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JP2008211064A - 可変容量コンデンサアレイ及び可変容量コンデンサリレー - Google Patents

可変容量コンデンサアレイ及び可変容量コンデンサリレー Download PDF

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JP2008211064A
JP2008211064A JP2007047741A JP2007047741A JP2008211064A JP 2008211064 A JP2008211064 A JP 2008211064A JP 2007047741 A JP2007047741 A JP 2007047741A JP 2007047741 A JP2007047741 A JP 2007047741A JP 2008211064 A JP2008211064 A JP 2008211064A
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Hiroshi Katsuta
宏 勝田
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Abstract

【課題】 容量値の制御性に優れ、チューナビリティが変化しない可変容量コンデンサアレイ及び可変容量コンデンサリレーを提供すること。
【解決手段】 第1端子と第2端子との間に可変容量素子が複数個直列に接続され、第1端子とこの第1端子から数えて1個目の可変容量素子との接続点,各可変容量素子間の接続点及び第2端子から数えて1個目の可変容量素子と第2端子との接続点に、第1端子側から順に第1個別バイアスライン及び第2個別バイアスラインが交互に接続された可変容量コンデンサと、第2端子に接続された個別信号端子と、を具備する、複数個の可変容量コンデンサストリングと、複数個の可変容量コンデンサストリングの第1端子が接続された共通信号端子と、を具備する。
【選択図】 図1

Description

本発明は、直流バイアス電圧の印加により容量が大きく変化する可変容量コンデンサを用いた可変容量コンデンサアレイ、及びこれを用いた可変容量コンデンサリレーに関するものである。
可変容量コンデンサとして、電気絶縁性を有した支持基板上に、薄膜の下部電極層,薄膜誘電体層及び薄膜の上部電極層がこの順に積層された構造において、薄膜誘電体層の材料としてチタン酸バリウムストロンチウム((BaSr1−xTi1−y3−z)(以下、BSTともいう。ただし、y<1)からなる誘電体材料を用いて、上部電極層と下部電極層との間に所定のバイアス電位を与えることにより薄膜誘電体層の誘電率を変化させて容量を変化させるものが知られている(例えば、特許文献1を参照)。
このような可変容量コンデンサでの容量変化は高周波領域にも及び、高周波領域でも利用可能となる。このような直流バイアス電圧の印加による高周波領域での可変容量コンデンサの容量変化を利用して、周波数特性を変化させることができる有用な電子部品が得られる。
例えば、上述の可変容量コンデンサと薄膜インダクタとを組み合わせた電圧制御型薄膜共振器では、直流バイアス電圧の印加により共振周波数を変化させることができる。また、可変容量コンデンサもしくは電圧制御型薄膜共振器と、薄膜インダクタ,薄膜キャパシタとを組み合わせた電圧制御型薄膜帯域通過フィルタでは、直流バイアス電圧の印加により通過帯域を変化させることができる。また、可変容量コンデンサはマイクロ波用の電圧制御型電子部品にも利用可能である(例えば、特許文献2を参照)。
このような、高誘電率薄膜を使用した可変容量コンデンサにおいて、高チューナビリティ(Tunability),高Q値の他に、高耐電力性,高絶縁性,低歪み特性,低温度係数,経時変化がないことなどが要求されている。なお、チューナビリティは、可変容量コンデンサの可変量を示すものであり、チューナビリティx=(C(0)−C(V))/C(0)×100(%)の式で表される(ここで、C(0)は、電圧印加前の容量(初期容量)、C(V)は、電圧印加後の容量である)。
また、可変容量コンデンサとして、上述の可変容量コンデンサと同様の構成の複数個の可変容量素子が直列接続されて成り、個々の可変容量素子にそれぞれ直流バイアス電圧印加用のバイアスラインを配置した構成が提案されている。これにより、各可変容量素子に直流バイアス電圧を安定且つ均一に印加できるとともに、高周波電圧(高周波信号)を個々の可変容量素子に分圧できる。このため、直流バイアス電圧による容量の変化を大きくし、且つ高周波信号による容量の変化、ノイズ、非線形歪みは小さく抑えることができるとともに、耐電力に優れた可変容量コンデンサとすることができる(例えば、特許文献3を参照。)。
特開平11−260667号公報 特表平8−509103号公報 特開2004−165588号公報
発明者は、上述の特許文献3に示す可変容量コンデンサの高い容量変化率,低い歪み特性及び高い耐電力性等に着目して、これらを高周波信号を伝搬する回路を構成する電子部品としても用いることを試みた。そのためには、多種多様の用途に対応するために、初期容量値を広い範囲にわたり設定できるとともに、設計の自由度が高いことが必要となる。
本発明は上述の事情に鑑みて案出されたものであり、本発明の目的は、所望のチューナビリティを有するとともに、初期容量値を所望の値に設定することができる可変容量コンデンサアレイ及び可変容量コンデンサリレーを提供することにある。
