JP2009048178A - 液晶表示パネル及び電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】表示ムラのない安定した表示品質を達成し得る液晶表示パネルを提供すること。
【解決手段】アレイ基板及びカラーフィルタ基板ＣＦａと、これらをシール材５０を介して貼り合わされた隙間に封入された液晶と、複数の画素を有する表示領域３３と、表示領域３３の周囲に位置して、シール材５０が形成される非表示領域３４と、を有する液晶表示パネルであって、カラーフィルタ基板ＣＦａは、複数の画素を区画する遮光膜ＢＭｄと、複数の画素に対応して設けられたカラーフィルタ層３２と、非表示領域３４に設けられた遮光膜ＢＭｎとを備え、表示領域３３には、遮光膜ＢＭｄに対応する位置に柱状スペーサ３８が形成されており、非表示領域３４は、遮光膜ＢＭｎの表面にカラーフィルタ層３２が形成された内側領域３４ｉと、内側領域３４ｉよりも外側であって、シール材５０よりも内側に柱状スペーサ３８が形成された外側領域３４ｏとを有する。
【選択図】図５

Description

本発明は、表示ムラのない安定した表示品質を達成し得る液晶表示パネル及びこの液晶表示パネルを使用した電子機器に関する。

液晶表示パネルは、アレイ基板と、このアレイ基板と対向するように設けられたカラーフィルタ基板と、アレイ基板及びカラーフィルタ基板の間に封入された液晶層とを備えている。アレイ基板は、マトリクス状に配置された複数の走査線及び信号線と、走査線及び信号線により区画されるそれぞれの位置に形成された画素電極とを備えている。また、カラーフィルタ基板は、アレイ基板の各画素電極に対応する位置に所定色のカラーフィルタ層が配置されると共に、各画素電極に対応する位置を除いて遮光膜が形成されている。この遮光膜は、直接画像表示に関与しない位置を遮光し、各画素の輪郭をはっきりさせ、コントラストを向上させる役目を有するものである。この従来例のカラーフィルタ基板の構成を概略断面図である図７を用いて説明する。

従来の液晶表示パネルのカラーフィルタ基板ＣＦｂは、ガラス基板等の透明基板３１の表面に遮光膜が形成されているが、この遮光膜のパターンは表示領域３３及び非表示領域３４のそれぞれで異なっている。すなわち、表示領域３３の遮光膜ＢＭｄは図示しないアレイ基板の走査線及び信号線に対応する位置にマトリクス状に形成されており、非表示領域３４の遮光膜ＢＭｎは表示領域３３の遮光膜ＢＭｄの周囲を囲むようにベタ状に形成されている（下記特許文献１参照）。これらの遮光膜ＢＭｄ及びＢＭｎとしては、クロム金属等からなる金属製の遮光膜や樹脂製の遮光膜が用いられるが、以下においては樹脂製の遮光膜を使用した場合について説明する。なお、一般的に使用されている樹脂製の遮光膜の厚さは１〜２μｍ程度であり、金属製の遮光膜の厚さは０．１〜０．２μｍ程度である。

表示領域３３の遮光膜ＢＭｄの間及び表面にはそれぞれの画素毎に所定の色、例えば赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルタ層３２が形成されている。なお図７ではストライプ状に形成されている各色のカラーフィルタ層における、特定の色の方向に沿った断面を示している。

なお、カラーフィルタ層３２は、一般的に表示領域３３と非表示領域３４との境界近傍まで形成されている。それは、この領域で構成が異なると、境界近傍に大きな段差が生じ、この段差により液晶分子の配向に乱れが生じる恐れがあるからである。

そして、カラーフィルタ層３２の表面及び非表示領域３４の遮光膜ＢＭｎの表面には透明な例えばアクリル樹脂等からなるオーバーコート層３５が形成されている。このオーバーコート層３５は、カラーフィルタ基板ＣＦｂの表面の凹凸を緩和し、カラーフィルタ層３２、樹脂製の遮光膜ＢＭｄ，ＢＭｎを保護して、液晶層と直接接触するのを防ぐために設けられている。

