JP2008208342A - 樹脂組成物、硬化膜、および硬化膜を有するカラーフィルタ - Google Patents

Abstract

【課題】２００℃から２３０℃の低温硬化が可能であり、熱硬化後、透明性、平坦性、ＩＴＯ接着性、耐透水性に優れる硬化膜を得ることができるカラーフィルタ保護膜用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）フェニルトリアルコキシシランと、エポキシシクロヘキシルエチル基、３−グリシドキシプロピル基及び環状酸無水物基からなる群から選ばれる基を有するアルコキシシランを含む加水分解性シラン化合物を加水分解および縮合させることによって得られるポリシロキサン、および（ｂ）溶剤を含有する樹脂組成物、並びにこれらと二重結合および／または三重結合を有する化合物及び光重合開始剤を含有する樹脂組成物、該組成物から形成された硬化膜及びカラーフィルタ。
【選択図】なし

Description

近年、液晶素子に色分解用カラーフィルタを組み合わせたカラー液晶表示素子が、多々実用化されている。一般的なカラーフィルタは、ガラス等の透明基板上に画素を形成し、その上に保護膜を設け、ついでＩＴＯ透明電極を配するものであるが、この保護膜には保護膜よりも下層に位置する画素、ガラス、ブラックマトリックス成分として使用されるクロム、アクリルカーボンブラック等との接着性や、上層に位置するＩＴＯとの接着性が求められ、さらに画素不純物成分の遮蔽性、耐熱性、耐光性、耐溶剤性、高温高湿耐性、強靭性、平坦性、透明性等の幅広い特性が要求される。このような保護膜を形成する熱硬化性塗液組成物として、特に耐熱性の見地から次に挙げるようなシロキサンポリマーやシリコーンポリイミド前駆体等が用いられている。

アルコキシシランを加水分解および縮合させることによって得られるシロキサンポリマーを含有した塗液組成物が知られている（特許文献１、２、５参照）。しかし、特許文献１、２、５に記載された組成物から膜を得るためには２５０℃以上の高温で熱処理する必要があり、これらの組成物を上記のようなカラーフィルタの保護膜に用いると、カラーフィルタに使用されている顔料が変質するという問題があった。また得られた膜は、ＩＴＯと接着性が悪いだけでなく、高温高湿の環境下に長期間保管すると、膜にピンホール状の欠陥やマイクロクラックが発生したりするといった問題（高温高湿耐性がない）も有していた。

また、シリコーンポリイミド前駆体を含有した塗液組成物が知られている（特許文献３、４参照）。しかし、これらを高温で熱処理して得られた膜はイミド結合を有しているため、ＩＴＯとの接着性は良好であるが、シリコーンポリイミド前駆体がイミドに変換されるときの硬化収縮が大きく、カラーフィルタの保護膜に使用する場合、平坦性が良好にならないという問題があった。さらに、シロキサンポリマーやシリコーンポリイミドを含有した塗液組成物は、透水性が極めて高いため、高温高湿の環境下でカラーフィルタの画素が変質する問題も有していた。
特開平５−２８８９２６号公報（請求項１） 特開平７−３３１１７２号公報（請求項１） 特開平８−２５９８９４号公報（請求項１、２） 特開平９−２９１１５０号公報（請求項１） 特開２０００−３９７１３号公報（請求項１）

本発明の目的は、２００℃〜２３０℃の低温熱処理が可能であり、さらに、透明性、平坦性、ＩＴＯ接着性に優れた膜を得ることができるだけでなく、特に、耐透水性に優れた樹脂組成物を提供する。またカラーフィルタの保護膜として有用な膜を形成できる樹脂組成物を提供する。

すなわち本発明は、（ａ）フェニルトリアルコキシシランと、一般式（１）および（２）で表されるアルコキシシランを加水分解および縮合させることによって得られるポリシロキサン、および（ｂ）溶剤を含有する樹脂組成物。

Ｒ^ｘは、エポキシシクロヘキシルエチル基、３−グリシドキシプロピル基および下記一般式（３）〜（５）で表される基からなる群から選ばれるいずれかの基を表す。Ｒ^１は、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５の置換アルキル基、炭素数１〜１０のアルキルオキシカルボニル基、炭素数２〜１０の置換アルキルオキシカルボニル基からなる群から選ばれるいずれか基を表し、複数のＲ^１はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。Ｒ^ｙは炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５の置換アルキル基からなる群から選ばれるいずれかの基を表し、複数のＲ^ｙはそれぞれ同じでも異なっていてもよい。Ｒ^５は、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基からなる群から選ばれるいずれかの基を表し、複数のＲ^５はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。ｎは０〜３の整数を表す。

（Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４は単結合、直鎖脂肪族基、カルボニル基、エーテル基、エステル結合を有する基、アミド基、芳香族環、環状脂肪族基からなる群から選ばれるいずれかの有機基を表す。ｈ、ｌは０〜３の整数を表す。）

本発明の樹脂組成物によれば、ＩＴＯとの接着性、高温高湿耐性、平坦性に優れた硬化膜を得ることができ、さらに低透水性に優れた硬化膜を得ることができる。また、その硬化膜はＴＦＴ基板用平坦化膜、層間絶縁膜、カラーフィルタの保護膜として好適に用いることができる。

本発明で用いるポリシロキサンは、フェニルトリアルコキシシランと、一般式（１）および一般式（２）で表されるアルコキシシランを加水分解および縮合させることによって得られる。フェニルトリアルコキシシランは、一般式（６）で表される。

Ｒ^６は、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアリール基、炭素数１〜５のアシル基のいずれかを表し、複数のＲ^６はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。

一般式（６）のＲ^６で挙げられたアルキル基、アシル基はいずれも置換基を有していてもよく、また置換基を有していない無置換体であってもよく、組成物の特性に応じて選択できる。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基が挙げられる。アシル基の具体例としては、アセチル基が挙げられる。アリール基の具体例としては、フェニル基が挙げられる。これらのうち、加水分解性の観点から、特に、メチル基、エチル基、アセチル基が好ましい。

一般式（１）で表されるアルコキシシランは、Ｒ^ｘＳｉ（ＯＲ^１）_３で表され、Ｒ^ｘは、エポキシシクロヘキシルエチル基、３−グリシドキシプロピル基、一般式（３）〜（５）で表される基からなる群から選ばれるいずれかの基である。Ｒ^１は、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５の置換アルキル基、炭素数１〜１０のアルキルオキシカルボニル基、炭素数２〜１０の置換アルキルオキシカルボニル基からなる群から選ばれるいずれか基を表し、複数のＲ^１はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。

ｈ、ｌは０〜３の整数を表す。Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４は単結合、直鎖脂肪族基、カルボニル基、エーテル基、エステル結合を有する基、アミド基、芳香族環、環状脂肪族基からなる群から選ばれるいずれかの有機基を表す。これらの有機基は置換されていてもされていなくてもよい。具体的には−Ｃ_２Ｈ_４−、−Ｃ_３Ｈ_６−、−Ｃ_４Ｈ_８−、−Ｏ−、−Ｃ_３Ｈ_６ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２Ｏ_２Ｃ−、−ＣＯ−、−ＣＯ_２−、−ＣＯＮＨ−、以下にあげる有機基などがある。

Ｒ^ｘは、得られるポリシロキサンのアルカリ溶解性を良くすることからエポキシシクロヘキシルエチル基、３−グリシドキシプロピル基、２，５−ジオキソテトラヒドロフリルプロピル基が好ましく、またＩＴＯの接着性の観点から、エポキシシクロヘキシルエチル基が特に好ましい。

一般式（１）で表されるアルコキシシランの具体例は、３−トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物、３−トリエトキシシシリルプロピルコハク酸無水物、３−トリフェノキシシリルプロピルコハク酸無水物、３−トリメトキシシシリルプロピルフタル酸無水物、３−トリメトキシシシリルプロピルシクロヘキシルジカルボン酸無水物、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシランなどが挙げられる。これらのアルコキシシランは単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

一般式（２）で表されるアルコキシシランは、（Ｒ^ｙ）_ｎＳｉ（ＯＲ^５）_４−ｎで表され、Ｒ^ｙは、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５の置換アルキル基からなる群から選ばれるいずれかの基を表し、複数のＲ^ｙはそれぞれ同じでも異なっていてもよい。Ｒ^５は、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基からなる群から選ばれるいずれかの基を表し、複数のＲ^５はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。ｎは０〜３の整数である。ｎ＝０の場合は４官能性シラン、ｎ＝１の場合は３官能性シラン、ｎ＝２の場合は２官能性シラン、ｎ＝３の場合は１官能性シランである。Ｒ^ｙは、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基が膜を形成したときの耐透水性の点で好ましく、中でも重合時の加水分解が容易である観点からメチル基、エチル基が特に好ましい。
一般式（２）で表されるアルコキシシランの具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラアセトキシシラン、テトラフェノキシシランなどの４官能性シラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、メチルトリｎ−ブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリｎ−ブトキシシランなどの３官能性シラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシランなどの２官能性シラン、トリメチルメトキシシランなどの１官能性シランが挙げられる。これらのオルガノシランのうち、硬化膜の耐クラック性と硬度の点から３官能性シランが好ましく用いられる。また、これらのアルコキシシランは単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

本発明のポリシロキサンは、上記アルコキシシランを加水分解および縮合させることによって得られる共重合体を含有し、ポリシロキサンの少なくとも一部に化学的に結合したシリカ粒子を含んでいてもよい。

本発明で用いられるシリカ粒子の平均粒子径は、好ましくは５ｎｍ〜３０ｎｍである。５ｎｍより小さいとパターン解像度の向上が十分ではなく、３０ｎｍより大きいと硬化膜が光散乱し透明性が低下する。ここで、シリカ粒子の数平均粒子径は、比表面積法換算値を用いる場合には、シリカ粒子を乾燥後、焼成し、得られた粒子の比表面積を測定した後に、粒子を球と仮定して比表面積から粒子径を求め、数平均として平均粒子径を求める。用いる機器は特に限定されないが、アサップ２０２０（Ｍｉｃｒｏｍｅｒｉｔｉｃｓ社製）などを用いることができる。
シリカ粒子はアルコキシシランの１種または２種以上を水、有機溶媒および塩基（好ましくは、アンモニア）の存在下で加水分解、重縮合させる方法などにより得られる。有機溶媒に分散したシリカ粒子は水性シリカ粒子分散媒である水を有機溶媒で置換することで得られる。分散媒の置換は水性シリカ粒子に有機溶媒を添加し、蒸留などの手段で水を留去させる方法等が挙げられる。溶媒の種類によっては低級アルコールを添加し、シリカ粒子の表面が一部エステル化される場合もある。ポリシロキサンやキノンジアジド化合物との相溶性の点から、有機溶媒に分散したシリカ粒子が好ましい。

シリカ粒子の具体例としては、イソプロパノールを分散剤とした平均粒子径１２ｎｍのＩＰＡ−ＳＴ、メチルイソブチルケトンを分散剤とした平均粒子径１２ｎｍのＭＩＢＫ−ＳＴ、イソプロパノールを分散剤とした平均粒子径４５ｎｍのＩＰＡ−ＳＴ−Ｌ、イソプロパノールを分散剤とした平均粒子径１００ｎｍのＩＰＡ−ＳＴ−ＺＬ、プロピレングリコールモノメチルエーテルを分散剤とした平均粒子径１５ｎｍのＰＧＭ−ＳＴ（以上商品名、日産化学工業（株）製）、γ−ブチロラクトンを分散剤とした平均粒子径１２ｎｍのオスカル１０１、γ−ブチロラクトンを分散剤とした平均粒子径６０ｎｍのオスカル１０５、ジアセトンアルコールを分散剤とした平均粒子径１２０ｎｍのオスカル１０６、分散溶液が水である平均粒子径５〜８０ｎｍのカタロイド−Ｓ（以上商品名、触媒化成工業（株）製）、プロピレングリコールモノメチルエーテルを分散剤とした平均粒子径１６ｎｍのクォートロンＰＬ−２Ｌ−ＰＧＭＥ、平均粒子径１２ｎｍのクォートロンＰＬ−１−ＰＧＭＥ、γ−ブチロラクトンを分散剤とした平均粒子径１７ｎｍのクォートロンＰＬ−２Ｌ−ＢＬ、平均粒子径１３ｎｍのクォートロンＰＬ−１−ＢＬ、ジアセトンアルコールを分散剤とした平均粒子径１７ｎｍのクォートロンＰＬ−２Ｌ−ＤＡＡ、平均粒子径１３ｎｍのクォートロンＰＬ−１−ＤＡＡ、分散溶液が水である平均粒子径１８〜２０ｎｍのクォートロンＰＬ−２Ｌ、ＧＰ−２Ｌ、平均粒子径１３〜１５ｎｍのクォートロンＰＬ−１（以上商品名、扶桑化学工業（株）製）、平均粒子径が１００ｎｍであるシリカ（ＳｉＯ_２）ＳＧ−ＳＯ１００（商品名、共立マテリアル（株）製）、平均粒子径が５〜５０ｎｍであるレオロシール（商品名、（株）トクヤマ製）などが挙げられる。また、これらのシリカ粒子は単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

