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JP2009099400A - 表示装置 - Google Patents

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JP2009099400A
JP2009099400A JP2007270316A JP2007270316A JP2009099400A JP 2009099400 A JP2009099400 A JP 2009099400A JP 2007270316 A JP2007270316 A JP 2007270316A JP 2007270316 A JP2007270316 A JP 2007270316A JP 2009099400 A JP2009099400 A JP 2009099400A
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Japan
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layer
substrate
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organic
display panel
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JP2007270316A
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Inventor
Hiroshi Kubota
浩史 久保田
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Japan Display Central Inc
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Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd
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Abstract

【課題】反射状態とシースルー状態とにスイッチング可能な表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 有機EL表示素子を備えた表示パネル1と、
表示パネルの光出射面とは反対側の外面に配置され、反射状態またはシースルー状態にスイッチングされる調光ユニット500と、
を備えたことを特徴とする。
【選択図】 図3

Description

この発明は、表示装置に係り、特に、自発光性の表示素子を備えた構成の表示装置に関する。
近年、平面表示装置として、有機エレクトロルミネッセンス(EL)表示装置が注目されている。この有機EL表示装置は、自発光性の表示素子を備えて構成されていることから、視野角が広く、バックライトを必要とせず薄型化が可能であり、消費電力が抑えられ、且つ応答速度が速いといった特徴を有している。
これらの特徴から、有機EL表示装置は、液晶表示装置に代わる、次世代平面表示装置の有力候補として注目を集めている。このような有機EL表示装置は、窓等に貼り付けて使用するシースルーディスプレイや、壁等に貼り付けて使用する大面積のポスター型ディスプレイとしての応用が期待されている。
有機EL表示装置のシースルー化を実現する技術の一例が特許文献1に開示されている。この特許文献1によれば、透明基板と陽極電極と有機物層と陰極電極とを有する有機EL素子であって、陽極電極及び陰極電極が、金属薄膜と高屈折率薄膜とを積層してなる透明電極であるという構成をとっている。このように、陽極電極・陰極電極双方を、金属薄膜と高屈折率薄膜とを積層して構成することにより、双方の電極の膜厚が薄くなるため透明性に優れ、両面から発光を取り出すことを可能としている。
特開2002−334792号公報
この発明の目的は、反射状態とシースルー状態とにスイッチング可能な表示装置を提供することにある。
この発明の態様による表示装置は、
有機EL表示素子を備えた表示パネルと、
前記表示パネルの光出射面とは反対側の外面に配置され、反射状態またはシースルー状態にスイッチングされる調光ユニットと、
を備えたことを特徴とする。
この発明によれば、反射状態とシースルー状態とにスイッチング可能な表示装置を提供することができる。
以下、この発明の一実施の形態に係る表示装置について図面を参照して説明する。なお、この実施の形態では、表示装置として、自己発光型表示装置、例えば有機EL(エレクトロルミネッセンス)表示装置を例にして説明する。
