JP2008279083A - セラミック鍋を使用する電磁誘導加熱調理器 - Google Patents
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Abstract
【課題】 本発明は炊飯用土鍋等の電磁誘導加熱調理器に実用的なフッ素樹脂コーティングを可能とする電磁誘導加熱調理器を実現することを目的とする。
【解決手段】 セラミック鍋の内表面に形成され、該セラミック鍋よりも金属及び金属酸化物を多く含むアルミナ膜と、このアルミナ膜の上面に形成されたフッ素樹脂膜とで構成され、上記アルミナ膜の形成は、予め上記セラミック鍋の表面をサンドブラストで粗化した後、例えばメタリコン溶射やプラズマ溶射を使用して行われ、フッ素樹脂膜の剥がれを無くし、実用性のあるフッ素樹脂コーティグが施された電磁誘導加熱調理器用鍋を提供するものである。また、
【選択図】 図2
【解決手段】 セラミック鍋の内表面に形成され、該セラミック鍋よりも金属及び金属酸化物を多く含むアルミナ膜と、このアルミナ膜の上面に形成されたフッ素樹脂膜とで構成され、上記アルミナ膜の形成は、予め上記セラミック鍋の表面をサンドブラストで粗化した後、例えばメタリコン溶射やプラズマ溶射を使用して行われ、フッ素樹脂膜の剥がれを無くし、実用性のあるフッ素樹脂コーティグが施された電磁誘導加熱調理器用鍋を提供するものである。また、
【選択図】 図2
Description
本発明は電磁誘導加熱調理器に関し、特にセラミック鍋を使用した電磁誘導加熱調理器に関する。
今日、調理用セラミック容器の代表は土鍋であるが、近年電磁誘導加熱器の普及により、土鍋に非粘性の高いフッ素樹脂の塗装が要求されている。
特許文献1は、調理容器の内面にフッ素樹脂を主成分とする非粘着層を設け、この調理容器の裏面に所定の厚みを有する熱伝導の良い非磁性金属材料からなる均熱層を設けた加熱調理器の発明である。
特開平11−99064号公報
しかしながら、一般調理用と異なり、電磁誘導加熱は磁性体の部分等において、急激な温度上昇があり、土鍋の熱分散の悪さから、繰り返しの過熱に対して剥がれが生じる。このため、電磁誘導加熱用調理器として、フッ素樹脂膜の実質的な実現はなされていない。
また、一般用調理用鍋は土鍋にサンドブラスト処理を行い、粗化し、例えばポリエチレンルホンや、フッ化エチレンプロビン等を含む下塗用塗料を塗布し、その上にフッ素樹脂を塗布している。しかし、電磁誘導加熱用調理器としては使用に耐えられず、下塗面から剥がれてしまい、炊飯用土鍋を含め、実用的なフッ素樹脂の塗布膜は得られていない。
そこで、本発明は炊飯用土鍋等の電磁誘導加熱調理器に実用的なフッ素樹脂コーティングを可能とする電磁誘導加熱調理器を実現することを目的とする。
上記課題は本発明によれば、セラミック鍋の表面に形成され、該セラミック鍋よりも金属及び金属酸化物を多く含むアルミナ膜と、該アルミナ膜の表面に形成されたフッ素樹脂膜とを有する電磁誘導加熱調理器を提供することによって達成できる。
また、前記アルミナ膜は、例えば前記セラミック鍋をサンドブラストによって粗化した後形成される構成である。
また、前記フッ素樹脂膜は、例えば前記セラミック膜の表面に形成されたフッ素樹脂の下層と、該下層上に形成されたフッ素樹脂の上層で構成される。
また、粗さ2〜10ミクロンの粗化が、例えば前記セラミック鍋の表面に形成される構成である。
また、粗さ2〜10ミクロンの粗化が、例えば前記セラミック鍋の表面に形成される構成である。
前記フッ素樹脂の下層は5〜15ミクロン、前記フッ素樹脂の上層は30〜60ミクロンで構成されている。
さらに、セラミック鍋の表面とフッ素樹脂膜の間に、前記セラミック鍋より金属及び金属酸化物を多く含むアルミナ等の膜を形成することを特徴とするセラミック鍋のフッ素樹脂塗装方法。
本発明によれば、セラミック鍋の表面を予めサンドブラストで粗化した後、例えばメタリコン溶射やプラズマ溶射を使用してアルミナ膜を形成し、このアルミナ膜の熱分散効果、及びフッ素樹脂膜への密着効果により、その後フッ素樹脂膜を形成し、フッ素樹脂膜の剥がれを無くし、実用性のあるフッ素樹脂コーティグが施された電磁誘導加熱調理器用鍋を提供できる。
以下、本発明の実施の形態を図面を参照しながら説明する。
図1は、本実施形態で使用する電磁誘導加熱調理器の構成を示す断面図である。尚、本例は、電磁誘導加熱調理器として電磁誘導加熱炊飯器の例を使用して説明する。
電磁誘導加熱炊飯器1は、本体2と蓋部3で構成され、本体2内にはセラミック鍋4が設けられている。また、このセラミック鍋4の下面には電磁誘導加熱用の加熱コイル5が配設されている。加熱コイル5は、スパイラル状に旋回され直列に高周波電源に接続されており、加熱コイル5に高周波電流が供給される構成であり、不図示の制御部により駆動制御され、セラミック鍋4の加熱調節を行う。
図2はセラミック鍋4の構造を説明する図である。セラミック鍋4は電磁誘導加熱用土鍋(以下、単に土鍋で示す)7を基体として、土鍋7の内面(表面)にアルミナ等のセラミック膜8を成膜し、このセラミック膜8にフッ素樹脂の下層9を形成し、更にフッ素樹脂の下層9にフッ素樹脂の上層10を形成した構成である。
さらに、図3はセラミック鍋4の断面構成を示す図であり、アルミナ等のセラミック膜8を成膜は、土鍋7の表面7aをサンドブラストで粗化し、その後、例えばアルミニウム含有率95%以上のアルミナをメタリコン溶射(Thermal Spray)やプラズマ溶射を行って生成されている。具体的には、プラズマ等の熱源により溶融したアルミナ(セラミック)を上記のようにして表面7aが粗化された土鍋7に吹き付けることによりセラミック膜8を生成する。
また、上記セラミック膜8の上面に形成されるフッ素樹脂の下層9、及びフッ素樹脂の上層10は、セラミック膜8上にフッ素樹脂塗料を下塗り、及び上塗りした後、例えば400℃で20分程度焼成して生成される。このようにして製造された電磁誘導加熱炊飯器1は、密着と熱分散の機能を有する調理器として充分な寿命をもつ。尚、フッ素樹脂としては、例えば四フッ化エチレン樹脂等を使用する。
