JP2008179608A - 光過敏性1,3,5−トリアジン誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体、及び2つのアミノベンゾエート又はアミノベンズアミド基で置換されたケイ素含有s−トリアジンを含有する光保護組成物 - Google Patents
光過敏性1,3,5−トリアジン誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体、及び2つのアミノベンゾエート又はアミノベンズアミド基で置換されたケイ素含有s−トリアジンを含有する光保護組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008179608A JP2008179608A JP2007306895A JP2007306895A JP2008179608A JP 2008179608 A JP2008179608 A JP 2008179608A JP 2007306895 A JP2007306895 A JP 2007306895A JP 2007306895 A JP2007306895 A JP 2007306895A JP 2008179608 A JP2008179608 A JP 2008179608A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- triazine
- formula
- derivatives
- derivative
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 0 CCCC*C(C(C=C1)=CCC=C1Nc1nc(I2*C2)nc(NCCCC(C)C(C)(C)*(C)*I)n1)=O Chemical compound CCCC*C(C(C=C1)=CCC=C1Nc1nc(I2*C2)nc(NCCCC(C)C(C)(C)*(C)*I)n1)=O 0.000 description 2
- WDMZWHXKTCRBRV-NBFOIZRFSA-N CCCCOC(C1C=CC(C)=C[C@@H]1C)=C Chemical compound CCCCOC(C1C=CC(C)=C[C@@H]1C)=C WDMZWHXKTCRBRV-NBFOIZRFSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/58—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing atoms other than carbon, hydrogen, halogen, oxygen, nitrogen, sulfur or phosphorus
- A61K8/585—Organosilicon compounds
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/33—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing oxygen
- A61K8/35—Ketones, e.g. benzophenone
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/49—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing heterocyclic compounds
- A61K8/494—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing heterocyclic compounds with more than one nitrogen as the only hetero atom
- A61K8/4966—Triazines or their condensed derivatives
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/72—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic macromolecular compounds
- A61K8/84—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic macromolecular compounds obtained by reactions otherwise than those involving only carbon-carbon unsaturated bonds
- A61K8/89—Polysiloxanes
- A61K8/891—Polysiloxanes saturated, e.g. dimethicone, phenyl trimethicone, C24-C28 methicone or stearyl dimethicone
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P17/00—Drugs for dermatological disorders
- A61P17/04—Antipruritics
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
