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JP2008230036A - Protective film, method for producing the same, polarizing plate, and liquid crystal display device - Google Patents

Protective film, method for producing the same, polarizing plate, and liquid crystal display device Download PDF

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JP2008230036A
JP2008230036A JP2007072558A JP2007072558A JP2008230036A JP 2008230036 A JP2008230036 A JP 2008230036A JP 2007072558 A JP2007072558 A JP 2007072558A JP 2007072558 A JP2007072558 A JP 2007072558A JP 2008230036 A JP2008230036 A JP 2008230036A
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JP
Japan
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protective film
film
coating layer
layer
moisture content
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Application number
JP2007072558A
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Japanese (ja)
Inventor
Kenichi Fukuda
謙一 福田
Yoshiki Mizukai
欣樹 水貝
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Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
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Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a protective film which reduces troubles due to the fact that dust is easily attached by peeling charge or the like, its manufacturing method, a polarizing plate using the protective film, and a liquid crystal display device using the polarizing plate. <P>SOLUTION: The protective film is characterized in that a covering layer containing at least either a resin containing a repeating unit derived from a chlorine-containing vinyl monomer and fluorine-containing resin is deposited on at least one surface of a transparent base material film, and in that moisture content is 1.4 mass% to 4.0 mass%. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、保護フィルム、及びその製造方法、前記保護フィルムを備えた偏光板、並びに前記偏光板を備えた液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a protective film, a manufacturing method thereof, a polarizing plate provided with the protective film, and a liquid crystal display device provided with the polarizing plate.

液晶表示装置(以下、LCDということがある。)に設けられる偏光板には、偏光子を保護する保護フィルムが設けられる。該保護フィルムの材料としては、プラスチックフィルムが用いられ、例えば、セルロースアシレートフィルム等、単層構成のロール状プラスチックフィルムが主に挙げられる。
そして近年では、セルロースアシレートフィルム等の基材フィルムに対して、光学補償層、反射防止層、低透湿層などの機能性層(以下、被覆層ということがある。)が積層されることで様々な機能を付加した、複数層のロール状保護フィルムが用いられている。
A protective film for protecting a polarizer is provided on a polarizing plate provided in a liquid crystal display device (hereinafter also referred to as LCD). As a material for the protective film, a plastic film is used. For example, a roll-shaped plastic film having a single layer structure such as a cellulose acylate film is mainly exemplified.
In recent years, functional layers such as an optical compensation layer, an antireflection layer, and a low moisture-permeable layer (hereinafter sometimes referred to as a coating layer) are laminated on a base film such as a cellulose acylate film. A multi-layered roll-shaped protective film to which various functions are added is used.

前記被覆層が積層されたロール状保護フィルムは、単層のロール状基材フィルムを連続的に送り出し、該ロール状基材フィルムに溶剤を含む塗布液組成物を塗布し、乾燥工程で加熱して溶剤を蒸発させ、必要に応じて、乾燥後の塗布層を重合し、被覆層を積層し、バルクロールとして巻き取ることにより作製されることが生産性の観点で好ましい。   The roll-shaped protective film on which the coating layer is laminated is a single-layer roll-shaped base film that is continuously fed out, coated with a coating liquid composition containing a solvent on the roll-shaped base film, and heated in a drying step. It is preferable from the viewpoint of productivity that the solvent is evaporated, and if necessary, the coating layer after drying is polymerized, the coating layer is laminated, and wound as a bulk roll.

このようにして作製された複数層構成のロール状保護フィルムは、偏光板を作製するときに、前記バルクロールから再び送り出される。
ここで、複数層構成のロール状保護フィルムは、基材フィルムと被覆層との少なくとも2層で構成される積層フィルムであり、表面と裏面とが異なる材料で形成されているため、該ロール状保護フィルムは、前記バルクロールから送り出されるときに大きな剥離帯電を生じることがある。
帯電したロール状保護フィルムは、静電気によって、周囲の塵埃を引きつけ易くなるため、偏光板を作製するときに塵埃が付着し、その偏光板がそのまま液晶表示装置に貼合され、ゴミ付き故障などの問題を引き起こすことがあった。
The roll-shaped protective film having a multi-layer structure thus produced is sent out again from the bulk roll when the polarizing plate is produced.
Here, the roll-shaped protective film having a multi-layer structure is a laminated film composed of at least two layers of a base film and a coating layer, and is formed of a material having a different surface and back surface. When the protective film is fed out from the bulk roll, it may cause a large peeling charge.
The charged roll-shaped protective film easily attracts the surrounding dust due to static electricity, so that dust adheres to the polarizing plate when it is made, and the polarizing plate is directly bonded to the liquid crystal display device. Could cause problems.

近年では、液晶表示装置のゴミ付き故障などの微小な欠陥に対する市場の品質要求は非常に厳しくなってきているため、このような塵埃は仮に微小なものであっても、塵埃が付着した液晶表示装置はそのまま出荷することはできない。
したがって、液晶表示装置の生産性を低下させないためにも、このような塵埃の付着は可能な限り最小限に留める技術が求められていた。
In recent years, the quality requirements of the market for minute defects such as defects with dust in liquid crystal display devices have become very strict, so even if such dust is minute, liquid crystal display with dust attached The device cannot be shipped as is.
Therefore, in order not to reduce the productivity of the liquid crystal display device, there has been a demand for a technique for minimizing such dust adhesion as much as possible.

一方で、帯電による塵埃の付着は、上記のような剥離帯電によるものだけではない。例えば、上記のようにして低透湿層を積層したロール状保護フィルムに、第2の被覆層としてハードコート層や反射防止層などを更に積層する場合があり、剥離帯電した後、静電気が完全に除去されていない保護フィルムに、このようなハードコート層や反射防止層を積層する場合、帯電ムラの問題を引き起こすことがあった。   On the other hand, the adhesion of dust due to charging is not only due to peeling charging as described above. For example, a hard coat layer or an antireflection layer may be further laminated as a second coating layer on the roll-shaped protective film laminated with the low moisture-permeable layer as described above. When such a hard coat layer or antireflection layer is laminated on a protective film that has not been removed, there may be a problem of uneven charging.

このような保護フィルムの帯電の問題に対し、除電器を設置して帯電によって生じた電荷を、カウンターチャージを持ったイオンなどで中和する方法が開示されている。(特許文献1参照)   In order to solve such a problem of charging of the protective film, a method has been disclosed in which a charge remover is installed to neutralize charges generated by charging with ions having a counter charge. (See Patent Document 1)

しかしながら、剥離帯電によって生じた電荷は除去し難く、除電器による保護フィルム上の除電も例外ではない。
その理由として、除電器が帯電体の電荷の極性と逆極性のイオンを発生し、このイオンが帯電体に引きつけられてその電荷を中和するものであるのに対し、剥離帯電は両面が異なった符号の電荷で帯電するが、両面が異なった符号の電荷で帯電した保護フィルムから電荷を取り除くのは非常に難しいことが本発明者の検討の結果明らかになった。
即ち、保護フィルムの両面が異なった符号の電荷で帯電している場合、電気力線はフィルムの厚み方向に生じ、厚み部分で閉じてしまい、電気力線はフィルムの外に向かないため、保護フィルムの表面に電荷があっても表面の電界が弱く、除電器で発生させたイオンを引きつける力が弱くなり、効率的に除電することができないためと考えられる。
However, it is difficult to remove the charge generated by the peeling charge, and the charge removal on the protective film by the charge remover is no exception.
The reason is that the static eliminator generates ions with the opposite polarity to the charge of the charged body, and these ions are attracted to the charged body to neutralize the charge. As a result of the inventor's examination, it was found that it was very difficult to remove the charge from the protective film charged with the charge of the sign different from that of the protective film charged with the charge of the sign different on both sides.
That is, when both surfaces of the protective film are charged with different signs of charge, the electric lines of force are generated in the thickness direction of the film and are closed at the thickness portion, and the electric lines of force do not point out of the film. Even if there is a charge on the surface of the film, the electric field on the surface is weak, the force to attract ions generated by the static eliminator is weak, and it is considered that the charge cannot be removed efficiently.

また、特許文献2には帯電防止層を積層することで帯電を防止する方法が開示されているが、新たに帯電防止層を積層しなければならずコストアップの問題が生じる。   Further, Patent Document 2 discloses a method for preventing charging by laminating an antistatic layer, but a new antistatic layer must be laminated, resulting in an increase in cost.

ところで、冬は空気中の絶対含水率が少なく、そのような雰囲気では静電気が発生し易いことを我々は実感している。このように、剥離帯電の発生のし易さは雰囲気の湿度と大きな相関があり、低湿度雰囲気では急激に帯電し易くなる。   By the way, we realize that in winter there is little absolute moisture content in the air, and static electricity is likely to occur in such an atmosphere. As described above, the ease of occurrence of peeling electrification has a large correlation with the humidity of the atmosphere, and it becomes easy to charge rapidly in a low humidity atmosphere.

ここで、プラスチックフィルムは一般に含水性が低く、この点でプラスチックフィルムは帯電し易い。
一方、このようなプラスチックフィルムの中でも、セルロースアシレートフィルムは、例外的に比較的含水性の高いプラスチックフィルムである。
Here, the plastic film generally has a low water content, and the plastic film is easily charged in this respect.
On the other hand, among such plastic films, the cellulose acylate film is exceptionally a plastic film having relatively high water content.

しかしながら、従来の方法では、仮に含水性の高いセルロースアシレートフィルムを用いても、被覆層を積層する工程で塗布後に塗布液中の有機溶剤を蒸発させるために乾燥工程で加熱し、基材フィルム中の水分も蒸発させてしまっていた。そのため、意図せずに含水率を著しく低下させた状態で巻き取ってしまっていた。
したがって、帯電防止の点で有利なはずのセルロースアシレートフィルムを用いていても、その特徴が充分に生かし切れず、帯電の問題が発生していた。
However, in the conventional method, even if a cellulose acylate film having a high water content is used, the substrate film is heated in the drying step in order to evaporate the organic solvent in the coating liquid after coating in the step of laminating the coating layer. The water inside was also evaporated. Therefore, it was wound up in a state where the moisture content was significantly reduced unintentionally.
Therefore, even when a cellulose acylate film that should be advantageous in terms of antistatic properties is used, the characteristics cannot be fully utilized, and charging problems have occurred.

特に、セルロースアシレートフィルムは、含水性の高いプラスチックフィルムであると同時に、透湿性の高いプラスチックフィルムでもある。そのため、高含水率の状態で巻き取っても、湿度の低い貯蔵庫で保存しておくと、徐々に水分を失い、再び剥離帯電し易くなるという問題を有していた。   In particular, the cellulose acylate film is a plastic film having a high moisture content and a plastic film having a high moisture permeability. Therefore, even if it is wound in a high moisture content state, if it is stored in a low-humidity storage, it has a problem that it gradually loses moisture and becomes easily peeled and charged again.

特開2003−103224号公報JP 2003-103224 A 特開2006−82241号公報JP 2006-82241 A

本発明の目的は、剥離帯電などで塵埃が付着し易くなることによる不具合を低減する保護フィルム、及びその製造方法、前記保護フィルムを用いた偏光板、並びにその偏光板を用いた液晶表示装置を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a protective film that reduces problems caused by dust being easily attached due to peeling charging, a manufacturing method thereof, a polarizing plate using the protective film, and a liquid crystal display device using the polarizing plate. It is to provide.

本発明者らは、鋭意検討の結果、透明基材フィルムと、被覆層を形成する材料との帯電列差が大きい場合に生じる剥離帯電は、被覆層を積層し、巻き取った状態での保護フィルムの含水率に大きく影響を受け、含水率が低い場合には帯電が大きく、逆に含水率が高い場合には帯電が少ないことを利用し、ロール状とされたときに接触する表面及び裏面が互いに大きな帯電列差でありながらも、前記保護フィルムの含水率を高くすることにより、前記課題が解決されることを知見した。   As a result of intensive studies, the present inventors have confirmed that the peeling charge that occurs when the difference in charge column between the transparent substrate film and the material forming the coating layer is large is protected when the coating layer is laminated and wound up. The front and back surfaces that are greatly affected by the moisture content of the film and that are highly charged when the moisture content is low, and conversely when the moisture content is high, are less charged. It has been found that the above problems can be solved by increasing the moisture content of the protective film, even though they have a large difference in charge train.

本発明は、本発明者らによる前記知見に基づくものであり、前記課題を解決するための手段は以下の通りである。即ち、
<1> 透明基材フィルムの少なくとも一方の面に、塩素含有ビニル単量体から誘導される繰り返し単位を含む樹脂、及びフッ素含有樹脂の少なくともいずれかを含む被覆層が形成され、含水率が1.4質量%〜4.0質量%であることを特徴とする保護フィルムである。
<2> 長尺状であり、ロール状に巻かれてなる前記<1>に記載の保護フィルムである。
<3> 25℃、50%RHの環境下で、ロール状とされた状態から、フィルムを5m/分の速度で5m以上引き出したときの表面電位の絶対値が、10kV以下であることを特徴とする保護フィルムである。
<4> 幅が0.2m〜3mであり、長さが20〜10,000mである前記<1>から<3>のいずれかに記載の保護フィルムである。
<5> 被覆層は、帯電列がポリエチレンよりも負である材料を含む前記<1>から<4>のいずれかに記載の保護フィルムである。
<6> 塩素含有ビニル単量体が、塩化ビニリデンである前記<1>から<5>のいずれかに記載の保護フィルムである。
<7> 透明基材フィルムが、セルロースアシレートを含む前記<1>から<6>のいずれかに記載の保護フィルムである。
<8> 60℃、95%RHでの透湿度が、500g/m・日以下である前記<1>から<7>のいずれかに記載の保護フィルムである。
<9> 被覆層の表面の中心線平均粗さRa、及びその反対側の面の中心線平均粗さRaが0.08μm以下である前記<1>から<8>のいずれかに記載の保護フィルムである。
<10> 被覆層の表面の表面電気抵抗値、及びその反対側の面の表面電気抵抗値が、1.0×1012Ω/□以上である前記<1>から<9>のいずれかに記載の保護フィルムである。
<11> 一層以上の被覆層を透明基材フィルム上に形成する被覆層形成工程と、前記透明基材フィルム上に前記被覆層が形成されることによって積層体をなす保護フィルムの含水率が1.5質量%〜4.0質量%になるように含水率を調整する含水率調整工程と、前記透明基材フィルムを巻き取る巻き取り工程とを含むことを特徴とする保護フィルムの製造方法である。
<12> 含水率調整工程が、保護フィルムを搬送しながら25℃、55%RH以上の雰囲気下で10秒間以上調湿する工程を含む前記<11>に記載の保護フィルムの製造方法である。
<13> 被覆層形成工程が、50℃以上の温度に20秒以上保護フィルムを晒す乾燥工程を含む前記<11>から<12>のいずれかに記載の保護フィルムの製造方法である。
<14> 被覆層形成工程は、10m/分以上の搬送速度で連続的に被覆層を透明基材フィルム上に形成する前記<11>から<13>のいずれかに記載の保護フィルムの製造方法である。
<15> 被覆層形成工程後に、除電しながら保護フィルムを搬送する搬送工程を含む前記<11>から<14>のいずれかに記載の保護フィルムの製造方法である。
<16> 前記<11>から<15>のいずれかに記載の保護フィルムの製造方法によって製造されたことを特徴とする保護フィルムである。
<17> 偏光子と、該偏光子の少なくとも一方の面に設けられた前記<1>から<10>、及び<16>のいずれかに記載の保護フィルムとを有することを特徴とする偏光板である。
<18> 前記<17>に記載の偏光板を有することを特徴とする液晶表示装置である。
This invention is based on the said knowledge by the present inventors, and the means for solving the said subject are as follows. That is,
<1> A coating layer containing at least one of a resin containing a repeating unit derived from a chlorine-containing vinyl monomer and a fluorine-containing resin is formed on at least one surface of the transparent substrate film, and the moisture content is 1 It is a protective film characterized by being 4 mass% to 4.0 mass%.
<2> The protective film according to <1>, which is long and wound in a roll shape.
<3> The absolute value of the surface potential is 10 kV or less when the film is drawn out at a speed of 5 m / min for 5 m or more from a rolled state in an environment of 25 ° C. and 50% RH. It is a protective film.
<4> The protective film according to any one of <1> to <3>, wherein the width is 0.2 m to 3 m and the length is 20 to 10,000 m.
<5> The covering layer is the protective film according to any one of <1> to <4>, including a material in which the charged column is more negative than polyethylene.
<6> The protective film according to any one of <1> to <5>, wherein the chlorine-containing vinyl monomer is vinylidene chloride.
<7> The protective film according to any one of <1> to <6>, wherein the transparent base film contains cellulose acylate.
<8> The protective film according to any one of <1> to <7>, wherein moisture permeability at 60 ° C. and 95% RH is 500 g / m 2 · day or less.
<9> The protection according to any one of <1> to <8>, wherein the centerline average roughness Ra of the surface of the coating layer and the centerline average roughness Ra of the opposite surface are 0.08 μm or less. It is a film.
<10> The surface electrical resistance value of the surface of the coating layer and the surface electrical resistance value of the opposite surface are 1.0 × 10 12 Ω / □ or more, and any one of <1> to <9> It is a protective film of description.
<11> A coating layer forming step of forming one or more coating layers on the transparent substrate film, and a moisture content of the protective film forming the laminate by forming the coating layer on the transparent substrate film is 1. In the manufacturing method of the protective film characterized by including the moisture content adjustment process which adjusts a moisture content so that it may become 0.5 mass%-4.0 mass%, and the winding-up process which winds up the said transparent base film. is there.
<12> The method for producing a protective film according to <11>, wherein the moisture content adjusting step includes a step of adjusting the humidity for 10 seconds or more in an atmosphere of 25 ° C. and 55% RH or more while conveying the protective film.
<13> The method for producing a protective film according to any one of <11> to <12>, wherein the coating layer forming step includes a drying step of exposing the protective film to a temperature of 50 ° C. or higher for 20 seconds or longer.
<14> The method for producing a protective film according to any one of <11> to <13>, wherein the coating layer forming step continuously forms the coating layer on the transparent substrate film at a conveyance speed of 10 m / min or more. It is.
<15> The method for producing a protective film according to any one of <11> to <14>, further including a transporting step of transporting the protective film while removing static electricity after the coating layer forming step.
<16> A protective film produced by the method for producing a protective film according to any one of <11> to <15>.
<17> A polarizing plate comprising a polarizer and the protective film according to any one of <1> to <10> and <16> provided on at least one surface of the polarizer. It is.
<18> A liquid crystal display device comprising the polarizing plate according to <17>.

