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JP2009146734A - Organic electroluminescence device and manufacturing method thereof - Google Patents

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Publication number
JP2009146734A
JP2009146734A JP2007322926A JP2007322926A JP2009146734A JP 2009146734 A JP2009146734 A JP 2009146734A JP 2007322926 A JP2007322926 A JP 2007322926A JP 2007322926 A JP2007322926 A JP 2007322926A JP 2009146734 A JP2009146734 A JP 2009146734A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sealing material
substrate
layer
organic
organic electroluminescence
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2007322926A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shigemitsu Koike
繁光 小池
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2007322926A priority Critical patent/JP2009146734A/en
Publication of JP2009146734A publication Critical patent/JP2009146734A/en
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Abstract

【課題】周辺領域に枠状に塗布した第1シール材と、この第1シール材で囲まれた領域内に充填した第2シール材とによって第1基板と第2基板とを貼り合せる際、第1シール材で囲まれた領域内に気泡が残留することのない有機EL装置、およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】有機EL装置100を製造するにあたって、第1基板10の周辺領域10cに沿って、紫外線硬化性の第1シール材91aを途切れ部分91sをもって塗布する第1シール材塗布工程と、第1シール材91aで囲まれた領域内に熱硬化性の第2シール材92aを塗布する第2シール材塗布工程と、第1シール材91aおよび第2シール材92aを間に挟むように第1基板10と第2基板20とを重ね合わせる重ね合わせ工程と、第1シール材91aおよび第2シール材92aを硬化させるシール材硬化工程とを行なう。
【選択図】図3
When a first substrate and a second substrate are bonded together by a first sealing material applied in a frame shape to a peripheral region and a second sealing material filled in a region surrounded by the first sealing material, To provide an organic EL device in which bubbles do not remain in a region surrounded by a first sealing material, and a manufacturing method thereof.
In manufacturing an organic EL device 100, a first sealing material application step of applying an ultraviolet curable first sealing material 91a with a discontinuous portion 91s along a peripheral region 10c of a first substrate 10; A first sealing material application step in which a thermosetting second sealing material 92a is applied in a region surrounded by the first sealing material 91a, and the first sealing material 91a and the second sealing material 92a are sandwiched therebetween. An overlapping process for overlapping the substrate 10 and the second substrate 20 and a sealing material curing process for curing the first sealing material 91a and the second sealing material 92a are performed.
[Selection] Figure 3

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセンス(以下、有機ELという)装置、およびその製造方法に関するものである。   The present invention relates to an organic electroluminescence (hereinafter referred to as organic EL) device and a method for manufacturing the same.

有機EL装置は、陽極、有機機能層および陰極が積層された有機EL素子を基板上に備えており、低電圧で電子注入効果を高めることを目的に、発光機能層と陰極との層間に、アルカリ金属やアルカリ土類金属を主成分とする電子注入層が配置される場合もある。このような有機EL素子に用いられる有機機能層や、陰極、電子注入層は、非常に活性であるため、大気中に存在する水分と簡単に反応して変質しやすい。かかる変質が起こると、電子注入効果が損なわれ、ダークスポットと呼ばれる非発光部分が発生してしまう。   The organic EL device includes an organic EL element on which a positive electrode, an organic functional layer, and a cathode are stacked on a substrate. For the purpose of enhancing the electron injection effect at a low voltage, between the light emitting functional layer and the cathode, In some cases, an electron injection layer mainly composed of an alkali metal or an alkaline earth metal is disposed. Since the organic functional layer, the cathode, and the electron injection layer used in such an organic EL element are very active, they easily react with moisture present in the atmosphere and are easily altered. When such alteration occurs, the electron injection effect is impaired, and a non-light emitting portion called a dark spot is generated.

そこで、従来は、水分を遮断するガラスなどからなる蓋状のカバーの側板部を接着剤で基板に取り付けて中空構造とするとともに、中空部分に乾燥剤を配置し、接着剤断面から侵入する水分については乾燥剤で捕捉して有機EL素子に到達させない構造が提案されている(特許文献1参照)。   Therefore, conventionally, the side plate part of a lid-like cover made of glass or the like that blocks moisture is attached to the substrate with an adhesive to form a hollow structure, and a desiccant is placed in the hollow part to penetrate moisture from the adhesive cross section. Has been proposed for a structure that does not reach the organic EL element by being trapped with a desiccant (see Patent Document 1).

また、封止基板の周辺領域にUV硬化性樹脂を枠状に塗布した後、真空中でUV硬化性樹脂で囲まれた領域内にシリコンオイルを充填し、次に、有機EL素子が形成された基板と封止基板とを真空中で重ね合わせ、しかる後に、UV硬化性樹脂を硬化させて基板同士を貼り合せる技術も提案されている(特許文献2参照)。
特開2003−223992号公報 特開2003−173868号公報
In addition, after applying UV curable resin in a frame shape to the peripheral area of the sealing substrate, silicon oil is filled in the area surrounded by the UV curable resin in vacuum, and then an organic EL element is formed. There has also been proposed a technique in which a substrate and a sealing substrate are superposed in a vacuum and then the substrates are bonded together by curing a UV curable resin (see Patent Document 2).
Japanese Patent Laid-Open No. 2003-2231992 JP 2003-173868 A

しかしながら、特許文献1に開示のように、蓋状のカバーの側板部を接着剤で基板に取り付けるとともに、その中空部分に乾燥剤を配置した構造は、強度面やコスト面でも大きな問題がある。また、特許文献2に開示のように、枠状に形成したUV硬化性樹脂で囲まれた領域内にシリコンオイルを充填した後、基板を重ね合わせる方法では、UV硬化性樹脂で囲まれた領域内に気泡が残留する場合があり、このような気泡は、UV硬化性樹脂や画素領域に形成した膜などを押圧し、損傷させる原因となる。特に、基板同士を真空中で重ね合わせて気泡の混入を防止した場合でも、わずかに混入した気泡は、大気圧に戻した際に膨張し、UV硬化性樹脂や膜を損傷させる原因となる。   However, as disclosed in Patent Document 1, the structure in which the side plate portion of the lid-like cover is attached to the substrate with an adhesive and the desiccant is disposed in the hollow portion has significant problems in terms of strength and cost. In addition, as disclosed in Patent Document 2, in a method in which silicon oil is filled in a region surrounded by a frame-shaped UV curable resin and then the substrate is overlapped, the region surrounded by the UV curable resin In some cases, air bubbles may remain in the inside, and such air bubbles may cause the UV curable resin or a film formed in the pixel region to be pressed and damaged. In particular, even when the substrates are superposed in a vacuum to prevent the mixing of bubbles, the slightly mixed bubbles expand when returned to atmospheric pressure, causing damage to the UV curable resin and the film.

ここに、本願発明者は、2枚の基板を貼り合せるにあたって、図9(a)に示すように、基板の周辺領域に第1シール材91aを枠状に塗布した後、第1シール材91aで囲まれた領域内に第2シール材92aを塗布し、次に、図9(b)に示すように、基板同士を重ね合わせて第2シール材92aを基板間で展開させ、この状態で、第1シール材91aおよび第2シール材92aを硬化させて基板同士を貼り合せた後、図9(c)に示す基板を所定サイズに切断することを提案するものである。   Here, when bonding the two substrates, as shown in FIG. 9A, the inventor of the present application applied the first sealing material 91a in a frame shape to the peripheral region of the substrate, and then the first sealing material 91a. Next, as shown in FIG. 9B, the second sealing material 92a is applied between the substrates by overlapping the substrates, as shown in FIG. 9B. Then, after the first sealing material 91a and the second sealing material 92a are cured and the substrates are bonded together, it is proposed to cut the substrate shown in FIG. 9C into a predetermined size.

しかしながら、かかる構成を採用した場合も、特許文献2に開示の構成と同様、図9(b)、(c)に示すように、第1シール材91aで囲まれた領域内に気泡99が残留する場合があり、このような気泡99は、第1シール材91aや画素領域に形成した膜などを押圧し、損傷させるという問題に直面している。特に、図9(d)示すように、第1電極層81、有機機能層82および第2電極層83を備えた有機EL素子80の表面に封止層60を形成して有機EL素子80を水分から保護する構成を採用した場合、封止層60は画素領域10aを含む広い領域にわたって形成されるため、気泡99と接触しやすく、それ故、封止層60が気泡99に押圧されて損傷するおそれが高い。   However, even when such a configuration is adopted, as in the configuration disclosed in Patent Document 2, as shown in FIGS. 9B and 9C, bubbles 99 remain in the region surrounded by the first sealing material 91a. Such a bubble 99 faces a problem of pressing and damaging the first sealing material 91a and a film formed in the pixel region. In particular, as shown in FIG. 9D, the organic EL element 80 is formed by forming a sealing layer 60 on the surface of the organic EL element 80 including the first electrode layer 81, the organic functional layer 82, and the second electrode layer 83. In the case of adopting a structure that protects against moisture, the sealing layer 60 is formed over a wide area including the pixel region 10a, and thus easily contacts with the bubbles 99. Therefore, the sealing layer 60 is pressed by the bubbles 99 and is damaged. There is a high risk of doing so.

なお、図9に示す構成は、本発明の特徴点を説明しやすいように、本願発明者が案出した参考例であり、従来技術とは相違する。   The configuration shown in FIG. 9 is a reference example devised by the inventor of the present application so that the feature points of the present invention can be easily explained, and is different from the prior art.

かかる問題点に鑑みて、本発明の課題は、周辺領域に枠状に塗布した第1シール材と、この第1シール材で囲まれた領域内に充填した第2シール材とによって第1基板と第2基板とを貼り合せる際、第1シール材で囲まれた領域内に気泡が残留することのない有機EL装置、およびその製造方法を提供することにある。   In view of such problems, an object of the present invention is to provide a first substrate by a first sealing material applied in a frame shape to a peripheral region and a second sealing material filled in a region surrounded by the first sealing material. An object of the present invention is to provide an organic EL device in which bubbles do not remain in a region surrounded by a first sealant and a method for manufacturing the same when bonding the substrate and the second substrate.

上記課題を解決するために、本発明では、第1電極層、有機機能層および第2電極層を備えた有機EL素子が画素領域に複数配列された第1基板と、該第1基板において前記有機EL素子が形成されている面側に重ねられた第2基板と、を有する有機EL装置において、前記第1基板と前記第2基板とは、前記画素領域を囲む周辺領域に沿うように形成された枠状の第1シール材層と、当該第1シール材層で囲まれた領域の全体に形成された第2シール材層とによって貼り合わされ、前記第1シール材層には途切れ部分が形成されていることを特徴とする。   In order to solve the above problems, in the present invention, a first substrate in which a plurality of organic EL elements each including a first electrode layer, an organic functional layer, and a second electrode layer are arranged in a pixel region; An organic EL device having a second substrate overlaid on a surface side on which an organic EL element is formed, wherein the first substrate and the second substrate are formed along a peripheral region surrounding the pixel region. The frame-shaped first sealing material layer and the second sealing material layer formed over the entire region surrounded by the first sealing material layer are bonded together, and the first sealing material layer has an interrupted portion. It is formed.

また、本発明では、第1電極層、有機機能層および第2電極層を備えた有機EL素子が画素領域に複数配列された第1基板と、該第1基板において前記有機EL素子が形成されている面側に貼り合わされた第2基板と、を有する有機EL装置の製造方法において、前記第1基板と前記第2基板とを貼り合せるにあたっては、前記第1基板および前記第2基板の一方の基板において前記画素領域を囲む周辺領域に沿って第1シール材を塗布する第1シール材塗布工程と、前記第1シール材で囲まれた領域内に第2シール材を塗布する第2シール材塗布工程と、前記第1シール材および前記第2シール材を間に挟むように前記第1基板と前記第2基板とを重ね合わせる重ね合わせ工程と、前記第2シール材を硬化させるシール材硬化工程と、を行ない、前記第1シール材塗布工程では、前記第1シール材に途切れ部分を形成しておくことを特徴とする。   In the present invention, a plurality of organic EL elements each including a first electrode layer, an organic functional layer, and a second electrode layer are arranged in a pixel region, and the organic EL element is formed on the first substrate. In the manufacturing method of the organic EL device having the second substrate bonded to the surface side, the one of the first substrate and the second substrate is bonded to the first substrate and the second substrate. A first sealing material application step for applying a first sealing material along a peripheral region surrounding the pixel region on the substrate, and a second seal for applying a second sealing material in the region surrounded by the first sealing material. A material applying step, an overlapping step of overlapping the first substrate and the second substrate so as to sandwich the first sealing material and the second sealing material, and a sealing material for curing the second sealing material Curing process, There, in the first sealing material application step, wherein the previously formed part broken in the first sealing member.

本発明では、2枚の基板を貼り合せるにあたって、基板の周辺領域に第1シール材を枠状に塗布した後、第1シール材で囲まれた領域内に第2シール材を塗布し、次に、基板同士を重ね合わせて第2シール材を基板間で展開させ、この状態で、第1シール材を硬化させて基板同士を貼り合せる。ここで、第1シール材には途切れ部分が形成されているため、基板同士を重ね合わせて第2シール材を基板間で展開させる際、第1シール材で囲まれた領域内に気泡が混入しても、かかる気泡は、第1シール材の途切れ部分から外に排出される。このため、2枚の基板を重ね合わせた状態において、第1シール材で囲まれた領域イ内に気泡が残留していないので、第1シール材や画素領域に形成した膜などが気泡により押圧されて損傷するという事態を回避することができる。   In the present invention, when the two substrates are bonded, the first sealing material is applied in a frame shape to the peripheral region of the substrate, and then the second sealing material is applied to the region surrounded by the first sealing material. In addition, the second sealing material is spread between the substrates by overlapping the substrates, and in this state, the first sealing material is cured to bond the substrates together. Here, since the first sealing material has a discontinuous portion, when the second sealing material is spread between the substrates by overlapping the substrates, bubbles are mixed in the region surrounded by the first sealing material. Even so, the bubbles are discharged from the interrupted portion of the first sealing material. For this reason, in the state in which the two substrates are overlapped, no bubbles remain in the region a surrounded by the first sealing material, so the film formed on the first sealing material or the pixel region is pressed by the bubbles. The situation of being damaged can be avoided.

