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JP2008120791A - Method for producing bisphenols - Google Patents

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JP2008120791A
JP2008120791A JP2007239658A JP2007239658A JP2008120791A JP 2008120791 A JP2008120791 A JP 2008120791A JP 2007239658 A JP2007239658 A JP 2007239658A JP 2007239658 A JP2007239658 A JP 2007239658A JP 2008120791 A JP2008120791 A JP 2008120791A
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mercapto group
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heteropolyacid
acid
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Application number
JP2007239658A
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Japanese (ja)
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Atsushi Satsuma
篤 薩摩
Kenichi Shimizu
研一 清水
Soichiro Konya
宗一郎 紺谷
Soichiro Yamada
聡一郎 山田
豪 ▲高▼橋
Takeshi Takahashi
Takahito Nishiyama
貴人 西山
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Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
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Publication date
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

【課題】アセトン等のカルボニル化合物とフェノール等のフェノール類との反応で、ビスフェノールA等のビスフェノール類を高選択率かつ高収率で製造する。
【解決手段】メルカプト基を有する含窒素化合物で修飾したヘテロポリ酸及び/又はメルカプト基を有する含窒素化合物で修飾したヘテロポリ酸塩の存在下にカルボニル化合物とフェノール類とを反応させてビスフェノール類を製造する。触媒としては、メルカプト基を有する含窒素化合物で修飾したリンタングステン酸又はケイタングステン酸又はそのセシウム塩が好ましい。メルカプト基を有する含窒素化合物としては、メルカプトピリジン類又はメルカプトアミン類が好ましい。アセトンとフェノールとの反応で、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンを高選択率かつ高収率で製造することができる。
【選択図】なし
Bisphenols such as bisphenol A are produced with high selectivity and high yield by reaction of carbonyl compounds such as acetone with phenols such as phenol.
A bisphenol is produced by reacting a carbonyl compound with a phenol in the presence of a heteropolyacid modified with a nitrogen-containing compound having a mercapto group and / or a heteropolyacid salt modified with a nitrogen-containing compound having a mercapto group. To do. As the catalyst, phosphotungstic acid or silicotungstic acid or a cesium salt thereof modified with a nitrogen-containing compound having a mercapto group is preferable. As the nitrogen-containing compound having a mercapto group, mercaptopyridines or mercaptoamines are preferable. By the reaction of acetone and phenol, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane can be produced with high selectivity and high yield.
[Selection figure] None

Description

本発明はカルボニル化合物とフェノール類とを反応させてビスフェノール類を製造する方法に係り、メルカプト基を有する含窒素化合物で修飾したヘテロポリ酸及び/又はメルカプト基を有する含窒素化合物で修飾したヘテロポリ酸塩を触媒として用いることにより、ビスフェノール類を高選択率かつ高収率で製造するビスフェノール類の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing bisphenols by reacting a carbonyl compound and a phenol, and a heteropoly acid modified with a nitrogen-containing compound having a mercapto group and / or a heteropoly acid salt modified with a nitrogen-containing compound having a mercapto group The present invention relates to a method for producing bisphenols, which produces bisphenols with high selectivity and high yield by using as a catalyst.

2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(以下「ビスフェノールA」と略す。)をはじめとするビスフェノール類は、ポリカーボネート、ポリエステル、エポキシ樹脂や感熱紙用顕色剤の中間原料などとして有用な化合物である。   Bisphenols such as 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane (hereinafter abbreviated as “bisphenol A”) are useful as intermediate materials for polycarbonate, polyester, epoxy resin and thermal paper developer. A compound.

ビスフェノールAは通常、フェノールとアセトンとを触媒(酸性縮合剤)の存在下で反応させることにより合成され、助触媒としてメチルメルカプタンなどのイオウ化合物を添加する場合もある。酸性触媒としては、通常、塩化水素が用いられているが、塩化水素では腐食性が大きいため、実際の製造に当たっては高価な材質を用いた反応装置が必要であり、さらに反応混合物から触媒を除去するための精製工程が必要であるなどの問題点があった。   Bisphenol A is usually synthesized by reacting phenol and acetone in the presence of a catalyst (acid condensing agent), and a sulfur compound such as methyl mercaptan may be added as a co-catalyst. As an acidic catalyst, hydrogen chloride is usually used, but hydrogen chloride is highly corrosive, so a reactor using an expensive material is necessary for actual production, and the catalyst is removed from the reaction mixture. There are problems such as the need for a purification step to achieve this.

また、酸性イオン交換樹脂を触媒として用いる方法(特許文献1)は、反応で生成する水によって活性が低下するという欠点があり、水を除去しながら反応を行う方法(特許文献2)も検討されているが、イオン交換樹脂は、樹脂の寿命が短く、コストが高いという問題点があった。   In addition, the method of using an acidic ion exchange resin as a catalyst (Patent Document 1) has a drawback that the activity is reduced by water produced by the reaction, and a method of performing the reaction while removing water (Patent Document 2) has also been studied. However, the ion exchange resin has a problem that the life of the resin is short and the cost is high.

また、特許文献3にはメルカプトアミン類をイオン結合させた変性強酸性スルホン酸型イオン交換樹脂を使用する方法が提案されている。しかしながら、この方法では、使用前にフェノールで処理することにより変性樹脂中に含まれている水をフェノールに置換してから反応に供する必要があり、操作が煩雑である。また、イオン交換樹脂は水やフェノールによって膨潤するので、工業規模の実施では反応器が大型となり、小型化が困難である。また、イオン交換樹脂そのものの耐熱性が低く劣化しやすいという問題点があった。   Patent Document 3 proposes a method using a modified strongly acidic sulfonic acid type ion exchange resin in which mercaptoamines are ion-bonded. However, in this method, it is necessary to perform the reaction after the water contained in the modified resin is replaced with phenol by treating with phenol before use, and the operation is complicated. In addition, since ion exchange resins swell with water and phenol, the reactor becomes large and difficult to downsize on an industrial scale. In addition, there is a problem that the heat resistance of the ion exchange resin itself is low and easily deteriorates.