本発明によれば、剥離帯電などで塵埃が付着し易くなることによる不具合を低減する保護フィルム、及びその製造方法、前記保護フィルムを用いた偏光板、並びにその偏光板を用いた液晶表示装置を提供することができる。   According to the present invention, there is provided a protective film that reduces defects due to dust being easily attached due to peeling electrification and the like, a manufacturing method thereof, a polarizing plate using the protective film, and a liquid crystal display device using the polarizing plate. Can be provided.

以下、本発明の保護フィルム、及びその製造方法、偏光板、並びに液晶表示装置について詳細に説明する。   Hereinafter, the protective film of the present invention, the manufacturing method thereof, the polarizing plate, and the liquid crystal display device will be described in detail.

(保護フィルム)
本発明の保護フィルムは、透明基材フィルムと、該透明基材フィルム上に少なくとも一層以上積層された被覆層とを有する。
(Protective film)
The protective film of this invention has a transparent base film and the coating layer laminated | stacked on this transparent base film at least one or more layers.

<保護フィルムの物性>
<<含水率>>
本発明の保護フィルムの含水率は1.4〜4.0質量%が好ましく、1.7〜3.6質量%であることがより好ましく、1.9〜3.3質量%であることが更に好ましく、2.1〜3.0質量%であることが特に好ましい。保護フィルムの含水率を上記の範囲で制御することにより、帯電とカールを好ましい範囲とすることができる。保護フィルムの含水率は、カールフィッシャー法などで測定することができる。
ここで、透明基材フィルムがセルロースアシレートフィルムである場合の本発明の保護フィルムは、25℃100%RHで平衡状態にしたときに、含水率がほぼ4.0質量%であり、上記含水率の上限はここから決められる。
<Physical properties of protective film>
<< moisture content >>
The moisture content of the protective film of the present invention is preferably 1.4 to 4.0 mass%, more preferably 1.7 to 3.6 mass%, and more preferably 1.9 to 3.3 mass%. Further preferred is 2.1 to 3.0% by mass. By controlling the water content of the protective film within the above range, charging and curling can be made within a preferable range. The moisture content of the protective film can be measured by the Karl Fischer method or the like.
Here, when the transparent substrate film is a cellulose acylate film, the protective film of the present invention has a moisture content of approximately 4.0% by mass when equilibrated at 25 ° C. and 100% RH. The upper limit of the rate is determined here.

<<表面電位>>
本発明の保護フィルムは、25℃で50%RHの雰囲気でフィルムをロール形態から5m引き出した後の、ロールの表面電位の絶対値が10kV以下であることが必要である。ロールの表面電位の絶対値は5kV以下であることが好ましく、3kV以下であることが更に好ましい。
このとき、ロールの表面電位は市販の表面電位計によって測定することができる。なお、表面電位の測定法に関しては、例えば『静電気の基礎と帯電防止技術』(村田雄司著:日刊工業新聞社:1998年)のp173〜p178に記載されている。
<< Surface potential >>
The protective film of the present invention needs to have an absolute value of the surface potential of the roll of 10 kV or less after the film is drawn 5 m from the roll form in an atmosphere of 50% RH at 25 ° C. The absolute value of the surface potential of the roll is preferably 5 kV or less, and more preferably 3 kV or less.
At this time, the surface potential of the roll can be measured by a commercially available surface potential meter. The method for measuring the surface potential is described in, for example, p173 to p178 in “Static Fundamentals and Antistatic Technology” (Murata Yuji: Nikkan Kogyo Shimbun: 1998).

本発明の被覆層を積層した保護フィルムはロール形状であることが好ましく、その場合、フィルムの幅は0.2〜3mであることが好ましく、0.5〜2.5mであることがより好ましく、1〜2mであることが更に好ましい。フィルムの長さは20〜10,000mであることが好ましく、50〜7,000mであることがより好ましく、200〜5000mであることが更に好ましい。   The protective film on which the coating layer of the present invention is laminated is preferably in the form of a roll. In that case, the width of the film is preferably 0.2 to 3 m, and more preferably 0.5 to 2.5 m. 1 to 2 m is more preferable. The length of the film is preferably 20 to 10,000 m, more preferably 50 to 7,000 m, and still more preferably 200 to 5000 m.

<<透湿度>>
本発明の保護フィルムは剥離帯電防止のために充分な水分を含ませてから巻き取った後に、水分をバルクロールから外部に逃がさないために、低透湿性を有していることが好ましく、60℃、95%RHの透湿度は500g/m・日以下であることが好ましく、300g/m・日以下であることがより好ましく、200g/m・日以下であることが特に好ましい。
保護フィルムの透湿度はフィルム試料70mmを、JIS Z−0208に従い、吸湿剤を入れた透湿カップを用いて、60℃、95%RHで24時間調湿保存し、調湿前後の吸湿剤の質量差から単位面積当たりの水分量を算出することで求めることができる。この時、吸湿剤の入れていないブランクカップでの透湿度の補正は行わない。
上記の測定方法では市販されているセルロースアシレートフィルムは800〜1,500g/m・日程度の値を示す。
<< Moisture permeability >>
The protective film of the present invention preferably has low moisture permeability so as not to allow moisture to escape from the bulk roll after winding it after containing sufficient moisture for preventing peeling electrification, The water vapor transmission rate at 95 ° C. and 95% RH is preferably 500 g / m 2 · day or less, more preferably 300 g / m 2 · day or less, and particularly preferably 200 g / m 2 · day or less.
The moisture permeability of the protective film is 70 mm 2 of the film sample, conditioned according to JIS Z-0208, using a moisture permeable cup containing a moisture absorbent at 60 ° C. and 95% RH for 24 hours. It can obtain | require by calculating the moisture content per unit area from mass difference of this. At this time, correction of moisture permeability in a blank cup without a hygroscopic agent is not performed.
In the above measuring method, a commercially available cellulose acylate film shows a value of about 800 to 1,500 g / m 2 · day.

<<表面粗さ>>
保護フィルムの表面(裏面)に凹凸形状がある場合、保護フィルムの表面及び裏面での剥離帯電、又は保護フィルムと、金属パスロールの表面との剥離帯電は発生し難い。
しかしながら、凹凸形状があると、透過率が低下するなどの問題を引き起こす。
このような理由から、本発明の保護フィルムの表面、及び裏面は実質的に平滑であることが好ましい。具体的には、保護フィルムの表面の平滑性の尺度として、保護フィルムの表面の中心線平均粗さRaは0.08μm以下であることが好ましく、0.07μm以下であることがより好ましく、0.06μm以下であることが更に好ましい。
ここで、前記中心線平均粗さRaは、JIS−K−7194に順ずる方法によって測定される。
<< Surface roughness >>
When the surface (back surface) of the protective film has an uneven shape, peeling charge on the surface and back surface of the protective film, or peeling charge between the protective film and the surface of the metal pass roll hardly occurs.
However, the uneven shape causes problems such as a decrease in transmittance.
For these reasons, it is preferable that the front and back surfaces of the protective film of the present invention are substantially smooth. Specifically, as a measure of the smoothness of the surface of the protective film, the center line average roughness Ra of the surface of the protective film is preferably 0.08 μm or less, more preferably 0.07 μm or less, 0 More preferably, it is 0.06 μm or less.
Here, the center line average roughness Ra is measured by a method according to JIS-K-7194.

<<表面抵抗値>>
保護フィルムの表面抵抗が低く、表面の導電性が高いと、電荷の漏洩速度が速いため、一旦帯電しても、電荷が分散し易く、帯電による影響は生じ難い。
そのため、被覆層に導電性微粒子等の帯電防止剤を含有させて表面抵抗を下げて帯電を防止する方法が考えられる。
しかしながら、被覆層が低透湿層の場合、導電性微粒子を含有させることで、透湿度が上昇してしまうなどの問題を生じる。本発明はこのような帯電防止剤の弊害を取り除くために帯電防止剤を含まないことが好ましい。
そこで、本発明の保護フィルムは、表面電気抵抗値(以下、表面抵抗値ということがある。)が両面共に、1.0×1012Ω/□以上であることが好ましく、1.0×1013Ω/□以上であることがより好ましく、1.0×1014Ω/□以上であることが特に好ましい。
<< Surface resistance value >>
If the surface resistance of the protective film is low and the surface conductivity is high, the charge leakage rate is fast, so that even if it is charged once, the charge is likely to be dispersed and the influence of charging is less likely to occur.
Therefore, a method of preventing charging by reducing the surface resistance by adding an antistatic agent such as conductive fine particles to the coating layer is conceivable.
However, when the coating layer is a low moisture permeable layer, the inclusion of conductive fine particles causes problems such as an increase in moisture permeability. The present invention preferably does not contain an antistatic agent in order to remove the adverse effects of such an antistatic agent.
Therefore, the protective film of the present invention preferably has a surface electrical resistance value (hereinafter sometimes referred to as a surface resistance value) of 1.0 × 10 12 Ω / □ or more on both sides, and 1.0 × 10 6. It is more preferably 13 Ω / □ or more, and particularly preferably 1.0 × 10 14 Ω / □ or more.

<保護フィルムの構成>
<<透明基材フィルム>>
前記透明基材フィルムの光透過率は、80%以上であることが好ましく、86%以上であることが更に好ましい。透明基材フィルムのヘイズは、2.0%以下であることが好ましく、1.0%以下であることが更に好ましい。透明プラスチック基材の屈折率は、1.4〜1.7であることが好ましい。
<Configuration of protective film>
<< Transparent substrate film >>
The light transmittance of the transparent substrate film is preferably 80% or more, and more preferably 86% or more. The haze of the transparent substrate film is preferably 2.0% or less, and more preferably 1.0% or less. The refractive index of the transparent plastic substrate is preferably 1.4 to 1.7.

透明基材フィルムの材料の例には、セルロースエステル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル(例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−1,4−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−1,2−ジフェノキシエタン−4、4’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート等)、ポリスチレン(例えばシンジオタクチックポリスチレン)、ポリオレフィン(例えば、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン等)、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレート及びポリエーテルケトンが含まれる。セルロースエステル、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレートが好ましい。   Examples of the material of the transparent substrate film include cellulose ester, polyamide, polycarbonate, polyester (for example, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, poly-1,4-cyclohexanedimethylene terephthalate, polyethylene-1,2-diphenoxyethane- 4,4′-dicarboxylate, polybutylene terephthalate, etc.), polystyrene (eg, syndiotactic polystyrene), polyolefin (eg, polypropylene, polyethylene, polymethylpentene, etc.), polysulfone, polyethersulfone, polyarylate, polyetherimide , Polymethyl methacrylate and polyether ketone. Cellulose ester, polycarbonate, polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are preferred.

[セルロースアシレートフィルム]
本発明の透明基材フィルムは含水性が高いことが好ましく、セルロースアシレートフィルムが好ましい。セルロースアシレートは、セルロースをエステル化することにより作製される。エステル化前のセルロースとしては、リンター、ケナフ、パルプを精製して用いられる。
[Cellulose acylate film]
The transparent substrate film of the present invention preferably has a high water content, and a cellulose acylate film is preferred. Cellulose acylate is produced by esterifying cellulose. As the cellulose before esterification, linter, kenaf and pulp are used after purification.

−セルロースアシレート−
本発明において、セルロースアシレートとは、セルロースの脂肪酸エステルのことであるが、低級脂肪酸エステルが好ましく、セルロースの脂肪酸エステルフィルムが更に好ましい。
-Cellulose acylate-
In the present invention, cellulose acylate means a fatty acid ester of cellulose, preferably a lower fatty acid ester, and more preferably a fatty acid ester film of cellulose.

前記低級脂肪酸とは、炭素原子数が6以下の脂肪酸を意味する。炭素原子数が2〜4のセルロースアシレートが好ましく、セルロースアセテートが特に好ましい。また、セルロースアセテートプロピオネートや、セルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いることも好ましい。   The lower fatty acid means a fatty acid having 6 or less carbon atoms. A cellulose acylate having 2 to 4 carbon atoms is preferred, and cellulose acetate is particularly preferred. It is also preferable to use a mixed fatty acid ester such as cellulose acetate propionate or cellulose acetate butyrate.

セルロースアシレートの粘度平均重合度(Dp)は、250以上であることが好ましく、290以上であることが更に好ましい。
また、セルロースアシレートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるMw/Mn(Mwは質量平均分子量、Mnは数平均分子量)を指標とする分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なMw/Mnの値としては、1.0〜5.0であることが好ましく、1.0〜3.0であることがより好ましく、1.0〜2.0であることが特に好ましい。
The viscosity average degree of polymerization (Dp) of cellulose acylate is preferably 250 or more, and more preferably 290 or more.
In addition, the cellulose acylate preferably has a narrow molecular weight distribution based on Mw / Mn (Mw is a mass average molecular weight, Mn is a number average molecular weight) by gel permeation chromatography. The specific value of Mw / Mn is preferably 1.0 to 5.0, more preferably 1.0 to 3.0, and particularly preferably 1.0 to 2.0. preferable.

透明基材フィルムとしては、酢化度が55.0〜62.5%であるセルロースアシレートを使用することが好ましい。また、前記酢化度は、57.0〜62.0%であることが更に好ましく、59.0〜61.5%が特に好ましい。
ここで、酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ASTM:D−817−91(セルロースアシレート等の試験法)におけるアシル化度の測定、及び計算によって求められる。
As the transparent substrate film, it is preferable to use cellulose acylate having an acetylation degree of 55.0 to 62.5%. The acetylation degree is more preferably 57.0 to 62.0%, and particularly preferably 59.0 to 61.5%.
Here, the degree of acetylation means the amount of bound acetic acid per unit mass of cellulose. The degree of acetylation is determined by measurement and calculation of the degree of acylation in ASTM: D-817-91 (testing method for cellulose acylate, etc.).

セルロースアシレートでは、セルロースの2位、3位、6位のヒドロキシルが均等に置換されるのではなく、6位の置換度が小さくなる傾向がある。本発明に用いるセルロースアシレートでは、セルロースの6位置換度が、2位、3位に比べて同程度又は多い方が好ましい。2位、3位、6位の置換度の合計に対する、6位の置換度の割合は、30〜40%であることが好ましく、31〜40%であることが更に好ましく、32〜40%であることが特に好ましい。   In cellulose acylate, the hydroxyl groups at the 2-position, 3-position and 6-position of cellulose are not evenly substituted, but the substitution degree at the 6-position tends to be small. In the cellulose acylate used in the present invention, it is preferable that the degree of substitution at the 6-position of cellulose is the same or greater than that at the 2- and 3-positions. The ratio of the substitution degree at the 6-position to the total substitution degree at the 2-position, the 3-position, and the 6-position is preferably 30 to 40%, more preferably 31 to 40%, and more preferably 32 to 40%. It is particularly preferred.

