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JP2009042030A - Test method and test apparatus for semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Test method and test apparatus for semiconductor integrated circuit device Download PDF

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JP2009042030A
JP2009042030A JP2007206491A JP2007206491A JP2009042030A JP 2009042030 A JP2009042030 A JP 2009042030A JP 2007206491 A JP2007206491 A JP 2007206491A JP 2007206491 A JP2007206491 A JP 2007206491A JP 2009042030 A JP2009042030 A JP 2009042030A
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Japan
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voltage
pad
standard voltage
gnd
semiconductor integrated
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JP2007206491A
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Japanese (ja)
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Nobuyuki Yanagihara
信之 柳原
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Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Abstract

【課題】電源パッド、GNDパッド及び出力パッドを備え、出力パッドから所定の定電圧を出力する機能を備えた半導体集積回路装置に対して、半導体集積回路装置が内部電圧を正確に伝える回路を備えていなくても、被試験半導体集積回路装置を高精度に試験する。
【解決手段】ICチップ7の電源パッド13に電圧を供給するための電源ユニット11及び電源パッド用端子13と、ICチップ7のGNDパッド3をGND15に接続するためのGNDパッド用端子17と、ICチップ7の出力パッド5に接触される出力パッド用端子19と、出力パッド用端子19の電圧と規格電圧を比較するための比較器21a,21bと、規格電圧を生成するための規格電圧生成回路23a,23bを備えている。規格電圧生成回路23a,23bはGNDパッド3の電圧を基準として規格電圧を生成する。
【選択図】図1
A semiconductor integrated circuit device including a power supply pad, a GND pad, and an output pad and having a function of outputting a predetermined constant voltage from the output pad is provided with a circuit for accurately transmitting the internal voltage from the semiconductor integrated circuit device. Even if not, the semiconductor integrated circuit device under test is tested with high accuracy.
A power supply unit 11 and a power pad terminal 13 for supplying a voltage to a power pad 13 of an IC chip 7, a GND pad terminal 17 for connecting a GND pad 3 of the IC chip 7 to a GND 15, The output pad terminal 19 that is in contact with the output pad 5 of the IC chip 7, the comparators 21a and 21b for comparing the voltage of the output pad terminal 19 and the standard voltage, and the standard voltage generation for generating the standard voltage Circuits 23a and 23b are provided. The standard voltage generation circuits 23 a and 23 b generate standard voltages with reference to the voltage of the GND pad 3.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は半導体装置及びその製造方法に関し、特に抵抗素子を含む半導体装置及びその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a semiconductor device and a manufacturing method thereof, and more particularly to a semiconductor device including a resistance element and a manufacturing method thereof.

近年、ボルテージレギュレーター(以下VRと略す)を搭載した半導体集積回路装置は高精度化しており、最近では10mV(ミリボルト)以下の精度を要求される製品も珍しくは無い。
例えば、VRをウエハー状態で試験する際には、通常プローブカードと呼ばれるコンタクト治具を使用する。プローブカードに設けられたコンタクトプローブを被試験VRチップのパッドに接触することで試験装置と被試験VRチップを接続し、試験装置から被試験VRチップに電気信号を送って試験を行なう。
In recent years, semiconductor integrated circuit devices equipped with a voltage regulator (hereinafter abbreviated as VR) have become highly accurate, and recently, products that require an accuracy of 10 mV (millivolt) or less are not uncommon.
For example, when a VR is tested in a wafer state, a contact jig usually called a probe card is used. The test device and the VR chip to be tested are connected by contacting a contact probe provided on the probe card to the pad of the VR chip to be tested, and an electrical signal is sent from the test apparatus to the VR chip to be tested.

また、最近の半導体集積回路では機能が複合化しており、複数のVRが同一チップに搭載されたり、VR以外の機能が同一チップ上に形成されたりしている製品も増加している。半導体集積回路では内部動作により消費電流が発生するが、同一チップ上に形成されている機能が多くなると一般に消費電流は増加する傾向にある。   In recent semiconductor integrated circuits, functions are compounded, and products in which a plurality of VRs are mounted on the same chip or functions other than VR are formed on the same chip are increasing. In a semiconductor integrated circuit, current consumption is generated by an internal operation. However, as the number of functions formed on the same chip increases, the current consumption generally tends to increase.

被試験VRチップのGNDパッドはコンタクトプローブを介して試験装置のGNDと接続されるが、被試験VRチップのパッド表面とコンタクトプローブの間には接触抵抗が生じるため、GNDに流れる電流により電圧降下が生じ、試験装置のGND電圧(0V)に対して、被試験VRチップ内部のGND電圧は0Vよりも高い値となってしまう。   The GND pad of the VR chip to be tested is connected to the GND of the test apparatus via the contact probe. However, since a contact resistance is generated between the pad surface of the VR chip to be tested and the contact probe, a voltage drop is caused by the current flowing through the GND. As a result, the GND voltage inside the VR chip under test becomes a value higher than 0 V with respect to the GND voltage (0 V) of the test apparatus.

通常の試験ではテスターと呼ばれる試験装置を用いて被試験半導体集積回路装置に電圧を印加する。この時の電圧は全て試験装置のGND電圧(0V)を基準としているため、被試験VRチップ内部のGND電圧とで電位差が生じ、これにより測定精度が低下する問題があった。   In a normal test, a voltage is applied to the semiconductor integrated circuit device under test using a test device called a tester. Since all the voltages at this time are based on the GND voltage (0 V) of the test apparatus, a potential difference occurs with the GND voltage inside the VR chip to be tested, thereby causing a problem that measurement accuracy is lowered.

また、パッケージに封止された後に行なわれるユニット試験(ファイナル試験とも呼ばれる)においても同様に、被試験VRチップと試験装置との電気信号を接続するために必要なICソケットにおいて被試験VRチップの端子とICソケットの端子の接続箇所で接触抵抗が生じるので、試験装置のGND電圧と被試験VRチップ内部のGND電圧とで電位差が生じ、測定精度が低下する問題があった。   Similarly, in a unit test (also called a final test) performed after being sealed in a package, the VR chip to be tested is connected to an IC socket necessary for connecting an electrical signal between the VR chip to be tested and the test apparatus. Since contact resistance is generated at the connection point between the terminal and the terminal of the IC socket, there is a problem that a potential difference is generated between the GND voltage of the test apparatus and the GND voltage inside the VR chip to be tested, resulting in a decrease in measurement accuracy.