一方、特許文献4には、アセトンとフェノールとを、ヘテロポリ酸又はヘテロポリ酸塩及び助触媒としてのメルカプト基を有する有機化合物の存在下に反応させるビスフェノールAの製造方法が開示され、この特許文献4には「メルカプト基を有する有機化合物としては、具体的にはエチルメルカプタン、プロピルメルカプタン、ブチルメルカプタンなどのアルキルメルカプタン類;メルカプトプロピオン酸、メルカプト酢酸などのメルカプトカルボン酸類;メルカプトエタノール、メルカプトブタノールなどのメルカプトアルコール類;メルカプトピリジン、メルカプトニコチン酸、メルカプトピリジノオキサイド、メルカプトピリジノールなどのメルカプトピリジン類;チオフェノール、チオクレゾールなどのチオフェノール類などが挙げられるが、アルキルメルカプタン類やメルカプトカルボン酸類が特に好ましい。」との記載があるが、実施例ではブチルメルカプタンがヘテロポリ酸またはヘテロポリ酸のセシウム塩と併用して用いられているのみである。   On the other hand, Patent Document 4 discloses a process for producing bisphenol A in which acetone and phenol are reacted in the presence of a heteropolyacid or heteropolyacid salt and an organic compound having a mercapto group as a promoter. "Specific examples of the organic compound having a mercapto group include alkyl mercaptans such as ethyl mercaptan, propyl mercaptan and butyl mercaptan; mercaptocarboxylic acids such as mercaptopropionic acid and mercaptoacetic acid; mercaptoethanol such as mercaptoethanol and mercaptobutanol. Alcohols; mercaptopyridines such as mercaptopyridine, mercaptonicotinic acid, mercaptopyridinooxide, and mercaptopyridinol; thiophenols such as thiophenol and thiocresol It is, but it is described that alkyl mercaptans and mercapto carboxylic acids are particularly preferred. "In the embodiment only butyl mercaptan is used in combination with the cesium salt of heteropoly acid or heteropoly acid.

また、特許文献5には、触媒としてヘテロポリ酸又はその塩を用いるビスフェノール類の製造方法が開示され、「ヘテロポリ酸のプロトンの一部をアルカリ金属、アルカリ土類金属元素などで置換したヘテロポリ酸塩を用いることが可能である。置換元素としてはこれらに限定されるものではなく、広く遷移金属元素などで置換されたものを使用することも可能である。同じく、各種の含窒素化合物でヘテロポリ酸のプロトンの一部を置換したものも用いることが可能である。」との記載があるが、特許文献5において、実際に用いているヘテロポリ酸のプロトンの置換体はセシウム塩とナトリウム塩とカルシウム塩のみである。
特公昭36−23334号公報 特開昭61−78741号公報 特開昭62−298454号公報 特許第3003294号公報 特開平2−45439号公報
Patent Document 5 discloses a method for producing bisphenols using a heteropolyacid or a salt thereof as a catalyst. “A heteropolyacid salt in which a part of protons of a heteropolyacid is substituted with an alkali metal, an alkaline earth metal element, or the like. Substitution elements are not limited to these, and those widely substituted with transition metal elements, etc. can also be used. It is also possible to use those obtained by substituting a part of the protons in the above formula. "However, in Patent Document 5, the proton-substituted products of the heteropolyacid actually used are cesium salts, sodium salts and calcium. Only salt.
Japanese Patent Publication No. 36-23334 Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-78741 JP-A-62-298454 Japanese Patent No. 3003294 JP-A-2-45439

しかし、特許文献5の方法では、例えばフェノールとアセトンとの反応において、ヘテロポリ酸中の結晶水が多い場合には、60℃、4時間でアセトン転化率2.5%、収率2.0%と非常に反応が遅くなるという欠点があった。   However, in the method of Patent Document 5, for example, when there is a large amount of water of crystallization in the heteropolyacid in the reaction between phenol and acetone, the acetone conversion is 2.5% and the yield is 2.0% at 60 ° C. for 4 hours. There was a drawback that the reaction was very slow.

また、特許文献4の方法では、助触媒を併用する必要があり、生成物であるビスフェノールAと助触媒との分離が困難になるという欠点があった。   Further, the method of Patent Document 4 has a drawback that it is necessary to use a cocatalyst together and it is difficult to separate the product bisphenol A and the cocatalyst.

本発明は上記従来技術の問題点を解決し、アセトン等のカルボニル化合物とフェノール等のフェノール類との反応で、ビスフェノールA等のビスフェノール類を高選択率かつ高収率で製造する方法を提供することを目的とする。   The present invention solves the above-mentioned problems of the prior art and provides a method for producing bisphenols such as bisphenol A with high selectivity and high yield by reaction of a carbonyl compound such as acetone and a phenol such as phenol. For the purpose.

本発明(請求項1)のビスフェノール類の製造方法は、カルボニル化合物とフェノール類とを反応させてビスフェノール類を製造する方法において、メルカプト基を有する含窒素化合物で修飾したヘテロポリ酸及び/又はメルカプト基を有する含窒素化合物で修飾したヘテロポリ酸塩の存在下に反応を行うことを特徴とする。   The method for producing bisphenols according to the present invention (Claim 1) is a method for producing bisphenols by reacting a carbonyl compound with phenols, and a heteropolyacid and / or a mercapto group modified with a nitrogen-containing compound having a mercapto group. The reaction is carried out in the presence of a heteropolyacid salt modified with a nitrogen-containing compound having

請求項2のビスフェノール類の製造方法は、メルカプト基を有する含窒素化合物が、メルカプトピリジン類及びメルカプトアミン類よりなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物であることを特徴とする。   The method for producing bisphenols according to claim 2 is characterized in that the nitrogen-containing compound having a mercapto group is at least one compound selected from the group consisting of mercaptopyridines and mercaptoamines.

請求項3のビスフェノール類の製造方法は、ヘテロポリ酸塩がヘテロポリ酸のアルカリ金属塩であることを特徴とする。   The method for producing bisphenols according to claim 3 is characterized in that the heteropolyacid salt is an alkali metal salt of a heteropolyacid.

