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JP2008270292A - Power module and heat dissipation fin - Google Patents

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JP2008270292A
JP2008270292A JP2007107565A JP2007107565A JP2008270292A JP 2008270292 A JP2008270292 A JP 2008270292A JP 2007107565 A JP2007107565 A JP 2007107565A JP 2007107565 A JP2007107565 A JP 2007107565A JP 2008270292 A JP2008270292 A JP 2008270292A
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JP
Japan
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insulating layer
plate portion
wiring board
power module
sic
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Application number
JP2007107565A
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Japanese (ja)
Inventor
Mutsumi Ito
睦 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Publication date
Application filed by Sumitomo Electric Industries Ltd filed Critical Sumitomo Electric Industries Ltd
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    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
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Abstract

【課題】 半導体スイッチング素子の実装部から放熱フィンに至る間の構造を簡単化して、配線基板における金属とセラミックスとの界面でのはがれの問題がなく、放熱を強化することができる半導体装置、パワーモジュールおよび放熱フィンを提供する。
【解決手段】 基部平板部5bと、基部平板部5bの下面から下方に突き出す複数のフィン5fを有するSi−SiC製放熱部5と、基部平板部5bの上面に形成された絶縁層5sと、絶縁層5sに固定された配線板2と、配線板2にはんだ接合9により接続された半導体スイッチング素子3とを備えることを特徴とする。
【選択図】 図3
PROBLEM TO BE SOLVED: To simplify a structure between a mounting portion of a semiconductor switching element and a radiating fin, there is no problem of peeling at an interface between a metal and a ceramic in a wiring board, and a semiconductor device and power capable of enhancing heat radiation Provide modules and heat dissipation fins.
SOLUTION: A base flat plate portion 5b, a Si-SiC heat radiation portion 5 having a plurality of fins 5f protruding downward from the lower surface of the base flat plate portion 5b, an insulating layer 5s formed on the upper surface of the base flat plate portion 5b, The wiring board 2 is fixed to the insulating layer 5 s, and the semiconductor switching element 3 is connected to the wiring board 2 by a solder joint 9.
[Selection] Figure 3

Description

本発明は、自動車用モータに用いられるパワーモジュールおよび放熱フィンに関するものである。   The present invention relates to a power module and a heat radiating fin used for an automobile motor.

モータは、電気エネルギーを機械エネルギーに変換する機能を有し、化石燃料から機械エネルギーを取り出すエンジンとともに、各種の交通手段に用いられている。交通手段のうち、自動車にはエンジン車が圧倒的に多く用いられてきたが、化石燃料の高騰や、地球温暖化防止のためのCO2排出量の抑制運動の高まりなどを背景に、電気自動車やハイブリッド自動車の使用台数が増大し、とくにハイブリッド自動車はその単位燃料当りの走行距離が高いために飛躍的にその台数を増やしている。 The motor has a function of converting electrical energy into mechanical energy, and is used in various transportation means together with an engine that extracts mechanical energy from fossil fuel. Of the means of transportation, engine vehicles have been overwhelmingly used for automobiles. However, electric vehicles have been used against the backdrop of soaring fossil fuels and increasing efforts to curb CO 2 emissions to prevent global warming. The number of hybrid vehicles used has increased, and in particular, the number of hybrid vehicles has increased dramatically due to the high mileage per unit fuel.

交通手段に用いられるモータに限らず、モータに供給される電力は、各種電力変換装置によって電力の形態を変換される場合が多い。このとき、モータには大きな電力が供給されるので、電力変換装置も大きな電力を扱うことになり、電力変換装置自体の電力損失を減らし、効率のよい電力変換を行うことが求められる。電力変換装置には、オンオフを繰り返すスイッチとして動作する半導体デバイス、すなわちスイッチング素子が用いられるが、実際はオン抵抗が存在し、スイッチング時にタイムラグが生じるため、スイッチング素子では、電力の消費はゼロではなく、ロスとして熱が発生する。   Not only motors used for transportation, but the power supplied to the motors is often converted into power by various power converters. At this time, since a large amount of power is supplied to the motor, the power conversion device also handles a large amount of power, and it is required to reduce power loss of the power conversion device itself and perform efficient power conversion. In the power conversion device, a semiconductor device that operates as a switch that repeatedly turns on and off, that is, a switching element is used.However, since there is actually an on-resistance and a time lag occurs during switching, power consumption is not zero in the switching element. Heat is generated as a loss.

半導体素子の温度上昇は、自動車モータ用の電力変換装置に限らず、古くから問題とされ、多くの取り組みがなされてきた。たとえば、半導体装置の放熱に用いられる並列状の放熱フィンの放熱性を向上させるために、空気流が直線状に放熱フィン間隙を通過しないように、乱流発生用の邪魔板を取り付けた構造、または千鳥配列の円柱状フィンの構造が開示されている(特許文献1)。この構成によれば、斜めに取り付けた邪魔板または千鳥配列の円柱状フィンにより乱流が発生して放熱効果を高めることができる。また、金属製の放熱フィンに接触する液体冷媒による放熱効果を高めるために、放熱フィンとの間に間隙を設けて多孔質のカバー(液体冷媒は通さないがその蒸気は通す)で覆う方法が開示されている(特許文献2)。この方法によれば、所定の温度以上に加熱されると間隙に注入された液体冷媒が一斉に蒸発して気化熱を奪うため、半導体スイッチング素子が所定温度以上になることが防止される。   The temperature rise of semiconductor elements is not limited to power converters for automobile motors, and has long been a problem, and many efforts have been made. For example, a structure in which a baffle plate for generating turbulent flow is attached so that the airflow does not pass straight through the gap between the fins in order to improve the heat dissipation of the parallel fins used for heat dissipation of the semiconductor device, Or the structure of the cylindrical fin of a staggered arrangement is disclosed (patent document 1). According to this structure, a turbulent flow is generated by the baffle plate or the staggered columnar fins attached obliquely, and the heat dissipation effect can be enhanced. Also, in order to enhance the heat dissipation effect of the liquid refrigerant in contact with the metal radiating fins, there is a method of providing a gap between the radiating fins and covering with a porous cover (which does not allow liquid refrigerant to pass but allows its vapor to pass). It is disclosed (Patent Document 2). According to this method, when heated to a predetermined temperature or higher, the liquid refrigerant injected into the gap evaporates all at once and takes the heat of vaporization, thereby preventing the semiconductor switching element from reaching a predetermined temperature or higher.