また、用いるシリカ粒子の表面が反応性基を有していると、ポリシロキサンとシリカ粒子の結合を容易にし、膜の強度が高まる点から好ましい。反応性基としては、シラノール、アルコール、フェノールなどの水酸基、ビニル基、アクリル基、エチニル基、エポキシ基、アミノ基等が挙げられる。
シリカ粒子を用いる場合の混合比率は、Ｓｉ原子モル数で、ポリマー全体のＳｉ原子モル数に対して１〜５０％が好ましい。シリカ粒子が５０％より多いと、熱処理し、硬化膜とした場合、耐クラック性が低下する。

なお、ポリマー全体のＳｉ原子モル数に対するシリカ粒子のＳｉ原子モル比はＩＲにおいてＳｉ−Ｃ結合由来のピークとＳｉ−Ｏ結合由来のピークの積分比から求めることができる。ピークの重なりが多く求められない場合は、^１Ｈ−ＮＭＲ、^１３Ｃ−ＮＭＲ、ＩＲ、ＴＯＦ−ＭＳなどにより粒子以外のモノマーの構造を決定し、さらに元素分析法において発生する気体と残存する灰（すべてＳｉＯ_２と仮定する）の割合から求めることができる。

また、ポリシロキサン中において、膜の耐クラック性と硬度を両立させる点から、ポリシロキサン中にあるフェニル基の含有率はＳｉ原子に対して４０〜７０モル％が好ましく、さらに好ましくは４０〜６０モル％である。フェニル基の含有率が７０モル％より多いと硬度が低下し、フェニル基含有率が４０モル％より少ないと耐クラック性が低下する。フェニル基の含有率は、例えば、ポリシロキサンの^２９Ｓｉ−核磁気共鳴スペクトルを測定し、そのフェニル基が結合したＳｉのピーク面積とフェニル基が結合していないＳｉのピーク面積の比から求めることができる。

また、本発明で用いるポリシロキサンの重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくはＧＰＣで測定されるポリスチレン換算で１０００〜１０００００、さらに好ましくは２０００〜５００００である。Ｍｗが１０００より小さいと塗膜性が悪くなり、１０００００より大きいと、アルカリ水溶液や溶剤への溶解性が悪くなる。アルカリ水溶液に可溶のポリシロキサンは好ましくは２０００〜５００００、ポリシロキサンの重量平均分子量は好ましくは５０００〜１０００００が好ましい。Ｍｗが５０００よりも小さいと熱によるパターンだれが発生する温度が低くなってしまう場合がある。
また、シリカ粒子がポリシロキサンと均質化していることが好ましい。シリカ粒子が均質化していると硬化膜の硬度が向上し、現像時にプリベーク膜からシリカ粒子の析出を防ぐ。ここでいう「均質化している」とはシリカ粒子のシリカ成分とマトリックスのポリシロキサンが反応し、ポリシロキサン中にシリカ粒子が密度一定で組み込まれていることを指す。その状態は、透過型電子顕微鏡（以下、ＴＥＭと記述）でシリカ粒子とポリシロキサンの境界部分を観察することによって確認することができる。均質化している場合、ＴＥＭ観察にてシリカ粒子とポリシロキサンとの境界線が観察されない。また、均質化した系は、同量のシリカ粒子をポリシロキサンに添加した系より高解像となる点からも均質化することが好ましい。

本発明の少なくとも一部に化学的に結合したシリカ粒子を含んだポリシロキサンを製造する方法としては、上述のオルガノシランに溶媒、水、必要に応じて触媒を添加してオルガノシランを加水分解し、シリカ粒子と加水分解されたオルガノシランを部分縮合させることにより得られる。シリカ粒子はオルガノシランとはじめから共存させておいてもよいし、オルガノシランを加水分解、重合させてポリシロキサンとしてからシリカ粒子を加えてさらに加熱してもよいが、好ましくは相溶性の点からオルガノシランの加水分解直後に滴下する方法が挙げられる。

塗膜性、貯蔵安定性の点から、加水分解、部分縮合後のポリシロキサン溶液には、副生成物のアルコールや水、触媒が含まれないことが好ましいため、この場合の部分縮合は、加水分解副生物（メタノールなどのアルコール）や縮合副生物（水）を留去しながら行うことが好適に用いられる。また、留去で除けない触媒の除去方法としては、イオン交換樹脂で処理する方法を用いることができる
ここで用いられる溶媒としては、好ましくはアルコール性水酸基を有する大気圧下の沸点が１００℃〜１９０℃の化合物が用いられる。これらの溶剤を用いると、ポリシロキサンの室温安定性が向上するだけでなく、ポリシロキサン縮合時に、加水分解副生物（メタノールなどのアルコール）や縮合副生物（水）を留去することが可能となる。沸点が１９０℃より高いと、これを塗液組成物とした場合、膜中の残存溶剤量が多くなり熱硬化時の膜収縮が大きくなり、良好な平坦性が得られなくなる。一方、沸点が１００℃より低いと、塗膜時の乾燥が速すぎて膜表面が荒れるなど塗膜性が悪くなる。
アルコール性水酸基を有する化合物の具体例としては、３−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン、４−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン、５−ヒドロキシ−２−ペンタノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン（ジアセトンアルコール）、乳酸エチル、乳酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノｔ−ブチルエーテル、３−メトキシ−１−ブタノール、３−メチル−３−メトキシ−１−ブタノールが挙げられる。これらの中でも、さらにカルボニル基を有する化合物が好ましく、特にジアセトンアルコールが好ましく用いられる。これらのアルコール性水酸基を有する化合物は、単独、あるいは２種以上を組み合わせて使用してもよい。
溶媒の添加量はアルコキシシランもしくはアルコキシシランとシリカ粒子の合計量１００重量％に対して１０〜１０００重量％が好ましい。また加水分解反応に用いる水の添加量は、加水分解性基１モルに対して０．５〜２モルが好ましい。

必要に応じて添加される触媒は、酸触媒、塩基触媒が好ましく用いられる。酸触媒の具体例としては塩酸、硝酸、硫酸、フッ酸、リン酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、ギ酸、多価カルボン酸あるいはその無水物、イオン交換樹脂が挙げられる。塩基触媒の具体例としては、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、トリオクチルアミン、ジエチルアミン、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アミノ基を有するアルコキシシラン、イオン交換樹脂が挙げられる。触媒の添加量はアルコキシシランまたは／かつ直鎖状ポリシロキサンの混合物１００重量％に対して０．０１〜１０重量％が好ましい。

さらに、本発明の樹脂組成物は、（ｃ）二重結合および／または三重結合を含有する化合物および（ｄ）光重合開始剤を含有してもよい。二重結合および／または三重結合を含有する化合物および光重合開始剤を含有すると、光照射により重合が進行することで膜が硬化し、同時に疎水性が向上するため透水性をより抑えることができる。また、本発明の樹脂組成物から形成される硬化膜の露光部がアルカリ水溶液に対して不溶化し、ネガ型のパターンを形成することができる。

二重結合を有する官能基としては、アクリル基、メタクリル基、ビニル基、スチリル基、アリル基などが挙げられる。二重結合を有する化合物の具体例としてはとしては、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、スチレン、α−メチルスチレン、１，２−ジヒドロナフタレン、１，３−ジイソプロペニルベンゼン、３−メチルスチレン、４−メチルスチレン、２−ビニルナフタレン、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、ヘキシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールメタクリレート、１，９−ノナンジオールジメタクリレート、１，１０−デカンジオールジメタクリレート、ジメチロール−トリシクロデカンジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレートメチレンビスアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルメタクリレート、２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルアクリレート、Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルメタクリレート、Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルアクリレート、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルカルバゾール、シクロヘキシルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニルメタクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート、トリシクロデカニルアクリレート、トリシクロデカニルメタクリレート、ジメチロール−トリシクロデカンジアクリレート、ジメチロール−トリシクロデカンジメタクリレート、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレートなどが挙げられる。中でも、感度向上の観点からペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどの多官能化合物が好ましい。また、疎水性向上の観点から、トリシクロデカニルアクリレート、トリシクロデカニルメタクリレート、ジメチロール−トリシクロデカンジアクリレート、ジメチロール−トリシクロデカンジメタクリレート、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレートなどが好ましい。これらは単独で用いても、または２種類以上を組み合わせて用いてもよい。

三重結合を有する官能基としてはエチニル基、プロパルギル基などが挙げられる。三重結合を有する化合物の具体例としては、１−ブチン、２−ブチン、エチニルベンゼン、１，４−ジエチニルベンゼン、１，３−ジエチニルベンゼン、１，２−ジエチニルベンゼン、１−エチニルナフタレン、２−エチニルナフタレン、４−エチニル無水フタル酸、酢酸プロパルギル、プロパルギル酸メチル、プロパルギル酸エチル、プロピン酸プロパルギルなどが挙げられる。これらは単独で用いても、または２種類以上を組み合わせて用いてもよい。重合性の観点から、二重結合を含有する化合物と組み合わせることが好ましい。

二重結合および／または三重結合を含有する化合物の添加量はポリシロキサンに対して、１〜２５０重量％であることが好ましく、さらに好ましくは１５〜５０重量％である。１重量％より少ないと、光照射による膜の硬化が十分ではなくパターン加工できない可能性がある。また、２５０重量％より多いと透過率が低下したり、プリベーク膜の疎水性が高くなりすぎて未露光部もアルカリ水溶液に不溶となり、パターン加工ができない可能性がある。

ｃ）二重結合および／または三重結合を含有する化合物は、カルボキシル基および／または水酸基を含有しても良い。カルボキシル基および／または水酸基を含有することで基板との接着性が向上し、現像時のパターン剥がれが改善する。

二重結合を含有し、カルボキシル基および／または水酸基を含有する化合物の具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、２−アクリロイロキシエチルコハク酸、２−アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２−アクリロイロキシエチルフタル酸、１，３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロパン、１，３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロパン、Ｎ−メチロールアクリルアミド、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルのメタクリル酸付加物（商品名エポキシエステル40EM、共栄社）、エチレングリコールジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物、プロピレングリコールジグリシジルエーテルのメタクリル酸付加物、プロピレングリコールジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物（商品名エポキシエステル７０ＰＡ、共栄社）、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテルのメタクリル酸付加物、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物（商品名エポキシエステル２００ＰＡ、共栄社）、グリセリンジグリシジルエーテルのメタクリル酸付加物、グリセリンジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物（商品名エポキシエステル８０ＭＦＡ、共栄社）、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルのメタクリル酸付加物（商品名エポキシエステル３０００Ｍ、共栄社）、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物（商品名エポキシエステル３０００Ａ、共栄社）、ビスフェノールＡプロピレンオキサイド付加物ジグリシジルエーテルのメタクリル酸付加物（商品名エポキシエステル３００２Ｍ、共栄社）、ビスフェノールＡプロピレンオキサイド付加物ジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物（商品名エポキシエステル３００２Ａ、共栄社）などが挙げられる。

三重結合を含有し、カルボキシル基および／または水酸基を含有する化合物の具体例としては、プロパルギルアルコール、プロピン酸、４−エチニルフタル酸、３−（３−アミノフェニル）プロピン酸、３−フェニルプロピン酸などが挙げられる。

二重結合および／または三重結合を含有し、カルボキシル基および／または水酸基を含有する化合物の添加量は、ポリシロキサン１００重量％に対して１〜５０重量％が好ましく、さらに好ましくは３〜３０重量％である。１重量％よりも少ないと基板との接着性向上の効果が得られない可能性があり、５０重量％よりも多いと疎水性が下がり、耐透水性が悪化する可能性がある。

