JP2008120710A - 2−アルキル−3−アミノチオフェン誘導体の製造方法 - Google Patents
2−アルキル−3−アミノチオフェン誘導体の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008120710A JP2008120710A JP2006304771A JP2006304771A JP2008120710A JP 2008120710 A JP2008120710 A JP 2008120710A JP 2006304771 A JP2006304771 A JP 2006304771A JP 2006304771 A JP2006304771 A JP 2006304771A JP 2008120710 A JP2008120710 A JP 2008120710A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- alkyl
- carbon atoms
- nitrogen
- catalyst
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 16
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 11
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 32
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 28
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 19
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 claims description 8
- 238000010531 catalytic reduction reaction Methods 0.000 claims description 7
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 3
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 20
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 abstract description 20
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 abstract description 6
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 abstract description 4
- 150000002431 hydrogen Chemical group 0.000 abstract 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 abstract 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 79
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 48
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 46
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 39
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 29
- 239000000047 product Substances 0.000 description 23
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 12
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 12
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 11
- 238000010813 internal standard method Methods 0.000 description 11
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 10
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Divinylene sulfide Natural products C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- -1 thiophene compound Chemical class 0.000 description 8
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical compound C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- UKVIEHSSVKSQBA-UHFFFAOYSA-N methane;palladium Chemical compound C.[Pd] UKVIEHSSVKSQBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 6
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 5
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 5
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- MGADZUXDNSDTHW-UHFFFAOYSA-N 2H-pyran Chemical compound C1OC=CC=C1 MGADZUXDNSDTHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DEEPVUMBLJVOEL-UHFFFAOYSA-N 3H-pyrazole Chemical compound C1C=CN=N1 DEEPVUMBLJVOEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- MLIREBYILWEBDM-UHFFFAOYSA-N cyanoacetic acid Chemical compound OC(=O)CC#N MLIREBYILWEBDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004705 ethylthio group Chemical group C(C)S* 0.000 description 2
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- ZLTPDFXIESTBQG-UHFFFAOYSA-N isothiazole Chemical compound C=1C=NSC=1 ZLTPDFXIESTBQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTAPFRYPJLPFDF-UHFFFAOYSA-N isoxazole Chemical compound C=1C=NOC=1 CTAPFRYPJLPFDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NCPHGZWGGANCAY-UHFFFAOYSA-N methane;ruthenium Chemical compound C.[Ru] NCPHGZWGGANCAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- LCPDWSOZIOUXRV-UHFFFAOYSA-N phenoxyacetic acid Chemical compound OC(=O)COC1=CC=CC=C1 LCPDWSOZIOUXRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002568 propynyl group Chemical group [*]C#CC([H])([H])[H] 0.000 description 2