そして、表示領域３３の遮光膜ＢＭｄに対応する位置、及び非表示領域３４のシール材５０より内側において、所定の高さの柱状スペーサ３８が形成されている。なお、この柱状スペーサ３８は、表面に感光性樹脂層を形成した後、露光・現像することにより形成される。そしてこの柱状スペーサ３８はその製造方法からして「フォトスペーサ」とも称される。

特開２００４−２１２７４１号公報 特開平１１−６４８３７号公報

ところで、上記のようなカラーフィルタ基板ＣＦｂは、図７に示されているように、透明基板３１から柱状スペーサ３８までの高さが、表示領域３３と非表示領域３４とで異なるという問題が発生する。この理由については、モノクロ液晶表示装置に関する特許文献１の段落番号「０００７」にも記載されているが、表示領域３３における幅の狭い遮光膜ＢＭｄと、非表示領域３４におけるベタ状に形成されている遮光膜ＢＭｎとで、その上に形成される層の厚さに差が生じるためである。

つまり表示領域３３の遮光膜ＢＭｄの上に形成されるカラーフィルタ層３２に比べ、非表示領域３４の遮光膜ＢＭｎの上に形成されるカラーフィルタ層３２の方が厚く形成されてしまう。そして厚さの異なるカラーフィルタ層３２の上に最終的に形成される柱状スペーサ３８までもがその影響を受けてしまうため、透明基板３１の表面から柱状スペーサ３８の上部までの高さが、表示領域３３と、非表示領域３４とで異なってしまうことになる。

このように、いわゆる柱状スペーサ３８の高さが、表示領域３３と非表示領域３４とで異なってしまうと、カラーフィルタ基板ＣＦｂとアレイ基板とをシール材５０により貼り合わせて液晶表示パネルを形成した際に、表示領域３３と非表示領域３４の境界付近でセルギャップの差に起因する表示ムラが生じてしまう。このような表示ムラは特にセルギャップの差異に敏感なモードの液晶表示パネルでは顕著となる。

なお、上記特許文献２には、非表示領域３４のカラーフィルタ層３２の厚さを薄くし、表示領域３３のカラーフィルタ層３２の厚さと非表示領域３４のベタ状の遮光膜ＢＭｎ及びカラーフィルタ層３２の合計厚さとが同じになるようにした液晶表示パネルが開示されている。しかしながら、通常は表示領域３３のカラーフィルタ層３２及び非表示領域３４のカラーフィルタ層３２はそれぞれの色毎に同時に作製されるため、非表示領域３４のカラーフィルタ層３２の厚さを表示領域３３のカラーフィルタ層３２の厚さよりも薄くするには別途特殊な製造工程が必要となる。そのため、液晶表示パネルの製造効率を上げるためには上記特許文献２に示されている発明の構成は採用し難いという問題がある。

本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。

［適用例１］本適用例に係る液晶表示パネルは、第１の基板及び第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板とがシール材を介して貼り合わされた隙間に封入された液晶と、複数の画素を有する表示領域と、前記表示領域の周囲に位置して、前記シール材が配置される非表示領域と、を有する液晶表示パネルであって、前記第２の基板は、前記複数の画素を区画する第１の遮光膜と、前記複数の画素に対応して設けられたカラーフィルタ層と、前記非表示領域に設けられた第２の遮光膜と、を備え、前記表示領域には、前記第１の遮光膜に対応する位置に第１の柱状スペーサが配置されており、前記非表示領域は、前記第２の遮光膜の表面に前記カラーフィルタ層が形成された内側領域と、前記内側領域よりも外側であって、前記シール材よりも内側に第２の柱状スペーサが配置された外側領域と、を有することを特徴とする。

この構成によれば、第２の基板の非表示領域は、ベタ状の第２の遮光膜の表面にカラーフィルタ層が形成された内側領域と、ベタ状の第２の遮光膜の表面に第２の柱状スペーサが配置された外側領域とを有する。つまり、非表示領域における内側領域には、カラーフィルタ層が形成されているが、柱状スペーサは形成されていない。逆に、外側領域には、第２の柱状スペーサが形成されているが、カラーフィルタ層は形成されていない。

