is developed between the first substrate 10 and the second substrate 20. .

次に、常圧に戻すと、大気圧によって加圧されたのと同様な状態になるので、第1基板10と第2基板20との間で第2シール材92aが隅々まで展開し、第2シール材92aの充填性が向上する。その際、第1シール材91aは、第2シール材92aに対するバンクとして機能する。このため、減圧状態から常圧に戻した際に大気圧によって加圧されたのと同様な状態になっても、第2シール材92aは、第1シール材91aによって堰き止められ、外側に流出しない。なお、第1基板10と第2基板20との間には、第1シール材91aが含有するギャップ材95によって所定の隙間が確保される。   Next, when the pressure is returned to normal pressure, it becomes the same state as when pressurized by atmospheric pressure, so the second sealing material 92a expands to every corner between the first substrate 10 and the second substrate 20, The filling property of the second sealing material 92a is improved. In that case, the 1st sealing material 91a functions as a bank with respect to the 2nd sealing material 92a. For this reason, even when the pressure is restored from the reduced pressure state to the normal pressure, the second sealing material 92a is blocked by the first sealing material 91a and flows out to the outside even if the pressure is increased by the atmospheric pressure. do not do. A predetermined gap is ensured between the first substrate 10 and the second substrate 20 by the gap material 95 contained in the first sealing material 91a.

次に、シール材固化工程では、第1シール材91aを固化させて第1シール材層91を形成するとともに、第2シール材92aを固化させて第2シール材層92を形成する。ここで、第1シール材91aまたは/および第2シール材92aとしては熱可塑性樹脂を用いることができるが、本形態において、第1シール材91aは光硬化性であり、第2シール材92aは熱硬化性である。   Next, in the sealing material solidifying step, the first sealing material 91a is solidified to form the first sealing material layer 91, and the second sealing material 92a is solidified to form the second sealing material layer 92. Here, a thermoplastic resin can be used as the first sealing material 91a and / or the second sealing material 92a. However, in the present embodiment, the first sealing material 91a is photocurable, and the second sealing material 92a is It is thermosetting.

そこで、本形態では、第1基板10または/および第2基板20の側から第1シール材91aに対して30mW/cm2程度のパワーで2000mJ/cm2程度の光量の紫外線を照射して第1シール材91aのみを選択的に硬化させて、第1シール材層91を形成する。次に、第1シール材層91によって貼り合わされた第1基板10と第2基板20とをホットプレート上に配置した状態で、有機EL素子80が劣化しない温度条件、例えば100℃以下の温度条件、より具体的には60〜100℃の温度条件で加熱を行い、第1基板10と第2基板20との間で第2シール材92aを隅々まで行き渡らせながら第2シール材92aを硬化させ、第2シール材層92を形成する。このようにして、第1基板10と第2基板20とを第1シール材層91および第2シール材層92によって貼り合わせた構造とする(貼り合せ工程)。 Therefore, in this embodiment, the first sealing material 91a is irradiated with ultraviolet rays having a light amount of about 2000 mJ / cm 2 at a power of about 30 mW / cm 2 from the first substrate 10 or / and the second substrate 20 side. Only the first sealing material 91 a is selectively cured to form the first sealing material layer 91. Next, in a state where the first substrate 10 and the second substrate 20 bonded together by the first sealing material layer 91 are arranged on a hot plate, a temperature condition where the organic EL element 80 is not deteriorated, for example, a temperature condition of 100 ° C. or less. More specifically, heating is performed under a temperature condition of 60 to 100 ° C., and the second sealing material 92a is cured while spreading the second sealing material 92a to every corner between the first substrate 10 and the second substrate 20. The second sealing material layer 92 is formed. In this way, the first substrate 10 and the second substrate 20 are bonded to each other by the first sealing material layer 91 and the second sealing material layer 92 (bonding step).

このような工程を行なうことにより、有機EL装置100を得る。なお、上記の工程を大型基板の状態で行なった場合には、大型基板を切断して単品サイズの有機EL装置100を得る。このように構成した有機EL装置100において、第2シール材層92は硬化されているので、高温放置時に対流が起こらないので、封止膜60の第3層63を損傷することがなく、第2シール材層92は、封止膜60の第3層63に対する保護膜として機能する。ここで、第2シール材層92の厚さは1〜5μmであり、画素高精細になる程薄い方が好ましい。また、一般的な接着剤に多く含まれる粘土鉱物やシリカボール、樹脂ボールなどの充填物(フィラー)は、封止膜60の第3層63を損傷させる原因となるため、第1シール材91aおよび第2シール材92aには、かかる充填物が配合されていないことが好ましく、特に、第2シール材92aは、封止膜60に接するとともに、光の透過性を考慮すると、充填物が配合されていないことが好ましい。   By performing such steps, the organic EL device 100 is obtained. When the above process is performed on a large substrate, the large substrate is cut to obtain a single-size organic EL device 100. In the organic EL device 100 configured as described above, since the second sealing material layer 92 is cured, convection does not occur when left at a high temperature, so that the third layer 63 of the sealing film 60 is not damaged, and the second sealing material layer 92 is not damaged. The two sealing material layers 92 function as a protective film for the third layer 63 of the sealing film 60. Here, the thickness of the second sealing material layer 92 is 1 to 5 μm, and it is preferable that the second sealing material layer 92 is thinner as the pixel becomes higher in definition. In addition, fillers such as clay minerals, silica balls, and resin balls that are contained in a large amount in general adhesives cause damage to the third layer 63 of the sealing film 60, and thus the first sealing material 91 a. It is preferable that such a filler is not blended in the second sealing material 92a. In particular, the second sealing material 92a is in contact with the sealing film 60, and considering the light transmittance, the filler is blended. Preferably not.