本発明によれば、触媒として、メルカプト基を有する含窒素化合物で修飾したヘテロポリ酸及び/又はメルカプト基を有する含窒素化合物で修飾したヘテロポリ酸塩を用いることにより、ビスフェノールA等のビスフェノール類を高選択率かつ高収率で製造することができる。本発明で用いる触媒は調製が容易であり、取り扱い性に優れ、反応後の触媒の分離・回収が容易となり、しかも従来のイオン交換樹脂に比べて耐熱性に優れ、また、膨潤の問題も少なく、ビスフェノール類を高選択率かつ高収率で製造できることから、反応器の小型化が可能となり、このような触媒の優位性においても、本発明は工業的に優れた方法である。   According to the present invention, by using a heteropolyacid modified with a nitrogen-containing compound having a mercapto group and / or a heteropolyacid salt modified with a nitrogen-containing compound having a mercapto group as a catalyst, bisphenols such as bisphenol A are increased. It can be produced with high selectivity and high yield. The catalyst used in the present invention is easy to prepare, easy to handle, easy to separate and recover the catalyst after reaction, has excellent heat resistance compared to conventional ion exchange resins, and has few problems of swelling. Since bisphenols can be produced with a high selectivity and a high yield, the reactor can be miniaturized, and the present invention is an industrially excellent method even in the superiority of such a catalyst.

以下に本発明のビスフェノール類の製造方法の実施の形態を詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the method for producing bisphenols of the present invention will be described in detail.

まず、本発明で用いる触媒について説明する。   First, the catalyst used in the present invention will be described.

本発明で用いる触媒は、メルカプト基を有する含窒素化合物で修飾したヘテロポリ酸及び/又はメルカプト基を有する含窒素化合物で修飾したヘテロポリ酸塩である。   The catalyst used in the present invention is a heteropolyacid modified with a nitrogen-containing compound having a mercapto group and / or a heteropolyacid salt modified with a nitrogen-containing compound having a mercapto group.

本発明において用いるヘテロポリ酸は、モリブデン、タングステン、及びバナジウムよりなる群から選ばれた少なくとも1種の酸化物と、リン、ケイ素、ヒ素及びゲルマニウムよりなる群から選ばれたオキシ酸が縮合した構造で、通常は後者に対する前者の原子比が2.5〜12であるようなものが入手も容易であり好ましく用いられる。これらのヘテロポリ酸としては、例えばリンタングステン酸、リンモリブデン酸、リンモリブドタングステン酸、リンモリブドバナジン酸、リンモリブドタングストバナジン酸、リンタングストバナジン酸、リンモリブドニオブ酸、ケイタングステン酸、ケイモリブデン酸、ケイモリブドタングステン酸、ケイモリブドタングストバナジン酸、ゲルマニウムタングステン酸、ヒ素モリブデン酸、ヒ素タングステン酸などが挙げられる。   The heteropolyacid used in the present invention has a structure in which at least one oxide selected from the group consisting of molybdenum, tungsten, and vanadium and an oxyacid selected from the group consisting of phosphorus, silicon, arsenic, and germanium are condensed. Usually, those having an atomic ratio of 2.5 to 12 with respect to the latter are easily available and preferably used. These heteropolyacids include, for example, phosphotungstic acid, phosphomolybdic acid, phosphomolybdotungstic acid, phosphomolybdovanadic acid, phosphomolybdotungstovanadic acid, phosphotungstovanadic acid, phosphomolybdniobic acid, silicotungstic acid, Examples thereof include silicomolybdic acid, silicomolybdotungstic acid, silicomolybdo-tungstovanadic acid, germanium tungstic acid, arsenic molybdic acid, and arsenic tungstic acid.

ヘテロポリ酸としては、これらのうち、特にリンタングステン酸又はケイタングステン酸が目的とする反応に対する選択率や収率も高く入手も容易であり好ましい。即ち、本発明において用いる触媒としては、メルカプト基を有する含窒素化合物で修飾したリンタングステン酸又はケイタングステン酸が好ましい。   Among these, heteropolyacids are preferred because they are particularly high in selectivity and yield for the intended reaction of phosphotungstic acid or silicotungstic acid. That is, the catalyst used in the present invention is preferably phosphotungstic acid or silicotungstic acid modified with a nitrogen-containing compound having a mercapto group.

本発明で用いるメルカプト基を有する含窒素化合物で修飾したヘテロポリ酸は、このようなヘテロポリ酸中の水素の一部又は全部をメルカプト基を有する含窒素化合物で置換したものである。即ち、メルカプト基を有する含窒素化合物は、含窒素部分に塩基性を有しているので、これをヘテロポリ酸と混合することにより、酸塩基反応を起こし、ヘテロポリ酸の酸性部分とメルカプト基を有する含窒素化合物の塩基性部分とがイオン結合によって結合する。このような作用により、ヘテロポリ酸の水素がメルカプト基を有する含窒素化合物に置換される。
その置換割合(メルカプト基を有する含窒素化合物で置換する前のヘテロポリ酸中の水素に対する、メルカプト基を有する含窒素化合物で置換された水素の割合)は、ヘテロポリ酸の構造によっても異なるが、60モル%以上であることが好ましく、特に75モル%以上95モル%以下であることが好ましい。この置換割合が60モル%未満ないし95モル%より高い場合では収率や選択率が著しく低下する場合がある。
The heteropolyacid modified with a nitrogen-containing compound having a mercapto group used in the present invention is obtained by substituting a part or all of hydrogen in such a heteropolyacid with a nitrogen-containing compound having a mercapto group. That is, since the nitrogen-containing compound having a mercapto group has basicity in the nitrogen-containing part, an acid-base reaction is caused by mixing this with a heteropolyacid, thereby having an acidic part of the heteropolyacid and a mercapto group. The basic moiety of the nitrogen-containing compound is bound by an ionic bond. By such an action, the hydrogen of the heteropolyacid is replaced with a nitrogen-containing compound having a mercapto group.
The substitution ratio (ratio of hydrogen substituted with a nitrogen-containing compound having a mercapto group with respect to hydrogen in the heteropolyacid before substitution with a nitrogen-containing compound having a mercapto group) varies depending on the structure of the heteropolyacid. It is preferably at least mol%, particularly preferably at least 75 mol% and not more than 95 mol%. When this substitution ratio is less than 60 mol% or higher than 95 mol%, the yield and selectivity may be remarkably lowered.