透明基材フィルムには、フィルムの機械的特性(膜の強度、カール、寸度安定性、滑り性等)、耐久性(耐湿熱性、耐候性等)等の特性を調整するために各種の添加剤を用いてもよい。例えば、可塑剤(リン酸エステル類、フタル酸エステル類、ポリオールと脂肪酸とのエステル類等)、紫外線防止剤(例えば、ヒドロキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、シアノアクリレート系化合物等)、劣化防止剤(例えば、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン等)、微粒子(例えばSiO、Al、TiO、BaSO、CaCO、MgCO、タルク、カオリン等)、剥離剤、帯電防止剤、赤外吸収剤等が挙げられる。 Various additions to the transparent base film to adjust the mechanical properties (film strength, curl, dimensional stability, slipperiness, etc.) and durability (wet heat resistance, weather resistance, etc.) of the film An agent may be used. For example, plasticizers (phosphoric acid esters, phthalic acid esters, esters of polyols and fatty acids, etc.), UV inhibitors (eg, hydroxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, cyanoacrylate compounds) Etc.), deterioration inhibitors (eg, antioxidants, peroxide decomposers, radical inhibitors, metal deactivators, acid scavengers, amines, etc.), fine particles (eg, SiO 2 , Al 2 O 3 , TiO 2). , BaSO 4 , CaCO 3 , MgCO 3 , talc, kaolin, etc.), release agents, antistatic agents, infrared absorbers, and the like.

これらの詳細は、発明協会公開技法公技番号2001−1745号(2001年3月15日発行、発明協会),p.17−22に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。   These details are disclosed in the Invention Association Public Technique No. 2001-1745 (issued March 15, 2001, Invention Association), p. Materials described in detail in 17-22 are preferably used.

また、前記添加剤の使用量は、透明支持体に対して、0.01〜20質量%であることが好ましく、0.05〜10質量%であることが更に好ましい。   Moreover, it is preferable that it is 0.01-20 mass% with respect to a transparent support body, and, as for the usage-amount of the said additive, it is still more preferable that it is 0.05-10 mass%.

<<被覆層>>
前記被覆層の厚みは、0.01〜10μmであることが好ましい。前記被覆層の厚みをこの範囲に制御することにより被覆層の機能が充分に発揮できる、一方、カールの問題も起き難い。なお、被覆層の適正な厚みは被覆層の種類によって異なるため、順次素材と合わせて説明する。
<< Coating layer >>
The thickness of the coating layer is preferably 0.01 to 10 μm. By controlling the thickness of the coating layer within this range, the function of the coating layer can be sufficiently exerted, while the problem of curling hardly occurs. In addition, since the appropriate thickness of a coating layer changes with kinds of coating layer, it demonstrates with a raw material sequentially.

[帯電列]
前記被覆層に含まれる材料は、基材フィルムに対して、帯電列が大きく異なり、また、基材フィルムに対して負側に偏っている(マイナスに帯電し易い)ことが好ましく、ポリエステルよりも帯電列が負側に偏っていることがより好ましい。
帯電列については、多くの種類の素材について報告されており、例えば「プラスチックの帯電防止」p30〜p31橘高重著 日刊工業新聞社 1967年5月31日 初版発行」などから帯電列を知ることができる。
また、帯電列の測定方法としては、例えば、室温、低湿度雰囲気下(例えば25℃10%RH)で、異種の材料を接触帯電させたときの帯電の符号から2つの材料の、帯電の序列(帯電列)を知ることができる。このときの帯電の符号は、市販の電位測定器(例えば、STATIRON DX、シシド静電気(株)製など)を用いて測定することができる。
[Charged column]
The material contained in the coating layer is largely different from the base film in the charge train, and is preferably biased to the negative side with respect to the base film (easily charged negatively). More preferably, the charged column is biased to the negative side.
As for the charged column, many types of materials have been reported. For example, “Plastic antistatic” p30-p31 Tachibana Takashige, Nikkan Kogyo Shimbun, May 31, 1967, first edition issued ” it can.
In addition, as a method for measuring the charge train, for example, the charge sequence of two materials from the sign of charge when different materials are contact-charged at room temperature in a low humidity atmosphere (for example, 25 ° C. and 10% RH). (Charged column) can be known. The sign of charging at this time can be measured by using a commercially available potential measuring device (for example, STATIRON DX, manufactured by Shishido electrostatic Co., Ltd.).

[被覆層の機能]
被覆層の機能としては、透明基材フィルム上に積層することで新たな機能を付加、又は、従来ある機能を強化することができる層であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択される。
前記被覆層は、前記保護フィルムが偏光板用保護フィルムとして用いられる場合、光学異方性層、反射防止層、低透湿層の何れかであることが好ましく、反射防止層、低透湿層の何れかであることがより好ましく、低透湿層であることが特に好ましい。低透湿層であれば、前記のように被覆層を積層したロール状フィルムに一旦水分を含有させれば、仮に低湿条件で保護フィルムが保存されても、水分はロール外部に逃げ出し難く、帯電防止性を持続させることができる。
[Function of coating layer]
The function of the coating layer is not particularly limited as long as it is a layer that can add a new function by being laminated on a transparent substrate film or can enhance a conventional function, and is appropriately selected according to the purpose. Is done.
When the protective film is used as a protective film for a polarizing plate, the coating layer is preferably an optically anisotropic layer, an antireflection layer, or a low moisture permeable layer. More preferably, it is a low moisture-permeable layer. In the case of a low moisture permeable layer, once moisture is contained in the roll film laminated with the coating layer as described above, even if the protective film is stored under low humidity conditions, it is difficult for moisture to escape to the outside of the roll. Preventive properties can be maintained.

[被覆層形成材料]
前記被覆層を形成する具体的素材としては、帯電列と有用性の観点から、含塩素化合物、又は含フッ素化合物が好ましい。このような素材は帯電列が負に偏っており、プラスチック基材フィルムとの間で剥離帯電の問題が起き易く、より良好な効果を奏する。
[Coating layer forming material]
As a specific material for forming the coating layer, a chlorine-containing compound or a fluorine-containing compound is preferable from the viewpoint of the charge train and usefulness. Such a material has a negatively charged column and easily causes a problem of peeling electrification with the plastic base film, and thus has a better effect.

[低透湿層]
含塩素化合物から形成される被覆層は、低透湿性を目的とした被覆層である低透湿層として用いられることが好ましい。この場合、被覆層は塩素含有ビニル単量体から誘導される繰り返し単位を含む樹脂であることが好ましく、塩素含有単量体としては、一般には、塩化ビニル、塩化ビニリデンが挙げられる。これらの中でも、塩化ビニリデンが特に好ましい。前記塩素含有単量体は、これらの塩化ビニル、又は塩化ビニリデン単量体に、これらと共重合可能な単量体を共重合することにより得ることができる。
[Low moisture permeability layer]
The coating layer formed from a chlorine-containing compound is preferably used as a low moisture-permeable layer that is a coating layer aimed at low moisture permeability. In this case, the coating layer is preferably a resin containing a repeating unit derived from a chlorine-containing vinyl monomer. Examples of the chlorine-containing monomer generally include vinyl chloride and vinylidene chloride. Among these, vinylidene chloride is particularly preferable. The chlorine-containing monomer can be obtained by copolymerizing these vinyl chloride or vinylidene chloride monomers with a monomer copolymerizable therewith.

−塩素含有ビニル単量体と共重合可能な単量体−
前記共重合可能な単量体としては、オレフィン類、スチレン類、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタアクリルアミド類、イタコン酸ジエステル類、マレイン酸エステル類、フマル酸ジエステル類、N−アルキルマレイミド類、無水マレイン酸、アクリロニトリル、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、ビニルケトン類、ビニル異節環化合物、グリシジルエステル類、不飽和ニトリル類、不飽和カルボン酸類等から選ばれる単量体が挙げられる。
-Monomer copolymerizable with chlorine-containing vinyl monomer-
Examples of the copolymerizable monomer include olefins, styrenes, acrylic acid esters, methacrylic acid esters, acrylamides, methacrylamides, itaconic acid diesters, maleic acid esters, fumaric acid diesters, N -Monomers selected from alkylmaleimides, maleic anhydride, acrylonitrile, vinyl ethers, vinyl esters, vinyl ketones, vinyl heterocycles, glycidyl esters, unsaturated nitriles, unsaturated carboxylic acids, etc. .

前記オレフィン類の例としては、ジシクロペンタジエン、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、イソプレン、クロロプレン、ブタジエン、2,3−ジメチルブタジエン等が挙げられる。
スチレン類としては、例えば、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、クロルメチルスチレン、メトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロルスチレン、ジクロルスチレン、ブロムスチレン、トリフルオロメチルスチレン、ビニル安息香酸メチルエステルなどが挙げられる。
Examples of the olefins include dicyclopentadiene, ethylene, propylene, 1-butene, 1-pentene, isoprene, chloroprene, butadiene, and 2,3-dimethylbutadiene.
Examples of styrenes include styrene, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, isopropyl styrene, chloromethyl styrene, methoxy styrene, acetoxy styrene, chloro styrene, dichloro styrene, bromo styrene, trifluoromethyl styrene, vinyl. And benzoic acid methyl ester.

前記アクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステルの具体例としては、以下のものが挙げられる。
メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、アミルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、オクチルアクリレート、t−オクチルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、2−ブトキシエチルアクリレート、2−フェノキシエチルアクリレート、クロルエチルアクリレート、シアノエチルアクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、フルフリルアクリレート、フェニルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、オクチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、シアノアセトキシエチルメタクリレート、クロルベンジルメタクリレート、スルホプロピルメタクリレート、N−エチル−N−フェニルアミノエチルメタクリレート、2−メトキシエチルメタクリレート、2−(3−フェニルプロピルオキシ)エチルメタクリレート、ジメチルアミノフェノキシエチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2,2−ジメチルヒドロキシプロピルアクリレート、5−ヒドロキシペンチルアクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモノアクリレート、2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピルメタクリレート、5−ヒドロキシプロピルメタクリレート、ジエチレングリコールモノメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート。
Specific examples of the acrylic esters and methacrylic esters include the following.
Methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, octyl acrylate, t-octyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, 2-butoxyethyl acrylate, 2-phenoxyethyl acrylate, chloroethyl acrylate, Cyanoethyl acrylate, dimethylaminoethyl acrylate, benzyl acrylate, methoxybenzyl acrylate, furfuryl acrylate, phenyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, oct Methacrylate, benzyl methacrylate, cyanoacetoxyethyl methacrylate, chlorobenzyl methacrylate, sulfopropyl methacrylate, N-ethyl-N-phenylaminoethyl methacrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, 2- (3-phenylpropyloxy) ethyl methacrylate, dimethylamino Phenoxyethyl methacrylate, furfuryl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, phenyl methacrylate, cresyl methacrylate, naphthyl methacrylate, hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl methacrylate, hydroxypropyl acrylate, hydroxypropyl methacrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl methacrylate, 3 -Chloro-2-hydro Cypropyl methacrylate, 2,2-dimethylhydroxypropyl acrylate, 5-hydroxypentyl acrylate, diethylene glycol monoacrylate, trimethylolpropane monoacrylate, pentaerythritol monoacrylate, 2,2-dimethyl-3-hydroxypropyl methacrylate, 5-hydroxypropyl Methacrylate, diethylene glycol monomethacrylate, trimethylolpropane monomethacrylate, pentaerythritol monomethacrylate.

ビニルエーテル類の具体例としては、以下のものが挙げられる。
メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、1−メチル−2,2−ジメチルプロピルビニルエーテル、2−エチルブチルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル、ビニルフェニルエーテル、ビニルトリルエーテル、ビニルクロルフェニルエーテル、ビニル−2,4−ジクロルフェニルエーテル、ビニルナフチルエーテル、ビニルアントラニルエーテル。
Specific examples of vinyl ethers include the following.
Methyl vinyl ether, butyl vinyl ether, hexyl vinyl ether, octyl vinyl ether, decyl vinyl ether, ethyl hexyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, ethoxyethyl vinyl ether, chloroethyl vinyl ether, 1-methyl-2,2-dimethylpropyl vinyl ether, 2-ethylbutyl ether, dimethylaminoethyl Vinyl ether, diethylaminoethyl vinyl ether, butylaminoethyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, tetrahydrofurfuryl vinyl ether, vinyl phenyl ether, vinyl tolyl ether, vinyl chlorophenyl ether, vinyl-2,4-dichlorophenyl ether, vinyl naphthyl ether, vinyl anthranyl ether .

前記ビニルエステル類の具体例としては、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルジメチルプロピオネート、ビニルエチルブチレート、ビニルバレレート、ビニルカプロエート、ビニルクロルアセテート、ビニルジクロルアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセトアセテート、ビニルフェニルアセテート、ビニルアセトアセテート、ビニルラクテート、ビニル−β−フェニルブチレート、ビニルシクロヘキシルカルボキシレート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロル安息香酸ビニル、テトラクロル安息香酸ビニル、及びナフトエ酸ビニルが挙げられる。   Specific examples of the vinyl esters include vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl isobutyrate, vinyl dimethyl propionate, vinyl ethyl butyrate, vinyl valerate, vinyl caproate, vinyl chloroacetate. , Vinyl dichloroacetate, vinyl methoxyacetate, vinyl butoxy acetoacetate, vinyl phenyl acetate, vinyl acetoacetate, vinyl lactate, vinyl-β-phenyl butyrate, vinyl cyclohexyl carboxylate, vinyl benzoate, vinyl salicylate, vinyl chlorobenzoate , Vinyl tetrachlorobenzoate, and vinyl naphthoate.

前記アクリルアミド類としては、アクリルアミド、メチルアクリルアミド、エチルアクリルアミド、プロピルアクリルアミド、ブチルアクリルアミド、t−ブチルアクリルアミド、シクロヘキシルアクリルアミド、ベンジルアクリルアミド、ヒドロキシメチルアクリルアミド、メトキシエチルアクリルアミド、ジメチルアミノエチルアクリルアミド、フェニルアクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、β−シアノエチルアクリルアミド、N−(2−アセトアセトキシエチル)アクリルアミドなどが挙げられる。   Examples of the acrylamides include acrylamide, methyl acrylamide, ethyl acrylamide, propyl acrylamide, butyl acrylamide, t-butyl acrylamide, cyclohexyl acrylamide, benzyl acrylamide, hydroxymethyl acrylamide, methoxyethyl acrylamide, dimethylaminoethyl acrylamide, phenyl acrylamide, dimethyl acrylamide, Examples include diethyl acrylamide, β-cyanoethyl acrylamide, and N- (2-acetoacetoxyethyl) acrylamide.

前記メタクリルアミド類としては、例えば、メタクリルアミド、メチルメタクリルアミド、エチルメタクリルアミド、プロピルメタクリルアミド、ブチルメタクリルアミド、t−ブチルメタクリルアミド、シクロヘキシルメタクリルアミド、ベンジルメタクリルアミド、ヒドロキシメチルメタクリルアミド、メトキシエチルメタクリルアミド、ジメチルアミノエチルメタクリルアミド、フェニルメタクリルアミド、ジメチルメタクリルアミド、ジエチルメタクリルアミド、β−シアノエチルメタクリルアミド、N−(2−アセトアセトキシエチル)メタクリルアミドなどが挙げられる。   Examples of the methacrylamides include methacrylamide, methyl methacrylamide, ethyl methacrylamide, propyl methacrylamide, butyl methacrylamide, t-butyl methacrylamide, cyclohexyl methacrylamide, benzyl methacrylamide, hydroxymethyl methacrylamide, methoxyethyl methacrylamide. Examples include amide, dimethylaminoethyl methacrylamide, phenyl methacrylamide, dimethyl methacrylamide, diethyl methacrylamide, β-cyanoethyl methacrylamide, N- (2-acetoacetoxyethyl) methacrylamide.

また、ヒドロキシル基を有するアクリルアミド類も用いることができ、これらの例としては、N−ヒドロキシメチル−N−(1,1−ジメチル−3−オキソ−ブチル)アクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド、N−エチル−N−メチロールアクリルアミド、N,N−ジメチロールアクリルアミド、N−エタノールアクリルアミド、N−プロパノールアクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド等が挙げられる。   Further, acrylamides having a hydroxyl group can also be used, and examples thereof include N-hydroxymethyl-N- (1,1-dimethyl-3-oxo-butyl) acrylamide, N-methylolacrylamide, and N-methylol. Examples include methacrylamide, N-ethyl-N-methylol acrylamide, N, N-dimethylol acrylamide, N-ethanol acrylamide, N-propanol acrylamide, N-methylol acrylamide, and the like.

前記イタコン酸ジエステル類としては、例えば、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチルなどが挙げられる。マレイン酸ジエステル類としては、例えば、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチルなどが挙げられる。フマル酸ジエステル類としては、例えば、フマル酸ジエチル、フマル酸ジメチル、フマル酸ジブチルなどが挙げられる。   Examples of the itaconic acid diesters include dimethyl itaconate, diethyl itaconate, and dibutyl itaconate. Examples of maleic acid diesters include diethyl maleate, dimethyl maleate, and dibutyl maleate. Examples of the fumaric acid diesters include diethyl fumarate, dimethyl fumarate, dibutyl fumarate, and the like.

