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JP2009021488A - Laser light source device and information recording / reproducing device - Google Patents

Laser light source device and information recording / reproducing device Download PDF

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JP2009021488A
JP2009021488A JP2007184322A JP2007184322A JP2009021488A JP 2009021488 A JP2009021488 A JP 2009021488A JP 2007184322 A JP2007184322 A JP 2007184322A JP 2007184322 A JP2007184322 A JP 2007184322A JP 2009021488 A JP2009021488 A JP 2009021488A
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Japan
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wavelength
light
plane
light source
source device
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Application number
JP2007184322A
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Japanese (ja)
Inventor
Takahiro Miyake
隆浩 三宅
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
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Abstract

【課題】リトロー型ECDLにおける光軸のずれを安価かつ正確に補正することが可能なレーザー光源装置およびそれを用いた情報記録再生装置を提供する。
【解決手段】リトロー型ECDL10Aは、光ビーム7Pを出射する半導体レーザ1と、光ビーム7Pを受けて、1次回折光7Rを半導体レーザ1に帰還し、0次回折光8を出射する回折格子4と、a面とb面とがなす角およびc面とd面とがなす角がともに直角であり、0次回折光8をd面で全反射させて反射光9として出射する四角形のプリズム3Aとを備える。リトロー型ECDL10Aは、c面とd面とが交わる頂点を軸にプリズム3Aを回転させることにより、光ビーム7Pの波長を可変する。
【選択図】図1
A laser light source device capable of correcting an optical axis shift in a Littrow ECDL inexpensively and accurately and an information recording / reproducing device using the laser light source device are provided.
A Littrow ECDL 10A includes a semiconductor laser 1 that emits a light beam 7P, a diffraction grating 4 that receives the light beam 7P, returns a first-order diffracted light 7R to the semiconductor laser 1, and emits a zero-order diffracted light 8. , A square prism 3A that has a right angle between the a plane and the b plane and a right angle between the c plane and the d plane, and totally reflects the 0th-order diffracted light 8 on the d plane and emits it as reflected light 9. Prepare. The Littrow ECDL 10A varies the wavelength of the light beam 7P by rotating the prism 3A around the apex where the c-plane and d-plane intersect.
[Selection] Figure 1

Description

この発明は、レーザー光源装置および情報記録再生装置に関し、より特定的には、外部共振器型半導体レーザ(ECDL)を備えたレーザー光源装置およびそれを用いた情報記録再生装置に関する。   The present invention relates to a laser light source device and an information recording / reproducing device, and more particularly to a laser light source device including an external resonator type semiconductor laser (ECDL) and an information recording / reproducing device using the same.

従来より、ホログラムによって光ディスク記録媒体に情報を超高密度で記録するホログラム記録方式が知られている。このホログラム記録方式では、イメージ情報を担持する情報光と記録用の参照光とを光ディスク記録媒体の内部で重ね合わせて干渉縞パターンを生成し、この干渉縞パターンを光ディスク記録媒体中に記録することによってイメージ情報の書込みが行なわれる。記録された干渉縞パターンから情報を再生する場合には、その光ディスク記録媒体中に記録された干渉縞パターンに書込時と同様の再生用の参照光を照射し、干渉縞パターンによって回折を生じさせてイメージ情報を再生する。   2. Description of the Related Art Conventionally, a hologram recording method for recording information on an optical disk recording medium with a hologram at a very high density is known. In this hologram recording method, an interference fringe pattern is generated by superimposing information light carrying image information and recording reference light inside an optical disc recording medium, and this interference fringe pattern is recorded in the optical disc recording medium. The image information is written by. When reproducing information from the recorded interference fringe pattern, the interference fringe pattern recorded in the optical disc recording medium is irradiated with reproduction reference light similar to that at the time of writing, and diffraction is generated by the interference fringe pattern. To play back image information.

近年では、光ディスク記録媒体の記録層の厚み方向も利用して干渉縞パターンを3次元的に書込むことにより、記録密度をさらに増加させるようにしたボリュームホログラムの開発が注目されている。このボリュームホログラムによる記録方式を利用し、さらに多重記録を行なうことによって、情報の記録容量を飛躍的に増大させることができる。   In recent years, attention has been focused on the development of a volume hologram that further increases the recording density by three-dimensionally writing an interference fringe pattern using the thickness direction of the recording layer of the optical disk recording medium. By utilizing this volume hologram recording method and further performing multiple recording, the information recording capacity can be dramatically increased.

ホログラム用の記録媒体としては、フォトポリマーを用いたものが、製作コストが安価であり、耐久性に優れ、かつ高感度であるなどの点から注目されている。しかし、このようなフォトポリマーを用いたホログラム記録媒体では、記録時にモノマーがポリマーに変化することに伴う収縮や温度変化に伴うポリマーの収縮・膨張などのディメンジョン変化によって、回折格子の角度や間隔などが変化する現象が現れる。このような回折格子の形状変化によって、回折効率のピークを迎える波長は記録時と再生時とでずれが生じ、再生の信頼性が落ちる可能性がある。   As a hologram recording medium, a photopolymer is attracting attention because it is inexpensive to manufacture, has excellent durability, and has high sensitivity. However, in hologram recording media using such photopolymers, the angle and spacing of the diffraction grating, etc., due to dimensional changes such as shrinkage due to the change of monomer to polymer during recording and shrinkage / expansion of the polymer due to temperature change, etc. Appears to change. Due to such a change in the shape of the diffraction grating, the wavelength at which the peak of diffraction efficiency reaches is shifted between recording and reproduction, which may reduce the reliability of reproduction.

上記の波長ずれの対策として、たとえば、ホログラム記録装置は、発振波長可変レーザを採用し、記録時に検知した温度の情報をホログラム記録媒体へ記録し、再生時にホログラム記録媒体からその温度の情報を取得している。ホログラム記録装置は、当該取得した記録時の温度と再生時の温度との差に基づいて、ホログラム記録媒体の記録時と再生時との間でのディメンジョン変化による影響を打ち消すための波長シフト量を計算して光源の発振波長を可変する。   As a countermeasure against the above-described wavelength shift, for example, the hologram recording device employs an oscillation wavelength tunable laser, records the temperature information detected during recording on the hologram recording medium, and acquires the temperature information from the hologram recording medium during reproduction. is doing. Based on the difference between the acquired recording temperature and the reproducing temperature, the hologram recording apparatus calculates a wavelength shift amount for canceling the influence of the dimension change between the recording time and the reproducing time of the hologram recording medium. Calculate to vary the oscillation wavelength of the light source.

上記の波長可変レーザとしては通常、外部共振器型半導体レーザ(ECDL)がある。外部共振器型半導体レーザには、主として、リトロー(Littrow)型とリットマン(Littman)型との2種類がある。   The wavelength tunable laser is usually an external cavity semiconductor laser (ECDL). There are mainly two types of external cavity semiconductor lasers, a Littrow type and a Littman type.

図13は、従来のリトロー型ECDL100Aの概略的な構成を示した模式図である。図13を参照して、従来のリトロー型ECDL100Aは、半導体レーザ(LD)1と、コリメートレンズ2と、回折格子4を有する回折部材5とを含む。   FIG. 13 is a schematic diagram showing a schematic configuration of a conventional Littrow ECDL 100A. Referring to FIG. 13, a conventional Littrow ECDL 100 </ b> A includes a semiconductor laser (LD) 1, a collimating lens 2, and a diffraction member 5 having a diffraction grating 4.

半導体レーザ1から出射された光ビーム7Pは、凸レンズのコリメートレンズ2で平行光に変換される。回折格子4は、当該平行光を受けて、0次回折光8と1次回折光7Rとを生じさせる。0次回折光8は、出力光としてリトロー型ECDL100Aから出射される。1次回折光7Rは、半導体レーザ1に帰還し、半導体レーザ1の後側端面R1と回折格子4との間で共振器が形成される。   The light beam 7P emitted from the semiconductor laser 1 is converted into parallel light by the collimating lens 2 which is a convex lens. The diffraction grating 4 receives the parallel light and generates 0th-order diffracted light 8 and 1st-order diffracted light 7R. The 0th-order diffracted light 8 is emitted from the Littrow ECDL 100A as output light. The first-order diffracted light 7 </ b> R returns to the semiconductor laser 1, and a resonator is formed between the rear end face R <b> 1 of the semiconductor laser 1 and the diffraction grating 4.

リトロー型ECDL100Aでは、回転軸RXを中心にして回折部材5を回転させることによって、上記の共振器長を変えて光波長を変化させる。このとき、回折格子4に対する光ビーム7Pの入射角度と0次回折光8の出射角度とは等しくなる。よって、0次回折光8の方向は、回折部材5の回転とともに変化してしまう。すなわち、出力光である0次回折光8の光軸は、光ビーム7Pの光波長に依存して変動してしまう。   In the Littrow ECDL 100A, by rotating the diffractive member 5 about the rotation axis RX, the optical wavelength is changed by changing the resonator length. At this time, the incident angle of the light beam 7P with respect to the diffraction grating 4 and the emission angle of the 0th-order diffracted light 8 are equal. Therefore, the direction of the 0th-order diffracted light 8 changes as the diffractive member 5 rotates. That is, the optical axis of the 0th-order diffracted light 8 that is output light varies depending on the light wavelength of the light beam 7P.

上記のように、リトロー型ECDL100Aは、リットマン型に比べて構成が簡便であり、出力パワーなどに関して高い性能を有する。しかし、リトロー型ECDL100Aは、波長の変化にともなって出力光の光軸が変動するという難点がある。   As described above, the Littrow ECDL 100A has a simpler configuration than the Littman type, and has high performance with respect to output power and the like. However, the Littrow ECDL 100A has a drawback in that the optical axis of the output light varies as the wavelength changes.

