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JP2008210648A - Organic electroluminescent display device - Google Patents

Organic electroluminescent display device Download PDF

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JP2008210648A
JP2008210648A JP2007046055A JP2007046055A JP2008210648A JP 2008210648 A JP2008210648 A JP 2008210648A JP 2007046055 A JP2007046055 A JP 2007046055A JP 2007046055 A JP2007046055 A JP 2007046055A JP 2008210648 A JP2008210648 A JP 2008210648A
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JP
Japan
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organic
display device
substrate
array substrate
recesses
Prior art date
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Pending
Application number
JP2007046055A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshibumi Takehara
俊文 竹原
Norihiko Kamiura
紀彦 上浦
Shirou Sumida
祉朗 炭田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Japan Display Central Inc
Original Assignee
Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd filed Critical Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd
Priority to JP2007046055A priority Critical patent/JP2008210648A/en
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a technology advantageous for enhancing effects of preventing deterioration of an organic EL element, in case drying members are arranged in recesses fitted to one of the main faces of a sealing substrate. <P>SOLUTION: The organic EL display device is provided with a support substrate SUB, an organic EL element supported to one of the main faces of the support substrate SUB, a sealing substrate CS facing the organic EL element with a plurality of recesses RC communicated with each other through grooves TC provided at the main face facing the organic EL element, and forming a hollow body together with the support substrate SUB, and a plurality of drying members DS each containing a desiccant and arranged in each recess RC. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセンス(EL)表示装置に関する。   The present invention relates to an organic electroluminescence (EL) display device.

有機EL素子は、水分を含んだ雰囲気に晒されると、速やかに劣化する。したがって、有機EL表示装置では、有機EL素子が水分を含んだ雰囲気に晒されるのを防止すべく、有機EL素子を封止している。   An organic EL element deteriorates rapidly when exposed to an atmosphere containing moisture. Therefore, in the organic EL display device, the organic EL element is sealed in order to prevent the organic EL element from being exposed to an atmosphere containing moisture.

有機EL素子の封止には、封止基板が広く利用されている。この封止技術では、有機EL素子を支持している支持基板と封止基板とで気密な中空体を形成し、この中空体内の空間を例えば乾燥ガスで満たす。中空体内の有機EL素子は、外気と接触することがないため、水分を含んだ雰囲気に晒されることに起因した劣化を生じ難い。   Sealing substrates are widely used for sealing organic EL elements. In this sealing technique, an airtight hollow body is formed by the support substrate supporting the organic EL element and the sealing substrate, and the space in the hollow body is filled with, for example, a dry gas. Since the organic EL element in the hollow body does not come into contact with the outside air, it is difficult to cause deterioration due to exposure to an atmosphere containing moisture.

しかしながら、乾燥ガスは、僅かな水分を含んでいる可能性がある。加えて、外部の水分が中空体の内部へと侵入するのは避けられない。そのため、封止基板を利用した封止技術では、通常、中空体内の水分を乾燥剤で取り除いている。   However, the dry gas may contain a slight amount of moisture. In addition, it is inevitable that external moisture enters the hollow body. Therefore, in the sealing technique using a sealing substrate, the moisture in the hollow body is usually removed with a desiccant.

ところで、有機EL表示装置には、軽量であることが要求される。そこで、十分な機械的強度と軽量とを実現すべく、封止基板の内面に複数の凹部を設けることがある。   Incidentally, the organic EL display device is required to be lightweight. Therefore, in order to achieve sufficient mechanical strength and light weight, a plurality of recesses may be provided on the inner surface of the sealing substrate.

これら凹部の中には、乾燥剤を含有した乾燥部材を配置することができる。凹部内に乾燥部材を配置すれば、乾燥剤の使用に起因して表示パネルの厚さが増すことがない。しかも、多量の乾燥剤を使用できるため、有機EL素子の劣化を長期に亘って防止することができると考えられる。しかしながら、本発明者らは、本発明を為すに際し、凹部内に乾燥部材を配置した場合、有機EL素子の劣化を防止する効果が期待されるほど大きくはないことを見出している。   In these recesses, a drying member containing a desiccant can be disposed. If the drying member is disposed in the recess, the thickness of the display panel does not increase due to the use of the desiccant. Moreover, since a large amount of desiccant can be used, it is considered that deterioration of the organic EL element can be prevented over a long period of time. However, the inventors of the present invention have found that when the drying member is disposed in the recess, the effect of preventing the deterioration of the organic EL element is not so large as expected when the present invention is made.

本発明の目的は、封止基板の一主面に設けられた凹部内に乾燥部材を配置した場合に、有機EL素子の劣化を防止する効果をより大きくするのに有利な技術を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a technique advantageous for increasing the effect of preventing deterioration of an organic EL element when a drying member is disposed in a recess provided on one main surface of a sealing substrate. It is in.

本発明の第1側面によると、支持基板と、前記支持基板の一方の主面に支持された有機EL素子と、前記有機EL素子と向き合い、溝を介して互いに通じた複数の凹部が前記有機EL素子と向き合った主面に設けられ、前記支持基板と共に中空体を形成した封止基板と、各々が乾燥剤を含有すると共に前記複数の凹部内にそれぞれ配置された複数の乾燥部材とを具備したことを特徴とする有機EL表示装置が提供される。   According to the first aspect of the present invention, a support substrate, an organic EL element supported on one main surface of the support substrate, and a plurality of recesses facing the organic EL element and communicating with each other through a groove A sealing substrate which is provided on a main surface facing the EL element and forms a hollow body together with the support substrate; and a plurality of drying members each containing a desiccant and disposed in the plurality of recesses, respectively. An organic EL display device characterized by the above is provided.

本発明の第2側面によると、支持基板と、前記支持基板の一方の主面に支持された有機EL素子と、前記有機EL素子と向き合い、複数の凹部が前記有機EL素子と向き合った主面に設けられ、前記支持基板と共に中空体を形成した封止基板と、各々が乾燥剤を含有すると共に前記複数の凹部内にそれぞれ配置された複数の乾燥部材と、前記封止基板の前記主面に前記複数の凹部間の位置で支持された多孔質緩衝材とを具備したことを特徴とする有機EL表示装置が提供される。   According to the second aspect of the present invention, a support substrate, an organic EL element supported on one main surface of the support substrate, a main surface facing the organic EL element, and a plurality of recesses facing the organic EL element A sealing substrate formed in a hollow body together with the support substrate, a plurality of drying members each containing a desiccant and disposed in each of the plurality of recesses, and the main surface of the sealing substrate And an organic EL display device comprising a porous cushioning material supported at a position between the plurality of recesses.