有機EL表示装置は、図1に示すような表示パネル1を備えている。この表示パネル1は、画像を表示する略矩形状の表示エリア102を有している。カラー表示タイプの有機EL表示装置においては、表示エリア102は、マトリクス状に配置された複数種類の色画素PX(R、G、B)によって構成されている。
この実施の形態においては、表示パネル1は、アレイ基板100(第1基板)と、アレイ基板100の主面側に対向して配置された封止基板(第2基板)200を備えている。封止基板200は、少なくとも表示エリア102を密封するようにシール材300を介してアレイ基板100に貼り合せられている。シール材300は、感光性樹脂(例えば紫外線硬化型樹脂)であっても良いし、フリットであっても良い。
表示パネル1は、表示素子40を備えている。この表示素子40は、自発光性の表示素子である有機EL素子40(R、G、B)によって構成されている。すなわち、赤色画素PXRは、主に赤色波長に対応した光を放射する有機EL素子40Rを備えている。緑色画素PXGは、主に緑色波長に対応した光を放射する有機EL素子40Gを備えている。青色画素PXBは、主に青色波長に対応した光を放射する有機EL素子40Bを備えている。
各種有機EL素子40(R、G、B)の構成は、基本的に同一である。すなわち、図2に示すように、アレイ基板100は、配線基板120の主面側に配置された有機EL素子40を備えている。なお、配線基板120は、ガラス基板やプラスチックシートなどの絶縁性の支持基板上に、スイッチや駆動トランジスタなどの画素回路、各種配線(走査線、信号線、電源供給線等)などを備えて構成されたものとする。
有機EL素子40は、配線基板120上に配置された第1電極60と、第1電極60に対向して配置され(すなわち第1電極60よりも封止基板200側に配置され)複数の色画素PXに共通の第2電極64と、これらの第1電極60と第2電極64との間に配置された有機活性層62と、によって構成されている。
より具体的な有機EL素子40の構成例について説明すると、第1電極60は、配線基板120上において色画素PX毎に独立島状に配置されている。この第1電極60は、アルミニウム(Al)などの光反射性を有する導電材料を用いて電極としての機能と反射層としての機能とを兼ね備えた単層として形成しても良いし、インジウム・ティン・オキサイド(ITO)などの光透過性を有する導電材料を用いて透過層単層として形成しても良いし、さらには、反射層と透過層とを積層した2層構造としても良い。
有機活性層62は、第1電極60上に配置され、少なくとも発光層62Aを含んでいる。この有機活性層62は、発光層62A以外の機能層を含むことができ、例えば、ホール注入層、ホール輸送層、ブロッキング層、電子輸送層、バッファ層などの機能層を含むことができる。この有機活性層62は、複数の機能層を複合した単層で構成されても良いし、各機能層を積層した多層構造であっても良い。有機活性層62においては、発光層62Aが有機系材料であればよく、発光層62A以外の層は無機系材料でも有機系材料でも構わない。
有機活性層62において、発光層62A以外の機能層は共通層であってもよく、図2に示した例では、発光層62Aの第1電極60側及び第2電極64側にそれぞれ共通層が配置されている。一方の共通層62Hは、ホール注入層、ホール輸送層などを含み、また、他方の共通層62Eは、電子注入層、電子輸送層などを含んでいる。発光層62Aは、赤、緑、または青に発光する発光機能を有した有機化合物によって形成される。
第2電極64は、各色画素PXの有機活性層62の上に配置されている。この第2電極64は、銀(Ag)とマグネシウム(Mg)との混合物などからなる半透過層単層として形成しても良いし、ITOなどの光透過性を有する導電材料を用いて透過層単層として形成しても良いし、さらには、半透過層と透過層とを積層した2層構造としても良い。
また、アレイ基板100は、表示エリア102において、少なくとも隣接する色画素PX(R、G、B)間を分離する隔壁70を備えている。隔壁70は、例えば各第1電極60の縁に沿って格子状またはストライプ状に配置されている。この隔壁70は、例えば樹脂材料をパターニングすることによって形成される。
この実施の形態に係る表示パネル1は、上述したような構成により、主に封止基板200側を光出射面とする。すなわち、図3に示すように、アレイ基板100は、封止基板200と対向する面に複数の有機EL素子からなる発光部50を備えている。発光部50を構成する各有機EL素子は、発生したEL光が第2電極側から封止基板200を介して外部に出射するトップエミッションタイプとして構成されている。