- USPWKWBDZOARPV-UHFFFAOYSA-N pyrazolidine Chemical compound C1CNNC1 USPWKWBDZOARPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- DKGYESBFCGKOJC-UHFFFAOYSA-N thiophen-3-amine Chemical class NC=1C=CSC=1 DKGYESBFCGKOJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWAZAMZWGYPIHU-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methylpent-1-en-2-yl)thiophen-3-amine Chemical compound CC(C)CC(=C)C=1SC=CC=1N ZWAZAMZWGYPIHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHMXEUKIRKBFIH-SOFGYWHQSA-N 2-[(e)-4-methylpent-2-en-2-yl]thiophen-3-amine Chemical compound CC(C)\C=C(/C)C=1SC=CC=1N YHMXEUKIRKBFIH-SOFGYWHQSA-N 0.000 description 1
- IKCLCGXPQILATA-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1Cl IKCLCGXPQILATA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DILXLMRYFWFBGR-UHFFFAOYSA-N 2-formylbenzene-1,4-disulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=C(S(O)(=O)=O)C(C=O)=C1 DILXLMRYFWFBGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLAMLWHELXOEJZ-UHFFFAOYSA-N 2-nitrobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O SLAMLWHELXOEJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADCUEPOHPCPMCE-UHFFFAOYSA-N 4-cyanobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C#N)C=C1 ADCUEPOHPCPMCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 0 CC(*)C(C(*)*)c([s]c(C)c1*)c1N Chemical compound CC(*)C(C(*)*)c([s]c(C)c1*)c1N 0.000 description 1
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N Carbamic acid Chemical group NC(O)=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007868 Raney catalyst Substances 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSVGQVZAZSZEEX-UHFFFAOYSA-N [C].[Pt] Chemical compound [C].[Pt] DSVGQVZAZSZEEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWJYDTCSUDMGSU-UHFFFAOYSA-N [Sn].[C] Chemical compound [Sn].[C] QWJYDTCSUDMGSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000007933 aliphatic carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000004644 alkyl sulfinyl group Chemical group 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000480 butynyl group Chemical group [*]C#CC([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000012230 colorless oil Substances 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 125000004786 difluoromethoxy group Chemical group [H]C(F)(F)O* 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 201000010099 disease Diseases 0.000 description 1
- 208000037265 diseases, disorders, signs and symptoms Diseases 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 230000000855 fungicidal effect Effects 0.000 description 1
- 239000000417 fungicide Substances 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005980 hexynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000042 hydrogen bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000005981 pentynyl group Chemical group 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002574 poison Substances 0.000 description 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 description 1
- 231100000572 poisoning Toxicity 0.000 description 1
- 230000000607 poisoning effect Effects 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000003586 protic polar solvent Substances 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000475 sulfinyl group Chemical group [*:2]S([*:1])=O 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 150000003577 thiophenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000876 trifluoromethoxy group Chemical group FC(F)(F)O* 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000001889 triflyl group Chemical group FC(F)(F)S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B61/00—Other general methods
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
- C07D333/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
- C07D333/04—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom
- C07D333/26—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D333/30—Hetero atoms other than halogen