（ｄ）光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、４，４，−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、３，３，４，４，−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類や３，５−ビス（ジエチルアミノベンジリデン）−Ｎ−メチル−４−ピペリドン、３，５−ビス（ジエチルアミノベンジリデン）−Ｎ−エチル−４−ピペリドンなどのベンジリデン類、７−ジエチルアミノ−３−テノニルクマリン、４，６−ジメチル−３−エチルアミノクマリン、３，３−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、７−ジエチルアミノ−３−（１−メチルメチルベンゾイミダゾリル）クマリン、３−（２−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノクマリンなどのクマリン類、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノンなどのアントラキノン類、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテルなどのベンゾイン類、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントンなどのチオキサントン類、エチレングリコールジ（３−メルカプトプロピオネート）、２−メルカプトベンズチアゾール、２−メルカプトベンゾキサゾール、２−メルカプトベンズイミダゾールなどのメルカプト類、Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−エチル−Ｎ−（ｐ−クロロフェニル）グリシン、Ｎ−（４−シアノフェニル）グリシンなどのグリシン類、１−フェニル−１，２−ブタンジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ビス（α−イソニトロソプロピオフェノンオキシム）イソフタル、１，２−オクタンジオン−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−２−（ｏ−ベンゾイルオキシム）、エタノン−１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル]−１−（ｏ−アセチルオキシム）などのオキシム類、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オンなどのα−アミノアルキルフェノン類、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾールなどが挙げられる。これらのうち、１−フェニル−１，２−ブタンジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ビス（α−イソニトロソプロピオフェノンオキシム）イソフタル、１，２−オクタンジオン−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−２−（ｏ−ベンゾイルオキシム）、エタノン−１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル]−１−（ｏ−アセチルオキシム）などのオキシム類が好ましく、特に好ましくは、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ビス（α−イソニトロソプロピオフェノンオキシム）イソフタル、１，２−オクタンジオン−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−２−（ｏ−ベンゾイルオキシム）、エタノン−１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル]−１−（ｏ−アセチルオキシム）である。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。

（ｄ）の光重合開始剤含有量は、ポリシロキサンに対して０．１〜３０重量％が好ましい。０．１重量％より少ないと、光照射により発生するラジカルの量が少なく膜の硬化が不十分なためにパターン加工できない可能性がある。また、３０重量％より多いと透過率が低下したり、解像度が極端に悪化する可能性がある。

さらに、本発明の樹脂組成物は、熱または光により酸を発生する化合物を含有してもよい。

さらに、本発明の樹脂組成物には（ｅ）熱または光により酸を発生する化合物、あるいは、熱または光により塩基を発生する化合物を含有してもよい。発生した酸または塩基によって熱硬化時のポリシロキサンの架橋が促進され、硬化膜の耐溶剤性が向上する。

本発明で用いる熱により酸を発生する化合物（熱酸発生剤）としては、ＳＩ−６０、ＳＩ−８０、ＳＩ−１００、ＳＩ−１１０、ＳＩ−１４５、ＳＩ−１５０、ＳＩ−６０Ｌ、ＳＩ−８０Ｌ、ＳＩ−１００Ｌ、ＳＩ−１１０Ｌ、ＳＩ−１４５Ｌ、ＳＩ−１５０Ｌ、ＳＩ−１６０Ｌ、ＳＩ−１８０Ｌ（いずれも、三新化学工業（株）製）、４−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウム、ベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム、２−メチルベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム、２−メチルベンジル−４−アセチルフェニルメチルスルホニウム、２−メチルベンジル−４−ベンゾイルオキシフェニルメチルスルホニウム、これらのメタンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、カンファースルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩が挙げられる。より好ましくは４−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウム、ベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム、２−メチルベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム、２−メチルベンジル−４−アセチルフェニルメチルスルホニウム、２−メチルベンジル−４−ベンゾイルオキシフェニルメチルスルホニウム、これらのメタンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、カンファースルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩が挙げられる。なお、これらの化合物は単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

熱酸発生剤の好ましい添加量はポリシロキサン１００重量部に対して０．０１〜１０重量部であり、さらに好ましくは０．０１〜５重量部である。０．０１重量部より少ないとポリシロキサンの架橋促進剤としての機能が十分に発揮されず低硬度の膜となり、１０重量部より多いと、感度の低下やクラックの発生、透明性の低下を引き起こす。

本発明で用いる光により酸を発生する化合物（光酸発生剤）としては、例えば、イミノスルホネートの具体例として、ＰＡＩ−１０１、ＰＡＩ−１０６（以上みどり化学（株）製）、ＣＧＩ−１３１１（チバスペシャリティケミカルズ社製）、スルホンイミド化合物の具体例としては、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）スクシンイミド（ＳＩ−１０５（みどり化学（株）製））、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）スクシンイミド（ＳＩ−１０６（みどり化学（株）製））、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）スクシンイミド（ＳＩ−１０１（みどり化学（株）製））、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド（ＰＩ−１０５（みどり化学（株）製））、Ｎ−（フェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド（ＮＤＩ−１００（みどり化学（株）製））、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド（ＮＤＩ−１０１（みどり化学（株）製））、Ｎ−（トリフルオロメタンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド（ＮＤＩ−１０５（みどり化学（株）製））、Ｎ−（ノナフルオロブタンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド（ＮＤＩ−１０９（みどり化学（株）製））、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド（ＮＤＩ−１０６（みどり化学（株）製））、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド（ＮＡＩ−１０５（みどり化学（株）製））、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド（ＮＡＩ−１０６（みどり化学（株）製））、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド（ＮＡＩ−１０１（みどり化学（株）製））、Ｎ−（フェニルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド（ＮＡＩ−１００（みどり化学（株）製））、Ｎ−（ノナフルオロブチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド（ＮＡＩ−１０９（みどり化学（株）製））、Ｎ−（ブチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド（ＮＡＩ−１００４（みどり化学（株）製））、等が挙げられる。なお、これらの化合物は単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

光酸発生剤の好ましい添加量はポリシロキサン１００重量部に対して０．０１〜１０重量部であり、さらに好ましくは０．０１〜５重量部である。０．０１重量部より少ないとポリシロキサンの架橋促進剤としての機能が十分に発揮されず低硬度の膜となり、１０重量部より多いと、クラックの発生、透明性の低下を引き起こす。

熱または光により塩基を発生する化合物（塩基発生剤）は、コバルトなど遷移金属錯体、オルトニトロベンジルカルバメート類、α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジルカルバメート類、アシルオキシイミノ類などが挙げられる。

光照射により発生する塩基の種類としては有機、無機の塩基のいずれの場合も好ましく用いることができるが、光照射による発生効率、ポリシロキサンの架橋における触媒効果、ポリシロキサン溶液への溶解性などの点から有機アミン類が特に好ましい。発生する有機アミン類の種類としては脂肪族、芳香族のいずれでもよく、また、１官能でも多官能でも良い。紫外線照射により発生するアミン類の具体例としては、アンモニア、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ヘキシルアミン、シクロヘキシルアミン、デシルアミン、セチルアミン、ヒドラジン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ベンジルアミン、アニリン、ナフチルアミン、フェニレンジアミン、トルエンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ヘキサメチルテトラミン、ピペリジン、ピペラジンなどが挙げられる。

好ましい塩基発生剤の具体例として、遷移金属錯体としては、ブロモペンタアンモニアコバルト過塩素酸塩、ブロモペンタメチルアミンコバルト過塩素酸塩、ブロモペンタプロピルアミンコバルト過塩素酸塩、ヘキサアンモニアコバルト過塩素酸塩、ヘキサメチルアミンコバルト過塩素酸塩、ヘキサプロピルアミンコバルト過塩素酸塩などがあげられる。
オルトニトロベンジルカルバメート類としては、［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］メチルアミン、［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］プロピルアミン、［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキシルアミン、［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］シクロヘキシルアミン、［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］アニリン、［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ピペリジン、ビス［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキサメチレンジアミン、ビス［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］フェニレンジアミン、ビス［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］トルエンジアミン、ビス［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ジアミノジフェニルメタン、ビス［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ピペラジン、［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］メチルアミン、［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］プロピルアミン、［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキシルアミン、［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］シクロヘキシルアミン、［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］アニリン、［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ピペリジン、ビス［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキサメチレンジアミン、ビス［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］フェニレンジアミン、ビス［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］トルエンジアミン、ビス［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ジアミノジフェニルメタン、ビス［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ピペラジンなどが挙げられる。

α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジルカルバメート類としては、［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］メチルアミン、［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］プロピルアミン、［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキシルアミン、［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］シクロヘキシルアミン、［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］アニリン、［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］ピペリジン、ビス［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキサメチレンジアミン、ビス［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］フェニレンジアミン、ビス［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］トルエンジアミン、ビス［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］ジアミノジフェニルメタン、ビス［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］ピペラジンなどが挙げられる。

アシルオキシイミノ類としては、プロピオニルアセトフェノンオキシム、プロピオニルベンゾフェノンオキシム、プロピオニルアセトンオキシム、ブチリルアセトフェノンオキシム、ブチリルベンゾフェノンオキシム、ブチリルアセトンオキシム、アジポイルアセトフェノンオキシム、アジポイルベンゾフェノンオキシム、アジポイルアセトンオキシム、アクロイルアセトフェノンオキシム、アクロイルベンゾフェノンオキシム、アクロイルアセトンオキシムなどがあげられる。上記の塩基発生剤の中でも、ポリシロキサンを効率よく架橋させるために発生する塩基は強いことが望ましく、塩基のｐｋａは１１以上、好ましくは１２以上、さらに好ましくは１３以上であることが好ましい。特に好ましいものとしては、［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］シクロヘキシルアミン、ビス［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキサメチレンジアミン、ビス［［（α，α−ジメチル−３，５−ジメトキシベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキサメチレンジアミンなどが挙げられる。

塩基発生剤の好ましい添加量はポリシロキサン１００重量部に対して０．０１〜１０重量部であり、さらに好ましくは０．０１〜５重量部である。０．０１重量部より少ないとポリシロキサンの架橋促進剤としての機能が十分に発揮されず低硬度の膜となり、１０重量部より多いと、クラックの発生、透明性の低下を引き起こす。

本発明の樹脂組成物に光酸発生剤もしくは熱酸発生剤を用いる場合、増感剤を併用してもよい。このときの増感剤は熱処理により気化する、および／または硬化膜に残存した場合においても、光照射によって退色する増感剤が好ましい。

上記の熱処理により気化する、および／または光照射によって退色する増感剤の具体例としては、３，３’−カルボニルビス（ジエチルアミノクマリン）などのクマリン、９，１０−アントラキノンなどのアントラキノン、ベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、アセトフェノン、４−メトキシアセトフェノン、ベンズアルデヒドなどの芳香族ケトン、ビフェニル、１，４−ジメチルナフタレン、９−フルオレノン、フルオレン、フェナントレン、トリフェニレン、ピレン、アントラセン、９−フェニルアントラセン、９−メトキシアントラセン、９，１０−ジフェニルアントラセン、９，１０−ビス（４−メトキシフェニル）アントラセン、９，１０−ビス（トリフェニルシリル）アントラセン、９，１０−ジメトキシアントラセン、９，１０−ジエトキシアントラセン、９，１０−ジプロポキシアントラセン（ＤＰＡ、川崎化成（株）製）、９，１０−ジブトキシアントラセン（ＤＢＡ、川崎化成（株）製）、９，１０−ジペンタオキシアントラセン、２―ｔ−ブチル−９，１０−ジブトキシアントラセン、９，１０−ビス（トリメチルシリルエチニル）アントラセンなどの縮合芳香族などが挙げられる。

これらの増感剤の中で、熱処理により気化する増感剤は、好ましくは熱処理により昇華、蒸発、熱分解による熱分解物が昇華または蒸発する増感剤である。また、増感剤の気化温度としては、好ましくは１３０℃〜２５０℃、さらに好ましくは１５０℃〜２００℃である。増感剤の気化温度が１３０℃より低いと、増感剤がプリベーク中に気化して光照射プロセス中に存在しなくなり、光による酸発生あるいは、塩基発生が起こらず、２００℃〜２３０℃での硬化が不十分となることがある。一方、増感剤の気化温度が２５０℃より高いと、増感剤が熱硬化時に気化せず硬化膜中に残存し、無色透明性が低下することがある。