一方、本発明で用いるヘテロポリ酸塩としては、上述のようなヘテロポリ酸のアルカリ金属塩、好ましくはリンタングステン酸又はケイタングステン酸のアルカリ金属塩が挙げられ、特に好ましくはこれらのヘテロポリ酸のセシウム塩が挙げられる。   On the other hand, examples of the heteropolyacid salt used in the present invention include alkali metal salts of heteropolyacids as described above, preferably phosphotungstic acid or silicotungstic acid, particularly preferably cesium salts of these heteropolyacids. Is mentioned.

このヘテロポリ酸塩とは、ヘテロポリ酸中の水素の一部又は全部を金属で置換した塩であり、中でも水素の一部を置換したものが好ましい。その置換率(金属で置換する前のヘテロポリ酸中の水素に対する、金属で置換された水素の割合)は通常30モル%以上、好ましくは40〜80モル%、更に好ましくは50〜70モル%であり、この置換率が30モル%未満では収率や選択率が著しく低下する場合がある。   This heteropolyacid salt is a salt in which part or all of the hydrogen in the heteropolyacid has been replaced with a metal, and among them, one in which a part of hydrogen has been replaced is preferable. The substitution rate (ratio of hydrogen substituted with metal to hydrogen in heteropolyacid before substitution with metal) is usually 30 mol% or more, preferably 40 to 80 mol%, more preferably 50 to 70 mol%. If the substitution rate is less than 30 mol%, the yield and selectivity may be significantly reduced.

本発明で用いるメルカプト基を有する含窒素化合物で修飾したヘテロポリ酸塩は、このようなヘテロポリ酸塩中の残った水素の一部又は全部をメルカプト基を有する含窒素化合物で置換したものであり、その置換割合は、そのヘテロポリ酸の構造によっても異なるが、金属で置換されずに、また含窒素化合物で置換されずに残った水素が、本来のヘテロポリ酸(メルカプト基を有する含窒素化合物及び金属で置換される前のヘテロポリ酸)の水素の30モル%未満であることが好ましく、特に5〜20モル%であることが好ましい。この残った水素の割合が5モル%未満である場合或いは20モル%より高い場合では、収率や選択率が著しく低下する場合がある。なお、以下において、この残った水素の割合を水素残存率と称す。   The heteropolyacid salt modified with a nitrogen-containing compound having a mercapto group used in the present invention is obtained by substituting part or all of the remaining hydrogen in such a heteropolyacid salt with a nitrogen-containing compound having a mercapto group, The substitution ratio varies depending on the structure of the heteropolyacid, but the hydrogen remaining without being replaced with a metal or with a nitrogen-containing compound is converted into the original heteropolyacid (a nitrogen-containing compound having a mercapto group and a metal). It is preferable that it is less than 30 mol% of hydrogen of the heteropoly acid before being substituted with, and particularly preferably 5 to 20 mol%. When the ratio of the remaining hydrogen is less than 5 mol% or higher than 20 mol%, the yield and selectivity may be remarkably lowered. Hereinafter, the ratio of the remaining hydrogen is referred to as a hydrogen remaining ratio.

なお、触媒としてメルカプト基を有する含窒素化合物で修飾したヘテロポリ酸塩を用いる利点は、ヘテロポリ酸をヘテロポリ酸塩とすることにより、水素(ブレンステッド酸点)を制御し、水素とメルカプト基を有する含窒素化合物とのバランスがよくなる結果、触媒の活性点を増やして触媒活性及び選択性を高めることにある。   The advantage of using a heteropolyacid salt modified with a nitrogen-containing compound having a mercapto group as a catalyst is that the heteropolyacid is a heteropolyacid salt, thereby controlling hydrogen (Bronsted acid point) and having hydrogen and a mercapto group. As a result of improving the balance with the nitrogen-containing compound, the active point of the catalyst is increased to increase the catalytic activity and selectivity.

修飾に用いられるメルカプト基を有する含窒素化合物は、例えば、2−メルカプトエチルアミン、3−メルカプトブチルアミン、3−n−プロピルアミノ−1−プロピルメルカプタン、2−ジエチルアミノエチルメルカプタン等のメルカプトアルキルアミン(又はアミノアルキルメルカプタン);3−メルカプトメチルピリジン、3−メルカプトエチルピリジン、4−メルカプトエチルピリジン等のメルカプトアルキルピリジン;チアゾリジン、2,2−ジメチルチアゾリジン、シクロアルキルチアゾリジン、2−メチル−2−フェニルチアゾリジン、3−メチルチアゾリジン等のチアゾリジン;1,4−アミノチオフェノール等のアミノチオフェノール等が挙げられる。特に好ましくは、メルカプトアルキルアミン(アルキル基の炭素数は好ましくは1〜10、より好ましくは1〜5、更に好ましくは1〜3)などのメルカプトアミン類及びメルカプトアルキルピリジン(アルキル基の炭素数は好ましくは1〜10、より好ましくは1〜5、更に好ましくは1〜3)などのメルカプトピリジン類である。   The nitrogen-containing compound having a mercapto group used for the modification is, for example, mercaptoalkylamine (or amino) such as 2-mercaptoethylamine, 3-mercaptobutylamine, 3-n-propylamino-1-propylmercaptan, 2-diethylaminoethylmercaptan. Alkyl mercaptans); mercaptoalkylpyridines such as 3-mercaptomethylpyridine, 3-mercaptoethylpyridine, 4-mercaptoethylpyridine; thiazolidine, 2,2-dimethylthiazolidine, cycloalkylthiazolidine, 2-methyl-2-phenylthiazolidine, 3 -Thiazolidine such as methylthiazolidine; aminothiophenol such as 1,4-aminothiophenol; Particularly preferably, mercaptoamines such as mercaptoalkylamine (the carbon number of the alkyl group is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, and still more preferably 1 to 3) and mercaptoalkylpyridine (the carbon number of the alkyl group is Preferred are mercaptopyridines such as 1 to 10, more preferably 1 to 5, and still more preferably 1 to 3).

前記したメルカプト基を有する含窒素化合物は、塩酸等の酸性物質の付加塩や第4級アンモニウム塩であることができる。また、修飾における処理条件においてメルカプト基を生じる化合物であることもできる。   The aforementioned nitrogen-containing compound having a mercapto group can be an addition salt of an acidic substance such as hydrochloric acid or a quaternary ammonium salt. Moreover, it can also be a compound which produces a mercapto group under the treatment conditions in modification.