本発明によると、封止基板の一主面に設けられた凹部内に乾燥部材を配置した場合に、有機EL素子の劣化を防止する効果をより大きくするのに有利な技術が提供される。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, when a drying member is arrange | positioned in the recessed part provided in the one main surface of the sealing substrate, the technique advantageous for making the effect which prevents deterioration of an organic EL element larger is provided.

以下、本発明の態様について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図において、同様又は類似する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In addition, in each figure, the same referential mark is attached | subjected to the same or similar component, and the overlapping description is abbreviate | omitted.

図1は、本発明の第1態様に係る有機EL表示装置を概略的に示す平面図である。図2は、図1に示す有機EL表示装置が含む表示パネルを概略的に示す平面図である。図3は、図2に示す表示パネルのIII−III線に沿った断面図である。図4は、図2及び図3の表示パネルが含むアレイ基板を概略的に示す断面図である。図5は、図2及び図3の表示パネルが含む封止基板を概略的に示す斜視図である。   FIG. 1 is a plan view schematically showing an organic EL display device according to the first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a plan view schematically showing a display panel included in the organic EL display device shown in FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line III-III of the display panel shown in FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing an array substrate included in the display panel of FIGS. 2 and 3. FIG. 5 is a perspective view schematically showing a sealing substrate included in the display panel of FIGS. 2 and 3.

図1に示す表示装置は、アクティブマトリクス型駆動方式を採用した下面発光型の有機EL表示装置である。この有機EL表示装置は、表示パネルDPと、映像信号線ドライバXDRと、走査信号線ドライバYDRとを含んでいる。   The display device shown in FIG. 1 is a bottom emission organic EL display device that employs an active matrix drive method. This organic EL display device includes a display panel DP, a video signal line driver XDR, and a scanning signal line driver YDR.

表示パネルDPは、図1乃至図3に示すように、アレイ基板ASと封止基板CSとを含んでいる。図3に示すように、アレイ基板ASと封止基板CSとは、向き合っており、中空体を形成している。具体的には、封止基板CSの中央部は、アレイ基板ASから離間している。封止基板CSの周縁部は、図示しない枠形のシール層を介して、アレイ基板ASの一方の主面に貼り付けられている。シール層の材料としては、例えば、フリットガラス及び接着剤を使用することができる。   As shown in FIGS. 1 to 3, the display panel DP includes an array substrate AS and a sealing substrate CS. As shown in FIG. 3, the array substrate AS and the sealing substrate CS face each other and form a hollow body. Specifically, the central portion of the sealing substrate CS is separated from the array substrate AS. The peripheral edge of the sealing substrate CS is attached to one main surface of the array substrate AS via a frame-shaped sealing layer (not shown). As the material of the sealing layer, for example, frit glass and an adhesive can be used.

アレイ基板ASは、図1、図3及び図4に示すように、絶縁基板SUBを含んでいる。絶縁基板SUBは、例えば、ガラス基板などの光透過性基板である。   As shown in FIGS. 1, 3, and 4, the array substrate AS includes an insulating substrate SUB. The insulating substrate SUB is, for example, a light transmissive substrate such as a glass substrate.

基板SUB上には、図4に示すように、アンダーコート層UCとして、例えば、SiNx層とSiOx層とが順次積層されている。 On the substrate SUB, as shown in FIG. 4, for example, a SiN x layer and a SiO x layer are sequentially stacked as the undercoat layer UC.

アンダーコート層UC上では、複数の半導体層SC,例えばポリシリコン層,が配列している。各半導体層SCには、ソース及びドレインが形成されている。   On the undercoat layer UC, a plurality of semiconductor layers SC, for example, polysilicon layers are arranged. A source and a drain are formed in each semiconductor layer SC.

アンダーコート層UC及び半導体層SCは、ゲート絶縁膜GIで被覆されている。ゲート絶縁膜GIは、例えばTEOS(tetraethyl orthosilicate)を用いて形成され得る。   The undercoat layer UC and the semiconductor layer SC are covered with the gate insulating film GI. The gate insulating film GI can be formed using, for example, TEOS (tetraethyl orthosilicate).

ゲート絶縁膜GI上では、ゲートGが配列している。ゲートGは、例えばMoWからなる。   On the gate insulating film GI, the gates G are arranged. The gate G is made of, for example, MoW.

半導体層SCとゲート絶縁膜GIとゲートGとは、トップゲート型の薄膜トランジスタを形成している。本態様では、これら薄膜トランジスタは、pチャネル薄膜トランジスタであり、図1の画素PXが含む駆動トランジスタDR及びスイッチSWa乃至SWcとして利用している。   The semiconductor layer SC, the gate insulating film GI, and the gate G form a top gate type thin film transistor. In this embodiment, these thin film transistors are p-channel thin film transistors and are used as the drive transistor DR and the switches SWa to SWc included in the pixel PX in FIG.

ゲート絶縁膜GI上では、図1に示すキャパシタCの下部電極と走査信号線SL1及びSL2とがさらに配列している。これらは、ゲートGと同一の工程で形成可能である。   On the gate insulating film GI, the lower electrode of the capacitor C shown in FIG. 1 and the scanning signal lines SL1 and SL2 are further arranged. These can be formed in the same process as the gate G.

走査信号線SL1及びSL2は、図1に示すように、各々が画素PXの行に沿って、すなわちX方向に延びており、画素PXの列方向に沿ったY方向に配列している。これら走査信号線SL1及びSL2は、走査信号線ドライバYDRに接続されている。なお、Z方向は、X方向とY方向とに直交する方向である。   As shown in FIG. 1, each of the scanning signal lines SL1 and SL2 extends along the row of the pixels PX, that is, in the X direction, and is arranged in the Y direction along the column direction of the pixels PX. These scanning signal lines SL1 and SL2 are connected to the scanning signal line driver YDR. The Z direction is a direction orthogonal to the X direction and the Y direction.

ゲート絶縁膜GI、ゲートG、走査信号線SL1及びSL2、並びにキャパシタCの下部電極は、図4に示す層間絶縁膜IIで被覆されている。層間絶縁膜IIは、例えば、プラズマCVD法などにより成膜されたSiOx膜である。この層間絶縁膜IIの一部は、キャパシタCの誘電体層として利用する。 The gate insulating film GI, the gate G, the scanning signal lines SL1 and SL2, and the lower electrode of the capacitor C are covered with an interlayer insulating film II shown in FIG. The interlayer insulating film II is, for example, a SiO x film formed by a plasma CVD method or the like. A part of the interlayer insulating film II is used as a dielectric layer of the capacitor C.