前記ビニルケトン類としては、例えば、メチルビニルケトン、フェニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケトンなどが挙げられる。ビニル異節環化合物としては、例えば、ビニルピリジン、N−ビニルイミダゾール、N−ビニルオキサゾリドン、N−ビニルトリアゾール、N−ビニルピロリドンなどが挙げられる。グリシジルエステル類としては、例えば、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレートなどが挙げられる。不飽和ニトリル類としては、例えば、アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどが挙げられる。N−アルキルマレイミド類としては、N−エチルマレイミド、N−ブチルマレイミド等が挙げられる。   Examples of the vinyl ketones include methyl vinyl ketone, phenyl vinyl ketone, and methoxyethyl vinyl ketone. Examples of the vinyl heterocyclic compound include vinyl pyridine, N-vinyl imidazole, N-vinyl oxazolidone, N-vinyl triazole, and N-vinyl pyrrolidone. Examples of glycidyl esters include glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate. Examples of unsaturated nitriles include acrylonitrile and methacrylonitrile. Examples of N-alkylmaleimides include N-ethylmaleimide and N-butylmaleimide.

前記不飽和カルボン酸類としては、例えばアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸等が挙げられ、更に、フマル酸、イタコン酸、マレイン酸等の無水物等が挙げられる。また、これら共重合可能な単量体は、2種類以上用いてもよい。   Examples of the unsaturated carboxylic acids include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid and the like, and further anhydrides such as fumaric acid, itaconic acid and maleic acid. Two or more kinds of these copolymerizable monomers may be used.

本発明における塩素含有重合体としては、特開昭53−58553号公報、特開昭55−43185号公報、特開昭57−139109号公報、特開昭57−139136号公報、特開昭60−235818号公報、特開昭61−108650号公報、特開昭62−256871号公報、特開昭62−280207号公報、特開昭63−256665号公報などに記載がある。   Examples of the chlorine-containing polymer in the present invention include JP-A-53-58553, JP-A-55-43185, JP-A-57-139109, JP-A-57-139136, JP-A-60. -235818, JP-A 61-108650, JP-A 62-256871, JP-A 62-280207, JP-A 63-256665, and the like.

塩素含有重合体における、塩素含有ビニル単量体の割合は、50〜99質量%が好ましく、60〜98質量%がより好ましく、70〜97質量%が更に好ましい。塩素含有ビニル単量体の割合が50%以上であれば、透湿性が悪化するなどの不具合が生ずることがなく、また99%以下であれば、種々の溶剤への溶解性が得られるので好ましい。   The proportion of the chlorine-containing vinyl monomer in the chlorine-containing polymer is preferably from 50 to 99 mass%, more preferably from 60 to 98 mass%, still more preferably from 70 to 97 mass%. If the ratio of the chlorine-containing vinyl monomer is 50% or more, problems such as deterioration of moisture permeability will not occur, and if it is 99% or less, solubility in various solvents is obtained, which is preferable. .

前記塩素含有重合体としては、例えば、「サランレジンR241C」、「サランレジンF216」、「サランレジンR204」、「サランラテックスL502」、「サランラテックスL529B」、「サランラテックスL536B」、「サランラテックスL544D」、「サランラテックスL549B」、「サランラテックスL551B」、「サランラテックスL557」、「サランラテックスL561A」、「サランラテックスL116A」、「サランラテックスL411A」、「サランラテックスL120」、「サランラテックスL123D」、「サランラテックスL106C」、「サランラテックスL131A」、「サランラテックスL111」、「サランラテックスL232A」、「サランラテックスL321B」(以上、旭化成ケミカルズ(株)製)が挙げられる。
これらの中でも、サランレジンF216は、ケトン類溶媒(メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなど)に可溶のため、より好ましく用いられる。
また、サランレジンR204は、結晶性が高いため、被覆層の透湿度を低くすることができ、後述するハードコート性を有する層を塗工する際の溶剤に溶解し難く、ハードコート性を有する層との混合領域を作りにくいため、更に好ましく用いられる。
Examples of the chlorine-containing polymer include “Saran Resin R241C”, “Saran Resin F216”, “Saran Resin R204”, “Saran Latex L502”, “Saran Latex L529B”, “Saran Latex L536B”, “Saran Latex L544D”, “ Saran Latex L549B, Saran Latex L551B, Saran Latex L557, Saran Latex L561A, Saran Latex L116A, Saran Latex L411A, Saran Latex L120, Saran Latex L123D, Saran Latex L106C "," Saran Latex L131A "," Saran Latex L111 "," Saran Latex L232A "," Saran Latex L321B "(above, Asahi Kasei Made Karuzu Co., Ltd.) and the like.
Among these, Saran Resin F216 is more preferably used because it is soluble in ketone solvents (such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone).
In addition, since Saran Resin R204 has high crystallinity, the moisture permeability of the coating layer can be lowered, and it is difficult to dissolve in a solvent when a layer having a hard coat property described later is applied, and a layer having a hard coat property. It is more preferably used because it is difficult to make a mixed region with.

被覆層が低透湿層である場合の厚みは、1〜10μmであることが好ましく、1.2〜7μmであることがより好ましく、1.5〜5μmであることが更に好ましい。被覆層の厚みが該上限値以下であれば、優れた低透湿度を有すると共に、カールが大きくなる、被覆層の脆性が悪化するなどの弊害が生じないので好ましい。カールが大きくなりすぎると、その後の偏光板を作製する工程、例えば偏光膜との接着工程、ハンドリングにおいて支障をきたす。また、作製工程のみならず、偏光板としてもカールが残存することは、LCDに表示ムラ等を発生させ、好ましくない。
したがって、カールが発生しないか、又は実用上問題ない程度に小さくするには、被覆層の膜厚上限を上記範囲とすることが好ましい。
また、被覆層の厚みが前記上限値以下であれば、脆い膜になったり、着色し易くなるなどの弊害も生じないので好ましい。一方、被覆層の厚みの下限は、防湿性より好ましい範囲が規定され、上記範囲とすることで本発明の効果が十分に発現できる。被覆層は少なくとも1層からなるものであり、2層以上に積層されてもよい。
When the coating layer is a low moisture permeable layer, the thickness is preferably 1 to 10 μm, more preferably 1.2 to 7 μm, and still more preferably 1.5 to 5 μm. If the thickness of the coating layer is less than or equal to the upper limit value, it is preferable because it has excellent low moisture permeability and does not cause adverse effects such as an increase in curling and deterioration of the brittleness of the coating layer. If the curl becomes too large, it will hinder subsequent processes for producing a polarizing plate, for example, a bonding process with a polarizing film and handling. Further, it is not preferable that the curl remains not only in the manufacturing process but also as the polarizing plate, which causes display unevenness in the LCD.
Accordingly, the upper limit of the thickness of the coating layer is preferably within the above range in order to reduce the curl to such an extent that it does not occur or is practically unproblematic.
Moreover, it is preferable if the thickness of the coating layer is equal to or less than the above upper limit value because there are no adverse effects such as formation of a brittle film or easy coloring. On the other hand, the lower limit of the thickness of the coating layer is defined as a range that is more preferable than moisture resistance, and the effect of the present invention can be sufficiently exhibited by setting the above range. The coating layer is composed of at least one layer, and may be laminated in two or more layers.

被覆層が低透湿層である場合のヘイズは、5%以下であることが好ましく、3%以下であることがより好ましく、1%以下であることが更に好ましい。表面ヘイズと内部ヘイズの比は任意でよいが、表面ヘイズは1%以下であることが特に好ましい。   When the coating layer is a low moisture-permeable layer, the haze is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and still more preferably 1% or less. The ratio between the surface haze and the internal haze may be arbitrary, but the surface haze is particularly preferably 1% or less.

フッ素含有化合物から形成される被覆層としては、フッ素含有バインダー化合物から形成される、反射防止層として用いられる低屈折率層が好ましい。
低屈折率層は基材フィルムに直接積層されていても構わないが、ハードコート層を介して積層されることが好ましい。また、反射防止層としては複数層構成であっても構わない。この場合、中屈折率層、高屈折率層などが積層される。また、更にハードコート層と基材フィルムの間に低透湿層を設けるのも好ましい態様である。
The coating layer formed from the fluorine-containing compound is preferably a low refractive index layer formed from a fluorine-containing binder compound and used as an antireflection layer.
The low refractive index layer may be directly laminated on the base film, but is preferably laminated via a hard coat layer. Further, the antireflection layer may have a multilayer structure. In this case, a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and the like are laminated. Furthermore, it is also a preferable aspect to provide a low moisture permeability layer between the hard coat layer and the base film.

好ましい層構成の例を以下に挙げるが下記の層構成に限定されるものではない。
基材フィルム/低屈折率層
基材フィルム/ハードコート層/低屈折率層
基材フィルム/ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層
基材フィルム/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
また、基材フィルムとハードコート層の間に低透湿層を設けることも、帯電防止性を維持することができ好ましい態様の1つである。
Examples of preferred layer configurations are listed below, but are not limited to the following layer configurations.
Base film / Low refractive index layer Base film / Hard coat layer / Low refractive index layer Base film / Hard coat layer / High refractive index layer / Low refractive index layer Base film / Hard coat layer / Medium refractive index layer / High Refractive Index Layer / Low Refractive Index Layer In addition, providing a low moisture permeable layer between the base film and the hard coat layer is one of the preferred embodiments because the antistatic property can be maintained.

[低屈折率層] [Low refractive index layer]

前記被覆層が低屈折率層である場合、被覆層の厚みは、0.03〜1μmであることが好ましく、0.05〜0.5μmであることがより好ましく、0.07〜0.2μmであることが更に好ましい。この範囲に制御することにより透湿性と反射率を適切にコントロールすることができる。
前記被覆層が低屈折率層である場合、屈折率は1.20〜1.49が好ましく、1.30〜1.44がより好ましい。更に、低屈折率層は下記数式(A)を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
When the coating layer is a low refractive index layer, the thickness of the coating layer is preferably 0.03 to 1 μm, more preferably 0.05 to 0.5 μm, and 0.07 to 0.2 μm. More preferably. By controlling within this range, moisture permeability and reflectance can be appropriately controlled.
When the coating layer is a low refractive index layer, the refractive index is preferably 1.20 to 1.49, more preferably 1.30 to 1.44. Furthermore, the low refractive index layer preferably satisfies the following formula (A) from the viewpoint of reducing the reflectance.

(m/4)λ×0.7<n<(m/4)×1.3・・・・数式(A) ( M / 4) λ × 0.7 <n L d L <(m / 4) × 1.3... Formula (A)

上記数式(A)中、mは正の奇数であり、nは低屈折率層の屈折率であり、dは低屈折率層の膜厚(nm)である。また、λは波長であり、500〜550nmの範囲の値である。 In the above formula (A), m is a positive odd number, n L is the refractive index of the low refractive index layer, and d L is the film thickness (nm) of the low refractive index layer. Further, λ is a wavelength, which is a value in the range of 500 to 550 nm.

前記低屈折率層としては、熱又は電離放射線により架橋する含フッ素樹脂(以下、「架橋前の含フッ素樹脂」ということがある。)が好ましい。
熱又は電離放射線により架橋する含フッ素樹脂を形成する素材について以下に説明する。
低屈折率層は、例えば、含フッ素ポリマーを主成分とする硬化性組成物を塗布、乾燥、硬化して形成される硬化膜である。
The low refractive index layer is preferably a fluorine-containing resin that is crosslinked by heat or ionizing radiation (hereinafter sometimes referred to as “fluorine-containing resin before crosslinking”).
The material for forming the fluorine-containing resin that is cross-linked by heat or ionizing radiation will be described below.
The low refractive index layer is, for example, a cured film formed by applying, drying and curing a curable composition containing a fluorine-containing polymer as a main component.

−低屈折率層用含フッ素ポリマー−
前記低屈折率層に用いられる含フッ素ポリマーは、フッ素原子を30〜80質量%の範囲で含有することが好ましく、また、架橋性もしくは重合性の官能基を含む含フッ素ポリマーであることが好ましい。
例えば、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物〔例えば(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロデシル)トリエトキシシラン〕の加水分解物や脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性単位とを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。含フッ素共重合体の場合、主鎖は、炭素原子のみからなるのが好ましい。即ち、主鎖骨格に酸素原子や窒素原子などを有しないのが好ましい。
-Fluoropolymer for low refractive index layer-
The fluorine-containing polymer used in the low refractive index layer preferably contains fluorine atoms in the range of 30 to 80% by mass, and is preferably a fluorine-containing polymer containing a crosslinkable or polymerizable functional group. .
For example, in addition to hydrolysates and dehydration condensates of perfluoroalkyl group-containing silane compounds [for example, (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrodecyl) triethoxysilane], crosslink reactivity with fluorine-containing monomer units Examples thereof include fluorine-containing copolymers having units as constituent units. In the case of a fluorinated copolymer, the main chain preferably consists of only carbon atoms. That is, it is preferable that the main chain skeleton does not have an oxygen atom or a nitrogen atom.

前記含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等)、(メタ)アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えばビスコート6FM(大阪有機化学製)やM−2020(ダイキン製)等)、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。   Specific examples of the fluorine-containing monomer unit include, for example, fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, perfluorooctylethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3- Dioxoles, etc.), (meth) acrylic acid partial or fully fluorinated alkyl ester derivatives (for example, Biscoat 6FM (Osaka Organic Chemical) or M-2020 (Daikin)), fully or partially fluorinated vinyl ethers, etc. However, perfluoroolefins are preferred, and hexafluoropropylene is particularly preferred from the viewpoints of refractive index, solubility, transparency, availability, and the like.

前記硬化性組成物は、(A)前記含フッ素ポリマー、(B)無機微粒子、(C)後述するオルガノシラン化合物を含有してなるのが好ましい。   The curable composition preferably contains (A) the fluoropolymer, (B) inorganic fine particles, and (C) an organosilane compound described later.

−−低屈折率層用硬化性組成物に含有するその他の物質−−
前記硬化性組成物は、前述の(A)含フッ素ポリマー、(B)無機微粒子及び(C)オルガノシラン化合物に、必要に応じて各種添加剤及び後述するラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤を添加し、更にこれらを適当な溶剤に溶解して作製される。この際固形分の濃度は、用途に応じて適宜選択されるが一般的には0.01〜60質量%程度であり、好ましくは0.5〜50質量%、特に好ましくは1%〜20質量%程度である。
-Other substances contained in the curable composition for the low refractive index layer-
The curable composition contains the above-mentioned (A) fluorine-containing polymer, (B) inorganic fine particles, and (C) an organosilane compound, if necessary, various additives and a radical polymerization initiator and a cationic polymerization initiator described later. It is prepared by adding them and further dissolving them in a suitable solvent. At this time, the concentration of the solid content is appropriately selected according to the use, but is generally about 0.01 to 60% by mass, preferably 0.5 to 50% by mass, particularly preferably 1% to 20% by mass. %.

−−被覆層形成塗布組成物−−
前記被覆層は、有機溶剤を含有した塗布液組成物から形成されることが好ましい。有機溶剤を蒸発させる乾燥工程が必要であり、同時に水分を蒸発させ帯電の問題が起き易く、本発明が効果的である。
--- Coating layer forming coating composition--
The coating layer is preferably formed from a coating solution composition containing an organic solvent. A drying step for evaporating the organic solvent is required, and at the same time, moisture is evaporated to easily cause a charging problem, and the present invention is effective.

(保護フィルムの製造方法)
次に、本発明の保護フィルムの製造方法について説明する。
本発明の保護フィルムの製造方法は、透明基材フィルム上に被覆層を形成する被覆層形成工程と、被覆層が形成された透明基材フィルムを巻き取る巻き取り工程とを含み、前記被覆層形成工程において、被覆層を乾燥する乾燥工程によって低下した保護フィルムの含水率を上昇させるための含水率調整工程が含まれる。なお、前記巻き取り工程と、前記含水率調整工程とを同時に行ってもよい。
(Method for producing protective film)
Next, the manufacturing method of the protective film of this invention is demonstrated.
The method for producing a protective film of the present invention includes a coating layer forming step of forming a coating layer on the transparent substrate film, and a winding step of winding up the transparent substrate film on which the coating layer is formed. The forming step includes a moisture content adjusting step for increasing the moisture content of the protective film that has been lowered by the drying step of drying the coating layer. In addition, you may perform the said winding-up process and the said moisture content adjustment process simultaneously.

<被覆層形成工程>
前記被覆層形成工程は、透明基材フィルム上に被覆層を形成する工程であり、例えば、ダイレクト・グラビア法、リバース・グラビア法、ダイコート法、コンマコート法などのコート法により、セルロースアシレートフィルムなどの透明基材フィルム上に被覆層用塗布液を塗布して製膜する工程である。
この製膜時においては、塗工装置に対する液の粘度特性を最適とするために、増粘剤などの粘度調整剤を塗工液に添加して、塗布液の液粘度を調整する方法を用いてもよい。
<Coating layer forming step>
The coating layer forming step is a step of forming a coating layer on the transparent substrate film. For example, the cellulose acylate film is formed by a coating method such as a direct gravure method, a reverse gravure method, a die coating method, or a comma coating method. It is the process of apply | coating the coating liquid for coating layers on transparent substrate films, such as forming into a film.
At the time of film formation, in order to optimize the viscosity characteristics of the liquid with respect to the coating apparatus, a method of adjusting the liquid viscosity of the coating liquid by adding a viscosity modifier such as a thickener to the coating liquid is used. May be.