メルカプト基を有する含窒素化合物で修飾したヘテロポリ酸及び/又はメルカプト基を有する含窒素化合物で修飾したヘテロポリ酸塩は、1種を単独で用いても良く、2種以上を併用しても良い。   The heteropolyacid modified with a nitrogen-containing compound having a mercapto group and / or the heteropolyacid salt modified with a nitrogen-containing compound having a mercapto group may be used alone or in combination of two or more.

本発明で触媒として用いる、メルカプト基を有する含窒素化合物で修飾したヘテロポリ酸、及び、メルカプト基を有する含窒素化合物で修飾したヘテロポリ酸塩の製造方法は特に限定されず、常法に従って調製することができる。
例えばメルカプト基を有する含窒素化合物で修飾したヘテロポリ酸塩であれば、市販のヘテロポリ酸を水、アルコール類、エーテル類などの溶媒に0.01〜10mol/L程度の濃度に溶解し、これにメルカプト基を有する含窒素化合物や、その塩酸等の酸性物質の付加塩や第4級アンモニウム塩を直接、あるいは水、アルコール類、エーテル類などに0.01〜10mol/L程度の濃度に溶解した溶液として添加混合する方法が挙げられる。
また、メルカプト基を有する含窒素化合物で修飾したヘテロポリ酸塩は、対応する金属(セシウム等のアルカリ金属)の硝酸塩又は塩化物を直接、あるいは水、アルコール類、エーテル類などの溶液として、さらに上記の溶液に添加混合する方法が挙げられる。
混合溶液中で沈殿析出したメルカプト基を有する含窒素化合物で修飾したヘテロポリ酸又はヘテロポリ酸塩は、遠心分離や濾過により回収後、水、アルコール類、エーテル類などの溶媒により洗浄される。洗浄に用いた溶媒から遠心分離や濾過により回収後、更に乾燥することによりメルカプト基を有する含窒素化合物で修飾したヘテロポリ酸又はヘテロポリ酸塩を得ることができる。混合時間は添加してから30分〜3日間程度、乾燥温度は50〜100℃、乾燥時間は1時間〜3日間程度が好ましい。
The method for producing a heteropolyacid modified with a nitrogen-containing compound having a mercapto group and a heteropolyacid salt modified with a nitrogen-containing compound having a mercapto group used as a catalyst in the present invention is not particularly limited and should be prepared according to a conventional method. Can do.
For example, in the case of a heteropolyacid salt modified with a nitrogen-containing compound having a mercapto group, a commercially available heteropolyacid is dissolved in a solvent such as water, alcohols or ethers at a concentration of about 0.01 to 10 mol / L. Nitrogen-containing compounds having a mercapto group, and addition salts or quaternary ammonium salts of acidic substances such as hydrochloric acid dissolved directly or in water, alcohols, ethers, etc. at a concentration of about 0.01 to 10 mol / L. The method of adding and mixing as a solution is mentioned.
In addition, the heteropoly acid salt modified with a nitrogen-containing compound having a mercapto group may be prepared by adding a nitrate or chloride of the corresponding metal (alkali metal such as cesium) directly or as a solution of water, alcohols, ethers, etc. And a method of adding and mixing to the above solution.
The heteropolyacid or heteropolyacid salt modified with a nitrogen-containing compound having a mercapto group precipitated in the mixed solution is recovered by centrifugation or filtration, and then washed with a solvent such as water, alcohols or ethers. A heteropolyacid or heteropolyacid salt modified with a nitrogen-containing compound having a mercapto group can be obtained by recovering from the solvent used for washing by centrifugation or filtration and further drying. The mixing time is preferably about 30 minutes to 3 days after addition, the drying temperature is 50 to 100 ° C., and the drying time is preferably about 1 hour to 3 days.

本発明においては、異なるメルカプト基を有する含窒素化合物で修飾したヘテロポリ酸及び/又はメルカプト基を有する含窒素化合物で修飾したヘテロポリ酸塩の2種以上を用いても良く、また、メルカプト基を有する含窒素化合物やその置換割合が異なるヘテロポリ酸及び/又はヘテロポリ酸塩の2種以上を用いても良い。また、これらのメルカプト基を有する含窒素化合物で修飾したヘテロポリ酸はそのまま用いることもできるが、活性炭、アルミナ、シリカ−アルミナ、ケイソウ土などの担体に担持して用いても良い。   In the present invention, two or more kinds of heteropolyacids modified with nitrogen-containing compounds having different mercapto groups and / or heteropolyacid salts modified with nitrogen-containing compounds having mercapto groups may be used, and they have mercapto groups. You may use 2 or more types of the heteropoly acid and / or heteropoly acid salt from which a nitrogen-containing compound and its substitution ratio differ. In addition, these heteropolyacids modified with a nitrogen-containing compound having a mercapto group can be used as they are, but they may be used by supporting them on a carrier such as activated carbon, alumina, silica-alumina, diatomaceous earth, or the like.

本発明において、反応に供するカルボニル化合物としては、ケトン又はアルデヒドに属するカルボニル化合物であれば良く、特に制限はないが、具体的には、一般式RCORで表される化合物を挙げることができる。ここで、R及びRは互いに同一であっても相違していても良く、各々が水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数6〜10のシクロアルキル基、炭素数6〜14のアリール基、炭素数7〜20のアルキルアリール基であるカルボニル化合物が、本発明で用いるカルボニル化合物として適している。また、RとRが互いに結合して環を形成した環状ケトン(シクロアルカノン誘導体)も本発明で用いるカルボニル化合物として適している。この場合、環がさらに置換基を有しても良い。 In the present invention, the carbonyl compound to be subjected to the reaction may be a carbonyl compound belonging to a ketone or an aldehyde, and is not particularly limited. Specifically, a compound represented by the general formula R 1 COR 2 may be mentioned. it can. Here, R 1 and R 2 may be the same or different from each other, and each is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group having 6 to 10 carbon atoms, or 6 to 6 carbon atoms. A carbonyl compound having 14 aryl groups or an alkylaryl group having 7 to 20 carbon atoms is suitable as the carbonyl compound used in the present invention. A cyclic ketone (cycloalkanone derivative) in which R 1 and R 2 are bonded to each other to form a ring is also suitable as the carbonyl compound used in the present invention. In this case, the ring may further have a substituent.