層間絶縁膜II上では、図に示すキャパシタCの上部電極、図4に示すソース電極SE及びドレイン電極DE、並びに、図1に示す映像信号線DL及び電源線PSLが配列している。これらは、同一工程で形成可能であり、例えば、Mo/Al/Moの三層構造を有している。   On the interlayer insulating film II, the upper electrode of the capacitor C shown in the drawing, the source electrode SE and the drain electrode DE shown in FIG. 4, and the video signal line DL and the power supply line PSL shown in FIG. 1 are arranged. These can be formed in the same process and have, for example, a three-layer structure of Mo / Al / Mo.

ソース電極SE及びドレイン電極DEは、図4に示すように、層間絶縁膜IIに設けられたコンタクトホールを介して薄膜トランジスタのソース及びドレインに電気的に接続されている。   As shown in FIG. 4, the source electrode SE and the drain electrode DE are electrically connected to the source and drain of the thin film transistor through contact holes provided in the interlayer insulating film II.

映像信号線DLは、図1に示すように、各々がY方向に延びており、X方向に配列している。これら映像信号線DLは、映像信号線ドライバXDRに接続されている。
電源線PSLは、本態様では、各々がY方向に延びており、X方向に配列している。
As shown in FIG. 1, each video signal line DL extends in the Y direction and is arranged in the X direction. These video signal lines DL are connected to a video signal line driver XDR.
In the present embodiment, each of the power supply lines PSL extends in the Y direction and is arranged in the X direction.

ソース電極SE、ドレイン電極DE、映像信号線DL、電源線PSL、及びキャパシタCの上部電極は、図4に示すパッシベーション膜PSで被覆されている。パッシベーション膜PSは、例えばSiNxからなる。 The source electrode SE, the drain electrode DE, the video signal line DL, the power supply line PSL, and the upper electrode of the capacitor C are covered with a passivation film PS shown in FIG. The passivation film PS is made of, for example, SiN x .

パッシベーション膜PS上では、画素電極である第1電極PEが配列している。本態様では、各第1電極PEは、光透過性の前面電極である。各第1電極は、パッシベーション膜PSに設けた貫通孔を介してドレイン電極DEに接続されており、このドレイン電極DEはスイッチSWaのドレインに接続されている。   On the passivation film PS, first electrodes PE which are pixel electrodes are arranged. In this aspect, each first electrode PE is a light-transmissive front electrode. Each first electrode is connected to the drain electrode DE through a through hole provided in the passivation film PS, and the drain electrode DE is connected to the drain of the switch SWa.

第1電極PEは、本態様では陽極である。第1電極PEの材料としては、例えば、ITO(indium tin oxide)などの透明導電性酸化物を使用することができる。   The first electrode PE is an anode in this embodiment. As a material of the first electrode PE, for example, a transparent conductive oxide such as ITO (indium tin oxide) can be used.

パッシベーション膜PS上には、さらに、図2に示す隔壁絶縁層PIが形成されている。隔壁絶縁層PIには、第1電極PEに対応した位置に貫通孔が設けられているか、或いは、第1電極PEが形成する列又は行に対応した位置にスリットが設けられている。ここでは、一例として、隔壁絶縁層PIには、第1電極PEに対応した位置に貫通孔が設けられていることとする。   A partition insulating layer PI shown in FIG. 2 is further formed on the passivation film PS. In the partition insulating layer PI, through holes are provided at positions corresponding to the first electrodes PE, or slits are provided at positions corresponding to columns or rows formed by the first electrodes PE. Here, as an example, the partition insulating layer PI is provided with a through hole at a position corresponding to the first electrode PE.

隔壁絶縁層PIは、例えば、有機絶縁層である。隔壁絶縁層PIは、例えば、フォトリソグラフィ技術を用いて形成することができる。   The partition insulating layer PI is, for example, an organic insulating layer. The partition insulating layer PI can be formed using, for example, a photolithography technique.

第1電極PE上には、各々が発光層を含んだ活性層ACTが配置されている。発光層は、例えば、発光色が赤色、緑色、又は青色のルミネセンス性有機化合物を含んだ薄膜である。活性層ACTは、発光層に加え、正孔注入層、正孔輸送層、正孔ブロッキング層、電子輸送層、電子注入層などもさらに含むことができる。   On the first electrode PE, active layers ACT each including a light emitting layer are arranged. The light emitting layer is, for example, a thin film containing a luminescent organic compound whose emission color is red, green, or blue. In addition to the light emitting layer, the active layer ACT can further include a hole injection layer, a hole transport layer, a hole blocking layer, an electron transport layer, an electron injection layer, and the like.

隔壁絶縁層PI及び活性層ACTは、対向電極である第2電極CEで被覆されている。第2電極CEは、全画素PXで共用する共通電極である。本態様では、第2電極CEは、背面電極である光反射性の陰極である。第2電極CEは、例えば、パッシベーション膜PSと隔壁絶縁層PIとに設けられたコンタクトホールを介して、映像信号線DLが形成されたのと同一の層上に形成された電極配線(図示せず)に電気的に接続されている。各々の有機EL素子OLEDは、第1電極PE、活性層ACT及び第2電極CEで構成されている。   The partition insulating layer PI and the active layer ACT are covered with a second electrode CE that is a counter electrode. The second electrode CE is a common electrode shared by all the pixels PX. In this embodiment, the second electrode CE is a light-reflective cathode that is a back electrode. The second electrode CE is, for example, an electrode wiring (not shown) formed on the same layer as the video signal line DL is formed through a contact hole provided in the passivation film PS and the partition insulating layer PI. )). Each organic EL element OLED includes a first electrode PE, an active layer ACT, and a second electrode CE.

各画素PXは、有機EL素子OLEDと画素回路とを含んでいる。本態様では、画素回路は、図1に示すように、駆動トランジスタDRと、出力制御スイッチSWaと、選択用スイッチSWbと、ダイオード接続スイッチSWcと、キャパシタCとを含んでいる。上記の通り、本態様では、駆動トランジスタDR及びスイッチSWa乃至SWcはpチャネル薄膜トランジスタである。スイッチSWa乃至SWcは、スイッチ群を構成している。また、画素PXは、図3の画素群PXGを構成している。   Each pixel PX includes an organic EL element OLED and a pixel circuit. In this embodiment, the pixel circuit includes a drive transistor DR, an output control switch SWa, a selection switch SWb, a diode connection switch SWc, and a capacitor C, as shown in FIG. As described above, in this embodiment, the drive transistor DR and the switches SWa to SWc are p-channel thin film transistors. The switches SWa to SWc constitute a switch group. Further, the pixel PX constitutes the pixel group PXG in FIG.