<<乾燥工程>>
前記被覆層形成工程においては、前記被覆層用塗布液中の有機溶剤を蒸発させ、前記被覆層の防湿性、耐水性をより向上させるために、前記透明基材フィルム上に被覆層用塗布液を塗布した後、該被覆層用塗布液を熱処理する乾燥工程を設けることが好ましい。
この熱処理は、50℃以上の温度雰囲気に20秒以上晒されることが好ましい。
なお、前記熱処理温度は、70℃以上であることがより好ましく、90℃以上が更に好ましい。また、前記熱処理時間は、生産性と耐水性の点から、25秒以上3分以下がより好ましく、30秒以上2分以下が更に好ましい。
<< Drying process >>
In the coating layer forming step, in order to evaporate the organic solvent in the coating layer coating solution and further improve the moisture resistance and water resistance of the coating layer, the coating layer coating solution is formed on the transparent substrate film. After coating, it is preferable to provide a drying step of heat-treating the coating layer coating solution.
This heat treatment is preferably exposed to a temperature atmosphere of 50 ° C. or higher for 20 seconds or longer.
The heat treatment temperature is more preferably 70 ° C. or higher, and still more preferably 90 ° C. or higher. The heat treatment time is more preferably 25 seconds or more and 3 minutes or less, and further preferably 30 seconds or more and 2 minutes or less from the viewpoint of productivity and water resistance.

また、この乾燥工程のように、保護フィルム等の試料を高温に晒す工程は、被覆層用塗布液中の有機溶剤を蒸発させる目的以外に、例えば、熱硬化工程や、液晶化合物を配向させるための熟成を行う工程にも用いられる。   In addition, the step of exposing a sample such as a protective film to a high temperature as in this drying step is not limited to the purpose of evaporating the organic solvent in the coating layer coating solution, for example, in order to align the liquid crystal compound. It is also used in the process of aging.

<巻き取り工程>
本発明の保護フィルムは1.4〜4.0質量%以上の含水率で巻き取られることが帯電防止の観点で好ましい。保護フィルムの含水率は、カールフィッシャー法などで測定することができる。
<Winding process>
The protective film of the present invention is preferably wound up at a moisture content of 1.4 to 4.0% by mass or more from the viewpoint of antistatic. The moisture content of the protective film can be measured by the Karl Fischer method or the like.

<含水率調整工程>
上記のように1質量%以上の含水率でロール状保護フィルムを巻き取るためには、ロール状保護フィルムを巻き取る部分の雰囲気が25℃55%RH以上の絶対含水率であることが好ましく、25℃60%RH以上の絶対含水率の雰囲気で巻き取ることがより好ましく、25℃65%RH以上の絶対含水率の雰囲気で巻き込むことが更に好ましい。
なお、ここで言う絶対含水率とは、単位体積の空気に含まれる水分量(g/リットル)のことを言い、ある巻き取り部分の雰囲気が特定の温湿度(例えば25℃55%RH)以上の絶対含水率であるとは、単位体積の空気に含まれる水分量が特定の温湿度(例えば25℃55%RH)に含まれる単位体積中の水分量より多いことを意味する。
<Moisture content adjustment process>
In order to wind up the roll-shaped protective film with a moisture content of 1% by mass or more as described above, the atmosphere of the portion where the roll-shaped protective film is wound is preferably an absolute moisture content of 25 ° C. and 55% RH, It is more preferable to wind in an atmosphere having an absolute moisture content of 25 ° C. and 60% RH or more, and it is more preferable to wind in an atmosphere having an absolute moisture content of 25 ° C. and 65% RH or more.
The absolute moisture content referred to here means the amount of water (g / liter) contained in a unit volume of air, and the atmosphere of a winding portion is not less than a specific temperature and humidity (for example, 25 ° C. and 55% RH). The absolute water content means that the amount of water contained in the unit volume of air is larger than the amount of water contained in a unit volume contained in a specific temperature and humidity (for example, 25 ° C. and 55% RH).

短期間の調湿で1.4質量%以上の含水率を得るためには、平衡含水率が1.7質量%以上の条件で調湿することが好ましい。常温でセルロースアシレートフィルムの平衡含水率が1.7質量%になる条件は、大体25℃で55%RHであり、平衡含水率は調湿湿度の上昇に伴って上昇する。従って巻き取り時の雰囲気は上記であることが好ましい。   In order to obtain a moisture content of 1.4% by mass or more by short-term humidity conditioning, it is preferable to condition the humidity under the condition that the equilibrium moisture content is 1.7% by mass or more. The condition for the equilibrium moisture content of the cellulose acylate film at room temperature to be 1.7% by mass is approximately 55% RH at 25 ° C., and the equilibrium moisture content increases with increasing humidity. Therefore, the atmosphere during winding is preferably as described above.

1質量%以上の含水率でロール状保護フィルムを巻き取るためには、塗布液中の有機溶剤を乾燥させた後に、25℃55%RH以上の絶対含水率の雰囲気で10秒以上調湿することが好ましく、25℃60%RH以上の絶対含水率の雰囲気で調湿することがより好ましく、25℃65%RH以上の絶対含水率の雰囲気で調湿することが更に好ましい。
また、調湿時間は20秒以上であることがより好ましく、30秒以上であることが更に好ましい。
In order to wind up the roll-shaped protective film with a moisture content of 1% by mass or more, after drying the organic solvent in the coating solution, the humidity is adjusted for 10 seconds or more in an atmosphere having an absolute moisture content of 25 ° C. and 55% RH or more. It is more preferable to adjust the humidity in an atmosphere having an absolute moisture content of 25 ° C. and 60% RH or more, and it is more preferable to adjust the humidity in an atmosphere having an absolute moisture content of 25 ° C. and 65% RH.
The humidity control time is more preferably 20 seconds or longer, and further preferably 30 seconds or longer.

上記のような高湿度雰囲気下で調湿するのは塗布液を乾燥した後に一度巻き取り、再び送り出し、調湿して巻き取る方法を用いてもよいが、被覆層形成時の乾燥後に調湿してから巻き取る方が生産性の観点で好ましい。   Humidity adjustment in a high-humidity atmosphere as described above may be performed by winding the coating liquid once after drying, feeding it again, and adjusting and winding the humidity. Then, winding is preferable from the viewpoint of productivity.

本発明のロール状保護フィルムを5m引き出したときのロール状保護フィルムの表面電位の絶対値を低く抑えるためには、巻き取り時の、ロール状保護フィルムの表面電位の絶対値を低く抑えることが好ましい。
巻き取り時のロール状保護フィルムの表面電位は、その絶対値が5kV以下であることが好ましく、3kV以下であることがより好ましく、2kV以下であることが更に好ましい。
In order to suppress the absolute value of the surface potential of the roll-shaped protective film when the roll-shaped protective film of the present invention is pulled out by 5 m, the absolute value of the surface potential of the roll-shaped protective film at the time of winding is suppressed to a low value preferable.
The absolute value of the surface potential of the roll-shaped protective film during winding is preferably 5 kV or less, more preferably 3 kV or less, and even more preferably 2 kV or less.

巻き取り時の、ロール状保護フィルムの表面電位の絶対値を低く抑えるためには、前記ロール状保護フィルムの含水率を高くしてから巻き取ることに加えて、後述する除電装置を、ロール巻き取り装置の近くに設置するのも好ましい態様である。   In order to keep the absolute value of the surface potential of the roll-shaped protective film low during winding, in addition to winding after increasing the water content of the roll-shaped protective film, It is also a preferable aspect to install it near the picking device.

<除電工程>
ロール状保護フィルムの帯電防止施策として、上記のロール状保護フィルムの含水率を上昇させる方法に加えて、被覆層形成時に、搬送中のロール状保護フィルムからの除電を併用するのも好ましい態様である。
この場合、除電は除電装置を設置し、搬送中に除電することが好ましい。特に、被覆層の帯電列がマイナス側に偏っている場合、前記被覆層が金属パスロールに接触するときに剥離帯電を起こすことがあり、このような帯電に対する除電は、前記被覆層を積層し、該被覆層が金属パスロールを接した後に被覆層面、裏面の順で双方について除電を行うことが好ましい。
本発明の保護フィルムの帯電は、被覆層面で発生するが、裏面から先にイオナイザを用いて除電しようとすると、新たに裏面を帯電させてしまうことがある。
<Static elimination process>
As an antistatic measure for the roll-shaped protective film, in addition to the above-described method for increasing the water content of the roll-shaped protective film, it is also preferable to use static elimination from the roll-shaped protective film being conveyed at the time of coating layer formation. is there.
In this case, it is preferable to remove static electricity during transportation by installing a static eliminating device. In particular, when the charge train of the coating layer is biased to the negative side, peeling charge may occur when the coating layer comes into contact with the metal pass roll, and the charge removal for such charging is performed by laminating the coating layer, After the coating layer comes into contact with the metal pass roll, it is preferable to carry out static elimination on both the coating layer surface and the back surface in this order.
Charging of the protective film of the present invention occurs on the surface of the coating layer, but if it is attempted to remove electricity using an ionizer first from the back surface, the back surface may be newly charged.

搬送中の保護フィルムから除電するための除電装置としては、保護フィルムの静電気を除去、又は低減できる装置であればよく、例えば除電バー、除電糸あるいはイオン送風型静電気除去装置を挙げることができる。
これらの中でも、イオン送風型静電気除去装置が好ましい。イオン送風型静電気除去装置は、ガスを、コロナ放電、フレームプラズマ、紫外線、加熱金属体、ラジオアイソトープなどにより電離し、イオンを発生させ、発生させたイオンを対象物に吹き付ける構造の装置である。
前記コロナ放電を利用した静電気除去装置では、高圧トランスを内蔵した電極ユニット、吹き出しユニット、ガス供給部及びコントローラーなどから構成されており、電極ユニットによりコロナ放電を発生させ、ガスをイオン化し、吹き出しユニットによりイオン化したガスを対象物に吹き付けるものである。
供給するガスは、通常、空気が用いられるが、不活性ガスを導入しガス中の酸素濃度を10体積%以下とすることで、危険物に対しての安全性が向上できる効果も得られるので好ましい。
不活性ガスの種類は、特に制限はないが、窒素、二酸化炭素、アルゴンなどのガスでよい。コストの点から窒素、二酸化炭素が好ましい。ガス供給部に流量計を設けてこれらのガスを供給することで実施できる。
The static eliminator for removing static electricity from the protective film being transported may be any device that can remove or reduce static electricity from the protective film, and examples thereof include a static eliminator bar, static eliminating yarn, or an ion blow type static eliminator.
Among these, an ion blowing type static eliminator is preferable. The ion blow type static eliminator is an apparatus having a structure in which a gas is ionized by corona discharge, flame plasma, ultraviolet rays, a heated metal body, a radioisotope, and the like to generate ions, and the generated ions are sprayed on an object.
The static eliminator using corona discharge is composed of an electrode unit with a built-in high-voltage transformer, a blowing unit, a gas supply unit, a controller, and the like. The electrode unit generates corona discharge, ionizes the gas, and blows out the unit. The ionized gas is sprayed onto the object.
Usually, air is used as the gas to be supplied. However, by introducing an inert gas and setting the oxygen concentration in the gas to 10% by volume or less, an effect of improving safety against dangerous substances can be obtained. preferable.
The type of the inert gas is not particularly limited, but may be a gas such as nitrogen, carbon dioxide, or argon. Nitrogen and carbon dioxide are preferable from the viewpoint of cost. It can be implemented by providing a flow meter in the gas supply unit and supplying these gases.

(偏光板)
偏光板は、偏光子(以下、偏光膜ということがある。)、及び該偏光子の両側に配置された二枚の保護フィルムからなる。該保護フィルムの少なくとも一方の保護フィルムは、前述した本発明の保護フィルムである。なお、他方の保護フィルムは、通常のセルロースアセテートフィルムを用いてもよい。
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。
(Polarizer)
The polarizing plate is composed of a polarizer (hereinafter sometimes referred to as a polarizing film) and two protective films disposed on both sides of the polarizer. At least one protective film of the protective film is the protective film of the present invention described above. Note that a normal cellulose acetate film may be used as the other protective film.
Examples of the polarizing film include an iodine polarizing film, a dye polarizing film using a dichroic dye, and a polyene polarizing film. The iodine polarizing film and the dye polarizing film are generally produced using a polyvinyl alcohol film.

(液晶表示装置)
本発明の液晶表示装置は、液晶セルと、該液晶セルの少なくとも一方に設けられた前記偏光板とを少なくとも含む。本発明の液晶表示装置は、反射型、半透過型、透過型液晶表示装置等のいずれであってもよい。
また、本発明の液晶表示装置は、必要に応じて位相差板、反射層、光拡散層、バックライト、フロントライト、光制御フィルム、導光板、プリズムシート、カラーフィルター等の部材を設けてもよい。
本発明の液晶表示装置に用いられる液晶セルとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択され、電極を備える一対の透明基板で液晶層を狭持したもの等の一般的な液晶セルが使用できる。
また、前記液晶セルを構成する前記透明基板としては、液晶層を構成する液晶性を示す材料を特定の配向方向に配向させるものであれば特に制限はない。具体的には、基板自体が液晶を配向させる性質を有している透明基板、基板自体は配向能に欠けるが、液晶を配向させる性質を有する配向膜等をこれに設けた透明基板等がいずれも使用できる。
また、液晶セルの電極は、公知のものが使用できる。通常、液晶層が接する透明基板の面上に設けることができ、配向膜を有する基板を使用する場合は、基板と配向膜との間に設けることができる。
前記液晶層を形成する液晶性を示す材料としては、特に制限されず、各種の液晶セルを構成し得る通常の各種低分子液晶性化合物、高分子液晶性化合物及びこれらの混合物が挙げられる。
また、これらに液晶性を損なわない範囲で色素やカイラル剤、非液晶性化合物等を添加してもよい。
(Liquid crystal display device)
The liquid crystal display device of the present invention includes at least a liquid crystal cell and the polarizing plate provided in at least one of the liquid crystal cells. The liquid crystal display device of the present invention may be any of a reflection type, a semi-transmission type, a transmission type liquid crystal display device and the like.
Further, the liquid crystal display device of the present invention may be provided with members such as a retardation plate, a reflective layer, a light diffusion layer, a backlight, a front light, a light control film, a light guide plate, a prism sheet, and a color filter as necessary. Good.
The liquid crystal cell used in the liquid crystal display device of the present invention is not particularly limited, and is a general liquid crystal cell such as one appropriately selected according to the purpose and having a liquid crystal layer sandwiched between a pair of transparent substrates having electrodes. Can be used.
In addition, the transparent substrate constituting the liquid crystal cell is not particularly limited as long as the liquid crystal material constituting the liquid crystal layer is aligned in a specific alignment direction. Specifically, a transparent substrate having the property of aligning the liquid crystal itself, a substrate itself lacking alignment ability, but a transparent substrate provided with an alignment film having the property of aligning liquid crystal, etc. Can also be used.
Moreover, a well-known thing can be used for the electrode of a liquid crystal cell. Usually, it can be provided on the surface of the transparent substrate in contact with the liquid crystal layer, and when a substrate having an alignment film is used, it can be provided between the substrate and the alignment film.
The material exhibiting liquid crystallinity for forming the liquid crystal layer is not particularly limited, and examples thereof include various ordinary low-molecular liquid crystalline compounds, high-molecular liquid crystalline compounds, and mixtures thereof that can constitute various liquid crystal cells.
Moreover, you may add a pigment | dye, a chiral agent, a non-liquid crystalline compound, etc. in the range which does not impair liquid crystallinity to these.

前記液晶セルは、前記電極基板及び液晶層の他に、後述する各種の方式の液晶セルとするのに必要な各種の構成要素を備えていてもよい。
前記液晶セルの方式としては、TN(Twisted Nematic)方式、STN(SuperTwisted Nematic)方式、ECB(Electrically Controlled Birefringence)方式、IPS(In−Plane Switching)方式、VA(Vertical Alignment)方式、MVA(Multidomain Vertical Alignment)方式、PVA(Patterned Vertical Alignment)方式、OCB(Optically Compensated Birefringence)方式、HAN(Hybrid Aligned Nematic)方式、ASM(Axially Symmetric Aligned Microcell)方式、ハーフトーングレイスケール方式、ドメイン分割方式、あるいは強誘電性液晶、反強誘電性液晶を利用した表示方式等の各種の方式が挙げられる。
また、液晶セルの駆動方式も特に制限はなく、STN−LCD等に用いられるパッシブマトリクス方式、並びにTFT(Thin Film Transistor)電極、TFD(Thin Film Diode)電極等の能動電極を用いるアクティブマトリクス方式、プラズマアドレス方式等のいずれの駆動方式であってもよい。また、カラーフィルターを使用しないフィールドシーケンシャル方式であってもよい。
In addition to the electrode substrate and the liquid crystal layer, the liquid crystal cell may include various components necessary for forming various types of liquid crystal cells described later.
As the liquid crystal cell system, a TN (Twisted Nematic) system, a STN (Super Twisted Nematic) system, an ECB (Electrically Controlled Birefringence) system, an IPS (In-Plane Switching) system, a VA (In-Plane Switching) system, a VA (In-Plane Switching) system, a VA (In-Plane Switching) system, a VA (In-Plane Switching) system, Alignment), PVA (Patterned Vertical Alignment), OCB (Optically Compensated Birefringence), HAN (Hybrid Aligned Nematic Asymmetric), ASM l) method, a halftone gray scale method, the domain division method or a ferroelectric liquid crystal, various methods such as a display system using an antiferroelectric liquid crystal and the like.
The driving method of the liquid crystal cell is not particularly limited, and a passive matrix method used for STN-LCD and the like, and an active matrix method using an active electrode such as a TFT (Thin Film Transistor) electrode and a TFD (Thin Film Diode) electrode, Any driving method such as a plasma addressing method may be used. Further, a field sequential method that does not use a color filter may be used.