好ましいカルボニル化合物としてさらに具体的には、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド等のアルデヒド類、アセトン、メチルエチルケトン、メチル−n−プロピルケトン、及びメチルイソブチルケトン等のR及びRの各々が炭素数12以下、好ましくは6以下のアルキル基である飽和脂肪酸ケトン、フェニルメチルケトン等の芳香族ケトン、メシチルオキシドのような不飽和ケトン、シクロヘキサノン、及び炭素数1〜10のアルキル基を置換基として有するシクロヘキサノン(例えば4−n−プロピルシクロヘキサノン)等の脂環式ケトンを挙げることができる。 More specifically, preferred carbonyl compounds include aldehydes such as formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, and R 1 and R 2 such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl-n-propyl ketone, and methyl isobutyl ketone each having 12 or less carbon atoms. Saturated fatty acid ketones preferably having 6 or less alkyl groups, aromatic ketones such as phenyl methyl ketone, unsaturated ketones such as mesityl oxide, cyclohexanone, and cyclohexanone having 1 to 10 carbon atoms as substituents Examples thereof include alicyclic ketones (for example, 4-n-propylcyclohexanone).

一方、フェノール類として、具体的には、下記一般式で表される化合物を挙げることができる。   On the other hand, specific examples of phenols include compounds represented by the following general formula.

Figure 2008120791
(式中、R〜Rは互いに同一であっても相違していても良く、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、又はハロゲン原子を表す。)
Figure 2008120791
(In formula, R < 3 > -R < 6 > may mutually be same or different, and represents a hydrogen atom, a C1-C4 alkyl group, or a halogen atom.)

本発明においては、特に、フェノール類の芳香族環における置換反応の配向性から、パラ位又はオルト位が無置換(水素原子)であるフェノール誘導体を用いることが好ましい。本発明に用いるフェノール類として、具体的には、フェノール、オルトクレゾール、メタクレゾール、2,6−ジメチルフェノール、テトラメチルフェノール、2,6−ジターシャリーブチルフェノール等のアルキルフェノールやオルトクロロフェノール、メタクロロフェノール、2,6−ジクロロフェノール等のハロゲン化されたフェノール等を挙げることができる。   In the present invention, it is particularly preferable to use a phenol derivative in which the para-position or ortho-position is unsubstituted (hydrogen atom) from the orientation of the substitution reaction in the aromatic ring of the phenol. Specific examples of phenols used in the present invention include phenols, orthocresols, metacresols, 2,6-dimethylphenols, tetramethylphenols, 2,6-ditertiary butylphenols, alkylphenols, orthochlorophenols, and metachlorophenols. And halogenated phenols such as 2,6-dichlorophenol.

上記カルボニル化合物、フェノール類は各々1種を単独で用いても良く、2種以上を併用しても良い。   The carbonyl compounds and phenols may be used alone or in combination of two or more.

カルボニル化合物とフェノール類との反応において、フェノール類の使用量は、カルボニル化合物1molに対して通常は3〜50molであるが、好ましくは5〜20molである。フェノール類の使用量が3mol未満であると、目的とするビスフェノールA等のビスフェノール類の他に、例えば、アセトンとフェノールとの反応ではクロマン類などの副生物が多くなるので好ましくなく、また30molを超えて使用すると、未反応フェノール類の回収量が増大し、生産性が低下するので実用的でない。   In the reaction between the carbonyl compound and the phenol, the amount of the phenol used is usually 3 to 50 mol, preferably 5 to 20 mol, relative to 1 mol of the carbonyl compound. If the amount of phenol used is less than 3 mol, in addition to the desired bisphenol A such as bisphenol A, for example, the reaction of acetone with phenol increases the amount of by-products such as chromans, which is not preferable. If it is used in excess, the recovered amount of unreacted phenols will increase and the productivity will be lowered, which is not practical.

カルボニル化合物とフェノール類との反応において触媒の使用量は、反応性や経済性の面から、通常、反応に供するカルボニル化合物1molに対して0.01〜0.5mol、特に0.05〜0.3molの範囲で用いることが好ましい。   In the reaction between the carbonyl compound and the phenol, the amount of the catalyst used is usually 0.01 to 0.5 mol, particularly 0.05 to 0.005, based on 1 mol of the carbonyl compound subjected to the reaction, from the viewpoint of reactivity and economy. It is preferable to use in the range of 3 mol.

反応温度は通常30〜250℃、好ましくは40〜180℃である。反応時間は触媒量、反応温度にもよるが、通常は2〜12時間である。反応温度が低過ぎたり、反応時間が短か過ぎると反応の進行が遅い等の理由で反応が不十分となり、逆に反応温度が過度に高いと、例えば500℃以上の温度では触媒の結晶構造の損失が大きくなり好ましくなく、また、反応時間が過度に長いと工業的な生産性が阻害される。   The reaction temperature is usually 30 to 250 ° C, preferably 40 to 180 ° C. Although the reaction time depends on the amount of catalyst and the reaction temperature, it is usually 2 to 12 hours. If the reaction temperature is too low or the reaction time is too short, the reaction will be inadequate because of the slow progress of the reaction. Conversely, if the reaction temperature is excessively high, for example, the crystal structure of the catalyst at a temperature of 500 ° C. or higher. This is not preferable because the loss of water is unfavorable, and if the reaction time is excessively long, industrial productivity is hindered.

以下に実施例及び比較例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples.