本発明の可変容量コンデンサアレイは、1)第1端子と第2端子との間に可変容量素子が複数個直列に接続され、前記第1端子とこの第1端子から数えて1個目の前記可変容量素子との接続点,各可変容量素子間の接続点及び前記第2端子から数えて1個目の可変容量素子と前記第2端子との接続点に、前記第1端子側から順に第1個別バイアスライン及び第2個別バイアスラインが交互に接続された可変容量コンデンサと、前記第2端子に接続された個別信号端子と、各々が有する複数個の可変容量コンデンサストリングと、前記複数個の可変容量コンデンサストリングの前記第1端子が共通に接続された共通信号端子と、を具備するものである。
また、本発明の可変容量コンデンサアレイは、2)上記1)の構成において、1つの前記可変容量コンデンサストリングについて、複数個の前記第1個別バイアスラインが共通に接続された第1バイアス端子と、1つの前記可変容量コンデンサストリングについて、複数個の前記第2個別バイアスラインが共通に接続された第2バイアス端子と、をさらに具備するものである。
また、本発明の可変容量コンデンサアレイは、3)上記1)の構成において、共通バイアス端子をさらに具備し、前記複数個の可変容量コンデンサストリングは、前記第1個別バイアスライン及び前記第2個別バイアスラインのいずれかが前記共通バイアス端子に接続された第1可変容量コンデンサストリングと、前記第1個別バイアスライン及び前記第2個別バイアスラインのいずれかが前記共通バイアス端子に接続された第2可変容量コンデンサストリングと、を含むものである。
また、本発明の可変容量コンデンサアレイは、4)上記2)の構成において、共通バイアス端子をさらに具備し、前記複数個の可変容量コンデンサストリングは、前記第1バイアス端子及び前記第2バイアス端子のいずれかが前記共通バイアス端子に接続された第1可変容量コンデンサストリングと、前記第1バイアス端子及び前記第2バイアス端子のいずれかが前記共通バイアス端子に接続された第2可変容量コンデンサストリングと、を含むものである。
また、本発明の可変容量コンデンサアレイは、5)上記2)の構成において、前記可変容量コンデンサは前記可変容量素子を奇数個有し、前記複数個の可変容量コンデンサストリングは、前記第1バイアス端子が前記共通信号端子と共用され、前記第2バイアス端子が前記個別信号端子と共用された第1可変容量コンデンサストリングと、前記第1バイアス端子が前記共通信号端子と共用され、前記第2バイアス端子が前記個別信号端子と共用された第2可変容量コンデンサストリングと、を含むものである。
また、本発明の可変容量コンデンサリレーは、6)上記2)〜5)の構成のいずれかの可変容量コンデンサアレイを複数個接続したことを特徴とするものである。
本発明の上記1)乃至上記6)の可変容量コンデンサアレイ及び可変容量コンデンサリレーによれば、共通信号端子と、可変容量コンデンサストリング毎に設けられた個別信号端子と、の中から少なくとも2つの任意の端子を入力端子,出力端子として用いることにより、以下に説明するように、初期容量値を所望の値に調整することができる。この場合、可変容量素子毎にバイアス電圧が印加されるため、最大限容量を変化させることができ、可変容量コンデンサアレイにおいて、どのように入力端子,出力端子を選んだとしてもチューナビリティは変化せず、一定の値を保つことができる。
例えば、共通信号端子を入力端子、可変容量コンデンサストリング毎に設けられた個別信号端子を出力端子とした場合には、各可変容量コンデンサを複数列、並列に接続したものとなり、初期容量値を大きくすることができる。また、複数の個別信号端子からの出力端子の選択方法により、初期容量値の選択の自由度が増すこととなり、所望の初期容量値を有する可変容量コンデンサアレイを得ることができる。なお、個別信号端子同士を外付けのスイッチング素子を介して接続すれば、さらに容易に初期容量値を選択することができる。なお、入力端子と出力端子とを入れ替えてもよい。
また、2つの可変容量コンデンサストリングを用い、個別信号端子をそれぞれ入出力端子とした場合には、可変容量コンデンサストリングを2列直列接続させたものとなり、初期容量値を小さくすることができる。さらに、第1個別バイアスライン及び第2個別バイアスラインが各可変容量素子に接続されているので、直流的には可変容量素子が並列接続された状態となる。そのため、可変容量素子毎にバイアス電圧が印加されるため、最大限容量を変化させることができ、チューナビリティを一定に値に保った可変容量コンデンサアレイを提供することができる。
さらに、第1,第2個別バイアスラインを電気的に接続する共通バイアス端子,第1バイアス端子,第2バイアス端子を設けることで、各可変容量素子にバイアス電圧を一括で印加することができるようになり、簡易な構成でバイアス電圧を印加できるので、取り扱いが容易となる。
また、本発明の高周波用電圧制御型共振器の一部(共振回路の一部として)、または、共振回路同士を結合する手段として上記可変容量コンデンサアレイ及び可変容量コンデンサリレーを用いることにより、高周波的には直列接続され、直流的には並列接続された可変容量素子を有する、可変容量コンデンサアレイを用いて共振器を作製することになり、波形歪、相互変調歪みノイズが小さく、耐電力に優れた高周波用電圧制御型共振器である電子部品を実現できる。また、共振回路を具備した電圧制御型高周波フィルタ及び電圧制御型アンテナ共用器においても同様に、波形歪、相互変調歪みノイズが小さく、耐電力に優れた電圧制御型高周波フィルタ及びアンテナ共用器を作製することができる。