図14は、従来のリットマン型ECDL100Bの概略的な構成を示した模式図である。図14を参照して、従来のリットマン型ECDL100Bは、半導体レーザ(LD)1と、コリメートレンズ2と、回折格子4を有する回折部材5と、ミラー20とを含む。   FIG. 14 is a schematic diagram showing a schematic configuration of a conventional Littman ECDL 100B. Referring to FIG. 14, a conventional Littman ECDL 100B includes a semiconductor laser (LD) 1, a collimating lens 2, a diffractive member 5 having a diffraction grating 4, and a mirror 20.

半導体レーザ1から出射された光ビーム7は、凸レンズのコリメートレンズ2で平行光に変換される。回折格子4は、リトロー型の場合よりも大きな入射角で当該平行光を受けて、0次回折光9と1次回折光8Pとを生じさせる。0次回折光9は、出力光としてリットマン型ECDL100Bから出射される。1次回折光8Pは、半導体レーザ1へは直接帰還せず、ミラー20の方向へ進んで垂直に反射される。回折格子4は、ミラー20からの反射光8Rを受けて、0次回折光9Aと1次回折光9Bとを生じさせる。   The light beam 7 emitted from the semiconductor laser 1 is converted into parallel light by the collimating lens 2 which is a convex lens. The diffraction grating 4 receives the parallel light at a larger incident angle than that of the Littrow type, and generates 0th-order diffracted light 9 and first-order diffracted light 8P. The 0th-order diffracted light 9 is emitted from the Littman ECDL 100B as output light. The first-order diffracted light 8P does not return directly to the semiconductor laser 1, but travels in the direction of the mirror 20 and is reflected vertically. The diffraction grating 4 receives the reflected light 8R from the mirror 20 and generates 0th-order diffracted light 9A and first-order diffracted light 9B.

1次回折光9Bは、半導体レーザ1に帰還し、半導体レーザ1の後側端面R1と回折格子4との間で共振器が形成される。リットマン型ECDL100Bでは、回転軸RYを中心にしてミラー20を回転させることによって、上記の共振器長を変えて光波長を変化させる。そのため、出力光である0次回折光9の光軸は、光ビーム7の光波長が変化した場合にも一定となる。   The first-order diffracted light 9 </ b> B returns to the semiconductor laser 1, and a resonator is formed between the rear end face R <b> 1 of the semiconductor laser 1 and the diffraction grating 4. In the Littman ECDL 100B, the optical wavelength is changed by changing the resonator length by rotating the mirror 20 around the rotation axis RY. Therefore, the optical axis of the 0th-order diffracted light 9 that is the output light is constant even when the light wavelength of the light beam 7 changes.

上記のように、リットマン型ECDL100Bは、図13のリトロー型ECDL100Aに比べて構成が複雑となる。また、ミラー20からの反射光8Rの0次回折光9Aはロスとなるので、リトロー型に比べて出力光のパワーが小さくなる。さらに、1次回折光9Bは、2度の回折を経て半導体レーザ1に戻るので帰還効率が小さくなる。その結果、波長の可変範囲が狭くなる。   As described above, the Littman ECDL 100B has a more complicated configuration than the Littrow ECDL 100A of FIG. Further, since the 0th-order diffracted light 9A of the reflected light 8R from the mirror 20 becomes a loss, the power of the output light becomes smaller than that of the Littrow type. Further, since the first-order diffracted light 9B returns to the semiconductor laser 1 through two degrees of diffraction, the feedback efficiency is reduced. As a result, the variable range of wavelength is narrowed.

リトロー型ECDL100Aにおいて、回折部材5の回転による出力光の光軸の変化をなくすことができれば、リットマン型ECDLよりもリトロー型ECDLの方が高性能となる。そこで、リトロー型ECDLにおいて光軸のずれを補正する構成について検討する(たとえば、特許文献1参照)。   In the Littrow ECDL 100A, if the change of the optical axis of the output light due to the rotation of the diffraction member 5 can be eliminated, the Littrow ECDL has higher performance than the Littmann ECDL. Therefore, a configuration for correcting the deviation of the optical axis in the Littrow ECDL is examined (for example, see Patent Document 1).

図15は、改良された従来のリトロー型ECDL100Cの概略的な構成を示した模式図である。   FIG. 15 is a schematic diagram showing a schematic configuration of an improved conventional Littrow ECDL 100C.

図15を参照して、改良された従来のリトロー型ECDL100Cは、半導体レーザ(LD)1と、コリメートレンズ2と、回折格子4を有する回折部材5と、治具26と、底面が直角二等辺三角形である柱型のプリズム27とを含む。治具26は、回折部材5とプリズム27とを所定の配置に固定するのに用いられている。ここで、所定の配置とは、回折格子4の格子面とプリズム27の直角二等辺三角形の斜辺にあたる面b7とが平行になるような配置である。   Referring to FIG. 15, an improved conventional Littrow type ECDL 100C includes a semiconductor laser (LD) 1, a collimating lens 2, a diffractive member 5 having a diffraction grating 4, a jig 26, and a bottom surface having a right-angled isosceles side. And a prismatic prism 27 having a triangular shape. The jig 26 is used to fix the diffraction member 5 and the prism 27 in a predetermined arrangement. Here, the predetermined arrangement is an arrangement in which the grating surface of the diffraction grating 4 and the surface b7 corresponding to the hypotenuse of the isosceles right triangle of the prism 27 are parallel to each other.

半導体レーザ1から出射された光ビーム7Pは、凸レンズのコリメートレンズ2で平行光に変換される。当該平行光は、治具26を通り、回折格子4で0次回折光8と1次回折光7Rとに回折される。治具26は、光ビーム7Pおよび0次回折光8の経路部分に関しては例えば空洞となっている。1次回折光7Rは、半導体レーザ1に帰還し、半導体レーザ1の後側端面R1と回折格子4との間で共振器が形成される。   The light beam 7P emitted from the semiconductor laser 1 is converted into parallel light by the collimating lens 2 which is a convex lens. The parallel light passes through the jig 26 and is diffracted by the diffraction grating 4 into zero-order diffracted light 8 and first-order diffracted light 7R. The jig 26 is, for example, a cavity with respect to the path portions of the light beam 7P and the 0th-order diffracted light 8. The first-order diffracted light 7 </ b> R returns to the semiconductor laser 1, and a resonator is formed between the rear end face R <b> 1 of the semiconductor laser 1 and the diffraction grating 4.

リトロー型ECDL100Cでは、回転軸RXを中心にして、回折部材5、治具26およびプリズム27を一体として回転させることにより、上記の共振器長を変えて光波長を変化させる。0次回折光8は、治具26を通ってプリズム27に入射し、面b7で反射された反射光9が出力光としてリトロー型ECDL100Cから出射される。
特開2005−322813号公報
In the Littrow ECDL 100C, the diffraction member 5, the jig 26, and the prism 27 are rotated together around the rotation axis RX, thereby changing the above-described resonator length and changing the light wavelength. The 0th-order diffracted light 8 enters the prism 27 through the jig 26, and the reflected light 9 reflected by the surface b7 is emitted from the Littrow ECDL 100C as output light.
JP-A-2005-322813

改良された従来のリトロー型ECDL100Cでは、光ビーム7Pから0次回折光8を経て反射光9として出力されるまでの光軸は、回折部材5、治具26およびプリズム27を回転軸RXを中心に一体で任意に回転させても一定となる。   In the improved conventional Littrow ECDL 100C, the optical axis from the light beam 7P through the 0th-order diffracted light 8 to the output as the reflected light 9 is centered on the rotation member RX with respect to the diffraction member 5, the jig 26 and the prism 27. Even if it is integrally rotated arbitrarily, it is constant.

しかしながら、従来のリトロー型ECDL100Cでは、実際には、回折部材5、治具26およびプリズム27を高精度で組立調整しないと、上記の回転により光軸がずれる可能性がある。また、回転軸RXは、治具26から離れたところに正確に設定する必要がある。したがって、従来のリトロー型ECDL100Cは、実際には構築が困難であるとともにコストも高くなる。   However, in the conventional Littrow ECDL 100C, the optical axis may actually be shifted by the above rotation unless the diffraction member 5, the jig 26 and the prism 27 are assembled and adjusted with high accuracy. Further, the rotation axis RX needs to be set accurately at a position away from the jig 26. Therefore, the conventional Littrow-type ECDL 100C is actually difficult to construct and costly.

それゆえに、この発明の目的は、リトロー型ECDLにおける光軸のずれを安価かつ正確に補正することが可能なレーザー光源装置およびそれを用いた情報記録再生装置を提供することである。   SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a laser light source device capable of correcting an optical axis shift in Littrow type ECDL inexpensively and accurately, and an information recording / reproducing device using the same.

この発明は、リトロー型のレーザー光源装置であって、光ビームを出射するレーザー光源と、光ビームを受けて、1次回折光をレーザー光源に帰還し、0次回折光を出射する回折格子と、回折格子が設置されている面の0次回折光が回折される側の角およびその対角が直角である多角形プリズムとを備える。   The present invention is a Littrow-type laser light source device, a laser light source that emits a light beam, a diffraction grating that receives the light beam, returns first-order diffracted light to the laser light source, and emits zero-order diffracted light; A polygonal prism having a right angle on the side where the 0th-order diffracted light is diffracted on the surface on which the grating is disposed, and a diagonal angle thereof.

好ましくは、回折格子が設置されている面の0次回折光が回折される側の頂点を中心軸として多角形プリズムを回転させることにより、光ビームの波長を可変する。   Preferably, the wavelength of the light beam is varied by rotating the polygonal prism around the vertex of the side where the diffraction grating is installed on the side where the 0th-order diffracted light is diffracted.