上記接触抵抗はコンタクトの状態で変わるため、コンタクトをするたびに同一の被試験VRチップであっても接触抵抗は変わり、被試験VRチップのGND電圧を推測することは困難であった。なお、実際にVRが製品に搭載されて使用される際には、接触抵抗発生の原因であるプローブカードやICソケットは不要になるので、この接触抵抗は試験上だけの問題である。   Since the contact resistance changes depending on the contact state, the contact resistance changes even if the VR chip under test is the same every time contact is made, and it is difficult to estimate the GND voltage of the VR chip under test. Note that when the VR is actually mounted on a product and used, the probe card and IC socket that cause the contact resistance are not necessary, so this contact resistance is a problem only in the test.

試験装置のGND電圧と被試験VRチップ内部のGND電圧との電位差による不具合を解消する従来技術として、チップ内部の電圧を外部から正確に読み取るためにチップ内部に設けた特殊回路により電圧を正確に伝える駆動回路を備えた半導体集積回路装置がある(例えば特許文献1を参照。)。   As a conventional technology that solves the problems caused by the potential difference between the GND voltage of the test equipment and the GND voltage inside the VR chip under test, the voltage is accurately measured by a special circuit provided inside the chip to accurately read the voltage inside the chip from the outside. There is a semiconductor integrated circuit device including a driving circuit for transmitting (see, for example, Patent Document 1).

特開平11−66890号公報JP 11-66890 A

ボルテージレギュレーターなどの電圧生成回路を備えた半導体集積回路装置を試験する際、被試験半導体集積回路装置のGNDパッドにおける接触抵抗により、試験装置のGND電圧と被試験半導体集積回路装置内部のGND電圧とで電位差が生じ、測定精度が低下する問題があった。これにより、良品の歩留まりを下げるということが問題となっている。
また、特許文献1に開示された半導体集積回路装置のように、内部電圧を正確に伝える回路を備えていると、チップ面積の増大を招き、半導体集積回路装置の製造コストが上昇するなどの問題があった。
When testing a semiconductor integrated circuit device having a voltage generation circuit such as a voltage regulator, the GND voltage of the test device and the GND voltage inside the semiconductor integrated circuit device under test are determined by the contact resistance at the GND pad of the semiconductor integrated circuit device to be tested. Therefore, there is a problem that a potential difference occurs and the measurement accuracy decreases. As a result, there is a problem of reducing the yield of non-defective products.
In addition, when a circuit that accurately transmits the internal voltage is provided as in the semiconductor integrated circuit device disclosed in Patent Document 1, there is a problem in that the chip area increases and the manufacturing cost of the semiconductor integrated circuit device increases. was there.

本発明は、電源パッド、GNDパッド及び出力パッドを備え、出力パッドから所定の定電圧を出力する機能を備えた半導体集積回路装置に対して、半導体集積回路装置が内部電圧を正確に伝える回路を備えていなくても、被試験半導体集積回路装置を高精度に試験することができる試験方法及び試験装置を提供することを目的とするものである。   The present invention provides a circuit that includes a power supply pad, a GND pad, and an output pad, and the semiconductor integrated circuit device accurately transmits an internal voltage to a semiconductor integrated circuit device having a function of outputting a predetermined constant voltage from the output pad. An object of the present invention is to provide a test method and a test apparatus that can test a semiconductor integrated circuit device under test with high accuracy even if it is not provided.

本発明にかかる半導体集積回路装置の試験方法は、電源パッド、GNDパッド及び出力パッドを備え、出力パッドから所定の定電圧を出力する機能を備えた半導体集積回路装置の試験方法であって、被試験半導体集積回路装置の電源パッドに電圧を供給し、GNDパッドをGNDに接続して被試験半導体集積回路装置が駆動している状態で出力パッドから出力される電圧を規格電圧と比較する比較器と、上記規格電圧を生成するための規格電圧生成回路を用い、上記規格電圧生成回路で上記GNDパッドの電圧を基準として上記規格電圧を生成させ、上記比較器の出力に基づいて被試験半導体集積回路装置の合否を判定する。   A test method for a semiconductor integrated circuit device according to the present invention is a test method for a semiconductor integrated circuit device comprising a power supply pad, a GND pad, and an output pad, and having a function of outputting a predetermined constant voltage from the output pad. A comparator that supplies a voltage to the power supply pad of the test semiconductor integrated circuit device, and compares the voltage output from the output pad with the standard voltage while the GND pad is connected to the GND and the semiconductor integrated circuit device is driven. And a standard voltage generation circuit for generating the standard voltage, the standard voltage generation circuit generates the standard voltage with reference to the GND pad voltage, and the semiconductor integrated circuit under test based on the output of the comparator The pass / fail of the circuit device is determined.

本発明の試験方法において、被試験半導体集積回路装置は上記GNDパッドと同電圧であって上記GNDパッドの電圧を検出することを目的として設けられた第2GNDパッドを備えているものであり、上記規格電圧生成回路で上記第2GNDパッドの電圧を基準として上記規格電圧を生成させる例を挙げることができる。   In the test method of the present invention, the semiconductor integrated circuit device under test includes a second GND pad that has the same voltage as the GND pad and is provided for the purpose of detecting the voltage of the GND pad. An example in which the standard voltage is generated by the standard voltage generation circuit based on the voltage of the second GND pad can be given.

また、上記規格電圧生成回路としてDA変換回路を用い、上記DA変換回路に上記規格電圧を生成させるための電圧規格コードを記憶装置に予め記録しておくようにしてもよい。   Further, a DA conversion circuit may be used as the standard voltage generation circuit, and a voltage standard code for causing the DA conversion circuit to generate the standard voltage may be recorded in a storage device in advance.