- A61Q17/00—Barrier preparations; Preparations brought into direct contact with the skin for affording protection against external influences, e.g. sunlight, X-rays or other harmful rays, corrosive materials, bacteria or insect stings
- A61Q17/04—Topical preparations for affording protection against sunlight or other radiation; Topical sun tanning preparations
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
- A61Q19/00—Preparations for care of the skin
- A61Q19/04—Preparations for care of the skin for chemically tanning the skin
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K2800/00—Properties of cosmetic compositions or active ingredients thereof or formulation aids used therein and process related aspects
- A61K2800/40—Chemical, physico-chemical or functional or structural properties of particular ingredients
- A61K2800/42—Colour properties
- A61K2800/43—Pigments; Dyes
- A61K2800/434—Luminescent, Fluorescent; Optical brighteners; Photosensitizers
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K2800/00—Properties of cosmetic compositions or active ingredients thereof or formulation aids used therein and process related aspects
- A61K2800/40—Chemical, physico-chemical or functional or structural properties of particular ingredients
- A61K2800/52—Stabilizers
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Birds (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Dermatology (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Bioinformatics & Cheminformatics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Pharmacology & Pharmacy (AREA)
- Cosmetics (AREA)
- Silicates, Zeolites, And Molecular Sieves (AREA)
Abstract
【解決手段】(a)少なくとも一のジベンゾイルメタン誘導体と、(b)ジベンゾイルメタン誘導体の存在下で光過敏性である少なくとも一の1,3,5-トリアジン誘導体と、(c)特定の式(I)の2つのアミノベンゾエート又はアミノベンズアミド基で置換された少なくとも一のケイ素含有s-トリアジン化合物又はその互変異性型を生理学的に許容可能な担体に含有してなることを特徴とする化粧品又は皮膚用組成物。またジベンゾイルメタン誘導体の存在下で光過敏性の1,3,5-トリアジン誘導体の紫外線に対する安定性(光安定性)を改善する方法において、2つのアミノベンゾエート又はアミノベンズアミド基で置換された少なくとも一のケイ素含有s-トリアジン化合物を前記組合せに添加する組成物。
【選択図】なし
Description
(a)少なくとも一のジベンゾイルメタン誘導体型の紫外線遮蔽剤と、
(b)ジベンゾイルメタン誘導体の存在下で光過敏性である少なくとも一の1,3,5-トリアジン型の紫外線遮蔽剤と、
(c)以下に詳細に定義する、式(I)の2つのアミノベンゾエート又はアミノベンズアミド基で置換された少なくとも一のケイ素含有s-トリアジン化合物又はその互変異性型、
を含有することを特徴とする組成物に関する。
また、320から400nmの範囲の波長を有し、皮膚を褐色にする原因であるUV-A線も、皮膚に好ましくない変化を誘発するおそれがあることが知られており、敏感肌又は絶えず太陽光線にさらされている皮膚の場合は特にしかりである。UV-A線は、特に、皮膚の弾性を喪失させ、シワを出現せしめ、皮膚を時期尚早の老化に導く原因となる。UV-A線は紅斑反応の惹起を誘発したり、ある個体においてはこの反応を増幅させ、光毒性又は光アレルギー反応の原因にさえもなりうる。従って、例えば皮膚本来の弾力性を維持するというような美的及び美容的理由から、益々多くの人々が皮膚へのUV-A線の影響をコントロールすることを望んでいる。よって、UV-A線も遮蔽することが望ましい。