一方、光照射によって退色する増感剤は、透明性の観点から可視光領域における吸収が光照射によって退色する増感剤が好ましい。また、さらに好ましい光照射によって退色する化合物は、光照射によって二量化する化合物である。光照射によって二量化することによって、分子量が増大して不溶化するので、耐溶剤性向上、耐熱性向上、透明硬化膜からの抽出物の低減という効果が得られる。

また、増感剤は高感度を達成できるという点、光照射によって二量化して退色するという点からアントラセン系化合物が好ましく、さらに、９，１０位が水素であるアントラセン系化合物は熱に不安定であるので、９，１０−二置換アントラセン系化合物であることが好ましい。さらに、増感剤の溶解性の向上と光二量化反応の反応性の観点から一般式（７）で表される９，１０−ジアルコキシアントラセン系化合物であることが好ましい。

（Ｒ^７〜Ｒ^１４はそれぞれ独立して、水素、炭素数１〜２０のアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、エチニル基、アリール基、アシル基、およびそれらが置換された有機基を表す。Ｒ^１５、Ｒ^１６は炭素数１〜２０のアルコキシ基およびその他の有機基で置換されたアルコキシ基を表す。）
一般式（７）のＲ^７〜Ｒ^１４は、それぞれ独立して水素、炭素数１〜２０のアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アリール基、アシル基、およびそれらが置換された有機基を表す。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基が挙げられる。アルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基が挙げられる。アルケニル基の具体例としては、ビニル基、アクリロキシプロピル基、メタクリロキシプロピル基が挙げられる。アリール基の具体例としては、フェニル基、トリル基、ナフチル基が挙げられる。アシル基の具体例としては、アセチル基が挙げられる。化合物の気化性、光二量化の反応性の点から、Ｒ^７〜Ｒ^１４は水素、または炭素数は１〜６までの有機基であることが好ましい。さらに好ましくは、Ｒ^７、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１４は水素であることが好ましい。
一般式（７）のＲ^１５、Ｒ^１６は炭素数１〜２０のアルコキシ基、およびその他の有機基で置換されたアルコキシ基を表す。アルコキシ基に置換する具体的な置換基としてはアルコキシ基、アシル基などがあげられる。アルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、メトキシエトキシ基、１−メトキシ−２−プロポキシ基、１−アセチル−２−プロポキシ基が挙げられるが、化合物の溶解性と光二量化による退色反応の点から、プロポキシ基、ブトキシ基が好ましい。

増感剤を用いる場合、シロキサンポリマーに対して０．００１〜５重量％、さらに好ましくは０．００５〜１重量％の範囲で添加するのが好ましい。この範囲を外れると、透明性が低下するので注意を要する。０．００１重量％を下回ると、２００℃〜２３０℃での硬化が不十分となることがある。一方、５重量％を上回ると、硬化膜中に残存して、無色透明性が低下することがある。

さらに、本発明の樹脂組成物は熱架橋性化合物を含有してもよい。熱架橋性化合物は熱硬化時にポリシロキサンを架橋する化合物であり、架橋によりポリシロキサン骨格中に取り込まれる化合物である。熱架橋性化合物を含有することによって硬化膜の架橋度が高くなる。これによって硬化膜の耐溶剤性が向上する。

熱架橋性化合物は熱硬化時にポリシロキサンを架橋し、ポリシロキサン骨格中に取り込まれる化合物であれば特に制限されないが、好ましくは、エポキシ構造、オキセタン構造の群から選択される構造を２個以上有する化合物が挙げられる。

エポキシ構造を２個以上有する化合物の具体例としては、エポライト４０Ｅ、エポライト１００Ｅ、エポライト２００Ｅ、エポライト４００Ｅ、エポライト７０Ｐ、エポライト２００Ｐ、エポライト４００Ｐ、エポライト１５００ＮＰ、エポライト８０ＭＦ、エポライト４０００、エポライト３００２（以上商品名、共栄社化学工業（株）製）、デナコールＥＸ−２１２Ｌ、デナコールＥＸ−２１４Ｌ、デナコールＥＸ−２１６Ｌ、デナコールＥＸ−８５０Ｌ、デナコールＥＸ−３２１Ｌ（以上、商品名、ナガセケムテックス（株）製）、ＧＡＮ、ＧＯＴ、ＥＰＰＮ５０２Ｈ、ＮＣ３０００、ＮＣ６０００（以上商品名、日本化薬（株）製）、エピコート８２８、エピコート１００２、エピコート１７５０、エピコート１００７、ＹＸ８１００−ＢＨ３０、Ｅ１２５６、Ｅ４２５０、Ｅ４２７５（以上、商品名、ジャパンエポキシ（株）製）、エピクロンＥＸＡ−９５８３、ＨＰ４０３２、エピクロンＮ６９５、ＨＰ７２００（以上商品名、大日本インキ化学工業（株）製）、テピックＳ、テピックＧ、テピックＰ（以上商品名、日産化学工業（株）製）、エポトートＹＨ−４３４Ｌ（商品名、東都化成（株）製）などが挙げられる。

オキセタン構造を２個以上有する化合物の具体例としては、ＯＸＴ−１２１、ＯＸＴ−２２１、ＯＸ−ＳＱ−Ｈ、ＯＸＴ−１９１、ＰＮＯＸ−１００９、ＲＳＯＸ（以上、商品名、東亜合成（株）製）、エタナコールＯＸＢＰ、エタナコールＯＸＴＰ（以上、商品名、宇部興産（株）製）などが挙げられる。

なお、上記の熱架橋性化合物は、単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

熱架橋性化合物の添加量は、好ましくはポリシロキサンに対して０．１〜１０重量％の範囲である。熱架橋性化合物の添加量が０．１重量％より少ない場合、ポリシロキサンの架橋が不十分で効果が少ない。一方、熱架橋性化合物の添加量が１０重量％より多い場合、硬化膜の無色透明性が低下したり、組成物の貯蔵安定性が低下する。
さらに、本発明の樹脂組成物は必要に応じて、溶剤、界面活性剤、安定剤、消泡剤、シランカップリング剤などの添加剤を含有することもできる。
溶剤は、ポリシロキサン縮合時に使用される溶媒に加えて、組成物調製時に添加される。その溶剤としては例えば、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシ−１−ブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシ−１−ブチルアセテートなどのエステル類、メチルイソブチルケトン、ジイソプロピルケトン、ジイソブチルケトン、炭酸プロピレン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノンなどのケトン類、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、δ−バレロラクトンなどのラクトン類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジｎ−ブチルエーテル、ジフェニルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類が挙げられる。溶剤の添加量は、ポリシロキサンに対して、好ましくは１００〜１０００重量％の範囲である。
次に、本発明の樹脂組成物を用いて硬化膜を形成する方法について説明する。樹脂組成物を基板上に塗布する。基板としてはカラーフィルタ、シリコンウェハ、セラミックス類、ガラス類などが用いられるが、これらに限定されない。塗布方法としてはスピンナを用いた回転塗布、スプレー塗布、ロールコーティング、スリットなどの方法がある。また、塗布膜厚は、塗布手法、組成物の固形分濃度、粘度などによって異なるが通常、プリベーク後の膜厚が、０．１〜５μｍになるように塗布される。

次に樹脂組成物を塗布した基板をプリベークして、樹脂組成物膜を得る。プリベークはオーブン、ホットプレート、赤外線などを使用し、５０℃から１５０℃の範囲で３０秒から１時間行うのが好ましい。プリベーク後の膜厚は、０．１〜１５μｍとするのが好ましい。

プリベーク後、ステッパー、ミラープロジェクションマスクアライナー（ＭＰＡ）、パラレルライトマスクアライナー（ＰＬＡ）などの紫外可視露光機を用い、１０〜１０００ｍＪ／ｃｍ^２程度（波長３６５ｎｍ露光量換算）を所望のマスクを介してパターニング露光する。また、本発明の樹脂組成物は、ＰＬＡによる露光での感度が１０〜１０００ｍＪ／ｃｍ^２であることが好ましい。感度が１０００ｍＪ／ｃｍ^２より低いと、パターン形成時の放射線露光時間が長くなるために生産性が低下したり、放射線露光量が多くなるために下地基板からの反射量が多くなりパターン形状が悪化する。

前記のＰＬＡによるパターニング露光での感度は、例えば以下の方法により求められる。組成物をシリコンウェハにスピンコーターを用いて任意の回転数でスピンコートし、ホットプレートを用いて１００℃で２分間プリベークし、膜厚４μｍの膜を作製する。作製した膜をＰＬＡ（キヤノン（株）製ＰＬＡ−５０１Ｆ）を用いて、超高圧水銀灯を感度測定用のグレースケールマスクを介して露光した後、自動現像装置（滝沢産業（株）製ＡＤ−２０００）を用いて２．３８重量％水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液で任意の時間パドル現像し、次いで水で３０秒間リンスする。形成されたパターンにおいて、３０μｍのラインアンドスペースパターンを１対１の幅で解像する露光量を感度として求める。

パターニング露光後、現像により未露光部が溶解し、ネガ型のパターンを得ることができる。現像方法としては、シャワー、ディッピング、パドルなどの方法で現像液に５秒〜１０分間浸漬することが好ましい。現像液としては、公知のアルカリ現像液を用いることができる。具体的例としてはアルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、リン酸塩、ケイ酸塩、ホウ酸塩などの無機アルカリ、２−ジエチルアミノエタノール、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン等のアミン類、テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド、コリン等の４級アンモニウム塩を１種あるいは２種以上含む水溶液等が挙げられる。また、必要に応じて現像液に界面活性剤を入れても良い。
現像後、水でリンスすることが好ましく、つづいて５０〜１５０℃の範囲でプリベークを行うこともできる。

その後、この膜をホットプレート、オーブンなどの加熱装置で２００〜２３０℃の温度を３０分〜３時間程度加えて硬化膜を得る。解像度は、好ましくは３０μｍ以下である。

本発明の樹脂組成物が（ｃ）二重結合および／または三重結合基を含有する化合物および、（ｄ）光重合開始剤を含有しない場合には、紫外可視露光機による露光の際にマスクを介する必要はなく、続く現像のプロセスも行う必要はない。さらに、光酸発生剤等も含有しない場合には、紫外可視露光機を用いたプロセスも省略できる。

また、本発明の樹脂組成物は、硬化膜の絶縁信頼性の観点から、樹脂組成物中に含まれるナトリウムイオン、カリウムイオン濃度が、それぞれ１０ｐｐｍ以下であることが好ましい。さらに好ましくは１ｐｐｍ以下である。塗液中に含まれるナトリウムイオン、カリウムイオン濃度が、それぞれ１０ｐｐｍを上回ると、絶縁性が低下する。樹脂組成物のナトリウムイオン濃度およびカリウムイオン濃度を１０ｐｐｍ以下にするには、ポリシロキサンを重合する際に用いるモノマー、水、および溶剤などの組成物を形成する各材料のナトリウムイオン濃度およびカリウムイオン濃度を制御する。前記モノマー、水、溶剤の各材料のナトリウムイオン濃度およびカリウムイオン濃度が２ｐｐｍ以下であると、樹脂組成物のナトリウムイオン濃度およびカリウムイオン濃度を１０ｐｐｍ以下にすることができる。触媒を用いる場合は、添加する触媒のそれらが５０ｐｐｍ以下であることが好ましい。重合時に必要に応じて添加するシリカ粒子分散溶液のナトリウムイオン濃度およびカリウムイオン濃度は、２ｐｐｍ以下であることが好ましい。また、組成物調合に用いる溶剤も２ｐｐｍ以下であることが好ましい。必要に応じて添加する光重合開始剤、二重結合および／または三重結合を有する化合物、光または熱によって酸を発生する化合物、光または熱によって塩基を発生する化合物、増感剤、架橋性化合物のナトリウムイオン濃度およびカリウムイオン濃度は５０ｐｐｍ以下であることが好ましい。また、樹脂組成物の調合に用いる容器は無アルカリガラス容器、ポリプロピレン容器、高密度ポリエチレン容器、ステンレス容器などであると、ナトリウムイオン濃度およびカリウムイオン濃度が増加しないため好ましい。