好ましくは、多角形プリズムと回折格子との間が空気層となっている。
好ましくは、多角形プリズムと回折格子との間にマッチング液が充填されている。
Preferably, an air layer is formed between the polygonal prism and the diffraction grating.
Preferably, a matching liquid is filled between the polygonal prism and the diffraction grating.

好ましくは、回折格子は、多角形プリズムの1つの面に形成されている。
この発明の他の局面によれば、リトロー型のレーザー光源装置を備えた情報記録再生装置であって、レーザー光源装置は、光ビームを出射するレーザー光源と、光ビームを受けて、1次回折光をレーザー光源に帰還し、0次回折光を出射する回折格子と、回折格子が設置されている面の0次回折光が回折される側の角およびその対角が直角である多角形プリズムとを含む。
Preferably, the diffraction grating is formed on one surface of the polygonal prism.
According to another aspect of the present invention, there is provided an information recording / reproducing apparatus including a Littrow-type laser light source device, the laser light source device receiving a light beam and a first-order diffracted light upon receiving the light beam. Is returned to the laser light source and emits the 0th-order diffracted light, and a polygonal prism whose angle on the side where the 0th-order diffracted light is diffracted on the surface where the diffraction grating is installed and its diagonal is a right angle .

好ましくは、波長検出情報を含むページが多重記録されたブックを単位に情報を記録する。   Preferably, the information is recorded in units of books in which pages including wavelength detection information are recorded in a multiplexed manner.

好ましくは、波長検出情報のうち、第1の波長検出情報と第2の波長検出情報との差成分を規格化することで、最適再生波長からのずれ量を示す波長誤差信号を算出する。   Preferably, among the wavelength detection information, a difference component between the first wavelength detection information and the second wavelength detection information is standardized to calculate a wavelength error signal indicating a deviation amount from the optimum reproduction wavelength.

この発明によれば、リトロー型ECDLにおける光軸のずれを安価かつ正確に補正することができる。   According to the present invention, the optical axis shift in the Littrow ECDL can be corrected inexpensively and accurately.

以下、この発明の実施の形態について図面を参照して詳しく説明する。なお、図中同一または相当部分には同一符号を付してその説明は繰り返さない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the drawings, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals and description thereof will not be repeated.

[実施の形態1]
図1は、この発明の実施の形態1によるリトロー型ECDL10Aの概略的な構成を示した模式図である。図1を参照して、実施の形態1のリトロー型ECDL10Aは、半導体レーザ(LD)1と、コリメートレンズ2と、一方の対角がともに直角である四角形を底面とする柱型のプリズム3Aと、回折格子4を有する回折部材5と、回折部材5をプリズム3Aに固定する部材11m,11nとを含む。
[Embodiment 1]
FIG. 1 is a schematic diagram showing a schematic configuration of a Littrow ECDL 10A according to Embodiment 1 of the present invention. Referring to FIG. 1, a Littrow ECDL 10A according to the first embodiment includes a semiconductor laser (LD) 1, a collimator lens 2, and a columnar prism 3A having a bottom surface of a quadrangle whose both diagonals are right angles. The diffraction member 5 having the diffraction grating 4 and members 11m and 11n for fixing the diffraction member 5 to the prism 3A are included.

図1に示すように、プリズム3Aの4つの面を、便宜上、a面、b面、c面、d面と呼ぶ。回折部材5は、部材11m,11nを挟んで、プリズム3Aのc面に貼り付けられている。a面〜d面は、以下のように設定される。   As shown in FIG. 1, the four surfaces of the prism 3A are referred to as a-plane, b-plane, c-plane, and d-plane for convenience. The diffractive member 5 is affixed to the c-plane of the prism 3A with the members 11m and 11n interposed therebetween. The a-plane to d-plane are set as follows.

まず、a面は、半導体レーザ1から出射される光ビーム7Pに対して、ほぼ垂直になるように設定されている。b面は、その光ビーム7Pに対してほぼ平行となるように設定されている。これにより、a面とb面とのなす角は直角となる。また、c面とd面とのなす角も直角に設定する。上記のようにプリズム3Aの両直角を設定することで、光ビーム7Pの光軸が傾かないという効果が得られる。   First, the a-plane is set to be substantially perpendicular to the light beam 7P emitted from the semiconductor laser 1. The b-plane is set to be substantially parallel to the light beam 7P. As a result, the angle between the a-plane and the b-plane becomes a right angle. In addition, the angle formed by the c-plane and the d-plane is also set to a right angle. By setting both right angles of the prism 3A as described above, an effect that the optical axis of the light beam 7P does not tilt can be obtained.

図2は、図1のリトロー型ECDL10Aの回折部材5の部分の拡大図である。
図2において、プリズム3Aのb面とc面とのなす角αは、b面と平行な光ビーム7Pが波長可変範囲の中心波長λで外部共振するために必要な回折格子4への入射角θ1と関連付けられる。回折格子4の単位長さ当たりの溝数をN(本/mm)とすると、中心波長λと入射角θ1との関係は、一般に以下の式で表わされる。
FIG. 2 is an enlarged view of the diffraction member 5 of the Littrow ECDL 10A of FIG.
In FIG. 2, the angle α formed between the b-plane and the c-plane of the prism 3A is an incident angle to the diffraction grating 4 that is necessary for the light beam 7P parallel to the b-plane to externally resonate at the center wavelength λ of the wavelength variable range. Associated with θ1. When the number of grooves per unit length of the diffraction grating 4 is N (lines / mm), the relationship between the center wavelength λ and the incident angle θ1 is generally expressed by the following equation.

λ=2/N・Sinθ1 (1)
例えば、中心波長λ=405(nm)で溝数N=3600(本/mm)の場合、上記の式(1)より、入射角θ1=46.8(度)と計算できる。
λ = 2 / N · Sinθ1 (1)
For example, when the center wavelength λ = 405 (nm) and the number of grooves N = 3600 (lines / mm), the incident angle θ1 = 46.8 (degrees) can be calculated from the above equation (1).

実施の形態1では、プリズム3Aのc面に部材11m,11nを挟んで回折部材5が貼り付けられている。そのため、厳密には、プリズム3A内の光ビーム7Pは、一度c面で屈折して空気層に出射し、その空気層から入射角θ1で回折格子4に入射することを考慮する必要がある。つまり、プリズム3A内からc面への入射角をθ2とし、プリズム3Aの屈折率をnとすると、以下のような関係式が成り立つ。   In the first embodiment, the diffractive member 5 is attached to the c surface of the prism 3A with the members 11m and 11n interposed therebetween. Therefore, strictly speaking, it is necessary to consider that the light beam 7P in the prism 3A is once refracted on the c-plane and emitted to the air layer, and enters the diffraction grating 4 from the air layer at an incident angle θ1. That is, when the incident angle from the prism 3A to the c-plane is θ2, and the refractive index of the prism 3A is n, the following relational expression is established.

α=90°+θ2 (2)
n・Sinθ2=Sinθ1 (3)
以上の式(1)〜(3)より、屈折率n=1.53で入射角θ1=46.8(度)のとき、入射角θ2=28.45(度)、b面とc面とのなす角α=118.45(度)と計算される。
α = 90 ° + θ2 (2)
n · Sinθ2 = Sinθ1 (3)
From the above formulas (1) to (3), when the refractive index n = 1.53 and the incident angle θ1 = 46.8 (degrees), the incident angle θ2 = 28.45 (degrees), the b-plane and the c-plane The angle α is calculated as 118.45 (degrees).

上記の場合、プリズム3Aと回折部材5との間に空気層があることから、光ビーム7Pがプリズム3Aから空気層に出るときに屈折して回折格子4に入射する。そのため、回折格子4では、臨界角を超える不必要な高次の回折光の発生を抑えることができ、必要な1次回折光7Rのみを半導体レーザ1の方向に帰還させることができる。   In the above case, since there is an air layer between the prism 3A and the diffractive member 5, the light beam 7P is refracted and enters the diffraction grating 4 when it exits from the prism 3A to the air layer. Therefore, in the diffraction grating 4, generation of unnecessary higher-order diffracted light exceeding the critical angle can be suppressed, and only necessary first-order diffracted light 7 </ b> R can be fed back in the direction of the semiconductor laser 1.

また、波長可変のため回折格子4への入射角θ1を変化させる場合、頂点Qを中心にプリズム3AをΔmだけ回転させると、入射角θ1はΔθ1だけ変化する。このとき、ΔmとΔθ1との関係は、Δθ1>Δmとなる。   Further, when the incident angle θ1 to the diffraction grating 4 is changed to change the wavelength, when the prism 3A is rotated by Δm around the vertex Q, the incident angle θ1 changes by Δθ1. At this time, the relationship between Δm and Δθ1 is Δθ1> Δm.

つまり、図13における従来のリトロー型ECDL100Aで波長可変のために回折部材5をΔθ1だけ回転させるのに比べ、実施の形態1のリトロー型ECDL10Aでは、同じ波長変化のために必要なプリズムの回転量がΔmと少なくて済む。そのため、プリズム3Aの回転駆動のために使われる駆動系の駆動量も少なくて済む。当該駆動系としては、精密に変位量を管理できる圧電素子を採用することが一般に考えられる。圧電素子は、必要な駆動量が小さいほど、体積、コスト、駆動消費電力の点で有利となる。   That is, in the Littrow ECDL 10A according to the first embodiment, the rotation amount of the prism necessary for the same wavelength change is compared with that in the Littrow ECDL 10A according to the first embodiment as compared with the conventional Littrow ECDL 100A in FIG. Is as small as Δm. Therefore, the drive amount of the drive system used for rotationally driving the prism 3A can be reduced. As the drive system, it is generally considered to employ a piezoelectric element capable of precisely managing the amount of displacement. The smaller the required driving amount of the piezoelectric element, the more advantageous in terms of volume, cost, and driving power consumption.