本発明において、前記第2基板および前記第2シール材層は透光性であり、前記第2基板には、前記複数の有機EL素子と対向する各領域に異なる色のカラーフィルタ層が形成されていることが好ましい。このように構成すると、複数の有機EL素子の各々から白色光や各色の混合光を出射させるとともに、かかる光をカラーフィルタ層を介して出射させることができるので、カラー画像を表示することができる。   In the present invention, the second substrate and the second sealing material layer are translucent, and a color filter layer of a different color is formed on each region facing the plurality of organic EL elements on the second substrate. It is preferable. If comprised in this way, while being able to radiate | emit white light and the mixed light of each color from each of several organic EL element, such light can be radiate | emitted through a color filter layer, A color image can be displayed. .

本発明において、前記第1基板には、前記第2電極層の上層に前記画素領域よりも広い領域にわたって封止膜が形成されていることが好ましい。このように構成すると、封止層によって有機EL素子を水分などから確実に保護することができる。また、封止層を画素領域を含む広い領域にわたって形成されるため、第1シール材で囲まれた領域内に気泡が残留していると、気泡に押圧されて封止層が損傷するおそれがあるが、本発明では、かかる気泡の残留が発生しないことから、封止層が損傷することがない。   In the present invention, it is preferable that a sealing film is formed on the first substrate over a region wider than the pixel region above the second electrode layer. If comprised in this way, an organic EL element can be reliably protected from a water | moisture content etc. with a sealing layer. In addition, since the sealing layer is formed over a wide region including the pixel region, if bubbles remain in the region surrounded by the first sealing material, the sealing layer may be damaged by being pressed by the bubbles. However, in the present invention, since such bubbles do not remain, the sealing layer is not damaged.

本発明において、前記第1シール材層は略矩形枠状に形成され、前記途切れ部分は、少なくとも前記第1シール材層の角部分に形成されていることが好ましい。基板同士を重ね合わせて第2シール材を基板間で展開させる際、気泡が第1シール材の角部分に押しやられて角部分に残留しやすい傾向があるので、第1シール材の角部分に途切れ部分を形成すれば、第1シール材で囲まれた領域から気泡を効率よく排出することができ、第1シール材で囲まれた領域内に気泡が残留しない。   In the present invention, it is preferable that the first sealing material layer is formed in a substantially rectangular frame shape, and the discontinuous portion is formed at least at a corner portion of the first sealing material layer. When the second sealing material is spread between the substrates by overlapping the substrates, bubbles tend to be pushed to the corners of the first sealing material and remain in the corners. If the interrupted portion is formed, the bubbles can be efficiently discharged from the region surrounded by the first sealing material, and the bubbles do not remain in the region surrounded by the first sealing material.

本発明において、前記第1シール材層が略矩形枠状に形成されている場合、前記途切れ部分が、少なくとも前記第1シール材層の辺部分に形成されている構成を採用してもよい。第2シール材の塗布パターンによっては、基板同士を重ね合わせて第2シール材を基板間で展開させる際、気泡が第1シール材の辺部分に押しやられる場合があるが、かかる場合でも、第1シール材の辺部分に途切れ部分を形成すれば、第1シール材で囲まれた領域から気泡を効率よく排出することができ、第1シール材で囲まれた領域内に気泡が残留しない。   In this invention, when the said 1st sealing material layer is formed in the substantially rectangular frame shape, you may employ | adopt the structure by which the said discontinuous part is formed in the edge part of the said 1st sealing material layer at least. Depending on the application pattern of the second sealing material, when the second sealing material is spread between the substrates by overlapping the substrates, bubbles may be pushed to the side portion of the first sealing material. If a discontinuous portion is formed in the side portion of one sealing material, bubbles can be efficiently discharged from the region surrounded by the first sealing material, and no bubbles remain in the region surrounded by the first sealing material.

本発明において、前記第1シール材層は光硬化性樹脂材料からなり、前記第2シール材層は熱硬化性樹脂材料からなることが好ましい。すなわち、本発明を適用した有機EL装置の製造方法において、前記第1シール材は光硬化性であり、前記第2シール材は熱硬化性であることが好ましい。このように構成すると、第1シール材および第2シール材を塗布した後、第1シール材のみを硬化させることができる。また、画素領域では第1基板および第2基板に各種の遮光性の膜が形成されることが多く、このような場合、第2シール材に十分な光を照射することができない。このため、第2シール材に光硬化性の接着剤を用いると、十分に硬化させることができないが、第2シール材が熱硬化性であれば、画素領域内に形成された第2シール材を確実に硬化させることができる。   In the present invention, it is preferable that the first sealing material layer is made of a photocurable resin material and the second sealing material layer is made of a thermosetting resin material. That is, in the method for manufacturing an organic EL device to which the present invention is applied, it is preferable that the first sealing material is photocurable and the second sealing material is thermosetting. If comprised in this way, after apply | coating a 1st sealing material and a 2nd sealing material, only a 1st sealing material can be hardened. In the pixel region, various light-shielding films are often formed on the first substrate and the second substrate. In such a case, the second sealing material cannot be irradiated with sufficient light. For this reason, if a photocurable adhesive is used for the second sealing material, it cannot be sufficiently cured, but if the second sealing material is thermosetting, the second sealing material formed in the pixel region. Can be reliably cured.

また、前記硬化工程においては、前記第2のシール材を硬化させる前に前記第1シール材を硬化させることが好ましい。このように構成すると、基板同士を重ね合わせて第2シール材を基板間で展開させる際、第2シール材が第1シール材を押圧するようなことがあっても、第1シール材を突き破ることがない。   In the curing step, it is preferable that the first sealing material is cured before the second sealing material is cured. With this configuration, when the second sealing material is deployed between the substrates by overlapping the substrates, the first sealing material is broken through even if the second sealing material may press the first sealing material. There is nothing.

本発明では、前記重ね合わせ工程を減圧雰囲気中で行なうことが好ましい。このように構成すると、第1基板と第2基板との間に気泡が混入すること自身を抑制することができる。また、常圧に戻した際、大気圧によって加圧されたのと同様な状態になるので、第1基板と第2基板との間で第2シール材が隅々まで行き渡り、第2シール材の充填性が向上する。   In the present invention, the superposition process is preferably performed in a reduced pressure atmosphere. If comprised in this way, it can suppress that a bubble mixes between a 1st board | substrate and a 2nd board | substrate itself. Further, when the pressure is returned to the normal pressure, the state is the same as when the pressure is increased by the atmospheric pressure, so that the second sealing material reaches every corner between the first substrate and the second substrate, and the second sealing material. The filling property of the is improved.

本発明において、前記第1シール材は、前記第2シール材よりも粘度が高いことが好ましい。このように構成すると、第1シール材を塗布した際、第1シール材が外側に流出することを防止することができる。また、第2シール材については、第1シール材で囲まれた領域の全体にわたって充填することができる。   In the present invention, the first sealing material preferably has a higher viscosity than the second sealing material. If comprised in this way, when the 1st sealing material is applied, it can prevent that the 1st sealing material flows out outside. Moreover, about the 2nd sealing material, it can be filled over the whole area | region enclosed with the 1st sealing material.

本発明では、前記重ね合わせ工程の前に、前記第1シール材より外側において、少なくとも前記途切れ部分と内外方向で重なる位置に第3のシール材を塗布しておくことが好ましい。このように構成すると、第1シール材で囲まれた領域に気泡が残留するのを防止できるとともに、第2シール材が第1シール材の外側まで流出した際、かかる流出を第3シール材で堰き止めることができる。   In the present invention, it is preferable that a third sealing material is applied at a position overlapping at least the discontinuous portion in the inner and outer directions outside the first sealing material before the overlapping step. With this configuration, air bubbles can be prevented from remaining in the region surrounded by the first sealing material, and when the second sealing material flows out to the outside of the first sealing material, the outflow is caused by the third sealing material. Can be dammed up.

本発明では、前記第1シール材と前記第3のシール材とは同一材料からなり、前記第1シール材塗布工程において前記第3シール材を塗布することが好ましい。このように構成すると、工程数が少なくて済むので、生産性を向上することができる。   In the present invention, it is preferable that the first sealing material and the third sealing material are made of the same material, and the third sealing material is applied in the first sealing material application step. With this configuration, the number of steps can be reduced, and thus productivity can be improved.

本発明においては、前記シール材硬化工程を行なった後、前記一方の基板を所定サイズに切断して前記第3シール材が形成されている部分を除去する除材工程を行なうことが好ましい。このように構成すると、有機EL装置において表示に直接寄与しない外周領域の幅寸法を狭くでき、広い画素領域を確保したまま、有機EL装置の小型化を図ることができる。   In this invention, after performing the said sealing material hardening process, it is preferable to perform the material removal process which cut | disconnects said one board | substrate to predetermined size and removes the part in which the said 3rd sealing material is formed. If comprised in this way, the width dimension of the outer peripheral area | region which does not contribute directly to a display in an organic electroluminescent apparatus can be narrowed, and size reduction of an organic electroluminescent apparatus can be achieved, ensuring a wide pixel area | region.

本発明を適用した有機EL装置は、携帯電話機あるいはモバイルコンピュータなどの電子機器において直視型の表示部などとして用いられる。   An organic EL device to which the present invention is applied is used as a direct-view display unit or the like in an electronic device such as a mobile phone or a mobile computer.

以下、本発明の実施の形態を説明する。以下の説明で参照する図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。また、以下の説明では、図9を参照して説明した構成との対応が分りやすいように、可能な限り、対応する部分には同一の符号を付して説明する。   Embodiments of the present invention will be described below. In the drawings to be referred to in the following description, the scales of the layers and the members are different from each other in order to make the layers and the members large enough to be recognized on the drawings. Further, in the following description, as much as possible, the same reference numerals are given to the corresponding portions so that the correspondence with the configuration described with reference to FIG. 9 can be easily understood.

[実施の形態1]
(全体構成)
図1は、本発明の実施の形態1に係る有機EL装置の電気的な構成を示す等価回路図である。図1に示す有機EL装置100において、第1基板10上には、複数の走査線3aと、走査線3aに対して交差する方向に延びる複数のデータ線6aと、走査線3aに対して並列して延在する複数の電源線3eとを有している。また、第1基板10において、矩形形状の画素領域10aには複数の画素100aがマトリクス状に配列されている。データ線6aにはデータ線駆動回路101が接続され、走査線3aには走査線駆動回路104が接続されている。画素領域10aの各々には、走査線3aを介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用の薄膜トランジスタ30bと、このスイッチング用の薄膜トランジスタ30bを介してデータ線6aから供給される画素信号を保持する保持容量70と、保持容量70によって保持された画素信号がゲート電極に供給される駆動用の薄膜トランジスタ30cと、この薄膜トランジスタ30cを介して電源線3eに電気的に接続したときに電源線3eから駆動電流が流れ込む第1電極81(陽極層)と、この第1電極81と陰極層との間に有機機能層が挟まれた有機EL素子80とが形成されている。
[Embodiment 1]
(overall structure)
FIG. 1 is an equivalent circuit diagram showing an electrical configuration of the organic EL device according to Embodiment 1 of the present invention. In the organic EL device 100 shown in FIG. 1, on the first substrate 10, a plurality of scanning lines 3a, a plurality of data lines 6a extending in a direction intersecting the scanning lines 3a, and a scanning line 3a are arranged in parallel. And a plurality of power supply lines 3e extending. In the first substrate 10, a plurality of pixels 100a are arranged in a matrix in a rectangular pixel region 10a. A data line driving circuit 101 is connected to the data line 6a, and a scanning line driving circuit 104 is connected to the scanning line 3a. Each pixel region 10a holds a switching thin film transistor 30b to which a scanning signal is supplied to the gate electrode via the scanning line 3a, and a pixel signal supplied from the data line 6a via the switching thin film transistor 30b. The storage capacitor 70 to be driven, the driving thin film transistor 30c to which the pixel signal held by the storage capacitor 70 is supplied to the gate electrode, and the power supply line 3e when electrically connected to the power supply line 3e through the thin film transistor 30c. A first electrode 81 (anode layer) into which a drive current flows and an organic EL element 80 in which an organic functional layer is sandwiched between the first electrode 81 and the cathode layer are formed.

かかる構成によれば、走査線3aが駆動されてスイッチング用の薄膜トランジスタ30bがオンになると、そのときのデータ線6aの電位が保持容量70に保持され、保持容量70が保持する電荷に応じて、駆動用の薄膜トランジスタ30cのオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用の薄膜トランジスタ30cのチャネルを介して、電源線3eから第1電極81に電流が流れ、さらに有機機能層を介して対極層に電流が流れる。その結果、有機EL素子80は、これを流れる電流量に応じて発光する。   According to this configuration, when the scanning line 3a is driven and the switching thin film transistor 30b is turned on, the potential of the data line 6a at that time is held in the holding capacitor 70, and according to the charge held in the holding capacitor 70, The on / off state of the driving thin film transistor 30c is determined. Then, a current flows from the power supply line 3e to the first electrode 81 through the channel of the driving thin film transistor 30c, and further a current flows to the counter electrode layer through the organic functional layer. As a result, the organic EL element 80 emits light according to the amount of current flowing therethrough.

