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JP2008192784A - サーミス形成用抵抗ペースト - Google Patents

サーミス形成用抵抗ペースト Download PDF

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JP2008192784A
JP2008192784A JP2007024990A JP2007024990A JP2008192784A JP 2008192784 A JP2008192784 A JP 2008192784A JP 2007024990 A JP2007024990 A JP 2007024990A JP 2007024990 A JP2007024990 A JP 2007024990A JP 2008192784 A JP2008192784 A JP 2008192784A
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Fujio Makuta
富士雄 幕田
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Sumitomo Metal Mining Co Ltd
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Sumitomo Metal Mining Co Ltd
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Abstract

【課題】 抵抗温度係数などの優れた特性を有し、抵抗体を形成するペーストと同時に焼成することができ、且つ鉛とビスマスを含まないサーミスタ形成用抵抗ペーストを提供する。
【解決手段】 導電性粒子とガラスフリットと有機ビヒクルとで実質的に構成され、導電性粒子がYRu、NdRu、SmRu、又はGdRuであり、且つガラスフリットがホウケイ酸ガラスやアルミノホウケイ酸ガラスなどの鉛及びビスマスを含まないガラスフリットである。
【選択図】 なし

Description

本発明は、絶縁性セラミック基板上に厚膜サーミスタを形成するために使用される鉛を含まないペーストに関するものである。
従来、サーミスタとしては、ディスク形、厚膜形、薄膜形の3種類が知られている。ディスク形は、金属酸化物を高温で焼結した後、所定形状に成形加工したものである。また、薄膜形は、サーミスタ材料のターゲットをスパッタリングして、絶縁性セラミック基板上にサーミスタ膜を形成したものである。
一方、厚膜形は、サーミスタ材料のペーストを絶縁性セラミック基板上に印刷した後、焼成してサーミスタ膜を形成したものである。この厚膜形は、抵抗値の精度が良いのサーミスタを安価に製造できるという利点を有している。
厚膜形サーミスタの形成に用いるペーストは、導電性粒子、ガラスフリット、及び有機ビヒクルから実質的に構成される。導電性粒子としては、Mn、Ni、Coなど遷移金属の金属酸化物の固溶体が一般に使用されている。導電性粒子としてMn、Ni、Coなど遷移金属の金属酸化物の固溶体が使用されるのは、主に材料組成を変えることによって、広い範囲にわたってサーミスタ特性を任意に制御することができるからである。
また、ガラスフリットとしては、ホウケイ酸鉛ガラス(PbO−SiO−B)やアルミノホウケイ酸鉛ガラス(PbO−SiO−B−Al)など、鉛を含むホウケイ酸鉛系ガラスが使われている。ガラスフリットにホウケイ酸鉛系ガラスが用いられるのは、上記した金属酸化物との濡れ性が良く、焼成時の粘性などが適しているからである。
しかし、このような従来のサーミスタ用ペーストは、焼成温度が900℃以上と高く、抵抗ペーストと同時に焼成すことができなかった。また、先にサーミスタ用ペーストを焼成してから抵抗ペーストを焼成すると、先に焼成したサーミスタの抵抗値が変化してしまうという問題があった。
一方、最近では環境保護の観点から、電子部品の鉛フリ−化が進み、抵抗ペーストについても鉛のフリ−化が強く望まれている。このような観点から、抵抗又はサーミスタ形成用の鉛を含まない厚膜ペーストの研究がなされ、例えば特開平8−253342号公報には、Ru系導電材料と鉛を含まないガラスを用いたペーストが提案されている。
