JP2008275967A - Electro-optical device and electronic equipment - Google Patents
Electro-optical device and electronic equipment Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008275967A JP2008275967A JP2007120550A JP2007120550A JP2008275967A JP 2008275967 A JP2008275967 A JP 2008275967A JP 2007120550 A JP2007120550 A JP 2007120550A JP 2007120550 A JP2007120550 A JP 2007120550A JP 2008275967 A JP2008275967 A JP 2008275967A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electro
- substrate
- terminals
- optical device
- region
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 181
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims abstract description 23
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 26
- 238000009413 insulation Methods 0.000 claims 1
- 239000000382 optic material Substances 0.000 abstract description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 69
- 239000010408 film Substances 0.000 description 37
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 33
- 238000000034 method Methods 0.000 description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 12
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 9
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 9
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 7
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 5
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 5
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 4
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 4
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);selenium(2-) Chemical compound [Se-2].[Cd+2] UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
Description
本発明は、電気光学装置及び電子機器に関するものである。特に、電子部品の実装部又はフレキシブル回路基板接続部の端子の間にカバー部材を備えた電気光学装置、及びそのような電気光学装置を備えた電子機器に関するものである。 The present invention relates to an electro-optical device and an electronic apparatus. In particular, the present invention relates to an electro-optical device having a cover member between terminals of an electronic component mounting portion or a flexible circuit board connecting portion, and an electronic apparatus having such an electro-optical device.
従来、電気光学装置の一態様として、それぞれ電極を対向させて複数の画素を構成し、それぞれの画素に印加する電圧を選択的にオン、オフさせることによって当該画素の液晶材料を通過する光を変調させ、画像や文字等の像を表示させる液晶装置が多用されている。 Conventionally, as one aspect of an electro-optical device, a plurality of pixels are configured with electrodes facing each other, and light that passes through a liquid crystal material of the pixel is selectively turned on and off by applying a voltage applied to each pixel. A liquid crystal device that modulates and displays an image such as an image or a character is often used.
かかる液晶装置では、基板上に複数の配線が形成されている。これらの配線は、一端が基板上に実装される半導体素子である駆動用ICに接続され、他端が画素領域に延びて電極に接続される。そして、これらの配線は、駆動用ICから出力された駆動信号を各電極に対して伝送するようになっており、それぞれの電極に対して選択的に駆動信号を出力することによって、各画素に対して選択的に電圧を印加するようになっている。
ここで、基板上の駆動用ICが実装される領域には、駆動用ICの出力端子と接続される端子が形成されている。そして、基板上の端子と駆動用ICの出力端子とは、異方性導電膜(ACF:Anisotropic Conductive Film)を用いて接続されるようになっている。
In such a liquid crystal device, a plurality of wirings are formed on the substrate. One end of these wirings is connected to a driving IC which is a semiconductor element mounted on the substrate, and the other end extends to the pixel region and is connected to an electrode. These wirings transmit the drive signal output from the driving IC to each electrode. By selectively outputting the drive signal to each electrode, each wiring is supplied to each pixel. In contrast, a voltage is selectively applied.
Here, in a region where the driving IC is mounted on the substrate, a terminal connected to the output terminal of the driving IC is formed. The terminal on the substrate and the output terminal of the driving IC are connected using an anisotropic conductive film (ACF).
かかる液晶装置において、近年、装置の小型化と同時に表示の高精細化が求められており、表示画素数の増加及び画素の微細化が進められている。このような要請に対応するためには、駆動用ICにおいても小型化と出力端子数の増加が必須となることから、出力端子を駆動用ICの能動面に複数列設け、さらに、基板上の駆動用ICの実装領域における出力端子に対応した位置に端子を複数列形成する場合がある。このように構成した場合、隣り合う端子間に他の列の端子から延びる配線が形成されるため、隣り合う端子と配線との距離が近接することとなる。 In recent years, in such a liquid crystal device, there has been a demand for high-definition display simultaneously with downsizing of the device, and an increase in the number of display pixels and miniaturization of pixels have been promoted. In order to meet such demands, it is essential to reduce the size and increase the number of output terminals in the driving IC. Therefore, the output terminals are provided in a plurality of rows on the active surface of the driving IC. A plurality of terminals may be formed at positions corresponding to the output terminals in the mounting area of the driving IC. When configured in this manner, a wiring extending from a terminal in another row is formed between adjacent terminals, so that the distance between the adjacent terminal and the wiring is close.
そこで、狭い端子間に設けられる細い配線をカバー材によって正確に覆うことにより、安定した表示を行うことができる電気光学装置が提案されている。より具体的には、図13に示すように、電気光学物質を支持する基板416bと、基板416b上に設けられる複数の端子445と、端子445間に形成される配線433、435と、配線433、435を覆うカバー材455とを有する電気光学装置が開示されている。
ところで、液晶装置を製造する場合、複数の基板領域を有する大判の基板を貼り合せた後、基板領域ごとに分断して、複数の液晶パネルを形成する方法が採用されている。この大判の基板を貼り合わせる際には、各基板領域の表示領域を囲むようにシール材を形成した後、加熱しながら押圧されるが、表示領域内では対向する基板間の距離であるセルギャップが均一に保たれるようにスペーサが配置されるようになっている。
しかしながら、特許文献1の電気光学装置は、表示領域外の駆動用ICの実装領域において端子間に配置された配線を覆うカバー材が設けられているため、シール材で貼り合わせるために一対の基板を加圧している間、駆動用ICの実装領域と実装領域の周辺の領域との間で、保持されるセルギャップに差が生じるおそれがある。このようなセルギャップの差が生じると、近接する表示領域内にまで影響し、表示領域内でのセルギャップのムラとなって表示品位が低下するおそれがある。
By the way, when manufacturing a liquid crystal device, a method of forming a plurality of liquid crystal panels by bonding large substrates having a plurality of substrate regions and then dividing each substrate region is employed. When laminating the large substrates, a sealing material is formed so as to surround the display area of each substrate area, and then pressed while being heated. In the display area, the cell gap is a distance between opposing substrates. The spacers are arranged so as to be kept uniform.
However, since the electro-optical device disclosed in
そこで、本発明の発明者らは鋭意努力し、端子の間の配線を被覆するカバー部材を備えた電気光学装置において、少なくともカバー部材及び端子と重ならない位置に突起部材を備えることにより、このような問題を解決できることを見出し、本発明を完成させたものである。
すなわち、本発明は、一対の基板を貼り合わせるために加圧している間、表示領域外の端子周辺のセルギャップが均一に保持され、表示領域内でのセルギャップのムラを少なくできる電気光学装置を提供することを目的とする。また、本発明の別の目的は、そのような電気光学装置を備えた電子機器を提供することである。
In view of this, the inventors of the present invention have made diligent efforts, and in the electro-optical device provided with the cover member that covers the wiring between the terminals, the projection member is provided at least at a position that does not overlap the cover member and the terminal. The present invention has been completed by finding that it is possible to solve various problems.
That is, according to the present invention, an electro-optical device that can uniformly maintain a cell gap around a terminal outside the display area while applying pressure to bond a pair of substrates, and can reduce unevenness of the cell gap in the display area. The purpose is to provide. Another object of the present invention is to provide an electronic apparatus including such an electro-optical device.