− 2,4,6-トリス[p-(2'-エチルヘキシル-1'-オキシカルボニル)アニリノ]-1,3,5-トリアジン、又はエチルヘキシルトリアゾン(INCI名)で、BASF社からユビヌル(Uvinul)T150の商品名で販売されているもの;
− 2-[(p-(tert-ブチルアミド)アニリノ]-4,6-ビス-[(p-(2'-エチルヘキシル-1'-オキシカルボニル)アニリノ]-1,3,5-トリアジン、又はジエチルヘキシルブタミドトリアゾン(INCI名)で、シグマ(Sigma)3V社からユバソーブ(Uvasorb)HEBの商品名で販売されているもの。それらは高いUVB吸収力を有し、よって、全ての紫外線に対して広範囲の効果的な保護をもたらす生成物を得る目的で、上述の4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタンと組合せてそれらを使用することができるのが非常に有利である。
この発見が本発明の基礎を形成する。
(a)少なくとも一のジベンゾイルメタン誘導体型の紫外線遮蔽剤と、
(b)ジベンゾイルメタン誘導体の存在下で光過敏性である少なくとも一の1,3,5-トリアジン型の紫外線遮蔽剤と、
(c)以下に詳細に定義する、式(I)の2つのアミノベンゾエート又はアミノベンズアミド基で置換された少なくとも一のケイ素含有s-トリアジン化合物又はその互変異性型、
を含有することを特徴とする組成物にある。
本発明の他の特徴、態様及び利点は、以下の詳細な記載を読むことにより明らかになるであろう。
「化粧品的に許容可能な」なる用語は、皮膚及び/又はその外皮と適合性があり、心地よい色、臭い及び感触を有し、消費者がこの組成物の使用をやめようと思うような許容できない程の不快感(刺すような痛み、突張感、赤み)を何ら生じることのないことを意味する。
「ジベンゾイルメタン誘導体の存在下で光過敏性である遮蔽剤」なる表現は、ジベンゾイルメタン誘導体の存在下、紫外線照射下で化学的に分解することができる任意の遮蔽剤を意味し;これは組成物中の遮蔽剤の量の減少及び/又は照射後の抗日光効果の損失に反映される。
− 2-メチルジベンゾイルメタン、
− 4-メチルジベンゾイルメタン、
− 4-イソプロピルジベンゾイルメタン、
− 4-tert-ブチルジベンゾイルメタン、
− 2,4-ジメチルジベンゾイルメタン、
− 2,5-ジメチルジベンゾイルメタン、
− 4,4'-ジイソプロピルジベンゾイルメタン、
− 4,4'-ジメトキシジベンゾイルメタン、
− 4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
− 2-メチル-5-イソプロピル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
− 2-メチル-5-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
− 2,4-ジメチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
− 2,6-ジメチル-4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
を特に挙げることができる。
ロシュ・ビタミンズ社(Roche Vitamins)からパルソール1789の商品名で販売されているブチルメトキシジベンゾイルメタン又は4-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタンを使用することが特に最も好ましい;この遮蔽剤は、次の式:
ジベンゾイルメタン誘導体(類)は、組成物の全重量に対して、好ましくは0.01重量%〜20重量%、より好ましくは0.1重量%〜10重量%、さらに好ましくは0.1重量%〜6重量%の範囲の含有量で本発明に係る組成物中に存在しうる。
− Rは同一でも異なっていてもよく、直鎖状又は分枝状で、ハロゲン化されていても又は不飽和であってもよいC1-C30アルキル基、C6-C12アリール基、C1-C10アルコキシ基又はトリメチルシリルオキシ基を表し;
− a=0から3であり;
− D基は以下の式(II):
ここで:
− Xは、-O-あるいはR3が水素又はC1-C5アルキル基を表す-NR3-を表し;
− R1は、ケイ素原子を含有可能な直鎖状又は分枝状で不飽和であってもよいC1-C20アルキル基、1〜3の直鎖状又は分枝状C1-C4アルキル基で置換されていてもよいC5-C20シクロアルキル基、-(CH2CHR4-O)mR5基又は-CH2-CH(OH)-CH2-O-R6基を表し;
− R4は水素又はメチルを表し;(C=O)XR1基はアミノ基に対してオルト、メタ又はパラ位に存在してよく;
− R5は、水素又はC1-C8アルキル基を表し;
− R6は、水素又はC4-C8アルキル基を表し;
− mは、2〜20の範囲の整数であり;
− n=0から2であり;
− R2は同一でも異なっていてもよく、ヒドロキシル基、直鎖状又は分枝状のC1-C8アルキル基又はC1-C8アルコキシ基を表し、同じ芳香環上の隣接する2つのR2基は共同して、アルキリデン基が1又は2の炭素原子を含むアルキリデンジオキシ基を形成可能であり;
− Aは、メチレン、-[CH(Si(CH3)3]-、エチレン、及び以下の式(III)、(IV)及び(V):
ここで:
− Zは、ヒドロキシル基又は酸素で置換されていてもよく、アミノ基を含んでいてもよい、直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のC1-C10アルキレンジラジカルであり;
− Wは、水素原子、ヒドロキシル基、又は直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のC1-C8アルキル基を表す]