また、放熱フィンの放熱性の問題以外に、放熱フィンの製造コストの低減の取り組みがなされてきた。すなわち、半導体素子を実装する配線基板を搭載する金属基板と放熱フィンとを一体化した一体成形加工品は、工作費用がかさむため、金属基板と放熱フィンとを別部材として、金属基板に放熱フィンをロー材により取り付ける方法が提案された(特許文献3)。この方法では、上記ロー材による放熱フィン取り付けの加熱による、半導体素子と配線基板とを接続するはんだ接合の品質劣化(ボイド発生など)が問題とされる。すなわち、発熱源である半導体素子から放熱フィンにいたる{半導体素子(ロー材層1)回路パターン付絶縁基板(ロー材層2)金属ベース(ロー材層3)放熱フィン}の多層構造において、ロー材層3の融点を他のロー材層1およびロー材層2の融点よりも低くすることにより、最終の放熱フィン取り付けによって生じるはんだ層(ロー材)の再溶融による品質劣化を防止しながら、放熱フィン付きパワーモジュールの製造コストを低減することができる。そして、現在では、ロー材層3は、加熱を必要としない熱伝導グリスに置き換えられる段階に至っている。
特開2001−345585号公報 特開平9−45829号公報 特開2004−273479号公報
In addition to the heat dissipation problem of the heat dissipation fins, efforts have been made to reduce the manufacturing cost of the heat dissipation fins. In other words, an integrally molded product in which a metal substrate on which a wiring board for mounting a semiconductor element is mounted and a heat radiation fin are integrated is expensive to work. Therefore, the metal substrate and the heat radiation fin are used as separate members, and the heat radiation fin is attached to the metal substrate. There has been proposed a method of attaching the material with brazing material (Patent Document 3). In this method, there is a problem of quality deterioration (such as generation of voids) of the solder joint connecting the semiconductor element and the wiring board due to heating of the heat dissipating fin attached by the brazing material. That is, in a multilayer structure of {semiconductor element (brazing material layer 1) insulating substrate with circuit pattern (brazing material layer 2) metal base (brazing material layer 3) radiating fin} from the semiconductor element which is a heat source to the radiation fin, By making the melting point of the material layer 3 lower than the melting points of the other brazing material layer 1 and the brazing material layer 2, while preventing quality deterioration due to remelting of the solder layer (brazing material) caused by the final heat radiation fin attachment, The manufacturing cost of the power module with the radiation fins can be reduced. And now, the brazing material layer 3 has reached a stage where it is replaced with heat conductive grease that does not require heating.
JP 2001-345585 A JP 9-45829 A JP 2004-273479 A

上記したように諸々の改良がなされてきたが、現状のパワーモジュールの配線基板(絶縁基板を含む)の耐熱温度は低く、また、半導体素子から放熱部までに多数の層が介在するため、放熱性は満足できるものではなく、さらに熱伝導グリス自体の熱伝導率がよくないという問題がある。とくに、次世代技術において現在よりも大電流化した場合、半導体素子の実装構造と放熱構造とを絶縁している、上記配線基板に含まれる絶縁基板において、セラミックスと金属との接合部位ではがれが生じやすいという問題がある。より詳細に説明すると、配線基板は、絶縁基板の表面および裏面に、DBA(Direct Bonding Aluminum)またはDBC( Direct Bonding Copper )などにより、直接、配線を接続している。これらDBAおよびDBCは、複雑な構造を有し、高温でセラミックスと金属との剥離が生じるため耐熱温度は150℃程度に制限されている。   Although various improvements have been made as described above, the heat resistance temperature of the current power module wiring board (including the insulating board) is low, and a large number of layers are interposed from the semiconductor element to the heat radiating part. However, there is a problem that the thermal conductivity of the thermal conductive grease itself is not good. In particular, in the next generation technology, when the current is higher than the current level, the insulating substrate included in the wiring board, which insulates the mounting structure of the semiconductor element from the heat dissipation structure, peels off at the joint between the ceramic and the metal. There is a problem that it is likely to occur. More specifically, in the wiring substrate, wiring is directly connected to the front and back surfaces of the insulating substrate by DBA (Direct Bonding Aluminum) or DBC (Direct Bonding Copper). These DBAs and DBCs have a complicated structure, and the heat-resistant temperature is limited to about 150 ° C. because peeling between ceramics and metal occurs at high temperatures.

本発明は、放熱性を確保しながら、放熱部の構造の簡単化を可能にするパワーモジュールおよび放熱フィンを提供することを目的とする。   An object of this invention is to provide the power module and the radiation fin which enable simplification of the structure of a thermal radiation part, ensuring heat dissipation.

本発明のパワーモジュールは、直流電力と交流電力との電力変換のために用いられるパワーモジュールである。このパワーモジュールは、基部平板部とその基部平板部の下面から下方に突き出す複数のフィンとを有するSi−SiC製放熱部と、基部平板部の上面に形成された絶縁層と、絶縁層に固定された配線板と、配線板にはんだ接合により接続された半導体スイッチング素子とを備えることを特徴とする。   The power module of the present invention is a power module used for power conversion between DC power and AC power. This power module includes a base plate portion and a plurality of fins projecting downward from the bottom surface of the base plate portion, a heat sink made of Si-SiC, an insulating layer formed on the top surface of the base plate portion, and fixed to the insulating layer. And a semiconductor switching element connected to the wiring board by solder bonding.