本発明によれば、電気光学物質を挟持する一対の基板を備えるとともに表示領域を有する電気光学装置であって、表示領域内の一対の基板間にセルギャップを規定するためのスペーサ部材を備え、一対の基板のうちの一方の基板が他方の基板と重ならない領域に電子部品実装部を有し、電子部品実装部には、複数の端子と、複数の端子の間に配置された表示領域から延びる複数の配線と、複数の端子の間に配置された配線を被覆する複数の絶縁性のカバー部材と、を備えるとともに、重ならない領域における少なくともカバー部材及び端子と重ならない位置に突起部材を備えることを特徴とする電気光学装置が提供され、上述した問題を解決することができる。
すなわち、一対の基板が重ならない領域において、電子部品の端子と接続される端子間にカバー部材を備えるとともに、電子部品実装部以外の領域にも突起部材を備えることにより、製造段階で一対の基板を加圧している間、電子部品実装部及びその周囲のセルギャップが均一にされる。したがって、端子や配線の短絡を防止するとともに表示領域内のセルギャップのムラが低減され、表示品位の低下を防止することができる。
According to the present invention, the electro-optical device includes a pair of substrates that sandwich the electro-optical material and has a display region, and includes a spacer member for defining a cell gap between the pair of substrates in the display region. The one of the pair of substrates has an electronic component mounting portion in a region that does not overlap the other substrate, and the electronic component mounting portion includes a plurality of terminals and a display region disposed between the plurality of terminals. A plurality of extending wirings and a plurality of insulating cover members covering the wirings arranged between the plurality of terminals, and a projecting member at a position that does not overlap at least the cover member and the terminals in a region that does not overlap. An electro-optical device characterized by this can be provided, and the above-described problems can be solved.
In other words, in a region where the pair of substrates do not overlap with each other, a cover member is provided between the terminals connected to the terminals of the electronic component, and a protruding member is also provided in a region other than the electronic component mounting portion, thereby providing a pair of substrates in the manufacturing stage. While the pressure is applied, the electronic component mounting portion and the surrounding cell gap are made uniform. Therefore, short-circuiting of terminals and wirings can be prevented, and unevenness of the cell gap in the display area can be reduced, so that deterioration of display quality can be prevented.
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、突起部材の上部の高さ位置は表示領域内のスペーサ部材の上部の高さ位置と同じか又はそれ以上であることが好ましい。
このように構成することにより、一対の基板を貼り合わせる際に電子部品実装部及びその周囲のセルギャップが所定以上に保持され、表示領域内のセルギャップを保持させることができる。
In configuring the electro-optical device of the present invention, it is preferable that the height position of the upper portion of the protrusion member is equal to or higher than the height position of the upper portion of the spacer member in the display area.
With this configuration, when the pair of substrates are bonded together, the electronic component mounting portion and the surrounding cell gap are held at a predetermined level or more, and the cell gap in the display region can be held.
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、突起部材は、基板の縁側に配置されることが好ましい。
このように構成することにより、製造段階において隣接する基板領域と電子部品実装部との間のセルギャップが狭くなることが防止され、電子部品実装部及びその周囲のセルギャップが均一にされる。
In configuring the electro-optical device of the present invention, it is preferable that the protruding member is disposed on the edge side of the substrate.
With this configuration, it is possible to prevent the cell gap between the adjacent substrate region and the electronic component mounting portion from becoming narrow in the manufacturing stage, and to make the electronic component mounting portion and the surrounding cell gap uniform.
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、複数のカバー部材は複数の配線の配列方向に沿って配列される第1のカバー部材を含み、突起部材は第1のカバー部材の配列方向の延長線上に配置される第1の突起部材を含むことが好ましい。
このように構成することにより、製造段階において電子部品実装部及びその周囲のセルギャップをバランスよく保持させることができる。
In configuring the electro-optical device according to the present invention, the plurality of cover members include a first cover member arranged along the arrangement direction of the plurality of wirings, and the protruding member is arranged in the arrangement direction of the first cover member. It is preferable that the 1st protrusion member arrange | positioned on an extension line is included.
With this configuration, the electronic component mounting portion and the surrounding cell gap can be maintained in a well-balanced manner in the manufacturing stage.
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、複数のカバー部材は複数列配列される第2のカバー部材を含み、突起部材は第2のカバー部材の配列方向の延長線上に沿って複数配置される第2の突起部材を含むことが好ましい。
このように構成することにより、カバー部材が複数列に配列されている場合であっても、製造段階において電子部品実装部及びその周囲のセルギャップをバランスよく保持させることができる。
In configuring the electro-optical device of the present invention, the plurality of cover members include second cover members arranged in a plurality of rows, and the plurality of projecting members are arranged along an extension line in the arrangement direction of the second cover members. It is preferable to include a second protruding member.
With this configuration, even when the cover members are arranged in a plurality of rows, the electronic component mounting portion and the surrounding cell gap can be held in a balanced manner in the manufacturing stage.
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、カバー部材の上面高さ位置と突起部材の上面高さ位置とが等しいことが好ましい。
このように構成することにより、製造段階において電子部品実装部及びその周囲のセルギャップをより均一に保持させることができる。
In configuring the electro-optical device of the present invention, it is preferable that the upper surface height position of the cover member is equal to the upper surface height position of the protrusion member.
With this configuration, the electronic component mounting portion and the surrounding cell gap can be more uniformly maintained in the manufacturing stage.
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、重ならない領域には配線を含む複数の配線パターンを備え、突起部材は複数の配線パターンと重ならない位置に配置されることが好ましい。
このように構成することにより、電子部品実装部周囲にカバー部材又は突起部材をバランスよく配置させることができ、電子部品実装部及びその周囲のセルギャップを均一に保持させることができる。
In configuring the electro-optical device of the present invention, it is preferable that a region that does not overlap includes a plurality of wiring patterns including wiring, and the protruding member is disposed at a position that does not overlap with the plurality of wiring patterns.
By comprising in this way, a cover member or a protrusion member can be arrange | positioned with sufficient balance around an electronic component mounting part, and the electronic component mounting part and its surrounding cell gap can be hold | maintained uniformly.
また、本発明の別の態様は、電気光学物質を挟持する一対の基板を備えるとともに表示領域を有する電気光学装置であって、表示領域内の一対の基板間にセルギャップを規定するためのスペーサ部材を備え、一対の基板のうちの一方の基板が他方の基板と重ならない領域にフレキシブル回路基板接続部を有し、フレキシブル回路基板接続部には、複数の端子と、複数の端子の間に配置された表示領域から延びる複数の配線と、複数の端子の間に配置された配線を被覆する複数の絶縁性のカバー部材と、を備えるとともに、重ならない領域における少なくともカバー部材及び端子と重ならない位置に突起部材を備えることを特徴とする電気光学装置である。
すなわち、一対の基板が重ならない領域のフレキシブル回路基板接続部において、フレキシブル回路基板の電極と接続される端子間にカバー部材を備えるとともに、接続領域以外の領域にも突起部材を備えることにより、製造段階で一対の基板を加圧している間、フレキシブル回路基板接続部及びその周囲のセルギャップが均一にされる。したがって、表示領域内のセルギャップのムラが低減され、表示品位の低下を防止することができる。
Another aspect of the present invention is an electro-optical device that includes a pair of substrates for sandwiching an electro-optical material and has a display region, and a spacer for defining a cell gap between the pair of substrates in the display region. A flexible circuit board connecting portion in a region where one of the pair of substrates does not overlap the other substrate, and the flexible circuit board connecting portion includes a plurality of terminals and a plurality of terminals. A plurality of wirings extending from the arranged display area and a plurality of insulating cover members covering the wirings arranged between the plurality of terminals are provided, and at least do not overlap with the cover members and the terminals in the non-overlapping area. An electro-optical device including a protruding member at a position.
That is, in the flexible circuit board connecting portion in the region where the pair of substrates do not overlap, the cover member is provided between the terminals connected to the electrodes of the flexible circuit substrate, and the protrusion member is provided in the region other than the connection region, While the pair of substrates are being pressurized in the stage, the flexible circuit board connecting portion and the surrounding cell gap are made uniform. Accordingly, unevenness of the cell gap in the display area is reduced, and deterioration of display quality can be prevented.
また、本発明のさらに別の態様は、上述したいずれかの電気光学装置を備えた電子機器である。
すなわち、基板貼り合せ時の電子部品実装部又はフレキシブル回路基板接続部におけるセルギャップムラに起因した表示領域以内でのセルギャップムラが低減された電気光学装置を備えているために、表示品位の向上が図られた電子機器とすることができる。
Still another embodiment of the present invention is an electronic apparatus including any of the electro-optical devices described above.