図1に示すように、駆動トランジスタDRと出力制御スイッチSWaと有機EL素子OLEDとは、第1電源端子ND1と第2電源端子ND2との間で、この順に直列に接続されている。本態様では、第1電源端子ND1は高電位電源端子であり、第2電源端子ND2は低電位電源端子である。   As shown in FIG. 1, the drive transistor DR, the output control switch SWa, and the organic EL element OLED are connected in series in this order between the first power supply terminal ND1 and the second power supply terminal ND2. In this aspect, the first power supply terminal ND1 is a high potential power supply terminal, and the second power supply terminal ND2 is a low potential power supply terminal.

出力制御スイッチSWaのゲートは、走査信号線SL1に接続されている。選択用スイッチSWbは映像信号線DLと駆動トランジスタDRのドレインとの間に接続されており、そのゲートは走査信号線SL2に接続されている。ダイオード接続スイッチSWcは駆動トランジスタDRのドレインとゲートとの間に接続されており、そのゲートは走査信号線SL3に接続されている。選択用スイッチSWbとダイオード接続スイッチSWcとは、駆動トランジスタDRのドレイン及びゲートと映像信号線DLとが互いに接続された第1状態と、それらが互いから切断された第2状態との間で切り替え可能なスイッチ群を構成している。   The gate of the output control switch SWa is connected to the scanning signal line SL1. The selection switch SWb is connected between the video signal line DL and the drain of the driving transistor DR, and the gate thereof is connected to the scanning signal line SL2. The diode connection switch SWc is connected between the drain and gate of the drive transistor DR, and the gate is connected to the scanning signal line SL3. The selection switch SWb and the diode connection switch SWc are switched between a first state in which the drain and gate of the driving transistor DR and the video signal line DL are connected to each other and a second state in which they are disconnected from each other. It constitutes a group of possible switches.

キャパシタCは、定電位端子ND1’と駆動トランジスタDRのゲートとの間に接続されている。定電位端子ND1’は、例えば、第1電源端子ND1に接続する。   The capacitor C is connected between the constant potential terminal ND1 'and the gate of the driving transistor DR. The constant potential terminal ND1 'is connected to the first power supply terminal ND1, for example.

封止基板CSは、例えばガラス基板である。封止基板CSは、図2、図3及び図5に示すように、平板部FPと縁部RMと補強リブ部RRとを含んでいる。
平板部FPは、アレイ基板ASと向き合っている。
The sealing substrate CS is, for example, a glass substrate. As shown in FIGS. 2, 3, and 5, the sealing substrate CS includes a flat plate portion FP, an edge portion RM, and a reinforcing rib portion RR.
The flat plate portion FP faces the array substrate AS.

縁部RMは、枠形状を有しており、平板部FPのアレイ基板ASと向き合った主面に支持されている。典型的には、縁部RMは、平板部FPの上記主面の周縁部又はその近傍に位置させる。縁部RMは、上述したシール層を介して、アレイ基板ASの一方の主面に貼り付けられている。縁部RMは、平板部FP及び補強リブ部RRをアレイ基板ASから離間させている。例えば、十分に厚いシール層を介して平板部FPとアレイ基板ASとを貼り付ける場合には、縁部RMは省略してもよい。   The edge portion RM has a frame shape and is supported by a main surface facing the array substrate AS of the flat plate portion FP. Typically, the edge RM is positioned at or near the peripheral edge of the main surface of the flat plate portion FP. The edge RM is affixed to one main surface of the array substrate AS via the above-described seal layer. The edge portion RM separates the flat plate portion FP and the reinforcing rib portion RR from the array substrate AS. For example, the edge portion RM may be omitted when the flat plate portion FP and the array substrate AS are attached via a sufficiently thick seal layer.

補強リブ部RRは、格子状又は網状であり、平板部FPのアレイ基板ASと向き合った主面に支持されている。補強リブRRは、アレイ基板ASから離間している。   The reinforcing rib portion RR has a lattice shape or a net shape, and is supported by the main surface facing the array substrate AS of the flat plate portion FP. The reinforcing rib RR is separated from the array substrate AS.

補強リブ部RRは、封止基板CSのアレイ基板ASとの対向面に複数の凹部RCを形成している。平板部FPの主面は、これら凹部RCの底面を構成している。また、補強リブRR及び縁部RMは、これら凹部RCの側壁を構成している。   The reinforcing rib portion RR has a plurality of recesses RC on the surface of the sealing substrate CS facing the array substrate AS. The main surface of the flat plate portion FP constitutes the bottom surface of these recesses RC. Further, the reinforcing rib RR and the edge portion RM constitute the side wall of the concave portion RC.

補強リブRRには、複数の溝TCが設けられている。隣り合う凹部RCは、1つ以上の溝TCを介して互いに通じている。溝TCの深さは、補強リブRRの高さと等しくてもよい。或いは、溝TCは、補強リブRRの高さと比較して、より浅くてもよい。溝TCが深い場合、溝TCが浅い場合と比較して、凹部RC間でのガスの移動が生じ易い。溝TCが浅い場合、溝TCが深い場合と比較して、高い機械的強度を実現するのが容易である。   The reinforcement rib RR is provided with a plurality of grooves TC. Adjacent recesses RC communicate with each other via one or more grooves TC. The depth of the groove TC may be equal to the height of the reinforcing rib RR. Alternatively, the groove TC may be shallower than the height of the reinforcing rib RR. When the groove TC is deep, gas movement between the recesses RC is more likely to occur than when the groove TC is shallow. When the groove TC is shallow, it is easy to realize high mechanical strength as compared with the case where the groove TC is deep.

これら凹部RC内には、それぞれ、乾燥部材DSが配置されている。本態様では、乾燥部材DSは、乾燥剤を含有したシートであり、接着剤を介して封止基板CSに貼り付けられている。乾燥部材DSは、シートでなくてもよい。例えば、凹部RC内に粒状の乾燥剤からなる層を形成し、これら層を凹部RC内に固定化してもよい。   A drying member DS is disposed in each of the recesses RC. In this embodiment, the drying member DS is a sheet containing a desiccant and is attached to the sealing substrate CS via an adhesive. The drying member DS may not be a sheet. For example, a layer made of a granular desiccant may be formed in the recess RC, and these layers may be fixed in the recess RC.