また、上記比較器としてHigh側比較器とLow側比較器を用い、上記規格電圧生成回路として上記High側比較器にHigh側規格電圧を供給するためのHigh側規格電圧生成回路と上記Low側比較器にLow側規格電圧を供給するためのLow側規格電圧生成回路を用い、上記High側比較器とLow側比較器の出力に基づいて被試験半導体集積回路装置の合否を判定するようにしてもよい。   Further, a High-side comparator and a Low-side comparator are used as the comparator, and a High-side standard voltage generation circuit for supplying a High-side standard voltage to the High-side comparator as the standard voltage generation circuit and the Low-side comparison. A low-side standard voltage generation circuit for supplying a low-side standard voltage to the comparator, and the pass / fail of the semiconductor integrated circuit device under test is determined based on the outputs of the high-side comparator and the low-side comparator. Good.

本発明にかかる半導体集積回路装置の試験装置は、電源パッド、GNDパッド及び出力パッドを備え、出力パッドから所定の定電圧を出力する機能を備えた半導体集積回路装置の試験を行なうための試験装置であって、被試験半導体集積回路装置の電源パッドに電圧を供給するための電源ユニット及び電源パッド用端子と、被試験半導体集積回路装置のGNDパッドをGNDに接続するためのGNDパッド用端子と、被試験半導体集積回路装置の出力パッドに接触される出力パッド用端子と、上記出力パッド用端子の電圧と規格電圧を比較するための比較器と、上記規格電圧を生成するための規格電圧生成回路を備え、上記規格電圧生成回路は上記GNDパッドの電圧を基準として上記規格電圧を生成する。   A test apparatus for a semiconductor integrated circuit device according to the present invention includes a power supply pad, a GND pad, and an output pad, and a test apparatus for testing a semiconductor integrated circuit device having a function of outputting a predetermined constant voltage from the output pad. A power supply unit and a power supply pad terminal for supplying a voltage to a power supply pad of the semiconductor integrated circuit device under test; a GND pad terminal for connecting the GND pad of the semiconductor integrated circuit device under test to the GND; An output pad terminal in contact with the output pad of the semiconductor integrated circuit device under test; a comparator for comparing the voltage of the output pad terminal with a standard voltage; and a standard voltage generation for generating the standard voltage The standard voltage generation circuit generates the standard voltage with reference to the voltage of the GND pad.

本発明の試験装置において、被試験半導体集積回路装置として上記GNDパッドと同電圧であって上記GNDパッドの電圧を検出することを目的として設けられた第2GNDパッドを備えているものを用い、上記第2GNDパッドに接触される第2GNDパッド用端子をさらに備え、上記規格電圧生成回路は上記第2GNDパッドの電圧を基準として上記規格電圧を生成する例を挙げることができる。   In the test apparatus according to the present invention, a semiconductor integrated circuit device to be tested is one having the same voltage as the GND pad and having a second GND pad provided for the purpose of detecting the voltage of the GND pad. A second GND pad terminal that is in contact with the second GND pad may be further provided, and the standard voltage generation circuit may generate the standard voltage based on the voltage of the second GND pad.

また、上記規格電圧生成回路としてDA変換回路を備え、上記DA変換回路に上記規格電圧を生成させるための電圧規格コードを予め記録しておくための記憶装置をさらに備えているようにしてもよい。   Further, a DA conversion circuit may be provided as the standard voltage generation circuit, and a storage device for previously recording a voltage standard code for causing the DA conversion circuit to generate the standard voltage may be further provided. .

また、上記比較器としてHigh側比較器とLow側比較器を備え、上記規格電圧生成回路として上記High側比較器にHigh側規格電圧を供給するためのHigh側規格電圧生成回路と上記Low側比較器にLow側規格電圧を供給するためのLow側規格電圧生成回路を備え、上記High側比較器とLow側比較器の出力に基づいて被試験半導体集積回路装置の合否を判定する総合判定回路をさらに備えているようにしてもよい。   The comparator includes a high-side comparator and a low-side comparator, and the high-side standard voltage generation circuit for supplying the high-side standard voltage to the high-side comparator as the standard voltage generation circuit and the low-side comparison. A low-side standard voltage generation circuit for supplying a low-side standard voltage to the comparator, and a comprehensive judgment circuit for judging pass / fail of the semiconductor integrated circuit device under test based on the outputs of the high-side comparator and the low-side comparator Further, it may be provided.

本発明の半導体集積回路装置の試験方法では、出力パッドから出力される電圧を規格電圧と比較する比較器に規格電圧を供給するための規格電圧生成回路で、被試験半導体集積回路装置のGNDパッドの電圧を基準として規格電圧を生成するようにした。
また、本発明の半導体集積回路装置の試験装置では、被試験半導体集積回路装置の電源パッドに電圧を供給するための電源ユニット及び電源パッド用端子と、被試験半導体集積回路装置のGNDパッドをGNDに接続するためのGNDパッド用端子と、被試験半導体集積回路装置の出力パッドに接触される出力パッド用端子と、出力パッド用端子の電圧と規格電圧を比較するための比較器と、規格電圧を生成するための規格電圧生成回路を備え、規格電圧生成回路はGNDパッドの電圧を基準として規格電圧を生成するようにした。
本発明の試験方法及び試験装置では、被試験半導体集積回路装置のGNDパッドにおける接触抵抗に起因して被試験半導体集積回路装置内部のGND電圧が上昇しても、その上昇分だけ規格電圧生成回路で規格電圧を上昇させて生成することができるので、半導体集積回路装置が内部電圧を正確に伝える回路を備えていなくても、被試験半導体集積回路装置を高精度に試験することができる。
さらに、従来の試験方法及び試験装置では、試験時において、半導体集積回路装置の出力パッドから出力される電圧を測定する電圧測定ユニットが必要であったが、本発明の試験方法及び試験装置では比較器の出力に基づいて被試験半導体集積回路装置の合否を判定することができるので、電圧測定ユニットを設ける必要がなくなる。
According to the test method of a semiconductor integrated circuit device of the present invention, a standard voltage generation circuit for supplying a standard voltage to a comparator that compares a voltage output from an output pad with a standard voltage, and the GND pad of the semiconductor integrated circuit device under test The standard voltage is generated based on the voltage of.
In the test apparatus for a semiconductor integrated circuit device of the present invention, the power supply unit for supplying a voltage to the power supply pad of the semiconductor integrated circuit device under test and the terminal for the power supply pad, and the GND pad of the semiconductor integrated circuit device under test are connected to the GND. A GND pad terminal for connection to the output pad, an output pad terminal in contact with the output pad of the semiconductor integrated circuit device under test, a comparator for comparing the voltage of the output pad terminal with the standard voltage, and the standard voltage The standard voltage generation circuit is configured to generate the standard voltage with reference to the voltage of the GND pad.
In the test method and test apparatus according to the present invention, even if the GND voltage inside the semiconductor integrated circuit device under test rises due to the contact resistance at the GND pad of the semiconductor integrated circuit device under test, the standard voltage generating circuit is increased by that amount. Therefore, even if the semiconductor integrated circuit device does not have a circuit that accurately transmits the internal voltage, the semiconductor integrated circuit device under test can be tested with high accuracy.
Furthermore, the conventional test method and test apparatus require a voltage measurement unit for measuring the voltage output from the output pad of the semiconductor integrated circuit device during the test, but the test method and test apparatus of the present invention are compared. Since the pass / fail of the semiconductor integrated circuit device under test can be determined based on the output of the device, it is not necessary to provide a voltage measuring unit.