このように構成することにより、セラミック鍋4に対するフッ素樹脂の密着性を向上することができる。また、熱の速やかな拡散を図り、フッ素樹脂と土鍋素材との間の部分温度上昇を押さえ、セラミック界面での蒸気の発生や含浸を押さえることによって、寿命の長い実用的なフッ素樹脂加工が施された電磁誘導加熱炊飯器1を提供することができる。
尚、上記実施形態の説明では、本発明の電磁誘導加熱調理器を電磁誘導加熱炊飯器1として説明したが、電磁誘導加熱炊飯器1に限らず電磁誘導加熱方式を採用する調理器全てに適応できるものである。
尚、上記実施形態の説明では、本発明の電磁誘導加熱調理器を電磁誘導加熱炊飯器1として説明したが、電磁誘導加熱炊飯器1に限らず電磁誘導加熱方式を採用する調理器全てに適応できるものである。
また、上記実施形態の説明では、セラミックとして、例えばアルミナを使用して説明したが、他のセラミック材料としてチタニアや酸化クロム等を使用する構成としてもよい。
さらに、アルミナ上へのフッ素膜の形成は、一層でもよい。
さらに、アルミナ上へのフッ素膜の形成は、一層でもよい。
1・・・電磁誘導加熱炊飯器
2・・・本体
3・・・蓋部
4・・・セラミック鍋
5・・・加熱コイル
7・・・電磁誘導加熱用土鍋
8・・・セラミック膜
9・・・フッ素樹脂の下層
10・・フッ素樹脂の下層
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3・・・蓋部
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7・・・電磁誘導加熱用土鍋
8・・・セラミック膜
9・・・フッ素樹脂の下層
10・・フッ素樹脂の下層
Claims (7)
- セラミック鍋の表面に形成され、該セラミック鍋よりも金属及び金属酸化物を多く含むアルミナ膜と、
該アルミナ膜の上面に形成されたフッ素樹脂膜と、
を有することを特徴とする電磁誘導加熱調理器。 - 前記アルミナ膜は、前記セラミック鍋をサンドブラストによって粗化した後形成されることを特徴とする請求項1記載の電磁誘導加熱調理器。
- 前記フッ素樹脂膜は、前記セラミック膜の表面に形成されたフッ素樹脂の下層と、該下層上に形成されたフッ素樹脂の上層で構成されることを特徴とする請求項1、又は2記載の電磁誘導加熱調理器。
- 粗さ2〜10ミクロンの粗化が、前記セラミック鍋の表面に形成されることを特徴とする請求項2記載の電磁誘導加熱調理器。
- 前記フッ素樹脂の下層は、前記フッ素樹脂の上層より薄く形成されていることを特徴とする請求項3記載の電磁誘導加熱調理器。
- セラミック鍋の表面とフッ素樹脂膜の間に、前記セラミック鍋より金属及び金属酸化物を多く含むアルミナ等の膜を形成することを特徴とするセラミック鍋のフッ素樹脂塗装方法。
- 前記アルミナ膜上に一層のフッ素樹脂膜をコーティングする場合、前記セラミックの粗化よりフッ素樹脂膜が厚いことを特徴とする請求項2記載の電磁誘導加熱調理器。
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|---|---|---|---|
| JP2007126159A JP2008279083A (ja) | 2007-05-10 | 2007-05-10 | セラミック鍋を使用する電磁誘導加熱調理器 |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|
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Country Status (1)
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|---|---|
| JP (1) | JP2008279083A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010240324A (ja) * | 2009-04-09 | 2010-10-28 | Gls:Kk | 電磁誘導加熱調理器及び電磁誘導加熱容器 |
| JP2011056062A (ja) * | 2009-09-10 | 2011-03-24 | Mitsubishi Electric Corp | 加熱調理器 |
| JP2013092361A (ja) * | 2012-12-28 | 2013-05-16 | Mitsubishi Electric Corp | 加熱調理器、および加熱調理器の製造方法 |
| EP2940168A1 (en) * | 2014-04-30 | 2015-11-04 | Ennio Corrado | Film made of an alloy of aluminum and iron, use of such material in combination with an oscillating magnetic field and kitchen utensil for induction cooking, comprising such film |
-
2007
- 2007-05-10 JP JP2007126159A patent/JP2008279083A/ja not_active Withdrawn
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| JP2011056062A (ja) * | 2009-09-10 | 2011-03-24 | Mitsubishi Electric Corp | 加熱調理器 |
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