一般的に、液晶表示パネルの第２の基板におけるカラーフィルタ層は、表示領域及び非表示領域共にそれぞれの色毎に同時に作製されているが、表示領域の第１の遮光膜は細かく区画されているのに対して非表示領域の第２の遮光膜はベタ状であるため、非表示領域のカラーフィルタ層の厚さは表示領域のカラーフィルタ層の厚さよりも厚くなってしまう。そのため、非表示領域のカラーフィルタ層に対応する位置に柱状スペーサを形成すると、この柱状スペーサの相対的高さ（カラーフィルタ基板の表面から柱状スペーサの上部までの高さ）は表示領域の第１の遮光膜に対応する位置に形成された第１の柱状スペーサの相対的高さよりも高くなってしまう。

本適用例の液晶表示パネルによれば、カラーフィルタ層が存在していない外側領域に第２の柱状スペーサが配置されているので、カラーフィルタ層に起因する柱状スペーサの高さの差を抑えることが可能となり、基板間のギャップを確保すると共に表示領域と非表示領域との境界付近で生じる表示ムラを防ぐことができる。したがって、カラーフィルタ層の層厚を調整するなど別途特殊な製造工程を有さずとも、表示領域のセルギャップが均一となるようにすることができ、表示ムラのない安定した均一な表示品質を達成し得る液晶表示パネルとなる。

［適用例２］上記適用例に係る液晶表示パネルにおいて、前記第１の遮光膜及び前記第２の遮光膜は、樹脂製であることが好ましい。

この構成によれば、一般的に使用されている樹脂製の遮光膜の厚さは例えば１〜２μｍ程度であり、クロム等の金属製の遮光膜の厚さは例えば０．１〜０．２μｍ程度である。そのため、非表示領域のカラーフィルタ層の厚さが表示領域のカラーフィルタ層の厚さよりも厚くなる現象は、樹脂製の遮光膜（第１の遮光膜、第２の遮光膜）の方が金属製の遮光膜の場合よりも大きく現れる。従って、係る態様の液晶表示パネルによれば、特に効果が顕著に表れる。

［適用例３］上記適用例に係る液晶表示パネルにおいて、前記カラーフィルタ層の表面、及び、前記カラーフィルタ層が重畳されない前記第２の遮光膜の表面に、オーバーコート層が形成されていることが好ましい。

この構成によれば、カラーフィルタ層及び樹脂製の遮光膜からは液晶内に不純物の溶出の可能性があるが、カラーフィルタ層の表面（カラーフィルタ層と第１の柱状スペーサとの間を含む）、カラーフィルタ層が重畳されない第２の遮光膜の表面（第２の遮光膜と第２の柱状スペーサとの間を含む）にオーバーコート層を形成したので、液晶内への不純物の溶出を防止して液晶の劣化を抑制することができる。加えて、オーバーコート層は例えば透明樹脂層から形成されるが、このオーバーコート層形成時に表面の凹凸が平坦化されるため、セルギャップがより均一化され、より均一な表示品質を達成し得る液晶表示パネルが得られる。

［適用例４］上記適用例に係る液晶表示パネルにおいて、前記第１の基板は、第１電極及び第２電極を有し、前記第１電極と前記第２電極との間に生じる横方向電界により前記液晶が駆動されることが好ましい。

この構成によれば、種々の方式の液晶表示パネルに対しても適用可能であるが、ＦＦＳモードないしＩＰＳモード等の横方向電界方式の液晶表示パネルの表示画質はセルギャップに対して敏感であるため、特に横方向電界方式の液晶表示パネルに適用すると効果が顕著に表れる。