本発明の試験方法において、被試験半導体集積回路装置はGNDパッドと同電圧であってGNDパッドの電圧を検出することを目的として設けられた第2GNDパッドを備えているものであり、規格電圧生成回路で第2GNDパッドの電圧を基準として規格電圧を生成させるようにしてもよい。
本発明の試験装置において、被試験半導体集積回路装置としてGNDパッドと同電圧であってGNDパッドの電圧を検出することを目的として設けられた第2GNDパッドを備えているものを用い、第2GNDパッドに接触される第2GNDパッド用端子をさらに備え、規格電圧生成回路は第2GNDパッドの電圧を基準として規格電圧を生成するようにしてもよい。
第2GNDパッドは試験装置のGNDには接続されないので、第2GNDパッドには電流は流れず、電圧効果は発生しない。この結果、第2GNDパッドで発生する接触抵抗は無視して、被試験半導体集積回路装置のGNDレベルに基づいて規格電圧を生成することができる。
なお、GNDパッドの電圧を基準として規格電圧を生成する場合であっても、GNDパッド−規格電圧生成回路間では電流は流れない。また、GNDパッドの電圧を規格電圧生成回路に供給する方法は、GNDパッド用端子とは別に規格電圧生成回路用端子を設けてGNDパッド用端子と規格電圧生成回路用端子をGNDパッドに接触させてもよい。
In the test method of the present invention, the semiconductor integrated circuit device under test includes a second GND pad that is provided for the purpose of detecting the voltage of the GND pad, which is the same voltage as the GND pad, and generates a standard voltage. The standard voltage may be generated by the circuit with reference to the voltage of the second GND pad.
In the test apparatus of the present invention, a semiconductor integrated circuit device under test having the same voltage as that of the GND pad and having the second GND pad provided for the purpose of detecting the voltage of the GND pad is used. The standard voltage generation circuit may further generate a standard voltage with reference to the voltage of the second GND pad.
Since the second GND pad is not connected to the GND of the test apparatus, no current flows through the second GND pad and no voltage effect occurs. As a result, it is possible to generate a standard voltage based on the GND level of the semiconductor integrated circuit device under test, ignoring the contact resistance generated at the second GND pad.
Even when the standard voltage is generated with reference to the voltage of the GND pad, no current flows between the GND pad and the standard voltage generation circuit. In addition, the method of supplying the GND pad voltage to the standard voltage generation circuit is to provide a standard voltage generation circuit terminal separately from the GND pad terminal, and bring the GND pad terminal and the standard voltage generation circuit terminal into contact with the GND pad. May be.

本発明の試験方法において、規格電圧生成回路としてDA変換回路を用い、DA変換回路に規格電圧を生成させるための電圧規格コードを記憶装置に予め記録しておくようにしてもよい。
本発明の試験装置において、規格電圧生成回路としてDA変換回路を備え、DA変換回路に規格電圧を生成させるための電圧規格コードを予め記録しておくための記憶装置をさらに備えているようにしてもよい。
これにより、規格電圧生成回路としてのDA変換回路から比較器に供給する規格電圧を容易に変更することが可能になる。
In the test method of the present invention, a DA conversion circuit may be used as the standard voltage generation circuit, and a voltage standard code for causing the DA conversion circuit to generate a standard voltage may be recorded in the storage device in advance.
The test apparatus of the present invention includes a DA conversion circuit as a standard voltage generation circuit, and further includes a storage device for recording in advance a voltage standard code for causing the DA conversion circuit to generate a standard voltage. Also good.
This makes it possible to easily change the standard voltage supplied to the comparator from the DA converter circuit as the standard voltage generation circuit.

本発明の試験方法において、比較器としてHigh側比較器とLow側比較器を用い、規格電圧生成回路としてHigh側比較器にHigh側規格電圧を供給するためのHigh側規格電圧生成回路とLow側比較器にLow側規格電圧を供給するためのLow側規格電圧生成回路を用い、High側比較器とLow側比較器の出力に基づいて被試験半導体集積回路装置の合否を判定するようにしてもよい。
本発明の試験装置において、比較器としてHigh側比較器とLow側比較器を備え、規格電圧生成回路としてHigh側比較器にHigh側規格電圧を供給するためのHigh側規格電圧生成回路とLow側比較器にLow側規格電圧を供給するためのLow側規格電圧生成回路を備え、High側比較器とLow側比較器の出力に基づいて被試験半導体集積回路装置の合否を判定する総合判定回路をさらに備えているようにしてもよい。
これにより、被試験半導体集積回路装置の合否の判定が容易になる。
In the test method of the present invention, a high-side comparator and a low-side comparator are used as comparators, and a high-side standard voltage generator for supplying a high-side standard voltage to a high-side comparator as a standard voltage generator and a low-side A low-side standard voltage generation circuit for supplying a low-side standard voltage to the comparator may be used, and pass / fail of the semiconductor integrated circuit device under test may be determined based on the outputs of the high-side comparator and the low-side comparator. Good.
In the test apparatus according to the present invention, a high side comparator and a low side comparator are provided as comparators, and a high side standard voltage generation circuit and a low side for supplying a high side standard voltage to the high side comparator as a standard voltage generation circuit. A general determination circuit that includes a low-side standard voltage generation circuit for supplying a low-side standard voltage to the comparator, and determines pass / fail of the semiconductor integrated circuit device under test based on the outputs of the high-side comparator and the low-side comparator. Further, it may be provided.
This facilitates the determination of the pass / fail of the semiconductor integrated circuit device under test.

