JP2009088509A5 - - Google Patents

Claims (40)

1. 基板を保持するように構成された基板テーブルと、
   物体を受け取るように構成された前記基板テーブル中の凹部と、
   前記凹部の少なくとも外側区域に清浄流体を供給するように構成された清浄流体供給デバイスと
   を備えるリソグラフィ装置。
2. 清浄流体のリザーバをさらに備える、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
3. 前記清浄流体供給デバイスが前記凹部への清浄流体の注入口を備える、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
4. 前記清浄流体注入口の位置は、前記注入口からの清浄流体の流れが前記物体の中心に対して少なくとも部分的に半径方向外向きであるような位置である、請求項３に記載のリソグラフィ装置。
5. 前記清浄流体注入口が前記基板テーブルに対して移動可能である、請求項３に記載のリソグラフィ装置。
6. 前記清浄流体注入口が、投影システムと前記基板テーブルとの間の空間に液浸液を少なくとも部分的に閉じ込めるように構成された液体閉じ込めシステム中にある、請求項５に記載のリソグラフィ装置。
7. 前記清浄流体注入口が前記基板テーブルの一部である、請求項３に記載のリソグラフィ装置。
8. 前記清浄流体注入口が延長部材の端部に隣接して形成される、請求項３に記載のリソグラフィ装置。
9. 前記延長部材がニードルである、請求項８に記載のリソグラフィ装置。
10. 低圧力源を起動して排液管から清浄流体を除去するように構成されたコントローラをさらに備える、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
11. 清浄流体が前記凹部の周囲全体の周りに供給され得るように、前記清浄流体供給デバイスの少なくとも一部と排液管の外側区域との相対位置を制御するように構成されたコントローラをさらに備える、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
12. 前記装置が液浸リソグラフィ装置であり、使用中に、前記物体の縁部を通り過ぎて前記凹部中に漏れる液浸液を受け取るために前記基板テーブル中に排液管を備える、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
13. 前記排液管が前記凹部の外側区域にある、請求項１２に記載のリソグラフィ装置。
14. 前記排液管への清浄流体の連続的流れが確実に存在するように構成されたコントローラをさらに備える、請求項１２に記載のリソグラフィ装置。
15. 前記液浸液および前記清浄流体が異なる流体である、請求項１２に記載のリソグラフィ装置。
16. 前記清浄流体供給デバイスが、超純水と、以下の成分、すなわち界面活性剤、溶媒、清浄剤、液化ガス、溶解ガス、無極性有機溶媒、または極性有機溶媒から選択された少なくとも１つの成分とからなる清浄流体を供給するように構成される、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
17. 前記液化ガスが二酸化炭素を含む、請求項１６に記載のリソグラフィ装置。
18. 前記溶解ガスが酸素、オゾン、過酸化水素、窒素、またはそれらの任意の組合せを含む、請求項１６に記載のリソグラフィ装置。
19. 排液管の排出口とは別個の排出口である抽出排出口をさらに備える、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
20. 前記抽出排出口が延長部材の端部に隣接して形成される、請求項１９に記載のリソグラフィ装置。
21. 前記抽出排出口が前記基板テーブルに対して移動可能であり、かつ／または投影システムと前記基板テーブルとの間に液浸液を少なくとも部分的に閉じ込めるように構成された液体閉じ込めシステムの一部である、請求項１９に記載のリソグラフィ装置。
22. 前記物体が基板である、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
23. 基板を保持するように構成された基板テーブルと、
    使用中に、前記基板テーブルの縁部と前記基板テーブル上の物体との間の間隙に漏れ入る液浸流体を受け取るように構成された前記基板テーブル中の排液管と、
    （ｉ）前記間隙、（ｉｉ）前記排液管への注入口、（ｉｉｉ）前記排液管、または（ｉｖ）（ｉ）〜（ｉｉｉ）から選択された任意の組合せに清浄流体を供給するように構成された延長部材の端部に隣接する注入口と
    を備える液浸リソグラフィ装置。
24. 前記注入口は、前記注入口から前記排液管への清浄流体の流れが前記物体の中心に対して少なくとも部分的に半径方向外向きであるように位置決め可能である、請求項２３に記載の液浸リソグラフィ装置。
25. 前記注入口が前記基板テーブルに対して移動可能である、請求項２３に記載の液浸リソグラフィ装置。
26. 前記注入口が、投影システムと前記基板テーブルとの間の空間に液浸液を少なくとも部分的に閉じ込めるように構成された液体閉じ込めシステム上にある、請求項２５に記載の液浸リソグラフィ装置。
27. 前記注入口がニードルの形態である、請求項２３に記載の液浸リソグラフィ装置。
28. 前記排液管の排出口とは別個の排出口である抽出排出口をさらに備える、請求項２３に記載の液浸リソグラフィ装置。
29. 前記抽出排出口が延長部材の端部に隣接して形成される、請求項２８に記載の液浸リソグラフィ装置。
30. 前記物体が基板である、請求項２３に記載の液浸リソグラフィ装置。
31. 物体を受け取るように構成された基板テーブル中の凹部の少なくとも一部を清浄する方法であって、
    前記凹部の少なくとも外側区域に清浄流体を供給するステップと、
    前記凹部から前記清浄流体を抽出するステップと
    を含む方法。
32. 基板が前記基板テーブルの前記凹部中にある場合実行される、請求項３１に記載の方法。
33. 基板が前記基板テーブル上にない場合実行される、請求項３１に記載の方法。
34. 前記基板テーブルが液浸リソグラフィ装置用の基板テーブルであり、使用中に、前記物体の縁部を通り過ぎて前記凹部中に漏れる液浸液を受け取るために前記凹部中に排液管を備える、請求項３１に記載の方法。
35. 前記清浄流体が前記液浸液と異なる、請求項３４に記載の方法。
36. 前記清浄流体が注入口を通って前記凹部に供給される、請求項３１に記載の方法。
37. 前記注入口が前記基板テーブルの一部である、請求項３６に記載の方法。
38. 前記注入口が前記基板テーブルに対して移動可能である、請求項３６に記載の方法。
39. 液浸リソグラフィ装置内で実行される、請求項３８に記載の方法。
40. 基板テーブルの方にパターンを投影するように構成された投影システムと、
    前記基板テーブルの縁部と基板との間に画定された間隙が存在する場合に、清浄流体を供給するように構成された液体供給システムと、
    過剰流体を除去するように構成された注入口であって、使用中に、前記間隙から液体を除去するように前記間隙に配置され、低圧力源に接続される注入口と
    を備えるリソグラフィ投影装置。