In other words, the display quality is improved because the electro-optical device is provided with reduced cell gap unevenness within the display area due to the cell gap unevenness in the electronic component mounting portion or the flexible circuit board connecting portion when the substrates are bonded together. It can be set as the electronic device in which
以下、図面を参照して、本発明の電気光学装置及び電気光学装置の製造方法並びに電子機器に関する実施形態について具体的に説明する。ただし、かかる実施形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の範囲内で任意に変更することが可能である。
なお、各図中において、同じ符号を付したものは同一の部材を示しており、適宜説明を省略するとともに、それぞれの図中、一部の部材が適宜省略されている。
Hereinafter, embodiments of the electro-optical device, the method for manufacturing the electro-optical device, and the electronic apparatus according to the present invention will be specifically described with reference to the drawings. However, this embodiment shows one aspect of the present invention and does not limit the present invention, and can be arbitrarily changed within the scope of the present invention.
In addition, what attached | subjected the same code | symbol in each figure has shown the same member, and while abbreviate | omitting description suitably, the one part member is abbreviate | omitted suitably in each figure.
[第1の実施の形態]
本発明の第1の実施の形態は、電気光学物質を挟持する一対の基板を備えるとともに表示領域を有する電気光学装置としての液晶装置である。
本実施形態の液晶装置は、表示領域内の一対の基板間にセルギャップを規定するためのスペーサ部材を備え、一対の基板のうちの一方の基板が他方の基板と重ならない領域に電子部品実装部を有し、電子部品実装部には、複数の端子と、複数の端子の間に配置された表示領域から延びる複数の配線と、複数の端子の間に配置された配線を被覆する複数の絶縁性のカバー部材と、を備えるとともに、一対の基板が重ならない領域における少なくともカバー部材及び端子と重ならない位置に突起部材を備えることを特徴とする。
[First Embodiment]
The first embodiment of the present invention is a liquid crystal device as an electro-optical device that includes a pair of substrates that sandwich an electro-optical material and has a display area.
The liquid crystal device according to the present embodiment includes a spacer member for defining a cell gap between a pair of substrates in a display region, and electronic components are mounted in a region where one of the pair of substrates does not overlap the other substrate. The electronic component mounting portion includes a plurality of terminals, a plurality of wirings extending from a display area disposed between the plurality of terminals, and a plurality of wirings covering the wiring disposed between the plurality of terminals. And an insulating cover member, and a protrusion member is provided at least in a region where the pair of substrates do not overlap with the cover member and the terminal.
1.全体構成
まず、図1を参照して本発明の第1の実施の形態に係る液晶装置10の全体構成の概略について説明する。
図1は本実施形態に係る液晶装置10の概略斜視図を示している。本実施形態の液晶装置10は、それぞれ電極を備えた二枚の基板30、60をシール材によって貼り合わせるとともにセル領域内に液晶材料が配置された液晶パネル20を備えている。このセル領域は表示領域Aを有しており、図1中、上側の面が画像表示面となっている。
また、液晶パネル20における画像表示面Aの背面側には照明装置(図示せず)が配置されている。照明装置は光源及び導光板を備え、光源から出射された光が導光板によって導かれ、液晶パネルに対して入射するように構成されている。
1. Overall Configuration First, an overview of the overall configuration of the
FIG. 1 is a schematic perspective view of a
An illumination device (not shown) is disposed on the back side of the image display surface A in the
また、液晶パネル20を構成する素子基板60は、対向基板30の外形よりも外側に張り出してなる基板張出部60Tを有している。この基板張出部60Tにおける液晶材料を保持する面側には複数の端子(図示せず)が形成されているとともに、当該複数の端子に対して半導体素子91及びフレキシブル回路基板93が接続されている。
In addition, the
2.液晶パネル
液晶パネル20としては、TFT素子(Thin Film Transistor)やTFD素子(Thin Film Diode)等のスイッチング素子を備えたアクティブマトリクス型の液晶パネル、あるいは、スイッチング素子を備えていないパッシブマトリクス型の液晶パネルが代表的なものである。このうち、TFT素子を備えたアクティブマトリクス型の液晶パネルの構成例について説明する。
2. Liquid crystal panel As the
図2は、TFT素子を備えたアクティブマトリクス型の液晶パネル20の各画素領域の部分拡大断面図を示している。この図2に示すように、液晶パネル20は、スイッチング素子としてのTFT素子を備えた素子基板60と、当該素子基板60に対向し、カラーフィルタ37を備えた対向基板30とを備えている。この対向基板30及び素子基板60の間には、基板間のセルギャップを規定するためのフォトスペーサ97が配置されている。また、対向基板30の外側(図2の上側)表面には位相差フィルム47と偏光板49が積層された位相差フィルム付き偏光板50が配置されている。同様に、素子基板60の外側(図2の下側)表面にも位相差フィルム87と偏光板89が積層された位相差フィルム付き偏光板90が配置されている。そして、素子基板60の下方に上述した照明装置(図示せず)が配置されている。
FIG. 2 is a partial enlarged cross-sectional view of each pixel region of the active matrix type
この液晶パネル20において、対向基板30は、ガラス等の基板31を基体として、色相が異なる複数の着色層37r、37g、37bからなるカラーフィルタ37と、そのカラーフィルタ37の上に形成された対向電極33と、その対向電極33の上に形成された配向膜45とを備えている。また、カラーフィルタ37と対向電極33との間には、反射領域及び透過領域それぞれのリタデーションを最適化するための透明樹脂層41を備えている。
ここで、対向電極33はITO(インジウムスズ酸化物)等によって対向基板30上の全域に形成された面状電極である。また、カラーフィルタ37はR(赤)、G(緑)、B(青)それぞれの色相を有する複数の着色層からなり、対向する素子基板60側の画素電極63に対応する画素領域がそれぞれ所定の色相の光を呈するように設けられている。そして、それぞれの画素領域の間隙に相当する領域に対応して遮光膜39が設けられている。
また、表面に設けられたポリイミド系の高分子樹脂からなる配向膜85には、配向処理としてのラビング処理が施されている。
In the
Here, the
The
また、対向基板30に対向する素子基板60は、ガラス等の基板61を基体として、スイッチング素子として機能するアクティブ素子としてのTFT素子69と、透明な絶縁膜81を挟んでTFT素子69の上層に形成された画素電極63と、その画素電極63の上に形成された配向膜85とを備えている。
ここで、図2に示す画素電極63は、反射領域においては反射表示を行うための光反射膜79(63a)を兼ねて形成されるとともに、透過領域においてはITOなどにより透明電極63bとして形成されている。この画素電極63aとしての光反射膜79は、例えばAl(アルミニウム)、Ag(銀)等といった光反射性材料によって形成される。ただし、画素電極や光反射膜の構成は図2に示すような構成に限られるものではなく、画素電極全体をITO等を用いて形成するとともに、別の部材としてアルミニウム等を用いた反射膜を設けた構成とすることもできる。
そして、表面に設けられたポリイミド系の高分子樹脂からなる配向膜85には配向処理としてのラビング処理が施されている。
Further, the
Here, the
The
また、TFT素子69は、素子基板60上に形成されたゲート電極71と、このゲート電極71の上で素子基板60の全域に形成されたゲート絶縁膜72と、このゲート絶縁膜72を挟んでゲート電極71の上方位置に形成された半導体層70と、その半導体層70の一方の側にコンタクト電極77を介して形成されたソース電極73と、さらに半導体層70の他方の側にコンタクト電極77を介して形成されたドレイン電極66とを有している。
また、ゲート電極71はゲートバス配線(図示せず)から延びており、ソース電極73はソースバス配線(図示せず)から延びている。また、ゲートバス配線は素子基板60の横方向に延びていて縦方向へ等間隔で平行に複数本形成されるとともに、ソースバス配線はゲート絶縁膜72を挟んでゲートバス配線と交差するように縦方向へ延びていて横方向へ等間隔で平行に複数本形成される。
かかるゲートバス配線は液晶駆動用IC(図示せず)に接続されて、例えば走査線として作用し、他方、ソースバス配線は他の駆動用IC(図示せず)に接続されて、例えば信号線として作用する。
また、画素電極63は、互いに交差するゲートバス配線とソースバス配線とによって区画される方形領域のうちTFT素子69に対応する部分を除いた領域に形成されており、この画素電極63単位で画素領域が構成されている。
The
The
Such a gate bus wiring is connected to a liquid crystal driving IC (not shown) and functions as, for example, a scanning line, while a source bus wiring is connected to another driving IC (not shown), for example, a signal line. Acts as
The
ここで、ゲートバス配線及びゲート電極は、例えばクロム、タンタル等によって形成することができる。また、ゲート絶縁膜は、例えば窒化シリコン(SiNX)、酸化シリコン(SiOX)等によって形成される。また、半導体層は、例えばドープトa−Si、多結晶シリコン、CdSe等によって形成することができる。さらに、コンタクト電極は、例えばa−Si等によって形成することができ、ソース電極及びそれと一体をなすソースバス配線並びにドレイン電極は、例えばチタン、モリブデン、アルミニウム等によって形成することができる。 Here, the gate bus wiring and the gate electrode can be formed of chromium, tantalum, or the like, for example. The gate insulating film is formed of, for example, silicon nitride (SiN x ), silicon oxide (SiO x ), or the like. Further, the semiconductor layer can be formed of, for example, doped a-Si, polycrystalline silicon, CdSe, or the like. Further, the contact electrode can be formed of, for example, a-Si, and the source electrode and the source bus wiring and the drain electrode integrated therewith can be formed of, for example, titanium, molybdenum, aluminum, or the like.