(本形態の主な効果)
以上説明したように、本形態の有機EL装置100において、第1基板10と第2基板20とは、周辺領域10cに形成された枠状の第1シール材層91と、この第1シール材層91で囲まれた領域の全体に形成された第2シール材層92とによって貼り合わされているため、第1基板10に形成されている有機EL素子80などを、外部から侵入した水分から保護することができる。
(Main effects of this form)
As described above, in the organic EL device 100 according to the present embodiment, the first substrate 10 and the second substrate 20 include the frame-shaped first sealing material layer 91 formed in the peripheral region 10c and the first sealing material. The organic EL element 80 and the like formed on the first substrate 10 are protected from moisture entering from the outside because they are bonded together by the second sealing material layer 92 formed on the entire region surrounded by the layer 91. can do.

また、第1シール材層91は、第1基板10と第2基板20との基板間隔を制御するギャップ材95を含有しているので、第1基板10と第2基板20との間隙を制御することができる。このため、第1基板10と第2基板20とが当接することがないので、第1基板10の画素領域10aに形成されている膜を損傷することがない。さらに、ギャップ材95は、周辺領域10cに形成された第1シール材層91に含まれているため、第1基板10の画素領域10aに当接しないので、第1基板10の画素領域10aに形成されている膜を損傷することがない。   In addition, since the first sealing material layer 91 includes a gap material 95 that controls the distance between the first substrate 10 and the second substrate 20, the gap between the first substrate 10 and the second substrate 20 is controlled. can do. For this reason, since the first substrate 10 and the second substrate 20 do not contact each other, the film formed in the pixel region 10a of the first substrate 10 is not damaged. Further, since the gap material 95 is included in the first sealing material layer 91 formed in the peripheral region 10 c, it does not contact the pixel region 10 a of the first substrate 10. The formed film is not damaged.

また、本形態では、第2基板20に形成されたカラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)を利用してカラー画像を表示することができる。また、第1シール材層91が含有するギャップ材95によって、第1基板10と第2基板20との間隙が制御され、第1基板10と第2基板20とが当接することを確実に防止することができので、第1基板10と第2基板20との間隙を狭めることができる。従って、第2基板20に形成したカラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)を利用してカラー表示を行なう場合での高精細化、および混色の発生防止を実現することができる。   In this embodiment, a color image can be displayed using the color filter layers 22 (R), (G), and (B) formed on the second substrate 20. Moreover, the gap between the first substrate 10 and the second substrate 20 is controlled by the gap material 95 contained in the first sealing material layer 91, and the first substrate 10 and the second substrate 20 are reliably prevented from coming into contact with each other. Therefore, the gap between the first substrate 10 and the second substrate 20 can be narrowed. Accordingly, it is possible to achieve high definition and prevention of color mixing when performing color display using the color filter layers 22 (R), (G), and (B) formed on the second substrate 20. .

さらに、第1基板10において、画素領域10aには、第2電極層83の上層に封止膜60が形成されているため、第1基板10に形成されている有機EL素子80などを、外部から侵入した水分から確実に保護することができる。また、第1シール材層91が含有するギャップ材95によって、第1基板10と第2基板20との間隙が制御されているため、第2基板20が封止膜60に当接すること、およびギャップ材95が封止膜60に当接することがないので、第1基板10と第2基板20とを貼り合わせても封止膜60が損傷することがない。   Further, in the first substrate 10, since the sealing film 60 is formed on the second electrode layer 83 in the pixel region 10a, the organic EL element 80 and the like formed on the first substrate 10 are externally connected. It is possible to reliably protect from moisture that has entered from the inside. In addition, since the gap between the first substrate 10 and the second substrate 20 is controlled by the gap material 95 contained in the first sealing material layer 91, the second substrate 20 contacts the sealing film 60, and Since the gap material 95 does not contact the sealing film 60, the sealing film 60 is not damaged even if the first substrate 10 and the second substrate 20 are bonded together.