また、本発明の樹脂組成物は、波長４００ｎｍでの膜厚３μｍあたりの透過率が９３％以上の硬化膜を得ることができる。光透過率が９３％より低いと、カラーフィルタ用の保護膜として用いた場合、バックライトが通過する際に色変化が起こり、白色表示が黄色味を帯びることがある。

本発明の樹脂組成物から得られる硬化膜は、カラーフィルタ用の保護膜等に好適に使用され、高透明性、高平坦性、ＩＴＯ接着性、耐透水性の硬化膜を有し、本発明の硬化膜を用いた液晶ディスプレイや有機ＥＬ表示素子は画面の明るさと信頼性に優れている。

以下実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されない。実施例中のカラーフィルタの作製、樹脂組成物の評価は以下の方法により行った。
なお、用いた化合物のうち、略語を使用しているものについて、以下に示す。
ＤＡＡ：ジアセトンアルコール
ＥＤＭ：ジエチレングリコールエチルメチルエーテル
ＧＢＬ：γ−ブチロラクトン
ＴＭＡＨ：水酸化テトラメチルアンモニウム
ＨＰＥ：２−ヒドロキシプロピオン酸エチル
ＤＢＡ：９，１０−ジブトキシアントラセン
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート。

樹脂ブラックマトリクス層の作製
温度計、乾燥窒素導入口、温水・冷却水による加熱・冷却装置、および、攪拌装置を付した２０リットルの反応釜に、γ−ブチロラクトン（ＧＢＬ）１６６４４．１ｇ、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル ６００．７ｇ（３モル）、３，３’−ジアミノジフェニルスルホン６７０．２ｇ（２．７モル）、ビス−３−（アミノプロピル）テトラメチルシロキサン７４．６ｇ（０．３モル）を投入し、釜を３０℃に加熱した。３０分後、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物６４４．４ｇ（２モル）、ピロメリット酸二無水物６４１．３ｇ（２．９４モル）、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物２９４．２ｇ（１モル）を投入し、釜を５８℃に加熱した。３時間後、無水マレイン酸 １１．８ｇ（０．１２モル）を添加し、５８℃でさらに１時間加熱することにより、ポリアミック酸のＮＭＰ溶液（Ｐ１）を得た。

カーボンブラック４．６ｇ、ポリアミック酸溶液（Ｐ１）２４ｇ、Ｎ−メチルピロリドン６１．４ｇをガラスビーズ９０ｇとともにホモジナイザーを用い、７０００ｒｐｍで３０分間分散処理後、ガラスビーズを濾過により除去し、カーボンブラックミルベースを得た。また、ピグメントブルー１５：６を２．２ｇ、ポリアミック酸溶液（Ｐ１）２４ｇ、Ｎ−メチルピロリドン６３．８ｇをガラスビーズ９０ｇとともにホモジナイザーを用い、７０００ｒｐｍで３０分間分散処理後、ガラスビーズを濾過により除去し、青色顔料ミルベースを得た。得られたカーボンブラックミルベースおよび青色顔料ミルベースを全量混合し、樹脂ブラックマトリクス用ペーストを作製した。

樹脂ブラックマトリクス用ペーストを無アルカリガラス基板（厚さ０．７ｍｍ）上にスピンコートし、５０℃で１０分間、９０℃で１０分間、１１０℃で２０分間オーブンを用いて空気中でプリベークして、膜厚１．３μｍのブラックマトリクス用樹脂膜を得た。この膜上にポジ型フォトレジスト（東京応化工業（株）製ＯＦＰＲ−８００）を塗布し、８０℃で２０分間プリベークして膜厚１μｍのレジスト膜を得た。キヤノン（株）製紫外線露光機ＰＬＡ−５０１Ｆを用い、クロム製のフォトマスクを介して、波長３６５ｎｍでの強度が５０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射した。露光後、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド２．３８重量％の水溶液からなる現像液に浸漬し、フォトレジストおよびブラックマトリクス用樹脂膜の現像を同時に行った。エッチング後、不要となったフォトレジストをメチルセロソルブアセテートで剥離した。次いでパターンが形成されたブラックマトリクス用樹脂膜を窒素雰囲気中で３００℃で３０分間熱処理し、膜厚１μｍの樹脂ブラックマトリクス層を得た。

着色層の作製
次に、赤色、緑色、青色の各顔料として、それぞれ、ピグメントレッド１７７、ピグメントグリーン３６、ピグメントブルー１５：６を用意し、ポリアミック酸溶液（Ｐ１）とそれぞれの顔料を混合分散し、赤色、緑色、青色の３種類の着色ペーストを得た。

得られた赤ペーストを樹脂ブラックマトリクス層上にスピンコートし、空気中で５０℃で１０分間、９０℃で１０分間、１１０℃で２０分間オーブンを用いてプリベークし、膜厚１．２μｍの赤色の樹脂膜を得た。この膜上にポジ型フォトレジスト（東京応化工業（株）製ＯＦＰＲ−８００）を塗布し、８０℃で２０分間プリベークして膜厚１．１μｍのレジスト膜を得た。キヤノン（株）製紫外線露光機ＰＬＡ−５０１Ｆを用い、クロム製のフォトマスクを介して、波長３６５ｎｍでの強度が５０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射した。露光後、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド２．３８重量％の水溶液からなる現像液に浸漬し、フォトレジストおよび赤色の樹脂膜の現像を同時に行った。エッチング後、不要となったフォトレジストをメチルセロソルブアセテートで剥離した。次いでパターンが形成された赤色の樹脂膜を窒素雰囲気中で３００℃で３０分間熱処理し、膜厚１μｍのポリイミド赤色パターン膜を得た。

赤色のパターンを形成したことと同様にして、緑ペースト、青ペーストのパターンを形成し、赤、緑、青の３原色を有するカラーフィルタを作製した。

樹脂組成物膜の作製
上記で作製されたカラーフィルタ上及び６インチガラス基板に、本発明の樹脂組成物（以下ワニスと呼ぶ）を、下記の膜厚の測定方法に基づいてプリベーク後の膜厚が３．５μｍとなるように塗布し、ついでホットプレ−ト（大日本スクリーン製造（株）製ＳＣＷ−６３６）を用いて、１００℃で２分プリベークすることにより、樹脂組成物膜を形成した。

樹脂組成物膜の膜厚測定方法
大日本スクリーン製造（株）製ラムダエースＳＴＭ−６０２を使用し、屈折率１．５０で樹脂組成物膜の膜厚の測定を行った。

紫外線露光
カラーフィルタ上及び６インチガラス基板上に作製した樹脂組成物膜を、露光機（キヤノン（株）製コンタクトアライナーＰＬＡ５０１Ｆ）を用いて、紫外線強度５ｍＷ／ｃｍ^２（３６５ｎｍ換算）で３分間、グレースケールマスクを介してあるいは、介さずに紫外線全波長露光（主用波長：３６５ｎｍ、４０５ｎｍ、４３６ｎｍ）を行った。

現像
グレースケールマスクによりパターン露光した樹脂組成物膜を、自動現像装置（ＡＤ−２０００、滝沢産業（株）製）を用いて２．３８重量％水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）水溶液であるＥＬＭ−Ｄ（三菱ガス化学（株）製）または５重量％水酸化カリウム（ＫＯＨ）水溶液であるＣＤ１５０−ＣＲ（ＪＳＲ（株）製）を１００倍に希釈した水溶液で４０秒間シャワー現像し、次いで水で３０秒間リンスした。

感度
露光、現像後、３０μｍのラインアンドスペースパターンを１対１の幅に形成する露光量（以下、これを最適露光量という）を感度とした。露光量はＩ線照度計で測定した。

パターン接着性
露光、現像後、感度露光量における１対１のラインアンドスペースパターンが剥離しない最小の線幅を測定した。

硬化膜の作製
上記のようにパターン加工された、あるいは紫外線露光された、あるいは紫外線露光されないカラーフィルタ上の樹脂組成物膜及び、６インチガラス基板上の樹脂組成物膜を、オーブン（タバイエスペック（株）製ＩＨＰＳ−２２２）を用いて、空気中、各実施例、比較例に示した温度、時間で熱処理し、硬化膜を得た。

解像度
最適露光量におけるキュア後の最小パターン寸法をキュア後解像度とした。

透明性の評価
上記のように６インチガラス基板上に作製した硬化膜について、紫外可視分光光度計ＭｕｌｔｉＳｐｅｃ−１５００（（株）島津製作所製）を用いて４００ｎｍ／２μｍの膜透過率を測定し、透明性の指標とした。

平坦性の評価
カラーフィルタ上に形成された硬化膜について、赤、緑、青の各画素上の面内における表面段差を、サーフコム１５００Ａ（東京精密（株）製）を用いて測定した、
耐透水性の評価
カラーフィルタ上に形成された硬化膜および、６インチガラス基板上に作製した硬化膜について、この両方の膜を１２１℃、１００％ＲＨの高温高湿雰囲気下に１日間放置し、高温高湿雰囲気放置前後の画素（赤、緑、青）上の４００ｎｍにおける光の透過率をそれぞれ求め、高温高湿雰囲気放置前後の透過率の差を算出し、各画素の変化率とした。４００ｎｍにおける光の透過率は紫外可視分光光度計ＭｕｌｔｉＳｐｅｃ−１５００（（株）島津製作所製）を用いて測定した。また３画素の透過率の変化率平均を耐透水性を評価した。３画素の透過率の変化率平均が９５％以上を良好、それ以外を不良とした。

赤の初期透過率＝硬化膜付きカラーフィルタの赤の透過率−硬化膜付きガラス基板の透過率
高温高湿雰囲気放置後の赤の透過率＝高温高湿雰囲気放置後の硬化膜付きカラーフィルタの赤の透過率−高温高湿雰囲気放置後硬化膜付きガラス基板の透過率
赤の変化率（％）＝高温高湿雰囲気放置後の赤の透過率÷赤の初期透過率×１００
緑の画素、青の画素も上記と同様にして、変化率を算出する。

３画素の透過率の変化率平均（耐透水性評価）＝（赤の変化率＋緑の変化率＋青の変化率）÷３ 。

ＩＴＯ接着性の評価
６インチガラス基板に形成された硬化膜上に、スパッタリング装置ＨＳＲ−５２１Ａ（（株）島津製作所製）を用いて、ＲＦパワー１．４ｋＷ、真空度６．６５×１０^−１Ｐａで１２．５分間スパッタリングすることにより、膜厚が１５０ｎｍで、表面抵抗が１５Ω／□のＩＴＯを成膜し、ＪＩＳ「Ｋ５４００」８．５．２（１９９０）碁盤目テープ法に準じてＩＴＯと硬化膜の接着性を評価した。ガラス基板上のＩＴＯ表面に、カッターナイフでガラス板の素地に到達するように、直交する縦横１１本ずつの平行な直線を１ｍｍ間隔で引いて、１ｍｍ×１ｍｍのマス目を１００個作製した。切られたＩＴＯ表面にセロハン粘着テ−プ（幅＝１８ｍｍ、粘着力＝３．７Ｎ／１０ｍｍ）を張り付け、消しゴム（ＪＩＳ Ｓ６０５０合格品）で擦って密着させ、テープの一端を持ち、板に直角に保ち瞬間的に剥離した際のマス目の残存数を目視によって評価した。残存数１００個を良好、それ以外を不良とした。

ナトリウムイオン濃度、カリウムイオン濃度の測定
樹脂組成物約３ｇを白金るつぼに精秤し、バーナーで炭化した後、電気炉（５５０℃、マッフルファーネス太陽（（株）イスズ製作所製））で灰化する。得られた灰を硫酸とフッ化水素酸で加熱処理したものを希硝酸に溶解し試料溶液とする。得られた溶液を、原子吸光分析装置ＡＡ−６２００（（株）島津製作所製）を用いて、ナトリウムイオン濃度およびカリウムイオン濃度を測定する。この測定値から樹脂組成物中のナトリウムイオン濃度およびカリウムイオン濃度を算出する。

アクリル樹脂組成物、ノボラック樹脂組成物に関しては灰化の操作は行わず、そのまま原子吸光分析装置ＡＡ−６２００（（株）島津製作所製）を用いて、ナトリウムイオン濃度およびカリウムイオン濃度を測定する。