また、有機絶縁膜81は、ゲートバス配線、ソースバス配線及びTFT素子を覆って素子基板60上の全域に形成されている。但し、有機絶縁膜81のドレイン電極66に対応する部分にはコンタクトホール83が形成され、このコンタクトホール83の所で画素電極63とTFT素子69のドレイン電極66との導通がなされている。
また、かかる有機絶縁膜81には、反射領域Rに対応する領域に、散乱形状として、山部と谷部との規則的な又は不規則的な繰り返しパターンから成る凹凸パターンを有する樹脂膜が形成されている。この結果、有機絶縁膜81の上に積層される光反射膜79(63a)も同様にして凹凸パターンから成る光反射パターンを有することになる。但し、この凹凸パターンは、透過領域Tには形成されていない。
The organic insulating
In addition, in the organic insulating
以上のような構造を有する液晶パネルでは、太陽光や室内照明光などの外光が、対向基板30側から液晶パネル20に入射するとともに、カラーフィルタ37や液晶材料21などを通過して光反射膜79に至り、そこで反射されて再度液晶材料21やカラーフィルタ37などを通過して、液晶パネル20から外部へ出ることにより、反射表示が行われる。一方、照明装置が点灯され、照明装置から出射された光が液晶パネル20に入射するとともに、透光性の透明電極63b部分を通過し、カラーフィルタ37、液晶材料21などを通過して液晶パネル20の外部へ出ることにより、透過表示が行われる。
そして、それぞれの画素領域から出射される光が混色されて視認されるに至り、様々な色の表示が表示領域全体としてカラー画像として認識される。
In the liquid crystal panel having the above-described structure, external light such as sunlight and indoor illumination light enters the
Then, the light emitted from each pixel region is mixed and visually recognized, and various color displays are recognized as a color image as the entire display region.
3.基板張出部
次に、本実施形態の液晶装置10を構成する素子基板60の基板張出部60Tの構成について詳細に説明する。図3〜図4は基板張出部60Tの構成の一例を示している。図3(a)は基板張出部60Tの平面図であり、図3(b)は図3(a)のYで示す円の枠内を拡大した平面図を示している。また、図4は、図3(a)のXX断面を矢印方向に見た断面図を示している。
3. Substrate Overhanging Unit Next, the configuration of the
これらの図3及び図4に示すように、素子基板の基板張出部60Tの半導体素子の実装部98には、表示領域A内のゲートバス配線やソースバス配線の一端側が延設されている。これらの配線は全体としてストライプ状に配置されており、配線の端部近傍には端子14が形成されている。これらの端子14には半導体素子の出力側バンプ部が電気的に接続され、半導体素子からの駆動信号が出力されるようになっている。
また、端子14よりも表示領域Aから離れる側には、半導体素子の入力側バンプ部が電気的に接続される端子18と、フレキシブル回路基板の電極が電気的に接続される外部接続用端子19とが形成されている。この端子18と外部接続用端子19とは接続配線67によって電気的に接続されている。
As shown in FIGS. 3 and 4, one end side of the gate bus wiring and the source bus wiring in the display area A is extended to the semiconductor
Further, on the side farther from the display area A than the terminal 14, a terminal 18 to which the input-side bump portion of the semiconductor element is electrically connected and an
このうち、ゲートバス配線やソースバス配線の端部近傍に形成される端子14は、これらの配線に比べて幅が広くされている。また、本実施形態の例では、配線のピッチ間隔が狭くされているために、端子14の幅を広くしても端子14同士が接触しないように、端子14が二列にされて千鳥状に形成されている。すなわち、端子14aによって第一の列L1が構成され、端子14bによって第二の列L2が構成され、端子14aと端子14bとは配線の延設方向に沿って重ならないようにずらされている。
Among these, the terminal 14 formed in the vicinity of the end of the gate bus line and the source bus line is wider than these lines. In the example of this embodiment, since the pitch interval of the wiring is narrowed, the
このうち、第一の列L1の互いに隣接する端子14aの間には、第二の列L2の端子14bに対応する配線11が配置される一方、第二の列L2の互いに隣接する端子14bの間には、第一の列L1の端子14aに対応する配線13が配置されている。
また、それぞれの配線が、表示領域Aから端子14の第二の列L2を超えて延設された直線部分28は全体としてストライプ状に形成され、配線検査用のパッドとして利用されるようになっている。
Among these, between the
Further, the
また、端子14aの間及び端子14bの間には、端子間に配置された配線11、13を覆うように絶縁性材料からなるカバー部材15が形成されている。端子14が二列に千鳥状に配置された図3の例では、カバー部材15も千鳥状に配置されている(図3(b)を参照)。このカバー部材15は、例えば、アクリル樹脂等の絶縁性の感光性樹脂材料を用いてフォトリソグラフィ法によって形成される。このように、端子14間に配置された配線11、13はカバー部材15によって外部から電気的に絶縁されるようになっており、半導体素子をACFを用いて実装する際において、端子14aと配線11との間及び端子14bと配線13との間で短絡が発生することが防止される。
A
ここで、図3に示す本実施形態の基板張出部60Tの構成例では、千鳥状に二列に配置された端子14は、配線11、13の延設方向と交差する方向に配列されており、この配列方向の延長線上の基板の縁側には帯状の突起部材1が配置されている。この突起部材1は、基板上の配線パターンと重ならないようにして、二列に千鳥状に配置されたカバー部材15の幅をもって配置されている。突起部材1は、例えば、カバー部材15と同様にアクリル樹脂等の絶縁性の感光性樹脂材料を用いてフォトリソグラフィ法によって形成される。
Here, in the configuration example of the
また、図3(a)の例では、上記の突起部材1以外にも、それぞれの配線11、13の端部と、半導体素子の入力側バンプに対して電気的に接続される端子18との間の領域を通過し、配線11、13の延設方向と交差する方向に延びる帯状の突起部材3が配置されている。この突起部材3は、基板上の配線パターン12やアライメント用のパターン5が配置されている領域については一部削除され、分割されて構成されている。
In addition, in the example of FIG. 3A, in addition to the
一般に、液晶パネルを製造する際には、図5に示すようにそれぞれ対応する複数の基板領域20aを有する二枚の大判基板30A、60Aをシール材23で貼り合せた後、一次ブレイクライン24及び二次ブレイクライン26に沿って基板領域20aごとに分断されるようになっている。この二枚の大判基板30A、60Aを貼り合せる際には加熱圧着されるようになっているが、貼り合せ後に表示領域内でセルギャップにばらつきが生じると表示ムラになって視認されてしまうことから、表示領域内にはセルギャップを保持するためのスペーサ部材が配置される。ここで、図3(a)に示すように表示領域Aの外の半導体素子の実装部98に上述したようなカバー部材15が配置されると、このカバー部材15が大判基板30A、60Aを貼り合わせる際のスペーサ的機能を果たすようになる。一方で、カバー部材15が配置されていない半導体素子の実装部98外ではセルギャップを保持することができないために、基板張出部60Tにおいてセルギャップのばらつきが生じる。その結果、隣接する表示領域A内のセルギャップにも影響を与えてしまいセルギャップムラが生じ、表示不良を生じやすくなっている。しかしながら、基板張出部60Tの半導体素子の実装部98外にもフォトスペーサを配置すれば、基板張出部60Tでのセルギャップムラが低減され、表示不良を生じにくくすることができる。
In general, when manufacturing a liquid crystal panel, as shown in FIG. 5, two