図1は試験装置の一実施例を示す回路図である。図1を参照しながら試験装置の一実施例を説明する。
この試験装置は、電源パッド1、GNDパッド3及び出力パッド5を備え、出力パッド5から所定の定電圧を出力する機能を備えたICチップ7の試験を行なうための試験装置である。ICチップ7は、GNDパッド3と同電圧であってGNDパッド3の電圧を検出することを目的として設けられた第2GNDパッド9も備えている。
FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of a test apparatus. An embodiment of the test apparatus will be described with reference to FIG.
This test apparatus is a test apparatus for testing an IC chip 7 that includes a power supply pad 1, a GND pad 3, and an output pad 5 and has a function of outputting a predetermined constant voltage from the output pad 5. The IC chip 7 also includes a second GND pad 9 that is provided for the purpose of detecting the voltage of the GND pad 3 that is the same voltage as the GND pad 3.

試験装置は、ICチップ7の電源パッド1に電圧を供給するための電源ユニット11及び電源パッド用端子13と、ICチップ7のGNDパッド3をGND15に接続するためのGNDパッド用端子17と、ICチップ7の出力パッド5に接触される出力パッド用端子19と、出力パッド用端子19の電圧(Vout)とHigh側規格電圧又はLow側規格電圧を比較するための比較器21a,21bと、High側規格電圧又はLow側規格電圧を生成するためのDAコンバータ(規格電圧生成回路)23a,23bを備えている。   The test apparatus includes a power supply unit 11 and a power supply pad terminal 13 for supplying a voltage to the power supply pad 1 of the IC chip 7, a GND pad terminal 17 for connecting the GND pad 3 of the IC chip 7 to the GND 15, An output pad terminal 19 that is in contact with the output pad 5 of the IC chip 7; comparators 21a and 21b for comparing the voltage (Vout) of the output pad terminal 19 with a high-side standard voltage or a low-side standard voltage; DA converters (standard voltage generation circuits) 23a and 23b for generating a high-side standard voltage or a low-side standard voltage are provided.

High側規格電圧DAコンバータ23aの出力はHigh側比較器21aの例えば非反転入力端子(+)に接続され、Low側規格電圧DAコンバータ23bの出力はLow側比較器21bの例えば反転入力端子(−)に接続されている。出力パッド用端子19はHigh側比較器21aの例えば反転入力端子(−)及びLow側比較器21bの例えば非反転入力端子(+)にそれぞれ接続されている。   The output of the high-side standard voltage DA converter 23a is connected to, for example, the non-inverting input terminal (+) of the high-side comparator 21a, and the output of the low-side standard voltage DA converter 23b is connected to, for example, the inverting input terminal (− )It is connected to the. The output pad terminal 19 is connected to, for example, the inverting input terminal (−) of the High side comparator 21a and, for example, the non-inverting input terminal (+) of the Low side comparator 21b.

また、High側規格電圧DAコンバータ23aに電源を供給するためのHigh側電圧生成回路25aとLow側規格電圧DAコンバータ23bに電源を供給するためのLow側電圧生成回路25bも備えている。
さらに、第2GNDパッド9と、DAコンバータ23a,23b及び電圧生成回路25a,25bのGNDを接続するための第2GNDパッド用端子27も備えている。
In addition, a high-side voltage generation circuit 25a for supplying power to the high-side standard voltage DA converter 23a and a low-side voltage generation circuit 25b for supplying power to the low-side standard voltage DA converter 23b are also provided.
Furthermore, the second GND pad 9 is also provided with a second GND pad terminal 27 for connecting the GND of the DA converters 23a and 23b and the voltage generation circuits 25a and 25b.

ICチップ7の試験時において、電源パッド1と電源パッド用端子13の間に接触抵抗29が生じ、GNDパッド3とGNDパッド用端子17の間に接触抵抗31が生じ、出力パッド5と出力パッド用端子19の間に接触抵抗(図示は省略)が生じ、第2GNDパッド9と第2GNDパッド用端子27の間に接触抵抗33が生じる。   During the test of the IC chip 7, a contact resistance 29 is generated between the power pad 1 and the power pad terminal 13, a contact resistance 31 is generated between the GND pad 3 and the GND pad terminal 17, and the output pad 5 and the output pad A contact resistance (not shown) is generated between the terminals 19, and a contact resistance 33 is generated between the second GND pad 9 and the second GND pad terminal 27.

試験装置は、比較器21a,21bの出力が入力されるAND回路35も備えている。AND回路35の出力は期待値判定部37に接続されている。
High側規格電圧DAコンバータ23aの出力であるHigh側規格電圧を決定するためのHigh側規格電圧値デジタルコードを記録するためのHigh側規格電圧メモリ39aと、Low側規格電圧DAコンバータ23bの出力であるLow側規格電圧を決定するためのLow側規格電圧値デジタルコードを記録するためのLow側規格電圧メモリ39bも備えている。規格電圧メモリ39a,39bは不揮発性メモリによって形成されている。High側規格電圧メモリ39aにはHigh側パターン生成部41aによって生成されたデジタルコードが記録されている。Low側規格電圧メモリ39bにはLow側パターン生成部41bによって生成されたデジタルコードが記録されている。
The test apparatus also includes an AND circuit 35 to which the outputs of the comparators 21a and 21b are input. The output of the AND circuit 35 is connected to the expected value determination unit 37.
The output of the high-side standard voltage memory 39a for recording the high-side standard voltage value digital code for determining the high-side standard voltage, which is the output of the high-side standard voltage DA converter 23a, and the output of the low-side standard voltage DA converter 23b. A Low-side standard voltage memory 39b for recording a Low-side standard voltage value digital code for determining a certain Low-side standard voltage is also provided. The standard voltage memories 39a and 39b are formed by nonvolatile memories. The high-side standard voltage memory 39a stores a digital code generated by the high-side pattern generation unit 41a. A digital code generated by the low-side pattern generation unit 41b is recorded in the low-side standard voltage memory 39b.