乾燥剤としては、物理吸着乾燥剤及び化学吸着乾燥剤を単独で又は組み合わせて使用することができる。物理吸着乾燥剤としては、例えば、シリカゲル、ゼオライト、及びそれらの混合物を使用することができる。化学吸着乾燥剤としては、例えば、酸化バリウム、五酸化燐、塩化カルシウム、及びそれらの混合物を使用することができる。   As the desiccant, a physical adsorption desiccant and a chemical adsorption desiccant can be used alone or in combination. As the physical adsorption desiccant, for example, silica gel, zeolite, and a mixture thereof can be used. As the chemisorption desiccant, for example, barium oxide, phosphorus pentoxide, calcium chloride, and a mixture thereof can be used.

アレイ基板ASと封止基板CSとシール層とは、気密な中空体を形成している。この中空体の内部空間は、窒素ガスや希ガスなどの不活性ガスで満たされており、外部空間と比較して低圧である。   The array substrate AS, the sealing substrate CS, and the seal layer form an airtight hollow body. The internal space of the hollow body is filled with an inert gas such as nitrogen gas or a rare gas, and has a lower pressure than the external space.

映像信号線ドライバXDR及び走査信号線ドライバYDRは、アレイ基板ASの封止基板CS側の主面であって封止基板CSから露出した部分に配置されている。すなわち、映像信号線ドライバXDR及び走査信号線ドライバYDRは、COG(chip on glass)実装している。映像信号線ドライバXDR及び走査信号線ドライバYDRは、COG実装する代わりに、TCP(tape carrier package)実装してもよい。   The video signal line driver XDR and the scanning signal line driver YDR are arranged on the main surface of the array substrate AS on the sealing substrate CS side and exposed from the sealing substrate CS. That is, the video signal line driver XDR and the scanning signal line driver YDR are mounted on COG (chip on glass). The video signal line driver XDR and the scanning signal line driver YDR may be mounted by TCP (tape carrier package) instead of COG mounting.

この有機EL表示装置は、例えば、以下の方法により製造する。
まず、アレイ基板ASと封止基板CSとを準備する。次に、大気圧よりも低圧の不活性ガス雰囲気中で、アレイ基板ASと封止基板CSとをシール層を介して貼り合わせ、表示パネルDPを得る。さらに、表示パネルDPに、映像信号線ドライバXDR及び走査信号線ドライバYDRを実装して、有機EL表示装置を得る。
This organic EL display device is manufactured, for example, by the following method.
First, the array substrate AS and the sealing substrate CS are prepared. Next, the array substrate AS and the sealing substrate CS are bonded to each other through a seal layer in an inert gas atmosphere lower than the atmospheric pressure to obtain the display panel DP. Further, the video signal line driver XDR and the scanning signal line driver YDR are mounted on the display panel DP to obtain an organic EL display device.

この有機EL表示装置は、例えば、以下の方法により駆動する。
この有機EL表示装置で画像を表示する場合、例えば、画素PXを行毎に選択する。選択している画素PXには書込動作を行い、非選択の画素PXでは表示動作を行う。
This organic EL display device is driven by the following method, for example.
When displaying an image on this organic EL display device, for example, the pixel PX is selected for each row. A writing operation is performed on the selected pixel PX, and a display operation is performed on the non-selected pixel PX.

具体的には、或る画素PXへの書込動作は、走査信号線ドライバYDRから、この画素PXが接続された走査信号線SL2に、スイッチSWb及びSWcを閉じる走査信号(ON)を電圧信号として出力することにより開始する。なお、この画素PXが含むスイッチSWaは開いておく。   Specifically, a writing operation to a certain pixel PX is performed by applying a scanning signal (ON) for closing the switches SWb and SWc from the scanning signal line driver YDR to the scanning signal line SL2 to which the pixel PX is connected. Start by outputting as Note that the switch SWa included in the pixel PX is kept open.

この状態で、映像信号線ドライバXDRから、先の画素PXが接続された映像信号線DLに映像信号を電流信号として出力し、駆動トランジスタDRのゲート−ソース間電圧を、先の映像信号に対応した大きさに設定する。その後、走査信号線ドライバYDRから、この画素PXが接続された走査信号線SL2にスイッチSWb及びSWcを開く走査信号(OFF)を電圧信号として出力する。これにより、書込動作を終了する。   In this state, the video signal line driver XDR outputs the video signal as a current signal to the video signal line DL to which the previous pixel PX is connected, and the gate-source voltage of the driving transistor DR corresponds to the previous video signal. Set the size to Thereafter, a scanning signal (OFF) for opening the switches SWb and SWc is output as a voltage signal from the scanning signal line driver YDR to the scanning signal line SL2 to which the pixel PX is connected. Thereby, the writing operation is completed.

先の画素PXでの表示動作は、この画素PXが接続された走査信号線SL1に、スイッチSWaを閉じる走査信号(ON)を電圧信号として出力することにより開始する。スイッチSWaを閉じている間、有機EL素子OLEDには、駆動トランジスタDRのゲート−ソース間電圧に対応した大きさの駆動電流が流れる。有機EL素子OLEDは、駆動電流の大きさに対応した輝度で発光する。表示動作は、先の画素PXが接続された走査信号線SL1に、スイッチSWaを開く走査信号(OFF)を電圧信号として出力することにより終了する。   The display operation in the previous pixel PX is started by outputting a scanning signal (ON) for closing the switch SWa as a voltage signal to the scanning signal line SL1 to which the pixel PX is connected. While the switch SWa is closed, a drive current having a magnitude corresponding to the gate-source voltage of the drive transistor DR flows through the organic EL element OLED. The organic EL element OLED emits light with a luminance corresponding to the magnitude of the drive current. The display operation ends when a scanning signal (OFF) for opening the switch SWa is output as a voltage signal to the scanning signal line SL1 to which the previous pixel PX is connected.

さて、この有機EL表示装置では、上記の通り、補強リブ部RRに溝TCが設けられている。そのため、この有機EL表示装置は、補強リブ部RRに溝TCが設けられていない有機EL表示装置と比較して、凹部RC間でのガスの移動が生じ易い。   In this organic EL display device, as described above, the groove TC is provided in the reinforcing rib portion RR. Therefore, in this organic EL display device, gas movement between the recesses RC is likely to occur as compared with an organic EL display device in which the groove TC is not provided in the reinforcing rib portion RR.