上記の構成によれば、配線基板を用いず、金属板を主部材とする配線板を用いるため配線基板の主要部を占めていた絶縁基板を用いることがない。また放熱性金属板(ヒートシンク)も、半導体素子から放熱フィンに至る直線的な放熱経路からは除外している。このため配線基板において、大電力化に伴って生じるセラミックスと金属とのはがれが防止され、多層構造の簡単化による熱伝導性の向上を得ることができる。またSi−SiCの熱膨張率はおよそ3×10−6/Kであるため、放熱フィンは、半導体素子とほぼ同等の熱膨張率となり、半導体装置の反りが少なくなり、信頼性の高い半導体装置を提供することができる。また、部品点数の減少により、部品管理コスト、処理工程の省略をはかることができ、Si−SiC製放熱フィン以外の部分で、大きな製造コスト低減を実現することができる。 According to said structure, since the wiring board which uses a metal plate as a main member without using a wiring board is used, the insulating substrate which occupied the principal part of the wiring board is not used. Further, the heat radiating metal plate (heat sink) is also excluded from the linear heat radiation path from the semiconductor element to the heat radiation fin. For this reason, in the wiring board, peeling of ceramics and metal caused by the increase in power is prevented, and an improvement in thermal conductivity can be obtained by simplifying the multilayer structure. In addition, since the thermal expansion coefficient of Si—SiC is approximately 3 × 10 −6 / K, the heat radiation fin has a thermal expansion coefficient substantially equal to that of the semiconductor element, and the warpage of the semiconductor device is reduced, thereby providing a highly reliable semiconductor device. Can be provided. In addition, by reducing the number of parts, parts management costs and processing steps can be omitted, and a significant reduction in manufacturing cost can be realized in parts other than the Si-SiC radiating fins.

なお、上記の放熱フィンは、主として液体の冷却媒体と接触して放熱するが、気体の冷却媒体であってもよい。Si−SiCは高い熱伝導率を有することで知られており、Si含浸の後でも多孔質に起因する実質的に大きい表面積を有しており、アルミニウムなど金属製の放熱フィンに比べて遜色ない放熱効果を得ることができる。また、基部平板部上面の絶縁層は、広くは、CVD(Chemical Vapor Deposition)やスパッタリング法で形成したSiOやその他の絶縁膜であってもよいし、基部平板部上面のSi−SiCを酸化して放熱フィンと一体物の酸化膜絶縁層(SiO)としてもよい。 The heat radiation fins mainly dissipate heat in contact with a liquid cooling medium, but may be a gaseous cooling medium. Si-SiC is known to have a high thermal conductivity, and has a substantially large surface area due to the porosity even after Si impregnation, which is inferior to metal radiating fins such as aluminum. A heat dissipation effect can be obtained. In addition, the insulating layer on the upper surface of the base plate portion may be SiO 2 or other insulating films formed by CVD (Chemical Vapor Deposition) or sputtering, or may be obtained by oxidizing Si-SiC on the upper surface of the base plate portion. Thus, an oxide film insulating layer (SiO 2 ) that is integral with the heat dissipating fins may be used.

また、上記の絶縁層を、Si−SiC製の基部平板部の上面層を酸化して形成した酸化膜絶縁層とした場合、放熱フィンと絶縁膜とを一体物とでき、さらに熱伝導経路の単純化が可能になり、半導体装置の小型化が促進される。Si−SiCを熱酸化した場合、強固緻密で厚いシリコン酸化膜(SiO)を得ることができ、剥離などのおそれのない信頼性の高い絶縁膜を得ることができる。 Further, when the above insulating layer is an oxide film insulating layer formed by oxidizing the upper surface layer of the base plate portion made of Si-SiC, the heat radiation fin and the insulating film can be integrated, and further the heat conduction path Simplification is possible, and miniaturization of the semiconductor device is promoted. When Si—SiC is thermally oxidized, a strong and dense silicon oxide film (SiO 2 ) can be obtained, and a highly reliable insulating film without fear of peeling can be obtained.

また、上記の絶縁層が配線板に対応する領域に形成され、その外側の基部平板部の上面の領域には形成されない構成にしてもよい。この構成により、放熱フィンの基部平板部上面の絶縁層が形成されていない領域も放熱に寄与することができ、放熱性を高めることができる。また、絶縁層が配置されていない縁の部分を、放熱フィンを冷却媒体路中に接着剤で固定する糊代部分として用いることができる。   The insulating layer may be formed in a region corresponding to the wiring board and not formed in a region on the upper surface of the base flat plate portion outside the insulating layer. By this structure, the area | region in which the insulating layer of the base plate part upper surface of a radiation fin is not formed can also contribute to heat radiation, and can improve heat dissipation. Further, the edge portion where the insulating layer is not disposed can be used as a margin portion for fixing the heat radiation fin in the cooling medium path with an adhesive.

上記の配線板は、Si−SiC製放熱フィンの基部平板部上面の絶縁層に接着層により固定されるようにしてもよい。これにより、半導体素子の実装構造部分と、放熱フィンとを非常に簡単に一体化することができ、製造コストの低減を得ることが可能となる。   The wiring board may be fixed to the insulating layer on the upper surface of the base plate portion of the Si—SiC radiating fin by an adhesive layer. Thereby, the mounting structure portion of the semiconductor element and the heat radiation fin can be integrated very easily, and the manufacturing cost can be reduced.

また、上記の配線板は、Si−SiC製放熱フィンの基部平板部上面の絶縁層に形成された金属層にはんだ接合により固定されてもよい。これにより、熱伝導性をより高め、また多層構造の層間の機械的強度を容易に高めることができる。   The wiring board may be fixed to a metal layer formed on the insulating layer on the upper surface of the base plate portion of the Si-SiC radiating fin by solder bonding. As a result, the thermal conductivity can be further increased, and the mechanical strength between the layers of the multilayer structure can be easily increased.