に相当するもの、又はその互変異性型である。
の互変異性型で使用されてもよいことを記しておくべきである。
Rは式(I)の場合と同じ意味を有し;
b=1、2又は3である。
Rはメチル;
a=1又は2;
XはO;
R1はC4-C5基;
n=0;
(C=O)XR1基はアミノ基に対してパラ位にある;
Z=-CH2-;
W=H;
の少なくとも一、より好ましくは全てを満足させるものである。
− (D)は上述の式(II)に相当し;
− R7は同一でも異なっていてもよく、直鎖状又は分枝状のC1-C20アルキル、フェニル、3,3,3-トリフルオロプロピル及びトリメチルシリルオキシ基又はヒドロキシル基から選択され;
− R8は同一でも異なっていてもよく、直鎖状又は分枝状のC1-C20アルキル及びアルケニル基、及びヒドロキシル又はフェニル基から選択され;
− (B)は同一でも異なっていてもよく、R7基及び(D)基から選択され;
− rは0〜200の整数であり;
− sは0〜50の整数であり、s=0の場合、2つの符号(B)の少なくとも一は(D)を表し;
− uは1〜10の範囲の整数であり;
− tは0〜10の範囲の整数であり、t+uは3以上であると理解される]
により表されるもの、またその互変異性型である。
式(Ia)の直鎖状ジオルガノシロキサン類が特に好ましい。
− R7はメチル基又はヒドロキシル基であり;
− Bは優先的にはメチル(式(Ia)の直鎖状化合物の場合)である;
の少なくとも一、さらにより好ましくは全てを有するランダムオリゴマー又はポリマーである。
特に次の構造(b):
ゲレスト社(Gelest)から販売されているアミノメチルトリメチルシランは、ビス(トリメチルシリル)メチルアミン(RN134340-00-4)である。
− Xaは同一でも異なっていてもよく、酸素又は-NH-基を表し;
− Raは同一でも異なっていてもよく、水素;アルカリ金属;一又は複数のアルキル又はヒドロキシアルキル基で置換されていてもよいアンモニウム基;直鎖状又は分枝状のC1-C18アルキル基;一又は複数のC1-C4アルキル基で置換されていてもよいC5-C12シクロアルキル基;1〜6のエチレンオキシド単位を有するポリオキシエチレン基で、その末端OH基がメチル化されているもの;以下の式(X)、(XI)又は(XII):
− R9は水素又はメチル基であり;
− R10はC1-C9アルキル基であり;
− qは0〜10の範囲の整数であり;
− rは1〜10の範囲の整数であり;
− A'はC4-C8アルキル基又はC5-C8シクロアルキル基であり;
− B'は直鎖状又は分枝状のC1-C8アルキル基;C5-C8シクロアルキル基;一又は複数のC1-C4アルキル基で置換されていてもよいアリール基から選択される)
の基から選択される]
の基から選択される}
の1,3,5-トリアジン誘導体から選択される。
− Xa-Ra基の一つが、-NH-Ra基を表し、Raが、一又は複数のC1-C4アルキル基で置換されていてもよいC5-C12シクロアルキル基;B'がC1-C4アルキル基であり、R10がメチル基である上述の式(X)、(XI)又は(XII)の基から選択される;
− 他の2つのXa-Ra基が-O-Ra基を表し、Raが同一でも異なっていてもよく、水素;アルカリ金属;一又は複数のアルキル又はヒドロキシアルキル基で置換されていてもよいアンモニウム基;直鎖状又は分枝状のC1-C18アルキル基;一又は複数のC1-C4アルキル基で置換されていてもよいC5-C12シクロアルキル基;B'がC1-C4アルキル基であり、R10がメチル基である上述の式(X)、(XI)又は(XII)の基から選択される;
を有する1,3,5-トリアジン類のものである。
− 一つ又は二つのXa-Ra基が、-NH-Ra基を表し、Raが、直鎖状又は分枝状のC1-C18アルキル基;一又は複数のC1-C4アルキル基で置換されていてもよいC5-C12シクロアルキル基;B'がC1-C4アルキル基であり、R10がメチル基である上述の式(X)、(XI)又は(XII)の基から選択される;
− 他方又は他の二つのXa-Ra基(類)が-O-Ra基であり、Raが同一でも異なっていてもよく、水素;アルカリ金属;一又は複数のアルキル又はヒドロキシアルキル基で置換されていてもよいアンモニウム基;直鎖状又は分枝状のC1-C18アルキル基;一又は複数のC1-C4アルキル基で置換されていてもよいC5-C12シクロアルキル基;B'がC1-C4アルキル基であり、R10がメチル基である上述の式(X)、(XI)又は(XII)の基から選択される;
の全てを有する1,3,5-トリアジン類のものである。
に相当し、シグマ3V社からユバソーブHEBの商品名で販売されているジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、又は2-[(p-(tert-ブチルアミド)アニリノ]-4,6-ビス-[(p-(2'-エチルヘキシル-1'-オキシカルボニル)アニリノ]-1,3,5-トリアジンである。
− Xaが同一であり、酸素を表す;
− Raが同一でも異なっていてもよく、その末端OH基がメチル化されており、1〜6のエチレンオキシド単位を有するポリオキシエチレン基又はC6-C12アルキル基を表す;
を有する1,3,5-トリアジン類のものである。
に相当し、BASF社からユビヌルT150の商品名で販売されているエチルヘキシルトリアゾン、又は2,4,6-トリス[p-(2'-エチルヘキシル-1'-オキシカルボニル)アニリノ]-1,3,5-トリアジンである。
パラ-アミノ安息香酸誘導体:
PABA;
エチルPABA;
エチルジヒドロキシプロピルPABA;