図3は、この発明の実施の形態1の変形例によるリトロー型ECDL10Bの概略的な構成を示した模式図である。   FIG. 3 is a schematic diagram showing a schematic configuration of a Littrow ECDL 10B according to a modification of the first embodiment of the present invention.

図3に示す変形例のリトロー型ECDL10Bは、プリズム3Aがプリズム3Bに置換され、プリズム3Bのg面と回折部材5との間に空気層の代わりにマッチング液12が充填された点において、図1のリトロー型ECDL10Aと異なる。マッチング液12は、プリズム3Bとほぼ同じ屈折率を有する。   The Littrow ECDL 10B of the modification shown in FIG. 3 is different in that the prism 3A is replaced with the prism 3B, and the matching liquid 12 is filled between the g-plane of the prism 3B and the diffractive member 5 instead of the air layer. 1 different from the Littrow ECDL 10A. The matching liquid 12 has substantially the same refractive index as that of the prism 3B.

図3に示すように、プリズム3Bの5つの面を、便宜上、e面、f面、g面、h面、i面と呼ぶ。回折部材5は、部材11m,11nを挟んで、プリズム3Bのg面に貼り付けられている。上記のように、g面と回折部材5との間にマッチング液12が充填されている。e面〜i面は、以下のように設定される。   As shown in FIG. 3, the five surfaces of the prism 3B are referred to as e-plane, f-plane, g-plane, h-plane, and i-plane for convenience. The diffractive member 5 is affixed to the g-plane of the prism 3B with the members 11m and 11n interposed therebetween. As described above, the matching liquid 12 is filled between the g-plane and the diffractive member 5. The e-plane to i-plane are set as follows.

まず、e面は、半導体レーザ1から出射される光ビーム7Pに対して、ほぼ垂直になるように設定されている。f面は、その光ビーム7Pに対してほぼ平行となるように設定されている。これにより、e面とf面とのなす角は直角となる。また、g面とh面とのなす角も直角に設定する。上記のようにプリズム3Bの両直角を設定することで、光ビーム7Pの光軸が傾かないという効果が得られる。なお、i面は任意である。   First, the e plane is set to be substantially perpendicular to the light beam 7P emitted from the semiconductor laser 1. The f plane is set so as to be substantially parallel to the light beam 7P. As a result, the angle formed by the e-plane and the f-plane is a right angle. Further, the angle formed by the g-plane and the h-plane is also set at a right angle. By setting both right angles of the prism 3B as described above, an effect that the optical axis of the light beam 7P does not tilt can be obtained. The i plane is arbitrary.

図4は、この発明の実施の形態1の他の変形例によるリトロー型ECDL10Cの概略的な構成を示した模式図である。   FIG. 4 is a schematic diagram showing a schematic configuration of a Littrow ECDL 10C according to another modification of the first embodiment of the present invention.

図4に示す他の変形例のリトロー型ECDL10Cは、回折部材5、部材11m,11nおよびマッチング液12を取り除いて、回折格子4をプリズム3Bのg面に直接形成した点において、図3のリトロー型ECDL10Bと異なる。   The Littrow type ECDL 10C of another modification shown in FIG. 4 is the same as that of FIG. 3 except that the diffraction member 5, the members 11m and 11n, and the matching liquid 12 are removed and the diffraction grating 4 is directly formed on the g-plane of the prism 3B. Different from type ECDL10B.

図3,4のリトロー型ECDL10B,10Cの場合、プリズム3B内からg面への入射角をθ2=46.8(度)、f面とg面とのなす角α=136.8(度)とすることができる。この場合、プリズム3Bのh面の必要有効面積をほぼg面程度にまで小さくできるため、プリズム3Bの小型化が可能となる。   In the case of the Littrow ECDLs 10B and 10C of FIGS. 3 and 4, the incident angle from the prism 3B to the g-plane is θ2 = 46.8 (degrees), and the angle α formed between the f-plane and the g-plane is 136.8 (degrees). It can be. In this case, since the required effective area of the h surface of the prism 3B can be reduced to about the g surface, the prism 3B can be downsized.

次に、図1に戻って、リトロー型ECDL10Aの動作について説明する。この動作は、図2,3のリトロー型ECDL10B,10Cについても適用される。   Next, returning to FIG. 1, the operation of the Littrow ECDL 10A will be described. This operation is also applied to the Littrow ECDLs 10B and 10C shown in FIGS.

半導体レーザ1から出射された光ビーム7Pは、凸レンズのコリメートレンズ2で平行光に変換される。当該平行光は、プリズム3Aのa面から入射し、回折格子4で0次回折光8と1次回折光7Rとに回折される。1次回折光7Rは、半導体レーザ1に帰還し、半導体レーザ1の後側端面R1と回折格子4との間で共振器が形成される。   The light beam 7P emitted from the semiconductor laser 1 is converted into parallel light by the collimating lens 2 which is a convex lens. The parallel light enters from the a-plane of the prism 3A, and is diffracted by the diffraction grating 4 into the 0th-order diffracted light 8 and the first-order diffracted light 7R. The first-order diffracted light 7 </ b> R returns to the semiconductor laser 1, and a resonator is formed between the rear end face R <b> 1 of the semiconductor laser 1 and the diffraction grating 4.

リトロー型ECDL10Aは、プリズム3Aのc面とd面との交点である頂点Qを中心に回転する機構を有する。頂点Qを中心にして、プリズム3A、部材11m,11nおよび回折部材5を一体として回転させることにより、上記の共振器長を変えて光波長を変化させる。0次回折光8は、プリズム3Aのd面で全反射された反射光9が出力光として再びプリズム3Aのa面を通って出射される。   The Littrow ECDL 10A has a mechanism that rotates around a vertex Q that is an intersection of the c-plane and d-plane of the prism 3A. By rotating the prism 3A, the members 11m and 11n, and the diffractive member 5 integrally around the vertex Q, the light wavelength is changed by changing the resonator length. In the 0th-order diffracted light 8, the reflected light 9 totally reflected by the d-plane of the prism 3A is emitted again through the a-plane of the prism 3A as output light.

回折格子4に対して、光ビーム7Pの入射角度と0次回折光8の出射角度とは等しくなる。このため、反射光9の出射方向は、回折部材5等の回転に関わらず変化しない。これは、便宜上、光の反射面を幾何学的に面対称に変換することで透過面として考えることにより、以下のように説明できる。   With respect to the diffraction grating 4, the incident angle of the light beam 7 </ b> P is equal to the emission angle of the 0th-order diffracted light 8. For this reason, the emission direction of the reflected light 9 does not change regardless of the rotation of the diffraction member 5 or the like. For convenience, this can be explained as follows by considering the light reflection surface as a transmission surface by geometrically converting it into plane symmetry.

図5は、図1のリトロー型ECDL10Aにおける反射光9の出射方向を説明するための図である。   FIG. 5 is a diagram for explaining the emission direction of the reflected light 9 in the Littrow ECDL 10A of FIG.

図5に示すように、光ビーム7Pは、プリズム3Aのa面から入射し、c面で反射される。このc面を対称面として、a面、b面、d面をa1面、b1面、d1面にそれぞれ変換することで、便宜上c面を透過面と考えることができる。同様に、d面から変換されたd1面を対称面として、a1面、b1面、c面をa2面、b2面、c1面にそれぞれ変換することで、便宜上d面を透過面と考えることができる。   As shown in FIG. 5, the light beam 7P enters from the a-plane of the prism 3A and is reflected by the c-plane. By converting the a-plane, b-plane, and d-plane into a1-plane, b1-plane, and d1-plane, respectively, with the c-plane as a symmetric plane, the c-plane can be considered as a transmission plane for convenience. Similarly, the d1 plane converted from the d plane is regarded as a symmetry plane, and the a1 plane, b1 plane, and c plane are converted into the a2, b2, and c1 planes, respectively, so that the d plane can be considered as a transmission plane for convenience. it can.

上記の変換により、a面から入射し、c面およびd面で反射されて、再びa面から出射する反射光9は、a面から入射し、c面およびd1面を透過し、a2面から出射する透過光9Zと同等であると考えることができる。図5に示すように、a面とa2面とは平行であることから、光ビーム7Pの入射角度に関わらず、反射光9は常に光ビーム7Pと平行になることが分かる。   By the above conversion, the reflected light 9 incident from the a-plane, reflected by the c-plane and d-plane, and emitted from the a-plane again enters the a-plane, passes through the c-plane and d1 plane, and from the a2 plane. It can be considered that the transmitted light 9Z is equivalent. As shown in FIG. 5, since the a-plane and the a2-plane are parallel, it can be seen that the reflected light 9 is always parallel to the light beam 7P regardless of the incident angle of the light beam 7P.

また、プリズム3Aが頂点Qを中心に回転する現象は、図5の仮想平行プリズムLML1N1L2M1QNが頂点Qを中心に回転することに相当する。そのため、上記と同様の理論により、頂点Qを中心にプリズム3Aを回転させた場合にも反射光9の出射光軸は変化しないことが分かる。   Further, the phenomenon that the prism 3A rotates around the vertex Q corresponds to the fact that the virtual parallel prism LML1N1L2M1QN in FIG. 5 rotates around the vertex Q. Therefore, according to the same theory as described above, it is understood that the outgoing optical axis of the reflected light 9 does not change even when the prism 3A is rotated around the vertex Q.