このように構成した有機EL装置100において、複数の画素100aは各々、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)に対応し、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の3つの画素100aによって1つのピクセルを構成している。本形態において、有機EL素子80は、白色光、または赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の混合色光が出射され、画素100aが赤色(R)、緑色(G)、青色(B)のいずれに対応するかは、後述するカラーフィルタ層によって規定されている。   In the organic EL device 100 configured as described above, each of the plurality of pixels 100a corresponds to red (R), green (G), and blue (B), and red (R), green (G), and blue (B). The three pixels 100a constitute one pixel. In this embodiment, the organic EL element 80 emits white light or mixed color light of red (R), green (G), and blue (B), and the pixel 100a is red (R), green (G), blue ( Which of B) corresponds is defined by a color filter layer described later.

なお、図1に示す構成では、電源線3eは走査線3aと並列していたが、電源線3eがデータ線6aに並列している構成を採用してもよい。また、図1に示す構成では、電源線3eを利用して保持容量70を構成していたが、電源線3eとは別に容量線を形成し、かかる容量線によって保持容量70を構成してもよい。   In the configuration shown in FIG. 1, the power supply line 3e is parallel to the scanning line 3a. However, a configuration in which the power supply line 3e is parallel to the data line 6a may be adopted. In the configuration shown in FIG. 1, the storage capacitor 70 is configured using the power supply line 3e. However, the storage capacitor 70 may be configured by forming a capacitance line separately from the power supply line 3e. Good.

(有機EL装置の具体的構成)
図2(a)、(b)は各々、本発明の実施の形態1に係る有機EL装置の平面的な構成を各構成要素と共に第2基板側から見た平面図、およびそのJ−J′断面図である。なお、図2(b)にはカラーフィルタ層などの図示を省略してある。図2(a)、(b)において、本形態の有機EL装置100では、素子基板としての第1基板10と、封止基板およびカラーフィルタ層基板の双方の機能を担う第2基板20とを備えており、第1基板10において、複数の有機EL素子80が形成されている面側に第2基板20が重ねて配置されている。
(Specific configuration of organic EL device)
FIGS. 2A and 2B are plan views of the planar configuration of the organic EL device according to Embodiment 1 of the present invention as viewed from the second substrate side together with the respective components, and JJ ′ thereof. It is sectional drawing. In addition, illustration of a color filter layer etc. is abbreviate | omitted in FIG.2 (b). 2A and 2B, in the organic EL device 100 of the present embodiment, a first substrate 10 as an element substrate and a second substrate 20 that functions as both a sealing substrate and a color filter layer substrate are provided. In the first substrate 10, the second substrate 20 is disposed so as to overlap the surface side on which the plurality of organic EL elements 80 are formed.

ここで、第1基板10と第2基板20とは、第1シール材層91および第2シール材層92によって貼り合わされている。かかる第1シール材層91および第2シール材層92の詳細な構成は後述するが、第1シール材層91は、図2(a)にドットを密に付した領域で示してあるように、画素領域10aの周りを囲む周辺領域10cに沿って枠状に形成されている。これに対して、第2シール材層92は、図2(a)にドットを疎に付した領域で示してあるように、第1シール材層91で囲まれた領域の全体にわたって形成されている。   Here, the first substrate 10 and the second substrate 20 are bonded together by the first sealing material layer 91 and the second sealing material layer 92. Although the detailed configuration of the first sealing material layer 91 and the second sealing material layer 92 will be described later, the first sealing material layer 91 is shown by a region where dots are densely attached in FIG. A frame is formed along a peripheral region 10c surrounding the pixel region 10a. On the other hand, the second sealing material layer 92 is formed over the entire area surrounded by the first sealing material layer 91, as shown by the area where dots are sparsely attached in FIG. Yes.

なお、第1基板10において、第2基板20からの張り出し領域には端子102が形成されている。また、第1基板10において、周辺領域10cや、画素領域10aと周辺領域10cとに挟まれた領域を利用して、図1を参照して説明したデータ線駆動回路101および走査線駆動回路104(図示せず)が形成されている。   In the first substrate 10, a terminal 102 is formed in an overhanging region from the second substrate 20. In the first substrate 10, the data line driving circuit 101 and the scanning line driving circuit 104 described with reference to FIG. 1 are used by using the peripheral region 10 c or a region sandwiched between the pixel region 10 a and the peripheral region 10 c. (Not shown) is formed.

(有機EL素子の構成)
図3(a)、(b)は各々、本発明の実施の形態1に係る有機EL装置の断面構成を模式的に示す断面図、およびその周辺領域10cの平面構成を模式的に示す平面図である。なお、図3には、有機EL素子として、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)に対応する3つの有機EL素子のみを示してある。
(Configuration of organic EL element)
FIGS. 3A and 3B are a cross-sectional view schematically showing a cross-sectional configuration of the organic EL device according to Embodiment 1 of the present invention, and a plan view schematically showing a plane configuration of the peripheral region 10c, respectively. It is. FIG. 3 shows only three organic EL elements corresponding to red (R), green (G), and blue (B) as organic EL elements.

図3(a)に示すように、第1基板10は、石英基板、ガラス基板、セラミック基板、金属基板などからなる支持基板10dを備えている。支持基板10dの表面には、絶縁膜11、12、13、14、15が形成され、絶縁膜15の上層には有機EL素子80が形成されている。本形態において、絶縁膜11、12、13、15は、酸化シリコン膜や窒化シリコン膜などから形成され、絶縁膜14は、厚さが1.5〜2.0μmの厚い感光性樹脂からなる平坦化膜として形成されている。絶縁膜11は下地絶縁層であり、図示を省略するが、絶縁膜11、12、13、14の層間などを利用して、図1を参照して説明した薄膜トランジスタ30b、30c、保持容量70、各種配線や各駆動回路が形成されている。また、絶縁膜12、13、14、15に形成されたコンタクトホールを利用して、異なる層間に形成された導電膜同士の電気的な接続が行なわれている。   As shown in FIG. 3A, the first substrate 10 includes a support substrate 10d made of a quartz substrate, a glass substrate, a ceramic substrate, a metal substrate, or the like. Insulating films 11, 12, 13, 14, and 15 are formed on the surface of the support substrate 10 d, and an organic EL element 80 is formed on the insulating film 15. In this embodiment, the insulating films 11, 12, 13, and 15 are formed of a silicon oxide film, a silicon nitride film, or the like, and the insulating film 14 is a flat film made of a thick photosensitive resin having a thickness of 1.5 to 2.0 μm. It is formed as a chemical film. The insulating film 11 is a base insulating layer, and although not shown, the thin film transistors 30b and 30c, the storage capacitor 70, and the like described with reference to FIG. 1 using the layers of the insulating films 11, 12, 13, and 14 are used. Various wirings and driving circuits are formed. In addition, the conductive films formed between different layers are electrically connected to each other by using the contact holes formed in the insulating films 12, 13, 14, and 15.

本形態の有機EL装置100は、トップエミッション型であり、矢印L1で示すように、支持基板10dからみて有機EL素子80が形成されている側から光を取り出すので、支持基板10dとしては、アルミナなどのセラミックス、ステンレススチールなどといった不透明な基板を用いることができる。また、絶縁膜14、15の層間には、アルミニウム、銀、それらの合金からなる光反射層41が形成されており、有機EL素子80から支持基板10dに向けて出射された光を光反射層41で反射することにより、光を出射可能である。なお、有機EL装置100をボトムエミッション型で構成した場合、支持基板10dの側から光を取り出すので、支持基板10dとしては、ガラスなどの透明基板が用いられる。   The organic EL device 100 of the present embodiment is a top emission type, and, as indicated by an arrow L1, light is extracted from the side where the organic EL element 80 is formed as viewed from the support substrate 10d. Opaque substrates such as ceramics, stainless steel, etc. can be used. In addition, a light reflection layer 41 made of aluminum, silver, or an alloy thereof is formed between the insulating films 14 and 15, and light emitted from the organic EL element 80 toward the support substrate 10d is reflected on the light reflection layer. By reflecting at 41, light can be emitted. When the organic EL device 100 is configured as a bottom emission type, light is extracted from the support substrate 10d side, and therefore a transparent substrate such as glass is used as the support substrate 10d.

第1基板10では、絶縁膜15の上層にITO膜などからなる第1電極層81(陽極/画素電極)が島状に形成されており、第1電極層81の上層には、発光領域を規定するための開口部を備えた感光性樹脂などからなる厚い隔壁51が形成されている。   In the first substrate 10, a first electrode layer 81 (anode / pixel electrode) made of an ITO film or the like is formed in an island shape on the insulating film 15, and a light emitting region is formed on the upper layer of the first electrode layer 81. A thick partition wall 51 made of a photosensitive resin or the like having an opening for defining is formed.

第1電極層81の上層には、有機機能層82および第2電極層83(陰極)が積層されており、第1電極層81、有機機能層82および第2電極層83によって、有機EL素子80が形成されている。本形態において、有機機能層82および第2電極層83は、隔壁51が形成されている領域も含めて、画素領域10aの全面にわたって形成されている。   An organic functional layer 82 and a second electrode layer 83 (cathode) are laminated on the upper layer of the first electrode layer 81, and the organic EL element is formed by the first electrode layer 81, the organic functional layer 82, and the second electrode layer 83. 80 is formed. In this embodiment, the organic functional layer 82 and the second electrode layer 83 are formed over the entire surface of the pixel region 10a including the region where the partition walls 51 are formed.

本形態において、有機機能層82は、トリアリールアミン(ATP)多量体からなる正孔注入層、TPD(トリフェニルジアミン)系正孔輸送層、アントラセン系ドーパントやルブレン系ドーパントを含むスチリルアミン系材料(ホスト)からなる発光層、アルミニウムキノリノール(Alq3)からなる電子注入層をこの順に積層した構造を有しており、その上層にMgAgなどの薄膜金属からなる第2電極層83が形成されている。また、有機機能層82と第2電極層83との間には、LiFからなる電子注入バッファ層が形成されることもある。これらの材料のうち、有機機能層82を構成する各層、および電子注入バッファ層は、加熱ボート(るつぼ)を用いた真空蒸着法で順次形成することができる。また、第2電極層83などを構成する金属系材料については真空蒸着法により形成でき、第1電極層81を構成するITOなどの酸化物材料についてはECRプラズマスパッタ法やプラズマガン方式イオンプレーティング法、マグネトロンスパッタ法などの高密度プラズマ成膜法により形成することができる。 In this embodiment, the organic functional layer 82 includes a hole injection layer made of a triarylamine (ATP) multimer, a TPD (triphenyldiamine) -based hole transport layer, an styrylamine-based material containing an anthracene-based dopant or a rubrene-based dopant. A light emitting layer made of (host) and an electron injection layer made of aluminum quinolinol (Alq 3 ) are laminated in this order, and a second electrode layer 83 made of a thin film metal such as MgAg is formed thereon. Yes. In addition, an electron injection buffer layer made of LiF may be formed between the organic functional layer 82 and the second electrode layer 83. Among these materials, each layer constituting the organic functional layer 82 and the electron injection buffer layer can be sequentially formed by a vacuum evaporation method using a heating boat (crucible). Further, the metal material constituting the second electrode layer 83 and the like can be formed by a vacuum deposition method, and the oxide material such as ITO constituting the first electrode layer 81 can be formed by an ECR plasma sputtering method or a plasma gun type ion plating. It can be formed by a high-density plasma film forming method such as a method or a magnetron sputtering method.

本形態において、有機EL素子80は、白色光、または赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の混合色光を出射する。このため、有機EL装置100では、第2基板20において、有機EL素子80と対向する位置に形成した赤色(R)、緑色(G)、青色(B)のカラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)によって色変換を行なうことにより、フルカラー表示を行なう。すなわち、第2基板20には、ポリエチレンテレフタレート、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリオレフィンなどプラスチック基板や、ガラス基板などからなる透光性の支持基板20dに、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)のカラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)、カラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)の間で光の漏洩を防止するための遮光層23(ブラックマトリックス層)、透光性の平坦化膜24、酸窒化シリコン層などからなる透光性のガスバリア層25がこの順に形成されている。本形態において、カラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)、遮光層23、平坦化膜24、およびガスバリア層25は、第2基板20の画素領域10aのみに形成され、周辺領域10cには形成されていない。このため、第2基板20の周辺領域10cでは、支持基板20dが露出している。   In this embodiment, the organic EL element 80 emits white light or mixed color light of red (R), green (G), and blue (B). For this reason, in the organic EL device 100, the red (R), green (G), and blue (B) color filter layers 22 (R) formed on the second substrate 20 at positions facing the organic EL element 80 ( Full color display is performed by performing color conversion according to G) and (B). That is, the second substrate 20 has a transparent support substrate 20d made of a plastic substrate such as polyethylene terephthalate, acrylic resin, polycarbonate, polyolefin, or a glass substrate, and red (R), green (G), blue (B ) Color filter layer 22 (R), (G), (B), color filter layer 22 (R), (G), light shielding layer 23 (black matrix for preventing leakage of light) between (B) Layer), a light-transmitting planarizing film 24, a light-transmitting gas barrier layer 25 made of a silicon oxynitride layer, and the like are formed in this order. In this embodiment, the color filter layers 22 (R), (G), and (B), the light shielding layer 23, the planarizing film 24, and the gas barrier layer 25 are formed only in the pixel region 10 a of the second substrate 20, and the peripheral region It is not formed in 10c. For this reason, the support substrate 20d is exposed in the peripheral region 10c of the second substrate 20.

カラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)は、透明バインダー層に顔料または染料が混合されている層であり、赤(R)、緑(G)、青(B)を用いるのが基本であるが、目的に応じてライトブルーやライトシアン、白などを加えてもよい。カラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)の厚みは、光線透過率を考慮して極力薄い方がよく、0.1〜1.5μmの範囲で形成され、その厚さは、対応する色によって相違させることもある。遮光層23は、黒色顔料を含んだ樹脂からなり、その厚さは、カラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)よりも厚く、1〜2μm前後の膜厚が好ましいが、これ以上の膜厚であってもよい。なお、第2基板20には、紫外線の入射を防止する紫外線遮断・吸収層や、光反射防止層、放熱層などの機能層が形成されることもある。   The color filter layers 22 (R), (G), and (B) are layers in which pigments or dyes are mixed in the transparent binder layer, and red (R), green (G), and blue (B) are used. However, light blue, light cyan, white, etc. may be added depending on the purpose. The thickness of the color filter layers 22 (R), (G), and (B) is preferably as thin as possible in consideration of the light transmittance, and is formed in a range of 0.1 to 1.5 μm. It may be different depending on the corresponding color. The light shielding layer 23 is made of a resin containing a black pigment, and the thickness thereof is thicker than the color filter layers 22 (R), (G), and (B), and a film thickness of about 1 to 2 μm is preferable. The above film thickness may be sufficient. The second substrate 20 may be provided with a functional layer such as an ultraviolet blocking / absorbing layer that prevents the incidence of ultraviolet rays, a light reflection preventing layer, or a heat dissipation layer.

(封止構造)
このように構成した有機EL装置100において、有機機能層82、陰極として用いた第2電極層83、電子注入層などは、水分により劣化しやすく、かかる劣化は、電子注入効果の劣化を惹き起こし、ダークスポットと呼ばれる非発光部分を発生させてしまう。そこで、本形態では、第2基板20を封止基板として第1基板10と貼り合せた構成と、第1基板10に対して以下に説明する封止膜60を形成した構成とを併用する。
(Sealing structure)
In the organic EL device 100 configured as described above, the organic functional layer 82, the second electrode layer 83 used as the cathode, the electron injection layer, and the like are easily deteriorated by moisture, and such deterioration causes deterioration of the electron injection effect. , A non-light-emitting portion called a dark spot is generated. Therefore, in this embodiment, the configuration in which the second substrate 20 is used as a sealing substrate and the first substrate 10 are bonded together and the configuration in which the sealing film 60 described below is formed on the first substrate 10 are used in combination.

まず、第1基板10には、第2電極層83の上層に画素領域10aよりも広い領域にわたって封止膜60が形成されている。かかる封止膜60として、本形態では、第2電極層83上に積層されたシリコン化合物層からなる第1膜61、この第1膜61上に積層された樹脂層からなる第2膜62、およびこの第2膜62上に積層されたシリコン化合物からなる第3膜63を備えた積層膜が用いられている。第1膜61および第3膜63は、高密度プラズマ源を用いた高密度プラズマ気相成長法、例えば、ブラズマガン方式イオンプレーティング、ECRプラズマスパッタ、ECRプラズマCVD、表面波プラズマCVD、ICP−CVDなどを用いて成膜された窒化シリコン(SiNx)や酸窒化シリコン(SiOxy)などから構成されており、かかる薄膜は、低温で成膜しても水分を確実に遮断する高密度ガスバリア層として機能する。第2層62は、樹脂層から構成されており、隔壁51や配線などに起因する表面凹凸を平坦化して第1膜61および第2膜62にクラックが発生するのを防止する有機緩衝層として機能している。 First, the sealing film 60 is formed on the first substrate 10 over the second electrode layer 83 over a region wider than the pixel region 10a. As the sealing film 60, in this embodiment, a first film 61 made of a silicon compound layer laminated on the second electrode layer 83, a second film 62 made of a resin layer laminated on the first film 61, In addition, a laminated film including a third film 63 made of a silicon compound laminated on the second film 62 is used. The first film 61 and the third film 63 are formed by a high-density plasma vapor deposition method using a high-density plasma source, for example, plasma gun type ion plating, ECR plasma sputtering, ECR plasma CVD, surface wave plasma CVD, ICP-CVD. It is composed of silicon nitride (SiN x ), silicon oxynitride (SiO x N y ), etc. that are deposited using such a method, and such a thin film has a high density that reliably blocks moisture even when deposited at low temperatures. Functions as a gas barrier layer. The second layer 62 is composed of a resin layer, and serves as an organic buffer layer that flattens surface irregularities caused by the partition walls 51 and wirings and prevents cracks in the first film 61 and the second film 62. It is functioning.

本形態では、封止膜60を構成する第1膜61および第3膜63(高密度ガスバリア層)は、画素領域10a、画素領域10aの近傍領域、および画素領域10aから離れた周辺領域10cの全てを含む第1基板10の全面に形成されている。これに対して、第2層62(有機緩衝層)は、画素領域10a、および画素領域10aの近傍領域のみに分厚く形成され、画素領域10aから離れた周辺領域10cには形成されていない。また、絶縁膜14、15は概ね、画素領域10aのみ形成されている。   In this embodiment, the first film 61 and the third film 63 (high-density gas barrier layer) constituting the sealing film 60 are formed in the pixel region 10a, the vicinity region of the pixel region 10a, and the peripheral region 10c far from the pixel region 10a. It is formed on the entire surface of the first substrate 10 including all. On the other hand, the second layer 62 (organic buffer layer) is formed thick only in the pixel region 10a and a region near the pixel region 10a, and is not formed in the peripheral region 10c far from the pixel region 10a. The insulating films 14 and 15 are generally formed only in the pixel region 10a.

次に、本形態では、図2(a)、(b)、および図3(a)、(b)に示すように、第1基板10と第2基板20との間では、周辺領域10cに沿って第1シール材層91が矩形枠状に形成され、周辺領域10cで囲まれた領域の全体にわたって透光性の第2シール材層92が形成されており、第1基板10と第2基板20とは、第1シール材層91および第2シール材層92によって貼り合わされている。   Next, in this embodiment, as shown in FIGS. 2A and 2B and FIGS. 3A and 3B, the peripheral region 10c is formed between the first substrate 10 and the second substrate 20. A first sealing material layer 91 is formed in a rectangular frame shape, and a translucent second sealing material layer 92 is formed over the entire region surrounded by the peripheral region 10c. The substrate 20 is bonded to the first sealing material layer 91 and the second sealing material layer 92.

ここで、第1シール材層91は略矩形枠状に形成されており、その角部分および辺部分には途切れ部分91sが存在する。また、第1シール材層91の途切れ部分91s内は第2シール材層92によって埋められている。なお、本形態では、第1基板10の端部は、第2基板20の基板縁から張り出した張り出し領域10fになっており、かかる張り出し領域10fに端子102が形成されている。このため、端子102が第2シール材層92で覆われることを防止することを目的に張り出し領域10fが位置する側では、第1シール材層91に途切れ部分91sは形成されていない。   Here, the 1st sealing material layer 91 is formed in the substantially rectangular frame shape, and 91s of cut parts exist in the corner | angular part and side part. The discontinuous portion 91 s of the first sealing material layer 91 is filled with the second sealing material layer 92. In this embodiment, the end portion of the first substrate 10 is a protruding region 10f that protrudes from the substrate edge of the second substrate 20, and the terminal 102 is formed in the protruding region 10f. For this reason, the interrupted portion 91 s is not formed in the first sealing material layer 91 on the side where the overhanging region 10 f is located for the purpose of preventing the terminal 102 from being covered with the second sealing material layer 92.

本形態において、第1シール材層91(第1シール材91a)には、紫外線によって硬化するエポキシ系接着剤が用いられ、かかるエポキシ系接着剤としては、好ましくはエポキシ基を有する分子量3000以下のエポキシモノマー/オリゴマー(モノマーの定義:分子量1000以下、オリゴマーの定義:分子量1000〜3000)が用いられる。より具体的には、第1シール材層91には、例えば、ビスフェノールA型エポキシオリゴマーやビスフェノールF型エポキシオリゴマー、フェノールノボラック型エポキシオリゴマー、3,4-エポキシシクロヘキセニルメチル-3′,4′-エポキシシクロヘキセンカルボキシレート、ε-カプロラクトン変性3,4-エポキシシクロヘキシルメチル3′,4′-エポキシシクロヘキサンカルボキレートなどが単独もしくは複数組み合わされて用いられる。また、エポキシモノマー/オリゴマーと反応する硬化剤としては、ジアゾニウム塩、ジフェニルヨウドニウム塩、トリフェニルスルフォニウム塩、スルホン酸エステル、鉄アレーン錯体、シラノール/アルミニウム錯体などのカチオン重合反応を起こす光反応型開始剤が添加され、主に紫外線の照射によってカチオン重合反応を起こす。   In this embodiment, an epoxy adhesive that is cured by ultraviolet rays is used for the first sealing material layer 91 (first sealing material 91a), and the epoxy adhesive preferably has an epoxy group and a molecular weight of 3000 or less. Epoxy monomer / oligomer (monomer definition: molecular weight 1000 or less, oligomer definition: molecular weight 1000 to 3000) is used. More specifically, the first sealing material layer 91 includes, for example, bisphenol A type epoxy oligomer, bisphenol F type epoxy oligomer, phenol novolac type epoxy oligomer, 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ′, 4′- Epoxycyclohexenecarboxylate, ε-caprolactone-modified 3,4-epoxycyclohexylmethyl 3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate, etc. are used alone or in combination. In addition, as a curing agent that reacts with epoxy monomer / oligomer, photoreactive type that causes cationic polymerization reaction such as diazonium salt, diphenyliodonium salt, triphenylsulfonium salt, sulfonate ester, iron arene complex, silanol / aluminum complex, etc. An initiator is added, and a cationic polymerization reaction is caused mainly by ultraviolet irradiation.

第2シール材層92(第2シール材92a)には、熱によって硬化するエポキシ系接着剤が用いられている。かかるエポキシ系接着剤の原料主成分としては、流動性に優れかつ溶媒のような揮発成分を持たない有機化合物材料である必要があり、好ましくはエポキシ基を有する分子量3000以下のエポキシモノオリゴマー、より好ましくは分子量1000以下のエポキシモノマーなどである。例えば、第2シール材層92の形成には、硬ビスフェノールA型エポキシモノマーやビスフェノールF型エポキシモノマー、ノボラック形フェノールエポキシモノマー、3,4-エポキシシクロヘキセニルメチル-3′,4′-エポキシシクロヘキセンカルボキシレート、ε-カプロラクトン変性3,4-エポキシシクロヘキシルメチル3′,4′-エポキシシクロヘキサンカルボキレートなどが単独もしくは複数組み合わされて用いられる。また、エポキシモノマーと反応する硬化剤としては、強靭で耐熱性に優れる硬化皮膜を形成する付加重合型が良く、芳香族アミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ポリエーテルジアミンなどのアミン類や、3−メチル−1,2,3,6−テトラヒドロ無水フタル酸、メチル−3,6−ンドメチレン−1,2,3,6−テトラヒドロ無水フタル酸、1,2,4,5−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物などの酸無水物系硬化剤、ジシアンジアミドなどが挙げられる。これらと、芳香族アミノアルコールやアルコール類、メルカプタンなどの反応開始剤または3級アミン触媒、シランカップリング剤と共に混合されて用いられる。   For the second sealing material layer 92 (second sealing material 92a), an epoxy adhesive that is cured by heat is used. As a raw material main component of such an epoxy-based adhesive, it is necessary to be an organic compound material that is excellent in fluidity and does not have a volatile component such as a solvent, and preferably an epoxy monooligomer having an epoxy group and a molecular weight of 3000 or less. Preferred are epoxy monomers having a molecular weight of 1000 or less. For example, the second sealing material layer 92 may be formed by using a hard bisphenol A type epoxy monomer, a bisphenol F type epoxy monomer, a novolac type phenol epoxy monomer, 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ', 4'-epoxycyclohexene carboxy. Rate, ε-caprolactone-modified 3,4-epoxycyclohexylmethyl 3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarbochelate, etc. may be used alone or in combination. Further, as the curing agent that reacts with the epoxy monomer, an addition polymerization type that forms a tough and excellent heat-resistant cured film is good, and amines such as aromatic amine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, and polyetherdiamine, Methyl-1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride, methyl-3,6-undomethylene-1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride, 1,2,4,5-benzenetetracarboxylic dianhydride Products, acid anhydride curing agents such as 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, dicyandiamide and the like. These are mixed with a reaction initiator such as aromatic amino alcohol, alcohol, mercaptan, tertiary amine catalyst or silane coupling agent.

(製造方法)
図4および図5を参照して、本形態の有機EL装置100の製造方法を説明する。図4および図5は、本形態の有機EL装置100の製造工程のうち、第1基板10に有機EL素子80や封止層60を形成した後、第1基板10と第2基板20とを貼り合せ、しかる後に基板を切断する除材工程を行なう直前までの様子を示す工程断面図、およびかかる工程を大型基板の状態で行なう様子を模式的に示す説明図である。
(Production method)
With reference to FIG. 4 and FIG. 5, the manufacturing method of the organic electroluminescent apparatus 100 of this form is demonstrated. 4 and FIG. 5, in the manufacturing process of the organic EL device 100 of the present embodiment, after forming the organic EL element 80 and the sealing layer 60 on the first substrate 10, the first substrate 10 and the second substrate 20 are combined. It is process sectional drawing which shows a mode until just before performing the material removal process which cut | disconnects a board | substrate after a bonding, and an explanatory diagram which shows typically a mode that this process is performed in the state of a large sized substrate.

本形態の有機EL装置100を製造するにあたっては、第1基板10および第2基板20を単品サイズの大きさの状態で貼り合せる方法の他、第1基板10および第2基板20を多数取りできる大型基板の状態で貼り合わせ、その後、大型基板を単品サイズの大きさに切断する方法を採用することもある。これらのいずれの方法を採用しても、基本的な構成は同一であるので、以下の説明では、大型基板の状態で貼り合わせ工程を行なった後、除材工程で基板を切断して単品サイズの有機EL装置100を得る方法を説明する。   In manufacturing the organic EL device 100 of this embodiment, in addition to the method of bonding the first substrate 10 and the second substrate 20 in a single product size state, a large number of the first substrate 10 and the second substrate 20 can be taken. In some cases, the large substrates are bonded together, and then the large substrate is cut into a single size. Regardless of which method is adopted, the basic configuration is the same. Therefore, in the following explanation, after performing the bonding process in the state of a large substrate, the substrate is cut in the material removal process to obtain a single product size. A method for obtaining the organic EL device 100 will be described.