以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically by way of examples. However, the embodiments of the present invention are not limited to these examples.

(実施例1)
透明基材フィルムがセルロースアシレートフィルムであり、被覆層が塩化ビニリデンを含む低透湿層である保護フィルムを本発明の実施例1として示す。
(Example 1)
A protective film in which the transparent substrate film is a cellulose acylate film and the coating layer is a low moisture-permeable layer containing vinylidene chloride is shown as Example 1 of the present invention.

<低透湿層用塗布液の調製>
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、被覆層用塗布液を調製した。
<Preparation of coating solution for low moisture permeable layer>
The following composition was put into a mixing tank and stirred to dissolve each component to prepare a coating solution for a coating layer.

[被覆層(低透湿層)用塗布溶液組成]
・塩素含有重合体:R204
{旭化成ライフ&リビング(株)製「サランレジンR204」} 12質量部
・テトラヒドロフラン 62質量部
・トルエン 13質量部
・メチルエチルケトン 13質量部
[Coating solution composition for coating layer (low moisture-permeable layer)]
-Chlorine-containing polymer: R204
{"Saran Resin R204" manufactured by Asahi Kasei Life & Living Co., Ltd.} 12 parts by mass, tetrahydrofuran 62 parts by mass, toluene 13 parts by mass
・ Methyl ethyl ketone 13 parts by mass

<被覆層(低透湿層)の塗設>
市販のセルロースアシレートフィルム(フジタックTD80UF、富士フィルム(株)製、幅1,340mm、厚さ80μm)を、透明保護フィルムとしてロール形態で引き出し、搬送速度30m/分の条件下で、上記被覆層(低透湿層)用塗布溶液を、バーコーターを用いて塗布し、100℃で1分乾燥し、搬送しながら、25℃65%の雰囲気のゾーンを1分間通過させた後、3,000mを巻き取った。この時の被覆層(低透湿層)の膜厚は2.0μmであった。
<Coating of coating layer (low moisture permeability layer)>
A commercially available cellulose acylate film (Fujitac TD80UF, manufactured by Fuji Film Co., Ltd., width 1,340 mm, thickness 80 μm) is drawn out in the form of a roll as a transparent protective film, and the coating layer under the conditions of a conveyance speed of 30 m / min The coating solution for (low moisture permeable layer) was applied using a bar coater, dried at 100 ° C. for 1 minute, passed through a zone of 25% 65% atmosphere for 1 minute while being conveyed, and then 3,000 m Rolled up. The film thickness of the coating layer (low moisture permeability layer) at this time was 2.0 μm.

<含水率の測定>
保護フィルム試料20mm×35mmを、水分測定器(CA−03、三菱化学(株)製)、試料乾燥装置(VA−05、三菱化学(株)製)を用いてカールフィッシャー法で測定した。
ここで、バルクロールの含水率は、バルクロールの外周を3周廃却後、速やかにサンプルし、サンプルビンに封入し、該サンプルビン内に含まれる全水分量(フイルムと空気に含まれる水分量)を上記カールフィッシャー法で測定して水分量Aを得た。
そして、引き続き、サンプリング環境下でサンプルビンに封入した空気に含まれる水分量を同様に測定して水分量Bを得て、前記水分量Aから水分量Bを引いて試料質量で除した値をバルクの含水率とした。
巻き取った後のロール(バルクロール)からサンプルを採取し、保護フィルムの含水率を測定したところ、2.0質量%であった。測定結果を表3に示す。
<Measurement of moisture content>
A protective film sample of 20 mm × 35 mm was measured by a Karl Fischer method using a moisture measuring device (CA-03, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) and a sample drying apparatus (VA-05, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation).
Here, the moisture content of the bulk roll is determined by immediately sampling the outer circumference of the bulk roll after three rounds are discarded, enclosing it in a sample bottle, and the total water content contained in the sample bottle (water contained in the film and air) Amount) was measured by the Karl Fischer method to obtain a water content A.
Subsequently, the amount of water contained in the air enclosed in the sample bottle in the sampling environment is similarly measured to obtain the amount of water B, and the value obtained by subtracting the amount of water B from the amount of water A and dividing by the sample mass The moisture content of the bulk was used.
It was 2.0 mass% when the sample was extract | collected from the roll (bulk roll) after winding, and the moisture content of the protective film was measured. Table 3 shows the measurement results.

<表面電位の測定>
巻き取ったロール(バルクロール)を25℃、50%の部屋に搬送し、フィルムを5m引き出した後のロール(バルクロール)の中心部の表面電位を、電位測定器(STATIRON DX、シシド静電気(株)製)を用いて測定したところ、−0.5kVであった。即ち、本実施例の保護フィルムは、±0.5kV以下で実質的に帯電がなかった。測定結果を表3に示す。
<Measurement of surface potential>
The wound roll (bulk roll) is conveyed to a room at 25 ° C. and 50%, and the surface potential at the center of the roll (bulk roll) after the film is pulled out by 5 m is measured with an electric potential meter (STATIRON DX, It was -0.5 kV. That is, the protective film of this example was substantially not charged at ± 0.5 kV or less. Table 3 shows the measurement results.

<ポリエステルとの帯電列の比較>
JIS L 1094「織物及び編物の帯電性試験方法」に規定の摩擦帯電圧測定法に従って、ポリエステル布との摩擦帯電を測定した。このとき、摩擦布としてJIS L 0803「染色堅牢度試験用添付白布」に規定のポリエステル8−2を摩擦布として、試験片として本発明の保護フィルムを用い被覆層面を摩擦帯電させて帯電圧の符号を測定した。
実施例1の被覆層は負に帯電していたため、ポリエステルに対し、帯電列が負側である。
<Comparison of charged column with polyester>
The triboelectric charge with the polyester fabric was measured in accordance with the frictional band voltage measurement method specified in JIS L 1094 “Testing method for charging properties of woven fabrics and knitted fabrics”. At this time, as a friction cloth, polyester 8-2 specified in JIS L 0803 “attached white cloth for dyeing fastness test” is used as a friction cloth, the protective film of the present invention is used as a test piece, and the surface of the coating layer is triboelectrically charged. The sign was measured.
Since the coating layer of Example 1 was negatively charged, the charged column is on the negative side with respect to the polyester.

<塵埃の評価>
25℃50%の条件でバルクロールからフィルム5m引き出し、表面電位を測定した後にバルクロールを1時間放置後、ロールに付着している塵埃の数を目視にて計測し、1m当たりの数を塵埃の数とした。
<Dust evaluation>
Film 5m drawn from the bulk roll 25 ° C. 50% condition, after 1 hour standing the bulk roll after measuring the surface potential is measured by visual observation the number of dust adhered to the roll, the number per 1 m 2 The number of dust.

<表面粗さの測定>
JIS−B0601−2001に準じて、得られた保護フィルムの表面粗さ(中心線平均粗さ(Ra))を測定したところ、前記保護フィルムにおける被覆層側の表面の中心線平均粗さ(Ra)は0.03μmであり、その反対側の面の中心線平均粗さ(Ra)は、0.04μmであった。即ち、実施例1の中心線平均粗さ(Ra)は、前記保護フィルムの被覆層側の表面、及びその反対側の面共に0.05μm以下であった。
<Measurement of surface roughness>
When the surface roughness (centerline average roughness (Ra)) of the obtained protective film was measured according to JIS-B0601-2001, the centerline average roughness (Ra ) Was 0.03 μm, and the center line average roughness (Ra) of the opposite surface was 0.04 μm. That is, the center line average roughness (Ra) of Example 1 was 0.05 μm or less on both the surface of the protective film on the coating layer side and the surface on the opposite side.

<表面電気抵抗の測定>
前記保護フィルムについて、JIS−K−7194に準ずる方法を用いて、25℃、60%RHの環境下で表面電気抵抗値を測定したところ、前記保護フィルムにおける被覆層側の表面の表面電気抵抗値は1.3×1014Ω/□であり、その反対側の面の表面電気抵抗値は、6.3×1014Ω/□であった。即ち、実施例6〜9の保護フィルムの表面電気抵抗は、被覆層を積層した面、及びその反対側の裏面共に1.0×1014Ω/□以上であった。
<Measurement of surface electrical resistance>
About the said protective film, when the surface electrical resistance value was measured in the environment of 25 degreeC and 60% RH using the method according to JIS-K-7194, the surface electrical resistance value of the surface by the side of the coating layer in the said protective film Was 1.3 × 10 14 Ω / □, and the surface electrical resistance value of the opposite surface was 6.3 × 10 14 Ω / □. That is, the surface electrical resistance of the protective films of Examples 6 to 9 was 1.0 × 10 14 Ω / □ or more on the surface on which the coating layer was laminated and the back surface on the opposite side.

(実施例2〜5)
実施例1において、表2に示すように工程の条件を変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例2〜5の保護フィルムを作製した。作製した実施例2〜5の保護フィルムについて、実施例1と同様に、表面電位、含水率、表面粗さ、及び表面電気抵抗値について測定し、加えて、塵埃について評価した。測定結果、及び評価結果を表3に示す。なお、表3中、「表面電位(kV)」の欄に記載された「<−20kV」とは、表面電位の符号が負であり、絶対値が20kVより大であることを意味する。
(Examples 2 to 5)
In Example 1, the protective film of Examples 2-5 was produced like Example 1 except having changed the process conditions as shown in Table 2. About the produced protective films of Examples 2 to 5, as in Example 1, the surface potential, the moisture content, the surface roughness, and the surface electrical resistance value were measured, and in addition, dust was evaluated. Table 3 shows the measurement results and the evaluation results. In Table 3, “<−20 kV” described in the column “Surface potential (kV)” means that the sign of the surface potential is negative and the absolute value is greater than 20 kV.

(比較例1〜3)
実施例1において、表2に示すように、調湿工程をなくすように工程条件を変更した以外は、実施例1と同様にして、比較例1〜比較例3の保護フィルムを作製した。作製した比較例1〜3の保護フィルムについて、実施例1と同様に、表面電位、含水率、表面粗さ、及び表面電気抵抗値について測定し、加えて、塵埃について評価した。測定結果、及び評価結果を表3に示す。
(Comparative Examples 1-3)
In Example 1, as shown in Table 2, protective films of Comparative Examples 1 to 3 were produced in the same manner as in Example 1 except that the process conditions were changed so as to eliminate the humidity control process. About the produced protective film of Comparative Examples 1-3, it measured about surface potential, moisture content, surface roughness, and surface electrical resistance value similarly to Example 1, and also evaluated dust. Table 3 shows the measurement results and the evaluation results.

(実施例6〜9)
実施例1において、被覆層(低透湿層)の厚さ(膜厚)を表2に示すように変化させた以外は実施例1と同様にして、透湿度を制御した実施例6〜9の保護フィルムを作製した。
上記で作製した実施例1、及び実施例6〜9の保護フィルムを、作製直後に表面電位の測定と塵埃の評価とを行い、25℃、30%RHの環境下で、ロール状態としたまま1ヶ月間保存した後に、再度、25℃、50%RHの雰囲気でフィルムを5m引き出し、ロール形態の保護フィルムの表面電位を測定した。測定結果を表3に示す。
(Examples 6 to 9)
In Example 1, the moisture permeability was controlled in the same manner as in Example 1 except that the thickness (film thickness) of the coating layer (low moisture permeability layer) was changed as shown in Table 2. A protective film was prepared.
The protective films of Example 1 and Examples 6 to 9 produced above were subjected to surface potential measurement and dust evaluation immediately after production, and kept in a roll state in an environment of 25 ° C. and 30% RH. After storing for 1 month, the film was again pulled out in an atmosphere of 25 ° C. and 50% RH for 5 m, and the surface potential of the roll-shaped protective film was measured. Table 3 shows the measurement results.

<透湿度の測定>
また、保護フィルム試料70mmを、JIS Z−0208に従い、吸湿剤を入れた透湿カップを用いて、60℃、95%RHで24時間調湿保存し、調湿前後の吸湿剤の質量差から単位面積当たりの水分量を算出することで求めた。
<Measurement of moisture permeability>
Also, 70 mm 2 of the protective film sample was conditioned and stored at 60 ° C. and 95% RH for 24 hours in accordance with JIS Z-0208 using a moisture permeable cup containing a hygroscopic agent. From this, the water content per unit area was calculated.

実施例1と同様の方法を用いて、実施例6〜9の保護フィルムの被覆層側の表面の帯電列をポリエステルと比較したところ、被覆層の表面は負に帯電しており、被覆層の表面の帯電列はポリエステルに対してマイナス側であった。
また、実施例1と同様にして、実施例6〜9の保護フィルムの中心線表面粗さRaを測定したところ、前記保護フィルムにおける被覆層側の表面の中心線平均粗さ(Ra)は、0.03μmであり、その反対側の面の中心線平均粗さ(Ra)は、0.04μmであった。即ち、実施例6〜9の保護フィルムの中心線表面粗さRaは、被覆層を積層した面、及びその反対側の裏面共に0.05μm以下であった。
一方、実施例1と同様にして、実施例6〜9の保護フィルムの表面電気抵抗値を測定したところ、前記保護フィルムにおける被覆層側の表面の表面電気抵抗値は、表2に記載した通りであった。即ち、実施例6〜9の保護フィルムの表面電気抵抗は、被覆層を積層した面、及びその反対側の裏面共に1.0×1014Ω/□以上であった。
Using the same method as in Example 1, the surface of the coating layer side of the protective films of Examples 6 to 9 was compared with polyester, and the surface of the coating layer was negatively charged. The surface charge train was negative with respect to the polyester.
Moreover, when the centerline surface roughness Ra of the protective films of Examples 6 to 9 was measured in the same manner as in Example 1, the centerline average roughness (Ra) of the surface on the coating layer side in the protective film was The center line average roughness (Ra) of the opposite surface was 0.04 μm. That is, the centerline surface roughness Ra of the protective films of Examples 6 to 9 was 0.05 μm or less on both the surface on which the coating layer was laminated and the back surface on the opposite side.
On the other hand, when the surface electrical resistance values of the protective films of Examples 6 to 9 were measured in the same manner as in Example 1, the surface electrical resistance value of the surface on the coating layer side in the protective film was as described in Table 2. Met. That is, the surface electrical resistance of the protective films of Examples 6 to 9 was 1.0 × 10 14 Ω / □ or more on the surface on which the coating layer was laminated and the back surface on the opposite side.

(実施例10)
<保護フィルムの作製>
透明基材フィルムがセルロースアシレートフィルムであり、被覆層がフッ素系バインダーによって形成される低屈折率層である保護フィルムを本発明の実施例10として示す。
(Example 10)
<Preparation of protective film>
A protective film in which the transparent substrate film is a cellulose acylate film and the coating layer is a low refractive index layer formed of a fluorine-based binder is shown as Example 10 of the present invention.

<<ハードコート層塗布液Hの調製>>
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)306質量部を、16質量部のメチルエチルケトンと220質量部のシクロヘキサノンの混合溶媒に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤(イルガキュア907、チバガイギー社製)7.5質量部を加え、溶解するまで攪拌した後に、450質量部のMEK−ST(平均粒径10〜20nm、固形分濃度30質量%のSiOゾルのメチルエチルケトン分散物、日産化学(株)製)を添加し、撹拌して混合物を得、孔径3μmのポリプロピレン製フィルター(PPE−03)で濾過してハードコート層用塗布液Hを調製した。
<< Preparation of hard coat layer coating solution H >>
306 parts by mass of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was dissolved in a mixed solvent of 16 parts by mass of methyl ethyl ketone and 220 parts by mass of cyclohexanone. After adding 7.5 parts by mass of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) to the obtained solution and stirring until dissolved, 450 parts by mass of MEK-ST (average particle size of 10 to 20 nm, solid content) 30 wt% SiO 2 sol methyl ethyl ketone dispersion (manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) was added and stirred to obtain a mixture, which was filtered through a polypropylene filter (PPE-03) with a pore size of 3 μm for the hard coat layer. A coating solution H was prepared.