また、本形態の有機EL装置100の製造方法では、重ね合わせ工程において第1シール材91aおよび第2シール材92aを間に挟むように基板同士を重ね合わせ、基板間で第2シール材92aを展開させるとともに、第2シール材92aを第1シール材91aによって堰き止める。このため、第1基板10と第2基板20とが、周辺領域10cに形成された枠状の第1シール材層91と、この第1シール材層91で囲まれた領域の全体に形成された第2シール材層92とによって貼り合わされた構造を実現できる。また、かかる構造を実現するにあたって、第1シール材91aの塗布、および第2シール材92aの塗布を連続して行い、しかる後に、第1シール材91aおよび第2シール材92aを固化させるので、生産性を向上することができる。   Moreover, in the manufacturing method of the organic EL device 100 of the present embodiment, the substrates are stacked so that the first sealing material 91a and the second sealing material 92a are sandwiched in the overlapping step, and the second sealing material 92a is disposed between the substrates. The second sealing material 92a is dammed by the first sealing material 91a while being expanded. Therefore, the first substrate 10 and the second substrate 20 are formed on the entire frame-shaped first sealing material layer 91 formed in the peripheral region 10c and the region surrounded by the first sealing material layer 91. In addition, a structure bonded with the second sealing material layer 92 can be realized. Further, in realizing such a structure, the first sealing material 91a and the second sealing material 92a are continuously applied, and then the first sealing material 91a and the second sealing material 92a are solidified. Productivity can be improved.

また、第1シール材91aは、第2シール材92aよりも粘度が高いので、第1シール材91aを塗布した際、第1シール材91aが外側に流出することを防止することもできる。さらに、重ね合わせ工程において、第2シール材92aは第1シール材91aを外側に向けて押圧するが、第1シール材91aの粘度が高いため、第2シール材92aが第1シール材91aを突き破ることがなく、第2シール材92aの流出を防止することができる。また、第2シール材92aは粘度が低いため、第2シール材92aについては、第1シール材91aで囲まれた領域の全体にわたって充填することができる。   Moreover, since the 1st sealing material 91a has a viscosity higher than the 2nd sealing material 92a, when the 1st sealing material 91a is apply | coated, it can also prevent that the 1st sealing material 91a flows out outside. Further, in the overlapping step, the second sealing material 92a presses the first sealing material 91a outward, but the second sealing material 92a pushes the first sealing material 91a because the viscosity of the first sealing material 91a is high. The second sealing material 92a can be prevented from flowing out without breaking through. Further, since the second sealing material 92a has a low viscosity, the second sealing material 92a can be filled over the entire region surrounded by the first sealing material 91a.

さらに、重ね合わせ工程は、減圧雰囲気中で行なうため、第1基板10と第2基板20との間に気泡が混入することを防止することができる。また、常圧に戻した際、大気圧によって加圧されたのと同様な状態になるので、第1基板10と第2基板20との間で第2シール材92aが隅々まで行き渡り、第2シール材92aの充填性が向上する。   Furthermore, since the overlapping process is performed in a reduced-pressure atmosphere, it is possible to prevent bubbles from being mixed between the first substrate 10 and the second substrate 20. Further, when the pressure is returned to the normal pressure, the state is the same as when the pressure is increased by the atmospheric pressure. Therefore, the second sealing material 92a reaches every corner between the first substrate 10 and the second substrate 20, and the second The filling property of the two sealing materials 92a is improved.

さらに、第1シール材91aは光硬化性であり、第2シール材92aは熱硬化性であるため、第1シール材91aおよび第2シール材92aを所定の順序に硬化させることができ、第1シール材91aのみを硬化させた後、第2シール材92aを硬化させることができる。従って、第2シール材92aを硬化させる際に粘弾性変化が起こっても、第1シール材層91によって第1基板10と第2基板20とが貼り合わされているので、第1基板10と第2基板20とに位置ずれが発生しない。また、画素領域10aでは第1基板10および第2基板20に各種の遮光性の膜が形成されているが、このような場合でも、第2シール材92aが熱硬化性であるので、画素領域10a内に形成された第2シール材92aを確実に硬化させることができる。   Furthermore, since the first sealing material 91a is photocurable and the second sealing material 92a is thermosetting, the first sealing material 91a and the second sealing material 92a can be cured in a predetermined order, After only the first sealing material 91a is cured, the second sealing material 92a can be cured. Therefore, even if a viscoelastic change occurs when the second sealing material 92a is cured, the first substrate 10 and the second substrate 20 are bonded to each other by the first sealing material layer 91. No positional deviation occurs between the two substrates 20. In the pixel region 10a, various light-shielding films are formed on the first substrate 10 and the second substrate 20. Even in such a case, since the second sealant 92a is thermosetting, the pixel region The second sealing material 92a formed in 10a can be reliably cured.