まず、図4(a)に示すように、第1基板10を多数取りできる第1大型基板10xの状態で有機EL素子80や封止層60などを形成する。図5(a)には、第1大型基板10xに対する切断予定線を一点鎖線L1、L2で表してあり、切断予定線(一点鎖線L1、L2)で囲まれた領域のうち、右上がりの点線で示した領域が単品サイズの第1基板10として切り出される領域である。従って、図5(a)において、第1基板10として切り出される領域以外の領域は、後述する除材工程で切断、除去される除材領域10eである。   First, as shown in FIG. 4A, an organic EL element 80, a sealing layer 60, and the like are formed in a state of a first large substrate 10x on which a large number of first substrates 10 can be obtained. In FIG. 5A, the planned cutting lines for the first large substrate 10x are represented by alternate long and short dash lines L1 and L2, and the dotted line rising to the right in the region surrounded by the planned cutting lines (alternate dashed lines L1 and L2). The region indicated by is a region that is cut out as a single-sized first substrate 10. Accordingly, in FIG. 5A, the region other than the region cut out as the first substrate 10 is a material removal region 10e that is cut and removed in a material removal step described later.

次に、図4(b)および図5(b)に示す第1シール材塗布工程において、ディスペンサ描画、スクリーン印刷法、マイクロピエゾヘッドを用いたインクジェット法などにより、第1大型基板10xに対して、第1基板10の周辺領域10cに沿うように、前記した光硬化性のエポキシ樹脂材料からなる第1シール材91aを1mm以下の狭い幅寸法に塗布する。その際、第1シール材91aは、所定位置に途切れ部分91sを有するように塗布される。ここで、第1シール材91aを1mm以下の狭い幅寸法に塗布するという観点から、第1シール材91aの塗布時の粘度は、室温で2万〜20万mPa・s程度が好ましく、4〜10万mPa・s程度がさらに好ましい。また、第1シール料91aは、水分を含んでいると、気泡が発生し、強度が低下するため、含水率は0.1wt%(1000ppm)以下に脱水されていることが好ましい。   Next, in the first sealing material application step shown in FIGS. 4B and 5B, the first large substrate 10x is applied to the first large substrate 10x by a dispenser drawing, a screen printing method, an ink jet method using a micro piezo head, or the like. Then, the first sealing material 91a made of the above-described photo-curable epoxy resin material is applied to a narrow width dimension of 1 mm or less along the peripheral region 10c of the first substrate 10. At that time, the first sealing material 91a is applied so as to have an interrupted portion 91s at a predetermined position. Here, from the viewpoint of applying the first sealing material 91a to a narrow width dimension of 1 mm or less, the viscosity at the time of application of the first sealing material 91a is preferably about 20,000 to 200,000 mPa · s at room temperature. More preferred is about 100,000 mPa · s. In addition, when the first sealing material 91a contains moisture, bubbles are generated and the strength is reduced. Therefore, the moisture content is preferably dehydrated to 0.1 wt% (1000 ppm) or less.

また、本形態では、第1シール材塗布工程において、第1シール材91aと同様、ディスペンサ描画、スクリーン印刷法、マイクロピエゾヘッドを用いたインクジェット法などにより、第1大型基板10xに塗布した第1シール材91aの外側(除材領域10e)に、第1シール材91aと同様な光硬化性のエポキシ樹脂材料を第3シール材93aとして塗布する。本形態においては、第1シール材91aの周りを完全に囲むように第3シール材93aを塗布したため、第3シール材93aは、少なくとも第1シール材91aの途切れ部分91sに対して内外方向で重なる位置に塗布されることになる。   Further, in this embodiment, in the first sealing material application step, as with the first sealing material 91a, the first coating applied to the first large substrate 10x by a dispenser drawing, a screen printing method, an inkjet method using a micro piezo head, or the like. A photo-curable epoxy resin material similar to the first seal material 91a is applied as the third seal material 93a to the outside (the material removal region 10e) of the seal material 91a. In this embodiment, since the third sealing material 93a is applied so as to completely surround the first sealing material 91a, the third sealing material 93a is at least inward and outward with respect to the interrupted portion 91s of the first sealing material 91a. It will be applied to the overlapping position.

次に、図4(c)および図5(c)に示す第2シール材塗布工程において、ディスペンサ描画、スクリーン印刷法、マイクロピエゾヘッドを用いたインクジェット法などにより、第1大型基板10xにおいて、第1シール材91a囲まれた領域内に、前記した熱硬化性のエポキシ樹脂材料からなる第2シール材92aを塗布する。かかる第2シール材92aは、ベタ状、ドット状、ストライプ状などのパターンに塗布され、本形態では、円形のベタ状に塗布された例を示してある。第2シール材92aの塗布時の粘度は、薄膜でかつ充填性を上げるという観点から、500mPa・s以下、さらには300mPa・s以下であることが好ましい。かかる第2シール材92aについても、多量の水分を含んでいると硬化阻害を起こしやすいため、第2シール材92aについても、第1シール材91aと同様、水分を含んでいると、気泡が発生し、強度が低下するため、含水率は0.1wt%(1000ppm)以下に脱水されていることが好ましい。また、第2シール材92aに対して、酸無水の開環を促進する硬化促進剤やカチオン重合反応を起こす光反応型開始剤などを添加しておけば、低温かつ短時間での硬化が可能となる。   Next, in the second sealing material application step shown in FIG. 4C and FIG. 5C, the first large substrate 10x is subjected to the first large-scale substrate 10x by a dispenser drawing, a screen printing method, an inkjet method using a micropiezo head, or the like. The second sealing material 92a made of the above-described thermosetting epoxy resin material is applied in the region surrounded by the one sealing material 91a. The second sealing material 92a is applied in a pattern such as a solid shape, a dot shape, or a stripe shape. In this embodiment, an example in which the second sealing material 92a is applied in a circular solid shape is shown. The viscosity at the time of application of the second sealing material 92a is preferably 500 mPa · s or less, more preferably 300 mPa · s or less, from the viewpoint of increasing the filling property with a thin film. Since the second sealing material 92a is also susceptible to curing inhibition if it contains a large amount of water, bubbles are generated when the second sealing material 92a contains water as well as the first sealing material 91a. In order to reduce the strength, the water content is preferably dehydrated to 0.1 wt% (1000 ppm) or less. In addition, if a curing accelerator that promotes ring opening of acid anhydride or a photoreactive initiator that causes a cationic polymerization reaction is added to the second sealing material 92a, curing can be performed at a low temperature in a short time. It becomes.

次に、重ね合わせ工程では、図2(b)、図3(a)、図4(d)および図5(d)に示すように、第1シール材91aおよび第2シール材92aを間に挟むように、第1大型基板10xと、第2基板20を多数取りできる第2大型基板20xとを重ね合わせる。その際、約600N程度の力で第2大型基板20xを第1大型基板10xに向けて加圧し、この状態を約200秒保持する。かかる重ね合わせ工程では、まず、第1シール材91aが第2大型基板20xに接触して内側が密閉され、その後、第1大型基板10xと第2大型基板20xと間で第2シール材92aが展開する。かかる重ね合わせ工程は、真空度1Pa程度の減圧雰囲気で行なう。   Next, in the overlapping process, as shown in FIGS. 2B, 3A, 4D, and 5D, the first seal material 91a and the second seal material 92a are interposed. The first large substrate 10x and the second large substrate 20x on which a large number of second substrates 20 can be taken are overlapped so as to be sandwiched. At that time, the second large substrate 20x is pressurized toward the first large substrate 10x with a force of about 600 N, and this state is maintained for about 200 seconds. In this superposition process, first, the first sealing material 91a contacts the second large substrate 20x and the inside is sealed, and then the second sealing material 92a is interposed between the first large substrate 10x and the second large substrate 20x. expand. Such a superposition process is performed in a reduced pressure atmosphere with a degree of vacuum of about 1 Pa.

次に、常圧に戻すと、大気圧によって加圧されたのと同様な状態になるので、第1大型基板10xと第2大型基板20xとの間で第2シール材92aが隅々まで展開し、第2シール材92aの充填性が向上する。その際、第1シール材91aは、第2シール材92aに対するバンクとして機能する。このため、減圧状態から常圧に戻した際に大気圧によって加圧されたのと同様な状態になっても、第2シール材92aは、第1シール材91aによって堰き止められる。なお、第1大型基板10xと第2大型基板20xとの間には、それらの間に介在する第1シール材91aおよび第2シール材92aによって確保される。また、第1シール材91aあるいは第3シール材93aにギャップ材を添加しておいてもよい。   Next, when the pressure is returned to the normal pressure, the state is the same as when the pressure is increased by the atmospheric pressure. Therefore, the second sealing material 92a is developed to every corner between the first large substrate 10x and the second large substrate 20x. In addition, the filling property of the second sealing material 92a is improved. In that case, the 1st sealing material 91a functions as a bank with respect to the 2nd sealing material 92a. For this reason, even if it will be in the state similar to having been pressurized by atmospheric pressure when returning from a pressure reduction state to a normal pressure, the 2nd sealing material 92a is dammed up by the 1st sealing material 91a. The first large substrate 10x and the second large substrate 20x are secured by the first seal material 91a and the second seal material 92a interposed therebetween. Further, a gap material may be added to the first sealing material 91a or the third sealing material 93a.

このようにして、第1シール材91aで囲まれた領域で第2シール材92aを展開させる際、第1シール材91aには途切れ部分91sが形成されているため、第2シール材92aは、途切れ部分91sに入り込む。その際、第1シール材91aで囲まれた領域に混入した気泡は、途切れ部分91sから外側に排出される。また、途切れ部分91sから外側に第2シール材92aが流出しても、第1シール材91aの外側には第3シール材93aが塗布されているので、第2シール材92aは、第3シール材93aで堰き止められ、それ以上、外側には流出しない。このため、第1大型基板10xの余計な領域まで第2シール材92aで汚れることがなく、また、第1シール材91aで囲まれた領域内には十分な量の第2シール材92aが充填される。   In this way, when the second sealing material 92a is deployed in the region surrounded by the first sealing material 91a, the first sealing material 91a is formed with the discontinuous portion 91s. Enter the break 91s. At that time, the bubbles mixed in the region surrounded by the first sealing material 91a are discharged to the outside from the interrupted portion 91s. Further, even if the second seal material 92a flows out from the discontinuous portion 91s, the third seal material 93a is applied to the outside of the first seal material 91a. It is dammed by the material 93a and does not flow outward any more. For this reason, the second sealant 92a is not contaminated to an extra area of the first large substrate 10x, and a sufficient amount of the second sealant 92a is filled in the area surrounded by the first sealant 91a. Is done.

次に、硬化工程では、第1大型基板10xまたは/および第2大型基板20xの側から第1シール材91aに対して30mW/cm2程度のパワーで2000mJ/cm2程度の光量の紫外線を照射して第1シール材91aおよび第3シール材93aを選択的に硬化させて、第1シール材層91および第3シール材層93を形成する。次に、第1シール材層91および第3シール材層93によって貼り合わされた第1大型基板10xと第2大型基板20xとをホットプレート上に配置した状態で60〜100℃の加熱を行い、第1大型基板10xと第2大型基板20xとの間で第2シール材92aを隅々まで行き渡らせながら第2シール材92aを硬化させ、第2シール材層92を形成する。このようにして、第1大型基板10xと第2大型基板20xとを第1シール材層91、第2シール材層92および第3シール材層93によって貼り合わせた構造とする。 Next, in the curing step, the first sealing substrate 91a is irradiated with ultraviolet rays having a light amount of about 2000 mJ / cm 2 at a power of about 30 mW / cm 2 from the first large substrate 10x and / or the second large substrate 20x side. Then, the first sealing material 91a and the third sealing material 93a are selectively cured to form the first sealing material layer 91 and the third sealing material layer 93. Next, heating is performed at 60 to 100 ° C. in a state where the first large substrate 10x and the second large substrate 20x bonded together by the first sealing material layer 91 and the third sealing material layer 93 are arranged on a hot plate, The second sealant 92a is cured while the second sealant 92a is spread all over between the first large substrate 10x and the second large substrate 20x to form the second sealant layer 92. In this way, the first large substrate 10x and the second large substrate 20x are bonded to each other by the first sealing material layer 91, the second sealing material layer 92, and the third sealing material layer 93.

しかる後には、図5に一点鎖線L1、L2で示す切断予定線(図4(d)に矢印Cで示す位置)に沿って、第1大型基板10xと第2大型基板20xとを切断し、有機EL装置100を得る。このように構成した有機EL装置100において、第2シール材層92は硬化されているので、高温放置時に対流が起こらないので、封止膜60の第3層63を損傷することがなく、第2シール材層92は、封止膜60の第3層63に対する保護膜として機能する。ここで、第2シール材層92の厚さは1〜5μmであり、画素高精細になる程薄い方が好ましい。また、一般的な接着剤に多く含まれる粘土鉱物やシリカボール、樹脂ボールなどの充填物(フィラー)は、封止膜60の第3層63を損傷させる原因となるため、第1シール材91aおよび第2シール材92aには、かかる充填物が配合されていないことが好ましく、特に、第2シール材92aは、封止膜60に接するとともに、光の透過性を考慮すると、充填物が配合されていないことが好ましい。   After that, the first large substrate 10x and the second large substrate 20x are cut along the planned cutting lines indicated by the alternate long and short dash lines L1 and L2 in FIG. 5 (positions indicated by arrows C in FIG. 4D), An organic EL device 100 is obtained. In the organic EL device 100 configured as described above, since the second sealing material layer 92 is cured, convection does not occur when left at a high temperature, so that the third layer 63 of the sealing film 60 is not damaged, and the second sealing material layer 92 is not damaged. The two sealing material layers 92 function as a protective film for the third layer 63 of the sealing film 60. Here, the thickness of the second sealing material layer 92 is 1 to 5 μm, and it is preferable that the second sealing material layer 92 is thinner as the pixel becomes higher in definition. In addition, fillers such as clay minerals, silica balls, and resin balls that are contained in a large amount in general adhesives cause damage to the third layer 63 of the sealing film 60, and thus the first sealing material 91 a. It is preferable that such a filler is not blended in the second sealing material 92a. In particular, the second sealing material 92a is in contact with the sealing film 60, and considering the light transmittance, the filler is blended. Preferably not.