以下、本発明の可変コンデンサアレイについて図面を参照しつつ詳細に説明する。
図1は、本発明の第1の実施形態を示す等価回路図である。
図1において、符号C1〜C6は可変容量素子であり、B11〜B14は抵抗成分及びインダクタ成分の少なくとも一方を含む第1個別バイアスライン(図1では、抵抗成分R11〜R14を含んでいる)であり、B21〜B24は抵抗成分及びインダクタ成分の少なくとも一方を含む第2個別バイアスライン(図1では、抵抗成分R21〜R24を含んでいる)である。P1a,P1bは第1端子、P2a,P2bは第2端子、Sa,Sbは個別信号端子、CS1は共通信号端子である。なお、以下の図面においても同様であるが、同様の箇所には同一の符合を付し、重複する説明を省略する。
第1端子P1aと第2端子P2aとの間に可変容量素子C1〜C3が、第1端子P1bと第2端子P2bとの間に可変容量素子C4〜C6が、それぞれ直列に接続されて可変容量コンデンサを構成する。この可変容量コンデンサの第2端子P2aに個別信号端子Saが、第2端子P2bに個別信号端子Sbが、それぞれ接続されて、可変容量コンデンサストリングを構成する。以下、便宜上、第1可変容量コンデンサストリング,第2可変容量コンデンサストリングと呼ぶ。この第1可変容量コンデンサストリングの第1端子P1aと、第2可変容量コンデンサストリングの第1端子P1bとが、共通信号端子CS1に共通に接続されている。さらに第1可変容量コンデンサストリングは、第1端子P1aとこの第1端子P1aから数えて1個目の可変容量素子C1との間、可変容量素子C2,C3との間、第2端子P2aから1個目の可変容量素子C3と第2端子P2aとの間に、第1端子P1a側から順に第1個別バイアスラインB11,B12及び第2個別バイアスラインB21,B22が交互に接続されている。同様に第2可変容量コンデンサストリングも、第1端子P1bと第2端子P2bとの間に、第1個別バイアスラインB13,B14と第2個別バイアスラインB23,B24とが接続されている。このようにして可変容量コンデンサアレイが構成されている。
第1端子P1a,P1bと第2端子P2a,P2bとの間には、高周波信号が可変容量素子C1〜C3及びC4〜C6を介して流れることになる。このとき、第1及び第2バイアスラインB11〜B14,B21〜B24の抵抗成分R11〜R14,R21〜R24は、可変容量素子C1〜C6の高周波信号の周波数領域でのインピーダンスに対して大きなインピーダンス成分となっており、高周波帯のインピーダンスに悪影響を与えない。また、高周波信号がバイアスラインB11〜B14,B21〜B24に漏れることはない。
可変容量素子C1の容量成分を制御するバイアス信号は、第1個別バイアスラインB11と第2個別バイアスラインB21との間を可変容量素子C1を介して流れる。この可変容量素子C1に印加される電圧によって、可変容量素子C1はそれに応じた誘電率となり、その結果、所望の容量成分を得ることができるものになる。すなわち、可変容量素子C1の容量を所望の値に制御するバイアス信号を安定して可変容量素子C1のみに供給することができ、バイアス信号の印加によって可変容量素子C1の誘電率が所望通りに変動し、よって容量成分の制御が容易な可変容量素子となる。同様に可変容量素子C2〜C6の容量成分も制御することができる。
この可変容量コンデンサアレイにおいて、個別信号端子Sa,Sb、共通信号端子CS1の少なくとも2つを入力端子、出力端子として選択することで、初期容量値を所望の値に調整することができる。
例えば、共通信号端子CS1を入力端子、個別信号端子Sa,Sbを出力端子とした場合には、各可変容量コンデンサを2列、並列に接続したものとなり、初期容量値を大きくすることができる。さらに個別信号端子Sa,Sbにスイッチング素子を接続してから両者を電気的に接続すれば、さらに初期容量値を自由に調節できるものとなる。
また、個別信号端子Sa,Sbを入力端子と出力端子とした場合には、可変容量素子C1〜C6が直列に接続されたものとなり、初期容量値を小さくすることができる。
このように、可変容量コンデンサアレイの端子(Sa,Sb,CS1)からの入出力端子の選択方法により、1つの可変容量コンデンサアレイで複数の初期容量値を得ることができるので、設計の自由度の高いものとすることができる。
次に、図2に、本発明の第2の実施形態の等価回路図を示す。
図2に示す可変容量コンデンサアレイは、図1に示す可変容量コンデンサアレイとバイアス電圧の印加方法が異なる。具体的には、第1,第2可変容量コンデンサストリングの、第1個別バイアスライン毎に形成された第1バイアス端子と、第2個別バイアスライン毎に形成された第2バイアス端子と、をさらに設けている。このように、複数個の可変容量コンデンサストリング毎に、複数個の第1個別バイアスラインを共通に接続するバイアス端子,複数個の第2個別バイアスラインを共通に接続する第2バイアス端子を設けてもよい。また、このような第1バイアス端子,第2バイアス端子は、複数個の可変容量コンデンサストリング全てにおいて設ける必要はなく、少なくとも1つの可変容量コンデンサストリングにおいて設けていればよい。