例えば、DAコンバータ23a,23bが12Bitのものであり、電圧生成回路25a,25bで生成するリファレンス電圧が3Vの場合、1Bitあたりは3.0/4096=0.73Vとなるので、規格電圧メモリ39a,39bの出力が556h(ヘキサ信号)のときにDAコンバータ23a,23bの出力は1Vとなる。また、規格電圧メモリ39a,39bの出力が800hであれば、DAコンバータ23a,23bの出力は1.5Vとなる。
図2にHigh側のテスターパターン生成の例を示す。図2ではHigh側規格電圧メモリ39aの図示は省略している。
For example, when the DA converters 23a and 23b are of 12 bits and the reference voltage generated by the voltage generation circuits 25a and 25b is 3V, 3.0 / 4096 = 0.73V per 1 bit, so the standard voltage memory 39a , 39b outputs 556h (hexa signal), the outputs of the DA converters 23a, 23b are 1V. If the output of the standard voltage memories 39a and 39b is 800h, the outputs of the DA converters 23a and 23b are 1.5V.
FIG. 2 shows an example of tester pattern generation on the High side. In FIG. 2, the high-side standard voltage memory 39a is not shown.

また、High側パターン生成部41aのチャンネル数が少ないときは、図3に示すように、シリアルパラレル変換器43aを用いることにより、1つのチャンネルで必要な12Bitのデジタルコードを生成することも可能である。チャンネル1から時系列に1,0,1,1,0,1,・・・と、12データをシリアルパラレル変換器43aに入力し、これをDAコンバータ23aのD0〜D11にアサインしてパラレル出力することで実現できる。   Further, when the number of channels of the high-side pattern generation unit 41a is small, as shown in FIG. 3, it is possible to generate a 12-bit digital code necessary for one channel by using a serial / parallel converter 43a. is there. From the channel 1, 1,0, 1, 1, 0, 1,..., 12 data are input to the serial / parallel converter 43a and assigned to D0 to D11 of the DA converter 23a for parallel output. This can be achieved.

また、電圧規格メモリ39a,39bが例えば10Bitのものであり、必要なメモリBitが7Bitの場合、図4に示すように、A0〜A6にパターン生成部41a,41bのチャンネルを接続し、不要なA7〜A9はGNDに接続することで、A7〜A9=0Vに固定し、不要なテスターリソースを削減できる。   Further, when the voltage standard memories 39a and 39b are, for example, 10 bits and the necessary memory bits are 7 bits, the channels of the pattern generation units 41a and 41b are connected to A0 to A6 as shown in FIG. By connecting A7 to A9 to GND, A7 to A9 = 0V, and unnecessary tester resources can be reduced.

試験時において、High側比較器21aは、High側規格電圧とICチップ7の出力電圧を比較し、ICチップ7の出力電圧がHigh側規格電圧値以下であれば「1」(Pass)を出力し、ICチップ7の出力電圧がHigh側規格電圧よりも大きければ「0」(Fail)を出力する。また、Low側比較器21bは、Low側規格電圧とICチップ7の出力電圧を比較し、ICチップ7の出力電圧がLow側規格電圧値以上であれば「1」(Pass)を出力し、ICチップ7の出力電圧がLow側規格電圧よりも小さければ「0」(Fail)を出力する。AND回路35は、比較器21a,21bの出力がともに「1」のときに総合判定結果「1」(Pass)を出力し、比較器21a,21bの出力のいずれか又は両方が「0」のときに総合判定結果「0」(Fail)を出力し、期待値判定部37に送る。   During the test, the high-side comparator 21a compares the high-side standard voltage with the output voltage of the IC chip 7, and outputs “1” (Pass) if the output voltage of the IC chip 7 is equal to or less than the high-side standard voltage value. If the output voltage of the IC chip 7 is higher than the high-side standard voltage, “0” (Fail) is output. The low-side comparator 21b compares the low-side standard voltage with the output voltage of the IC chip 7, and outputs “1” (Pass) if the output voltage of the IC chip 7 is equal to or higher than the low-side standard voltage value. If the output voltage of the IC chip 7 is smaller than the low-side standard voltage, “0” (Fail) is output. The AND circuit 35 outputs a comprehensive determination result “1” (Pass) when both the outputs of the comparators 21 a and 21 b are “1”, and either or both of the outputs of the comparators 21 a and 21 b are “0”. Sometimes the comprehensive determination result “0” (Fail) is output and sent to the expected value determination unit 37.

この試験装置では、DAコンバータ23a,23bはGNDパッド3及び第2GNDパッド9の電圧を基準として、比較器21a,21bに入力される規格電圧を生成する。例えば、ICチップ7の内部GND電圧が接触抵抗31に起因して10mVである場合、DAコンバータ23a,23b及び電圧生成回路25a,25bのGND電圧も10mVになる。このとき、電圧生成回路25a,25bの出力電圧は設定値よりも10mVだけ高い電圧になり、DAコンバータ23a,23bで生成される規格電圧も設定値よりも10mVだけ高い電圧になる。また、ICチップ7の内部GND電圧が10mVであるので、ICチップ7の出力パッド5から出力される電圧も+10mVだけシフトした電圧になる。   In this test apparatus, the DA converters 23a and 23b generate standard voltages to be input to the comparators 21a and 21b with reference to the voltages of the GND pad 3 and the second GND pad 9. For example, when the internal GND voltage of the IC chip 7 is 10 mV due to the contact resistance 31, the GND voltages of the DA converters 23a and 23b and the voltage generation circuits 25a and 25b are also 10 mV. At this time, the output voltage of the voltage generation circuits 25a and 25b is a voltage higher by 10 mV than the set value, and the standard voltage generated by the DA converters 23a and 23b is also a voltage higher by 10 mV than the set value. Further, since the internal GND voltage of the IC chip 7 is 10 mV, the voltage output from the output pad 5 of the IC chip 7 is also a voltage shifted by +10 mV.