- C07D333/36—Nitrogen atoms
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
Abstract
Description
本発明は農園芸用殺菌剤、またはその中間体として有用な2−アルキル−3−アミノチオフェン誘導体およびその製造方法に関する。
特開平9−235282号公報(欧州特許公開公報0737682A1)には、種々の植物病害に対して強力な防除効果を有するある種の2−アルキル−3−アミノチオフェン誘導体とその製造法が記載されている。上記化合物の有用な中間体である2−アルキル−3−アミノチオフェン誘導体の製造方法のひとつとして、例えば、特開2000−327678号公報には3−アミノチオフェン誘導体と各種ケトンを反応させることで2−アルケニル−3−アミノチオフェン誘導体を合成し、還元により2−アルキル−3−アミノチオフェン誘導体を合成する方法が記載されている。しかし、本文献に記載の方法では、アミノ基の保護基としてホルミル基、アシル基またはカーバメート基を必要とし(化1)
[式中、Rは水素原子、置換されていてもよいアルキル基またはアルコキシ基、置換されていてもよい芳香族または非芳香族の炭化水素環、置換されていてもよい芳香族または非芳香族の複素環を示し、Xはハロゲン原子を表し、R1、R2、R3およびR4はそれぞれ独立して水素原子、炭素数1〜12の直鎖または分鎖アルキル基を表し、R1、R2、R3およびR4の少なくともひとつが炭素数1〜12の直鎖または分鎖アルキル基であり、R1とR2、R1とR3、R1とR4、R2とR3、R2とR4もしくはR3とR4は互いに結合してシクロアルキル基を形成していても良い。]、保護基の脱着工程も必要となり、操作性、経済性の点で改良の余地がある。
また、工業的に有利な還元方法は接触還元であるが、特公平8−32702号公報には、一般的にチオフェン化合物が接触還元で用いられる全ての水素化触媒を不活性化することが記載されている。更に、チオフェン化合物はそのものが触媒毒になるだけではなく、副反応による分解で生成する硫化水素や含硫黄化合物により、触媒が失活することも知られている。2−アルケニル−3−アミノチオフェン誘導体はアミノ基に保護基を導入しない場合、不安定性が増すことで分解の可能性が大きくなり、被毒による触媒の活性低下を招く恐れがある。
すなわち、これまでアミノ基が無保護の2−アルケニル−3−アミノチオフェン誘導体を工業的に有利な方法で還元し、2−アルキル−3−アミノチオフェン誘導体を合成する方法は知られていない。
特開平9−235282号公報(欧州特許公開公報0737682A1)
特開2000−327678号公報
特公平8−32702号公報
本発明は、2−アルケニル−3−アミノチオフェン誘導体を保護基を用いることなく還元することで、農薬中間体として有用な2−アルキル−3−アミノチオフェン誘導体を工業的に安価に製造する方法を提供することを目的とする。
本発明者らは上記の課題を解決するために、2−アルケニル−3−アミノチオフェン誘導体を還元する方法を鋭意検討し、保護基を用いることなく2−アルケニル−3−アミノチオフェン誘導体の還元が可能な方法を見出し、農薬中間体として有用な2−アルキル−3−アミノチオフェン誘導体の工業化可能な安価な製造法として本発明を完成させた。
すなわち、本発明は次の[1]〜[3]に関する。
[1] 一般式(1a)〜(1d)(化2)
[1] 一般式(1a)〜(1d)(化2)
[式中、R1、R2、R3およびR4はそれぞれ独立して水素原子、炭素数1〜12のアルキル基または炭素数1〜12のアルケニル基を表し、R1、R2、R3およびR4の少なくともひとつが炭素数1〜12のアルキル基または炭素数1〜12のアルケニル基であり、R1とR2、R1とR3、R1とR4、R2とR3、R2とR4、もしくはR3とR4は互いに結合してシクロアルキル基を形成していても良く、R5およびR6はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、フェニル基、ヘテロ環、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアルキルチオ基であり、R5とR6は互いに結合してシクロアルキル基を形成していても良い]で表される2−アルケニル−3−アミノチオフェン誘導体またはその混合物を還元することを特徴とする、一般式(2)(化3)
[式中、R1、R2、R3、R4、R5およびR6は前記と同様]で表される2−アルキル−3−アミノチオフェン誘導体の製造方法。
[2] 還元方法が接触還元である[1]記載の2−アルキル−3−アミノチオフェン誘導体の製造方法。
[3] 一般式(1a)〜(1d)および一般式(2)中、R5およびR6が水素原子である[2]記載の2−アルキル−3−アミノチオフェン誘導体の製造方法。
[4] 一般式(1a)〜(1d)および一般式(2)中、R1がイソプロピル基を表し、R2、R3およびR4が水素原子である[3]記載の2−アルキル−3−アミノチオフェン誘導体の製造方法。
[2] 還元方法が接触還元である[1]記載の2−アルキル−3−アミノチオフェン誘導体の製造方法。
[3] 一般式(1a)〜(1d)および一般式(2)中、R5およびR6が水素原子である[2]記載の2−アルキル−3−アミノチオフェン誘導体の製造方法。
[4] 一般式(1a)〜(1d)および一般式(2)中、R1がイソプロピル基を表し、R2、R3およびR4が水素原子である[3]記載の2−アルキル−3−アミノチオフェン誘導体の製造方法。
経済的に不利となるアミノ基の保護基を用いることなく、2−アルケニル−3−アミノチオフェン誘導体を触媒存在下で接触還元することで、農薬中間体として有用な2−アルキル−3−アミノチオフェン誘導体を工業的に応用可能な方法で、安価に製造できるようにした。
以下に本発明を詳細に説明する。
本発明における還元反応は、一般式(1a)〜(2d)で表される2−アルケニル−3−アミノチオフェン誘導体またはその混合物を還元することで、一般式(2)で表される2−アルキル−3−アミノチオフェン誘導体を製造することを特徴とする反応式(2)(化4)
本発明における還元反応は、一般式(1a)〜(2d)で表される2−アルケニル−3−アミノチオフェン誘導体またはその混合物を還元することで、一般式(2)で表される2−アルキル−3−アミノチオフェン誘導体を製造することを特徴とする反応式(2)(化4)
[式中、R1、R2、R3およびR4はそれぞれ独立して水素原子、炭素数1〜12のアルキル基または炭素数1〜12のアルケニル基を表し、R1、R2、R3およびR4の少なくともひとつが炭素数1〜12のアルキル基または炭素数1〜12のアルケニル基であり、R1とR2、R1とR3、R1とR4、R2とR3、R2とR4、もしくはR3とR4は互いに結合してシクロアルキル基を形成していても良く、R5およびR6はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、フェニル基、ヘテロ環、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアルキルチオ基であり、R5とR6は互いに結合してシクロアルキル基を形成していても良い]で表される。
一般式(1a)〜(1d)、(2)で表される化合物において、下記に限定されるものではないが、代表的な置換基の例として以下のものが挙げられる。