図2において、第1バイアス端子をV1(V1a,V1b),第2個別バイアス端子をV2(V2a,V2b)とする。ここで、第1バイアスストリングの第1個別バイアスラインB11,B12が、第1バイアス端子V1aに接続され、第2個別バイアスラインB21,B22が、第2バイアス端子V2aに接続される。また、第2バイアスストリングの第1個別バイアスラインB13,B14が、第1バイアス端子V1bに接続され、第2個別バイアスラインB23,B24が、第2バイアス端子V2bに接続される。
このように接続することで、第1バイアス端子V1と第2バイアス端子V2との間に、可変容量素子C1〜C3,C4〜C6が直流的に並列に接続されているものとなる。このため、可変容量素子C1〜C6それぞれに、第1バイアス端子V1と第2バイアス端子V2との電位差に等しいバイアス電圧が印加される。これにより、各可変容量素子C1〜C6は最大限に容量変化させることができ、高周波信号の入出力端子の接続方法によらずチューナビリティを一定に保つことができる。
また、このような構成とすることで、バイアス電圧を印加するための端子を共通化することができるので、より取り扱いの容易な可変容量コンデンサアレイとすることができる。
次に、図3に、本発明の第3の実施形態の一例の等価回路図を示す。
図3に示す可変容量コンデンサアレイは、図1に示す可変容量コンデンサアレイとバイアス電圧の印加方法が異なる。具体的には、共通バイアス端子をさらに設け、この共通バイアス端子に、第1,第2可変容量コンデンサストリングの、第1個別バイアスライン,第2個別バイアスラインのいずれか一方が接続されている。
図3において、共通バイアス端子をV3とする。ここで、第1,第2可変容量コンデンサストリングの第2個別バイアスラインB21〜B24が、共通バイアス端子V3に電気的に接続されている。
このように接続することで、共通バイアス端子V3から第2個別バイアスラインB21〜B24を通り、第1個別バイアスラインB11〜B14までの間に、可変容量素子C1〜C3,C4〜C6が直流的に並列に接続されたものとなる。このため、可変容量素子C1〜C6それぞれに、共通バイアス端子V3と第1個別バイアスラインとの間の電位差に等しいバイアス電圧が印加される。これにより、各可変容量素子C1〜C6は最大限に容量変化させることができ、高周波信号の入出力端子の接続方法によらずチューナビリティを一定に保つことができる。
また、このような構成とすることで、バイアス電圧を印加するための端子を共通化することができるので、より取り扱いの容易な可変容量コンデンサアレイとすることができる。特に、第1個別バイアスラインB11〜B14を接地すれば、共通バイアス端子V3のみにバイアス電圧を印加すればよいので、構成が簡易になるとともに取り扱いが容易となる。
次に、図4に、本発明の第4の実施形態の一例の等価回路図を示す。
図4に示す可変容量コンデンサアレイは、図2に示す可変容量コンデンサアレイとバイアス電圧の印加方法が異なる。具体的には、共通バイアス端子をさらに設け、この共通バイアス端子に、第1,第2可変容量コンデンサストリングの、第1バイアス端子,第2バイアス端子のいずれか一方が接続されている。
図4においては、第1,第2可変容量コンデンサストリングの第2バイアス端子V2a,V2bが共通バイアス端子V3に接続されている。
このように接続することで、共通バイアス端子V3と第1バイアス端子V1a,V1bとの間に可変容量素子C1〜C3、C4〜C6が直流的に並列に接続されているものとなる。このため、可変容量素子C1〜C6それぞれに、共通バイアス端子V3と第1バイアス端子V1との電位差に等しいバイアス電圧が印加される。これにより、各可変容量素子C1〜C6は最大限に容量変化させることができ、高周波信号の入出力端子の接続方法によらずチューナビリティを一定に保つことができる。
また、このような構成とすることで、バイアス電圧を印加するための端子を共通化することができるので、より取り扱いの容易な可変容量コンデンサアレイとすることができる。
図5,図6は、図4に示す可変容量コンデンサアレイの変形例を示す等価回路図である。
図4においては、共通バイアス端子V3に第1,第2可変容量コンデンサストリングの第2バイアス端子V2a,V2bを接続したが、図5に示すように、第1可変容量コンデンサストリングの第2バイアス端子V2aと第2可変容量コンデンサストリングの第1バイアス端子V1bとを接続してもよいし、図6に示すように、第1可変容量コンデンサストリングの第1バイアス端子V1aと第2可変容量コンデンサストリングの第2バイアス端子V2bとを接続してもよいし、第1,第2可変容量コンデンサストリングの第1バイアス端子V1a,V1bを接続してもよい。
以上の図1〜図6に示す例では、可変容量コンデンサに奇数個(3個)の可変容量素子が直列接続された例について説明したが、図7に示すように、偶数個(図7では4個)の可変容量素子が直列接続されていてもよい。
また、第1,第2可変容量コンデンサストリングで、同数の可変容量素子が接続された可変容量コンデンサを用いた例について説明したが、図8に示すように、異なる数(図8では、第1可変容量コンデンサに3個、第2可変容量コンデンサに4個接続した)の可変容量素子を接続してもよい。
さらに、第1,第2可変容量コンデンサストリングの2つの可変容量コンデンサストリングからなる可変容量コンデンサアレイの例について説明したが、3つ以上の可変容量コンデンサストリングを共通信号端子に接続してもよい。
次に、図9に、本発明の第5の実施形態の一例の等価回路図を示す。