本発明のパワーモジュールは、自動車に搭載されるパワーモジュールであって、上記の半導体スイッチング素子は、回転機器とバッテリとの間に授受される直流電力と交流電力との電力変換のために用いられる半導体スイッチング素子である。近年のハイブリッドカーなどのパワーモジュールにおける大電流化、小型化に伴って起きる諸問題、(1)配線基板におけるセラミックスと金属との接合部位のはがれ(絶縁基板を含む配線基板における低い耐熱温度)、(2)パワーモジュールの反りを、上記のSi−SiC製放熱フィンは解決可能とする。このため、上記のSi−SiC製放熱フィンは、大電流化、小型化の必要性が非常に高い自動車用のパワーモジュールにおいて、とくに有用な効果を発現することができる。   The power module of the present invention is a power module mounted on an automobile, and the semiconductor switching element is used for power conversion between direct-current power and alternating-current power exchanged between a rotating device and a battery. It is a semiconductor switching element. Problems caused by the increase in current and miniaturization in power modules such as hybrid cars in recent years, (1) Peeling of the bonding portion between ceramics and metal in the wiring board (low heat resistance temperature in the wiring board including the insulating board), (2) The Si-SiC radiation fin can solve the warpage of the power module. For this reason, the Si—SiC radiating fin described above can exhibit a particularly useful effect in a power module for automobiles that is highly required to have a large current and a small size.

上記の冷却媒体路の天井を形成する配置板を備え、該配置板は複数の開口部を有し、その開口部に沿って前記放熱フィンの基部平板部の縁が密に接着されて固定され、前記絶縁層、配線板および半導体スイッチング素子は、その開口部から前記冷却媒体路の外側に位置する構成とすることができる。これにより、パワーモジュールにおける冷却を確実に強化することができる。   The above-described arrangement plate has a plurality of openings, and the edges of the base plate portions of the heat dissipating fins are closely bonded and fixed along the openings. The insulating layer, the wiring board, and the semiconductor switching element can be configured to be located outside the cooling medium path from the opening. Thereby, the cooling in a power module can be strengthened reliably.

本発明の放熱フィンは、一体物のSi−SiCから形成された放熱フィンであって、基部平板部と、基部平板部の下面から下方に突き出す複数のフィンとを備えることを特徴とする。   The radiating fin of the present invention is a radiating fin formed of an integral Si-SiC, and includes a base flat plate portion and a plurality of fins protruding downward from the lower surface of the base flat plate portion.

上記Si−SiC製の放熱フィンを用いることにより、放熱部を簡単化でき、かつ放熱性を確保するようにできる。   By using the Si—SiC radiating fin, the heat radiating portion can be simplified and the heat radiating property can be secured.

また上記の基部平坦部に、基部平坦部の上面層が酸化されて形成された酸化膜絶縁層を備えるのがよい。これにより、基部平坦部の上面に、強固で緻密なシリコン酸化膜を有するため、絶縁基板を含む配線基板や放熱板(ヒートシンク)を用いる必要がなくなり、半導体素子から放熱フィンに至る熱伝導経路の構成を単純化することができる。   Moreover, it is preferable that the base flat portion includes an oxide film insulating layer formed by oxidizing the upper surface layer of the base flat portion. As a result, since a strong and dense silicon oxide film is provided on the upper surface of the base flat portion, there is no need to use a wiring substrate including an insulating substrate or a heat sink (heat sink), and a heat conduction path extending from the semiconductor element to the heat radiating fin is eliminated. The configuration can be simplified.

また、酸化膜絶縁層は、基部平板部の上面、または裏面の縁を除いた内側領域に形成されるようにできる。これにより、酸化膜の形成されていない上面の領域からの放熱作用を得ることができ、放熱性を高めることができる。   Further, the oxide film insulating layer can be formed in the inner region excluding the upper surface of the base flat plate portion or the edge of the back surface. Thereby, the heat radiation effect from the region of the upper surface where the oxide film is not formed can be obtained, and the heat radiation performance can be enhanced.

本発明の放熱フィンの製造方法は、基部平板部および該基部平板部の下面から下方に突き出す複数のフィンを有する放熱フィンを、SiCを含む焼結体で形成する工程と、SiC含有焼結体にSiを含浸させてSi−SiC製放熱フィンを形成する工程と、Si−SiC製放熱フィンの基部平板部の上面に酸化膜絶縁層を形成する工程とを備えることを特徴とする。   The manufacturing method of the radiation fin of the present invention includes a step of forming a radiation fin having a base flat plate portion and a plurality of fins protruding downward from the lower surface of the base flat plate portion with a sintered body containing SiC, and a SiC-containing sintered body. And a step of forming Si—SiC radiation fins by impregnating with Si, and a step of forming an oxide film insulating layer on the upper surface of the base plate portion of the Si—SiC radiation fins.

Si含浸させて反応焼結により作製されるSi−SiC放熱フィンは、一般のSiCのように焼結助剤として他の金属化合物等を添加することなく製造できるため、高純度で緻密な焼結体を得ることができる。また製造時に寸法変化が小さいので、大型品の製造にも適している。このため、金属層とのはがれを生じにくい緻密で強固な酸化膜絶縁層を備え、高い熱伝導率を有した放熱フィンを高い寸法精度で製造することができる。   Si-SiC heat dissipation fins made by reactive sintering with Si impregnation can be manufactured without adding other metal compounds as sintering aids like ordinary SiC, so high purity and dense sintering You can get a body. Moreover, since the dimensional change is small at the time of manufacture, it is also suitable for manufacturing large products. For this reason, it is possible to manufacture a radiating fin having a dense and strong oxide film insulating layer that is unlikely to peel off from the metal layer and having high thermal conductivity with high dimensional accuracy.

本発明のパワーモジュールおよび放熱フィンによれば、放熱性を確保しながら放熱部の構造の簡単化を可能にすることができる。   According to the power module and the heat radiation fin of the present invention, it is possible to simplify the structure of the heat radiation portion while ensuring heat radiation.