上記により、反射光9の出射光軸は、プリズム3Aを回転させることによる光波長変化に依存しない効果がある。さらに、プリズム3Aのa面に入射する光ビーム7Pの入射角は0度近傍であることから、反射光9の出射光軸のシフトも従来例に比べて実用上問題ない程度の十分小さい量に抑えられる効果がある。   As described above, the outgoing optical axis of the reflected light 9 has an effect that does not depend on the change in the optical wavelength caused by rotating the prism 3A. Further, since the incident angle of the light beam 7P incident on the a-plane of the prism 3A is near 0 degrees, the shift of the outgoing optical axis of the reflected light 9 is sufficiently small so that there is no practical problem compared to the conventional example. There is an effect to be suppressed.

以上のように、実施の形態1によれば、所定の対角がともに直角である多角形プリズムの1つの面に回折格子を設置してリトロー型ECDLを構成することによって、回折部材などの回転にかかわらず、出力される反射光の出射方向および出射光軸を安定に保つことが可能となる。   As described above, according to the first embodiment, a diffraction grating is disposed on one surface of a polygonal prism whose predetermined diagonals are right angles to constitute a Littrow type ECDL, thereby rotating a diffraction member or the like. Regardless, the outgoing direction and outgoing optical axis of the output reflected light can be kept stable.

この発明の実施の形態によるレーザー光源装置は、リトロー型の外部共振半導体レーザ装置であって、回折格子と、直角を挟む2辺を有する多角形プリズムと、当該回折格子からの0次回折光を入射光に対して第2の方向に反射するプリズムとを備える。   A laser light source device according to an embodiment of the present invention is a Littrow external resonance semiconductor laser device, which receives a diffraction grating, a polygonal prism having two sides sandwiching a right angle, and zero-order diffracted light from the diffraction grating. A prism that reflects light in a second direction.

上記のレーザー光源装置をホログラム記録装置に搭載し、記録時に検知した温度の情報をホログラム記録媒体へ記録し、再生時にホログラム記録媒体からその温度の情報を取得する。記録時と再生時との温度差に基づいて、ホログラム記録媒体の記録時と再生時との間でのディメンジョン変化による影響を打ち消すための波長シフト量を計算する。これにより、光源の発振波長を可変する低コストで小型の光源を提供することができる。   The laser light source device is mounted on a hologram recording device, temperature information detected during recording is recorded on the hologram recording medium, and temperature information is acquired from the hologram recording medium during reproduction. Based on the temperature difference between the time of recording and the time of reproduction, a wavelength shift amount for canceling the influence of the dimension change between the time of recording and the time of reproduction of the hologram recording medium is calculated. As a result, a low-cost and small-sized light source that can vary the oscillation wavelength of the light source can be provided.

好ましくは、上記の多角形プリズムは、回折格子のある面と隣接する面とのなす角が直角となる。これにより、光波長の変更にかかわらず出力光の光軸が変化しない光源を実現できる。その結果、ホログラムの記録時および再生時における光軸変化に伴う信号品質劣化を防ぐことができる。   Preferably, in the above-described polygonal prism, an angle formed by a surface having the diffraction grating and an adjacent surface is a right angle. Thereby, it is possible to realize a light source in which the optical axis of the output light does not change regardless of the change of the light wavelength. As a result, it is possible to prevent signal quality deterioration due to optical axis changes during hologram recording and reproduction.

一例として、上記の回折格子は、多角形プリズムの1つの面に対して空気層を介して貼り付けられている。これにより、従来より市販されているか低コストで作製可能なプレート型のグレーティングを使うことができ、レーザー光源装置の低コスト化を図ることができる。また、波長可変時の回転駆動量が小さくて済み、回転駆動系のサイズの小型化、低コスト化および低消費電力化を図ることができる。さらに、回折格子で発生する不要な高次回折光がカットされる。   As an example, the diffraction grating is attached to one surface of a polygonal prism via an air layer. As a result, a plate-type grating that has been commercially available or can be manufactured at a low cost can be used, and the cost of the laser light source device can be reduced. In addition, the rotational drive amount when the wavelength is variable is small, and the size of the rotational drive system can be reduced, the cost can be reduced, and the power consumption can be reduced. Furthermore, unnecessary high-order diffracted light generated in the diffraction grating is cut.

他の一例として、上記の回折格子は、多角形プリズムの1つの面に対して、多角形プリズムの屈折率に近いマッチング剤を介して貼り付けられている。これにより、従来より市販されているか低コストで作製可能なプレート型のグレーティングを使いながら、プリズムの小型化が可能となる。   As another example, the diffraction grating is attached to one surface of the polygonal prism via a matching agent having a refractive index close to that of the polygonal prism. This makes it possible to reduce the size of the prism while using a plate-type grating that has been commercially available or can be manufactured at low cost.

好ましくは、上記の回折格子は、多角形プリズムの1つの面に形成されている。これにより、プリズムの小型化が図れるとともに部品点数を削減できる。   Preferably, the diffraction grating is formed on one surface of the polygonal prism. Thereby, the prism can be miniaturized and the number of parts can be reduced.

好ましくは、上記の多角形プリズムは、回折格子のある面と直角をなす角で隣接した面との交点である頂点を中心軸にして回転する。これにより、光波長の変更にかかわらず出力光の光軸が変化しない光源が実現できる。また、ホログラムの記録時および再生時の光軸変化にともなう信号品質の劣化を防ぐことができる。   Preferably, the polygonal prism is rotated about a vertex that is an intersection of an adjacent surface at an angle perpendicular to the surface on which the diffraction grating is located. Thereby, it is possible to realize a light source in which the optical axis of the output light does not change regardless of the change of the light wavelength. Further, it is possible to prevent signal quality from being deteriorated due to a change in the optical axis at the time of hologram recording and reproduction.

[実施の形態2]
図6は、この発明の実施の形態2によるホログラム記録再生装置30の光学ユニットの構成を示した図である。
[Embodiment 2]
FIG. 6 is a diagram showing the configuration of the optical unit of the hologram recording / reproducing apparatus 30 according to the second embodiment of the present invention.

図6を参照して、実施の形態2のホログラム記録再生装置30は、レーザー光源装置31と、コリメートレンズ32と、アイソレータ33と、1/2波長板34,36と、偏光ビームスプリッタ35,37と、反射型液晶の空間光変調器38と、リレーレンズ39,315と、ピンホール310と、対物レンズ311と、アパーチャー313と、ガルバノミラー314と、CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)センサ317と、1/4波長板318と、反射ミラー319とを備える。CMOSセンサ317は、ディテクタ317a,317bを含む。   Referring to FIG. 6, a hologram recording / reproducing apparatus 30 according to the second embodiment includes a laser light source device 31, a collimator lens 32, an isolator 33, half-wave plates 34 and 36, and polarization beam splitters 35 and 37. A reflective liquid crystal spatial light modulator 38, relay lenses 39 and 315, a pinhole 310, an objective lens 311, an aperture 313, a galvano mirror 314, a CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor) sensor 317, A quarter-wave plate 318 and a reflection mirror 319 are provided. The CMOS sensor 317 includes detectors 317a and 317b.

レーザー光源装置31は、たとえば、実施の形態1で説明したリトロー型ECDL10A〜10Cである。ホログラム記録再生装置30は、角度多重方式により、ホログラム記録媒体312に対して情報を記録および/または再生する。ホログラム記録再生装置30は、ホログラム記録装置とホログラム再生装置とに分離することもできる。以下では、まず記録時の動作について説明する。   The laser light source device 31 is, for example, the Littrow ECDLs 10A to 10C described in the first embodiment. The hologram recording / reproducing apparatus 30 records and / or reproduces information with respect to the hologram recording medium 312 by an angle multiplexing method. The hologram recording / reproducing apparatus 30 can be separated into a hologram recording apparatus and a hologram reproducing apparatus. Hereinafter, the operation during recording will be described first.

レーザー光源装置31から出射された光ビームLPは、コリメートレンズ32によって平行光に変換され、レーザー光源装置31への戻り光を防ぐためにアイソレータ33を通される。アイソレータ33を通された光ビームLPは、1/2波長板34によってP偏光とS偏光との割合が調整される。当該調整された光ビームLPは、偏光ビームスプリッタ35によって、P波の信号光LSとS波の参照光LRとに分割される。   The light beam LP emitted from the laser light source device 31 is converted into parallel light by the collimator lens 32 and passed through an isolator 33 to prevent return light to the laser light source device 31. The ratio of P-polarized light and S-polarized light is adjusted by the half-wave plate 34 of the light beam LP passed through the isolator 33. The adjusted light beam LP is split by the polarization beam splitter 35 into P-wave signal light LS and S-wave reference light LR.

信号光LSは、1/2波長板36によって強度が調整され、偏光ビームスプリッタ37を透過するP偏光成分のみが空間光変調器38に入射される。空間光変調器38の反射型液晶によって変調された信号光LSは、偏光が90度回転しているため偏光ビームスプリッタ37によって反射される。偏光ビームスプリッタ37で反射された信号光LSは、リレーレンズ39において、ピンホール310により反射型液晶からの高次の回折光がカットされる。リレーレンズ39を通過した信号光LSは、対物レンズ311によってホログラム記録媒体312内に集光される。   The intensity of the signal light LS is adjusted by the half-wave plate 36, and only the P-polarized component transmitted through the polarization beam splitter 37 is incident on the spatial light modulator 38. The signal light LS modulated by the reflective liquid crystal of the spatial light modulator 38 is reflected by the polarization beam splitter 37 because the polarization is rotated by 90 degrees. From the signal light LS reflected by the polarization beam splitter 37, higher-order diffracted light from the reflective liquid crystal is cut by the pinhole 310 in the relay lens 39. The signal light LS that has passed through the relay lens 39 is condensed in the hologram recording medium 312 by the objective lens 311.