図9に示す可変容量コンデンサアレイは、図2に示す可変容量コンデンサアレイとバイアス電圧の印加方法が異なる。具体的には、第1,第2可変容量コンデンサストリングの、第1バイアス端子を共通信号端子と共有とし,第2バイアス端子を個別信号端子と共有としている。このような構成により、共通信号端子と2つの個別信号端子とのうち、高周波信号の入出力端子として選択する少なくとも2つの信号端子は、バイアス電圧を印加する端子も兼ねていることから、高周波電圧と直流電圧(バイアス電圧)との両方を重畳して印加することとなる。
図9において、第1,第2可変容量コンデンサストリングの第1バイアス端子V1a,V1bと共通信号端子CS1とが、電気的に接続されることで共有(共用)されており、第1可変容量コンデンサストリングの第2バイアス端子V2aと個別信号端子Saとが電気的に接続されることで共有(共用)されており、第2可変容量コンデンサストリングの第2バイアス端子V2bと個別信号端子Sbとが電気的に接続されることで共有(共用)されている。このような構成は、可変容量コンデンサが奇数個の可変容量素子からなるときに実現できる。
さらに、図2に示す例では、第1,第2個別バイアスラインB11〜B14,B21〜B24にそれぞれ抵抗成分R11〜R14,R21〜R24を設けた例について説明した。これに対して、図9では、第1可変容量コンデンサストリングの第1個別バイアスラインB11,B12で1つの抵抗成分R1aを用いている。同様に、第1個別バイアスラインB13,B14で、第2個別バイアスラインB21,B22で、第2個別バイアスラインB23,B24で、それぞれ1つの抵抗成分R1b,R2a,R2bを用いている。
このような構成において、バイアス電圧は次のように印加される。まず、可変容量素子C1については、共通信号端子CS1(V1)から、可変容量素子C1を介して、第2個別バイアスラインB21,B22を通り、個別信号端子Sa(V2a)に流れる。可変容量素子C2については、共通信号端子CS1(V1)から、第1個別バイアスラインB11,B12を通り、可変容量素子C2を介して、第2個別バイアスラインB21,B22を通り、個別信号端子Sa(V2a)に流れる。可変容量素子C3については、共通信号端子CS1(V1)から、第1個別バイアスラインB11,B12を通り、可変容量素子C3を介して、個別信号端子Sa(V2a)に流れる。可変容量素子C4〜C6についても同様である。従って、このように共通信号端子CS1(V1)と個別信号端子Sa,Sb(V2)との間に可変容量素子C1〜C3、C4〜C6が直流的に並列に接続されているものとなる。このため、可変容量素子C1〜C6それぞれに、共通信号端子CS1(V1)と個別信号端子Sa,Sb(V2)との電位差に等しいバイアス電圧が印加される。これにより、各可変容量素子C1〜C6は最大限に容量変化させることができ、高周波信号の入出力端子の接続方法によらずチューナビリティを一定に保つことができる。
また、このような構成とすることで、バイアス電圧を印加するための端子を、高周波信号を印加するための端子と共通化することができるので、より簡易な構成で、より取り扱いの容易な可変容量コンデンサアレイとすることができる。
以下に、図1〜図9に示すような本発明の可変コンデンサアレイの具体的な構成について説明する。
例として、図2に示す、本発明の可変容量コンデンサアレイの第2の実施形態を用いて説明する。図10は、本発明の第2の実施形態の透視状態の平面図,図11は図10のA−A’線における矢視断面図である。
図10,図11において、1は支持基板であり、2は下部電極層であり、31〜34は導体ラインであり、4は薄膜誘電体層であり、5は上部電極層であり、61〜64は薄膜抵抗であり、7は絶縁層であり、8は引き出し電極層であり、9は保護層であり、10は半田拡散防止層であり、111,112、113,114は半田端子部である。なお、この半田拡散防止層10と半田端子部111及び112a,112bとで、共通信号端子CS1及び個別信号端子Sa,Sbを構成している。また、半田拡散防止層10と半田端子部113a,113b及び114a、114bとで、第1バイアス端子V1a,V1b及び第2バイアス端子V2a,V2bを構成している。また、下部電極層2,薄膜誘電体層4,上部電極層5が厚み方向に重なった領域で可変容量素子を構成している。さらに、第1個別バイアスライン,第2個別バイアスラインは、導体ライン31〜34と薄膜抵抗61〜64の組み合わせで構成される。
支持基板1は、アルミナセラミックス等のセラミック基板や、サファイア等の単結晶基板等である。そして、支持基板1の上に下部電極層2,薄膜誘電体層4及び上部電極層5を順次、支持基板1のほぼ全面に成膜する。これら各層の成膜終了後、上部電極層5,薄膜誘電体層4及び下部電極層2を順次所定の形状にエッチングする。なお、後述する半田端子部111から半田端子部112a,112bまで可変容量素子C1〜C3,C4〜C6を直列接続するために、可変容量素子C1,C2及び可変容量素子C1,C2で下部電極層2を共有するようにパターニングする。
下部電極層2は、薄膜誘電体層4の形成に高温スパッタが必要となるため、高融点であることが必要である。具体的には、Pt,Pd等の金属材料から成るものである。さらに、下部電極層2の高温スパッタによる形成後、薄膜誘電体層4のスパッタ温度である700〜900℃へ加熱され、薄膜誘電体層4のスパッタ開始まで一定時間保持することにより、平坦な膜となる。