図1は、本発明の実施の形態におけるパワーモジュール10を説明するための図である。このパワーモジュール10は、ハイブリッド自動車のモータ配電用の端子である、U相端子、V相端子およびW相端子を有し、また発電機用の端子である、+端子および−端子を有する。スイッチング素子としては、モータ用のスイッチング素子の3,31と、発電機用のスイッチング素子33とが配置される。モータ用スイッチング素子はIGBT( Insulated Gate Bipolar Transistor )3と、フリーホイールダイオード( Free Wheel Diode : FWD )31とがある。本説明では、トランジスタおよびダイオードはいずれも半導体スイッチング素子と呼ぶこととする。これら半導体スイッチング素子3,31,33は、図示を省略した実装構造等に実装され、その実装構造を配置するように配置板(放熱板)61が設けられる。上記の半導体スイッチング素子3,31,33および実装構造等は、筐体65に収納される。上記筐体65内には、スイッチング素子の上に絶縁板を介在させて、上記スイッチング素子のゲート信号を制御する半導体素子等が実装された、図示しない制御信号用実装基板が配置される。上記配置板(放熱板)61の下にその配置板61に接するように、冷却媒体が流れる冷却媒体路67が設けられる。冷却媒体には、不凍液であるエチレングリコール水溶液などを用いることができる。   FIG. 1 is a diagram for explaining a power module 10 according to an embodiment of the present invention. This power module 10 has a U-phase terminal, a V-phase terminal, and a W-phase terminal that are terminals for motor distribution of a hybrid vehicle, and has a + terminal and a − terminal that are terminals for a generator. As the switching elements, motor switching elements 3 and 31 and a generator switching element 33 are arranged. The motor switching element includes an IGBT (Insulated Gate Bipolar Transistor) 3 and a free wheel diode (FWD) 31. In this description, both transistors and diodes are called semiconductor switching elements. These semiconductor switching elements 3, 31 and 33 are mounted on a mounting structure or the like (not shown), and an arrangement plate (heat radiating plate) 61 is provided so as to arrange the mounting structure. The semiconductor switching elements 3, 31, 33 and the mounting structure are housed in a housing 65. In the housing 65, a control signal mounting board (not shown) is mounted, on which a semiconductor element or the like for controlling the gate signal of the switching element is mounted with an insulating plate interposed on the switching element. A cooling medium path 67 through which a cooling medium flows is provided below the arrangement plate (heat radiating plate) 61 so as to be in contact with the arrangement plate 61. An ethylene glycol aqueous solution that is an antifreeze can be used as the cooling medium.

図1において、3相交流モータへの配電端子U相、V相またはW相端子が設けられ、これら配電端子から交流電力が配電される。スイッチング素子3,31は、給電端子のプラス側とマイナス側との間に、2つ直列に接続され、その間に配電端子U,V,Wが接続される。図2は、図1におけるAの領域を拡大した図である。領域Aに、高電位側のIGBT3、FWD31、または低電位側のIGBT3、FWD31が配置される。モータ用のU相配電領域には、領域Aに相当する領域が全部で4つ配置されているが、上記のように電圧(高電位側および低電位側)による区分けが2種、そして大電流を流すため上記と同じものが並列に接続されることにより2種、計4つの領域が形成されることになる。並列に設けられる経路は2つに限られず、より大電流の場合は3つが並列に配置される。また、スイッチング素子において小型化、大電流化が実現したときは、スイッチング素子の容量に限定すれば、1つの経路だけでよい場合もある。   In FIG. 1, a distribution terminal U-phase, V-phase or W-phase terminal for a three-phase AC motor is provided, and AC power is distributed from these distribution terminals. Two switching elements 3 and 31 are connected in series between the positive side and the negative side of the power supply terminal, and distribution terminals U, V, and W are connected therebetween. FIG. 2 is an enlarged view of a region A in FIG. In the region A, the high-potential-side IGBT 3 and FWD 31 or the low-potential-side IGBT 3 and FWD 31 are arranged. In the U phase distribution area for motors, there are a total of four areas corresponding to area A. As described above, there are two types of voltage division (high potential side and low potential side), and a large current. Since the same thing as the above is connected in parallel, a total of four regions are formed. The number of paths provided in parallel is not limited to two, and three paths are arranged in parallel when the current is larger. Further, when the switching element is reduced in size and increased in current, if only the capacity of the switching element is limited, only one path may be required.

図2において、冷却媒体路の天井を形成する配置板(放熱板)61は開口部61hを設けられ、その開口部61hの縁の上面もしくは裏面(下面)に、Si−SiC製放熱フィン5の基部平板部5bの上面の縁が、接着剤などにより接着され固定される。Si−SiC製放熱フィン5の上面に、Si−SiCが熱酸化されて形成された酸化膜絶縁層(SiO)5sが位置し、その上に金属板またはほとんど金属板からなる配線板2が固定されている。配線板2の上には、はんだ層(図示せず)により半導体スイッチング素子3,31が実装され、図示しないワイヤ等によりその表面電極3a,31aは、図示していない周囲のバスバーと電気的に接続される。半導体スイッチング素子3,31の裏面電極(図示せず)に、はんだ層を介して導通する配線板2も、ワイヤ等によりバスバー(給配電導体)に接続される。 In FIG. 2, the arrangement plate (heat radiating plate) 61 forming the ceiling of the cooling medium passage is provided with an opening 61h, and the Si-SiC radiating fin 5 is formed on the upper surface or the back surface (lower surface) of the edge of the opening 61h. The edge of the upper surface of the base flat plate portion 5b is bonded and fixed with an adhesive or the like. An oxide film insulating layer (SiO 2 ) 5s formed by thermal oxidation of Si—SiC is located on the upper surface of the Si—SiC radiating fin 5, and a wiring board 2 made of a metal plate or almost a metal plate is formed thereon. It is fixed. The semiconductor switching elements 3 and 31 are mounted on the wiring board 2 by solder layers (not shown), and the surface electrodes 3a and 31a are electrically connected to surrounding bus bars not shown by wires or the like (not shown). Connected. The wiring board 2 that is electrically connected to the back electrodes (not shown) of the semiconductor switching elements 3 and 31 via the solder layer is also connected to the bus bar (power supply / distribution conductor) by wires or the like.