図3に示す基板張出部60Tの例では、二列に千鳥状に配置されたカバー部材15の配列方向の延長線上に、二列のカバー部材15の幅をもって突起部材1が配置されているために、突起部材1を形成する際に用いられるパターンマスクの設計が容易になるとともに、加熱圧着時の圧力バランスが均一にされるようになっている。
また、さらに上記突起部材1以外の突起部材3も配置されているために、基板張出部60T全体において圧力バランスが均一にされ、セルギャップのばらつきが生じないようになっている。
In the example of the
Further, since the projecting
図6には、基板張出部における半導体素子の実装部98外に突起部材1、3を形成した場合及び形成しなかった場合それぞれでの干渉縞の状態が示されている。図6(a)が、かかる突起部材を形成しなかった例であり、図6(b)が、かかる突起部材1、3を形成した例である。
突起部材が形成されていない図6(a)では、基板領域20Xの基板張出部60Tにおいて、半導体素子の実装部98ではカバー部材(図示せず)によってセルギャップが保持される一方、半導体素子の実装部98外ではセルギャップが保持されないことによって、基板領域20Yの表示領域Aのうち基板領域20Xに隣接する領域で干渉縞の乱れが生じている。
一方、突起部材が形成されている図6(b)では、基板領域20Xの基板張出部60Tにおいてカバー部材(図示せず)及びフォトスペーサ1、3によって全体のセルギャップが均一にされているために、基板領域20Yの表示領域Aには図6(a)で見られるような干渉縞の乱れが生じていない。
FIG. 6 shows the state of interference fringes when the projecting
In FIG. 6A in which no protruding member is formed, in the
On the other hand, in FIG. 6B in which the protruding member is formed, the entire cell gap is made uniform by the cover member (not shown) and the
また、かかる突起部材を設けるにあたり、図4に示すように、カバー部材15の上面15aの高さ位置と、突起部材1の上面1aの高さ位置とが等しいことが好ましい。このように構成されていれば、カバー部材15及び突起部材1によって保持されるセルギャップが等しくされ、基板張出部60Tでのセルギャップのばらつきがさらに低減される。図4の例では、カバー部材15の上面15aの高さ位置と、フォトスペーサ1の上面1aの高さ位置とが等しく、かつ、端子14aの上面14aaの高さ位置よりも高い位置となるように形成されている。
すなわち、半導体素子が実装される素子基板と対向するカラーフィルタ基板は、液晶パネル製造段階での大判の基板状態では、表示領域以外の領域にも着色層が形成されており、基板表面が比較的平坦な状態にされている。表示領域以外の領域に着色層が設けられていない場合でも、基板張出部に相当する領域の基板表面が比較的平坦な状態であることは同様である。したがって、素子基板上のカバー部材15の上面15aの高さ位置と突起部材1の上面1aの高さ位置とが等しければ、保持されるセルギャップは均一にされるようになる。
In providing such a protruding member, it is preferable that the height position of the
That is, the color filter substrate facing the element substrate on which the semiconductor element is mounted has a colored layer formed in a region other than the display region in a large substrate state at the liquid crystal panel manufacturing stage, and the substrate surface is relatively It is in a flat state. Even when the colored layer is not provided in a region other than the display region, the substrate surface in the region corresponding to the substrate overhanging portion is in a relatively flat state. Therefore, if the height position of the
さらには、カバー部材15の上面15a及びフォトスペーサ1の上面1aの高さ位置が表示領域内に配置されるスペーサ部材の上面の高さ位置とも等しくなるように形成されることが好ましい。このように構成されていれば、大判基板の全域においてセルギャップのばらつきが防止され、表示領域内でのセルギャップのばらつきによる表示不良が低減されるようになる。
なお、表示領域内に配置されるスペーサ部材についても、絶縁性の感光性樹脂材料を用いて形成されるフォトスペーサとすることにより、基板張出部のカバー部材及び突起部材、並びに表示領域内のスペーサ部材を同一工程で形成できるようになる。
Further, it is preferable that the height positions of the
Note that the spacer member disposed in the display region is also a photo spacer formed using an insulating photosensitive resin material, so that the cover member and the projecting member of the substrate extension portion, and the display member The spacer member can be formed in the same process.
4.変形例
本実施形態の液晶装置では、これまで説明した構成以外にも種々の変更が可能である。
例えば、図7(a)〜(b)は、半導体素子の実装部98の端子114が千鳥状でなく二列に配置され、第二の列L2の端子114bと接続され第一の列L1の端子114a間に配置される配線111と、第一の列L1の端子114aと接続され第二の列L2の端子114b間に配置される配線113とを単一のカバー部材115で覆い、当該カバー部材115の配列方向の延長線上に、カバー部材115と同様の幅をもって配置された突起部材1を備えた構成を示している。
4). Modifications The liquid crystal device according to the present embodiment can be variously modified in addition to the configuration described so far.
For example, in FIGS. 7A to 7B, the
また、図8は、端子134が千鳥状に二列に配置されているものの、第二の列L2の端子134bに接続される配線131のみが表示領域Aとは反対側に向けてさらに延設されており、第一の列L1の端子134aの間にのみ配線131が配置されている。そして、この配線131を覆うようにカバー部材135が配置されており、カバー部材135は一列に配列されるようになっている。これに併せて、カバー部材135の配列方向の延長線上に、カバー部材135と同様の幅をもって配置された突起部材1が備えられている。
Further, in FIG. 8, although the
また、突起部材は帯状になっていることが必須ではなく、図9(a)に示すように、分割して配置されていてもよく、さらには、図9(b)に示すように、基板張出部に形成されている配線や端子、カバー部材等と重ならないような領域であれば、いずれの位置に配置されていても構わない。
ただし、大判基板を加熱圧着する際の圧力バランスを考慮すれば、配線や端子、カバー部材と重ならないような領域にバランスよく配置されることが好ましい。
Further, it is not essential that the protruding member has a belt shape, and the protruding member may be divided and disposed as shown in FIG. 9A. Further, as shown in FIG. As long as it is a region that does not overlap the wiring, terminals, cover member, etc. formed in the overhanging portion, it may be arranged at any position.
However, in consideration of the pressure balance when heat-pressing a large-sized substrate, it is preferable that the substrate is arranged in a well-balanced area so as not to overlap the wiring, terminals, and cover member.