さらにまた、第2シール材塗布工程を行なう際、第2シール材92aの塗布量については、第1基板10、第2基板20および第1シール材91aで囲まれた空間の体積と、第2シール材92aを硬化させた際の体積収縮率との積に相当する量に設定するため、第2シール材92aが過剰に塗布されることがない。従って、重ね合わせ工程において、第2シール材92aは第1シール材91aを外側に向けて過大な力で押圧することがない。従って、第2シール材92aが第1シール材91aを突き破ることがなく、第2シール材92aの流出を防止することができる。   Furthermore, when performing the second sealing material application step, the amount of application of the second sealing material 92a is the volume of the space surrounded by the first substrate 10, the second substrate 20, and the first sealing material 91a, and the second amount. Since the amount corresponding to the product of the volumetric shrinkage rate when the sealing material 92a is cured is set, the second sealing material 92a is not applied excessively. Therefore, in the overlapping process, the second sealing material 92a does not press the first sealing material 91a outward with an excessive force. Therefore, the second sealing material 92a does not break through the first sealing material 91a, and the second sealing material 92a can be prevented from flowing out.

(別の製造方法)
図6は、本発明を適当した有機EL装置100の製造工程のうち、第2基板20にカラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)などを形成した後、第1基板10と第2基板20とを貼り合せる直前までの様子を示す工程断面図である。なお、本形態の基本的な構成は、実施の形態1と同様であるため、共通する機能を有する部分には同一の符号を付して図示し、それらの説明を省略する。また、本形態の有機EL装置100を製造するにあたって、第1基板10および第2基板20を多数取りできる大型基板の状態で貼り合わせ工程などを行い、その後、大型基板を単品サイズの大きさに切断する方法を採用した場合の説明については、実施の形態1と同様、図5を参照する。また、図6において、第2基板20については、図3に示す状態と上下反転して示してある。
(Another manufacturing method)
FIG. 6 shows the manufacturing process of the organic EL device 100 to which the present invention is applied. After forming the color filter layers 22 (R), (G), (B), etc. on the second substrate 20, 5 is a process cross-sectional view showing a state until immediately before bonding with the second substrate 20; FIG. Since the basic configuration of this embodiment is the same as that of Embodiment 1, portions having common functions are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted. Further, in manufacturing the organic EL device 100 of the present embodiment, a bonding process or the like is performed in a state of a large substrate that can take a large number of the first substrate 10 and the second substrate 20, and then the large substrate is reduced to a single product size. As for the explanation when the cutting method is adopted, FIG. 5 is referred to as in the first embodiment. In FIG. 6, the second substrate 20 is shown upside down with respect to the state shown in FIG.

図4を参照して説明した方法では、第1基板10の方に第1シール材91aおよび第2シール材92aを塗布したが、本形態では、図6(a)に示すように、第2基板20の支持基板20dにカラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)などを形成した後、図6(b)に示す第1シール材塗布工程において、ディスペンサ描画、スクリーン印刷法、マイクロピエゾヘッドを用いたインクジェット法などにより、第2基板20の周辺領域10cに対して、実施の形態1で説明した光硬化性のエポキシ樹脂材料からなる第1シール材91aを1mm以下の狭い幅寸法に塗布する。かかる工程を大型基板の状態で行なう場合には、図5(a)に示すように、大型基板20xのうち、単品サイズの第2基板20を切り出す際のスクライブ線(図示せず)に沿って第2シール材92aを塗布する。   In the method described with reference to FIG. 4, the first sealing material 91a and the second sealing material 92a are applied to the first substrate 10, but in this embodiment, as shown in FIG. After forming the color filter layers 22 (R), (G), (B) and the like on the support substrate 20 d of the substrate 20, in the first sealing material application process shown in FIG. 6B, dispenser drawing, screen printing method, A narrow width of 1 mm or less of the first sealing material 91a made of the photo-curable epoxy resin material described in the first embodiment with respect to the peripheral region 10c of the second substrate 20 by an inkjet method using a micropiezo head or the like. Apply to dimensions. When this process is performed in the state of a large substrate, as shown in FIG. 5A, along a scribe line (not shown) when cutting out the single-sized second substrate 20 out of the large substrate 20x. A second sealing material 92a is applied.

次に、図6(c)に示す第2シール材塗布工程において、ディスペンサ描画、スクリーン印刷法、マイクロピエゾヘッドを用いたインクジェット法などにより、第2基板20において、第1シール材91aで囲まれた領域内に、先に説明した熱硬化性のエポキシ樹脂材料からなる第2シール材92aをベタ状、ドット状、ストライプ状など、所定のパターンに塗布する。かかる工程を大型基板の状態で行なう場合には、図5(b)に示すように、大型基板20xにおいて第1シール材91aで囲まれた領域内に第2シール材92aを塗布する。   Next, in the second sealing material application step shown in FIG. 6C, the second substrate 20 is surrounded by the first sealing material 91a by a dispenser drawing, a screen printing method, an ink jet method using a micro piezo head, or the like. In the region, the second sealing material 92a made of the thermosetting epoxy resin material described above is applied in a predetermined pattern such as a solid shape, a dot shape, or a stripe shape. When this process is performed in the state of a large substrate, as shown in FIG. 5B, the second sealing material 92a is applied to the region surrounded by the first sealing material 91a in the large substrate 20x.