参照光LRは、アパーチャー313によってビーム径が調整され、ガルバノミラー314によって角度が変調される。角度が変調された参照光LRは、リレーレンズ315によって、信号光SLと干渉するようにホログラム記録媒体312の同一個所に入射される。その結果、ホログラム記録媒体312内に信号光LSと参照光LRとの干渉縞が形成される。この際、空間光変調器38によって変調された情報が、ホログラム記録媒体312内にホログラムとして記録される。   The beam diameter of the reference light LR is adjusted by the aperture 313 and the angle is modulated by the galvanometer mirror 314. The reference light LR whose angle is modulated is incident on the same portion of the hologram recording medium 312 by the relay lens 315 so as to interfere with the signal light SL. As a result, interference fringes between the signal light LS and the reference light LR are formed in the hologram recording medium 312. At this time, information modulated by the spatial light modulator 38 is recorded as a hologram in the hologram recording medium 312.

上記のホログラム記録でガルバノミラー314の角度を変えることにより、ホログラム記録媒体312への入射角度が変わり、角度多重記録を行なうことが可能となる。なお、この多重記録を行なう際、1つの角度で記録されたデータを1ページと呼び、同じ領域に角度多重記録された複数のページをまとめて1ブックと呼ぶことにする。   By changing the angle of the galvanometer mirror 314 in the hologram recording described above, the incident angle to the hologram recording medium 312 changes, and angle multiplex recording can be performed. When performing this multiple recording, data recorded at one angle is referred to as one page, and a plurality of pages recorded at multiple angles in the same area are collectively referred to as one book.

図7は、ホログラム記録媒体312に記録されるページおよびブックを概念的に表わした模式図である。   FIG. 7 is a schematic diagram conceptually showing pages and books recorded on the hologram recording medium 312.

図7に示すように、ホログラム記録媒体312には、ページPg0,Pg1,Pg2,Pg3,・・・が多重記録されたブックBK1が記録されている。ブックBK1の最初のページPg0には、各ページPg0,Pg1,・・・の参照光LRの照射波長を示す波長検出情報Ad,Bdが記録されている。ページPg0,Pg1,・・・を総称して情報データページPgと称する。   As shown in FIG. 7, on the hologram recording medium 312, a book BK1 in which pages Pg0, Pg1, Pg2, Pg3,. In the first page Pg0 of the book BK1, wavelength detection information Ad and Bd indicating the irradiation wavelength of the reference light LR of each page Pg0, Pg1,. The pages Pg0, Pg1,... Are collectively referred to as an information data page Pg.

ホログラム記録媒体312の波長検出情報は、波長検出情報Adと波長検出情報Bdとの組み合わせにより構成される。ホログラム記録媒体312の波長検出情報は、多重記録された情報データページPgの記録領域Iの外周辺部または内周辺部、もしくは記録領域内部の予め設定された所定の位置の1箇所あるいは複数個所に、レーザー光源装置31の光ビームLPの波長を変えて(波長分散して)記録される。これにより、いずれかの箇所が検出されない場合においても、読み取れた複数箇所の波長検出情報を用いて、情報データページPgに対応する参照光LRの波長を算出することができる。   The wavelength detection information of the hologram recording medium 312 is configured by a combination of the wavelength detection information Ad and the wavelength detection information Bd. The wavelength detection information of the hologram recording medium 312 is recorded at one or a plurality of predetermined positions in the outer peripheral portion or the inner peripheral portion of the recording area I of the information data page Pg recorded in multiple recording, or in the recording area. Recording is performed by changing the wavelength of the light beam LP of the laser light source device 31 (with wavelength dispersion). Thereby, even when any part is not detected, the wavelength of the reference light LR corresponding to the information data page Pg can be calculated using the read wavelength detection information of the plurality of parts.

図8は、ホログラム記録媒体312に記録される波長検出情報の光量と波長との関係を表わした図である。   FIG. 8 is a diagram showing the relationship between the light amount and wavelength of the wavelength detection information recorded on the hologram recording medium 312.

図8の(a)は、情報データを記録する参照光LRの波長に対して、レーザー光源装置31の光ビームLPの波長を変えて所定の波長だけ短い間隔の複数の波長λ1〜λ4で多重記録された波長検出情報Adを示す。図8の(b)は、情報データを記録する参照光LRの波長に対して、レーザー光源装置31の光ビームLPの波長を変えて所定の波長だけ長い間隔の複数の波長λ5〜λ8で多重記録された波長検出情報Bdを示す。なお、波長検出情報は、角度検出情報と言い換えることもできる。   In FIG. 8A, the wavelength of the reference beam LR for recording information data is multiplexed with a plurality of wavelengths λ1 to λ4 at intervals shorter by a predetermined wavelength by changing the wavelength of the light beam LP of the laser light source device 31. The recorded wavelength detection information Ad is shown. In FIG. 8B, the wavelength of the reference beam LR for recording the information data is multiplexed with a plurality of wavelengths λ5 to λ8 that are longer by a predetermined wavelength by changing the wavelength of the light beam LP of the laser light source device 31. The recorded wavelength detection information Bd is shown. The wavelength detection information can also be referred to as angle detection information.

図8の(c)は、波長λ0を中心に、波長λ1〜λ4の波長検出情報Adを重畳した検出強度SAdと、波長λ5〜λ8の波長検出情報Bdを重畳した検出強度SBdとを示している。上記の波長間隔は、ホログラム記録媒体312の波長選択性により決めることが望ましく、回折効率が50%に低下するまでの波長範囲分が望ましい。波長検出情報Ad,Bdを組合わせることにより、所望の波長検出情報が得られる。   FIG. 8C shows detection intensity SAd on which wavelength detection information Ad of wavelengths λ1 to λ4 is superimposed, and detection intensity SBd on which wavelength detection information Bd of wavelengths λ5 to λ8 is superimposed, centering on wavelength λ0. Yes. The wavelength interval is preferably determined by the wavelength selectivity of the hologram recording medium 312 and is preferably in the wavelength range until the diffraction efficiency is reduced to 50%. Desired wavelength detection information can be obtained by combining the wavelength detection information Ad and Bd.

図9は、光ビームPLの波長変化分に対する回折効率の一例を表わした図である。図9は、ホログラム記録媒体312の波長検出範囲が1.2nmであり、回折効率が50%に低下するまでの波長検出範囲が0.6nmである場合を示す。   FIG. 9 is a diagram illustrating an example of the diffraction efficiency with respect to the wavelength change of the light beam PL. FIG. 9 shows a case where the wavelength detection range of the hologram recording medium 312 is 1.2 nm and the wavelength detection range until the diffraction efficiency is reduced to 50% is 0.6 nm.

図9のような条件の場合、図8において、情報データを記録する参照光LRの波長λ0より0.3nmずれた波長λ1またはλ5を中心に、多重間隔は0.6nmとすることが望ましい。また、波長多重の数は、どれくらいの波長ずれまでを検出するかによって決められる。たとえば、図9のような条件で、±3nmまでの波長誤差を検出する場合、波長検出情報Ad,Bdを各0.6nm間隔で各5多重することで実現できる。   In the case of the conditions as shown in FIG. 9, in FIG. 8, it is desirable that the multiplexing interval is 0.6 nm centering on the wavelength λ1 or λ5 shifted by 0.3 nm from the wavelength λ0 of the reference light LR for recording information data. Further, the number of wavelength multiplexing is determined by how much wavelength deviation is detected. For example, when detecting a wavelength error up to ± 3 nm under the conditions as shown in FIG. 9, it can be realized by multiplexing each of the wavelength detection information Ad and Bd at intervals of 0.6 nm.

上記のように波長を変えて多重記録する場合、ホログラム記録媒体312へ入射する参照光LR等の光軸が変化しないことが重要であり、本発明のレーザー光源装置31を利用することが有効となる。   When multiple recording is performed with different wavelengths as described above, it is important that the optical axis of the reference light LR or the like incident on the hologram recording medium 312 does not change, and it is effective to use the laser light source device 31 of the present invention. Become.

また、ホログラム記録媒体312の性能によっては、波長多重記録を多くすると再生時に不要光が発生しやすくなり、ノイズ信号になることも考えられる。この場合、上記のように波長検出範囲を広くするために、波長検出情報Ad,Bdの同一領域に対して多くの波長多重を繰り返すと、波長λ0での再生において不要光が発生し、波長の検出精度が下がる可能性がある。   Further, depending on the performance of the hologram recording medium 312, if the wavelength multiplexing recording is increased, unnecessary light is likely to be generated at the time of reproduction, which may be a noise signal. In this case, in order to widen the wavelength detection range as described above, if many wavelength multiplexing is repeated for the same region of the wavelength detection information Ad and Bd, unnecessary light is generated during reproduction at the wavelength λ0, and the wavelength The detection accuracy may be reduced.

図10は、ホログラム記録媒体312に記録されるページおよびブックの他の例を概念的に表わした模式図である。   FIG. 10 is a schematic diagram conceptually showing another example of pages and books recorded on the hologram recording medium 312.

図10に示すように、ホログラム記録媒体312には、ページPg0,Pg1,Pg2,Pg3,・・・が多重記録されたブックBK2が記録されている。ブックBK2の最初のページPg0には、波長検出情報Ae〜Deが記録されている。ページPg0,Pg1,・・・を総称して情報データページPgと称する。   As shown in FIG. 10, the hologram recording medium 312 records a book BK2 in which pages Pg0, Pg1, Pg2, Pg3,. Wavelength detection information Ae to De is recorded on the first page Pg0 of the book BK2. The pages Pg0, Pg1,... Are collectively referred to as an information data page Pg.

図11は、ホログラム記録媒体312に記録される波長検出情報の光量と波長との他の関係を表わした図である。   FIG. 11 is a diagram illustrating another relationship between the light amount and wavelength of wavelength detection information recorded on the hologram recording medium 312.