［適用例５］本適用例に係る電子機器は、上記した液晶表示パネルを備えていることを特徴とする。

この構成によれば、表示ムラが少なく安定した表示品質を有する電子機器が得られる。

以下、本発明を実施するための最良の形態について、実施例及び図面を参照しながら詳細に説明する。ただし、以下に示す実施例は、本発明の技術思想を具体化するためにＦＦＳモード（横方向電界方式）の液晶表示パネルを例にとって説明するものであって、本発明をこの実施例に記載されたＦＦＳモードの液晶表示パネルに特定することを意図するものではなく、本発明は特許請求の範囲に含まれるその他の実施形態のものにも等しく適応し得るものである。なお、以下においては上述した従来例の液晶表示パネルのカラーフィルタ基板ＣＦｂと同一の構成部分には同一の参照符号を付与して説明することとする。

なお、図１は実施例のＦＦＳモードの液晶表示パネルのカラーフィルタ基板の模式平面図である。図２は図１のＡ部分のカラーフィルタ基板を透視して表した２画素分の概略平面図である。図３は図２のＣ−Ｃ線に沿った断面図である。図４は図２のＥ−Ｅ線に沿った断面図である。図５は図１のＦ−Ｆ線に沿った拡大断面図である。図６（ａ）は液晶表示パネルを搭載したパーソナルコンピュータを示す図であり、図６（ｂ）は液晶表示パネルを搭載した携帯電話機を示す図である。

実施例のＦＦＳモードの液晶表示パネル１０の構成を図３（図１〜図４）を主体に説明する。この実施例のＦＦＳモードの液晶表示パネル１０の第１の基板としてのアレイ基板ＡＲは、ガラス基板等の透明基板１１の表面に例えばＭｏ／Ａｌの２層配線からなる複数の走査線１２及び複数のコモン配線１３が互いに平行になるように形成されている（図２参照）。また、走査線１２及びコモン配線１３で囲まれたそれぞれの領域に例えばＩＴＯからなる第１電極としての下電極１４が形成されている。この下電極１４は、コモン配線１３とは電気的に接続されているが、走査線１２ないしゲート電極Ｇとは接続されておらず、共通電極として作用する。

また、この走査線１２、コモン配線１３及び下電極１４が形成された透明基板１１の表面全体に亘って窒化硅素層ないしは酸化硅素層からなるゲート絶縁膜１５が被覆されている。更に、このゲート絶縁膜１５の表面のＴＦＴ形成領域にはアモルファス・シリコン（以下「ａ−Ｓｉ」という。）層からなる半導体層１６が形成されている。この半導体層１６が形成されている位置の走査線１２の領域がＴＦＴのゲート電極Ｇを形成する（図２、図３参照）。

また、例えばＭｏ／Ａｌ／Ｍｏの３層構造の導電性層からなるソース電極Ｓを含む信号線１７及びドレイン電極Ｄが形成されている。この信号線１７のソース電極Ｓ部分及びドレイン電極Ｄ部分は、いずれも半導体層１６の表面に部分的に重なっている（図２、図３参照）。更に、透明基板１１の表面全体に窒化硅素層からなる保護絶縁膜１８が被覆されており、ドレイン電極Ｄに対応する位置の保護絶縁膜１８にコンタクトホール１９が形成されている。

そして、図２に示したパターンとなるように、走査線１２及び信号線１７で囲まれた領域の保護絶縁膜１８上にスリット２０を有する例えばＩＴＯからなる第２電極としての上電極２１が形成されている。この上電極２１はコンタクトホール１９を介してドレイン電極Ｄと電気的に接続されており、画素電極として作用する。更に、この表面全体に亘り所定の配向膜（図示せず）が形成されている。