なお、以下において、ビスフェノールAの収率及び選択率はガスクロマトグラフィ(島津製作所社製、GC−2010、使用カラム:Rtx−5(RESTEK社製))による測定値から、以下の式で算出した。
ビスフェノールAの収率(%)=(生成したビスフェノールA(mol)÷仕込みアセトン量(mol))×100
ビスフェノールAの選択率(%)=(ビスフェノールA収率(%)÷アセトン転化率(%))×100
In the following, the yield and selectivity of bisphenol A were calculated from the measured values by gas chromatography (manufactured by Shimadzu Corporation, GC-2010, column used: Rtx-5 (manufactured by RESTEK)) by the following formula.
Yield of bisphenol A (%) = (generated bisphenol A (mol) ÷ amount of acetone charged (mol)) × 100
Bisphenol A selectivity (%) = (bisphenol A yield (%) ÷ acetone conversion (%)) × 100

なお、アセトンの転化率は以下の式で算出される。
アセトンの転化率(%)=(反応したアセトン量(mol)÷仕込みアセトン量(mol))×100
The conversion rate of acetone is calculated by the following formula.
Acetone conversion (%) = (reacted acetone amount (mol) ÷ added acetone amount (mol)) × 100

また、触媒としてのメルカプト基を有する含窒素化合物で修飾したヘテロポリ酸は、ヘテロポリ酸の水溶液(0.3mol/L)と対応するメルカプト基を有する含窒素化合物の水溶液(0.75mol/L)を、メルカプト基を有する含窒素化合物量が所定の置換量になるように滴下・攪拌混合した後、生じた沈殿を遠心分離し、水洗を行った後に遠心分離して回収し、80℃で一晩乾燥して得られる固体をそのまま用いた。   In addition, the heteropolyacid modified with a nitrogen-containing compound having a mercapto group as a catalyst is obtained by using an aqueous solution of a heteropolyacid (0.3 mol / L) and a corresponding aqueous solution of a nitrogen-containing compound having a mercapto group (0.75 mol / L). Then, after dropping and stirring and mixing so that the amount of the nitrogen-containing compound having a mercapto group is a predetermined substitution amount, the resulting precipitate is centrifuged, washed with water, centrifuged and collected, and then at 80 ° C. overnight. The solid obtained by drying was used as it was.

また、触媒としてのメルカプト基を有する含窒素化合物で修飾したヘテロポリ酸塩は、ヘテロポリ酸の水溶液(0.3mol/L)と対応する金属塩化物又は金属硝酸塩の水溶液(0.6mol/L)を導入イオン量が所定のイオン交換率になるように混合した後、対応するメルカプト基を有する含窒素化合物の水溶液(0.15mol/L)を、メルカプト基を有する含窒素化合物量が所定の置換量になるように滴下・攪拌混合した後、生じた沈殿を遠心分離し、水洗を行った後に遠心分離して回収し、60℃で一晩乾燥して得られる固体をそのまま用いた。   Moreover, the heteropoly acid salt modified with a nitrogen-containing compound having a mercapto group as a catalyst is obtained by using an aqueous solution of a heteropoly acid (0.3 mol / L) and a corresponding aqueous solution of metal chloride or metal nitrate (0.6 mol / L). After mixing so that the amount of introduced ions is a predetermined ion exchange rate, an aqueous solution (0.15 mol / L) of a nitrogen-containing compound having a corresponding mercapto group is replaced with a predetermined substitution amount of the nitrogen-containing compound having a mercapto group. Then, the resulting precipitate was centrifuged, washed with water, centrifuged and collected, and the solid obtained by drying at 60 ° C. overnight was used as it was.

実施例1
還流冷却器及び攪拌器を備えた反応器にフェノール1.88g(20mmol)、2−ジエチルアミノエチルメルカプタン塩酸塩(東京化成工業社製)とリンタングステン酸(HPW1240・28HO、日本無機化学工業社製)とから調製した2−ジエチルアミノエチルメルカプタン2.5当量で修飾したリンタングステン酸0.1g(0.03mmol)(置換率は、リンタングステン酸の酸当量が3当量であるので、2.5/3=83.3モル%に相当と計算される。)を仕込み、アセトン0.12g(2.0mmol)を加え、80℃で6時間反応させた。
このときのビスフェノールAの収率及び選択率は表1に示す通りであった。
Example 1
In a reactor equipped with a reflux condenser and a stirrer, 1.88 g (20 mmol) of phenol, 2-diethylaminoethyl mercaptan hydrochloride (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and phosphotungstic acid (H 3 PW 12 O 40 / 28H 2 O, 0.1 g (0.03 mmol) of phosphotungstic acid modified with 2.5 equivalent of 2-diethylaminoethyl mercaptan prepared from Nippon Inorganic Chemical Industry Co., Ltd. (substitution rate is 3 equivalents of acid equivalent of phosphotungstic acid) Therefore, 2.5 / 3 = 83.3 mol% is calculated.), 0.12 g (2.0 mmol) of acetone was added, and the mixture was reacted at 80 ° C. for 6 hours.
The yield and selectivity of bisphenol A at this time were as shown in Table 1.

比較例1
実施例1の2−ジエチルアミノエチルメルカプタン2.5当量で修飾したリンタングステン酸のかわりに、リンタングステン酸(HPW1240・28HO、日本無機化学工業社製)0.1g(0.03mmol)を用い、さらに2.5当量の2−ジエチルアミノエチルメルカプタン塩酸塩(東京化成工業社製)0.013g(0.075mmol)を加えたほかは実施例1と同様に反応させた。
このときのビスフェノールAの収率及び選択率は表1に示す通りであった。
Comparative Example 1
Instead of phosphotungstic acid modified with 2.5 equivalents of 2-diethylaminoethyl mercaptan of Example 1, 0.1 g (0 of phosphotungstic acid (H 3 PW 12 O 40 / 28H 2 O, manufactured by Nippon Inorganic Chemical Industry Co., Ltd.) 0.03 mmol), and 2.5 equivalents of 2-diethylaminoethyl mercaptan hydrochloride (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) (0.013 g, 0.075 mmol) was added, and the reaction was conducted in the same manner as in Example 1.
The yield and selectivity of bisphenol A at this time were as shown in Table 1.

比較例2
実施例1の2−ジエチルアミノエチルメルカプタン2.5当量で修飾したリンタングステン酸のかわりに、リンタングステン酸(HPW1240・28HO、日本無機化学工業社製)0.1g(0.03mmol)を用いたほかは実施例1と同様に反応させた。
このときのビスフェノールAの収率及び選択率は表1に示す通りであった。
Comparative Example 2
Instead of phosphotungstic acid modified with 2.5 equivalents of 2-diethylaminoethyl mercaptan of Example 1, 0.1 g (0 of phosphotungstic acid (H 3 PW 12 O 40 / 28H 2 O, manufactured by Nippon Inorganic Chemical Industry Co., Ltd.) 0.03 mmol) was used in the same manner as in Example 1.
The yield and selectivity of bisphenol A at this time were as shown in Table 1.