図11の(a)は、波長多重せずに情報データを記録する参照光LRの波長に対して、所定の波長だけ短い波長λ1で記録された波長検出情報Aeを示す。図11の(b)は、波長多重せずに情報データを記録する参照光LRの波長に対して、所定の波長だけ長い波長λ5で記録された波長検出情報Beを示す。図11の(c),(d)は、波長誤差を検出する範囲を確保するために新たに設定された波長検出情報Ce,Deを示す。   FIG. 11A shows wavelength detection information Ae recorded at a wavelength λ1 shorter by a predetermined wavelength than the wavelength of the reference light LR that records information data without wavelength multiplexing. FIG. 11B shows wavelength detection information Be recorded at a wavelength λ5 that is longer by a predetermined wavelength than the wavelength of the reference light LR that records information data without wavelength multiplexing. (C) and (d) of FIG. 11 show wavelength detection information Ce and De newly set in order to secure a range for detecting a wavelength error.

図11(c)の波長検出情報Ceは、所定の波長だけ短い間隔の複数の波長λ2〜λ4で多重記録された情報である。図11(d)の波長検出情報Deは、所定の波長だけ長い間隔の複数の波長λ6〜λ8で多重記録された情報である。つまり、波長検出情報Ce,Deは、再生波長が記録波長より長いか短いかが判別可能な記録情報が得られる構成であればよい。なお、波長検出情報は、角度検出情報と言い換えることもできる。   The wavelength detection information Ce in FIG. 11C is information that is multiplexed and recorded at a plurality of wavelengths λ2 to λ4 that are shorter by a predetermined wavelength. The wavelength detection information De in FIG. 11D is information that is multiplexed and recorded at a plurality of wavelengths λ6 to λ8 that are long by a predetermined wavelength. That is, the wavelength detection information Ce and De may be any configuration that can obtain recording information that can determine whether the reproduction wavelength is longer or shorter than the recording wavelength. The wavelength detection information can also be referred to as angle detection information.

次に、図6を参照して、実施の形態2のホログラム記録再生装置30の再生時の動作について説明する。   Next, with reference to FIG. 6, the operation | movement at the time of reproduction | regeneration of the hologram recording / reproducing apparatus 30 of Embodiment 2 is demonstrated.

レーザー光源装置31は、再生時には、ディスク情報領域を再生して読み込まれた記録時の波長または予め定められた波長に設定された光ビームLPを出力する。このとき、1/2波長板34において偏光の割合を調整する等によって信号光LSを遮断し、参照光LRのみをホログラム記録媒体312中に入射させる。   At the time of reproduction, the laser light source device 31 reproduces the disc information area and outputs a light beam LP set at a recording wavelength or a predetermined wavelength read. At this time, the signal light LS is blocked by adjusting the ratio of polarization in the half-wave plate 34 and only the reference light LR is incident on the hologram recording medium 312.

偏光ビームスプリッタ35によって分離されたS偏光の参照光LRは、その後アパーチャー313によってビーム径を調節される。ビーム径を調節された参照光LRは、ガルバノミラー314によって角度が変調され、リレーレンズ315を介して、ホログラム記録媒体312を透過する。当該透過した参照光LRは、1/4波長板318で円偏光に変換され、反射ミラー319で反射される。当該反射された参照光RLは、ホログラム記録媒体312に記録時とは反対面からP偏光として入射する。   The S-polarized reference light LR separated by the polarization beam splitter 35 is then adjusted in beam diameter by an aperture 313. The angle of the reference light LR whose beam diameter has been adjusted is modulated by the galvanometer mirror 314 and passes through the hologram recording medium 312 via the relay lens 315. The transmitted reference light LR is converted into circularly polarized light by the quarter wavelength plate 318 and reflected by the reflection mirror 319. The reflected reference light RL is incident on the hologram recording medium 312 as P-polarized light from the surface opposite to that during recording.

上記のようにホログラム記録媒体312に参照光LRが入射すると、ホログラム記録媒体312に記録されていたホログラムから回折光(再生光)が発生する。当該再生光は、信号光LSとは逆の光路をたどり、対物レンズ311およびリレーレンズ39を通る。リレーレンズ39を通る途中で、ピンホール310によりノイズがカットされる。   When the reference light LR enters the hologram recording medium 312 as described above, diffracted light (reproduced light) is generated from the hologram recorded on the hologram recording medium 312. The reproduction light follows an optical path opposite to that of the signal light LS and passes through the objective lens 311 and the relay lens 39. In the middle of passing through the relay lens 39, noise is cut by the pinhole 310.

ノイズカットされたP偏光の再生光は、偏光ビームスプリッタ37を透過し、CMOSセンサ317で、空間光変調器38の反射型液晶での空間的な2次元データに対応する電気信号に変換される。CMOSセンサ317からの出力は、図示しない信号処理部によって2値化データに変換される。   The noise-reduced P-polarized reproduction light passes through the polarization beam splitter 37 and is converted into an electrical signal corresponding to spatial two-dimensional data in the reflective liquid crystal of the spatial light modulator 38 by the CMOS sensor 317. . The output from the CMOS sensor 317 is converted into binarized data by a signal processing unit (not shown).

上記において、参照光LRのホログラム記録媒体312への入射角度を記録時とほぼ同じにすることができる。しかしながら、ホログラム記録媒体312の記録時の収縮や温度変化などにより、再生時に最適な波長は、記録時に用いた波長とは異なっている。したがって、記録時と同じ波長では、ホログラム記録媒体312に記録された信号を正確に再生することができない。   In the above, the incident angle of the reference light LR to the hologram recording medium 312 can be made substantially the same as that during recording. However, the optimum wavelength at the time of reproduction differs from the wavelength used at the time of recording due to shrinkage or temperature change during recording of the hologram recording medium 312. Therefore, the signal recorded on the hologram recording medium 312 cannot be accurately reproduced at the same wavelength as that at the time of recording.

そこで、実施の形態2のホログラム記録再生装置30は、ホログラム記録媒体312からの情報データの再生処理の際、上記の波長検出情報を検出し、情報データが記録されたページの波長を検出する。これにより、読出しに使用するレーザー光源装置31の波長が決定され、波長の制御を容易に行なうことができる。この場合にも、波長を変えて再生する際、ホログラム記録媒体312への入射光軸が変化しないことが重要である。このため、本発明のレーザー光源装置31を利用することが有効となる。   Therefore, the hologram recording / reproducing apparatus 30 according to the second embodiment detects the wavelength detection information described above during the reproduction process of information data from the hologram recording medium 312, and detects the wavelength of the page on which the information data is recorded. Thereby, the wavelength of the laser light source device 31 used for reading is determined, and the wavelength can be easily controlled. In this case as well, it is important that the optical axis incident on the hologram recording medium 312 does not change when reproducing with the wavelength changed. For this reason, it is effective to use the laser light source device 31 of the present invention.

次に、図6〜12を参照して、上述した波長検出情報からそのブックに対応した参照光LRの波長を検出する処理の流れを説明する。図6のディテクタ317a,317bは、図8で説明したように、再生時の参照光LRの波長変化に対応して、波長検出情報Ad,Bdをそれぞれ異なる強度ピークで検出する。   Next, the flow of processing for detecting the wavelength of the reference light LR corresponding to the book from the above-described wavelength detection information will be described with reference to FIGS. As described with reference to FIG. 8, the detectors 317a and 317b in FIG. 6 detect the wavelength detection information Ad and Bd at different intensity peaks corresponding to the wavelength change of the reference light LR during reproduction.

図12は、波長検出情報Ad,Bdの検出強度SAd,SBdからどのように波長誤差信号WESを算出するかを示した図である。   FIG. 12 is a diagram showing how the wavelength error signal WES is calculated from the detection intensities SAd and SBd of the wavelength detection information Ad and Bd.

図12に示すように、波長誤差信号WES(Wave-length Error Signal)は、ディテクタ317aにおいて検出される波長検出情報Adの検出強度SAdと、ディテクタ317bにおいて検出される波長検出情報Bdの検出強度SBdとの差成分を規格化することで、以下のように算出される。   As shown in FIG. 12, the wavelength error signal WES (Wave-length Error Signal) includes the detection intensity SAd of the wavelength detection information Ad detected by the detector 317a and the detection intensity SBd of the wavelength detection information Bd detected by the detector 317b. Is calculated as follows by normalizing the difference component.

WES=(SAd−SBd)/(SAd+SBd) (4)
上記のように波長誤差信号WESを算出することで、何らかの条件により波長検出情報Ad,Bdの検出強度(再生強度)SAd,SBdがブック単位において変化したとしても、安定して波長誤差信号WESを算出することができる。
WES = (SAd−SBd) / (SAd + SBd) (4)
By calculating the wavelength error signal WES as described above, even if the detection intensities (reproduction intensities) SAd and SBd of the wavelength detection information Ad and Bd change in book units due to some condition, the wavelength error signal WES is stably generated. Can be calculated.

波長誤差信号WESとは、再生しようとするブックの最適再生波長λ0からのずれ量を示す数値である。波長誤差信号WESの負の傾斜部において、ゼロ(0)クロスとなる点ZXが各ブックにおける情報データ読出し時の参照光LRの最適再生波長となる。この読出し時の参照光LRの波長が、各ブックの情報データページの書込みの際の参照光LRの波長に対応する。読出し時の参照光LRの波長において、ディテクタ317a,317bにおける記録された情報データの再生強度(回折効率)が最大となる。   The wavelength error signal WES is a numerical value indicating the amount of deviation of the book to be reproduced from the optimum reproduction wavelength λ0. In the negative slope portion of the wavelength error signal WES, a point ZX that becomes a zero (0) cross is the optimum reproduction wavelength of the reference light LR at the time of reading information data in each book. The wavelength of the reference light LR at the time of reading corresponds to the wavelength of the reference light LR at the time of writing the information data page of each book. At the wavelength of the reference light LR at the time of reading, the reproduction intensity (diffraction efficiency) of the recorded information data in the detectors 317a and 317b is maximized.