一方、第２の基板としてのカラーフィルタ基板ＣＦａはガラス基板等の透明基板３１の表面に樹脂製の遮光膜ＢＭｄ（第１の遮光膜）、ＢＭｎ（第２の遮光膜）が形成されている。この遮光膜ＢＭｄ，ＢＭｎは、上述の従来例のカラーフィルタ基板ＣＦｂの場合と同様に、表示領域３３及び非表示領域３４で異なるパターンに形成されている（図１、図５参照）。すなわち、表示領域３３の遮光膜ＢＭｄはアレイ基板ＡＲの走査線１２及び信号線１７に対応する位置にマトリクス状に形成されており、非表示領域３４の遮光膜ＢＭｎは表示領域３３の遮光膜ＢＭｄの周囲を囲むようにベタ状に形成されている（図５参照）。なお、表示領域３３の遮光膜ＢＭｄと非表示領域３４の遮光膜ＢＭｎとは、例えば透明基板３１の表面に遮光性材料が混入されたフォトレジスト層を形成した後、露光後に現像処理することにより同時に形成されるため、同じ高さ（図５参照）に形成される。

なお、樹脂製の遮光膜ＢＭｄ，ＢＭｎは、本実施例のようなＦＦＳモードの液晶表示パネルや、ＩＰＳモードの液晶表示パネルのように、アレイ基板側に画素電極及び共通電極が形成されるタイプの液晶表示パネルにおいては特に好ましい。なぜならば、カラーフィルタ基板側に金属製の遮光膜を形成すると、この金属製の遮光膜とアレイ側基板との間で予期せぬ電界が発生してしまい、液晶分子に影響を与える恐れがあるが、樹脂製の遮光膜ＢＭｄ，ＢＭｎであればそのような恐れが生じないためである。

また、図５に示すように、表示領域３３の遮光膜ＢＭｄの間及び表面にはそれぞれの画素毎に所定の色、例えば赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルタ層３２が所定の厚さで形成されている。また、非表示領域３４は、表示領域３３側の内側領域３４ｉと、この内側領域３４ｉの外周側に位置する外側領域３４ｏとからなっている。非表示領域３４の内側領域３４ｉには、ベタ状の遮光膜ＢＭｎの表面に表示領域３３側に沿ってカラーフィルタ層３２が形成されている。

この非表示領域３４の内側領域３４ｉに形成されたカラーフィルタ層３２の厚さは、従来例について既に述べたのと同様の理由で、表示領域３３の遮光膜ＢＭｄ上に形成されたカラーフィルタ層３２の厚さよりも厚くなる。なお、非表示領域３４の外側領域３４ｏにはベタ状の遮光膜ＢＭｎの表面にカラーフィルタ層は形成されていない。また、非表示領域３４においてカラーフィルタ層３２が形成されている内側領域３４ｉは、図１に示したように、２画素分程度の領域、或いは３画素分程度の領域が好ましい。この領域があまり広く（例えば１０画素分程度の領域）まで広くなってしまうと、後述するようにこの内側領域３４ｉには柱状スペーサを形成しないため（図１参照）、この領域では対向する基板を支えることができず、基板に反りが生じる恐れがあるためである。

更に、表示領域３３のカラーフィルタ層３２の表面、非表示領域３４の内側領域３４ｉのカラーフィルタ層３２の表面及び外側領域３４ｏの遮光膜ＢＭｎの表面には透明な例えばアクリル樹脂等からなるオーバーコート層３５が形成されている。このオーバーコート層３５は、表面を平坦化するために形成されるが、平坦化のためだけにあまりに厚く形成してしまうと、液晶表示パネルが黄色味をおびてしまうなどの問題があり、実用的な範囲で形成すると図のように表面が完全な平坦とまではいかず、一般的には下層の凹凸に沿った形状となる。

なお、このオーバーコート層３５は本実施例のようにＦＦＳモードの液晶表示パネルや、ＩＰＳモードの液晶表示パネルのように、アレイ基板側に画素電極及び共通電極が形成されるタイプの液晶表示パネルであって、樹脂製の遮光膜を用いる場合には特に好ましい。なぜならば、オーバーコート層がないと樹脂製の遮光膜から液晶５１内に不純物が溶出する恐れがある。しかしながらカラーフィルタ基板側に共通電極が形成されるタイプの液晶表示パネル（ＴＮモード、ＶＡモード等）であれば不純物の溶出を共通電極を形成することによって防ぐことができるが、本実施例のようなカラーフィルタ基板側に共通電極を形成しないタイプの液晶表示パネルの場合であれば、オーバーコート層によって不純物の溶出を防ぐことが可能となる。