(本形態の主な効果)
以上説明したように、本形態の有機EL装置100およびその製造方法では、有機EL素子80を水分などから保護することを目的に、第2電極層83の上層に画素領域10aよりも広い領域にわたって封止膜60を形成しておき、この状態で、第1基板10と第2基板20とを貼り合せる。
(Main effects of this form)
As described above, in the organic EL device 100 and the manufacturing method thereof according to the present embodiment, the organic EL device 80 is formed over a region wider than the pixel region 10a on the second electrode layer 83 for the purpose of protecting the organic EL element 80 from moisture and the like. The sealing film 60 is formed, and the first substrate 10 and the second substrate 20 are bonded together in this state.

かかる貼り合わせ構造を採用するにあたって、重ね合わせ工程においては、未硬化の第2シール材92aを未硬化の第1シール材91aによって堰き止めながら第2シール材92aを基板間で展開させる。ここで、第1シール材91aには途切れ部分91sが形成されているため、第1シール材91aで囲まれた領域に混入した気泡は、途切れ部分91sから外側に排出される。それ故、第1シール材91a(第1シール材層91)で囲まれた領域内に気泡が残留しないので、第1シール材91a(第1シール材層91)や画素領域10aに形成した膜などが気泡により押圧されて損傷するという事態を回避することができる。   In adopting such a bonding structure, in the overlapping step, the second sealing material 92a is developed between the substrates while the uncured second sealing material 92a is dammed by the uncured first sealing material 91a. Here, since the discontinuous portion 91s is formed in the first seal material 91a, the bubbles mixed in the region surrounded by the first seal material 91a are discharged to the outside from the discontinuous portion 91s. Therefore, since no bubbles remain in the region surrounded by the first sealing material 91a (first sealing material layer 91), the film formed on the first sealing material 91a (first sealing material layer 91) or the pixel region 10a. It is possible to avoid a situation in which the bubbles are pressed and damaged by the bubbles.

また、本形態において、略矩形枠状に形成された第1シール材91aの角部分および辺部分の双方に途切れ部分91sが形成されているため、第2シール材92aを基板間で展開させる際、例えば、気泡が第1シール材91aの角部分に押しやられた場合でも、気泡を効率よく排出することができ、第1シール材91aで囲まれた領域内に気泡が残留しない。   Further, in this embodiment, since the discontinuous portions 91s are formed in both the corner portion and the side portion of the first sealing material 91a formed in a substantially rectangular frame shape, when the second sealing material 92a is developed between the substrates. For example, even when bubbles are pushed to the corners of the first sealing material 91a, the bubbles can be efficiently discharged, and no bubbles remain in the region surrounded by the first sealing material 91a.

さらに、本形態においては、画素領域10aよりも広い領域にわたって封止膜60が形成されているため、有機EL素子80を水分などから確実に保護することができる。また、封止層60が画素領域10aを含む広い領域にわたって形成されるため、第1シール材90aで囲まれた領域内に気泡が残留していると、気泡に押圧されて封止層60が損傷するおそれがあるが、本形態では、かかる気泡の残留が発生しないことから、封止層60が損傷することがない。それ故、有機EL装置100の信頼性を向上することができる。   Furthermore, in this embodiment, since the sealing film 60 is formed over a region wider than the pixel region 10a, the organic EL element 80 can be reliably protected from moisture and the like. Further, since the sealing layer 60 is formed over a wide region including the pixel region 10a, if bubbles remain in the region surrounded by the first sealing material 90a, the sealing layer 60 is pressed by the bubbles and the sealing layer 60 is formed. Although there is a possibility of damage, in the present embodiment, since the bubbles do not remain, the sealing layer 60 is not damaged. Therefore, the reliability of the organic EL device 100 can be improved.

また、第1シール材91aおよび第3シール材93aは、第2シール材92aよりも粘度が高いので、第1シール材91aおよび第3シール材93aは、未硬化の状態であっても、第1シール材91aが外側に流出することを防止することもできる。また、第2シール材92aについては、第1シール材91aで囲まれた領域の全体にわたって充填することができる。   Further, since the first sealing material 91a and the third sealing material 93a have higher viscosity than the second sealing material 92a, the first sealing material 91a and the third sealing material 93a are not cured even if they are in an uncured state. It is also possible to prevent the one sealing material 91a from flowing out. Further, the second sealing material 92a can be filled over the entire region surrounded by the first sealing material 91a.

さらに、第1シール材91aは光硬化性であり、第2シール材92aは熱硬化性であるため、第1シール材91aおよび第2シール材92aを所定の順序に硬化させることができ、第1シール材91aのみを硬化させた後、第2シール材92aを硬化させることができる。従って、第2シール材92aを硬化させる際に第2シール材92aが第1シール材層91を外側に向けて押圧するようなことがあっても、第1シール材91aが既に硬化しているので、第2シール材92aが第1シール材層91を突き破ることがない。また、画素領域10aでは第1基板10および第2基板20に各種の遮光性の膜が形成されているが、このような場合でも、第2シール材92aが熱硬化性であるので、画素領域10a内に形成された第2シール材92aを確実に硬化させることができる。   Furthermore, since the first sealing material 91a is photocurable and the second sealing material 92a is thermosetting, the first sealing material 91a and the second sealing material 92a can be cured in a predetermined order, After only the first sealing material 91a is cured, the second sealing material 92a can be cured. Therefore, even when the second sealing material 92a presses the first sealing material layer 91 outward when the second sealing material 92a is cured, the first sealing material 91a is already cured. Therefore, the second sealing material 92a does not break through the first sealing material layer 91. In the pixel region 10a, various light-shielding films are formed on the first substrate 10 and the second substrate 20. Even in such a case, since the second sealant 92a is thermosetting, the pixel region The second sealing material 92a formed in 10a can be reliably cured.

さらにまた、重ね合わせ工程は、減圧雰囲気中で行なうため、第1基板10と第2基板20との間に気泡が混入すること自身を抑制することができる。また、常圧に戻した際、大気圧によって加圧されたのと同様な状態になるので、第1基板10と第2基板20との間で第2シール材92aが隅々まで行き渡り、第2シール材92aの充填性が向上する。   Furthermore, since the superposition process is performed in a reduced-pressure atmosphere, it is possible to suppress the bubbles themselves from being mixed between the first substrate 10 and the second substrate 20. Further, when the pressure is returned to the normal pressure, the state is the same as when the pressure is increased by the atmospheric pressure. Therefore, the second sealing material 92a reaches every corner between the first substrate 10 and the second substrate 20, and the second The filling property of the two sealing materials 92a is improved.

[実施の形態2]
図6を参照して、本発明の実施の形態2に係る有機EL装置100の製造方法を説明する。図6は、本形態の有機EL装置100の製造工程のうち、第2基板20にカラーフィルタ22(R)、(G)、(B)などを形成した後、第1基板10と第2基板20とを貼り合せ、しかる後に基板を切断する除材工程を行なう直前までの様子を示す工程断面図である。なお、本形態の基本的な構成は、実施の形態1において図3などを参照して説明した通りであるため、共通する機能を有する部分には同一の符号を付して図示し、それらの説明を省略する。また、本形態の有機EL装置100を製造するにあたって、第1基板10および第2基板20を多数取りできる大型基板の状態で貼り合わせ工程などを行い、その後、大型基板を単品サイズの大きさに切断する様子は、実施の形態1と同様、図5を参照する。また、図6において、第2基板20などについては、図3に示す状態と上下反転して示してある。
[Embodiment 2]
With reference to FIG. 6, the manufacturing method of the organic electroluminescent apparatus 100 which concerns on Embodiment 2 of this invention is demonstrated. FIG. 6 shows the manufacturing process of the organic EL device 100 according to the present embodiment. After forming the color filters 22 (R), (G), (B), etc. on the second substrate 20, the first substrate 10 and the second substrate are formed. 20 is a process cross-sectional view showing a state up to just before performing a material removal step of bonding 20 and then cutting the substrate. Note that the basic configuration of this embodiment is as described in Embodiment 1 with reference to FIG. 3 and the like, and therefore, parts having common functions are denoted by the same reference numerals and illustrated. Description is omitted. Further, in manufacturing the organic EL device 100 of the present embodiment, a bonding process or the like is performed in a state of a large substrate that can take a large number of the first substrate 10 and the second substrate 20, and then the large substrate is reduced to a single product size. The manner of cutting will be described with reference to FIG. In FIG. 6, the second substrate 20 and the like are shown upside down with respect to the state shown in FIG.

実施の形態1では、第1基板10(第1大型基板10x)の側にシール材を塗布したが、本形態では、第2基板20(第2大型基板20x)の側にシール材を塗布する。   In the first embodiment, the sealing material is applied to the first substrate 10 (first large substrate 10x) side. In this embodiment, the sealing material is applied to the second substrate 20 (second large substrate 20x). .

すなわち、図6(a)に示すように、第2基板20を多数取りできる第2大型基板20xにカラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)などを形成した後、図6(b)に示す第1シール材塗布工程において、ディスペンサ描画、スクリーン印刷法、マイクロピエゾヘッドを用いたインクジェット法などにより、第2大型基板20xに対して、第2基板20の周辺領域10cに沿うように、実施の形態1で説明した光硬化性のエポキシ樹脂材料からなる第1シール材91aを1mm以下の狭い幅寸法に塗布する。その際、図1(a)、図3(a)、(b)、および図6(a)に示すように、第1シール材91aに途切れ部分91sを形成する。さらに、本形態では、第1シール材塗布工程において、第1シール材91aと同様、ディスペンサ描画、スクリーン印刷法、マイクロピエゾヘッドを用いたインクジェット法などにより、第2大型基板20xに塗布した第1シール材91aの外側(除材領域10e)に、第1シール材91aと同様な光硬化性のエポキシ樹脂材料を第3シール材93aとして塗布する。かかる様子は、図5(b)に示す通りである。   That is, as shown in FIG. 6A, after the color filter layers 22 (R), (G), (B) and the like are formed on the second large substrate 20x on which a large number of second substrates 20 can be obtained, FIG. In the first sealing material application step shown in b), the second large substrate 20x is aligned with the peripheral region 10c of the second substrate 20 by a dispenser drawing method, a screen printing method, an ink jet method using a micro piezo head, or the like. First, the first sealing material 91a made of the photo-curable epoxy resin material described in the first embodiment is applied to a narrow width dimension of 1 mm or less. At that time, as shown in FIGS. 1 (a), 3 (a), 3 (b), and 6 (a), an interrupted portion 91s is formed in the first sealing material 91a. Furthermore, in this embodiment, in the first sealing material application step, the first coating material applied to the second large substrate 20x by the dispenser drawing, the screen printing method, the ink jet method using the micro piezo head, etc. as in the first sealing material 91a. A photo-curable epoxy resin material similar to the first seal material 91a is applied as the third seal material 93a to the outside (the material removal region 10e) of the seal material 91a. Such a situation is as shown in FIG.

次に、図6(c)に示す第2シール材塗布工程において、ディスペンサ描画、スクリーン印刷法、マイクロピエゾヘッドを用いたインクジェット法などにより、第2大型基板20xにおいて、第1シール材91aで囲まれた領域内に、実施の形態1で説明した熱硬化性のエポキシ樹脂材料からなる第2シール材92aをベタ状、ドット状、ストライプ状など、所定のパターンに塗布する。かかる様子は、図5(c)に示す通りである。   Next, in the second sealing material application step shown in FIG. 6C, the second large substrate 20x is surrounded by the first sealing material 91a by a dispenser drawing method, a screen printing method, an ink jet method using a micro piezo head, or the like. In the region, the second sealing material 92a made of the thermosetting epoxy resin material described in the first embodiment is applied in a predetermined pattern such as a solid shape, a dot shape, or a stripe shape. Such a situation is as shown in FIG.

次に、重ね合わせ工程では、図6(c)に示すように、第1シール材91aおよび第2シール材92aを間に挟むように第1大型基板10xと第2大型基板20xとを重ね合わせる。その際、実施の形態1と同様、第1大型基板10xを第2大型基板20xに向けて加圧し、この状態を約200秒保持する。かかる重ね合わせ工程では、まず、第1シール材91aが第1大型基板10xに接触して内側が密閉され、その後、第1大型基板10xと第2大型基板20xとの間で第2シール材92aが展開する。かかる様子は、図5(d)に示す通りである。   Next, in the overlapping step, as shown in FIG. 6C, the first large substrate 10x and the second large substrate 20x are overlapped so as to sandwich the first seal material 91a and the second seal material 92a. . At that time, as in the first embodiment, the first large substrate 10x is pressurized toward the second large substrate 20x, and this state is maintained for about 200 seconds. In the superimposing step, first, the first sealing material 91a comes into contact with the first large substrate 10x to seal the inside, and then the second sealing material 92a between the first large substrate 10x and the second large substrate 20x. Expands. Such a situation is as shown in FIG.