図3は、本発明の実施の形態のパワーモジュールにおける半導体スイッチング素子の放熱経路を示す断面図である。また、図4は、図3の構造の変形例であるが、配置板61の開口部に上方からフィンを取り付ける構成をとる。以下では、図3の構成について説明するが、とくに断らない限り、図4の構成にも当て嵌まる。図3において、半導体スイッチング素子3は、配線板2に、はんだ層9によって接続され、その配線板2は、めっき等で金属表面を形成された酸化膜絶縁層5sに、はんだ層9により接合され固定状態とされている。酸化膜絶縁層5sは、Si−SiC製放熱フィン5の基部平板部5bの上面を熱酸化することにより形成したものであり、緻密で強固な絶縁層となっている。放熱フィン5はその上面もしくは裏面(下面)の縁が、冷却媒体路を形成する配置板(放熱板)61の開口部61hの縁裏面に、接着剤29により接着され、固定されている。   FIG. 3 is a cross-sectional view showing a heat dissipation path of the semiconductor switching element in the power module according to the embodiment of the present invention. FIG. 4 is a modification of the structure of FIG. 3 and has a configuration in which fins are attached to the opening of the arrangement plate 61 from above. Hereinafter, the configuration of FIG. 3 will be described, but the configuration of FIG. 4 is applicable unless otherwise specified. In FIG. 3, the semiconductor switching element 3 is connected to the wiring board 2 by the solder layer 9, and the wiring board 2 is joined to the oxide film insulating layer 5s having a metal surface formed by plating or the like by the solder layer 9. It is fixed. The oxide film insulating layer 5s is formed by thermally oxidizing the upper surface of the base flat plate portion 5b of the Si-SiC radiation fin 5, and is a dense and strong insulating layer. The edge of the upper surface or the back surface (lower surface) of the heat radiating fin 5 is bonded and fixed to the edge back surface of the opening 61 h of the arrangement plate (heat radiating plate) 61 forming the cooling medium path by an adhesive 29.

半導体スイッチング素子3から放熱フィン5に至る放熱経路を、従来のパワーモジュールと比較して以下に示す。
(本発明例(図3に例示の構造)):半導体スイッチング素子3/(1)はんだ層9/(2)配線板2/(3)はんだ層9/(4)酸化膜絶縁層5s/Si−SiC放熱フィン5
(従来例(比較のため)):半導体スイッチング素子/(1)はんだ層/配線基板((2)表面側配線層;(3)絶縁基板;(4)裏面金属面)/(5)はんだ層/(6)放熱板/(7)放熱グリス/金属製放熱フィン
A heat radiation path from the semiconductor switching element 3 to the heat radiation fin 5 is shown below in comparison with a conventional power module.
(Example of the present invention (structure illustrated in FIG. 3)): semiconductor switching element 3 / (1) solder layer 9 / (2) wiring board 2 / (3) solder layer 9 / (4) oxide film insulating layer 5s / Si -SiC heat radiation fin 5
(Conventional example (for comparison)): semiconductor switching element / (1) solder layer / wiring substrate ((2) front surface side wiring layer; (3) insulating substrate; (4) back metal surface) / (5) solder layer / (6) Radiation plate / (7) Radiation grease / Metal radiation fin

上記の比較結果によれば、従来の構造では、半導体スイッチング素子と放熱フィンとの間に7種類の層が介在していたのに比して、図3に例示する本発明例では、4種類の層へと単純化されている。このため、半導体スイッチング素子3からSi−SiC製放熱フィン5への熱伝達が促進され、半導体スイッチング素子3の温度上昇を効率よく抑制することができる。そのほかの利点をあげれば、つぎのようになる。   According to the above comparison result, in the conventional structure, seven types of layers are interposed between the semiconductor switching element and the heat radiating fin. In the example of the present invention illustrated in FIG. Simplified into layers. For this reason, heat transfer from the semiconductor switching element 3 to the Si—SiC radiation fin 5 is promoted, and the temperature rise of the semiconductor switching element 3 can be efficiently suppressed. Other advantages are as follows.

(1)配線基板を用いないため、配線基板の耐熱温度を考慮しなくてよい。配線基板は、上述のように、絶縁基板の表面および裏面に、DBA(Direct Bonding Aluminum)またはDBC( Direct Bonding Copper )などにより、直接、配線層を接続している。これらDBAおよびDBCは、高温でセラミックスと金属との剥離が生じるため耐熱温度が低く、温度150℃程度に制限される。本発明例では、DBAやDBCは用いず、上記した単純な構成をとるため、200℃以上でも使用可能である。このため、本発明における半導体装置は、耐熱温度が高いSiCやGaN半導体素子が、次世代において実用化された場合、有用な実装技術を提供することになる。すなわち、本発明の半導体装置は、半導体スイッチング素子の温度上昇を簡単な放熱経路により抑制すること、および200℃を超える耐熱温度の実装技術を提供することができる。
(2)配線基板(絶縁板を含む)および放熱グリスを使用しないため、部品点数を抑制して、部品管理コストおよび処理工程数の低減をはかることができ、Si−SiC製放熱フィン以外の部分で大きなコスト低減をはかることができる。
(3)パワーモジュールの小型化および軽量化を実現することができる。小型化は、上記の説明から明らかであるが、放熱経路の簡単化、配置板(放熱板)の開口部形成、金属製放熱フィンのSi−SiC放熱フィンへの置き換えにより、大幅な軽量化も達成できる。
(4)Si−SiCの熱膨張率はおよそ3×10−6/Kであるため、放熱フィンは、半導体素子とほぼ同等の熱膨張率となり、半導体装置の反りが少なくなり、信頼性の高い半導体装置を提供することができる。
(1) Since the wiring board is not used, it is not necessary to consider the heat-resistant temperature of the wiring board. As described above, the wiring board has the wiring layers directly connected to the front and back surfaces of the insulating substrate by DBA (Direct Bonding Aluminum) or DBC (Direct Bonding Copper). These DBAs and DBCs have low heat resistance because peeling between ceramics and metal occurs at high temperatures, and are limited to about 150 ° C. In the example of the present invention, DBA and DBC are not used, and the above-described simple configuration is adopted, so that it can be used at 200 ° C. or higher. For this reason, the semiconductor device in the present invention provides a useful mounting technique when a SiC or GaN semiconductor element having a high heat-resistant temperature is put into practical use in the next generation. In other words, the semiconductor device of the present invention can provide a mounting technique with a heat resistant temperature exceeding 200 ° C. by suppressing the temperature rise of the semiconductor switching element by a simple heat dissipation path.
(2) Since a wiring board (including an insulating plate) and heat radiation grease are not used, the number of parts can be suppressed, and the parts management cost and the number of processing steps can be reduced. Parts other than Si-SiC heat radiation fins Can greatly reduce the cost.
(3) The power module can be reduced in size and weight. Although the downsizing is clear from the above explanation, the weight can be significantly reduced by simplifying the heat dissipation path, forming the opening of the arrangement plate (heat dissipating plate), and replacing the metal heat dissipating fins with Si-SiC heat dissipating fins. Can be achieved.
(4) Since the thermal expansion coefficient of Si—SiC is about 3 × 10 −6 / K, the heat radiating fin has a thermal expansion coefficient almost equal to that of the semiconductor element, and the warpage of the semiconductor device is reduced and the reliability is high. A semiconductor device can be provided.