それ以降の工程は、先に説明した方法と同様、重ね合わせ工程において、真空度1Pa程度の減圧雰囲気中で、図2(b)に示すように、第1シール材91aおよび第2シール材92aを間に挟むように第1基板10と第2基板20とを重ね合わせる。その際、第1基板10を第2基板20に向けて加圧し、この状態を約200秒保持する。かかる重ね合わせ工程では、まず、第1シール材91aが第1基板10に接触して内側が密閉され、その後、第1基板10と第2基板20との間で第2シール材92aが展開する。次に、常圧に戻すと、大気圧によって加圧されたのと同様な状態になるので、第1基板10と第2基板20との間で第2シール材92aが隅々まで展開し、第2シール材92aの充填性が向上する。その際、第1シール材91aは、第2シール材92aに対するバンクとして機能する。次に、シール材固化工程では、第1基板10または/および第2基板20の側から第1シール材91aに対して紫外線を照射して第1シール材91aのみを選択的に硬化させて、第1シール材層91を形成する。次に、第1シール材層91によって貼り合わされた第1基板10と第2基板20とをホットプレート上に配置した状態で加熱を行い、第1基板10と第2基板20との間で第2シール材92aを隅々まで行き渡らせながら第2シール材92aを硬化させ、第2シール材層92を形成する。このようにして、第1基板10と第2基板20とを第1シール材層91および第2シール材層92によって貼り合わせ、有機EL装置100を得る。   As in the method described above, the subsequent steps are performed in a superposition step in a reduced pressure atmosphere with a degree of vacuum of about 1 Pa, as shown in FIG. 2B, as shown in FIG. 2B. The first substrate 10 and the second substrate 20 are overlapped with each other therebetween. At that time, the first substrate 10 is pressurized toward the second substrate 20, and this state is maintained for about 200 seconds. In the superposition process, first, the first sealing material 91a contacts the first substrate 10 to seal the inside, and then the second sealing material 92a is developed between the first substrate 10 and the second substrate 20. . Next, when the pressure is returned to normal pressure, it becomes the same state as when pressurized by atmospheric pressure, so the second sealing material 92a expands to every corner between the first substrate 10 and the second substrate 20, The filling property of the second sealing material 92a is improved. In that case, the 1st sealing material 91a functions as a bank with respect to the 2nd sealing material 92a. Next, in the sealing material solidifying step, the first sealing material 91a is selectively cured by irradiating the first sealing material 91a with ultraviolet rays from the first substrate 10 and / or the second substrate 20 side, A first sealing material layer 91 is formed. Next, heating is performed in a state where the first substrate 10 and the second substrate 20 bonded together by the first sealing material layer 91 are arranged on a hot plate, and the first substrate 10 and the second substrate 20 are heated between the first substrate 10 and the second substrate 20. The second sealing material 92a is cured while spreading the two sealing materials 92a to every corner, and the second sealing material layer 92 is formed. Thus, the 1st board | substrate 10 and the 2nd board | substrate 20 are bonded together by the 1st sealing material layer 91 and the 2nd sealing material layer 92, and the organic EL apparatus 100 is obtained.

[他の実施の形態]
上記実施の形態では、トップエミッション型の有機EL装置100において第2基板20にカラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)を設けた場合を例に説明したが、有機EL素子自身が各色の光を出射する有機EL装置に本発明を適用してもよく、この場合、第2基板20は封止基板のみとして機能する。
[Other embodiments]
In the above embodiment, the case where the color filter layers 22 (R), (G), and (B) are provided on the second substrate 20 in the top emission type organic EL device 100 has been described as an example. However, the organic EL element itself However, the present invention may be applied to an organic EL device that emits light of each color. In this case, the second substrate 20 functions only as a sealing substrate.

また、上記実施の形態では、カラー表示用の有機EL装置100を例に説明したが、複写機の光学ヘッドなどとして利用する場合には、モノクロでよく、このようなモノクロ用の有機EL装置に本発明を適用してもよい。この場合も、第2基板20は封止基板のみとして機能する。   In the above embodiment, the organic EL device 100 for color display has been described as an example. However, when used as an optical head of a copying machine, monochrome may be used, and such a monochrome organic EL device may be used. The present invention may be applied. Also in this case, the second substrate 20 functions only as a sealing substrate.

さらに、上記実施の形態では、トップエミッション型の有機EL装置100を例に説明したが、ボトムエミッション型の有機EL装置に本発明を適用してもよく、この場合、第2基板20は封止基板のみとして機能する。   Furthermore, in the above embodiment, the top emission type organic EL device 100 has been described as an example. However, the present invention may be applied to a bottom emission type organic EL device. In this case, the second substrate 20 is sealed. It functions as a substrate only.