即ち、炭素数1〜12のアルキル基としてはメチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ネオペンチル基等を、ハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等を、炭素数1〜12のアルケニル基としてはビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等を、炭素数1〜12のアルキニル基としてはエチニル基、プロピニル基、ブチニル基、ペンチニル基、ヘキシニル基等、炭素数1〜12のアルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基等を、炭素数1〜12のアルキルチオ基としてはメチルチオ基、エチルチオ基等を、ヘテロ環としてはフラン、チオフェン、オキサゾール、ピロール、1H−ピラゾール、3H−ピラゾール、イミダゾール、チアゾール、オキサゾール、イソキサゾール、イソチアゾール、テトラヒドロフラン、ピラゾリジン、ピリジン、ピラン、ピリミジンまたはピラジン等をそれぞれ例示することができる。炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、フェニル基、ヘテロ環の置換基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基またはイソブチル基等のアルキル基、ビニル基またはプロペニル基等のアルケニル基、エチニル基またはプロピニル基等のアルキニル基、トリフルオロメチル基等のハロゲン化アルキル基、メトキシ基またはエトキシ基等のアルコキシ基、トリフルオロメトキシ基またはジフルオロメトキシ基等のハロゲン置換アルコキシ基、メチルチオ基またはエチルチオ基等のアルキルチオ基、メタンスルフィニル基またはエタンスルフィニル基等のアルキルスルフィニル基、トリフルオロメタンスルフィニル基またはジフルオロメタンスルフィニル基等のハロゲン置換アルキルスルフィニル基、メタンスルホニル基またはエタンスルホニル基等のアルキルスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基またはジフルオロメタンスルホニル基等のハロゲン置換アルキルスルホニル基、フェニル基、ナフチル基、フラン、チオフェン、オキサゾール、ピロール、1H−ピラゾール、3H−ピラゾール、イミダゾール、チアゾール、オキサゾール、イソキサゾール、イソチアゾール、テトラヒドロフラン、ピラゾリジン、ピリジン、ピラン、ピリミジンまたはピラジン等のヘテロ環、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子等のハロゲン原子をそれぞれ例示することができる。
本反応で原料として用いる一般式(1a)〜(1d)で示される2−アルケニル−3−アミノチオフェン誘導体は、最大4種類の化合物から構成される。例えば、一般式(1a)〜(1d)の置換基R1〜R4が全て異なる場合、2−アルケニル−3−アミノチオフェン誘導体は4種類の化合物から構成される。R1がイソプロピル基、R2=R3=R4=R5=R6が水素原子の場合、対応する2−アルケニル−3−アミノチオフェン誘導体は、一般式(1a’)〜(1c’)(化5)
で表される3種の化合物から構成される。これら混合物はクロマトグラフィー等の手法を用いて分離可能であり、単独の化合物でも混合物の状態でも反応式(2)で表される反応の原料として利用可能である。また、一般式(1a)〜(1d)で示される2−アルケニル−3−アミノチオフェン誘導体またはその混合物と酸により形成される塩を反応に用いることもできる。
一般式(1a)〜(1d)で表される2−アルケニル−3−アミノチオフェン誘導体または一般式(2)で表される2−アルキル−3−アミノチオフェン誘導体と塩を形成する酸としては、下記に限定されるものではないが、代表的な例として、塩化水素、臭化水素、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸、トリフルオロ酢酸、シアノ酢酸、安息香酸、4−シアノ安息香酸、2−クロロ安息香酸、2−ニトロ安息香酸、クエン酸、フマル酸、マロン酸、シュウ酸、マレイン酸、フェノキシ酢酸、メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルフィン酸等の有機酸等が挙げられる。
上記反応における還元方法には特に制限がなく、通常、二重結合を単結合に還元する方法(例えば、新実験化学講座、15巻、酸化と還元[II]、丸善(1977))を適用できるが、工業的には接触還元が望ましい。
本発明に用いられる触媒としては一般に接触還元に用いられる金属触媒であり、下記に限定されるものではないが、例としてパラジウム、白金、ロジウム、ルテニウム、ニッケル、コバルト、クロム、銅、鉛、鉄等が挙げられ、これら金属の混合物も使用できる。これらの金属触媒は金属の状態でも使用できるが、通常は活性炭、硫酸バリウム、シリカゲル、アルミナ、セライト等の担体に担持させて用いることができる。ニッケル、コバルト、銅等はラネー触媒としても用いることができる。反応に使用される触媒の量は、一般式(1a)〜(1d)で表される化合物またはその混合物に対して、通常0.1〜200重量%を用い、好ましくは0.5〜30重量%を用いることができる。
本発明に係る反応は無溶媒でも実施可能であるが、必要に応じて溶媒による希釈下でも実施可能である。使用される溶媒として、下記に限定されるものではないが、例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、オクタノール等のアルコール類、n−ヘキサン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン等の芳香族類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、酢酸、プロピオン酸等の脂肪族カルボン酸、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒等が挙げられ、これらの混合溶媒も使用される。溶媒の使用量は、一般式(1a)〜(1d)で表される化合物またはその混合物1gに対して、通常0〜200mlを用い、好ましくは1〜20mlを用いる。
上記反応の反応温度および反応時間は広範囲に変化させることができる。一般的には、反応温度は−78〜300℃が好ましく、より好ましくは20〜250℃、反応時間は0.01〜100時間が好ましく、より好ましくは1〜50時間である。
上記反応の反応圧力は広範囲に変化させることができ、常圧下でも加圧下でも反応可能である。加圧下で反応する場合、反応圧力は0.01〜30MPa、好ましくは0.5〜3MPaである。
尚、上記接触還元反応における種々の条件、すなわち、触媒の種類及びその使用量、溶媒の種類及びその使用量、反応温度、反応時間、反応圧力の各々の条件毎に示された通常の範囲の数値と好ましい範囲の数値から適宜相互に選択し、組み合わせることができる。
以下に実施例および試験例で本説明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
〔実施例1〕
3−アミノ−2−{(E)−(4−メチル−2−ペンテン−2−イル)}チオフェン、3−アミノ−2−{(Z)−(4−メチル−2−ペンテン−2−イル)}チオフェン、および3−アミノ−2−(4−メチル−1−ペンテン−2−イル)チオフェンからなる3種の化合物の混合物(以下の実施例ではATUと略す)(10.09g)を1−オクタノール(90.08g)に溶解し、5%パラジウムカーボン触媒(含水品,水分含量59.20%,0.51g)を加え、加圧反応器(容量300ml)に密封した。0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を4回繰り返し、容器内を窒素置換し、1.0MPaの圧力で水素を用いて加圧、放圧を4回繰り返し、容器内を水素置換した。反応機器を水素で1.5MPaまで加圧後、200℃まで昇温し、3時間反応させた。反応器を室温に冷却後、0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。容器を開封後、濾過により触媒を反応液から除去し、触媒を1−オクタノールで洗浄した。得られた濾洗液のHPLC内部標準法による分析の結果、生成物である3−アミノ−2−(4−メチルペンタン−2−イル)}チオフェン(以下の実施例ではATAと略す)の収率が86.02%であった。
3−アミノ−2−{(E)−(4−メチル−2−ペンテン−2−イル)}チオフェン、3−アミノ−2−{(Z)−(4−メチル−2−ペンテン−2−イル)}チオフェン、および3−アミノ−2−(4−メチル−1−ペンテン−2−イル)チオフェンからなる3種の化合物の混合物(以下の実施例ではATUと略す)(10.09g)を1−オクタノール(90.08g)に溶解し、5%パラジウムカーボン触媒(含水品,水分含量59.20%,0.51g)を加え、加圧反応器(容量300ml)に密封した。0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を4回繰り返し、容器内を窒素置換し、1.0MPaの圧力で水素を用いて加圧、放圧を4回繰り返し、容器内を水素置換した。反応機器を水素で1.5MPaまで加圧後、200℃まで昇温し、3時間反応させた。反応器を室温に冷却後、0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。容器を開封後、濾過により触媒を反応液から除去し、触媒を1−オクタノールで洗浄した。得られた濾洗液のHPLC内部標準法による分析の結果、生成物である3−アミノ−2−(4−メチルペンタン−2−イル)}チオフェン(以下の実施例ではATAと略す)の収率が86.02%であった。
〔実施例2〕