このようにして、第1シール材91aで囲まれた領域で第2シール材92aを展開させる際、第1シール材91aには途切れ部分91sが形成されているため、第2シール材92aは、途切れ部分91sに入り込む。その際、第1シール材91aで囲まれた領域に混入した気泡は、途切れ部分91sから外側に排出される。また、途切れ部分91sから外側に第2シール材92aが流出しても、第1シール材91aの外側には第3シール材93aが塗布されているので、第2シール材92aは、第3シール材93aで堰き止められ、それ以上、外側には流出しない。このため、第2大型基板20xの余計な領域まで第2シール材92aで汚れることがなく、また、第1シール材91aで囲まれた領域内には十分な量の第2シール材92aが充填される。   In this way, when the second sealing material 92a is deployed in the region surrounded by the first sealing material 91a, the first sealing material 91a is formed with the discontinuous portion 91s. Enter the break 91s. At that time, the bubbles mixed in the region surrounded by the first sealing material 91a are discharged to the outside from the interrupted portion 91s. Further, even if the second seal material 92a flows out from the discontinuous portion 91s, the third seal material 93a is applied to the outside of the first seal material 91a. It is dammed by the material 93a and does not flow outward any more. For this reason, the second sealing material 92a is not contaminated to an extra region of the second large substrate 20x, and a sufficient amount of the second sealing material 92a is filled in the region surrounded by the first sealing material 91a. Is done.

次に、硬化工程では、第1大型基板10xまたは/および第2大型基板20xの側から第1シール材91aに対して紫外線を照射して第1シール材91aおよび第3シール材93aを選択的に硬化させて、第1シール材層91および第3シール材層93を形成する。次に、第1シール材層91および第3シール材層93によって貼り合わされた第1大型基板10xと第2大型基板20xとをホットプレート上で加熱し、第1大型基板10xと第2大型基板20xとの間で第2シール材92aを隅々まで行き渡らせながら第2シール材92aを硬化させ、第2シール材層92を形成する。このようにして、第1大型基板10xと第2大型基板20xとを第1シール材層91、第2シール材層92および第3シール材層93によって貼り合わせた構造とする。   Next, in the curing step, the first sealing material 91a and the third sealing material 93a are selectively irradiated by irradiating the first sealing material 91a with ultraviolet rays from the first large substrate 10x and / or the second large substrate 20x side. The first sealing material layer 91 and the third sealing material layer 93 are formed by curing. Next, the first large substrate 10x and the second large substrate 20x bonded together by the first sealing material layer 91 and the third sealing material layer 93 are heated on a hot plate, and the first large substrate 10x and the second large substrate are heated. The second sealing material 92a is cured while spreading the second sealing material 92a to every corner between 20x and the second sealing material layer 92 is formed. In this way, the first large substrate 10x and the second large substrate 20x are bonded to each other by the first sealing material layer 91, the second sealing material layer 92, and the third sealing material layer 93.

しかる後には、図6(d)に矢印Cで示す位置(図5に一点鎖線L1、L2で示す切断予定線)に沿って、第1大型基板10xと第2大型基板20xとを切断し、有機EL装置100を得る。   Thereafter, the first large substrate 10x and the second large substrate 20x are cut along the position indicated by the arrow C in FIG. 6D (scheduled cutting lines indicated by the dashed lines L1 and L2 in FIG. 5). An organic EL device 100 is obtained.

このような構成を採用した場合も、実施の形態1と同様、重ね合わせ工程においては、未硬化の第2シール材92aを未硬化の第1シール材91aによって堰き止めながら第2シール材92aを基板間で展開させる。ここで、第1シール材91aには途切れ部分91sが形成されているため、第1シール材91aで囲まれた領域に混入した気泡は、途切れ部分91sから外側に排出される。それ故、第1シール材91a(第1シール材層91)で囲まれた領域内に気泡が残留していないので、第1シール材(第1シール材層91)や画素領域10aに形成した膜などが気泡により押圧されて損傷するという事態を回避することができるなど、実施の形態1と同様な効果を奏する。   Even when such a configuration is adopted, as in the first embodiment, in the overlapping process, the second seal material 92a is dammed while the uncured second seal material 92a is dammed by the uncured first seal material 91a. Deploy between boards. Here, since the discontinuous portion 91s is formed in the first seal material 91a, the bubbles mixed in the region surrounded by the first seal material 91a are discharged to the outside from the discontinuous portion 91s. Therefore, since no bubbles remain in the region surrounded by the first sealing material 91a (first sealing material layer 91), it is formed in the first sealing material (first sealing material layer 91) or the pixel region 10a. The same effects as in the first embodiment can be achieved, such as avoiding a situation in which a film is pressed and damaged by bubbles.

[実施の形態1、2の変形例]
上記実施の形態1、2では、第3シール材93aを大型基板において第1基板10あるいは第2基板20として切り出される領域毎に形成したが、図7(a)に示すように、第1基板10あるいは第2基板20として切り出される領域の間に第3シール材93aを1本の線状に形成してもよい。また、図7(b)に示すように、第3シール材93aにおいて、第2シール材92aが流出しない部分に途切れ部分93sを有するように、第3シール材93aを形成してもよい。さらに、図7(c)に示すように、第3シール材93aを一切形成しない構成を採用してもよい。
[Modifications of Embodiments 1 and 2]
In the first and second embodiments, the third sealing material 93a is formed for each region cut out as the first substrate 10 or the second substrate 20 in the large substrate. However, as shown in FIG. The third sealing material 93a may be formed in a single line between the regions 10 or the second substrate 20 cut out. Moreover, as shown in FIG.7 (b), you may form the 3rd sealing material 93a so that it may have the discontinuous part 93s in the part in which the 2nd sealing material 92a does not flow out in the 3rd sealing material 93a. Furthermore, as shown in FIG.7 (c), you may employ | adopt the structure which does not form the 3rd sealing material 93a at all.

上記実施の形態1、2では、図7(a)に示すように、略矩形枠状に形成された第1シール材91aの角部分および辺部分に途切れ部分91sを形成したが、図7(b)に示すように、第2シール材92aを角部分から離間するように菱形形状に塗布した場合などにおいては、気泡が第1シール材91aの角部分に押しやられるので、第1シール材91aの角部分のみに途切れ部分91sを形成してもよい。図7(c)に示すように、第2シール材92aを辺部分から離間するようにX字形状に塗布した場合などにおいては、気泡が第1シール材91aの辺部分に押しやられるので、第1シール材91aの辺部分のみに途切れ部分91sを形成してもよい。いずれの場合も、気泡が押しやられる位置に途切れ部分91sを形成することが好ましい。   In the first and second embodiments, as shown in FIG. 7A, the discontinuous portions 91s are formed in the corner portions and the side portions of the first sealing material 91a formed in a substantially rectangular frame shape. As shown in b), when the second sealing material 92a is applied in a rhombus shape so as to be separated from the corner portion, the bubbles are pushed to the corner portion of the first sealing material 91a. An interrupted portion 91s may be formed only at the corner portion. As shown in FIG. 7C, when the second sealing material 92a is applied in an X shape so as to be separated from the side portion, the bubbles are pushed to the side portion of the first sealing material 91a. You may form the discontinuous part 91s only in the side part of 1 sealing material 91a. In any case, it is preferable to form the discontinuous portion 91s at the position where the bubbles are pushed.

上記実施の形態1、2では、第2シール材92aをベタ状に塗布したが、図7(a)に示すように、第2シール材92aをドット状に形成してもよい。この場合、第2シール材92aがドット状に形成される領域の形状については、図7(b)、(c)に示すように、菱形形状やX字形状などとしてもよい。さらに、図示を省略するが、第2シール材92aを多数本の線状に形成してもよい。   In the first and second embodiments, the second sealing material 92a is applied in a solid shape. However, as shown in FIG. 7A, the second sealing material 92a may be formed in a dot shape. In this case, the shape of the region where the second sealing material 92a is formed in a dot shape may be a rhombus shape, an X shape, or the like, as shown in FIGS. Further, although not shown, the second sealing material 92a may be formed in a number of lines.

上記実施の形態1、2では、第1シール材層91の外周縁に沿って大型基板を切断したが、第1シール材層91の内周縁に沿って大型基板を切断する構成、第1シール材層91の幅方向の中央付近を通って大型基板を切断する構成、第1シール材層91と第3シール材層93との間を通って大型基板を切断する構成、第3シール材層93の内周縁に沿って大型基板を切断する構成、第3シール材層93の幅方向の中央付近を通って大型基板を切断する構成、あるいは、第3シール材層93の外周縁に沿って大型基板を切断する構成を採用してもよい。   In the first and second embodiments, the large substrate is cut along the outer peripheral edge of the first sealing material layer 91. However, the first seal is configured to cut the large substrate along the inner peripheral edge of the first sealing material layer 91. A configuration in which the large substrate is cut through the center of the material layer 91 in the width direction, a configuration in which the large substrate is cut between the first sealing material layer 91 and the third sealing material layer 93, and a third sealing material layer A configuration in which the large substrate is cut along the inner peripheral edge of 93, a configuration in which the large substrate is cut through the vicinity of the center in the width direction of the third sealing material layer 93, or along the outer peripheral edge of the third sealing material layer 93 You may employ | adopt the structure which cut | disconnects a large sized board | substrate.

上記実施の形態1、2では、第1シール材91a、第3シール材93a、および第2シール材92aを塗布した後、硬化工程でこれらのシール材を順次硬化させたが、第1シール材91aおよび第3シール材93aの粘度が高く、かつ、硬化速度が遅い場合には、第1シール材91aおよび第3シール材93aを塗布した後、第2シール材92aを塗布する前に第1シール材91aおよび第3シール材93aを硬化させてもよい。また、第1シール材91a、第3シール材93a、および第2シール材92aを塗布した後、重ね合わせ工程を行なうに第1シール材91aおよび第3シール材93aを硬化させてもよい。   In the first and second embodiments, after the first sealing material 91a, the third sealing material 93a, and the second sealing material 92a are applied, these sealing materials are sequentially cured in the curing process. When the viscosity of 91a and the third sealing material 93a is high and the curing speed is slow, after applying the first sealing material 91a and the third sealing material 93a, before applying the second sealing material 92a, the first The sealing material 91a and the third sealing material 93a may be cured. In addition, after applying the first sealing material 91a, the third sealing material 93a, and the second sealing material 92a, the first sealing material 91a and the third sealing material 93a may be cured to perform the overlapping process.

[他の実施の形態]
上記実施の形態では、トップエミッション型の有機EL装置100において第2基板20にカラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)を設けた場合を例に説明したが、有機EL素子自身が各色の光を出射する有機EL装置に本発明を適用してもよく、この場合、第2基板20は封止基板のみとして機能する。
[Other embodiments]
In the above embodiment, the case where the color filter layers 22 (R), (G), and (B) are provided on the second substrate 20 in the top emission type organic EL device 100 has been described as an example. However, the organic EL element itself However, the present invention may be applied to an organic EL device that emits light of each color. In this case, the second substrate 20 functions only as a sealing substrate.

また、上記実施の形態では、カラー表示用の有機EL装置100を例に説明したが、複写機の光学ヘッドなどとして利用する場合には、モノクロでよく、このようなモノクロ用の有機EL装置に本発明を適用してもよい。この場合も、第2基板20は封止基板のみとして機能する。   In the above embodiment, the organic EL device 100 for color display has been described as an example. However, when used as an optical head of a copying machine, monochrome may be used, and such a monochrome organic EL device may be used. The present invention may be applied. Also in this case, the second substrate 20 functions only as a sealing substrate.

さらに、上記実施の形態では、トップエミッション型の有機EL装置100を例に説明したが、ボトムエミッション型の有機EL装置に本発明を適用してもよく、この場合、第2基板20は封止基板のみとして機能する。   Furthermore, in the above embodiment, the top emission type organic EL device 100 has been described as an example. However, the present invention may be applied to a bottom emission type organic EL device. In this case, the second substrate 20 is sealed. It functions as a substrate only.

また、上記形態では、有機機能層82を画素領域10aの全面に形成した例を説明したが、隔壁51で囲まれた領域内にインクジェット法などで有機機能層を選択的に塗布した後、定着させて、第1電極層81の上層には、3,4−ポリエチレンジオシチオフェン/ポリスチレンスルホン酸(PEDOT/PSS)などからなる正孔注入層、および発光層からなる有機機能層が形成された有機EL装置に発明を適用してもよい。この場合、発光層は、例えば、ポリフルオレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリチオフェン誘導体、またはこれらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、例えばルブレン、ペリレン、9,10−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン6、キナクリドン等をドープした材料から構成される。また、発光層としては、二重結合のπ電子がポリマー鎖上で非極在化しているπ共役系高分子材料が、導電性高分子でもあることから発光性能に優れるため、好適に用いられる。特に、その分子内にフルオレン骨格を有する化合物、すなわちポリフルオレン系化合物がより好適に用いられる。また、このような材料以外にも、共役系高分子有機化合物の前駆体と、発光特性を変化させるための少なくとも1種の蛍光色素とを含んでなる組成物も使用可能である。   In the above embodiment, the example in which the organic functional layer 82 is formed on the entire surface of the pixel region 10a has been described. However, after the organic functional layer is selectively applied to the region surrounded by the partition wall 51 by an inkjet method or the like, the fixing is performed. As a result, an upper layer of the first electrode layer 81 was formed with a hole injection layer made of 3,4-polyethylenediosithiophene / polystyrene sulfonic acid (PEDOT / PSS) or the like, and an organic functional layer made of a light emitting layer. The invention may be applied to an organic EL device. In this case, the light emitting layer is made of, for example, a polyfluorene derivative, a polyphenylene derivative, a polyvinyl carbazole, a polythiophene derivative, or a polymer material thereof, a perylene dye, a coumarin dye, a rhodamine dye, for example, rubrene, perylene, 9,10. -It is composed of a material doped with diphenylanthracene, tetraphenylbutadiene, Nile red, coumarin 6, quinacridone and the like. Further, as the light emitting layer, a π-conjugated polymer material in which double-bonded π electrons are non-polarized on the polymer chain is also a conductive polymer, so that it is excellent in light emitting performance, and thus is preferably used. . In particular, a compound having a fluorene skeleton in the molecule, that is, a polyfluorene compound is more preferably used. In addition to such materials, it is also possible to use a composition comprising a conjugated polymer organic compound precursor and at least one fluorescent dye for changing light emission characteristics.