また、上記形態では、有機機能層82を画素領域10aの全面に形成した例を説明したが、隔壁51で囲まれた領域内にインクジェット法などで有機機能層を選択的に塗布した後、定着させて、第1電極層81の上層には、3,4−ポリエチレンジオシチオフェン/ポリスチレンスルホン酸(PEDOT/PSS)などからなる正孔注入層、および発光層からなる有機機能層が形成された有機EL装置に発明を適用してもよい。この場合、発光層は、例えば、ポリフルオレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリチオフェン誘導体、またはこれらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、例えばルブレン、ペリレン、9,10−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン6、キナクリドン等をドープした材料から構成される。また、発光層としては、二重結合のπ電子がポリマー鎖上で非極在化しているπ共役系高分子材料が、導電性高分子でもあることから発光性能に優れるため、好適に用いられる。特に、その分子内にフルオレン骨格を有する化合物、すなわちポリフルオレン系化合物がより好適に用いられる。また、このような材料以外にも、共役系高分子有機化合物の前駆体と、発光特性を変化させるための少なくとも1種の蛍光色素とを含んでなる組成物も使用可能である。   In the above embodiment, the example in which the organic functional layer 82 is formed on the entire surface of the pixel region 10a has been described. However, after the organic functional layer is selectively applied to the region surrounded by the partition wall 51 by an inkjet method or the like, the fixing is performed. As a result, an upper layer of the first electrode layer 81 was formed with a hole injection layer made of 3,4-polyethylenediosithiophene / polystyrene sulfonic acid (PEDOT / PSS) or the like, and an organic functional layer made of a light emitting layer. The invention may be applied to an organic EL device. In this case, the light emitting layer is made of, for example, a polyfluorene derivative, a polyphenylene derivative, a polyvinyl carbazole, a polythiophene derivative, or a polymer material thereof, a perylene dye, a coumarin dye, a rhodamine dye, for example, rubrene, perylene, 9,10. -It is composed of a material doped with diphenylanthracene, tetraphenylbutadiene, Nile red, coumarin 6, quinacridone and the like. Further, as the light emitting layer, a π-conjugated polymer material in which double-bonded π electrons are non-polarized on the polymer chain is also a conductive polymer, so that it is excellent in light emitting performance, and thus is preferably used. . In particular, a compound having a fluorene skeleton in the molecule, that is, a polyfluorene compound is more preferably used. In addition to such materials, it is also possible to use a composition comprising a conjugated polymer organic compound precursor and at least one fluorescent dye for changing light emission characteristics.

[電子機器への搭載例]
図7を参照して、上述した実施形態に係る有機EL装置100を搭載した電子機器について説明する。図7は、本発明に係る有機EL装置を用いた電子機器の説明図である。
[Example of mounting on electronic equipment]
With reference to FIG. 7, an electronic apparatus in which the organic EL device 100 according to the above-described embodiment is mounted will be described. FIG. 7 is an explanatory diagram of an electronic apparatus using the organic EL device according to the present invention.

図7(a)に、有機EL装置100を備えたモバイル型のパーソナルコンピュータの構成を示す。パーソナルコンピュータ2000は、表示ユニットとしての有機EL装置100と本体部2010を備える。本体部2010には、電源スイッチ2001及びキーボード2002が設けられている。図7(b)に、有機EL装置100を備えた携帯電話機の構成を示す。携帯電話機3000は、複数の操作ボタン3001及びスクロールボタン3002、並びに表示ユニットとしての有機EL装置100を備える。スクロールボタン3002を操作することによって、有機EL装置100に表示される画面がスクロールされる。図7(c)に、有機EL装置100を適用した情報携帯端末(PDA:Personal Digital Assistants)の構成を示す。情報携帯端末4000は、複数の操作ボタン4001及び電源スイッチ4002、並びに表示ユニットとしての有機EL装置100を備える。電源スイッチ4002を操作すると、住所録やスケジュール帳といった各種の情報が有機EL装置100に表示される。なお、有機EL装置100が適用される電子機器としては、図7(a)〜(c)に示すものの他、デジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器等などが挙げられる。そして、これらの各種電子機器の表示部として、前述した有機EL装置100が適用可能である。   FIG. 7A shows the configuration of a mobile personal computer provided with the organic EL device 100. The personal computer 2000 includes an organic EL device 100 as a display unit and a main body 2010. The main body 2010 is provided with a power switch 2001 and a keyboard 2002. FIG. 7B shows a configuration of a mobile phone provided with the organic EL device 100. The cellular phone 3000 includes a plurality of operation buttons 3001, scroll buttons 3002, and the organic EL device 100 as a display unit. By operating the scroll button 3002, the screen displayed on the organic EL device 100 is scrolled. FIG. 7C shows the configuration of a personal digital assistant (PDA) to which the organic EL device 100 is applied. The information portable terminal 4000 includes a plurality of operation buttons 4001, a power switch 4002, and the organic EL device 100 as a display unit. When the power switch 4002 is operated, various types of information such as an address book and a schedule book are displayed on the organic EL device 100. Electronic devices to which the organic EL device 100 is applied include those shown in FIGS. 7A to 7C, a digital still camera, a liquid crystal television, a viewfinder type, a monitor direct view type video tape recorder, a car navigation system. Examples thereof include a device, a pager, an electronic notebook, a calculator, a word processor, a workstation, a videophone, a POS terminal, and a device equipped with a touch panel. And the organic electroluminescent apparatus 100 mentioned above is applicable as a display part of these various electronic devices.