そして、このカラーフィルタ基板ＣＦａの表示領域３３の遮光膜ＢＭｄに対応する位置には、適宜のサブ画素毎に、所定の高さの第１の柱状スペーサとしての柱状スペーサ３８が形成（配置）されている。また、非表示領域３４の外側領域３４ｏの遮光膜ＢＭｎに対応する位置のオーバーコート層３５上には、シール材５０の位置よりも内側（内側領域３４ｉ側）において、適宜間隔で所定の高さの第２の柱状スペーサとしての柱状スペーサ３８が形成（配置）されている（図１、図５参照）。

このようにして得られたカラーフィルタ基板ＣＦａ及びアレイ基板ＡＲをそれぞれ対向させ、両基板ＣＦａ，ＡＲの周囲をシール材５０によってシールすると共に、両基板ＣＦａ及びＡＲに液晶５１を封入することにより実施例のＦＦＳモードの液晶表示パネル１０が得られる。なお、シール材５０は、カラーフィルタ基板ＣＦａ、アレイ基板ＡＲのどちらに塗布されても構わない。

このように、非表示領域３４の内側領域３４ｉには柱状スペーサ３８が形成されておらず、外側領域３４ｏに柱状スペーサ３８を形成している。そして、表示領域３３のセルギャップに大きな影響を与える非表示領域３４の内側領域３４ｉには柱状スペーサが形成されていないため、表示領域３３のセルギャップに影響を与えることはなく、非表示領域３４の外側領域３４ｏの柱状スペーサ３８は表示領域３３のセルギャップにほとんど影響を与えることなく、両基板間を支持することができる。

また、外側領域３４ｏの柱状スペーサ３８は、カラーフィルタ層３２が下層に形成されていないため、表示領域３３の柱状スペーサ３８に比べ、透明基板３１の表面からの高さが低くなる。つまり、表示領域３３における柱状スペーサ３８の高さが、透明基板３１の表面から一番高くなっている。従って、カラーフィルタ基板ＣＦａとアレイ基板ＡＲとのセルギャップを実質的に規定するのは、この表示領域３３の柱状スペーサ３８となり、表示領域３３におけるセルギャップが非常に安定したものとなる。そして、液晶表示パネル１０の外部から外力が働き、表示領域３３におけるセルギャップが狭くなったとしても、外側領域３４ｏの柱状スペーサ３８がギャップを確保するための補助的な役割を果たすことにもなる。

したがって、この実施例のＦＦＳモードの液晶表示パネル１０によれば、表示領域３３のセルギャップを均一とすることができ、表示ムラのない安定した均一な表示品質を達成し得るＦＦＳモードの液晶表示パネル１０となる。

なお、実施形態は上記に限定されず、以下のような形態で実施することもできる。

（変形例１）
実施例の液晶表示パネル１０は、樹脂製の遮光膜ＢＭｄ，ＢＭｎを使用した例を示したが、これに限らず、クロム等からなる金属製の遮光膜を使用することもできる。一般的に使用されている樹脂製の遮光膜の厚さは１〜２μｍ程度であり、クロム等の金属製の遮光膜の厚さは０．１〜０．２μｍ程度である。そのため、クロム等の金属製の遮光膜を用いると、非表示領域３４の内側領域３４ｉに形成されたカラーフィルタ層３２の厚さが表示領域３３のカラーフィルタ層３２の厚さよりも厚くなる現象は、樹脂製の遮光膜を用いた場合よりは低くなる。しかしながら、非表示領域３４の内側領域３４ｉには柱状スペーサが形成されていないため、表示領域３３に与える影響は低減される。

（変形例２）
上記したように、カラーフィルタ基板ＣＦａの表示領域３３と非表示領域３４に柱状スペーサ３８を配置することに限定されず、例えば、アレイ基板ＡＲとカラーフィルタ基板ＣＦａとを貼り合わせたときに同じ位置に柱状スペーサ３８が配置されればよく、アレイ基板ＡＲの表示領域３３と非表示領域３４に柱状スペーサ３８を配置するようにしてもよい。