合成例１ ポリシロキサン溶液（i）の合成
メチルトリメトキシシラン３７．４６ｇ（０.２７５モル）、フェニルトリメトキシシラン７９．３２ｇ（０．４モル）、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン１２．３２ｇ（０．０５モル）、シリカ粒子ＤＡＡ溶剤分散液クォートロンＰＬ−２Ｌ−ＤＡＡ（平均粒子径＝１７ｎｍ、扶桑化学工業（株）製：固形分２６．４重量％）を６２．５８ｇ（Ｓｉ原子数で０．２７５モル）、ジアセトンアルコール（ＤＡＡ）８６．０６ｇを５００ｍｌの三口フラスコに仕込み、室温で攪拌しながら水４０．０５ｇにリン酸０．２９１ｇを溶かしたリン酸水溶液を３０分かけて添加した。その後、フラスコを４０℃のオイルバスに浸けて３０分攪拌した後、オイルバスを３０分かけて１１５℃まで昇温した。昇温開始１時間後に溶液の内温が１００℃に到達し、そこから４５分加熱攪拌した（内温は１００〜１１０℃）。反応中に副生成物であるメタノール、水が合計８９ｇ留出した。得られたポリシロキサンのＤＡＡ溶液が、ポリマー濃度が４３重量％となるようにＤＡＡを加えてポリシロキサン溶液（i）を得た。得られたポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は５５００であり、フェニル基の含有量はＳｉ原子に対して４０モル％であった。ポリマーの重量平均分子量はＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）（展開溶剤：テトラヒドロフラン、展開速度：０．４ｍｌ／分）を用いてポリスチレン換算で測定した。フェニル基の含有率はポリシロキサンの^２９Ｓｉ−核磁気共鳴スペクトルを測定し、そのフェニル基が結合したＳｉのピーク面積とフェニル基が結合していないＳｉのピーク面積の比から測定した。

合成例２ ポリシロキサン溶液（ii）の合成
メチルトリメトキシシラン１３．６２ｇ（０.１モル）、フェニルトリメトキシシラン１１８．９８ｇ（０．６モル）、３−トリメトキシシリルプロピルコハク酸７８．７８ｇ（０．３モル）、ＤＡＡ１４０．８７ｇを５００ｍｌの三口フラスコに仕込み、室温で攪拌しながら水５９．４ｇにリン酸０．１０６ｇ（仕込みモノマーに対して０．０５重量％）を溶かしたリン酸水溶液を３０分かけて添加した。その後、フラスコを４０℃のオイルバスに浸けて３０分攪拌した後、オイルバスを３０分かけて１１５℃まで昇温した。昇温開始１時間後に溶液の内温が１００℃に到達し、そこから４５分加熱攪拌した（内温は１００〜１１０℃）。反応中に副生成物であるメタノール、水が合計８９ｇ留出した。得られたポリシロキサンのＤＡＡ溶液が、ポリマー濃度が４３重量％となるようにＤＡＡを加えてポリシロキサン溶液（ii）を得た。得られたポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は７５００であり、フェニル基の含有量はＳｉ原子に対して６０モル％であった。

合成例３ ポリシロキサン溶液（iii）の合成
シリカ粒子ＤＡＡ溶剤分散液クォートロンＰＬ−２Ｌ−ＤＡＡ（平均粒子径＝１７ｎｍ）をＰＬ−１−ＤＡＡ（平均粒子径＝１３ｎｍ、扶桑化学工業（株）製：固形分２６．４重量％）に換える以外は合成例１と同様にしてポリシロキサン溶液（iii）を得た。得られたポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は５５００であり、フェニル基の含有量はＳｉ原子に対して４０モル％であった。

合成例４ ポリシロキサン溶液（iv）の合成
５００ｍｌの三口フラスコにメチルトリメトキシシランを８１．７２ｇ（０．６モル）、フェニルトリメトキシシランを７９．３２ｇ（０．４モル）、ＤＡＡを１０７．３６ｇ仕込み、室温で攪拌しながら水５４ｇにリン酸０．３２２ｇ（仕込みモノマーに対して０．２重量％）を溶かしたリン酸水溶液を１０分かけて添加した。その後、フラスコを７０℃のオイルバスに浸けて１時間攪拌した後、オイルバスを３０分かけて１１５℃まで昇温した。昇温開始１時間後に溶液の内温が１００℃に到達し、そこから２時間加熱攪拌した（内温は１００〜１１０℃）。反応中に副生成物であるメタノール、水が合計１１５ｇ留出した。得られたポリシロキサンのＤＡＡ溶液に、ポリマー濃度が４３重量％となるようにＤＡＡを加えてポリシロキサン溶液（iv）を得た。得られたポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は６０００であり、フェニル基の含有量はＳｉ原子に対して４０モル％であった。

合成例５ ポリシロキサン溶液（ｖ）の合成
５００ｍｌの三口フラスコに、フェニルトリメトキシシランを１３８．８１ｇ（０．７モル）、３−トリメトキシシリルプロピルコハク酸７８．７ｇ（０．３モル）ＤＡＡを１１９．７８ｇ仕込み、室温で攪拌しながら水５９．４ｇにリン酸０．１０９ｇ（仕込みモノマーに対して０．０５重量％）を溶かしたリン酸水溶液を１０分かけて添加した。その後、フラスコを７０℃のオイルバスに浸けて１時間攪拌した後、オイルバスを３０分かけて１１５℃まで昇温した。昇温開始１時間後に溶液の内温が１００℃に到達し、そこから２時間加熱攪拌した（内温は１００〜１１０℃）。反応中に副生成物であるメタノール、水が合計１１５ｇ留出した。得られたポリシロキサンのＤＡＡ溶液に、ポリマー濃度が４３重量％となるようにＤＡＡを加えてポリシロキサン溶液（ｖ）を得た。なお、得られたポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は５０００であり、フェニル基の含有量はＳｉ原子に対して７０モル％であった。

合成例６ ポリシロキサン溶液（vi）の合成
メチルトリメトキシシラン６１．８ｇ（０.５モル）、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン５５．４４ｇ（０．２２５モル）、シリカ粒子ＤＡＡ溶剤分散液クォートロンＰＬ−２Ｌ−ＤＡＡ（扶桑化学工業（株）製：固形分２６．４重量％）を６２．５８ｇ（Ｓｉ原子数で０．２７５モル）、ＤＡＡ８２．３６ｇを５００ｍｌの三口フラスコに仕込み、室温で攪拌しながら水４３．２ｇにリン酸０．２８ｇを溶かしたリン酸水溶液を３０分かけて添加した。その後、フラスコを４０℃のオイルバスに浸けて３０分攪拌した後、オイルバスを３０分かけて１１５℃まで昇温した。昇温開始１時間後に溶液の内温が１００℃に到達し、そこから４５分加熱攪拌した（内温は１００〜１１０℃）。反応中に副生成物であるメタノール、水が合計８９ｇ留出した。得られたポリシロキサンのＤＡＡ溶液が、ポリマー濃度が４３重量％となるようにＤＡＡを加えてポリシロキサン溶液（vi）を得た。得られたポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は５５００であり、フェニル基の含有量はＳｉ原子に対して０モル％であった。

合成例７ アクリル樹脂溶液（vii）の合成
２，２’−アゾビス（２,４−ジメチルバレロニトリル）５ｇ、ＥＤＭ２００ｇを５００ｍｌの三口フラスコに仕込んだ。引き続きスチレン２５ｇ、メタクリル酸２０ｇ、メタクリル酸グリシジル４５ｇ、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン−８−イルメタクリレート１０ｇを仕込み、室温でしばらく攪拌した後、フラスコ内を窒素置換した。その後、フラスコを７０℃のオイルバスに浸けて、５時間加熱攪拌した。得られたアクリル樹脂のＥＤＭ溶液に、ポリマー濃度が４３重量％となるようにさらにＥＤＭを加えて、アクリル樹脂溶液（vii）を得た。なお、得られたポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は１５０００であった。

合成例８ アクリル樹脂溶液（viii）の合成
２，２’−アゾビス（２,４−ジメチルバレロニトリル）５ｇ、ＥＤＭ２００ｇを５００ｍｌの三口フラスコに仕込んだ。引き続きスチレン２５ｇ、メタクリル酸５０ｇ、メタクリル酸メチル２５ｇを仕込み、室温でしばらく攪拌した後、フラスコ内を窒素置換した。その後、フラスコを７０℃のオイルバスに浸けて、５時間加熱攪拌した。得られたアクリル樹脂のＥＤＭ溶液を室温に戻し、ジメチルベンジルアミンの１０重量％ＥＤＭ溶液を４ｇ添加し、メタクリル酸グリシジルの３３重量％ＥＤＭ溶液６０ｇを、滴下漏斗を用いて約１０分かけて滴下した。その後、フラスコを１００℃のオイルバスに浸けて、１時間加熱攪拌した。得られたアクリル樹脂のＥＤＭ溶液に、ポリマー濃度が４３重量％となるようにさらにＥＤＭを加えて、アクリル樹脂溶液（viii）を得た。なお、得られたポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は１７０００であった。

合成例９ ノボラック樹脂の溶液（ix）の合成
冷却管と撹拌装置を装着した２リットルのセパラブルフラスコに、ｍ−クレゾール１７２．８ｇ（１．６モル）、２．３−ジメチルフェノール３６．６ｇ（０．３モル）、３．４−ジメチルフェノール１２．２ｇ（０．１モル）、３７重量％ホルムアルデヒド水溶液１２．６ｇ（ホルムアルデヒド：１．５モル）、シュウ酸２水和物１２．６ｇ（０．１モル）及びメチルイソブチルケトン５５４ｇを加え、３０分撹拌した後、１時間静置した。２層に分離した上層をデカンテーションによって除去し、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル（ＨＰＥ）を加え、残存メチルイソブチルケトン、水を減圧濃縮によって除去し、ノボラック樹脂のＨＰＥ溶液を得た。得られたノボラック樹脂のＨＰＥ溶液に、ポリマー濃度が４３重量％となるようにＨＰＥを加えて、ノボラック樹脂のＨＰＥ溶液（ix）を得た。

実施例１
ポリシロキサン溶液（i）１１．０７ｇ（ポリシロキサン１００重量部に相当）を、ＤＡＡ０．０９ｇおよびＧＢＬ２．７７２ｇに溶解させ、シリコーン系界面活性剤であるＢＹＫ−３３３（ビックケミージャパン（株）製）の１重量％ＤＡＡ溶液を０．０７ｇ（組成物全量に対して濃度５０ｐｐｍに相当）加え撹拌した。次いで０．４５μｍのフィルターでろ過を行い、樹脂組成物（ワニスＡ）を得た。得られたワニスＡを用いて前記のように、カラーフィルタ上及びガラス基板上に樹脂組成物膜を作製し、紫外線露光は行わず、２３０℃で１時間、熱処理し硬化膜を作製し、透明性、平坦性、耐透水性、ＩＴＯ接着性について評価を行った。また、前記のようにしてワニスＡのナトリウムイオン濃度およびカリウムイオン濃度を測定した。

実施例２
ポリシロキサン溶液（i）１０．８２ｇ（ポリシロキサン１００重量部に相当）、Ｎ−（トリフルオロメタンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド（みどり化学（株）製）０．０９３ｇ（２重量部）、９，１０−ジブトキシアントラセン（ＤＢＡ、川崎化成（株）製）０．０１４ｇ（０．３重量部）を、ＤＡＡ０．２３２ｇおよびＧＢＬ２．７７２ｇに溶解させ、シリコーン系界面活性剤であるＢＹＫ−３３３（ビックケミージャパン（株）製）の１重量％ＤＡＡ溶液を０．０７ｇ（組成物全量に対して濃度５０ｐｐｍに相当）加え撹拌した。次いで０．４５μｍのフィルターでろ過を行い、樹脂組成物（ワニスＢ）を得た。得られたワニスＢを用いて前記のように、カラーフィルタ上及びガラス基板上に樹脂組成物膜を作製し、マスクを介さず紫外線露光した後、２１０℃で１．５時間、熱処理し硬化膜を作製し、透明性、平坦性、耐透水性、ＩＴＯ接着性について評価を行った。また、前記のようにしてワニスＢのナトリウムイオン濃度およびカリウムイオン濃度を測定した。