本発明を適用した有機EL装置の電気的な構成を示す等価回路図である。1 is an equivalent circuit diagram showing an electrical configuration of an organic EL device to which the present invention is applied. (a)、(b)は各々、本発明を適用した有機EL装置の平面的な構成を各構成要素と共に第2基板の側から見た平面図、およびそのJ−J′断面図である。(A), (b) is the top view which looked at the planar structure of the organic electroluminescent apparatus to which this invention was applied from the 2nd board | substrate side with each component, respectively, and its JJ 'sectional drawing. 本発明を適用した有機EL装置の断面構成を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the cross-sectional structure of the organic electroluminescent apparatus to which this invention is applied. 本発明を適用した有機EL装置の製造工程のうち、第1基板に有機EL素子や封止膜を形成した後、第1基板と第2基板とを貼り合せる直前までの様子を示す工程断面図である。Process sectional drawing which shows a mode until it just before bonding a 1st board | substrate and a 2nd board | substrate after forming an organic EL element and a sealing film in a 1st board | substrate among the manufacturing processes of the organic EL apparatus to which this invention is applied. It is. 本発明を適用した有機EL装置の製造工程のうち、貼り合せ工程までを大型基板の状態で行なう様子を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows typically a mode that a bonding process is performed in the state of a large sized board | substrate among the manufacturing processes of the organic electroluminescent apparatus to which this invention is applied. 本発明を適用した有機EL装置の製造工程のうち、第2基板にカラーフィルタ層などを形成した後、第1基板と第2基板とを貼り合せる直前までの様子を示す工程断面図である。It is process sectional drawing which shows a mode until just before bonding a 1st board | substrate and a 2nd board | substrate after forming a color filter layer etc. in a 2nd board | substrate among the manufacturing processes of the organic electroluminescent apparatus to which this invention is applied. 本発明に係る有機EL装置を用いた電子機器の説明図である。It is explanatory drawing of the electronic device using the organic EL apparatus which concerns on this invention. 本発明の参考例に係る有機EL装置の問題点を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the problem of the organic electroluminescent apparatus which concerns on the reference example of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

10・・第1基板、10a・・画素領域、10c・・周辺領域、20・・第2基板、22(R)、(G)、(B)・・カラーフィルタ層、80・・有機EL素子、81・・第1電極層、82・・有機機能層、83・・第2電極層、91・・第1シール材層、91a・・第1シール材、92・・第2シール材層、92a・・第2シール材、95・・ギャップ材、96・・樹脂、100・・有機EL装置、100a・・画素 10..First substrate, 10a..Pixel region, 10c..Peripheral region, 20..Second substrate, 22 (R), (G), (B) .. Color filter layer, 80..Organic EL element 81 .. First electrode layer, 82 .. Organic functional layer, 83 .. Second electrode layer, 91 .. First sealing material layer, 91a ... First sealing material, 92 ... Second sealing material layer, 92a ... Second seal material, 95 ... Gap material, 96 ... Resin, 100 ... Organic EL device, 100a ... Pixel

Claims (9)