[第2の実施の形態]
第2の実施の形態は、第1の実施の形態と同様の液晶装置であって、表示領域内の一対の基板間にセルギャップを規定するためのスペーサ部材を備え、一対の基板のうちの一方の基板が他方の基板と重ならない領域にフレキシブル回路基板接続部を有し、フレキシブル回路基板接続部には、複数の端子と、複数の端子の間に配置された表示領域から延びる複数の配線と、複数の端子の間に配置された配線を被覆する複数の絶縁性のカバー部材と、を備えるとともに、重ならない領域における少なくともカバー部材及び端子と重ならない位置に突起部材を備えることを特徴とする液晶装置である。
以下、第1の実施の形態と異なる点を中心に説明し、その他の第1の実施の形態と同様の構成とすることができる点については、説明を省略する。
[Second Embodiment]
The second embodiment is a liquid crystal device similar to the first embodiment, and includes a spacer member for defining a cell gap between a pair of substrates in a display region, and the second embodiment includes: One substrate has a flexible circuit board connection portion in an area where it does not overlap the other substrate, and the flexible circuit board connection portion has a plurality of terminals and a plurality of wirings extending from a display area arranged between the plurality of terminals. And a plurality of insulating cover members that cover the wirings arranged between the plurality of terminals, and a protrusion member at least in a position that does not overlap the cover member and the terminal in a region that does not overlap. It is a liquid crystal device.
Hereinafter, the description will focus on the points different from the first embodiment, and the description of the points that can be configured in the same manner as the other first embodiments will be omitted.
1.全体構成
図10は、本実施形態に係る液晶装置110の概略構成図を示している。本実施形態の液晶装置110は、第1の実施の形態の液晶装置と異なり、素子基板160上に半導体素子が実装されていない代わりに、対向基板130の外形よりも外側に張り出してなる基板張出部160Tにフレキシブル回路基板193が接続され、当該フレキシブル回路基板193上に半導体素子191が実装されている。
1. Overall Configuration FIG. 10 is a schematic configuration diagram of a
2.基板張出部
図11(a)〜(b)は本実施形態の基板張出部160Tの構成の一例を示している。図11(a)は基板張出部160Tの平面図であり、図11(b)は図11(a)のYで示す円の枠内を拡大した平面図を示している。
2. Substrate Overhanging Part FIGS. 11A and 11B show an example of the configuration of the
素子基板の基板張出部160Tのフレキシブル回路基板接続部99には、表示領域A内のゲートバス配線やソースバス配線の一端側が延設されている。これらの配線は全体としてストライプ状に配置されており、配線の端部には端子174が形成されている。これらの端子174にはフレキシブル回路基板の電極が電気的に接続され、半導体素子からの駆動信号が伝達されるようになっている。
One end side of the gate bus wiring and the source bus wiring in the display area A is extended to the flexible circuit
この端子174は、配線に比べて幅が広くされている。また、本実施形態の例では、配線のピッチ間隔が狭くされているために、端子174の幅を広くしても端子174同士が接触しないように、端子174が二列にされて千鳥状に形成されている。すなわち、端子174aによって第一の列L1が構成され、端子174bによって第二の列L2が構成され、端子174aと端子174bとは配線の延設方向に沿って重ならないようにずらされている。そして、第一の列L1の互いに隣接する端子174aの間には、第二の列L2の端子174bに対応する配線171が配置されている。
The terminal 174 is wider than the wiring. In the example of this embodiment, since the pitch interval of the wiring is narrowed, the
また、端子174aの間には、端子間に配置された配線171を覆うようにカバー部材175が形成されている。このカバー部材175は、直線状に一列に配置されており、端子174a間に配置された配線171はカバー部材175によって外部から電気的に絶縁され、半導体素子をACFを用いて実装する際において、端子174aと配線171との間で短絡が発生することが防止される。
A
ここで、図11に示す本実施形態の基板張出部160Tの構成例では、千鳥状に二列に配置された端子174は、配線171の延設方向と交差する方向に配列されており、この配列方向の延長線上の基板の縁側には帯状の突起部材181が配置されている。この突起部材181は、基板上の配線パターンと重ならないようにして、一列に直線状に配置されたカバー部材175と同じ幅をもって配置されている。したがって、大判基板を貼り合わせる際に、基板張出部160Tでのセルギャップムラが低減され、表示不良が生じにくくされている。
ここで説明した以外の詳細な構成については、第1の実施の形態で説明した内容と同様とすることができる。
Here, in the configuration example of the
The detailed configuration other than that described here can be the same as that described in the first embodiment.
[第3の実施の形態]
本発明の第3の実施の形態は、第1の実施の形態又は第2の実施の形態で説明した液晶装置の製造方法である。
以下、電子部品実装部にカバー部材を形成する工程を含む例について説明する。
[Third Embodiment]
The third embodiment of the present invention is a method for manufacturing the liquid crystal device described in the first embodiment or the second embodiment.
Hereinafter, an example including a step of forming a cover member on the electronic component mounting portion will be described.
1.対向基板(カラーフィルタ基板)の形成
対向基板としてのカラーフィルタ基板を形成する際には、まず、複数の基板領域を含む大判基板としてのガラス基板のそれぞれの基板領域に、感光性樹脂材料を用いたフォトリソグラフィ法等により各種の部材を積層することによって、着色層や遮光膜を形成する。次いで、スパッタリング法等によりITO等の透明導電膜を積層した後、フォトエッチング処理を行い、表示領域全面に渡る対向電極を形成する。さらに、対向電極が形成された基板表面に、ポリイミドからなる配向膜を形成する。このようにして、種々の樹脂膜や導電膜が形成された大判のカラーフィルタ基板を形成する。
1. Formation of counter substrate (color filter substrate) When forming a color filter substrate as a counter substrate, first, a photosensitive resin material is used for each substrate region of a glass substrate as a large substrate including a plurality of substrate regions. A colored layer and a light shielding film are formed by laminating various members by a conventional photolithography method or the like. Next, after laminating a transparent conductive film such as ITO by a sputtering method or the like, a photoetching process is performed to form a counter electrode over the entire display region. Further, an alignment film made of polyimide is formed on the substrate surface on which the counter electrode is formed. In this way, a large color filter substrate on which various resin films and conductive films are formed is formed.
2.素子基板の製造
素子基板を形成する際には、まず、複数の基板領域を含む大判基板としてのガラス基板のそれぞれの基板領域に、TFT素子や配線パターン、端子を同時に形成する。このとき、電子部品実装部では、図3(b)に示すように、第一の列L1を構成する互いに隣接する端子14aの間に配線11が形成される。この配線11は、一端が表示領域Aの内側に延びてTFT素子に接続され、他端が端子14bに接続され、さらに検査用パッドまで延設される。また、第二の列L2を構成する互いに隣接する端子14bの間に配線13が形成される。この配線13は、一端が端子14aに接続され、さらに表示領域Aの内側に延びてTFT素子に接続され、他端が検査用パッドまで延設される。
2. Manufacturing of Element Substrate When forming an element substrate, first, a TFT element, a wiring pattern, and a terminal are simultaneously formed in each substrate region of a glass substrate as a large substrate including a plurality of substrate regions. At this time, in the electronic component mounting portion, as shown in FIG. 3B, the
次いで、ITO等の透明導電膜を積層した後、エッチング処理等を行い、表示領域内に画素電極をマトリクス状に形成する。さらに、絶縁膜を形成した上でポリイミドからなる配向膜を形成する。 Next, after laminating a transparent conductive film such as ITO, an etching process or the like is performed to form pixel electrodes in a matrix in the display region. Further, after forming an insulating film, an alignment film made of polyimide is formed.