実施例３
ポリシロキサン溶液（i）１０．８２ｇ（ポリシロキサン１００重量部に相当）、ベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート（三新化学工業（株）製）０．０９３ｇ（２重量部）を、ＤＡＡ０．２１３ｇおよびＧＢＬ２．７７２ｇに溶解させ、シリコーン系界面活性剤であるＢＹＫ−３３３（ビックケミージャパン（株）製）の１重量％ＤＡＡ溶液を０．０７ｇ（組成物全量に対して濃度５０ｐｐｍに相当）加え撹拌した。次いで０．４５μｍのフィルターでろ過を行い、樹脂組成物（ワニスＣ）を得た。得られたワニスＣを用いて前記のように、カラーフィルタ上及びガラス基板上に樹脂組成物膜を作製した後、紫外線露光は行わず、２００℃で１．５時間熱処理し硬化膜を作製し、透明性、平坦性、耐透水性、ＩＴＯ接着性について評価を行った。また、前記のようにしてワニスＣのナトリウムイオン濃度およびカリウムイオン濃度を測定した。

実施例４
ポリシロキサン溶液（i）をポリシロキサン溶液（ii）に換える以外は実施例１と同様にして樹脂組成物（ワニスＤ）を得た。得られたワニスＤを用いて前記のように、カラーフィルタ上及びガラス基板上に樹脂組成物膜を作製した後、紫外線露光は行わず、２３０℃で２時間熱処理し硬化膜を作製し、透明性、平坦性、耐透水性、ＩＴＯ接着性について評価を行った。また、前記のようにしてワニスＤのナトリウムイオン濃度およびカリウムイオン濃度を測定した。

実施例５
ポリシロキサン溶液（ii）１０．８２ｇ（ポリシロキサン１００重量部に相当）、ベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート（三新化学工業（株）製）０．０９３ｇ（２重量部）を、ＤＡＡ０．２１３ｇおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）２．７７２ｇに溶解させ、シリコーン系界面活性剤であるＢＹＫ−３３３（ビックケミージャパン（株）製）の１重量％ＤＡＡ溶液を０．０７ｇ（組成物全量に対して濃度５０ｐｐｍに相当）加え撹拌した。次いで０．４５μｍのフィルターでろ過を行い、樹脂組成物（ワニスＥ）を得た。得られたワニスＥを用いて前記のように、カラーフィルタ上及びガラス基板上に樹脂組成物膜を作製した後、紫外線露光は行わず、２２０℃で１時間熱処理し硬化膜を作製し、透明性、平坦性、耐透水性、ＩＴＯ接着性について評価を行った。また、前記のようにしてワニスＥのナトリウムイオン濃度およびカリウムイオン濃度を測定した。

実施例６
ポリシロキサン溶液（i）をポリシロキサン溶液（iii）に換える以外は実施例１と同様にして樹脂組成物（ワニスＦ）を得た。得られたワニスＦを用いて前記のように、カラーフィルタ上及びガラス基板上に樹脂組成物膜を作製した後、紫外線露光は行わず、２３０℃で２時間熱処理し硬化膜を作製し、透明性、平坦性、耐透水性、ＩＴＯ接着性について評価を行った。また、前記のようにしてワニスＦのナトリウムイオン濃度およびカリウムイオン濃度を測定した。

実施例７
ポリシロキサン溶液（i）８．９９ｇ（ポリシロキサン１００重量部に相当）、エタノン−１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル]−１−（ｏ−アセチルオキシム）（チバスペシャリティケミカルズ社製）０．１１６ｇ（３重量部）、ジメチロール−トリシクロデカンジメタクリレート（共栄社化学工業（株）製）０．３８７ｇ（１０重量部）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（共栄社化学工業（株）製）０．３８７ｇ（１０重量部）を、ＤＡＡ１．３３９ｇ、ＧＢＬ２．７７２ｇに溶解させ、シリコーン系界面活性剤であるＢＹＫ−３３３（ビックケミージャパン（株）製）の１重量％ＤＡＡ溶液を０．０７ｇ（組成物全量に対して濃度５０ｐｐｍに相当）加え撹拌した。次いで０．４５μｍのフィルターでろ過を行い、樹脂組成物（ワニスＧ）を得た。得られたワニスＧを用いて、前記のようにカラーフィルタ上及びガラス基板上に樹脂組成物膜を作製し、マスクを介して紫外線露光した後、２．３８％のＴＭＡＨ水溶液で４０秒現像して感度、パターン接着性を測定した。その後２２０℃で１時間熱処理して硬化膜を作製し、透明性、平坦性、耐透水性、ＩＴＯ接着性について評価を行った。また、前記のようにしてワニスＧのナトリウムイオン濃度およびカリウムイオン濃度を測定した。

実施例８
エタノン−１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル]−１−（ｏ−アセチルオキシム）を１，２−オクタンジオン−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−２−（ｏ−ベンゾイルオキシム）（チバスペシャリティケミカルズ社製）に換える以外は、実施例７と同様にして樹脂組成物（ワニスＨ）を得た。得られたワニスＨを用いて前記のように、カラーフィルタ上及びガラス基板上に樹脂組成物膜を作製し、マスクを介して紫外線露光した後、２．３８％のＴＭＡＨ水溶液で４０秒現像して感度、パターン接着性を測定した。その後２２０℃で１時間熱処理して硬化膜を作製し、透明性、平坦性、耐透水性、ＩＴＯ接着性について評価を行った。また、前記のようにしてワニスＨのナトリウムイオン濃度およびカリウムイオン濃度を測定した。

実施例９
ポリシロキサン溶液（i）８．９９ｇ（ポリシロキサン１００重量部に相当）、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オン（チバスペシャリティケミカルズ社製）０．１１６ｇ（３重量部）、２，４−ジエチルチオキサントン（日本化薬（株）製）０．０３８ｇ（１重量部）、ジメチロール−トリシクロデカンジメタクリレート（共栄社化学工業（株）製）０．３８７ｇ（１０重量部）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（共栄社化学工業（株）製）０．３８７ｇ（１０重量部）を、ＤＡＡ１．３３９ｇ、ＧＢＬ２．７７２ｇに溶解させ、シリコーン系界面活性剤であるＢＹＫ−３３３（ビックケミージャパン（株）製）の１重量％ＤＡＡ溶液を０．０７ｇ（組成物全量に対して濃度５０ｐｐｍに相当）加え撹拌した。次いで０．４５μｍのフィルターでろ過を行い、樹脂組成物（ワニスＩ）を得た。得られたワニスＩを用いて前記のように、カラーフィルタ上及びガラス基板上に樹脂組成物膜を作製し、マスクを介して紫外線露光した後、２．３８％のＴＭＡＨ水溶液で４０秒現像して感度、パターン接着性を測定した。その後２２０℃で１時間熱処理して硬化膜を作製し、透明性、平坦性、耐透水性、ＩＴＯ接着性について評価を行った。また、前記のようにしてワニスＩのナトリウムイオン濃度およびカリウムイオン濃度を測定した。

実施例１０
ポリシロキサン溶液（i）８．８３ｇ（ポリシロキサン１００重量部に相当）、エタノン−１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル]−１−（ｏ−アセチルオキシム）（チバスペシャリティケミカルズ社製）０．１１４ｇ（３重量部）、ジメチロール−トリシクロデカンジメタクリレート（共栄社化学工業（株）製）０．３７９ｇ（１０重量部）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（共栄社化学工業（株）製）０．３７９ｇ（１０重量部）、Ｎ−（トリフルオロメタンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド（みどり化学（株）製）０．０７６ｇ（２重量部）、ＤＢＡ（川崎化成（株）製）０．０１１ｇ（０．３重量部）を、ＤＡＡ１．４３３ｇ、ＧＢＬ２．７７２ｇに溶解させ、シリコーン系界面活性剤であるＢＹＫ−３３３（ビックケミージャパン（株）製）の１重量％ＤＡＡ溶液を０．０７ｇ（組成物全量に対して濃度５０ｐｐｍに相当）加え撹拌した。次いで０．４５μｍのフィルターでろ過を行い、樹脂組成物（ワニスＪ）を得た。得られたワニスＪを用いて前記のように、カラーフィルタ上及びガラス基板上に樹脂組成物膜を作製し、マスクを介して紫外線露光した後、２．３８％のＴＭＡＨ水溶液で４０秒現像して感度、パターン接着性を測定した。その後２２０℃で１時間熱処理して硬化膜を作製し、透明性、平坦性、耐透水性、ＩＴＯ接着性について評価を行った。また、前記のようにしてワニスＪのナトリウムイオン濃度およびカリウムイオン濃度を測定した。

実施例１１
ポリシロキサン溶液（i）８．７８ｇ（ポリシロキサン１００重量部に相当）、エタノン−１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル]−１−（ｏ−アセチルオキシム）（チバスペシャリティケミカルズ社製）０．１１３ｇ（３重量部）、ジメチロール−トリシクロデカンジメタクリレート（共栄社化学工業（株）製）０．３７７ｇ（１０重量部）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（共栄社化学工業（株）製）０．３７７ｇ（１０重量部）、１，４−ジエチニルベンゼン（和光純薬（株）製）０．１１３ｇ（３重量部）を、ＤＡＡ１．４６１ｇ、ＧＢＬ２．７７２ｇに溶解させ、シリコーン系界面活性剤であるＢＹＫ−３３３（ビックケミージャパン（株）製）の１重量％ＤＡＡ溶液を０．０７ｇ（組成物全量に対して濃度５０ｐｐｍに相当）加え撹拌した。次いで０．４５μｍのフィルターでろ過を行い、樹脂組成物（ワニスＫ）を得た。得られたワニスＫを用いて前記のように、カラーフィルタ上及びガラス基板上に樹脂組成物膜を作製し、マスクを介して紫外線露光した後、２．３８％のＴＭＡＨ水溶液で４０秒現像して感度、パターン接着性を測定した。その後２２０℃で１時間熱処理して硬化膜を作製し、透明性、平坦性、耐透水性、ＩＴＯ接着性について評価を行った。また、前記のようにしてワニスＫのナトリウムイオン濃度およびカリウムイオン濃度を測定した。

実施例１２
ポリシロキサン溶液（i）をポリシロキサン溶液（ii）に換える以外は実施例７と同様にして樹脂組成物（ワニスＬ）を得た。得られたワニスＬを用いて前記のように、カラーフィルタ上及びガラス基板上に樹脂組成物膜を作製し、マスクを介して紫外線露光した後、０．０５％のＫＯＨ水溶液で４０秒現像して感度、パターン接着性を測定した。その後２２０℃で１時間熱処理して硬化膜を作製し、透明性、平坦性、耐透水性、ＩＴＯ接着性について評価を行った。また、前記のようにしてワニスＬのナトリウムイオン濃度およびカリウムイオン濃度を測定した。

実施例１３
ポリシロキサン溶液（i）８．７８ｇ（ポリシロキサン１００重量部に相当）、エタノン−１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル]−１−（ｏ−アセチルオキシム）（チバスペシャリティケミカルズ社製）０．１１３ｇ（３重量部）、ジメチロール−トリシクロデカンジメタクリレート（共栄社化学工業（株）製）０．３７７ｇ（１０重量部）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（共栄社化学工業（株）製）０．３７７ｇ（１０重量部）、２−アクリロイロキシエチルコハク酸（共栄社化学工業（株）製）０．１１３ｇ（３重量部）を、ＤＡＡ１．４６１ｇ、ＧＢＬ２．７７２ｇに溶解させ、シリコーン系界面活性剤であるＢＹＫ−３３３（ビックケミージャパン（株）製）の１重量％ＤＡＡ溶液を０．０７ｇ（組成物全量に対して濃度５０ｐｐｍに相当）加え撹拌した。次いで０．４５μｍのフィルターでろ過を行い、樹脂組成物（ワニスＭ）を得た。得られたワニスＭを用いて前記のように、カラーフィルタ上及びガラス基板上に樹脂組成物膜を作製し、マスクを介して紫外線露光した後、２．３８％のＴＭＡＨ水溶液で４０秒現像して感度、パターン接着性を測定した。その後２２０℃で１時間熱処理して硬化膜を作製し、透明性、平坦性、耐透水性、ＩＴＯ接着性について評価を行った。また、前記のようにしてワニスＭのナトリウムイオン濃度およびカリウムイオン濃度を測定した。