<<パーフルオロオレフィン共重合体(1)の合成>>
内容量100mlのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル40ml、ヒドロキシエチルビニルエーテル14.7g、及び過酸化ジラウロイル0.55gを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。
更に、ヘキサフルオロプロピレン(HFP)25gをオートクレーブ中に導入して65℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が65℃に達した時点の圧力は0.53Mpa(5.4kg/cm2)であった。該温度を保持し8時間反応を続け、圧力が0.31MPa(3.2kg/cm2)に達した時点で加熱をやめ放冷した。
次に、室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。
更に、このポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから2回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー28gを得た。
次に、該ポリマーの20gをN,N−ジメチルアセトアミド100mlに溶解、氷冷下アクリル酸クロライド11.4gを滴下した後、室温で10時間攪拌した。
その後、反応液に酢酸エチルを加え、水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることにより、下記構造式に示すパーフルオロオレフィン共重合体(1)を19g得た。得られたポリマーの屈折率は1.421であった。
<< Synthesis of Perfluoroolefin Copolymer (1) >>
In an autoclave with a stirrer made of stainless steel having an internal volume of 100 ml, 40 ml of ethyl acetate, 14.7 g of hydroxyethyl vinyl ether, and 0.55 g of dilauroyl peroxide were charged, and the inside of the system was deaerated and replaced with nitrogen gas.
Furthermore, 25 g of hexafluoropropylene (HFP) was introduced into the autoclave and the temperature was raised to 65 ° C. The pressure when the temperature in the autoclave reached 65 ° C. was 0.53 Mpa (5.4 kg / cm 2 ). The reaction was continued for 8 hours while maintaining the temperature, and when the pressure reached 0.31 MPa (3.2 kg / cm 2 ), the heating was stopped and the mixture was allowed to cool.
Next, when the internal temperature decreased to room temperature, unreacted monomers were driven out, the autoclave was opened, and the reaction solution was taken out. The obtained reaction solution was poured into a large excess of hexane, and the polymer was precipitated by removing the solvent by decantation.
Further, this polymer was dissolved in a small amount of ethyl acetate and reprecipitated twice from hexane to completely remove the residual monomer. After drying, 28 g of polymer was obtained.
Next, 20 g of the polymer was dissolved in 100 ml of N, N-dimethylacetamide, and 11.4 g of acrylic acid chloride was added dropwise under ice cooling, followed by stirring at room temperature for 10 hours.
Thereafter, ethyl acetate was added to the reaction solution, washed with water, the organic layer was extracted and concentrated, and the resulting polymer was reprecipitated with hexane to obtain 19 g of a perfluoroolefin copolymer (1) represented by the following structural formula. It was. The resulting polymer had a refractive index of 1.421.

<<ゾル液aの調製>>
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン120部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(KBM−5103、信越化学工業(株)製)100部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート3部を加え混合したのち、イオン交換水30部を加え、60℃で4時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液aを得た。
得られたゾル液aの質量平均分子量は1,600であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が1,000〜20,000の化合物の成分は100%であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
<< Preparation of Sol Solution a >>
A stirrer, a reactor equipped with a reflux condenser, 120 parts of methyl ethyl ketone, 100 parts of acryloyloxypropyltrimethoxysilane (KBM-5103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 3 parts of diisopropoxyaluminum ethyl acetoacetate were added and mixed. Thereafter, 30 parts of ion-exchanged water was added and reacted at 60 ° C. for 4 hours, and then cooled to room temperature to obtain sol solution a.
The obtained sol liquid a had a mass average molecular weight of 1,600, and among the components higher than the oligomer component, the component of the compound having a molecular weight of 1,000 to 20,000 was 100%. Further, from the gas chromatography analysis, the raw material acryloyloxypropyltrimethoxysilane did not remain at all.

<<低屈折率層用塗布液Lの調製>>
パーフルオロオレフィン共重合体(1)15.2g、中空シリカゾル(屈折率1.31、平均粒径60nm、固形分濃度20%)2.1g、ゾル液a 7.3g、光重合開始剤(イルガキュア907(商品名)、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.76g、メチルエチルケトン301g、シクロヘキサノン9.0gを添加、攪拌の後、孔径5μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液Lを調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、1.40であった。
<< Preparation of coating liquid L for low refractive index layer >>
Perfluoroolefin copolymer (1) 15.2 g, hollow silica sol (refractive index 1.31, average particle size 60 nm, solid content concentration 20%) 2.1 g, sol liquid a 7.3 g, photopolymerization initiator (Irgacure 907 (trade name), Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. (0.76 g), methyl ethyl ketone (301 g), cyclohexanone (9.0 g) were added. After stirring, the mixture was filtered through a polypropylene filter with a pore size of 5 μm for a low refractive index layer. A coating liquid L was prepared. The refractive index of the layer formed by this coating solution was 1.40.

<<ハードコート層の塗設>>
ロール形態で巻回された80μmの厚さのセルロースアシレートフィルム(フジタック TD80UF、富士フイルム(株)製)を引き出して、特開2003−211052に記載の装置構成及び下記の塗布条件で示されるダイコート法によってハードコート層用塗布液Hを塗布し、30℃で15秒間、90℃で20秒間乾燥の後、更に窒素パージ下で160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照射量90mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ6μmのハードコート層を形成し、巻き取った。
<< Coating of hard coat layer >>
A cellulose acylate film (Fujitac TD80UF, manufactured by FUJIFILM Corporation) with a thickness of 80 μm wound in a roll form is pulled out, and the die coat shown by the apparatus configuration described in JP-A-2003-211052 and the following coating conditions The coating liquid H for hard coat layer is applied by the method, dried at 30 ° C. for 15 seconds and 90 ° C. for 20 seconds, and further air-cooled metal halide lamp (made by Eye Graphics Co., Ltd.) of 160 W / cm under nitrogen purge. Then, the coating layer was cured by irradiating ultraviolet rays with an irradiation amount of 90 mJ / cm 2 to form a 6 μm thick hard coat layer and wound up.

<<低屈折率層の塗設>>
上記ハードコート層が塗設されたセルロースアシレートフィルムを再び引き出して、前記低屈折率層用塗布液Lを塗布し、120℃で150秒乾燥の後、更に140℃で8分乾燥させてから窒素パージにより酸素濃度0.1%の雰囲気下で240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照射量300mJ/cm2の紫外線を照射し、厚さ100nmの低屈折率層を形成し、搬送しながら、25℃65%の雰囲気のゾーンを2分間通過させた後、3,000mを巻き取った。
<< Coating of low refractive index layer >>
The cellulose acylate film coated with the hard coat layer is drawn out again, and the coating liquid L for the low refractive index layer is applied, dried at 120 ° C. for 150 seconds, and further dried at 140 ° C. for 8 minutes. Using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) of 240 W / cm in an atmosphere with an oxygen concentration of 0.1% by nitrogen purge, ultraviolet rays with an irradiation amount of 300 mJ / cm 2 were irradiated, and a low thickness of 100 nm A refractive index layer was formed and passed through a zone having an atmosphere of 25 ° C. and 65% for 2 minutes while being conveyed, and then 3,000 m was wound up.

巻き取った後のロールからサンプルを採取し、後述の方法で含水率を測定したら2.0質量%だった。その後、巻き取ったロールを25℃50%の部屋に搬送し、フィルムを5m引き出し後のロールの表面電位を測定したところ、±0.5kV以下で帯電はなかった。   A sample was taken from the roll after winding and the moisture content was measured by the method described later, and it was 2.0% by mass. Thereafter, the wound roll was conveyed to a room at 25 ° C. and 50%, and when the surface potential of the roll after the film was pulled out by 5 m was measured, it was ± 0.5 kV or less and there was no charge.

<表面粗さの測定>
実施例10のロール状保護フィルムの被覆層の表面、及びその反対側の裏面における中心線平均表面粗さRaを、実施例1と同様にして測定したところ、前記表面の中心線平均表面粗さRaは、0.02μmであり、前記裏面の中心線平均表面粗さRaは0.04μmであった。測定結果を表3に示す。
<Measurement of surface roughness>
When the center line average surface roughness Ra on the surface of the coating layer of the roll-shaped protective film of Example 10 and the back surface on the opposite side was measured in the same manner as in Example 1, the center line average surface roughness of the surface was measured. Ra was 0.02 μm, and the center line average surface roughness Ra of the back surface was 0.04 μm. Table 3 shows the measurement results.

<表面電気抵抗の測定>
実施例10の保護フィルムの被覆層(低屈折率層)の表面を実施例1と同様にポリエステルと帯電列を比較したところ、前記被覆層がマイナスに帯電しており、被覆層の表面の帯電列はポリエステルに対して負側であることが確認された。
また、実施例10のロール状保護フィルムの被覆層の表面、及びその反対側の裏面における表面電気抵抗を、実施例1と同様にして測定した。測定結果を表3に示す。
<Measurement of surface electrical resistance>
When the surface of the coating layer (low refractive index layer) of the protective film of Example 10 was compared with the polyester and the charged column in the same manner as in Example 1, the coating layer was negatively charged and the surface of the coating layer was charged. The row was confirmed to be negative with respect to the polyester.
Moreover, the surface electrical resistance in the surface of the coating layer of the roll-shaped protective film of Example 10 and the back surface on the opposite side was measured in the same manner as in Example 1. Table 3 shows the measurement results.

<ハードコート層の斑の評価>
実施例10のロール状保護フィルムを作製する工程で、ハードコート層を積層し、巻き取ったフィルムから長さが50cmのサンプルを全幅サンプリングし、ハードコート層を積層していない側を黒マジックで塗った後に、ハードコート層を積層した面が上になるように台の上に置き、上から三波長蛍光灯で照らし、下記評価基準に基づき、干渉斑を評価した。評価結果を表3に示す。
<Evaluation of spots on hard coat layer>
In the step of producing the roll-shaped protective film of Example 10, a hard coat layer was laminated, a sample having a length of 50 cm was sampled from the wound film, and the side on which the hard coat layer was not laminated was black magic. After coating, the substrate was placed on a table so that the surface on which the hard coat layer was laminated, and illuminated from above with a three-wavelength fluorescent lamp, and interference spots were evaluated based on the following evaluation criteria. The evaluation results are shown in Table 3.

[評価基準]
○:斑が確認できない。
×:斑が確認できる。
[Evaluation criteria]
○: Spots cannot be confirmed.
X: Spots can be confirmed.

<表面電位の経時変化>
実施例10のロール状保護フィルムについて、表面電位、及び塵埃を評価した後に、25℃、30%RHの環境下に1ヶ月間保存した後、再度、25℃、50%RHの雰囲気で保護フィルムを5m引き出し、ロール状保護フィルムの表面電位を測定した。結果を表3に示す。
<Change in surface potential over time>
About the roll-shaped protective film of Example 10, after evaluating surface potential and dust, after storing for 1 month in an environment of 25 ° C. and 30% RH, the protective film is again used in an atmosphere of 25 ° C. and 50% RH. Was pulled out for 5 m, and the surface potential of the roll-shaped protective film was measured. The results are shown in Table 3.

(実施例11)
<保護フィルムの作製>
実施例10の保護フィルムにおいて、透明基材フィルムをTD80UFの代わりに上記実施例1で作製したロール状保護フィルムとした以外は、実施例10と同様にして、実施例11のロール状保護フィルムを作製した。なお、ハードコート層は実施例1の保護フィルムの被覆層を積層した面に積層した。
(Example 11)
<Preparation of protective film>
In the protective film of Example 10, the roll-shaped protective film of Example 11 was prepared in the same manner as in Example 10 except that the transparent substrate film was a roll-shaped protective film prepared in Example 1 instead of TD80UF. Produced. In addition, the hard-coat layer was laminated | stacked on the surface which laminated | stacked the coating layer of the protective film of Example 1. FIG.

<表面粗さの測定>
実施例10と同様にして、実施例11のロール状保護フィルムの被覆層の表面、及びその反対側の裏面における中心線平均表面粗さRaを測定した。測定結果を表3に示す。
<Measurement of surface roughness>
In the same manner as in Example 10, the centerline average surface roughness Ra on the surface of the coating layer of the roll-shaped protective film of Example 11 and the back surface on the opposite side was measured. Table 3 shows the measurement results.

<表面電気抵抗の測定>
実施例10と同様にして、実施例11の保護フィルムの被覆層(低屈折率層)の表面をポリエステルと帯電列を比較したところ、前記被覆層がマイナスに帯電しており、被覆層の表面の帯電列はポリエステルに対して負側であることが確認された。
また、実施例10と同様にして、実施例11のロール状保護フィルムの被覆層の表面、及びその反対側の裏面における表面電気抵抗を測定した。測定結果を表3に示す。
<Measurement of surface electrical resistance>
In the same manner as in Example 10, when the surface of the protective film covering layer (low refractive index layer) of Example 11 was compared with a charged column, the surface of the covering layer was found to be negatively charged. It was confirmed that the charged column of the negative electrode was negative with respect to the polyester.
Moreover, it carried out similarly to Example 10, and measured the surface electrical resistance in the surface of the coating layer of the roll-shaped protective film of Example 11, and the back surface on the opposite side. Table 3 shows the measurement results.

<ハードコート層の斑の評価>
実施例10と同様にして、実施例11のロール状保護フィルムのハードコート層上の干渉斑を評価した。評価結果を表3に示す。
<Evaluation of spots on hard coat layer>
In the same manner as in Example 10, interference spots on the hard coat layer of the roll-shaped protective film of Example 11 were evaluated. The evaluation results are shown in Table 3.

<表面電位の経時変化>
実施例10と同様にして、実施例11のロール状保護フィルムについて、25℃、30%RHの環境下に1ヶ月間保存した後、25℃、50%RHの雰囲気における表面電位を測定した。結果を表3に示す。
<Change in surface potential over time>
In the same manner as in Example 10, the roll-shaped protective film of Example 11 was stored for 1 month in an environment of 25 ° C. and 30% RH, and then the surface potential in an atmosphere of 25 ° C. and 50% RH was measured. The results are shown in Table 3.

(比較例4)
実施例10の保護フィルムの製造方法において、搬送しながら、25℃65%の雰囲気のゾーンを1分間通過させる工程をなくした以外は実施例10と同様にして、比較例4のロール状保護フィルムを作製した。
(Comparative Example 4)
In the manufacturing method of the protective film of Example 10, the roll-shaped protective film of Comparative Example 4 was carried out in the same manner as in Example 10 except that the step of passing the zone at 25 ° C. and 65% atmosphere for 1 minute was eliminated while being conveyed. Was made.

<表面粗さの測定>
実施例10と同様にして、比較例4のロール状保護フィルムの被覆層の表面、及びその反対側の裏面における中心線平均表面粗さRaを測定した。測定結果を表3に示す。
<Measurement of surface roughness>
In the same manner as in Example 10, the centerline average surface roughness Ra on the surface of the coating layer of the roll-shaped protective film of Comparative Example 4 and the back surface on the opposite side was measured. Table 3 shows the measurement results.

<表面電気抵抗の測定>
実施例10と同様にして、比較例4の保護フィルムの被覆層(低屈折率層)の表面をポリエステルで接触帯電させ、前記表面電位計を用いて測定したところ、前記被覆層がマイナスに帯電しており、被覆層の表面の帯電列はポリエステルに対して負側であることが確認された。
また、実施例10と同様にして、比較例4のロール状保護フィルムの被覆層の表面、及びその反対側の裏面における表面電気抵抗を測定した。測定結果を表3に示す。
<Measurement of surface electrical resistance>
In the same manner as in Example 10, the surface of the coating layer (low refractive index layer) of the protective film of Comparative Example 4 was contact-charged with polyester and measured using the surface potentiometer. The coating layer was negatively charged. It was confirmed that the charge train on the surface of the coating layer was negative with respect to the polyester.
Moreover, it carried out similarly to Example 10, and measured the surface electrical resistance in the surface of the coating layer of the roll-shaped protective film of the comparative example 4, and the back surface on the opposite side. Table 3 shows the measurement results.

<ハードコート層の斑の評価>
実施例10と同様にして、比較例4のロール状保護フィルムのハードコート層上の干渉斑を評価した。評価結果を表3に示す。
<Evaluation of spots on hard coat layer>
In the same manner as in Example 10, interference spots on the hard coat layer of the roll-shaped protective film of Comparative Example 4 were evaluated. The evaluation results are shown in Table 3.

<表面電位の経時変化>
実施例10と同様にして、比較例4のロール状保護フィルムについて、25℃、30%RHの環境下に1ヶ月間保存した後、25℃、50%RHの雰囲気における表面電位を測定した。結果を表3に示す。
<Change in surface potential over time>
In the same manner as in Example 10, the roll-shaped protective film of Comparative Example 4 was stored for 1 month in an environment of 25 ° C. and 30% RH, and then the surface potential in an atmosphere of 25 ° C. and 50% RH was measured. The results are shown in Table 3.