ATU(10.00g)を1−オクタノール(90.03g)に溶解し、5%パラジウムカーボン触媒(含水品,水分含量50.18%,1.02g)を加え、加圧反応器(容量300ml)に密封した。0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を4回繰り返し、容器内を窒素置換し、1.0MPaの圧力で水素を用いて加圧、放圧を4回繰り返し、容器内を水素置換した。反応機器を水素で1.5MPaまで加圧後、200℃まで昇温し、3時間反応させた。反応器を室温に冷却後、0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。容器を開封後、濾過により触媒を反応液から除去し、触媒を1−オクタノールで洗浄した。得られた濾洗液のHPLC内部標準法による分析の結果、生成物であるATAの収率が85.93%であった。
ATU(10.00g)を1−オクタノール(90.03g)に溶解し、5%パラジウムカーボン触媒(含水品,水分含量50.18%,1.02g)を加え、加圧反応器(容量300ml)に密封した。0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を4回繰り返し、容器内を窒素置換し、1.0MPaの圧力で水素を用いて加圧、放圧を4回繰り返し、容器内を水素置換した。反応機器を水素で1.5MPaまで加圧後、200℃まで昇温し、3時間反応させた。反応器を室温に冷却後、0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。容器を開封後、濾過により触媒を反応液から除去し、触媒を1−オクタノールで洗浄した。得られた濾洗液のHPLC内部標準法による分析の結果、生成物であるATAの収率が85.93%であった。
〔実施例3〕
ATU(150.02g)を1−オクタノール(1350.91g)に溶解し、5%パラジウムカーボン触媒(含水品,水分含量50.18%,5.98g)を加え、加圧反応器(容量2000ml)に密封した。0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を4回繰り返し、容器内を窒素置換し、1.0MPaの圧力で水素を用いて加圧、放圧を4回繰り返し、容器内を水素置換した。反応機器を水素で1.5MPaまで加圧後、200℃まで昇温し、3時間反応させた。反応器を室温に冷却後、0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。容器を開封後、濾過により触媒を反応液から除去し、触媒を1−オクタノールで洗浄した。得られた濾洗液を、減圧蒸留により精製を行い、目的とするATA(113.76g)を無色油状物質として得た(収率:75%,bp:129℃ 16mmHg)。
ATU(150.02g)を1−オクタノール(1350.91g)に溶解し、5%パラジウムカーボン触媒(含水品,水分含量50.18%,5.98g)を加え、加圧反応器(容量2000ml)に密封した。0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を4回繰り返し、容器内を窒素置換し、1.0MPaの圧力で水素を用いて加圧、放圧を4回繰り返し、容器内を水素置換した。反応機器を水素で1.5MPaまで加圧後、200℃まで昇温し、3時間反応させた。反応器を室温に冷却後、0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。容器を開封後、濾過により触媒を反応液から除去し、触媒を1−オクタノールで洗浄した。得られた濾洗液を、減圧蒸留により精製を行い、目的とするATA(113.76g)を無色油状物質として得た(収率:75%,bp:129℃ 16mmHg)。
〔実施例4〕
ATU(2.58g)を1−オクタノール(22.59g)に溶解し、5%パラジウムカーボン触媒(含水品,水分含量50.18%,0.57g)を加え、加圧反応器(容量190ml)に密封した。0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。反応機器を水素で1.5MPaまで加圧後、150℃まで昇温し、3時間反応させた。反応器を室温に冷却後、0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。容器を開封後、濾過により触媒を反応液から除去し、触媒を1−オクタノールで洗浄した。得られた濾洗液のHPLC内部標準法による分析の結果、生成物であるATAの収率が83.53%であった。
ATU(2.58g)を1−オクタノール(22.59g)に溶解し、5%パラジウムカーボン触媒(含水品,水分含量50.18%,0.57g)を加え、加圧反応器(容量190ml)に密封した。0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。反応機器を水素で1.5MPaまで加圧後、150℃まで昇温し、3時間反応させた。反応器を室温に冷却後、0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。容器を開封後、濾過により触媒を反応液から除去し、触媒を1−オクタノールで洗浄した。得られた濾洗液のHPLC内部標準法による分析の結果、生成物であるATAの収率が83.53%であった。
〔実施例5〕
ATU(5.00g)を1−オクタノール(95.09g)に溶解し、5%パラジウムカーボン触媒(含水品,水分含量59.20%,1.24g)を加え、加圧反応器(容量190ml)に密封した。0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。反応機器を水素で1.0MPaまで加圧後、200℃まで昇温し、3時間反応させた。反応器を室温に冷却後、0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。容器を開封後、濾過により触媒を反応液から除去し、触媒を1−オクタノールで洗浄した。得られた濾洗液のHPLC内部標準法による分析の結果、生成物であるATAの収率が92.53%であった。
ATU(5.00g)を1−オクタノール(95.09g)に溶解し、5%パラジウムカーボン触媒(含水品,水分含量59.20%,1.24g)を加え、加圧反応器(容量190ml)に密封した。0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。反応機器を水素で1.0MPaまで加圧後、200℃まで昇温し、3時間反応させた。反応器を室温に冷却後、0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。容器を開封後、濾過により触媒を反応液から除去し、触媒を1−オクタノールで洗浄した。得られた濾洗液のHPLC内部標準法による分析の結果、生成物であるATAの収率が92.53%であった。
〔実施例6〕
ATU(0.20g)をエタノール(1.80g)に溶解し、5%パラジウム−0.01%鉛カーボン触媒(含水品,水分含量50.40%,0.09g)を加え、加圧反応器(容量8ml)に密封した。0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。反応機器を水素で1.0MPaまで加圧後、100℃まで昇温し、5時間反応させた。反応器を室温に冷却後、0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。容器を開封後、濾過により触媒を反応液から除去し、触媒をエタノールで洗浄した。得られた濾洗液のHPLC内部標準法による分析の結果、生成物であるATAの収率が37.76%であった。
ATU(0.20g)をエタノール(1.80g)に溶解し、5%パラジウム−0.01%鉛カーボン触媒(含水品,水分含量50.40%,0.09g)を加え、加圧反応器(容量8ml)に密封した。0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。反応機器を水素で1.0MPaまで加圧後、100℃まで昇温し、5時間反応させた。反応器を室温に冷却後、0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。容器を開封後、濾過により触媒を反応液から除去し、触媒をエタノールで洗浄した。得られた濾洗液のHPLC内部標準法による分析の結果、生成物であるATAの収率が37.76%であった。
〔実施例7〕
ATU(0.20g)をエタノール(1.80g)に溶解し、2.5%パラジウム−2.5%ルテニウムカーボン触媒(含水品,水分含量56.28%,0.08g)を加え、加圧反応器(容量8ml)に密封した。0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。反応機器を水素で1.0MPaまで加圧後、100℃まで昇温し、5時間反応させた。反応器を室温に冷却後、0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。容器を開封後、濾過により触媒を反応液から除去し、触媒をエタノールで洗浄した。得られた濾洗液のHPLC内部標準法による分析の結果、生成物であるATAの収率が19.97%であった。