以上、実施例及び変形例としてＦＦＳモードの液晶表示パネル１０を説明したが、他の形式の液晶表示パネルに対しても等しく適用可能である。また、この液晶表示パネル１０は、パーソナルコンピュータ、携帯電話機、携帯情報端末などの周知の種々の電子機器において表示用として使用することができる。このうち、液晶表示パネルをパーソナルコンピュータ及び携帯電話機に使用した例を図６に示す。

なお、図６（ａ）は液晶表示パネル１０を搭載した表示部４１を有するパーソナルコンピュータ４０を示す図であり、図６（ｂ）は液晶表示パネル１０を搭載した表示部４６を有する携帯電話機４５を示す図である。これらのパーソナルコンピュータ４０及び携帯電話機４５の基本的構成は当業者に周知であるので、詳細な説明は省略する。

実施例のＦＦＳモードの液晶表示パネルのカラーフィルタ基板の模式平面図。 図１のＡ部分のカラーフィルタ基板を透視して表した２画素分の概略平面図。 図２のＣ−Ｃ線に沿った断面図。 図２のＥ−Ｅ線に沿った断面図。 図１のＦ−Ｆ線に沿った拡大断面図。 （ａ）は液晶表示パネルを搭載したパーソナルコンピュータを示す図であり、（ｂ）は液晶表示パネルを搭載した携帯電話機を示す図。 従来例のカラーフィルタ基板の構成を表す概略断面図。

符号の説明

１０…液晶表示パネル、１１…透明基板、１２…走査線、１３…コモン配線、１４…第１電極としての下電極、１５…ゲート絶縁膜、１６…半導体層、１７…信号線、１８…保護絶縁膜、１９…コンタクトホール、２０…スリット、２１…第２電極としての上電極、３１…透明基板、３２…カラーフィルタ層、３３…表示領域、３４…非表示領域、３４ｉ…内側領域、３４ｏ…外側領域、３５…オーバーコート層、３８…第１の柱状スペーサ又は第２の柱状スペーサとしての柱状スペーサ、５０…シール材、５１…液晶、ＣＦａ，ＣＦｂ…カラーフィルタ基板、ＢＭｄ…（表示領域の第１の遮光膜）遮光膜、ＢＭｎ…（非表示領域の第２の遮光膜）遮光膜。

Claims (5)

1. 第１の基板及び第２の基板と、
   前記第１の基板と前記第２の基板とがシール材を介して貼り合わされた隙間に封入された液晶と、
   複数の画素を有する表示領域と、
   前記表示領域の周囲に位置して、前記シール材が配置される非表示領域と、を有する液晶表示パネルであって、
   前記第２の基板は、前記複数の画素を区画する第１の遮光膜と、前記複数の画素に対応して設けられたカラーフィルタ層と、前記非表示領域に設けられた第２の遮光膜と、を備え、
   前記表示領域には、前記第１の遮光膜に対応する位置に第１の柱状スペーサが配置されており、
   前記非表示領域は、前記第２の遮光膜の表面に前記カラーフィルタ層が形成された内側領域と、前記内側領域よりも外側であって、前記シール材よりも内側に第２の柱状スペーサが配置された外側領域と、を有することを特徴とする液晶表示パネル。
2. 前記第１の遮光膜及び前記第２の遮光膜は、樹脂製であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。
3. 前記カラーフィルタ層の表面、及び、前記カラーフィルタ層が重畳されない前記第２の遮光膜の表面に、オーバーコート層が形成されていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の液晶表示パネル。
4. 前記第１の基板は、第１電極及び第２電極を有し、前記第１電極と前記第２電極との間に生じる横方向電界により前記液晶が駆動されることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の液晶表示パネル。
5. 請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の液晶表示パネルを備えたことを特徴とする電子機器。

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