次いで、絶縁性かつ感光性の透明樹脂材料を積層した後、パターンマスクを介して露光し現像することにより、表示領域内にはフォトスペーサが形成され、表示領域外の基板張出部にはカバー部材及び突起部材が形成される。カバー部材は、図3(b)に示すように、半導体素子の実装部98の端子14a、14bの間に配置された配線11、13を覆うように形成され、全体として千鳥状に配置される。また、突起部材1、3は、千鳥状に二列に配列されたカバー部材15の配列方向の延長線上にカバー部材15の幅をもって配置される帯状の突起部材1と、半導体素子の出力側バンプに接続される上記端子14と半導体素子の入力側バンプに接続される端子18との間の領域を通過し、配線11、13の延設方向と交差する方向に延びる帯状の突起部材3とを含んでいる。
このとき、例えば、領域ごとに光の透過性が異なるハーフトーンマスクを用いたり、マスクパターンを変えて複数回露光を行ったりすることにより、対向基板側の基板表面の高さ位置を考慮して、それぞれの位置でのセルギャップが維持されるような上面の高さ位置となるように、表示領域内のフォトスペーサ、表示領域外のカバー部材及び突起部材を形成する。
Next, after laminating an insulating and photosensitive transparent resin material, exposure and development are performed through a pattern mask, so that a photo spacer is formed in the display area, and a substrate overhanging portion outside the display area is covered. A member and a protruding member are formed. As shown in FIG. 3B, the cover member is formed so as to cover the
At this time, for example, the height position of the substrate surface on the counter substrate side is taken into consideration by using a halftone mask having different light transmittance for each region, or by performing multiple exposures by changing the mask pattern. The photo spacers in the display area, the cover members outside the display area, and the protruding members are formed so that the height of the upper surface is maintained so that the cell gap at each position is maintained.
3.基板の貼り合わせ
次いで、大判の対向基板及び大判の素子基板の少なくともいずれか一方において、各基板領域の表示領域を囲むようにシール材を形成した後、二つの基板を接合させて加熱圧着を行う。
本実施形態では、表示領域内のフォトスペーサ、表示領域外のカバー部材及び突起部材によって、大判基板全体に渡ってそれぞれの基板が平坦に維持され、表示領域内のセルギャップにばらつきが生じにくくなっている。
3. Next, after a sealing material is formed so as to surround the display region of each substrate region in at least one of a large counter substrate and a large element substrate, the two substrates are joined and thermocompression bonded. .
In this embodiment, the photo spacers in the display area, the cover members outside the display area, and the projection members maintain each substrate flat across the entire large substrate, and the cell gap in the display area is less likely to vary. ing.
4.分断及び液晶配置
次いで、貼り合わせられた大判基板を一次ブレイクラインに沿って切断し、複数のセル構造が一列に並んだ状態で含まれる短冊状基板を複数形成する。このとき、各基板領域の液晶材料の注入口が外部に露出するように一列に配置される。次いで、液晶材料の注入口から液晶材料を各基板領域のセル内に注入した後、二次ブレイクラインに沿って切断し、複数の液晶パネルを形成する。
なお、本実施形態では、真空注入法による液晶注入の例を説明しているが、大判基板を貼り合せる前に、形成されたシール材の内側領域に液晶材料を滴下する配置方法であっても構わない。
4). Next, the bonded large-sized substrate is cut along a primary break line to form a plurality of strip-shaped substrates including a plurality of cell structures arranged in a line. At this time, the liquid crystal material injection holes in the respective substrate regions are arranged in a row so as to be exposed to the outside. Next, after injecting the liquid crystal material into the cells of each substrate region from the injection port of the liquid crystal material, the liquid crystal material is cut along the secondary break lines to form a plurality of liquid crystal panels.
Note that, in this embodiment, an example of liquid crystal injection by a vacuum injection method is described. However, even in an arrangement method in which a liquid crystal material is dropped on an inner region of a formed sealing material before a large substrate is bonded. I do not care.
5.組立
次いで、半導体素子等の電子部品を実装したり、フレキシブル回路基板を接続したりした後、照明装置とともに筐体に組み込むことにより液晶装置を製造することができる。
このように製造された液晶装置であれば、表示領域内のセルギャップのばらつきが低減されており、表示品位の低下が低減された液晶装置を得ることができる。
5. Assembly Next, after mounting an electronic component such as a semiconductor element or connecting a flexible circuit board, a liquid crystal device can be manufactured by incorporating it into a housing together with a lighting device.
If the liquid crystal device is manufactured as described above, the variation in the cell gap in the display region is reduced, and a liquid crystal device in which the deterioration in display quality is reduced can be obtained.
[第4の実施の形態]
本発明に係る第4の実施の形態として、第1の実施の形態又は第2の実施の形態の液晶装置を備えた電子機器について具体的に説明する。
[Fourth Embodiment]
As a fourth embodiment according to the present invention, an electronic apparatus including the liquid crystal device according to the first embodiment or the second embodiment will be specifically described.
図12は、本実施形態の電子機器の全体構成を示す概略構成図である。この電子機器は、液晶装置に備えられた液晶パネル20と、これを制御するための制御手段200とを有している。また、図12中では、液晶パネル20を、パネル構造体20Aと、半導体素子(IC)等で構成される駆動回路20Bと、に概念的に分けて描いてある。また、制御手段200は、表示情報出力源201と、表示処理回路202と、電源回路203と、タイミングジェネレータ204とを有することが好ましい。
また、表示情報出力源201は、ROM(Read Only Memory)やRAM(Random Access Memory)等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ204によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示処理回路202に供給するように構成されていることが好ましい。
FIG. 12 is a schematic configuration diagram showing the overall configuration of the electronic apparatus of the present embodiment. The electronic apparatus includes a
The display
また、表示処理回路202は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号CLKと共に駆動回路20bへ供給することが好ましい。さらに、駆動回路20bは、第1の電極駆動回路、第2の電極駆動回路及び検査回路を含むことが好ましい。また、電源回路203は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する機能を有している。
そして、本実施形態の電子機器であれば、電子部品実装部又はフレキシブル回路基板接続部の端子間にカバー部材を備えるとともに、それ以外の領域に所定の突起部材を備えるために、端子又は電極と配線との短絡が防止されるとともに、セルギャップムラによる表示不良が低減された電子機器とすることができる。
The
And if it is an electronic device of this embodiment, in order to provide a cover member between the terminals of an electronic component mounting part or a flexible circuit board connection part, and to provide a predetermined projection member in the other area, It is possible to provide an electronic device in which a short circuit with the wiring is prevented and display defects due to uneven cell gap are reduced.
本発明によれば、端子又は電極と配線との短絡が防止されるとともに、セルギャップムラによる表示不良が低減された電気光学装置や電子機器を提供することができる。したがって、例えば、携帯電話機やパーソナルコンピュータ等をはじめとして、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた電子機器等に幅広く適用することができる。 According to the present invention, it is possible to provide an electro-optical device and an electronic apparatus in which a short circuit between a terminal or an electrode and a wiring is prevented and display defects due to cell gap unevenness are reduced. Therefore, for example, mobile phones and personal computers, liquid crystal televisions, viewfinder type / monitor direct-view type video tape recorders, car navigation devices, pagers, electronic notebooks, calculators, word processors, workstations, videophones, POS terminals It can be widely applied to electronic devices equipped with a touch panel.