凹部RC間でのガスの移動が生じ難い有機EL表示装置では、例えば、中空体の内部空間に外部空間から水分が浸入した場合に、先の内部空間のうち、シール層近傍の領域において、水分濃度が局所的に上昇する。そのため、補強リブ部RRに溝TCが設けられていない有機EL表示装置では、シール層近傍の有機EL素子OLEDが劣化し易い。   In the organic EL display device in which the movement of gas between the recesses RC is difficult to occur, for example, when moisture enters the internal space of the hollow body from the external space, in the region near the seal layer in the internal space, Concentration increases locally. Therefore, in the organic EL display device in which the groove TC is not provided in the reinforcing rib portion RR, the organic EL element OLED in the vicinity of the seal layer is easily deteriorated.

これに対し、補強リブ部RRに溝TCを設けた有機EL表示装置では、中空体の内部空間に外部空間から水分が浸入した場合に、水分は先の内部空間全体に速やかに拡散する。そのため、この有機EL表示装置は、補強リブ部RRに溝TCが設けられていない有機EL表示装置と比較して、水分を含んだ雰囲気に晒されることに起因した有機EL素子OLEDの劣化を生じ難い。   On the other hand, in the organic EL display device in which the groove TC is provided in the reinforcing rib portion RR, when moisture enters the internal space of the hollow body from the external space, the water quickly diffuses throughout the previous internal space. For this reason, this organic EL display device causes deterioration of the organic EL element OLED due to exposure to an atmosphere containing moisture as compared with an organic EL display device in which the groove TC is not provided in the reinforcing rib portion RR. hard.

また、補強リブ部RRに溝TCを設けていない場合、貼り合せの際に、補強リブ部RRがアレイ基板ASと封止基板CSとの間の領域からの排気を妨げる可能性がある。アレイ基板ASと封止基板CSとの間の領域からガスが十分に抜けないと、中空体の外部空間と内部空間との圧力差が不十分となり、その結果、シール強度が不十分となることがある。   Further, when the groove TC is not provided in the reinforcing rib portion RR, the reinforcing rib portion RR may hinder the exhaust from the region between the array substrate AS and the sealing substrate CS at the time of bonding. If the gas does not escape sufficiently from the region between the array substrate AS and the sealing substrate CS, the pressure difference between the external space and the internal space of the hollow body becomes insufficient, and as a result, the sealing strength becomes insufficient. There is.

補強リブ部RRに溝TCを設けると、アレイ基板ASと封止基板CSとの間の領域からの排気が容易になる。それゆえ、中空体の外部空間と内部空間との圧力差が不十分となるのを防止でき、したがって、シール強度が不十分となるのを防止することができる。   When the groove TC is provided in the reinforcing rib portion RR, the exhaust from the region between the array substrate AS and the sealing substrate CS is facilitated. Therefore, it is possible to prevent the pressure difference between the external space and the internal space of the hollow body from becoming insufficient, and thus it is possible to prevent the seal strength from becoming insufficient.

次に、本発明の第2態様について説明する。
図6は、本発明の第2態様に係る有機EL表示装置の表示パネルを概略的に示す断面図である。この表示パネルDPでは、乾燥部材DS上に、多孔質緩衝材PCが配置されている。第2態様に係る有機EL表示装置は、乾燥部材DS上に多孔質緩衝材PCが配置されていること以外は、第1態様に係る有機EL表示装置と同様の構造を有している。
Next, the second aspect of the present invention will be described.
FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing a display panel of the organic EL display device according to the second aspect of the present invention. In the display panel DP, the porous cushioning material PC is disposed on the drying member DS. The organic EL display device according to the second embodiment has the same structure as the organic EL display device according to the first embodiment, except that the porous buffer material PC is disposed on the drying member DS.

多孔質緩衝材PCは、例えば、軟質な連続気泡発泡体などのように通気性を有している軟質材料である。多孔質緩衝材PCとしては、例えば、メタアクリル酸エステル、スチレン、ナイロン12などのナイロンを使用することができる。   The porous cushioning material PC is a soft material having air permeability such as a soft open-cell foam. As the porous buffer material PC, for example, nylon such as methacrylic acid ester, styrene, nylon 12 can be used.

多孔質緩衝材PCは、封止基板CSに支持されている。多孔質緩衝材PCは、例えば、凹部RCに嵌め込むこと及び/又は封止基板CSに接着することにより、封止基板CSに支持され得る。多孔質緩衝材PCは、封止基板CSに接着する代わりに、乾燥部材DSに接着してもよい。   The porous buffer material PC is supported by the sealing substrate CS. The porous cushioning material PC can be supported on the sealing substrate CS by, for example, fitting into the recess RC and / or adhering to the sealing substrate CS. The porous cushioning material PC may be bonded to the drying member DS instead of bonding to the sealing substrate CS.

多孔質緩衝材PCは、上記の通り、通気性を有している。そのため、多孔質緩衝材PCを配置することに起因して、第1態様で説明した効果が著しく損なわれることはない。すなわち、本態様でも、第1態様で説明したのとほぼ同様の効果を得ることができる。   As described above, the porous cushioning material PC has air permeability. Therefore, the effects described in the first aspect are not significantly impaired due to the arrangement of the porous cushioning material PC. That is, also in this aspect, substantially the same effect as described in the first aspect can be obtained.

また、多孔質緩衝材PCは、凹部RCから突き出ている。すなわち、多孔質緩衝材PCからアレイ基板ASまでの距離は、補強リブ部RRからアレイ基板ASまでの距離と比較してより短い。したがって、封止基板CS及び/又はアレイ基板ASが撓んだ場合、例えば、補強リブ部RRがアレイ基板ASに接触するのに先立って多孔質緩衝材PCがアレイ基板ASに接触する。或いは、封止基板CS及び/又はアレイ基板ASが撓んだ場合、多孔質緩衝材PCはアレイ基板ASに接触するものの、補強リブ部RRはアレイ基板ASとは接触しない。   The porous cushioning material PC protrudes from the recess RC. That is, the distance from the porous cushioning material PC to the array substrate AS is shorter than the distance from the reinforcing rib portion RR to the array substrate AS. Therefore, when the sealing substrate CS and / or the array substrate AS bends, for example, the porous buffer material PC contacts the array substrate AS before the reinforcing rib portion RR contacts the array substrate AS. Alternatively, when the sealing substrate CS and / or the array substrate AS is bent, the porous cushioning material PC is in contact with the array substrate AS, but the reinforcing rib portion RR is not in contact with the array substrate AS.