[電子機器への搭載例]
図8を参照して、上述した実施形態に係る有機EL装置100を搭載した電子機器について説明する。図8は、本発明に係る有機EL装置を用いた電子機器の説明図である。
[Example of mounting on electronic equipment]
With reference to FIG. 8, an electronic apparatus in which the organic EL device 100 according to the above-described embodiment is mounted will be described. FIG. 8 is an explanatory diagram of an electronic apparatus using the organic EL device according to the present invention.

図8(a)に、有機EL装置100を備えたモバイル型のパーソナルコンピュータの構成を示す。パーソナルコンピュータ2000は、表示ユニットとしての有機EL装置100と本体部2010を備える。本体部2010には、電源スイッチ2001及びキーボード2002が設けられている。図8(b)に、有機EL装置100を備えた携帯電話機の構成を示す。携帯電話機3000は、複数の操作ボタン3001及びスクロールボタン3002、並びに表示ユニットとしての有機EL装置100を備える。スクロールボタン3002を操作することによって、有機EL装置100に表示される画面がスクロールされる。図8(c)に、有機EL装置100を適用した情報携帯端末(PDA:Personal Digital Assistants)の構成を示す。情報携帯端末4000は、複数の操作ボタン4001及び電源スイッチ4002、並びに表示ユニットとしての有機EL装置100を備える。電源スイッチ4002を操作すると、住所録やスケジュール帳といった各種の情報が有機EL装置100に表示される。なお、有機EL装置100が適用される電子機器としては、図8(a)〜(c)に示すものの他、デジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器等などが挙げられる。そして、これらの各種電子機器の表示部として、前述した有機EL装置100が適用可能である。   FIG. 8A shows the configuration of a mobile personal computer provided with the organic EL device 100. The personal computer 2000 includes an organic EL device 100 as a display unit and a main body 2010. The main body 2010 is provided with a power switch 2001 and a keyboard 2002. FIG. 8B shows the configuration of a mobile phone provided with the organic EL device 100. The cellular phone 3000 includes a plurality of operation buttons 3001, scroll buttons 3002, and the organic EL device 100 as a display unit. By operating the scroll button 3002, the screen displayed on the organic EL device 100 is scrolled. FIG. 8C shows the configuration of a personal digital assistant (PDA) to which the organic EL device 100 is applied. The information portable terminal 4000 includes a plurality of operation buttons 4001, a power switch 4002, and the organic EL device 100 as a display unit. When the power switch 4002 is operated, various types of information such as an address book and a schedule book are displayed on the organic EL device 100. Electronic devices to which the organic EL device 100 is applied include those shown in FIGS. 8A to 8C, digital still cameras, liquid crystal televisions, viewfinder type, monitor direct view type video tape recorders, car navigation systems. Examples thereof include a device, a pager, an electronic notebook, a calculator, a word processor, a workstation, a videophone, a POS terminal, and a device equipped with a touch panel. And the organic electroluminescent apparatus 100 mentioned above is applicable as a display part of these various electronic devices.

本発明の実施の形態1に係る有機EL装置の電気的な構成を示す等価回路図である。1 is an equivalent circuit diagram showing an electrical configuration of an organic EL device according to Embodiment 1 of the present invention. (a)、(b)は各々、本発明の実施の形態1に係る有機EL装置の平面的な構成を各構成要素と共に対向基板の側から見た平面図、およびそのJ−J′断面図である。(A), (b) is the top view which looked at the planar structure of the organic electroluminescent apparatus which concerns on Embodiment 1 of this invention from the opposing substrate side with each component, respectively, and its JJ 'sectional drawing It is. (a)、(b)は各々、本発明の実施の形態1に係る有機EL装置の断面構成を模式的に示す断面図、およびその周辺領域の平面構成を模式的に示す平面図である。(A), (b) is sectional drawing which shows typically the cross-sectional structure of the organic electroluminescent apparatus which concerns on Embodiment 1 of this invention, and the top view which shows typically the planar structure of the peripheral region, respectively. 本発明の実施の形態1に係る有機EL装置の製造工程のうち、第1基板に有機EL素子や封止層を形成した後、第1基板と第2基板とを貼り合せ、しかる後に基板を切断する除材工程を行なう直前までの様子を示す工程断面図である。In the manufacturing process of the organic EL device according to Embodiment 1 of the present invention, after forming the organic EL element and the sealing layer on the first substrate, the first substrate and the second substrate are bonded together, and then the substrate is attached. It is process sectional drawing which shows a mode until just before performing the material removal process to cut | disconnect. 図4に示す工程を大型基板の状態で行なう様子を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows typically a mode that the process shown in FIG. 4 is performed in the state of a large sized substrate. 本発明の実施の形態2に係る有機EL装置の製造工程のうち、第2基板にカラーフィルタ層などを形成した後、第1基板と第2基板とを貼り合せ、しかる後に基板を切断する除材工程を行なう直前までの様子を示す工程断面図である。In the manufacturing process of the organic EL device according to Embodiment 2 of the present invention, after the color filter layer and the like are formed on the second substrate, the first substrate and the second substrate are bonded together, and then the substrate is cut. It is process sectional drawing which shows a mode until just before performing a material process. 本発明の実施の形態1、2の変形例に係る有機EL装置の製造方法を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the manufacturing method of the organic EL apparatus which concerns on the modification of Embodiment 1, 2 of this invention. 本発明に係る有機EL装置を用いた電子機器の説明図である。It is explanatory drawing of the electronic device using the organic EL apparatus which concerns on this invention. 本発明の参考例に係る有機EL装置の製造方法での問題点を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the problem in the manufacturing method of the organic electroluminescent apparatus based on the reference example of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

10・・第1基板、10a・・画素領域、10c・・周辺領域、20・・第2基板、22(R)、(G)、(B)・・カラーフィルタ層、80・・有機EL素子、81・・第1電極層、82・・有機機能層、83・・第2電極層、91・・第1シール材層、91a・・第1シール材、91s・・第1シール材の途切れ部分、92・・第2シール材層、92a・・第2シール材、93・・第3シール材層、93a・・第3シール材、100・・有機EL装置、100a・・画素 10..First substrate, 10a..Pixel region, 10c..Peripheral region, 20..Second substrate, 22 (R), (G), (B) .. Color filter layer, 80..Organic EL element 81..First electrode layer 82..Organic functional layer 83..Second electrode layer 91..First seal material layer 91a..First seal material 91s..First seal material break Part 92 ·· second sealing material layer 92a ·· second sealing material 93 ·· third sealing material layer 93a ·· third sealing material 100 ·· organic EL device 100a ·· pixel

Claims (15)

第1電極層、有機機能層および第2電極層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子が画素領域に複数配列された第1基板と、該第1基板において前記有機エレクトロルミネッセンス素子が形成されている面側に重ねられた第2基板と、を有する有機エレクトロルミネッセンス装置において、
前記第1基板と前記第2基板とは、前記画素領域を囲む周辺領域に沿うように形成された枠状の第1シール材層と、当該第1シール材層で囲まれた領域の全体に形成された第2シール材層とによって貼り合わされ、
前記第1シール材層には途切れ部分が形成されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置。
A first substrate on which a plurality of organic electroluminescent elements each including a first electrode layer, an organic functional layer, and a second electrode layer are arranged in a pixel region; and a surface side on which the organic electroluminescent elements are formed on the first substrate An organic electroluminescence device having a second substrate overlaid on
The first substrate and the second substrate include a frame-shaped first sealing material layer formed along a peripheral region surrounding the pixel region, and an entire region surrounded by the first sealing material layer. Bonded with the formed second sealing material layer,
An organic electroluminescence device, wherein a discontinuous portion is formed in the first sealing material layer.
前記第2基板および前記第2シール材層は透光性であり、
前記第2基板には、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子と対向する各領域に異なる色のカラーフィルタ層が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
The second substrate and the second sealing material layer are translucent,
2. The organic electroluminescence device according to claim 1, wherein a color filter layer of a different color is formed in each region facing the plurality of organic electroluminescence elements on the second substrate.
前記第1基板には、前記第2電極層の上層に前記画素領域よりも広い領域にわたって封止膜が形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。   3. The organic electroluminescence device according to claim 1, wherein a sealing film is formed on the first substrate over a region wider than the pixel region above the second electrode layer. 4. 前記第1シール材層は略矩形枠状に形成され、
前記途切れ部分は、少なくとも前記第1シール材層の角部分に形成されていることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
The first sealing material layer is formed in a substantially rectangular frame shape,
The organic electroluminescence device according to any one of claims 1 to 3, wherein the discontinuous portion is formed at least at a corner portion of the first sealing material layer.
前記第1シール材層は略矩形枠状に形成され、
前記途切れ部分は、少なくとも前記第1シール材層の辺部分に形成されていることを特徴とする請求項1乃至4の何れか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
The first sealing material layer is formed in a substantially rectangular frame shape,
The organic electroluminescence device according to any one of claims 1 to 4, wherein the discontinuous portion is formed at least in a side portion of the first sealing material layer.
前記第1シール材層は光硬化性樹脂材料からなり、
前記第2シール材層は熱硬化性樹脂材料からなることを特徴とする請求項1乃至5の何れか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
The first sealing material layer is made of a photocurable resin material,
The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein the second sealing material layer is made of a thermosetting resin material.
第1電極層、有機機能層および第2電極層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子が画素領域に複数配列された第1基板と、該第1基板において前記有機エレクトロルミネッセンス素子が形成されている面側に貼り合わされた第2基板と、を有する有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、
前記第1基板と前記第2基板とを貼り合せるにあたっては、
前記第1基板および前記第2基板の一方の基板において前記画素領域を囲む周辺領域に沿って第1シール材を塗布する第1シール材塗布工程と、
前記第1シール材で囲まれた領域内に第2シール材を塗布する第2シール材塗布工程と、
前記第1シール材および前記第2シール材を間に挟むように前記第1基板と前記第2基板とを重ね合わせる重ね合わせ工程と、
前記第2シール材を硬化させるシール材硬化工程と、
を行ない、
前記第1シール材塗布工程では、前記第1シール材に途切れ部分を形成しておくことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
A first substrate on which a plurality of organic electroluminescent elements each including a first electrode layer, an organic functional layer, and a second electrode layer are arranged in a pixel region; and a surface side on which the organic electroluminescent elements are formed on the first substrate In the manufacturing method of the organic electroluminescence device having the second substrate bonded to
In laminating the first substrate and the second substrate,
A first sealing material application step of applying a first sealing material along a peripheral region surrounding the pixel region in one of the first substrate and the second substrate;
A second sealing material application step of applying a second sealing material in a region surrounded by the first sealing material;
An overlapping step of overlapping the first substrate and the second substrate so as to sandwich the first sealing material and the second sealing material;
A sealing material curing step of curing the second sealing material;
Do
In the first sealing material application step, an interrupted portion is formed in the first sealing material, and the method for manufacturing an organic electroluminescence device is characterized.
前記第2基板および前記第2シール材は透光性であり、
前記第2基板には、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子と対向する各領域に異なる色のカラーフィルタ層が形成されていることを特徴とする請求項7に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
The second substrate and the second sealing material are translucent,
8. The method of manufacturing an organic electroluminescence device according to claim 7, wherein a color filter layer of a different color is formed on each region facing the plurality of organic electroluminescence elements on the second substrate. 9.
前記重ね合わせ工程を減圧雰囲気中で行なうことを特徴とする請求項7または8に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。   9. The method for manufacturing an organic electroluminescence device according to claim 7, wherein the superimposing step is performed in a reduced-pressure atmosphere. 前記第1シール材は、前記第2シール材よりも粘度が高いことを特徴とする請求項7乃至9の何れか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。   10. The method of manufacturing an organic electroluminescence device according to claim 7, wherein the first sealing material has a viscosity higher than that of the second sealing material. 11. 前記第1シール材は光硬化性であり、前記第2シール材は熱硬化性であることを特徴とする請求項7乃至10の何れか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。   11. The method of manufacturing an organic electroluminescence device according to claim 7, wherein the first sealing material is photocurable, and the second sealing material is thermosetting. 前記硬化工程においては、前記第2のシール材を硬化させる前に前記第1シール材を硬化させることを特徴とする請求項7乃至11の何れか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。   12. The method of manufacturing an organic electroluminescence device according to claim 7, wherein, in the curing step, the first sealing material is cured before the second sealing material is cured. . 前記重ね合わせ工程の前に、前記第1シール材より外側において、少なくとも前記途切れ部分と内外方向で重なる位置に第3のシール材を塗布しておくことを特徴とする請求項7乃至12の何れか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。   The third sealing material is applied to the outer side of the first sealing material at a position overlapping at least the discontinuous portion in the inner and outer directions before the overlapping step. A method for producing an organic electroluminescence device according to claim 1. 前記第1シール材と前記第3のシール材とは同一材料からなり、
前記第1シール材塗布工程において前記第3シール材を塗布することを特徴とする請求項13に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
The first sealing material and the third sealing material are made of the same material,
The method of manufacturing an organic electroluminescence device according to claim 13, wherein the third sealing material is applied in the first sealing material application step.
前記シール材硬化工程を行なった後、前記一方の基板を所定サイズに切断して前記第3シール材が形成されている部分を除去する除材工程を行なうことを特徴とする請求項13または14に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。   15. The material removal step of removing the portion where the third sealing material is formed by cutting the one substrate into a predetermined size after performing the sealing material curing step. The manufacturing method of the organic electroluminescent apparatus as described in any one of.
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