しかし、上記特開平08−253342号公報に記載のペーストは、酸化ビスマスを含むガラスフリットを用いている。ガラスフリット中の酸化ビスマスには抵抗値を下げる効果があることから、所定の抵抗値を得るためには、抵抗体中の導電性粒子の割合を少なくする必要があり、その結果得られる抵抗体の抵抗値のばらつきやノイズが大きくなるという問題があった。
特開平8−253342号公報
本発明は、このような従来の事情に鑑み、抵抗温度係数などの優れた特性を有する厚膜サーミスタを形成することができるペーストを提供すること、特に、抵抗体を形成するペーストと同時に焼成することができ、且つ鉛を含まないサーミスタ形成用のペーストを提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、本発明が提供するサーミスタ形成用抵抗ペーストは、導電性粒子とガラスフリットと有機ビヒクルとで実質的に構成され、該導電性粒子がYRu、NdRu、SmRu、及びGdRuから選ばれた少なくとも1種であり、且つガラスフリットが鉛及びビスマスを含まないガラスフリットであることを特徴とする。
本発明によれば、厚膜サーミスタと抵抗体を含む電子回路を作製する場合に、サーミスタと抵抗体をペーストの同時焼成により形成することができるので、抵抗値の精度を維持できると共に、抵抗温度係数などの優れた特性を有するサーミスタを安価に製造することができる。また、本発明のペースト及びそれを用いて形成される厚膜サーミスタから有害な鉛を排除することによって、環境汚染の問題を無くすことができる。
本発明のサーミスタ形成用抵抗ペーストにおいては、導電性粒子として、YRu、NdRu、SmRu、GdRuのいずれか1種を用いるか、又は2種以上を併用する。抵抗値のばらつき及びノイズの悪化を防ぐためには、厚膜抵抗体中の導電パスを微細にする必要があり、そのためには上記した導電性粒子の平均粒径は1.0μm以下であることが望ましい。
これら導電性粒子は、各種の製法で得られたものを使用することができる。例えば、YRu、NdRu、SmRu、あるいはGdRuは、Y、Nd、Sm又はGdのいずれかの粉末と、RuOの粉末とを混合し、焙焼した後、粉砕する方法によって、それぞれ製造することができる。
また、ガラスフリットは、鉛及びビスマスを含まないものであれば、その組成に特に制限はない。例えば、ホウケイ酸ガラス、アルミノホウケイ酸ガラス、ホウケイ酸アルカリ土類ガラス、ホウケイ酸アルカリガラス、ホウケイ酸亜鉛ガラスなどを用いることができる。また、抵抗値のばらつき及びノイズの悪化を防ぐには、厚膜抵抗体中の導電パスを微細にする必要があり、そのためには、ガラスフリットの平均粒径は5μm以下であることが好ましい。
有機ビヒクルは、導電性粒子とガラスフリットを印刷に適したペースト状にするためのものである。有機ビヒクルとしては、抵抗又はサーミスタ形成用のペーストに通常使用されているものであってよく、例えば、エチルセルロ−ス、ブチラ−ル、アクリルなどの樹脂を、タ−ピネオ−ル、ブチルカルビト−ルアセテ−トなどの溶剤に溶解したものが用いられる。
尚、本発明のサーミスタ形成用抵抗ペーストにおいては、上記した必須成分の他に、厚膜抵抗体や厚膜サーミスタの電気的特性を調整するために従来から通常使用されている種々の添加剤、あるいは、分散剤、可塑剤などを適宜添加することができる。また、本発明のサーミスタ形成用抵抗ペーストの製造は、ロールミルなどの市販の粉砕装置を用いて、各成分を通常のごとく粉砕混練すればよい。
本発明のサーミスタ形成用抵抗ペーストは、絶縁性セラミックなどの基板上に印刷した後、750℃以上900℃未満の温度で焼成することによって、厚膜サーミスタを形成することができる。このように900℃未満の温度で焼成できるため、抵抗ペーストと同時に焼成すことが可能であり、サーミスタの抵抗値変化を防ぐことができる。
[実施例1]
Ruをアルカリ溶解して得たNaRuOの水溶液に、エタノ−ルを含むY(NO)の水溶液を添加して沈殿物を得た。この沈殿物をろ過して洗浄し、800℃で2時間焙焼して、YRu粉末を作製した。このYRu粉末の平均粒径は100nmであった。