多孔質緩衝材PCを省略した場合、封止基板CS及び/又はアレイ基板ASが撓むと、補強リブ部RRがアレイ基板ASに接触することに起因して、アレイ基板ASが強い衝撃を受けることがある。この場合、例えば、有機EL素子OLEDの電極CEが損傷を被る可能性がある。   When the porous buffer material PC is omitted, when the sealing substrate CS and / or the array substrate AS is bent, the array substrate AS receives a strong impact due to the reinforcing rib portion RR coming into contact with the array substrate AS. There is. In this case, for example, the electrode CE of the organic EL element OLED may be damaged.

多孔質緩衝材PCは、この衝撃を和らげる。それゆえ、この有機EL表示装置は、有機EL素子OLEDの損傷を生じ難い。   The porous cushioning material PC softens this impact. Therefore, the organic EL display device hardly causes damage to the organic EL element OLED.

次に、本発明の第3態様について説明する。
図7は、本発明の第3態様に係る有機EL表示装置の表示パネルを概略的に示す断面図である。この表示パネルDPでは、溝TCが省略されると共に、補強リブ部RRに多孔質緩衝材PCが取り付けられている。第3態様に係る有機EL表示装置は、溝TCが省略され且つ補強リブ部RRに多孔質緩衝材PCが取り付けられていること以外は、第1態様に係る有機EL表示装置と同様の構造を有している。
Next, the third aspect of the present invention will be described.
FIG. 7 is a cross-sectional view schematically showing a display panel of an organic EL display device according to the third aspect of the present invention. In this display panel DP, the groove TC is omitted, and the porous cushioning material PC is attached to the reinforcing rib portion RR. The organic EL display device according to the third aspect has the same structure as the organic EL display device according to the first aspect except that the groove TC is omitted and the porous cushioning material PC is attached to the reinforcing rib portion RR. Have.

多孔質緩衝材PCは、例えば、軟質な連続気泡発泡体などのように通気性を有している軟質材料である。多孔質緩衝材PCとしては、例えば、第2態様で例示した材料を使用することができる。   The porous cushioning material PC is a soft material having air permeability such as a soft open-cell foam. As the porous buffer material PC, for example, the material exemplified in the second embodiment can be used.

多孔質緩衝材PCは、補強リブ部RRのアレイ基板ASとの対向面に取り付けられている。多孔質緩衝材PCは、例えば、封止基板CSに接着することにより、封止基板CSに支持され得る。   The porous cushioning material PC is attached to the surface of the reinforcing rib portion RR facing the array substrate AS. The porous cushioning material PC can be supported by the sealing substrate CS, for example, by adhering to the sealing substrate CS.

ところで、通常、乾燥部材DSは、厚さの均一性が低い。また、例え、乾燥部材DSが均一な厚さを有していたとしても、シート状の乾燥部材DSを封止基板CSに貼り付けた際に、乾燥部材DSの表面に凹凸を生じることがある。そのため、乾燥部材DSとアレイ基板ASとの間の距離は、不均一になり易い。それゆえ、乾燥部材DSは、封止基板CS及び/又はアレイ基板ASが撓んだときに、アレイ基板ASとの接触を生じ易い。乾燥部材DSがアレイ基板ASと接触すると、例えば、有機EL素子OLEDが物理的及び/又は化学的損傷を被る可能性がある。   Incidentally, the drying member DS usually has a low thickness uniformity. Further, even if the drying member DS has a uniform thickness, when the sheet-like drying member DS is attached to the sealing substrate CS, irregularities may be generated on the surface of the drying member DS. . Therefore, the distance between the drying member DS and the array substrate AS tends to be uneven. Therefore, the drying member DS tends to contact the array substrate AS when the sealing substrate CS and / or the array substrate AS is bent. When the drying member DS comes into contact with the array substrate AS, for example, the organic EL element OLED may be physically and / or chemically damaged.

図3の表示パネルDPでは、乾燥部材DSを配置する凹部RCを深くすれば、乾燥部材DSとアレイ基板ASとの接触は生じ難くなる。また、凹部RCを深くすると、凹部RC間でのガスの移動が生じ難くなるが、図3の表示パネルDPでは補強リブ部RRに溝TCを設けているため、凹部RC間でのガスの移動は生じ易い。   In the display panel DP of FIG. 3, if the recess RC in which the drying member DS is disposed is deepened, the contact between the drying member DS and the array substrate AS is less likely to occur. Further, when the concave portion RC is deepened, it is difficult for gas to move between the concave portions RC. However, in the display panel DP of FIG. 3, since the groove TC is provided in the reinforcing rib portion RR, the gas movement between the concave portions RC is performed. Is prone to occur.

これに対し、図7の表示パネルDPは、補強リブ部RRのアレイ基板ASとの対向面に多孔質緩衝材PCが取り付けられているため、図7の表示パネルDPから多孔質緩衝材PCを省略した場合と比較して、乾燥部材DSとアレイ基板ASとの接触を生じ難い。また、多孔質緩衝材PCは通気性を有しているため、多孔質緩衝材PCを取り付けることに起因して、凹部RC間でのガスの移動が著しく生じ難くなることはない。したがって、本態様でも、第1態様で説明したのとほぼ同様の効果を得ることができる。   On the other hand, the display panel DP in FIG. 7 has the porous cushioning material PC attached to the surface of the reinforcing rib portion RR facing the array substrate AS. Compared with the case where it is omitted, the contact between the drying member DS and the array substrate AS is less likely to occur. Further, since the porous cushioning material PC has air permeability, the movement of gas between the recesses RC does not become extremely difficult due to the attachment of the porous cushioning material PC. Therefore, also in this aspect, substantially the same effect as described in the first aspect can be obtained.

また、多孔質緩衝材PCは、補強リブ部RRのアレイ基板ASとの対向面を被覆している。したがって、封止基板CS及び/又はアレイ基板ASが撓んだ場合、多孔質緩衝材PCはアレイ基板ASに接触するものの、補強リブ部RRはアレイ基板ASとは接触しない。それゆえ、この有機EL表示装置は、第2態様に係る有機EL表示装置と同様、有機EL素子OLEDの損傷を生じ難い。   Further, the porous cushioning material PC covers the surface of the reinforcing rib portion RR facing the array substrate AS. Therefore, when the sealing substrate CS and / or the array substrate AS is bent, the porous cushioning material PC is in contact with the array substrate AS, but the reinforcing rib portion RR is not in contact with the array substrate AS. Therefore, the organic EL display device is unlikely to cause damage to the organic EL element OLED, like the organic EL display device according to the second aspect.