このように、ICチップ7のGNDパッド3における接触抵抗31に起因してICチップ7内部のGND電圧が上昇しても、その上昇分だけDAコンバータ23a,23bで規格電圧を上昇させて生成することができるので、ICチップ7が内部電圧を正確に伝える回路を備えていなくても、ICチップ7を高精度に試験することができる。   As described above, even if the GND voltage in the IC chip 7 rises due to the contact resistance 31 in the GND pad 3 of the IC chip 7, the standard voltage is raised by the DA converters 23a and 23b by the rise. Therefore, even if the IC chip 7 does not include a circuit that accurately transmits the internal voltage, the IC chip 7 can be tested with high accuracy.

図5は試験装置の他の実施例を示す回路図である。図1と同じ部分には同じ符号を付し、それらの部分の説明は省略する。   FIG. 5 is a circuit diagram showing another embodiment of the test apparatus. The same parts as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.

この試験装置では、High側規格電圧DAコンバータ23aにリファレンス電圧を供給する電圧生成部としてHigh側VR45aを備え、Low側規格電圧DAコンバータ23bにリファレンス電圧を供給する電圧生成部としてLow側VR45bを備えている。VR45a,45bのGNDは第2GNDパッド用端子27に接続されている。   In this test apparatus, a high-side VR 45a is provided as a voltage generator for supplying a reference voltage to the high-side standard voltage DA converter 23a, and a low-side VR 45b is provided as a voltage generator for supplying a reference voltage to the low-side standard voltage DA converter 23b. ing. The GNDs of the VRs 45 a and 45 b are connected to the second GND pad terminal 27.

また、VR45a,45bに電源を供給するための電圧生成ユニット47が備えられている。例えば、VR45a,45bの出力電圧を3.0Vとする場合、電圧生成ユニット47が供給する電圧は3.5Vにしておけばよい。   Further, a voltage generation unit 47 for supplying power to the VRs 45a and 45b is provided. For example, when the output voltage of the VRs 45a and 45b is set to 3.0V, the voltage supplied by the voltage generation unit 47 may be set to 3.5V.

この試験装置でも、図1を参照して説明した実施例と同様に、ICチップ7の内部GND電圧が接触抵抗31に起因して上昇した場合に、その上昇分だけDAコンバータ23a,23b及びVR45a,45bのGND電圧も上昇するので、ICチップ7を高精度に試験することができる。   Also in this test apparatus, as in the embodiment described with reference to FIG. 1, when the internal GND voltage of the IC chip 7 increases due to the contact resistance 31, the DA converters 23a, 23b and VR45a are increased by the increase. , 45b GND voltage also rises, so that the IC chip 7 can be tested with high accuracy.

以上、本発明の実施例を説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の範囲内で種々の変更が可能である。   As mentioned above, although the Example of this invention was described, this invention is not limited to these, A various change is possible within the range of this invention described in the claim.

例えば、上記実施例では、被試験半導体集積回路装置であるICチップ7は、GNDパッド3と同電圧であってGNDパッド3の電圧を検出することを目的として設けられた第2GNDパッド9を備えているが、被試験半導体集積回路装置はこれに限定されるものではなく、第2GNDパッド9を備えていないものであってもよい。この場合、第2GNDパッド用端子27を規格電圧生成回路用端子として用い、GNDパッド用端子と規格電圧生成回路用端子をGNDパッドに接触させればよい。   For example, in the above embodiment, the IC chip 7 which is the semiconductor integrated circuit device under test includes the second GND pad 9 provided for the purpose of detecting the voltage of the GND pad 3 which is the same voltage as the GND pad 3. However, the semiconductor integrated circuit device under test is not limited to this, and may not include the second GND pad 9. In this case, the second GND pad terminal 27 may be used as a standard voltage generation circuit terminal, and the GND pad terminal and the standard voltage generation circuit terminal may be brought into contact with the GND pad.

試験装置の一実施例を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows one Example of a test apparatus. 同実施例におけるHigh側のテスターパターン生成の例を示す図である。It is a figure which shows the example of the tester pattern production | generation by the side of the High in the Example. 同実施例におけるHigh側のテスターパターン生成の他の例を示す図である。It is a figure which shows the other example of the tester pattern production | generation of the High side in the Example. 同実施例におけるHigh側のテスターパターン生成のさらに他の例を示す図である。It is a figure which shows the further another example of the tester pattern generation by the High side in the Example. 試験装置の他の実施例を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the other Example of a test apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

1 電源パッド
3 GNDパッド
5 出力パッド
7 ICチップ(半導体集積回路装置)
9 第2GNDパッド
11 電源ユニット
13 電源パッド用端子
15 GND
17 GNDパッド用端子
19 出力パッド用端子
21a High側比較器
21b Low側比較器
23a High側規格電圧DAコンバータ(規格電圧生成回路)
23b Low側規格電圧DAコンバータ(規格電圧生成回路)
27 第2GNDパッド用端子
29,31,33 接触抵抗
35 AND回路(総合判定回路)
39a,39b 電圧規格メモリ(記憶装置)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Power supply pad 3 GND pad 5 Output pad 7 IC chip (semiconductor integrated circuit device)
9 Second GND pad 11 Power supply unit 13 Power supply pad terminal 15 GND
17 GND pad terminal 19 Output pad terminal 21a High side comparator 21b Low side comparator 23a High side standard voltage DA converter (standard voltage generation circuit)
23b Low side standard voltage DA converter (standard voltage generation circuit)
27 Second GND pad terminals 29, 31, 33 Contact resistance 35 AND circuit (overall judgment circuit)
39a, 39b Voltage standard memory (storage device)

Claims (8)