下部電極層2の厚みは、抵抗成分と下部電極層2の連続性とを考慮した場合、厚いほうが望ましいが、支持基板1との密着性を考慮した場合は、相対的に薄い方が望ましく、両方を考慮して決定される。具体的には、0.1μm〜10μmである。下部電極層2の厚みが0.1μmよりも薄くなると、電極自身の抵抗が大きくなるほか、電極の連続性が確保できなくなる可能性がある。一方、10μmより厚くすると、支持基板1との密着性が低下したり、支持基板1の反りを生じたりするおそれがある。
薄膜誘電体層4は、少なくともBa,Sr,Tiを含有するペロブスカイト型酸化物結晶粒子から成る高誘電率の誘電体層であることが好ましい。この薄膜誘電体層4は、上述の下部電極層2の表面に形成されている。例えば、ペロブスカイト型酸化物結晶粒子が得られる誘電体材料をターゲットとして、スパッタリング法による成膜を所望の厚みになるまで行なう。このとき、基板温度を高く、例えば800℃としてスパッタリングを行なうことにより、スパッタ後の熱処理を行なうことなく、高誘電率で容量変化率の大きい、低損失の薄膜誘電体層4が得られる。
上部電極層5の材料としては、電極の抵抗を下げるため、抵抗率の小さなAuが望ましいが、薄膜誘電体層4との密着性向上のために、Pt等を密着層として用いることが望ましい。この上部電極層5の厚みは0.1μm〜10μmとなっている。この厚みの下限については、下部電極層2と同様に、電極自身の抵抗を考慮して設定される。また厚みの上限については、薄膜誘電体層4との密着性を考慮して設定される。
第1可変容量コンデンサストリングの第1個別バイアスラインは、導体ライン31〜33と薄膜抵抗61,62とから構成されており、可変容量素子C1の上部電極層5に接続する引き出し電極層8,可変容量素子C2,C3を接続する引き出し電極層8に接続されている。この第1個別バイアスラインは、半田端子部113aに接続されている。第2個別バイアスラインは、導体ライン34と薄膜抵抗63,64とから構成され、可変容量素子C1,C2を接続する共通の下部電極層2,可変容量素子C3の下部電極層2に接続されている。この第2個別バイアスラインは、半田端子部114aに接続されている。第2可変容量コンデンサストリングについても同様である。
この導体ライン31〜34は、上述の下部電極層2,薄膜誘電体層4及び上部電極層5を形成した後、新たに成膜することによって形成することができる。その際には、既に形成した下部電極層2,薄膜誘電体層4及び上部電極層5を保護するために、リフトオフ法を用いることが望ましい。また、これら導体ライン31〜34は、下部電極層2のパターニングの際に同時にこれら導体ライン31〜34も形成するようにパターニングを行なうことによっても形成することができる。
この導体ライン31〜34の材料としては、第1及び第2個別バイアスラインの抵抗値のばらつきを抑制するために、低抵抗であるAuが望ましいが、薄膜抵抗61〜64の抵抗が十分に高いので、Pt等を用いて、下部電極層2と同じ材料及び同じ工程で形成してもよい。
次に、第1及び第2個別バイアスラインを構成する薄膜抵抗61〜64の材料としては、タンタル(Ta)を含有し、かつその比抵抗は1mΩ・cm以上であるものが望ましい。具体的な材料としては、窒化タンタルやTaSiN,Ta−Si−Oを例示することができる。例えば、窒化タンタルの場合であれば、Taをターゲットとして、窒素を加えてスパッタリングを行なう、リアクティブスパッタ法により、所望の組成比及び抵抗率の薄膜抵抗61〜64を成膜することができる。
このスパッタリングの条件を適宜選択することにより、膜厚が40nm以上で、比抵抗が1mΩ・cm以上の薄膜抵抗61〜64を形成することができる。さらに、スパッタリングの終了後、レジストを塗布して所定の形状に加工した後、反応性イオンエッチング(RIE)等のエッチングプロセスを行なうことにより、簡便にパターニングすることができる。
また、本発明の可変コンデンサを周波数2GHzで使用し、可変容量素子C1の容量を7pFとした場合には、この周波数の1/10(200MHz)からインピーダンスに悪影響を与えないように薄膜抵抗61〜64を可変容量素子C1のインピーダンスの10倍以上の抵抗値に設定するものとすると、必要な第1及び第2バイアスラインの抵抗値は、約1.1kΩ以上であればよい。本発明の可変コンデンサにおける薄膜抵抗61〜64の比抵抗率は1mΩ・cm以上が望ましいため、例えば第1個別及び第2個別バイアスラインの抵抗値として10kΩを得る場合であれば、薄膜抵抗61〜64のアスペクト比(長さ/幅)は、膜厚を50nmとしたとき、50以下とできるため、素子形状を大きくすることなく実現可能なアスペクト比を有する薄膜抵抗61〜64となる。
これら薄膜抵抗61〜64を含む第1及び第2個別バイアスラインは、支持基板1上に直接形成されていることが望ましい。これにより、可変容量素子C1〜C6上に形成する際に必要となる、下部電極層2,上部電極層4及び引き出し電極層8との絶縁を確保するための絶縁層が不要となり、可変容量素子C1〜C6を構成する層の数を低減することが可能となる。さらに、高抵抗の薄膜抵抗61〜64を用いることにより、形状を大きくすることなく、可変容量素子C1〜C6を作製することができる。
次に、絶縁層7は、この上に形成する引き出し電極層8と下部電極層2との絶縁を確保するために必要である。さらに、この絶縁層7は、第1及び第2個別バイアスラインを被覆しており、薄膜抵抗61〜64が酸化されるのを防止できるため、第1及び第2バイアスラインの抵抗値を経時的に一定とすることができ、これにより信頼性を向上させることができる。絶縁層7の材料は、耐湿性を向上させるために、窒化ケイ素及び酸化ケイ素の少なくとも1種類よりなるものとするとよい。これらは、被覆性を考慮して、化学気相堆積(CVD)法等により、成膜することが望ましい。