ATU(0.20g)をエタノール(1.80g)に溶解し、2.5%パラジウム−2.5%ルテニウムカーボン触媒(含水品,水分含量56.28%,0.08g)を加え、加圧反応器(容量8ml)に密封した。0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。反応機器を水素で1.0MPaまで加圧後、100℃まで昇温し、5時間反応させた。反応器を室温に冷却後、0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。容器を開封後、濾過により触媒を反応液から除去し、触媒をエタノールで洗浄した。得られた濾洗液のHPLC内部標準法による分析の結果、生成物であるATAの収率が19.97%であった。
〔実施例8〕
ATU(0.20g)をエタノール(1.80g)に溶解し、3%白金カーボン触媒(含水品,水分含量63.25%,0.20g)を加え、加圧反応器(容量8ml)に密封した。0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。反応機器を水素で1.0MPaまで加圧後、100℃まで昇温し、5時間反応させた。反応器を室温に冷却後、0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。容器を開封後、濾過により触媒を反応液から除去し、触媒をエタノールで洗浄した。得られた濾洗液のHPLC内部標準法による分析の結果、生成物であるATAの収率が28.98%であった。
ATU(0.20g)をエタノール(1.80g)に溶解し、3%白金カーボン触媒(含水品,水分含量63.25%,0.20g)を加え、加圧反応器(容量8ml)に密封した。0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。反応機器を水素で1.0MPaまで加圧後、100℃まで昇温し、5時間反応させた。反応器を室温に冷却後、0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。容器を開封後、濾過により触媒を反応液から除去し、触媒をエタノールで洗浄した。得られた濾洗液のHPLC内部標準法による分析の結果、生成物であるATAの収率が28.98%であった。
〔実施例9〕
ATU(0.20g)をエタノール(1.80g)に溶解し、5%ルテニウムカーボン触媒(含水品,水分含量52.79%,0.08g)を加え、加圧反応器(容量8ml)に密封した。0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。反応機器を水素で1.0MPaまで加圧後、100℃まで昇温し、5時間反応させた。反応器を室温に冷却後、0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。容器を開封後、濾過により触媒を反応液から除去し、触媒をエタノールで洗浄した。得られた濾洗液のHPLC内部標準法による分析の結果、生成物であるATAの収率が16.05%であった。
ATU(0.20g)をエタノール(1.80g)に溶解し、5%ルテニウムカーボン触媒(含水品,水分含量52.79%,0.08g)を加え、加圧反応器(容量8ml)に密封した。0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。反応機器を水素で1.0MPaまで加圧後、100℃まで昇温し、5時間反応させた。反応器を室温に冷却後、0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。容器を開封後、濾過により触媒を反応液から除去し、触媒をエタノールで洗浄した。得られた濾洗液のHPLC内部標準法による分析の結果、生成物であるATAの収率が16.05%であった。
〔実施例10〕
ATU(0.20g)をエタノール(1.80g)に溶解し、5%パラジウム+0.05%錫カーボン触媒(含水品,水分含量50.12%,0.08g)を加え、加圧反応器(容量8ml)に密封した。0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。反応機器を水素で1.0MPaまで加圧後、100℃まで昇温し、5時間反応させた。反応器を室温に冷却後、0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。容器を開封後、濾過により触媒を反応液から除去し、触媒をエタノールで洗浄した。得られた濾洗液のHPLC内部標準法による分析の結果、生成物であるATAの収率が36.32%であった。
ATU(0.20g)をエタノール(1.80g)に溶解し、5%パラジウム+0.05%錫カーボン触媒(含水品,水分含量50.12%,0.08g)を加え、加圧反応器(容量8ml)に密封した。0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。反応機器を水素で1.0MPaまで加圧後、100℃まで昇温し、5時間反応させた。反応器を室温に冷却後、0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。容器を開封後、濾過により触媒を反応液から除去し、触媒をエタノールで洗浄した。得られた濾洗液のHPLC内部標準法による分析の結果、生成物であるATAの収率が36.32%であった。
〔実施例11〕
ATU リン酸塩(0.31g)をエタノール(2.00g)に溶解し、5%パラジウムカーボン触媒(含水品,水分含量57.50%,0.07g)を加え、加圧反応器(容量8ml)に密封した。0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。反応機器を水素で1.0MPaまで加圧後、100℃まで昇温し、5時間反応させた。反応器を室温に冷却後、0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。容器を開封後、濾過により触媒を反応液から除去し、触媒をエタノールで洗浄した。得られた濾洗液のHPLC内部標準法による分析の結果、生成物であるATAの収率が19.20%であった。
ATU リン酸塩(0.31g)をエタノール(2.00g)に溶解し、5%パラジウムカーボン触媒(含水品,水分含量57.50%,0.07g)を加え、加圧反応器(容量8ml)に密封した。0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。反応機器を水素で1.0MPaまで加圧後、100℃まで昇温し、5時間反応させた。反応器を室温に冷却後、0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。容器を開封後、濾過により触媒を反応液から除去し、触媒をエタノールで洗浄した。得られた濾洗液のHPLC内部標準法による分析の結果、生成物であるATAの収率が19.20%であった。
〔実施例12〕
ATU 1/2シュウ酸塩(0.74g)をメタノール(2.00g)に溶解し、5%パラジウムカーボン触媒(含水品,水分含量57.50%,0.07g)を加え、加圧反応器(容量8ml)に密封した。0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。反応機器を水素で1.0MPaまで加圧後、100℃まで昇温し、5時間反応させた。反応器を室温に冷却後、0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。容器を開封後、濾過により触媒を反応液から除去し、触媒をメタノールで洗浄した。得られた濾洗液のHPLC内部標準法による分析の結果、生成物であるATAの収率が16.30%であった。
ATU 1/2シュウ酸塩(0.74g)をメタノール(2.00g)に溶解し、5%パラジウムカーボン触媒(含水品,水分含量57.50%,0.07g)を加え、加圧反応器(容量8ml)に密封した。0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。反応機器を水素で1.0MPaまで加圧後、100℃まで昇温し、5時間反応させた。反応器を室温に冷却後、0.2MPaの圧力で窒素を用いて加圧、放圧を5回繰り返し、容器内を窒素置換した。容器を開封後、濾過により触媒を反応液から除去し、触媒をメタノールで洗浄した。得られた濾洗液のHPLC内部標準法による分析の結果、生成物であるATAの収率が16.30%であった。