実施例１４
２−アクリロイロキシエチルコハク酸をプロパルギルアルコール（和光純薬（株）製）に換える以外は実施例１５と同様にして樹脂組成物（ワニスＮ）を得た。得られたワニスＮを用いて前記のように、カラーフィルタ上及びガラス基板上に樹脂組成物膜を作製し、マスクを介して紫外線露光した後、２．３８％のＴＭＡＨ水溶液で４０秒現像して感度、パターン接着性を測定した。その後２２０℃で１時間熱処理して硬化膜を作製し、透明性、平坦性、耐透水性、ＩＴＯ接着性について評価を行った。また、前記のようにしてワニスＮのナトリウムイオン濃度およびカリウムイオン濃度を測定した。

比較例１
ポリシロキサン溶液(i)をポリシロキサン溶液（iv）に換える以外は、実施例２と同様にして樹脂組成物（ワニスＯ）を得た。得られたワニスＯを用いて前記のように、カラーフィルタ上及びガラス基板上に樹脂組成物膜を作製し、マスクを介さず紫外線露光した後、２００℃で１時間熱処理し硬化膜を作製し、透明性、平坦性、耐透水性、ＩＴＯ接着性について評価を行った。また、前記のようにしてワニスＯのナトリウムイオン濃度およびカリウムイオン濃度を測定した。

比較例２
ポリシロキサン溶液(i)をポリシロキサン溶液（ｖ）に換える以外は、実施例１と同様にして樹脂組成物（ワニスＰ）を得た。得られたワニスＰを用いて前記のように、カラーフィルタ上及びガラス基板上に樹脂組成物膜を作製し、紫外線露光は行わず、２８０℃で１時間熱処理し硬化膜を作製し、透明性、平坦性、耐透水性、ＩＴＯ接着性について評価を行った。また、前記のようにしてワニスＰのナトリウムイオン濃度およびカリウムイオン濃度を測定した。

比較例３
ポリシロキサン溶液(i)をポリシロキサン溶液（vi）に換える以外は、実施例５と同様にして樹脂組成物（ワニスＱ）を得た。得られたワニスＱを用いて前記のように、カラーフィルタ上及びガラス基板上に樹脂組成物膜を作製した後、紫外線露光は行わず、２２０℃で１時間熱処理し硬化膜を作製し、透明性、平坦性、耐透水性、ＩＴＯ接着性について評価を行った。また、前記のようにしてワニスＱのナトリウムイオン濃度およびカリウムイオン濃度を測定した。

比較例４
アクリル樹脂溶液（vii）を１０．８２ｇ、Ｎ−（トリフルオロメタンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド（みどり化学（株）製）０．０９３ｇ（２重量部）、ＤＢＡ（川崎化成（株）製）０．０１４ｇ（０．３重量部）を、ＥＤＭ２．４１３ｇ、ＤＡＡ１．４０８ｇに溶解させ、シリコーン系界面活性剤であるＢＹＫ−３３３（ビックケミージャパン（株）製）の１重量％ＤＡＡ溶液を０．０７ｇ（組成物全量に対して濃度５０ｐｐｍに相当）加え撹拌した。次いで０．４５μｍのフィルターでろ過を行い、樹脂組成物（ワニスＲ）を得た。得られたワニスＲを用いて前記のように、カラーフィルタ上及びガラス基板上に樹脂組成物膜を作製し、マスクを介さず紫外線露光した後、２３０℃で１時間、熱処理し硬化膜を作製し、透明性、平坦性、耐透水性、ＩＴＯ接着性について評価を行った。また、前記のようにしてワニスＲのナトリウムイオン濃度およびカリウムイオン濃度を測定した。

比較例５
ノボラック樹脂溶液（ix）１１．０７ｇを、ＨＰＥ２．８６２ｇに溶解させ、シリコーン系界面活性剤であるＢＹＫ−３３３（ビックケミージャパン（株）製）の１重量％ＨＰＥ溶液を０．０７ｇ（組成物全量に対して濃度５０ｐｐｍに相当）加え撹拌した。次いで０．４５μｍのフィルターでろ過を行い、樹脂組成物（ワニスＳ）を得た。得られたワニスＳを用いて前記のように、カラーフィルタ上及びガラス基板上に樹脂組成物膜を作製した後、紫外線露光は行わず、２２０℃で１時間熱処理し硬化膜を作製し、透明性、平坦性、耐透水性、ＩＴＯ接着性について評価を行った。また、前記のようにしてワニスＳのナトリウムイオン濃度およびカリウムイオン濃度を測定した。

比較例６
ポリシロキサン溶液（iv）１０．５１ｇ（ポリシロキサン１００重量部に相当）、エタノン−１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル]−１−（ｏ−アセチルオキシム）（チバスペシャリティケミカルズ社製）０．１３６ｇ（３重量部）、Ｎ−（トリフルオロメタンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド（みどり化学（株）製）０．０９０４ｇ（２重量部）、ＤＢＡ（川崎化成（株）製）０．０１３６ｇ（０．３重量部）を、ＤＡＡ０．４７７ｇ、ＧＢＬ２．７７２ｇに溶解させ、シリコーン系界面活性剤であるＢＹＫ−３３３（ビックケミージャパン（株）製）の１重量％ＤＡＡ溶液を０．０７ｇ（組成物全量に対して濃度５０ｐｐｍに相当）加え撹拌した。次いで０．４５μｍのフィルターでろ過を行い、樹脂組成物（ワニスＴ）を得た。得られたワニスＴを用いて前記のように、カラーフィルタ上及びガラス基板上に樹脂組成物膜を作製した。その後、マスクを介して紫外線露光した後、２．３８％のＴＭＡＨ水溶液で４０秒現像したが、現像時に露光部が溶解しパターンを作製することができなかった。また、前記のようにしてワニスＴのナトリウムイオン濃度およびカリウムイオン濃度を測定した。

比較例７
ポリシロキサン溶液（iv）９．０５ｇ（ポリシロキサン１００重量部に相当）、ジメチロール−トリシクロデカンジメタクリレート（共栄社化学工業（株）製）０．３８９ｇ（１０重量部）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（共栄社化学工業（株）製）０．３８９ｇ（１０重量部）、Ｎ−（トリフルオロメタンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド（みどり化学（株）製）０．０７７８ｇ（２重量部）、ＤＢＡ（川崎化成（株）製）０．０１１７ｇ（０．３重量部）、を、ＤＡＡ１．３１ｇ、ＧＢＬ２．７７２ｇに溶解させ、シリコーン系界面活性剤であるＢＹＫ−３３３（ビックケミージャパン（株）製）の１重量％ＤＡＡ溶液を０．０７ｇ（組成物全量に対して濃度５０ｐｐｍに相当）加え撹拌した。次いで０．４５μｍのフィルターでろ過を行い、樹脂組成物（ワニスＵ）を得た。得られたワニスＵを用いて前記のように、カラーフィルタ上及びガラス基板上に樹脂組成物膜を作製した。その後、マスクを介して紫外線露光した後、２．３８％のＴＭＡＨ水溶液で４０秒現像したが、現像時に露光部が溶解しパターンを作製することができなかった。また、前記のようにしてワニスＵのナトリウムイオン濃度およびカリウムイオン濃度を測定した。

比較例８
ポリシロキサン溶液（iv）１０．８１ｇ（ポリシロキサン１００重量部に相当）、Ｎ−（トリフルオロメタンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド（みどり化学（株）製）０．０９３ｇ（２重量部）、ＤＢＡ（川崎化成（株）製）０．０１４ｇ（０．３重量部）を、ＤＡＡ０．３０１ｇ、ＧＢＬ２．７７２ｇに溶解させ、シリコーン系界面活性剤であるＢＹＫ−３３３（ビックケミージャパン（株）製）の１重量％ＤＡＡ溶液を０．０７ｇ（組成物全量に対して濃度５０ｐｐｍに相当）加え撹拌した。次いで０．４５μｍのフィルターでろ過を行い、樹脂組成物（ワニスＸ）を得た。得られたワニスＸを用いて前記のように、カラーフィルタ上及びガラス基板上に樹脂組成物膜を作製した。その後、マスクを介して紫外線露光した後、２．３８％のＴＭＡＨ水溶液で４０秒現像したが、現像時に露光部が溶解しパターンを作製することができなかった。また、前記のようにしてワニスＸのナトリウムイオン濃度およびカリウムイオン濃度を測定した。

比較例９
アクリル樹脂溶液（viii）８．９９ｇ（ポリシロキサン１００重量部に相当）、エタノン−１−[９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル]−１−（ｏ−アセチルオキシム）（チバスペシャリティケミカルズ社製）０．１１６ｇ（３重量部）、ジメチロール−トリシクロデカンジメタクリレート（共栄社化学工業（株）製）０．３８７ｇ（１０重量部）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（共栄社化学工業（株）製）０．３８７ｇ（１０重量部）を、ＥＤＭ１．３３９ｇ、ＤＡＡ２．７７２ｇに溶解させ、シリコーン系界面活性剤であるＢＹＫ−３３３（ビックケミージャパン（株）製）の１重量％ＤＡＡ溶液を０．０７ｇ（組成物全量に対して濃度５０ｐｐｍに相当）加え撹拌した。次いで０．４５μｍのフィルターでろ過を行い、樹脂組成物（ワニスＹ）を得た。得られたワニスＹを用いて前記のように、カラーフィルタ上及びガラス基板上に樹脂組成物膜を作製し、マスクを介して紫外線露光した後、０．０５％のＫＯＨ水溶液で４０秒現像して感度、パターン接着性を測定した。その後２２０℃で１時間熱処理して硬化膜を作製し、透明性、平坦性、耐透水性、ＩＴＯ接着性について評価を行った。また、前記のようにしてワニスＹのナトリウムイオン濃度およびカリウムイオン濃度を測定した。

ワニスＡ〜Ｙの組成表を表２及び表４に、実施例１〜１４と比較例１〜９の結果を表３および表５に示す。

Claims (9)

1. （ａ）フェニルトリアルコキシシランと、一般式（１）および（２）で表されるアルコキシシランを加水分解および縮合させることによって得られるポリシロキサン、および（ｂ）溶剤を含有する樹脂組成物。
   

   

   （Ｒ^ｘは、エポキシシクロヘキシルエチル基、３−グリシドキシプロピル基および下記一般式（３）〜（５）で表される基からなる群から選ばれるいずれかの基を表す。Ｒ^１は、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５の置換アルキル基、炭素数１〜１０のアルキルオキシカルボニル基、炭素数２〜１０の置換アルキルオキシカルボニル基からなる群から選ばれるいずれか基を表し、複数のＲ^１はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。Ｒ^ｙは炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５の置換アルキル基からなる群から選ばれるいずれかの基を表し、複数のＲ^ｙはそれぞれ同じでも異なっていてもよい。Ｒ^５は、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基からなる群から選ばれるいずれかの基を表し、複数のＲ^５はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。ｎは０〜３の整数を表す。）
   

   

   （Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４は単結合、直鎖脂肪族基、カルボニル基、エーテル基、エステル結合を有する基、アミド基、芳香族環、環状脂肪族基からなる群から選ばれるいずれかの有機基を表す。ｈ、ｌは０〜３の整数を表す。）
2. さらに、（ｃ）二重結合および／または三重結合を含有する化合物および、（ｄ）光重合開始剤を含有する請求項１記載の樹脂組成物。
3. （ｃ）二重結合および／または三重結合を含有する化合物がカルボキシル基および／または水酸基を含有する請求項２記載の樹脂組成物。
4. （ａ）ポリシロキサンの少なくとも一部に化学結合したシリカ粒子を含んでいる請求項１記載の樹脂組成物。
5. シリカ粒子の平均粒子径が、５ｎｍ〜３０ｎｍである請求項４記載の樹脂組成物。
6. さらに、（ｅ）熱または光により酸を発生する化合物、あるいは、熱または光により塩基を発生する化合物を含有する請求項１または２記載の樹脂組成物。
7. ナトリウムイオン、カリウムイオン濃度が、それぞれ１０ｐｐｍ以下である請求項１または２記載の樹脂組成物。
8. 請求項１〜７のいずれか記載の樹脂組成物から形成された硬化膜であって、波長４００ｎｍにおける膜厚３μｍあたりの光透過率が９３％以上である硬化膜。
9. 請求項８記載の硬化膜を具備するカラーフィルタ。