このYRu粉末と、ガラスフリットA(24重量%SiO−18重量%B−8重量%Al−5重量%CaO−27重量%BaO−15重量%ZnO−2重量%ZrO−1重量%SnO)と、エチルセルロ−スとタ−ピネオ−ルを主成分とする有機ビヒクルとを、下記表1に示す配合で混合し、三本ロ−ルミルで混練することにより、試料1〜3のペーストをそれぞれ作製した。
これらのペーストを、それぞれアルミナ基板上に1mm×1mmのサイズにスクリ−ン印刷し、150℃で10分間乾燥した後、ベルト炉にてピ−ク温度850℃で9分間焼成した。得られた試料1〜3の厚膜サーミスタについて、面積抵抗値と抵抗温度係数(TCR)を測定し、その結果を下記表1に併せて示した。サーミスタの抵抗値は、KEITHLEY社製のModel2001Multimeterを用い、4端子法にて測定した。
尚、抵抗温度係数(TCR)は、下記計算式により求めた。
高温抵抗温度係数(HTCR)=[(R125−R25)]/R25(125−25)]×10ppm/℃
低温抵抗温度係数(CTCR)=[(R−55−R25)]/R25(−55−25)]×10ppm/℃
上記計算式において、R25は25℃での抵抗値、R125は125℃での抵抗値、R−55は−55℃での抵抗値である。
Figure 2008192784
[実施例2]
Ruをアルカリ溶解して得たNaRuOの水溶液に、エタノ−ルを含むNd(NO)の水溶液を添加して沈殿物を得た。この沈殿物をろ過して洗浄し、800℃で2時間焙焼して、NdRu粉末を作製した。このNdRu粉末の平均粒径は130nmであった。
また、Ruをアルカリ溶解して得たNaRuOの水溶液に、エタノ−ルを含むSm(NO)の水溶液を添加して沈殿物を得た。この沈殿物をろ過して洗浄し、800℃で2時間焙焼して、SmRu粉末を作製した。このSmRu粉末の平均粒径は90nmであった。
上記実施例1のYRu粉末(試料4)、上記したNdRu粉末(試料5)及びSmRu粉末(試料6)と、ガラスフリットB(60重量%SiO−5重量%B−11重量%Al−3重量%LiO−8重量%NaO−13重量%ZnO)と、エチルセルロ−スとタ−ピネオ−ルを主成分とする有機ビヒクルとを、下記表2に示す配合(ただし、有機ビヒクルは全て40重量%)で混合し、三本ロ−ルミルで混練することにより、試料4〜6のペーストをそれぞれ作製した。
これらのペーストを用い、上記実施例1と同様にして厚膜サーミスタを形成した。得られた試料4〜6の厚膜サーミスタについて、電気的特性を上記実施例1と同様に測定し、得られた結果を下記表2に併せて示した。
Figure 2008192784
[実施例3]
Ruをアルカリ溶解して得たNaRuOの水溶液に、エタノ−ルを含むGd(NO)の水溶液を添加して沈殿物を得た。この沈殿物をろ過して洗浄し、800℃で2時間焙焼して、GdRu粉末を作製した。このGdRu粉末の平均粒径は100nmであった。
このGdRu粉末と、上記実施例1で用いたガラスフリットAと、エチルセルロ−スとタ−ピネオ−ルを主成分とする有機ビヒクルとを、下記表3に示す配合で混合し、三本ロ−ルミルで混練することにより、試料7〜9のペーストをそれぞれ作製した。
これらのペーストを用い、上記実施例1と同様にして厚膜サーミスタを形成した。得られた試料7〜9の厚膜サーミスタについて、電気的特性を上記実施例1と同様に測定し、得られた結果を下記表3に併せて示した。
Figure 2008192784
上記した表1〜3の結果から、本発明よるサーミスタ形成用抵抗ペーストは、抵抗値の温度による変化率が大きく、サーミスタ形成用として好適であることが分る。しかも、本発明よるサーミスタ形成用抵抗ペーストは、その成分である導電性粒子及びガラスフリット中に鉛を含まず、従って環境汚染を引き起こすことなく使用することができる。

Claims (1)

  1. 導電性粒子とガラスフリットと有機ビヒクルとで実質的に構成されるサーミス形成用抵抗ペーストであって、該導電性粒子がYRu、NdRu、SmRu、及びGdRuから選ばれた少なくとも1種であり、且つガラスフリットが鉛及びビスマスを含まないガラスフリットであることを特徴とするサーミス形成用抵抗ペースト。
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