Claims (4)
- 一般式(1a)〜(1d)(化1)
[式中、R1、R2、R3およびR4はそれぞれ独立して水素原子、炭素数1〜12のアルキル基または炭素数1〜12のアルケニル基を表し、R1、R2、R3およびR4の少なくともひとつが炭素数1〜12のアルキル基または炭素数1〜12のアルケニル基であり、R1とR2、R1とR3、R1とR4、R2とR3、R2とR4、もしくはR3とR4は互いに結合してシクロアルキル基を形成していても良く、R5およびR6はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、フェニル基、ヘテロ環、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアルキルチオ基であり、R5とR6は互いに結合してシクロアルキル基を形成していても良い]で表される2−アルケニル−3−アミノチオフェン誘導体またはその混合物を還元することを特徴とする、一般式(2)(化2)
[式中、R1、R2、R3、R4、R5およびR6は前記と同様]で表される2−アルキル−3−アミノチオフェン誘導体の製造方法。 - 還元方法が接触還元である請求項1記載の2−アルキル−3−アミノチオフェン誘導体の製造方法。
- 一般式(1a)〜(1d)および一般式(2)中、R5およびR6が水素原子である請求項2記載の2−アルキル−3−アミノチオフェン誘導体の製造方法。
- 一般式(1a)〜(1d)および一般式(2)中、R1がイソプロピル基を表し、R2、R3およびR4が水素原子である請求項3記載の2−アルキル−3−アミノチオフェン誘導体の製造方法。
Priority Applications (11)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006304771A JP2008120710A (ja) | 2006-11-10 | 2006-11-10 | 2−アルキル−3−アミノチオフェン誘導体の製造方法 |
| MX2009004928A MX2009004928A (es) | 2006-11-10 | 2007-10-24 | Metodo para la produccion del derivado de 2-alquilo-3-aminotiofeno . |
| PCT/JP2007/070702 WO2008056538A1 (en) | 2006-11-10 | 2007-10-24 | Method for producing 2-alkyl-3-aminothiophene derivative |
| AU2007318713A AU2007318713A1 (en) | 2006-11-10 | 2007-10-24 | Method for producing 2-alkyl-3-aminothiophene derivative |
| US12/514,090 US20090326247A1 (en) | 2006-11-10 | 2007-10-24 | Method for producing 2-alkyl-3-aminothiophene derivative |
| RU2009121336/04A RU2009121336A (ru) | 2006-11-10 | 2007-10-24 | Способ получения производного 2-алкил-3-аминотиофена |
| BRPI0718853-6A2A BRPI0718853A2 (pt) | 2006-11-10 | 2007-10-24 | Método de produzir um derivado de 2-alquil-3-aminotiofeno |
| CNA2007800411492A CN101535290A (zh) | 2006-11-10 | 2007-10-24 | 2-烷基-3-氨基噻吩衍生物的制备方法 |
| EP07830436A EP2088145A4 (en) | 2006-11-10 | 2007-10-24 | PROCESS FOR PREPARING A 2-ALKYL-3-AMINOTHIOPHENE DERIVATIVE |
| TW096141861A TW200840816A (en) | 2006-11-10 | 2007-11-06 | Method of producing 2-alkyl-3-aminothiophene derivative |
| IL198589A IL198589A0 (en) | 2006-11-10 | 2009-05-05 | Method for producing 2-alkyl-3-aminothiophene derivative |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006304771A JP2008120710A (ja) | 2006-11-10 | 2006-11-10 | 2−アルキル−3−アミノチオフェン誘導体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008120710A true JP2008120710A (ja) | 2008-05-29 |
Family
ID=39364361
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006304771A Withdrawn JP2008120710A (ja) | 2006-11-10 | 2006-11-10 | 2−アルキル−3−アミノチオフェン誘導体の製造方法 |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20090326247A1 (ja) |
| EP (1) | EP2088145A4 (ja) |
| JP (1) | JP2008120710A (ja) |
| CN (1) | CN101535290A (ja) |
| AU (1) | AU2007318713A1 (ja) |
| BR (1) | BRPI0718853A2 (ja) |
| IL (1) | IL198589A0 (ja) |
| MX (1) | MX2009004928A (ja) |
| RU (1) | RU2009121336A (ja) |
| TW (1) | TW200840816A (ja) |
| WO (1) | WO2008056538A1 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010119902A1 (ja) * | 2009-04-16 | 2010-10-21 | 三井化学アグロ株式会社 | 2-アルキル-3-アミノチオフェン誘導体の製造方法 |
| CN102190666A (zh) * | 2010-03-08 | 2011-09-21 | 清水真 | 噻吩化合物的制备方法 |
| US8367846B2 (en) | 2009-04-17 | 2013-02-05 | Mitsui Chemicals Agro, Inc. | Method of producing 2-alkyl-3-aminothiophene derivative |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4975738B2 (ja) * | 2006-04-17 | 2012-07-11 | 三井化学アグロ株式会社 | 2−アルケニル−3−アミノチオフェン誘導体及びその製造方法 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0832702A (ja) | 1994-07-15 | 1996-02-02 | Nec Corp | 自動着信呼分配装置の代理受付方式 |
| JP3164762B2 (ja) | 1995-04-11 | 2001-05-08 | 三井化学株式会社 | 置換チオフェン誘導体およびこれを有効成分とする農園芸用殺菌剤 |
| DE69618370T2 (de) | 1995-04-11 | 2002-09-26 | Mitsui Chemicals, Inc. | Substituierte Thiophenderivate und diese als aktiver Bestandteil enthaltenden Fungizide für Land- und Gartenbauwirtschaft |
| IL153681A (en) * | 1999-03-16 | 2006-08-20 | Mitsui Chemicals Inc | Process for making history 2 - Alkyl - 3 - Reliability |