第1電極層、有機機能層および第2電極層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子が画素領域に複数配列された第1基板と、該第1基板において前記有機エレクトロルミネッセンス素子が形成されている面側に重ねられた第2基板と、を有する有機エレクトロルミネッセンス装置において、
前記第1基板と前記第2基板とは、前記画素領域を囲む周辺領域に形成された枠状の第1シール材層と、当該第1シール材層で囲まれた領域の全体に形成された第2シール材層とによって貼り合わされ、
前記第1シール材層は、前記第1基板と前記第2基板との間に介在して前記第1基板と前記第2基板との基板間隔を制御するギャップ材を含有していることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置。
A first substrate on which a plurality of organic electroluminescent elements each including a first electrode layer, an organic functional layer, and a second electrode layer are arranged in a pixel region; and a surface side on which the organic electroluminescent elements are formed on the first substrate An organic electroluminescence device having a second substrate overlaid on
The first substrate and the second substrate are formed in a frame-shaped first sealing material layer formed in a peripheral region surrounding the pixel region and the entire region surrounded by the first sealing material layer. Bonded with the second sealing material layer,
The first sealing material layer includes a gap material that is interposed between the first substrate and the second substrate and controls a distance between the first substrate and the second substrate. Organic electroluminescence device.
前記第2基板および前記第2シール材層は透光性であり、
前記第2基板には、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子と対向する各領域に異なる色のカラーフィルタ層が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
The second substrate and the second sealing material layer are translucent,
2. The organic electroluminescence device according to claim 1, wherein a color filter layer of a different color is formed in each region facing the plurality of organic electroluminescence elements on the second substrate.
前記第1基板において、少なくとも前記画素領域には、前記第2電極層の上層に封止膜が形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。   3. The organic electroluminescence device according to claim 1, wherein a sealing film is formed in an upper layer of the second electrode layer in at least the pixel region of the first substrate. 第1電極層、有機機能層および第2電極層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子が画素領域に複数配列された第1基板と、該第1基板において前記有機エレクトロルミネッセンス素子が形成されている面側に重ねられた第2基板と、を有する有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、
前記第1基板または/および前記第2基板において前記画素領域を外周側で囲む周辺領域に対して、前記第1基板と前記第2基板との間に介在して前記第1基板と前記第2基板との基板間隔を制御するギャップ材を含有する第1シール材を塗布する第1シール材塗布工程と、
前記第1基板または/および前記第2基板において前記第1シール材で囲まれた領域内に第2シール材を塗布する第2シール材塗布工程と、
前記第1シール材および前記第2シール材を挟んで前記第1基板と前記第2基板とを重ね合わせる重ね合わせ工程と、
前記第1シール材を固化させて第1シール材層を形成するとともに、前記第2シール材を固化させて第2シール材層を形成するシール材固化工程と、
を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
A first substrate on which a plurality of organic electroluminescent elements each including a first electrode layer, an organic functional layer, and a second electrode layer are arranged in a pixel region; and a surface side on which the organic electroluminescent elements are formed on the first substrate In the manufacturing method of the organic electroluminescence device having the second substrate stacked on
The first substrate and the second substrate are interposed between the first substrate and the second substrate with respect to a peripheral region surrounding the pixel region on the outer peripheral side in the first substrate and / or the second substrate. A first sealing material application step of applying a first sealing material containing a gap material for controlling the distance between the substrate and the substrate;
A second sealing material application step of applying a second sealing material in a region surrounded by the first sealing material in the first substrate or / and the second substrate;
An overlapping step of overlapping the first substrate and the second substrate with the first sealing material and the second sealing material interposed therebetween;
A sealing material solidifying step of solidifying the first sealing material to form a first sealing material layer and solidifying the second sealing material to form a second sealing material layer;
The manufacturing method of the organic electroluminescent apparatus characterized by having.
前記重ね合わせ工程では、減圧雰囲気中で前記第1基板および前記第2基板の一方を他方に押圧するように前記第1基板と前記第2基板とを重ね合わせ、前記第2シール材を前記第1基板と前記第2基板との間で展開することを特徴とする請求項4に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。   In the overlapping step, the first substrate and the second substrate are overlapped so that one of the first substrate and the second substrate is pressed against the other in a reduced-pressure atmosphere, and the second sealing material is attached to the first sealing material. 5. The method of manufacturing an organic electroluminescence device according to claim 4, wherein the organic electroluminescence device is developed between one substrate and the second substrate. 前記第1シール材は、前記第2シール材よりも粘度が高いことを特徴とする請求項4または5に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。   The method of manufacturing an organic electroluminescence device according to claim 4, wherein the first sealing material has a higher viscosity than the second sealing material. 前記第1シール材は光硬化性であり、前記第2シール材は熱硬化性であることを特徴とする請求項4乃至6の何れか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。   The method of manufacturing an organic electroluminescence device according to claim 4, wherein the first sealing material is photocurable and the second sealing material is thermosetting. 前記シール材固化工程では、前記第1シール材を固化させた後、前記第2シール材を固化させることを特徴とする請求項7に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。   8. The method of manufacturing an organic electroluminescence device according to claim 7, wherein, in the sealing material solidifying step, the second sealing material is solidified after the first sealing material is solidified. 前記第2シール材塗布工程では、前記第2シール材の塗布量を、前記シール材固化工程を行なった後において前記第1基板、前記第2基板および前記第1シール材層で囲まれた空間の体積と、前記第2シール材を固化させた際の体積収縮率との積に相当する量に設定することを特徴とする請求項4乃至8の何れか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。   In the second sealing material application step, the amount of the second sealing material applied is a space surrounded by the first substrate, the second substrate, and the first sealing material layer after the sealing material solidification step. The organic electroluminescence device according to any one of claims 4 to 8, wherein the organic electroluminescence device is set to an amount corresponding to a product of a volume of the second volume and a volume contraction rate when the second sealing material is solidified. Manufacturing method.
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