ところで、この実施の形態に係る有機EL表示装置は、表示パネル1の光出射面とは反対側の外面、つまり、アレイ基板100の外面に配置された調光ユニット500を備えている。この調光ユニット500は、反射状態またはシースルー状態にスイッチング可能に構成されている。すなわち、反射状態が選択された場合には、調光ユニット500は鏡面となり、観察者側からは鏡面を背景として表示パネル1に表示された画像を目視可能となる。また、シースルー状態が選択された場合には、調光ユニット500は透明となり、観察者側からは表示パネル1に表示された画像を目視可能とするとともに表示パネル1の背景も目視可能となる。
この調光ユニット500についてより詳細に説明する。
すなわち、調光ユニット500は、基板上に配置された調光層510を備えている。この実施の形態においては、調光層510は、表示パネル1を構成するアレイ基板100の外面に配置されている。この調光層510は、水素化によって透明状態となるクロミック特性を有するとともに、脱水素化によって鏡面状態となるクロミック特性を有するように構成されている。つまり、調光ユニット500は、調光層510を水素化または脱水素化することにより、シースルー状態と反射状態とをスイッチング可能とするものである。
このような調光層510は、例えばマグネシウムを含む薄膜であり、この実施の形態ではマグネシウム・チタン合金によって形成されている。調光層510としては、マグネシウム・ニッケル合金薄膜も適用可能である。この実施の形態で適用したマグネシウム・チタン合金薄膜は、シースルー状態となったときに色づきが少なく、また、高い透明性が得られるので好適である。
この実施の形態では、調光層510の水素化または脱水素化を行うためにガスクロミック手法を適用しているが、エレクトロクロミック手法や、サーモクロミック手法など他の手法を適用してもよい。
すなわち、調光ユニット500は、調光層510との間にギャップを形成するようにアレイ基板100に対向配置された背面基板(第3基板)520を備えている。この背面基板520は、ガラス基板やプラスチックシートなどを用いて形成されている。また、この背面基板520は、自身が光透過性を有し、調光ユニット500がシースルー状態となったときに調光ユニット500の背景が目視可能となるように構成しても良いし。自身が絵柄を有していたり、他の表示パネルを構成する基板であったりしても良い。
このような背面基板520は、表示パネル1とともに支持体530によって支持されている。この支持体530は、アレイ基板100と背面基板520との間に所定のギャップを持った気密空間531を形成し、この気密空間531の内部に調光層510を密閉している。
支持体530には、導入口530A及び排気口530Bが形成されている。導入口530Aには、雰囲気制御ユニット540が接続されている。すなわち、雰囲気制御ユニット540は、酸素(O)を含まず水素(H)を含むガスが充填された第1ガス供給源541、及び、水素(H)を含まず酸素(O)を含むガスが充填された第2ガス供給源542を備え、さらに、これらの第1ガス供給源541及び第2ガス供給源542と導入口530Aとが供給路を介して接続されている。
このような構成により、支持体530の気密空間531に所定のガスを導入可能となる。つまり、調光層510は、気密空間内において、水素を含むガスまたは酸素を含むガスの雰囲気に晒され、水素化または脱水素化を行うことが可能となる。
なお、調光層510の表面には、触媒層としてパラジウムを含む薄膜が成膜されることが望ましい。このようなパラジウムなどの触媒層が成膜された調光層510は、ガスクロミック現象と、温度によって透過率が変化するサーモクロミック現象の双方を併せ持つことが知られている。このため、調光層510は、一旦、水素化によって透明状態となった後に、酸素を含むガスに晒さなくても、高温環境下においては次第に透過率が低下し、鏡面状態に変化する。どのような温度で鏡面状態に戻るようにするかは、触媒層の厚さを変えることによって制御可能である。
次に、より具体的な実施例について説明する。
まず、表示パネル1を製作する。すなわち、配線基板120上に第1電極60を形成する。ここでは、例えば、導電材料の成膜及びパターニングにより、アルミニウムからなる反射層及びITOからなる透過層を積層した2層構造の第1電極60を画素毎に形成する。
その後、第1電極60上に有機活性層62を形成する。すなわち、第1電極60上にホール注入層としてアモルファスカーボン、及び、ホール輸送層としてαNPDを蒸着法により形成する。そして、赤色画素、緑色画素、及び、青色画素について、ファインマスクを用いて、Red発光層材料(ホスト:Alq3、ドーパント:DCM)、Green発光層材料(ホスト:Alq、ドーパント:クマリン)、Blue発光層材料(ホスト:BH120、ドーパント:BD−102)をそれぞれ蒸着し、それぞれの発光層62Aを形成する。そして、これらの各発光層62A上に、電子輸送層(PyPySPyPy)及び電子注入層を形成する。