| JP4153644B2 (ja) | 1999-03-16 | 2008-09-24 | 三井化学株式会社 | 2−アルキル−3−アミノチオフェン誘導体の製造方法および3−アミノチオフェン誘導体 |
| JP4975738B2 (ja) * | 2006-04-17 | 2012-07-11 | 三井化学アグロ株式会社 | 2−アルケニル−3−アミノチオフェン誘導体及びその製造方法 |
-
2006
- 2006-11-10 JP JP2006304771A patent/JP2008120710A/ja not_active Withdrawn
-
2007
- 2007-10-24 RU RU2009121336/04A patent/RU2009121336A/ru not_active Application Discontinuation
- 2007-10-24 EP EP07830436A patent/EP2088145A4/en not_active Withdrawn
- 2007-10-24 BR BRPI0718853-6A2A patent/BRPI0718853A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2007-10-24 AU AU2007318713A patent/AU2007318713A1/en not_active Abandoned
- 2007-10-24 MX MX2009004928A patent/MX2009004928A/es not_active Application Discontinuation
- 2007-10-24 WO PCT/JP2007/070702 patent/WO2008056538A1/ja not_active Ceased
- 2007-10-24 US US12/514,090 patent/US20090326247A1/en not_active Abandoned
- 2007-10-24 CN CNA2007800411492A patent/CN101535290A/zh active Pending
- 2007-11-06 TW TW096141861A patent/TW200840816A/zh unknown
-
2009
- 2009-05-05 IL IL198589A patent/IL198589A0/en unknown
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010119902A1 (ja) * | 2009-04-16 | 2010-10-21 | 三井化学アグロ株式会社 | 2-アルキル-3-アミノチオフェン誘導体の製造方法 |
| JP5281152B2 (ja) * | 2009-04-16 | 2013-09-04 | 三井化学アグロ株式会社 | 2−アルキル−3−アミノチオフェン誘導体の製造方法 |
| US8367846B2 (en) | 2009-04-17 | 2013-02-05 | Mitsui Chemicals Agro, Inc. | Method of producing 2-alkyl-3-aminothiophene derivative |
| CN102190666A (zh) * | 2010-03-08 | 2011-09-21 | 清水真 | 噻吩化合物的制备方法 |
| CN102190666B (zh) * | 2010-03-08 | 2014-09-17 | 清水真 | 噻吩化合物的制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| IL198589A0 (en) | 2010-02-17 |
| MX2009004928A (es) | 2009-09-07 |
| BRPI0718853A2 (pt) | 2014-02-25 |
| TW200840816A (en) | 2008-10-16 |
| CN101535290A (zh) | 2009-09-16 |
| US20090326247A1 (en) | 2009-12-31 |
| WO2008056538A1 (en) | 2008-05-15 |
| EP2088145A1 (en) | 2009-08-12 |
| RU2009121336A (ru) | 2010-12-20 |
| EP2088145A4 (en) | 2011-05-18 |
| AU2007318713A1 (en) | 2008-05-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5345270B2 (ja) | 接触水素化法 | |
| WO2012065571A1 (zh) | 手性螺环吡啶胺基膦配体化合物与合成方法及其应用 | |
| EP2266961A2 (en) | Process for the synthesis of organic compounds | |
| JPH02131470A (ja) | 4―ベンゾイル―5―ヒドロキシピラゾール類の製法 | |
| JP5674059B2 (ja) | ルテニウム錯体を含む水素移動反応用触媒及び水素移動反応物の製造方法 | |
| Martins et al. | Applications of N′-alkylated derivatives of TsDPEN in the asymmetric transfer hydrogenation of CO and CN bonds | |
| JP5234901B2 (ja) | 不斉触媒マイケル反応生成物の製造方法 | |
| WO2005000803A2 (ja) | 不斉尿素化合物およびこれを触媒として用いる不斉共役付加反応による不斉化合物の製造方法 | |
| CN1250516C (zh) | 制备苯胺类化合物的方法 | |
| JP2008120710A (ja) | 2−アルキル−3−アミノチオフェン誘導体の製造方法 | |
| EP3421455A1 (en) | Improved process for the preparation of chiral 3-amino-piperidins, useful intermediates for the preparation of tofacitinib | |
| JPS6045621B2 (ja) | ブタノン誘導体の製造方法 | |
| JP2009114135A (ja) | 不斉触媒アルドール反応生成物の製造方法 | |
| RU2446154C2 (ru) | Сульфонилированные дифенилэтилендиамины, способ их получения и применение в катализе гидрирования с переносом водорода | |
| EP2123627B1 (en) | Process for producing aromatic amine having aralkyloxy or heteroaralkyloxy group | |
| JP7466538B2 (ja) | オキシム誘導体の水素化プロセス | |
| JP3870647B2 (ja) | 光学活性α−ヒドロキシケトン類の製造方法 | |
| JP6461939B2 (ja) | ケトン類を不斉還元するための新規なルテニウム触媒及びその使用 | |
| JP5076103B2 (ja) | ヒドラジンを用いた水素化方法および酸素酸化触媒 | |
| HUP0303515A2 (hu) | Javított orto-alkilezési eljárás | |
| KR101004133B1 (ko) | 아세틸렌 화합물의 제조방법 | |
| JP4755829B2 (ja) | ピロリジン誘導体の製造方法 | |
| CN110452107A (zh) | 一种2-酰基-3,4-二氢萘衍生物的制备方法 | |
| US6057477A (en) | Metal salt catalyzed process to oxazolines and subsequent formation of chloroketones | |
| CN107721920B (zh) | 一种喹啉酰胺类化合物的合成方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20090623 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090626 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20110930 |