(比較例5)
実施例10の保護フィルムにおいて、透明基材フィルムをTD80UFの代わりに上記比較例1で作製したロール状保護フィルムを用い、低屈折率層を積層しなかった以外は、実施例10と同様にして、比較例5のロール状保護フィルムを作製した。なお、ハードコート層は比較例1の保護フィルムの被覆層を積層した面に積層した。
(Comparative Example 5)
In the protective film of Example 10, the transparent substrate film was used in the same manner as in Example 10 except that the roll-shaped protective film prepared in Comparative Example 1 was used instead of TD80UF, and the low refractive index layer was not laminated. The roll-shaped protective film of Comparative Example 5 was produced. In addition, the hard-coat layer was laminated | stacked on the surface which laminated | stacked the coating layer of the protective film of the comparative example 1. FIG.

<ハードコート層の斑の評価>
実施例10と同様にして、比較例5のロール状保護フィルムのハードコート層上の干渉斑を評価した。評価結果を表3に示す。
<Evaluation of spots on hard coat layer>
In the same manner as in Example 10, interference spots on the hard coat layer of the roll-shaped protective film of Comparative Example 5 were evaluated. The evaluation results are shown in Table 3.

<表面電位の経時変化>
実施例10と同様にして、比較例5のロール状保護フィルムについて、25℃、30%RHの環境下に1ヶ月間保存した後、25℃、50%RHの雰囲気における表面電位を測定した。結果を表3に示す。
<Change in surface potential over time>
In the same manner as in Example 10, the roll-shaped protective film of Comparative Example 5 was stored for 1 month in an environment of 25 ° C. and 30% RH, and then the surface potential in an atmosphere of 25 ° C. and 50% RH was measured. The results are shown in Table 3.

ここで、実施例1〜11、及び比較例1〜5の保護フィルムの構成を表1に示す。   Here, the structures of the protective films of Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 to 5 are shown in Table 1.

表3に示すように、含塩素化合物である塩化ビニリデンを含む被覆層の表面は、ポリエステルに対する帯電列が負に偏っており、透明基材フィルムとの間で剥離帯電が起きやすいことが認められた。
そのような環境化においても、透明基材フィルム上に被覆層が積層された後に、含水率調整工程を経た実施例1〜5の保護フィルムは、表面電位の絶対値が5kV以下に抑えられていることが確認された。また、実施例1〜5において、塵埃の数は表面電位の絶対値の増加に伴い、増加していることが認められた。
一方、含水率調整工程を経なかった比較例1、及び調湿湿度を10%RHに設定した比較例2では、被覆層における含水量が著しく少なく、塵埃の存在が顕著に現れた。
As shown in Table 3, it is recognized that the surface of the coating layer containing vinylidene chloride, which is a chlorine-containing compound, is negatively charged with respect to the polyester, and peeling charge tends to occur between the transparent substrate film and the surface. It was.
Even in such an environment, the protective films of Examples 1 to 5 that have undergone the moisture content adjustment step after the coating layer is laminated on the transparent base film have the absolute value of the surface potential suppressed to 5 kV or less. It was confirmed that Moreover, in Examples 1-5, it was recognized that the number of dust is increasing with the increase in the absolute value of surface potential.
On the other hand, in Comparative Example 1 in which the moisture content adjustment step was not performed and in Comparative Example 2 in which the humidity control humidity was set to 10% RH, the moisture content in the coating layer was remarkably small, and the presence of dust appeared remarkably.

また、表3によれば、透湿度が1,000g/m・日程度の被覆層が設けられた実施例10の保護フィルムは、送り出した後の表面の電位が1ヵ月後には大きく上昇するが、透湿度が500g/m・日以下の被覆層が設けられた実施例1〜7、及び実施例11の保護フィルムでは、表面の電位の上昇が少なく、帯電防止性の持続性が高いことが確認された。 Moreover, according to Table 3, the protective film of Example 10 provided with a coating layer having a moisture permeability of about 1,000 g / m 2 · day greatly increases the surface potential after being sent out after one month. However, in the protective films of Examples 1 to 7 and Example 11 in which the coating layer having a moisture permeability of 500 g / m 2 · day or less was provided, the increase in surface potential was small and the antistatic property was highly durable. It was confirmed.

また、表3によれば、実施例10〜11のように、フッ素系バインダーを用いた低屈折率層が形成された保護フィルムは、帯電列がマイナスに偏っており、透明基材フィルムとの間で剥離帯電が起き易い。
しかしながら、このような保護フィルムでも、含水率を1.4質量%以上にする含水率調整工程を経ているため、帯電を防止することができる。特に、保護フィルムの透湿度を500g/m・日以下にすることで、帯電防止効果を持続することができる。
In addition, according to Table 3, as in Examples 10 to 11, the protective film in which the low refractive index layer using the fluorine-based binder was formed had a negatively charged column, and the protective film Peeling electrification tends to occur between them.
However, even such a protective film can be prevented from being charged because it has undergone a moisture content adjusting step of making the moisture content 1.4% by mass or more. In particular, the antistatic effect can be maintained by setting the moisture permeability of the protective film to 500 g / m 2 · day or less.

更に、実施例11の保護フィルムは、帯電がほとんどない実施例1のロール状保護フィルムを透明基材フィルムとして用いているため、防塵性に優れ、ハードコート層上の干渉斑の発生も防止することが確認された。一方、帯電が大きい比較例1のロール状保護フィルムを透明基材フィルムとして用いている比較例4は、ハードコート層上の干渉斑の発生を防止できないことが確認された。   Furthermore, since the protective film of Example 11 uses the roll-shaped protective film of Example 1 that is hardly charged as a transparent base film, it is excellent in dust resistance and prevents the occurrence of interference spots on the hard coat layer. It was confirmed. On the other hand, it was confirmed that Comparative Example 4 using the roll-shaped protective film of Comparative Example 1 having a large charge as a transparent substrate film cannot prevent the occurrence of interference spots on the hard coat layer.

(実施例12)
<偏光板の作製>
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を製作し、偏光膜を製作し、市販のセルロースアセテートフィルム(フジタックTD80UF、富士フイルム(株)製)に鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の一方の面に貼り付けた。
更に、同様にして実施例1で作製したロール状保護フィルムを、除塵処理を行いながら鹸化処理を行い、被覆層を形成していない面を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、前記偏光膜の他方の面に貼り付けて、実施例12の偏光板を作製した。
(Example 12)
<Preparation of polarizing plate>
A polarizing film is manufactured by adsorbing iodine to a stretched polyvinyl alcohol film, a polarizing film is manufactured, and a commercially available cellulose acetate film (Fujitac TD80UF, manufactured by Fuji Film Co., Ltd.) is saponified to form a polyvinyl alcohol adhesive. Was attached to one surface of the polarizing film.
Further, the roll-shaped protective film produced in Example 1 was saponified while performing dust removal treatment, and the surface on which the coating layer was not formed was coated with a polyvinyl alcohol-based adhesive. Affixed to the other surface to produce the polarizing plate of Example 12.

(実施例13)
<偏光板の作製>
実施例12において、市販のセルロースアセテートフィルム(フジタックTD80UF、富士フイルム(株)製)の代わりに視野角拡大フィルム(ワイドビューフィルムSA 12B、富士フイルム(株)製)を用いた以外は実施例12と同様にして、実施例13の偏光板を作製した。なお、前記視野角拡大フィルムは、液晶層が積層されていない面を偏光子側となるように貼り合せた。
(Example 13)
<Preparation of polarizing plate>
In Example 12, a viewing angle widening film (Wide View Film SA 12B, manufactured by Fuji Film Co., Ltd.) was used instead of the commercially available cellulose acetate film (Fujitac TD80UF, manufactured by Fuji Film Co., Ltd.). In the same manner as described above, a polarizing plate of Example 13 was produced. In addition, the said viewing angle expansion film was bonded together so that the surface by which the liquid crystal layer was not laminated | stacked might become a polarizer side.

(比較例6)
<偏光板の作製>
実施例12において、実施例1で作製したロール状保護フィルムの代わりに、比較例1で作製したロール状保護フィルムを用いた以外は実施例12と同様にして、比較例6の偏光板を作製した。
(Comparative Example 6)
<Preparation of polarizing plate>
In Example 12, a polarizing plate of Comparative Example 6 was produced in the same manner as Example 12 except that the roll-like protective film produced in Comparative Example 1 was used instead of the roll-like protective film produced in Example 1. did.

<点欠陥の評価>
得られた実施例12〜13の偏光板、及び比較例6の偏光板を、各10mずつ、透過モードで面状検査を行い、保護フィルムと偏光膜の間に存在し、20μm以上の塵埃に起因する点欠陥を調べた。
実施例12〜13の偏光板では、帯電がほとんどない実施例1のロール状保護フィルムを用いているため、塵埃に起因する点欠陥は確認されなかった。
一方、比較例6の偏光板では、鹸化処理時、及び偏光膜との貼り合わせ時に除塵処理を行ったにもかかわらず、帯電が大きい比較例1のロール状保護フィルムを用いているため、塵埃に起因する点欠陥が5個確認された。
したがって、本発明の保護フィルムを用いることで、塵埃起因の点欠陥のない偏光板が得られることが分かる。
<Evaluation of point defects>
The obtained polarizing plates of Examples 12 to 13 and the polarizing plate of Comparative Example 6 were subjected to a surface inspection in a transmission mode by 10 m each, and existed between the protective film and the polarizing film, and dust of 20 μm or more The resulting point defects were investigated.
In the polarizing plates of Examples 12 to 13, since the roll-shaped protective film of Example 1 having almost no charge was used, no point defect due to dust was confirmed.
On the other hand, in the polarizing plate of Comparative Example 6, since the roll-shaped protective film of Comparative Example 1 having a large charge was used even though the dust removal treatment was performed at the time of saponification treatment and bonding with the polarizing film, Five point defects due to the above were confirmed.
Therefore, it can be seen that by using the protective film of the present invention, a polarizing plate free from point defects caused by dust can be obtained.

(実施例14)
<液晶表示装置の作製>
透過型TN液晶表示装置を搭載したノートパソコン(Satellite J11、東芝製)の偏光板を剥し、それら偏光板の代わりに、実施例12の偏光板を、視野角拡大フィルムが液晶セルに対向するように設置して、実施例14の液晶表示装置を作製した。
(Example 14)
<Production of liquid crystal display device>
The polarizing plate of a notebook personal computer (Satellite J11, manufactured by Toshiba) equipped with a transmission type TN liquid crystal display device is peeled off, and the polarizing plate of Example 12 is used instead of the polarizing plate so that the viewing angle widening film faces the liquid crystal cell. The liquid crystal display device of Example 14 was produced.

<輝点の評価>
上記で作製した液晶表示装置に電源を入れ、黒表示させ、輝点の数を目視評価した。輝点は全く観られなかった。
<Evaluation of bright spots>
The liquid crystal display device produced above was turned on to display black, and the number of bright spots was visually evaluated. No bright spots were seen.

(比較例7)
<液晶表示装置の作製>
実施例14において、実施例12の偏光板を比較例6の偏光板に代えた以外は、実施例14と同様にして、比較例7の液晶表示装置を作製した。
(Comparative Example 7)
<Production of liquid crystal display device>
A liquid crystal display device of Comparative Example 7 was produced in the same manner as in Example 14 except that the polarizing plate of Example 12 was replaced with the polarizing plate of Comparative Example 6 in Example 14.

<輝点の評価>
実施例14と同様にして、輝点の数を評価したところ、偏光板のゴミ付着部分に対応した部分が輝点となっており、2個の輝点が観察された。
<Evaluation of bright spots>
When the number of bright spots was evaluated in the same manner as in Example 14, the portion corresponding to the dust adhering portion of the polarizing plate was a bright spot, and two bright spots were observed.

以上説明したように、本発明の保護フィルムは、剥離帯電を低減させたので、剥離帯電に起因する塵埃の付着や、ハードコート層などにおける斑の発生を低減することができる。
また、このような保護フィルムを用いることによって、点欠陥の発生が低減された偏光板、並びに黒表示時に白抜け(輝点)のない液晶表示装置を提供することができる。
As described above, since the protective film of the present invention has reduced peeling electrification, it is possible to reduce the adhesion of dust due to the peeling electrification and the occurrence of spots on the hard coat layer.
Further, by using such a protective film, it is possible to provide a polarizing plate in which the occurrence of point defects is reduced and a liquid crystal display device free from white spots (bright spots) during black display.

本発明の保護フィルムは、剥離帯電を低減させたので、剥離帯電に起因する塵埃の付着や、ハードコート層などにおける斑の発生を低減することができるので、偏光板、及びそれを用いた液晶表示装置に好適に用いることができる。
本発明の偏光板、及び液晶表示装置は、点欠陥の発生が低減された優れた性能を有しており、携帯電話、パソコン用モニタ、テレビ、液晶プロジェクタなどに好適に使用される。
Since the protective film of the present invention has reduced peeling electrification, it can reduce the adhesion of dust due to the peeling electrification and the occurrence of spots on the hard coat layer, etc., so that the polarizing plate and the liquid crystal using the same It can be suitably used for a display device.
The polarizing plate and the liquid crystal display device of the present invention have excellent performance with reduced occurrence of point defects, and are suitably used for mobile phones, personal computer monitors, televisions, liquid crystal projectors, and the like.

Claims (12)

透明基材フィルムの少なくとも一方の面に、塩素含有ビニル単量体から誘導される繰り返し単位を含む樹脂、及びフッ素含有樹脂の少なくともいずれかを含む被覆層が形成され、含水率が1.4質量%〜4.0質量%であることを特徴とする保護フィルム。   A coating layer containing at least one of a resin containing a repeating unit derived from a chlorine-containing vinyl monomer and a fluorine-containing resin is formed on at least one surface of the transparent substrate film, and the moisture content is 1.4 mass. % To 4.0% by mass of a protective film. 25℃、50%RHの環境下で、ロール状とされた状態から、5m/分の速度で5m以上引き出したときの表面電位の絶対値が、10kV以下であることを特徴とする保護フィルム。   A protective film having an absolute value of a surface potential of 10 kV or less when drawn 5 m or more at a speed of 5 m / min from a rolled state in an environment of 25 ° C. and 50% RH. 被覆層は、帯電列がポリエチレンよりも負である材料を含む請求項1から2のいずれかに記載の保護フィルム。   The protective film according to claim 1, wherein the coating layer includes a material in which the charged column is more negative than polyethylene. 塩素含有ビニル単量体が、塩化ビニリデンである請求項1から3のいずれかに記載の保護フィルム。   The protective film according to claim 1, wherein the chlorine-containing vinyl monomer is vinylidene chloride. 透明基材フィルムが、セルロースアシレートを含む請求項1から4のいずれかに記載の保護フィルム。   The protective film according to claim 1, wherein the transparent base film contains cellulose acylate. 60℃、95%RHでの透湿度が、500g/m・日以下である請求項1から5のいずれかに記載の保護フィルム。 The protective film according to any one of claims 1 to 5, wherein moisture permeability at 60 ° C and 95% RH is 500 g / m 2 · day or less. 一層以上の被覆層を透明基材フィルム上に形成する被覆層形成工程と、前記透明基材フィルム上に前記被覆層が形成されることによって積層体をなす保護フィルムの含水率が1.5質量%〜4.0質量%になるように含水率を調整する含水率調整工程と、前記透明基材フィルムを巻き取る巻き取り工程とを含むことを特徴とする保護フィルムの製造方法。   The coating layer forming step of forming one or more coating layers on the transparent substrate film, and the moisture content of the protective film forming the laminate by forming the coating layer on the transparent substrate film is 1.5 mass The manufacturing method of the protective film characterized by including the moisture content adjustment process which adjusts a moisture content so that it may become% -4.0 mass%, and the winding-up process which winds up the said transparent base film. 含水率調整工程が、保護フィルムを搬送しながら25℃、55%RH以上の雰囲気下で10秒以上調湿する工程を含む請求項7に記載の保護フィルムの製造方法。   The manufacturing method of the protective film of Claim 7 in which a moisture content adjustment process includes the process of humidity-controlling for 10 second or more in 25 degreeC and 55% RH or more atmosphere, conveying a protective film. 被覆層形成工程が、50℃以上の温度に20秒以上保護フィルムを晒す乾燥工程を含む請求項7から8のいずれかに記載の保護フィルムの製造方法。   The manufacturing method of the protective film in any one of Claim 7 to 8 in which a coating layer formation process includes the drying process which exposes a protective film to the temperature of 50 degreeC or more for 20 second or more. 請求項7から9のいずれかに記載の保護フィルムの製造方法によって製造されたことを特徴とする保護フィルム。   A protective film produced by the method for producing a protective film according to claim 7. 偏光子と、該偏光子の少なくとも一方の面に設けられた請求項1から6、及び10のいずれかに記載の保護フィルムとを有することを特徴とする偏光板。   A polarizing plate comprising a polarizer and the protective film according to claim 1 provided on at least one surface of the polarizer. 請求項11に記載の偏光板を有することを特徴とする液晶表示装置。   A liquid crystal display device comprising the polarizing plate according to claim 11.
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