続いて、マグネシウム及び銀を蒸着する。これにより、有機活性層62の上に、マグネシウム及び銀が混合して存在する半透過層が形成される。そして、ITOを蒸着し、透過層を形成する。これにより、第2電極64が形成される。このような工程を経て、トップエミッションタイプの有機EL素子40を備えた表示パネル1を作成した。
続いて、表示パネル1を構成するアレイ基板100の背面側への調光層510の成膜を、マグネトロンスパッタ装置により行った。このとき、ターゲットとして、それぞれ金属マグネシウムと、金属チタンとをセットし、同時にスパッタして膜厚が約50nmのマグネシウム・チタン合金薄膜を蒸着し、真空中でごく薄く触媒層として約5nmの膜厚のパラジウムをスパッタして、調光層510を得た。このようにして得た調光層510は、大気下では、銀色の鏡面状態であった。
続いて、このような調光層510を備えた表示パネル1を、調光ユニット500の支持体530にセットした。このとき、表示パネル1と背面基板520との間隔は、5mmに設定した。
このようにして製作した表示装置によれば、表示パネル1における画面表示にかかわらず、シースルー状態が選択された場合に、雰囲気制御ユニット540により第1ガス供給源541から水素(約1%)を含んだガスを支持体530の気密空間531に導入する。これにより、調光層510は、水素を含んだ雰囲気に晒され、水素化により透明状態となる。このため、調光ユニット500は、シースルー状態となる。
また、反射状態が選択された場合には、雰囲気制御ユニット540により第2ガス供給源542から酸素(約20%)を含んだガスを支持体530の気密空間531に導入する。これにより、調光層510は、酸素を含んだ雰囲気に晒され、脱水素化により鏡面状態となる。このため、調光ユニット500は、反射状態となる。
以上説明したように、本実施形態によれば、水素化と脱水素化とで透明状態と鏡面状態とに切り替わる調光層を備えた調光ユニットを表示パネル1の背面に配置したことにより、シースルー状態と反射状態とをスイッチングが可能なデザイン性に優れた表示装置を提供することが可能となる。
なお、この発明は、上記実施形態そのものに限定されるものではなく、その実施の段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。
図1は、この発明の一実施の形態に係る有機EL表示装置を構成する表示パネルを概略的に示す図である。 図2は、図1に示した表示パネルにおける有機EL素子の構造を概略的に示す断面図である。 図3は、この発明の一実施の形態に係る調光ユニットを備えた有機EL表示装置の構成を概略的に示す図である。
符号の説明
PX(R、G、B)…色画素
1…表示パネル
40…有機EL素子 50…発光部
60…第1電極 62…有機活性層 62A…発光層 64…第2電極
70…隔壁
100…アレイ基板 200…封止基板 300…シール材
500…調光ユニット 510…調光層 520…背面基板 530…支持体
540…雰囲気制御ユニット
541…第1ガス供給源(H) 542…第2ガス供給源(O

Claims (5)

  1. 有機EL表示素子を備えた表示パネルと、
    前記表示パネルの光出射面とは反対側の外面に配置され、反射状態またはシースルー状態にスイッチングされる調光ユニットと、
    を備えたことを特徴とする表示装置。
  2. 前記表示パネルは、前記有機EL素子を備えた第1基板と、前記第1基板に対向配置されシール材によって貼り合わせられた第2基板と、を備え、
    前記調光ユニットは、前記第1基板の外面に配置された調光層を備えたことを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
  3. 前記調光層は、マグネシウム・チタン合金によって形成されたことを特徴とする請求項2に記載の表示装置。
  4. 前記調光ユニットは、前記調光層との間にギャップを形成するように前記第1基板に対向配置された第3基板と、
    シースルーが選択された場合に前記ギャップに水素を含むガスを導入し、また、反射状態が選択された場合に前記ギャップに酸素を含むガスを導入する雰囲気制御ユニットと、を備えたことを特徴とする請求項2に記載の表示装置。
  5. 前記調光層の表面に触媒層としてパラジウムを含む薄膜を備えたことを特徴とする請求項3に記載の表示装置。
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