波長誤差信号WESの算出に各ブックに記録された情報データを読み出す際、情報データページにアクセスする。読出し時の参照光LRの波長は、レーザー光源装置31の出射光の波長を変えて調整するための波長サーボ制御に用いることができる。   When reading the information data recorded in each book for the calculation of the wavelength error signal WES, the information data page is accessed. The wavelength of the reference light LR at the time of reading can be used for wavelength servo control for adjusting by changing the wavelength of the emitted light of the laser light source device 31.

また、波長検出情報が複数箇所に記録されている場合、波長誤差信号WESは、下記に示すように、波長検出情報Adの検出強度SAdおよび波長検出情報Bdの検出強度SBdの各々の総和を演算して算出される。   When wavelength detection information is recorded at a plurality of locations, the wavelength error signal WES calculates the sum of the detection intensity SAd of the wavelength detection information Ad and the detection intensity SBd of the wavelength detection information Bd as shown below. Is calculated.

WES=(ΣSAd−ΣSBd)/(ΣSAd+ΣSBd) (5)
上記により、読出し時の参照光LRの波長は、レーザー光源装置31の出射光の波長を変えて調整するための波長サーボ制御に用いることができる。
WES = (ΣSAd−ΣSBd) / (ΣSAd + ΣSBd) (5)
As described above, the wavelength of the reference light LR at the time of reading can be used for wavelength servo control for adjusting by changing the wavelength of the emitted light of the laser light source device 31.

以上のように、実施の形態2のホログラム記録再生装置は、波長検出情報をブックごとに記録して、レーザー光源装置の波長を可変させる。これにより、ホログラム記録媒体の記録時の収縮や温度変化などで再生時に最適な波長が記録時の波長と異なっている場合でも、情報データを読み出す際の参照光の最適な波長を検出できる。その結果、ホログラフィー再生処理における連続的に高速な情報データの再生が可能となる。   As described above, the hologram recording / reproducing apparatus according to the second embodiment records the wavelength detection information for each book and varies the wavelength of the laser light source device. Thereby, even when the optimum wavelength at the time of reproduction differs from the wavelength at the time of recording due to shrinkage or temperature change at the time of recording of the hologram recording medium, the optimum wavelength of the reference light at the time of reading the information data can be detected. As a result, information data can be reproduced continuously at high speed in the holographic reproduction process.

今回開示された実施の形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施の形態の説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。   The embodiment disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is shown not by the above description of the embodiments but by the scope of claims for patent, and is intended to include meanings equivalent to the scope of claims for patent and all modifications within the scope.

この発明の実施の形態1によるリトロー型ECDL10Aの概略的な構成を示した模式図である。1 is a schematic diagram showing a schematic configuration of a Littrow ECDL 10A according to Embodiment 1 of the present invention. 図1のリトロー型ECDL10Aの回折部材5の部分の拡大図である。It is an enlarged view of the diffraction member 5 part of the Littrow type ECDL 10A of FIG. この発明の実施の形態1の変形例によるリトロー型ECDL10Bの概略的な構成を示した模式図である。It is the schematic diagram which showed schematic structure of Littrow type | mold ECDL10B by the modification of Embodiment 1 of this invention. この発明の実施の形態1の他の変形例によるリトロー型ECDL10Cの概略的な構成を示した模式図である。It is the schematic diagram which showed schematic structure of the Littrow type | mold ECDL10C by the other modification of Embodiment 1 of this invention. 図1のリトロー型ECDL10Aにおける反射光9の出射方向を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the emission direction of the reflected light 9 in Littrow type | mold ECDL10A of FIG. この発明の実施の形態2によるホログラム記録再生装置30の光学ユニットの構成を示した図である。It is the figure which showed the structure of the optical unit of the hologram recording / reproducing apparatus 30 by Embodiment 2 of this invention. ホログラム記録媒体312に記録されるページおよびブックを概念的に表わした模式図である。3 is a schematic diagram conceptually showing pages and books recorded on a hologram recording medium 312. FIG. ホログラム記録媒体312に記録される波長検出情報の光量と波長との関係を表わした図である。FIG. 6 is a diagram illustrating a relationship between a light amount and wavelength of wavelength detection information recorded on a hologram recording medium 312. 光ビームPLの波長変化分に対する回折効率の一例を表わした図である。It is a figure showing an example of the diffraction efficiency with respect to the wavelength change part of the light beam PL. ホログラム記録媒体312に記録されるページおよびブックの他の例を概念的に表わした模式図である。10 is a schematic diagram conceptually showing another example of a page and a book recorded on a hologram recording medium 312. FIG. ホログラム記録媒体312に記録される波長検出情報の光量と波長との他の関係を表わした図である。6 is a diagram illustrating another relationship between the light amount and wavelength of wavelength detection information recorded on the hologram recording medium 312. FIG. 波長検出情報Ad,Bdの検出強度SAd,SBdからどのように波長誤差信号WESを算出するかを示した図である。It is a figure showing how wavelength error signal WES is computed from detection intensity SAd and SBd of wavelength detection information Ad and Bd. 従来のリトロー型ECDL100Aの概略的な構成を示した模式図である。It is the schematic diagram which showed the schematic structure of the conventional Littrow type | mold ECDL100A. 従来のリットマン型ECDL100Bの概略的な構成を示した模式図である。It is the schematic diagram which showed the schematic structure of the conventional Littman type | mold ECDL100B. 改良された従来のリトロー型ECDL100Cの概略的な構成を示した模式図である。It is the schematic diagram which showed the schematic structure of the improved conventional Littrow type | mold ECDL100C.

符号の説明Explanation of symbols

1 半導体レーザ、2,32 コリメートレンズ、3A,3B,27 プリズム、4 回折格子、5 回折部材、10A〜10C,100A〜100C リトロー型ECDL、11m,11n 部材、12 マッチング液、20 ミラー、26 治具、30 ホログラム記録再生装置、31 レーザー光源装置、33 アイソレータ、34,36 1/2波長板、35,37 偏光ビームスプリッタ、38 空間光変調器、39,315 リレーレンズ、310 ピンホール、311 対物レンズ、313 アパーチャー、314 ガルバノミラー、317 CMOSセンサ、317a,317b ディテクタ、318 1/4波長板、319 反射ミラー。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor laser, 2,32 Collimate lens, 3A, 3B, 27 Prism, 4 Diffraction grating, 5 Diffraction member, 10A-10C, 100A-100C Littrow type ECDL, 11m, 11n Member, 12 Matching liquid, 20 Mirror, 26 30 Hologram recording / reproducing device, 31 Laser light source device, 33 Isolator, 34, 36 1/2 wavelength plate, 35, 37 Polarizing beam splitter, 38 Spatial light modulator, 39, 315 Relay lens, 310 Pinhole, 311 Objective Lens, 313 aperture, 314 galvanometer mirror, 317 CMOS sensor, 317a, 317b detector, 318 quarter wave plate, 319 reflection mirror.

Claims (8)

リトロー型のレーザー光源装置であって、
光ビームを出射するレーザー光源と、
前記光ビームを受けて、1次回折光を前記レーザー光源に帰還し、0次回折光を出射する回折格子と、
前記回折格子が設置されている面の前記0次回折光が回折される側の角およびその対角が直角である多角形プリズムとを備える、レーザー光源装置。
A Littrow type laser light source device,
A laser light source that emits a light beam;
Receiving the light beam, returning first-order diffracted light to the laser light source and emitting zero-order diffracted light;
A laser light source device comprising: a polygon prism having a right angle on the side where the diffraction grating is installed and a side on which the zero-order diffracted light is diffracted and a diagonal of the angle.
前記回折格子が設置されている面の前記0次回折光が回折される側の頂点を中心軸として前記多角形プリズムを回転させることにより、前記光ビームの波長を可変する、請求項1に記載のレーザー光源装置。   2. The wavelength of the light beam according to claim 1, wherein the wavelength of the light beam is varied by rotating the polygonal prism around the vertex of the surface where the diffraction grating is installed on the side where the 0th-order diffracted light is diffracted. Laser light source device. 前記多角形プリズムと前記回折格子との間が空気層となっている、請求項1または2に記載のレーザー光源装置。   The laser light source device according to claim 1, wherein an air layer is formed between the polygonal prism and the diffraction grating. 前記多角形プリズムと前記回折格子との間にマッチング液が充填されている、請求項1または2に記載のレーザー光源装置。   The laser light source device according to claim 1 or 2, wherein a matching liquid is filled between the polygonal prism and the diffraction grating. 前記回折格子は、前記多角形プリズムの1つの面に形成されている、請求項1または2に記載のレーザー光源装置。   The laser light source device according to claim 1, wherein the diffraction grating is formed on one surface of the polygonal prism. 請求項1〜5のいずれかに記載のレーザー光源装置を備えた情報記録再生装置。   An information recording / reproducing apparatus comprising the laser light source device according to claim 1. 波長検出情報を含むページが多重記録されたブックを単位に情報を記録する、請求項6に記載の情報記録再生装置。   The information recording / reproducing apparatus according to claim 6, wherein information is recorded in units of a book in which pages including wavelength detection information are multiplexed and recorded. 前記波長検出情報のうち、第1の波長検出情報と第2の波長検出情報との差成分を規格化することで、最適再生波長からのずれ量を示す波長誤差信号を算出する、請求項7に記載の情報記録再生装置。   The wavelength error signal indicating a deviation amount from the optimum reproduction wavelength is calculated by normalizing a difference component between the first wavelength detection information and the second wavelength detection information in the wavelength detection information. The information recording / reproducing apparatus described in 1.
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