上記のような大きな効果を得ることができた原因は、(1)放熱フィンをSi−SiCで形成し、その上面を酸化して放熱フィンと一体の酸化膜絶縁層(SiO)としたこと、(2)上記の酸化膜絶縁層を活用して配線基板中の絶縁基板を廃止して、さらに(3)金属放熱板を放熱経路に介在しないようにしたこと、の3要件に帰することができる。上記(2)については、配線基板中の絶縁基板を、Si−SiC製放熱フィン上の酸化膜絶縁膜で置き換えたと言い換えることもできる。 The reason why the above great effect could be obtained is that (1) the radiation fin is made of Si-SiC and the upper surface is oxidized to form an oxide film insulating layer (SiO 2 ) integrated with the radiation fin. (2) Abolishing the insulating substrate in the wiring board by utilizing the above oxide film insulating layer, and (3) refraining from interposing a metal heat dissipation plate in the heat dissipation path. Can do. Regarding (2) above, it can also be said that the insulating substrate in the wiring substrate is replaced with an oxide film insulating film on the Si—SiC radiating fin.

上記のSi−SiC製放熱フィン5は、つぎのようにして製造することができる。まず、SiCを主成分として含有する混合粉を用いて放熱フィンの形状を有する多孔質前駆体を焼結により作製する。このとき、1400℃以上または1900℃以上に加熱する。次いで、この多孔質前駆体にSiを、1400℃以上で含浸させ、Si−SiC製放熱フィン5を形成する。次いで、放熱フィンの基部平板部上面の所定領域を熱酸化して酸化膜絶縁層(酸化シリコン)5sを形成する。上記のプロセスで製造したSi−SiC製放熱フィンは、一般のSiCが焼結助剤として含む金属化合物を含有しないため、高純度で緻密な焼結体となる。   Said Si-SiC radiation fin 5 can be manufactured as follows. First, the porous precursor which has the shape of a radiation fin is produced by sintering using the mixed powder which contains SiC as a main component. At this time, it heats to 1400 degreeC or more or 1900 degreeC or more. Next, this porous precursor is impregnated with Si at 1400 ° C. or higher to form Si-SiC heat radiation fins 5. Next, a predetermined region on the upper surface of the base plate portion of the heat radiating fin is thermally oxidized to form an oxide film insulating layer (silicon oxide) 5s. Since the heat dissipation fin made of Si—SiC manufactured by the above process does not contain a metal compound which general SiC contains as a sintering aid, it becomes a high-purity and dense sintered body.

図5は、本発明の他の実施の形態例を示す半導体装置またはパワーモジュールの放熱経路を示す断面図である。また、図6は、図5の構造の変形例であるが、配置板61の開口部に上方からフィンを取り付ける構成をとる。以下では、図5の構成について説明するが、とくに断らない限り、図6の構成にも当て嵌まる。このパワーモジュール10では、配線板2を酸化膜絶縁層5sに固定するのに、接着剤19を用いた点に特徴がある。図3または図4に示した構造では、酸化膜絶縁層5sにめっき等で金属表面層を形成し、はんだ層により配線板2を固定していたが、接着剤19を用いることによりめっき処理を不要とし、より容易に放熱フィンと実装構造とを連続させることが可能となる。   FIG. 5 is a cross-sectional view showing a heat dissipation path of a semiconductor device or power module showing another embodiment of the present invention. FIG. 6 is a modification of the structure of FIG. 5, and has a configuration in which fins are attached to the opening of the arrangement plate 61 from above. Hereinafter, the configuration of FIG. 5 will be described. However, the configuration of FIG. 6 is applicable unless otherwise specified. The power module 10 is characterized in that an adhesive 19 is used to fix the wiring board 2 to the oxide film insulating layer 5s. In the structure shown in FIG. 3 or 4, a metal surface layer is formed on the oxide film insulating layer 5 s by plating or the like, and the wiring board 2 is fixed by the solder layer. It becomes unnecessary, and it becomes possible to make a radiation fin and a mounting structure continue more easily.

上記において、本発明の実施の形態および実施例について説明を行ったが、上記に開示された本発明の実施の形態および実施例は、あくまで例示であって、本発明の範囲はこれら発明の実施の形態に限定されない。本発明の範囲は、特許請求の範囲の記載によって示され、さらに特許請求の範囲の記載と均等の意味および範囲内でのすべての変更を含むものである。   Although the embodiments and examples of the present invention have been described above, the embodiments and examples of the present invention disclosed above are merely examples, and the scope of the present invention is the implementation of these inventions. It is not limited to the form. The scope of the present invention is indicated by the description of the scope of claims, and further includes meanings equivalent to the description of the scope of claims and all modifications within the scope.