電源パッド、GNDパッド及び出力パッドを備え、出力パッドから所定の定電圧を出力する機能を備えた半導体集積回路装置の試験方法において、
被試験半導体集積回路装置の電源パッドに電圧を供給し、GNDパッドをGNDに接続して被試験半導体集積回路装置が駆動している状態で出力パッドから出力される電圧を規格電圧と比較する比較器と、前記規格電圧を生成するための規格電圧生成回路を用い、
前記規格電圧生成回路で前記GNDパッドの電圧を基準として前記規格電圧を生成させ、
前記比較器の出力に基づいて被試験半導体集積回路装置の合否を判定することを特徴とする半導体集積回路装置の試験方法。
In a test method of a semiconductor integrated circuit device comprising a power supply pad, a GND pad and an output pad, and having a function of outputting a predetermined constant voltage from the output pad.
Comparison in which a voltage is supplied to the power supply pad of the semiconductor integrated circuit device under test, and the voltage output from the output pad is compared with the standard voltage when the GND pad is connected to GND and the semiconductor integrated circuit device is driven And a standard voltage generation circuit for generating the standard voltage,
The standard voltage generation circuit generates the standard voltage with reference to the voltage of the GND pad,
A test method for a semiconductor integrated circuit device, wherein pass / fail of the semiconductor integrated circuit device under test is determined based on an output of the comparator.
被試験半導体集積回路装置は前記GNDパッドと同電圧であって前記GNDパッドの電圧を検出することを目的として設けられた第2GNDパッドを備えているものであり、
前記規格電圧生成回路で前記第2GNDパッドの電圧を基準として前記規格電圧を生成させる請求項1に記載の試験方法。
The semiconductor integrated circuit device under test includes a second GND pad provided for the purpose of detecting the voltage of the GND pad, which is the same voltage as the GND pad,
The test method according to claim 1, wherein the standard voltage is generated by the standard voltage generation circuit with reference to the voltage of the second GND pad.
前記規格電圧生成回路としてDA変換回路を用い、前記DA変換回路に前記規格電圧を生成させるための電圧規格コードを記憶装置に予め記録しておく請求項1又は2に記載の試験方法。   The test method according to claim 1 or 2, wherein a DA conversion circuit is used as the standard voltage generation circuit, and a voltage standard code for causing the DA conversion circuit to generate the standard voltage is recorded in a storage device in advance. 前記比較器としてHigh側比較器とLow側比較器を用い、
前記規格電圧生成回路として前記High側比較器にHigh側規格電圧を供給するためのHigh側規格電圧生成回路と前記Low側比較器にLow側規格電圧を供給するためのLow側規格電圧生成回路を用い、
前記High側比較器とLow側比較器の出力に基づいて被試験半導体集積回路装置の合否を判定する請求項1から3のいずれか一項に記載の試験方法。
As the comparator, a high-side comparator and a low-side comparator are used,
As the standard voltage generation circuit, a high side standard voltage generation circuit for supplying a high side standard voltage to the high side comparator and a low side standard voltage generation circuit for supplying a low side standard voltage to the low side comparator are provided. Use
The test method according to claim 1, wherein pass / fail of the semiconductor integrated circuit device under test is determined based on outputs of the high-side comparator and the low-side comparator.
電源パッド、GNDパッド及び出力パッドを備え、出力パッドから所定の定電圧を出力する機能を備えた半導体集積回路装置の試験を行なうための試験装置において、
被試験半導体集積回路装置の電源パッドに電圧を供給するための電源ユニット及び電源パッド用端子と、
被試験半導体集積回路装置のGNDパッドをGNDに接続するためのGNDパッド用端子と、
被試験半導体集積回路装置の出力パッドに接触される出力パッド用端子と、
前記出力パッド用端子の電圧と規格電圧を比較するための比較器と、
前記規格電圧を生成するための規格電圧生成回路を備え、
前記規格電圧生成回路は前記GNDパッドの電圧を基準として前記規格電圧を生成することを特徴とする半導体集積回路装置の試験装置。
In a test apparatus for testing a semiconductor integrated circuit device having a power pad, a GND pad, and an output pad, and having a function of outputting a predetermined constant voltage from the output pad,
A power supply unit and a power supply pad terminal for supplying a voltage to the power supply pad of the semiconductor integrated circuit device under test;
A GND pad terminal for connecting the GND pad of the semiconductor integrated circuit device under test to the GND;
An output pad terminal that is in contact with the output pad of the semiconductor integrated circuit device under test;
A comparator for comparing the voltage of the output pad terminal with a standard voltage;
A standard voltage generation circuit for generating the standard voltage;
The test apparatus for a semiconductor integrated circuit device, wherein the standard voltage generation circuit generates the standard voltage with reference to a voltage of the GND pad.
被試験半導体集積回路装置として前記GNDパッドと同電圧であって前記GNDパッドの電圧を検出することを目的として設けられた第2GNDパッドを備えているものを用い、
前記第2GNDパッドに接触される第2GNDパッド用端子をさらに備え、
前記規格電圧生成回路は前記第2GNDパッドの電圧を基準として前記規格電圧を生成する請求項5に記載の試験装置。
As the semiconductor integrated circuit device under test, a semiconductor integrated circuit device having the same voltage as the GND pad and having a second GND pad provided for the purpose of detecting the voltage of the GND pad is used.
A second GND pad terminal that is in contact with the second GND pad;
The test apparatus according to claim 5, wherein the standard voltage generation circuit generates the standard voltage with reference to a voltage of the second GND pad.
前記規格電圧生成回路としてDA変換回路を備え、
前記DA変換回路に前記規格電圧を生成させるための電圧規格コードを予め記録しておくための記憶装置をさらに備えている請求項5又は6に記載の試験装置。
A DA conversion circuit is provided as the standard voltage generation circuit,
The test apparatus according to claim 5 or 6, further comprising a storage device for recording in advance a voltage standard code for causing the DA converter circuit to generate the standard voltage.
前記比較器としてHigh側比較器とLow側比較器を備え、
前記規格電圧生成回路として前記High側比較器にHigh側規格電圧を供給するためのHigh側規格電圧生成回路と前記Low側比較器にLow側規格電圧を供給するためのLow側規格電圧生成回路を備え、
前記High側比較器とLow側比較器の出力に基づいて被試験半導体集積回路装置の合否を判定する総合判定回路をさらに備えている請求項5から7のいずれか一項に記載の試験装置。
A high side comparator and a low side comparator are provided as the comparators,
As the standard voltage generation circuit, a high side standard voltage generation circuit for supplying a high side standard voltage to the high side comparator and a low side standard voltage generation circuit for supplying a low side standard voltage to the low side comparator are provided. Prepared,
8. The test apparatus according to claim 5, further comprising a comprehensive determination circuit that determines pass / fail of the semiconductor integrated circuit device under test based on outputs of the high-side comparator and the low-side comparator.
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