また、絶縁層7は、通常のレジストを用いるドライエッチング法等により、所望の形状に加工することができる。そして、絶縁層7には、薄膜抵抗61〜64と引き出し電極層8との接続を確保するために導体ライン32,33の一部を露出させるために、導体ライン32,33上の絶縁層7に導体ライン32,33に到達する貫通孔を設けている。その他でこの絶縁層7から露出させる部位としては、上部電極層5及び半田端子部111,112、13,114のみとしておくことが、耐湿性向上の観点から好ましい。
次に、引き出し電極層8は、可変容量素子C1,C4の上部電極層5と半田端子部111とを接続するとともに、上部電極層5同士を連結させることで、可変容量素子C2,C3の間、可変容量素子C5,C6の間を直列接続するものである。さらに、可変容量素子C2,C5と可変容量素子C3,C6とにまたがる引き出し電極層8は、絶縁層7の貫通孔を通って導体ライン33と接続している。この引き出し電極層8の材料としては、Au,Cu等の低抵抗な金属を用いることが望ましい。また、引き出し電極層8に対して、絶縁層7との密着性を考慮して、Ti,Ni等の密着層を使用してもよい。
次に、半田端子部111〜114を露出させて全体を被覆するように、保護層9を形成する。保護層9は、可変容量素子C1を始めとする可変容量コンデンサの構成部材を機械的に保護するほか、薬品等による汚染から保護するためのものである。ただし、この保護層9の形成時には、半田端子部111〜114を露出するようにする。保護層9の材料としては、耐熱性が高く、段差に対する被覆性が優れたものが良く、具体的には、ポリイミド樹脂やBCB(ベンゾシクロブテン)樹脂等を用いる。これらは、樹脂原料を塗布した後、所定の温度で硬化させることにより形成される。
半田拡散防止層10は、半田端子部111〜114形成の際のリフローや実装の際に、半田端子部111〜114の半田の下部電極層2への拡散を防止するために形成する。この半田拡散防止層10の材料としては、Niが好適である。また、半田拡散防止層10の表面には、半田濡れ性を向上させるために、半田濡れ性の高いAu,Cu等を0.1μm程度形成する場合もある。
最後に、半田端子部111〜114を形成する。これは、可変容量コンデンサの外部の配線基板への実装を容易にするために形成する。これら半田端子部111〜114は、半田端子部111〜114に所定のマスクを用いて半田ペーストを印刷後、リフローを行なうことにより形成するのが一般的である。
このように形成することで、以下のように半田端子部111から半田端子部112aまでの間に可変容量素子C1〜C3が直列接続されたものとなる。即ち、半田端子部111から、引出し電極層8を介して第1可変容量素子C1の上部電極層5に接続される。可変容量素子C1,C2は下部電極層2を共有とすることで接続される。可変容量素子C2,C3が引出し電極層8を介して上部電極層5同士を繋ぐことで接続される。最後に、可変容量素子C3と半田端子部112aとが、半田端子部112aの形成位置まで延びて形成された可変容量素子C3の下部電極層2により接続される。同様にして、半田端子部111から半田端子部112bまでの間も、可変容量素子C4〜C6が直列接続されたものとなる。
次に、本発明の可変容量コンデンサアレイの具体的な構成の他の例として、図9に示す、本発明の第5の実施形態の具体的な構成を説明する。
図12は、本発明の第5の実施形態の一例を示す透過平面図である。
図12は、図11に示す例と、半田端子部113,114を半田端子部111,112と共有にすることで異なり、半田端子部113,114を省いた構成である。このような構成とするために、第1,第2個別バイアスラインの接続方法は下記の通りとした。すなわち、第1可変容量コンデンサストリングの第1個別バイアスラインは、導体ライン35が可変容量素子C1の上部電極層5に引き出し電極層8を介して接続されている。また、可変容量素子C2,C3を接続する引き出し電極層8に導体ライン36が接続されている。この導体ライン35,36を接続するように薄膜抵抗65が配置されている。この導体ライン35,36,薄膜抵抗65により第1個別バイアスラインが構成される。第2個別バイアスラインは、可変容量素子C3の下部電極層2に導体ライン37が接続され、可変容量素子C1,C2を互いに接続する下部電極層2に薄膜抵抗66を介して導体ライン37に接続されて構成される。
このような構成とすることで、簡易な構成で、取り扱いの容易な可変容量コンデンサアレイを提供することができる。
次に、本発明の可変容量コンデンサリレーの実施の形態の一例を、図13を用いて説明する。図13は、本発明の可変容量コンデンサリレーの実施の形態の一例を示す等価回路図である。
図13に示す例では、本発明の第5の実施形態の可変容量コンデンサアレイを複数個(図13では2個)並べ、複数の可変容量コンデンサアレイ間で個別信号端子Sb,Saを電気的に接続している。可変容量コンデンサアレイの配列方向の両端にある個別信号端子Saと個別信号端子Sbとに、即ち、図13の図の上下方向で一番上に位置する個別信号端子Saと一番下に位置する個別信号端子Sbとに、高周波信号の入出力端子としての機能をもたせることで、可変容量コンデンサを4個直列に接続したものとなり、さらに初期容量の設計自由度を向上させることができる。さらに、図13に示すような可変容量コンデンサリレーを複数個配列し、外付けのスイッチング素子を共通信号端子CS1,個別信号端子Sa,Sbのそれぞれに接続し、共通信号端子CS1のスイッチング素子同士,個別信号端子Sa,Sbのスイッチング素子同士を接続することで、さらに初期容量を自由に設計できるものとなり、汎用性の高い可変容量コンデンサリレーを提供することができる。