本発明のパワーモジュールおよび放熱フィンでは、Si−SiC製放熱部を用いるので、簡単な構造が可能となり、実装部品の耐熱温度の向上、また放熱性を向上させることによる温度上昇抑制を得ることができる。このため、次世代のパワーモジュールに有力な実装技術を提供することができる。   In the power module and the heat radiation fin of the present invention, since a heat radiation part made of Si-SiC is used, a simple structure is possible, and it is possible to obtain an increase in the heat resistance temperature of the mounted component and to suppress the temperature rise by improving the heat radiation performance. it can. Therefore, it is possible to provide a powerful mounting technology for the next-generation power module.

本発明の実施の形態におけるパワーモジュールの概観図である。It is a general-view figure of the power module in an embodiment of the invention. 図1のA領域の拡大図である。It is an enlarged view of the A area | region of FIG. 本発明の実施の形態例のパワーモジュールの断面図である。It is sectional drawing of the power module of the embodiment of this invention. 図3の構成の変形例のパワーモジュールの断面図である。It is sectional drawing of the power module of the modification of the structure of FIG. 本発明の別の実施の形態例のパワーモジュールの断面図である。It is sectional drawing of the power module of another embodiment of this invention. 図5の構成の変形例のパワーモジュールの断面図である。It is sectional drawing of the power module of the modification of the structure of FIG.

符号の説明Explanation of symbols

2 配線板、3 半導体スイッチング素子、3a 表面電極、5 放熱フィン、5b 基部平板部、5f フィン部、5s 酸化膜絶縁層、9 はんだ層、10 パワーモジュール(半導体装置)、19 接着剤、29 接着剤、31 FWD、31a FWDの表面電極、33 半導体スイッチング素子、61 配置板(放熱板)、61h 放熱板開口部、65 筐体、67 冷却路。   2 Wiring board, 3 Semiconductor switching element, 3a Surface electrode, 5 Radiation fin, 5b Base flat plate part, 5f Fin part, 5s Oxide film insulating layer, 9 Solder layer, 10 Power module (semiconductor device), 19 Adhesive, 29 Adhesion Agent, 31 FWD, surface electrode of 31a FWD, 33 semiconductor switching element, 61 arrangement plate (heat radiating plate), 61h heat radiating plate opening, 65 housing, 67 cooling path.

Claims (8)

直流電力と交流電力との電力変換のために用いられるパワーモジュールであって、
基部平板部とその基部平板部の下面から下方に突き出す複数のフィンとを有するSi−SiC製放熱部と、
前記基部平板部の上面に形成された絶縁層と、
前記絶縁層に固定された配線板と、
前記配線板にはんだ接合により接続された半導体スイッチング素子とを備えることを特徴とする、パワーモジュール。
A power module used for power conversion between DC power and AC power,
A heat sink made of Si-SiC having a base flat plate portion and a plurality of fins protruding downward from the lower surface of the base flat plate portion;
An insulating layer formed on the upper surface of the base plate portion;
A wiring board fixed to the insulating layer;
A power module comprising: a semiconductor switching element connected to the wiring board by solder bonding.
前記絶縁層が、前記基部平板部の上面層におけるSi−SiCを酸化して形成した酸化膜絶縁層であることを特徴とする、請求項1に記載のパワーモジュール。   The power module according to claim 1, wherein the insulating layer is an oxide film insulating layer formed by oxidizing Si—SiC in an upper surface layer of the base flat plate portion. 前記絶縁層が前記配線板に対応する領域に形成され、その外側の基部平板部の上面の領域には形成されていないことを特徴とする、請求項1または2に記載のパワーモジュール。   3. The power module according to claim 1, wherein the insulating layer is formed in a region corresponding to the wiring board and is not formed in a region of an upper surface of the base flat plate portion outside the insulating layer. 前記配線板が、前記Si−SiC製放熱フィンの基部平板部上面の絶縁層に、接着層により固定されていることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載のパワーモジュール。   The power module according to any one of claims 1 to 3, wherein the wiring board is fixed to an insulating layer on an upper surface of a base plate portion of the Si-SiC radiation fin by an adhesive layer. 前記配線板が、前記Si−SiC製放熱フィンの基部平板部上面の絶縁層に形成された金属層に、はんだ接合により固定されていることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載のパワーモジュール。   The said wiring board is being fixed to the metal layer formed in the insulating layer of the base plate part of the base fin part of the said Si-SiC radiation fin by solder joining, The one in any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned. The described power module. 冷却媒体路の天井を形成する配置板を備え、該配置板は複数の開口部を有し、その開口部に沿って前記放熱フィンの基部平板部の縁が密に接着されて固定され、前記絶縁層、配線板および半導体スイッチング素子は、その開口部から前記冷却媒体路の外側に配置されていることを特徴とする、請求項1〜5のいずれかに記載のパワーモジュール。   A placement plate that forms a ceiling of the cooling medium path, the placement plate having a plurality of openings, and the edges of the base plate portions of the radiation fins are closely bonded and fixed along the openings; The power module according to claim 1, wherein the insulating layer, the wiring board, and the semiconductor switching element are disposed outside the cooling medium path from the opening. 一体物のSi−SiCから形成された放熱フィンであって、
基部平板部と、
前記基部平板部の下面から下方に突き出す複数のフィンと、を備えることを特徴とする、放熱フィン。
A heat dissipating fin formed from a monolithic Si-SiC,
A base plate,
And a plurality of fins projecting downward from the lower surface of the base flat plate portion.
前記基部平板部に、前記基部平板部の上面層が酸化されて形成された酸化膜絶縁層を備えることを特徴とする、請求項1に記載の放熱フィン。   The heat radiating fin according to claim 1, further comprising an oxide film insulating layer formed by oxidizing an upper surface layer of the base flat plate portion on the base flat plate portion.
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