1:突起部材(第1の突起部材)、1a:突起部材の上面、3:突起部材(第2の突起部材)、5:アライメントマーク、10:液晶装置(電気光学装置)、11・13:配線、14:端子、14a:第一の列の端子、14b:第二の列の端子、15:カバー部材、15a:カバー部材の上面、18:端子、19:外部接続用端子、20:液晶パネル、20a・20X・20Y:基板領域、21:液晶材料、23:シール材、26:半導体実装領域、30:カラーフィルタ基板、30A:大判基板、31:ガラス基板、33:面状電極(対向電極)、37:着色層、41:樹脂層、45:配向膜、60:素子基板(電気光学装置用基板)、60A:大判基板、60T:基板張出部、61:ガラス基板、63:画素電極、65:ゲートバス配線、66:ソースバス配線、67:接続配線、69:TFT素子、75:配向膜、91:半導体素子、93:フレキシブル回路基板、97:フォトスペーサ、98:半導体素子実装部、99:フレキシブル回路基板接続部、110:液晶装置、111・113:配線、114:端子、114a:第一の列の端子、114b:第二の列の端子、115:カバー部材、130:カラーフィルタ基板、131・133:配線、134:端子、134a:第一の列の端子、134b:第二の列の端子、135:カバー部材、160:素子基板、160T:基板張出部、171・173:配線、174:端子、174a:第一の列の端子、174b:第二の列の端子、175:カバー部材、181:突起部材、191:半導体素子、193:フレキシブル回路基板 1: protrusion member (first protrusion member), 1a: upper surface of the protrusion member, 3: protrusion member (second protrusion member), 5: alignment mark, 10: liquid crystal device (electro-optical device), 11 and 13: Wiring, 14: Terminal, 14a: Terminal in the first row, 14b: Terminal in the second row, 15: Cover member, 15a: Upper surface of the cover member, 18: Terminal, 19: Terminal for external connection, 20: Liquid crystal Panel, 20a, 20X, 20Y: substrate region, 21: liquid crystal material, 23: sealing material, 26: semiconductor mounting region, 30: color filter substrate, 30A: large substrate, 31: glass substrate, 33: planar electrode (opposite Electrode), 37: colored layer, 41: resin layer, 45: alignment film, 60: element substrate (substrate for electro-optical device), 60A: large substrate, 60T: substrate overhanging part, 61: glass substrate, 63: pixel Electrode, 65: Gate bus wiring 66: Source bus wiring, 67: Connection wiring, 69: TFT element, 75: Alignment film, 91: Semiconductor element, 93: Flexible circuit board, 97: Photo spacer, 98: Semiconductor element mounting part, 99: Flexible circuit board connection 110, liquid crystal device, 111, 113: wiring, 114: terminal, 114a: first row terminal, 114b: second row terminal, 115: cover member, 130: color filter substrate, 131, 133: Wiring, 134: Terminal, 134a: First row of terminals, 134b: Second row of terminals, 135: Cover member, 160: Element substrate, 160T: Substrate overhanging portion, 171, 173: Wiring, 174: Terminal 174a: first row terminal, 174b: second row terminal, 175: cover member, 181: protrusion member, 191: semiconductor element, 193: flexible Road board
Claims (9)
前記表示領域内の前記一対の基板間にセルギャップを規定するためのスペーサ部材を備え、前記一対の基板のうちの一方の基板が他方の基板と重ならない領域に電子部品実装部を有し、
前記電子部品実装部には、複数の端子と、前記複数の端子の間に配置された前記表示領域から延びる複数の配線と、前記複数の端子の間に配置された配線を被覆する複数の絶縁性のカバー部材と、を備えるとともに、
前記重ならない領域における少なくとも前記カバー部材及び前記端子と重ならない位置に突起部材を備えることを特徴とする電気光学装置。 In an electro-optical device comprising a pair of substrates for sandwiching an electro-optical material and having a display area,
A spacer member for defining a cell gap between the pair of substrates in the display region; and an electronic component mounting portion in a region where one of the pair of substrates does not overlap the other substrate,
The electronic component mounting portion includes a plurality of terminals, a plurality of wirings extending from the display area disposed between the plurality of terminals, and a plurality of insulations covering the wirings disposed between the plurality of terminals. And a cover member of
An electro-optical device comprising: a protrusion member at a position that does not overlap at least the cover member and the terminal in the non-overlapping region.
前記表示領域内の前記一対の基板間にセルギャップを規定するためのスペーサ部材を備え、前記一対の基板のうちの一方の基板が他方の基板と重ならない領域にフレキシブル回路基板接続部を有し、
前記フレキシブル回路基板接続部には、複数の端子と、前記複数の端子の間に配置された前記表示領域から延びる複数の配線と、前記複数の端子の間に配置された配線を被覆する複数の絶縁性のカバー部材と、を備えるとともに、
前記重ならない領域における少なくとも前記カバー部材及び前記端子と重ならない位置に突起部材を備えることを特徴とする電気光学装置。 In an electro-optical device comprising a pair of substrates for sandwiching an electro-optical material and having a display area,
A spacer member for defining a cell gap between the pair of substrates in the display region is provided, and a flexible circuit board connecting portion is provided in a region where one of the pair of substrates does not overlap the other substrate. ,
The flexible circuit board connecting portion includes a plurality of terminals, a plurality of wirings extending from the display area disposed between the plurality of terminals, and a plurality of wirings covering the wirings disposed between the plurality of terminals. An insulating cover member, and
An electro-optical device comprising: a protrusion member at a position that does not overlap at least the cover member and the terminal in the non-overlapping region.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007120550A JP2008275967A (en) | 2007-05-01 | 2007-05-01 | Electro-optical device and electronic equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007120550A JP2008275967A (en) | 2007-05-01 | 2007-05-01 | Electro-optical device and electronic equipment |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008275967A true JP2008275967A (en) | 2008-11-13 |
Family
ID=40053988
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007120550A Withdrawn JP2008275967A (en) | 2007-05-01 | 2007-05-01 | Electro-optical device and electronic equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2008275967A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2022269863A1 (en) * | 2021-06-24 | 2022-12-29 | シャープディスプレイテクノロジー株式会社 | Display device |
-
2007
- 2007-05-01 JP JP2007120550A patent/JP2008275967A/en not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2022269863A1 (en) * | 2021-06-24 | 2022-12-29 | シャープディスプレイテクノロジー株式会社 | Display device |
| CN117280398A (en) * | 2021-06-24 | 2023-12-22 | 夏普显示科技株式会社 | display device |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4561729B2 (en) | Electro-optical device and electronic apparatus | |
| KR100577500B1 (en) | Electro-optical panel and electronic device | |
| JP3912325B2 (en) | Electro-optical device, electronic apparatus, and method of manufacturing electro-optical device | |
| JP3744511B2 (en) | Electro-optical device, electronic apparatus, and method of manufacturing electro-optical device | |
| CN101183193A (en) | Electro-optical device, manufacturing method thereof, lighting device and electronic device | |
| JP2008177456A (en) | Electro-optic device, substrate for electro-optic device, mounted structure, and electronic equipment | |
| JP4241265B2 (en) | Electro-optical device substrate, electro-optical device substrate manufacturing method, electro-optical device, electro-optical device manufacturing method, and electronic apparatus | |
| JP2006220711A (en) | Liquid crystal device, substrate for liquid crystal device and electronic device | |
| JP2008203484A (en) | Electro-optical device, flexible circuit board mounting structure, and electronic device | |
| JP2006091059A (en) | Electro-optical device, method of manufacturing electro-optical device, and electronic apparatus | |
| JP2006276108A (en) | Liquid crystal device and electronic equipment | |
| JP4158763B2 (en) | Liquid crystal display device, method for manufacturing liquid crystal display device, and electronic apparatus | |
| JP2007199181A (en) | Electro-optical apparatus, electronic equipment, and method for manufacturing the electro-optical apparatus | |
| JP2008275967A (en) | Electro-optical device and electronic equipment | |
| JP4052293B2 (en) | Liquid crystal device and electronic device | |
| JP4305051B2 (en) | Electro-optical device, electronic apparatus, and method of manufacturing electro-optical device | |
| JP2004341214A (en) | Electro-optical device, electronic apparatus, and method of manufacturing electro-optical device | |
| JP2008172117A (en) | Electro-optical device, electro-optical device substrate, semiconductor element, and electronic apparatus | |
| JP2007256586A (en) | Display device and electronic apparatus | |
| JP2006267782A (en) | Electrooptical apparatus and electronic equipment | |
| JP2007086410A (en) | Liquid crystal display device and electronic equipment | |
| JP2006091504A (en) | Electro-optical device and electronic apparatus | |
| JP4466044B2 (en) | Electro-optical device substrate, electro-optical device, electronic equipment | |
| JP4645327B2 (en) | Liquid crystal display device and electronic device | |
| JP4433738B2 (en) | Electro-optical device substrate, electro-optical device, and electronic apparatus |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20100706 |