また、高周波用電圧制御型共振器の一部(共振回路の一部として)、または、共振回路同士を結合する手段として本発明の可変容量コンデンサアレイ及び可変容量コンデンサリレーを用いることにより、高周波的には直列接続され、直流的には並列接続された、可変容量素子を用いて共振器を作製することになり、波形歪、相互変調歪みノイズが小さく、耐電力に優れた高周波用電圧制御型共振器である電子部品を実現できる。また、共振回路を具備した電圧制御型高周波フィルタ及び電圧制御型アンテナ共用器においても同様に、高周波的には直列接続され、直流的には並列接続された、可変容量素子を用いることにより、波形歪、相互変調歪みノイズが小さく、耐電力に優れた電圧制御型高周波フィルタ及びアンテナ共用器を作製することができる。
本発明の可変容量コンデンサアレイの第1の実施形態を示す等価回路図である。 本発明の可変容量コンデンサアレイの第2の実施形態を示す等価回路図である。 本発明の可変容量コンデンサアレイの第3の実施形態を示す等価回路図である。 本発明の可変容量コンデンサアレイの第4の実施形態を示す等価回路図である。 図4の変形例を示す等価回路図である。 図4の変形例の他の例を示す等価回路図である。 図1〜4の変形例を示す等価回路図である。 図1〜4の変形例を示す等価回路図である。 本発明の可変容量コンデンサアレイの第5の実施形態を示す等価回路図である。 図2に示す本発明の可変容量コンデンサアレイの第2の実施形態の一例を模式的に示す透視状態の平面図である。 図10のA−A’線断面図である。 図9に示す本発明の可変容量コンデンサアレイの第5の実施形態の一例を模式的に示す透視状態の平面図である。 本発明の可変容量コンデンサリレーの実施形態を示す等価回路図である。
符号の説明
1:支持基板
2:下部電極層
31〜37:導体ライン
4:誘電体層
5:上部電極層
61,62,63,64,65,66:薄膜抵抗
7:絶縁体層
8:引き出し電極層
9:保護層
10:半田拡散防止層
111、112、113、114:半田端子部
C1,C2,C3,C4,C5,C6:可変容量素子
P1a,P1b:第1端子
P2a,P2b:第2端子
Sa,Sb:個別信号端子
CS1:共通信号端子
B11〜B14:第1個別バイアスライン
B21〜B24:第2個別バイアスライン

Claims (6)

  1. 第1端子と第2端子との間に可変容量素子が複数個直列に接続され、前記第1端子とこの第1端子から数えて1個目の前記可変容量素子との接続点,各可変容量素子間の接続点及び前記第2端子から数えて1個目の可変容量素子と前記第2端子との接続点に、前記第1端子側から順に第1個別バイアスライン及び第2個別バイアスラインが交互に接続された可変容量コンデンサと、前記第2端子に接続された個別信号端子と、各々が有する複数個の可変容量コンデンサストリングと、
    前記複数個の可変容量コンデンサストリングの前記第1端子が共通に接続された共通信号端子と、を具備することを特徴とする可変容量コンデンサアレイ。
  2. 1つの前記可変容量コンデンサストリングについて、複数個の前記第1個別バイアスラインが共通に接続された第1バイアス端子と、
    1つの前記可変容量コンデンサストリングについて、複数個の前記第2個別バイアスラインが共通に接続された第2バイアス端子と、をさらに具備することを特徴とする請求項1に記載の可変容量コンデンサアレイ。
  3. 共通バイアス端子をさらに具備し、
    前記複数個の可変容量コンデンサストリングは、
    前記第1個別バイアスライン及び前記第2個別バイアスラインのいずれかが前記共通バイアス端子に接続された第1可変容量コンデンサストリングと、
    前記第1個別バイアスライン及び前記第2個別バイアスラインのいずれかが前記共通バイアス端子に接続された第2可変容量コンデンサストリングと、を含むことを特徴とする請求項1に記載の可変容量コンデンサアレイ。
  4. 共通バイアス端子をさらに具備し、
    前記複数個の可変容量コンデンサストリングは、
    前記第1バイアス端子及び前記第2バイアス端子のいずれかが前記共通バイアス端子に接続された第1可変容量コンデンサストリングと、
    前記第1バイアス端子及び前記第2バイアス端子のいずれかが前記共通バイアス端子に接続された第2可変容量コンデンサストリングと、を含むことを特徴とする請求項2に記載の可変容量コンデンサアレイ。
  5. 前記可変容量コンデンサは前記可変容量素子を奇数個有し、
    前記複数個の可変容量コンデンサストリングは、
    前記第1バイアス端子が前記共通信号端子と共用され、前記第2バイアス端子が前記個別信号端子と共用された第1可変容量コンデンサストリングと、
    前記第1バイアス端子が前記共通信号端子と共用され、前記第2バイアス端子が前記個別信号端子と共用された第2可変容量コンデンサストリングと、を含むことを特徴とする請求項2に記載の可変容量コンデンサアレイ。
  6. 請求項2乃至請求項5のいずれかに記載の可変容量コンデンサアレイを複数個接続したことを特徴とする可変容量コンデンサリレー。
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