この有機EL表示装置では、補強リブ部RRに、第1態様で説明した溝TCを設けてもよい。補強リブ部RRに溝TCを設けると、凹部RC間でのガスの移動がより生じ易くなる。   In this organic EL display device, the reinforcing rib portion RR may be provided with the groove TC described in the first aspect. If the groove TC is provided in the reinforcing rib portion RR, gas movement between the concave portions RC is more likely to occur.

以上、画素PXに映像信号として電流信号を書き込む構成を採用した有機EL表示装置について説明したが、有機EL表示装置には他の構成を採用してもよい。例えば、有機EL表示装置には、画素PXに映像信号として電圧信号を書き込む構成を採用してもよい。また、上述した有機EL表示装置はアクティブマトリクス駆動方式を採用しているが、有機EL表示装置には、パッシブマトリクス駆動方式やセグメント駆動方式などの他の駆動方式を採用することができる。   As described above, the organic EL display device adopting the configuration in which the current signal is written to the pixel PX as the video signal has been described. However, other configurations may be adopted for the organic EL display device. For example, the organic EL display device may be configured to write a voltage signal as a video signal to the pixel PX. Further, although the above-described organic EL display device adopts an active matrix driving method, other driving methods such as a passive matrix driving method and a segment driving method can be adopted for the organic EL display device.

本発明の第1態様に係る有機EL表示装置を概略的に示す平面図。1 is a plan view schematically showing an organic EL display device according to a first embodiment of the present invention. 図1に示す有機EL表示装置が含む表示パネルを概略的に示す平面図。FIG. 2 is a plan view schematically showing a display panel included in the organic EL display device shown in FIG. 1. 図2に示す表示パネルのIII−III線に沿った断面図。Sectional drawing along the III-III line of the display panel shown in FIG. 図2及び図3の表示パネルが含むアレイ基板を概略的に示す断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing an array substrate included in the display panel of FIGS. 2 and 3. 図2及び図3の表示パネルが含む封止基板を概略的に示す斜視図。FIG. 4 is a perspective view schematically showing a sealing substrate included in the display panel of FIGS. 2 and 3. 本発明の第2態様に係る有機EL表示装置の表示パネルを概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows schematically the display panel of the organic electroluminescence display which concerns on the 2nd aspect of this invention. 本発明の第3態様に係る有機EL表示装置の表示パネルを概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows schematically the display panel of the organic electroluminescence display which concerns on the 3rd aspect of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

ACT…活性層、AS…アレイ基板、C…キャパシタ、CE…対向電極、CS…封止基板、DE…ドレイン電極、DL…映像信号線、DP…表示パネル、DR…駆動トランジスタ、DS…乾燥部材、FP…平板部、G…ゲート、GI…ゲート絶縁膜、II…層間絶縁膜、ND1…電源端子、ND1’…定電位端子、ND2…電源端子、OLED…有機EL素子、PC…多孔質緩衝材、PE…画素電極、PI…隔壁絶縁層、PS…パッシベーション膜、PSL…電源線、PX…画素、PXG…画素群、RC…凹部、RM…縁部、RR…補強リブ部、SC…半導体層、SE…ソース電極、SL1…走査信号線、SL2…走査信号線、SUB…絶縁基板、SWa…出力制御スイッチ、SWb…選択用スイッチ、SWc…ダイオード接続スイッチ、TC…溝、UC…アンダーコート層、XDR…映像信号線ドライバ、YDR…走査信号線ドライバ。   ACT ... active layer, AS ... array substrate, C ... capacitor, CE ... counter electrode, CS ... sealing substrate, DE ... drain electrode, DL ... video signal line, DP ... display panel, DR ... drive transistor, DS ... drying member FP: flat plate portion, G: gate, GI: gate insulating film, II: interlayer insulating film, ND1 ... power supply terminal, ND1 '... constant potential terminal, ND2 ... power supply terminal, OLED ... organic EL element, PC ... porous buffer Material, PE ... Pixel electrode, PI ... Partition insulating layer, PS ... Passivation film, PSL ... Power supply line, PX ... Pixel, PXG ... Pixel group, RC ... Recess, RM ... Rim, RR ... Reinforcement rib, SC ... Semiconductor Layer, SE ... source electrode, SL1 ... scan signal line, SL2 ... scan signal line, SUB ... insulating substrate, SWa ... output control switch, SWb ... selection switch, SWc ... diode connection switch, T ... groove, UC ... undercoat layer, XDR ... video signal line driver, YDR ... scanning signal line driver.

Claims (3)

支持基板と、
前記支持基板の一方の主面に支持された有機EL素子と、
前記有機EL素子と向き合い、溝を介して互いに通じた複数の凹部が前記有機EL素子と向き合った主面に設けられ、前記支持基板と共に中空体を形成した封止基板と、
各々が乾燥剤を含有すると共に前記複数の凹部内にそれぞれ配置された複数の乾燥部材とを具備したことを特徴とする有機EL表示装置。
A support substrate;
An organic EL element supported on one main surface of the support substrate;
A plurality of recesses facing the organic EL element and communicating with each other through a groove are provided on the main surface facing the organic EL element, and a sealing substrate that forms a hollow body with the support substrate;
An organic EL display device comprising a plurality of drying members each containing a desiccant and disposed in each of the plurality of recesses.
前記複数の乾燥部材上にそれぞれ配置された複数の多孔質緩衝材をさらに具備したことを特徴とする請求項1に記載の有機EL表示装置。   The organic EL display device according to claim 1, further comprising a plurality of porous buffer materials respectively disposed on the plurality of drying members. 支持基板と、
前記支持基板の一方の主面に支持された有機EL素子と、
前記有機EL素子と向き合い、複数の凹部が前記有機EL素子と向き合った主面に設けられ、前記支持基板と共に中空体を形成した封止基板と、
各々が乾燥剤を含有すると共に前記複数の凹部内にそれぞれ配置された複数の乾燥部材と、
前記封止基板の前記主面に前記複数の凹部間の位置で支持された多孔質緩衝材とを具備したことを特徴とする有機EL表示装置。
A support substrate;
An organic EL element supported on one main surface of the support substrate;
Facing the organic EL element, a plurality of recesses are provided on the main surface facing the organic EL element, and a sealing substrate that forms a hollow body with the support substrate;
A plurality of drying members each containing a desiccant and disposed in each of the plurality of recesses;
An organic EL display device comprising a porous cushioning material supported on the main surface of the sealing substrate at a position between the plurality of recesses.
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