Figure 2008120791
Figure 2008120791

実施例2
還流冷却器及び攪拌器を備えた反応器にフェノール1.88g(20mmol)、硝酸セシウム、2−ジエチルアミノエチルメルカプタン塩酸塩(東京化成工業社製)とリンタングステン酸(HPW1240・28HO、日本無機化学工業社製)とから調製した2−ジエチルアミノエチルメルカプタン1.0当量(2−ジエチルアミノエチルメルカプタンによる置換率が1.0/3=33.3モル%に相当)で修飾したリンタングステン酸セシウム塩(セシウムによる置換率(セシウム置換割合)が1.5/3.0=50モル%、従って、水素残存率は100−(33.3+50)=16.7モル%)0.1g(0.03mmol)を仕込み、アセトン0.12g(2.0mmol)を加え、80℃で3時間反応させた。
このときのビスフェノールAの収率及び選択率は表2に示す通りであった。
Example 2
In a reactor equipped with a reflux condenser and a stirrer, 1.88 g (20 mmol) of phenol, cesium nitrate, 2-diethylaminoethyl mercaptan hydrochloride (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and phosphotungstic acid (H 3 PW 12 O 40 / 28H) And 2 -diethylaminoethyl mercaptan 1.0 equivalent (substitution rate with 2-diethylaminoethyl mercaptan is equivalent to 1.0 / 3 = 33.3 mol%) prepared from 2 O, manufactured by Nippon Inorganic Chemical Co., Ltd. Phosphotungstic acid cesium salt (substitution ratio (cesium substitution ratio) by cesium is 1.5 / 3.0 = 50 mol%, and therefore the hydrogen remaining ratio is 100− (33.3 + 50) = 16.7 mol%). 1 g (0.03 mmol) was charged, 0.12 g (2.0 mmol) of acetone was added, and the mixture was reacted at 80 ° C. for 3 hours.
The yield and selectivity of bisphenol A at this time were as shown in Table 2.

比較例3
実施例2の2−ジエチルアミノエチルメルカプタン1.0当量で修飾したリンタングステン酸セシウム塩のかわりに、リンタングステン酸セシウム塩(セシウムによる置換率(セシウム置換割合)が1.5/3.0=50モル%)0.1g(0.03mmol)を用い、さらに1.0当量の2−ジエチルアミノエチルメルカプタン塩酸塩(東京化成工業社製)0.005g(0.03mmol)を加えたほかは実施例2と同様に反応させた。
このときのビスフェノールAの収率及び選択率は表2に示す通りであった。
Comparative Example 3
Instead of the cesium phosphotungstic salt modified with 1.0 equivalent of 2-diethylaminoethyl mercaptan in Example 2, the cesium phosphotungstic salt (substitution ratio (cesium substitution ratio) with cesium is 1.5 / 3.0 = 50) Example 2 except that 0.1 g (0.03 mmol) of 0.1 mol (0.0 mol%) and 0.005 g (0.03 mmol) of 2-diethylaminoethyl mercaptan hydrochloride (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) were added. It was made to react similarly.
The yield and selectivity of bisphenol A at this time were as shown in Table 2.

比較例4
実施例2の2−ジエチルアミノエチルメルカプタン1.0当量で修飾したリンタングステン酸セシウム塩のかわりに、リンタングステン酸セシウム塩(セシウムによる置換率(セシウム置換割合)が1.5/3.0=50モル%)0.1g(0.03mmol)を用いたほかは実施例2と同様に反応させた。
このときのビスフェノールAの収率及び選択率は表2に示す通りであった。
Comparative Example 4
Instead of the cesium phosphotungstic salt modified with 1.0 equivalent of 2-diethylaminoethyl mercaptan in Example 2, the cesium phosphotungstic salt (substitution ratio (cesium substitution ratio) with cesium is 1.5 / 3.0 = 50) The reaction was conducted in the same manner as in Example 2 except that 0.1 g (0.03 mmol) was used.
The yield and selectivity of bisphenol A at this time were as shown in Table 2.

Figure 2008120791
Figure 2008120791

表1,2より、本発明に従ってメルカプト基を有する含窒素化合物で修飾したヘテロポリ酸又はメルカプト基を有する含窒素化合物で修飾したヘテロポリ酸塩を触媒として用いることにより、ビスフェノールAを高収率、高選択率で製造することができることが分かる。   From Tables 1 and 2, bisphenol A was obtained in high yield and high by using a heteropolyacid modified with a nitrogen-containing compound having a mercapto group or a heteropolyacid salt modified with a nitrogen-containing compound having a mercapto group according to the present invention as a catalyst. It turns out that it can manufacture with a selectivity.

Claims (3)

カルボニル化合物とフェノール類とを反応させてビスフェノール類を製造する方法において、メルカプト基を有する含窒素化合物で修飾したヘテロポリ酸及び/又はメルカプト基を有する含窒素化合物で修飾したヘテロポリ酸塩の存在下に反応を行うことを特徴とするビスフェノール類の製造方法。   In the method of producing bisphenols by reacting a carbonyl compound and a phenol, in the presence of a heteropoly acid modified with a nitrogen-containing compound having a mercapto group and / or a heteropoly acid salt modified with a nitrogen-containing compound having a mercapto group A process for producing bisphenols, characterized by carrying out a reaction. メルカプト基を有する含窒素化合物が、メルカプトピリジン類及びメルカプトアミン類よりなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物である請求項1に記載のビスフェノール類の製造方法。   The method for producing bisphenols according to claim 1, wherein the nitrogen-containing compound having a mercapto group is at least one compound selected from the group consisting of mercaptopyridines and mercaptoamines. ヘテロポリ酸塩がヘテロポリ酸のアルカリ金属塩である請求項1又は2に記載のビスフェノール類の製造方法。   The method for producing bisphenols according to claim 1 or 2, wherein the heteropolyacid salt is an alkali metal salt of a heteropolyacid.
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