特にISP社からエスカロール(Escalol)507の名称で販売されているエチルヘキシルジメチルPABA;
グリセリルPABA;及び
BASF社からユビヌルP25の名称で販売されているPEG-25PABA。
ローナ(Rona)/EMインダストリーズからユーソレックスHMSの名称で販売されているホモサレート(homosalate);
ハーマン・アンド・レイマー社(Haarmann and Reimer)からネオ・ヘリオパン(Neo Heliopan)OSの名称で販売されているサリチル酸エチルヘキシル;
シェール社(Scher)からディプサル(Dipsal)の名称で販売されているサリチル酸ジプロピレングリコール;
ハーマン・アンド・レイマー社からネオ・ヘリオパンTSの名称で販売されているTEAサリチレート。
特にホフマン・ラロシュ社からパルソールMCXの商品名で販売されているメトキシケイ皮酸エチルヘキシル;
メトキシケイ皮酸イソプロピル;
ハーマン・アンド・レイマー社からネオ・ヘリオパンE1000の商品名で販売されているメトキシケイ皮酸イソアミル;
シンノキセート;
DEAメトキシシンナメート;
メチルケイ皮酸ジイソプロピル;
グリセリル-エチルヘキサノエート-ジメトキシシンナメート。
特にBASF社からユビヌルN539の商品名で販売されているオクトクリレン(Octocrylene);
特にBASF社からユビヌルN35の商品名で販売されているエトクリレン(Etocrylene)。
BASF社からユビヌル400の商品名で販売されているベンゾフェノン-1;
BASF社からユビヌルD50の商品名で販売されているベンゾフェノン-2;
BASF社からユビヌルM40の商品名で販売されているベンゾフェノン-3又はオキシベンゾン;
BASF社からユビヌルMS40の商品名で販売されているベンゾフェノン-4;
ベンゾフェノン-5;
ノーケイ社(Norquay)からヘリソーブ(Helisorb)11の商品名で販売されているベンゾフェノン-6;
アメリカン・シアナミド社(American Cyanamid)からスペクトラ-ソーブ(Spectra-Sorb)UV-24の商品名で販売されているベンゾフェノン-8;
BASF社からユビヌルDS-49の商品名で販売されているベンゾフェノン-9;
ベンゾフェノン-12。
カイメックス社(Chimex)からメギゾリル(Mexoryl)SDの名称で製造されている3-ベンジリデンショウノウ;
メルク社からユーソレックス6300の名称で販売されている4-メチルベンジリデンショウノウ;
カイメックス社からメギゾリルSLの名称で製造されているベンジリデンショウノウスルホン酸;
カイメックス社からメギゾリルSXの名称で製造されているテレフタリリデンジショウノウスルホン酸;
カイメックス社からメギゾリルSOの名称で製造されているメト硫酸ショウノウベンザルコニウム;
カイメックス社からメギゾリルSWの名称で製造されているポリアクリルアミドメチルベンジリデンショウノウ。
特にメルク社からユーソレックス232の商品名で販売されているフェニルベンゾイミダゾールスルホン酸;
ハーマン・アンド・レイマー社からネオ・ヘリオパンAPの商品名で販売されているフェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム。
ハーマン・アンド・レイマー社からネオ・ヘリオパンMAの商品名で販売されているアントラニル酸メンチル。
イミダゾリン誘導体:
エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリンプロピオネート。
ベンザルマロネート誘導体:
ホフマン・ラロシュ社からパルソールSLXの商品名で販売されているポリシリコーン-15等の、ベンザルマロネート官能基を含むポリオルガノシロキサン。
4,4-ジアリールブタジエン誘導体:
1,1-ジカルボキシ(2,2'-ジメチルプロピル)-4,4-ジフェニルブタジエン。
メトキシケイ皮酸エチルヘキシル;
ホモサレート;
サリチル酸エチルヘキシル;
オクトクリレン;
フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸;
テレフタリリデンジショウノウスルホン酸;
フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム;
ベンゾフェノン-3;
ベンゾフェノン-4;
ベンゾフェノン-5;
4-メチルベンジリデンショウノウ;
ポリシリコーン-15;
1,1-ジカルボキシ-(2,2'-ジメチルプロピル)-4,4-ジフェニルブタジエン;
及びそれらの混合物;
から選択される。
顔料は被覆されていても未被覆であってもよい。
被覆顔料は、例えばCosmetics & Toiletries, 1990年 2月, Vol.105, p.53-64に記載されている化合物、例えばアミノ酸、ミツロウ、脂肪酸、脂肪アルコール類、アニオン性界面活性剤、レシチン類、脂肪酸のナトリウム、カリウム、亜鉛、鉄又はアルミニウム塩、金属(チタン又はアルミニウム)アルコキシド類、ポリエチレン、シリコーン類、タンパク質(コラーゲン、エラスチン)、アルカノールアミン類、酸化ケイ素、金属酸化物、又はヘキサメタリン酸ナトリウムを用い、化学的、電気的、メカノケミカル及び/又は機械的な表面処理を、一又は複数回施した顔料である。
また「シリコーン類」なる用語には、それらの調製に必要なシラン類、特にアルキルシラン類が含まれる。
本発明に適したナノ顔料の被覆に使用されるシリコーン類は、好ましくはアルキルシラン類、ポリジアルキルシロキサン類及びポリアルキルヒドロゲノシロキサン類からなる群から選択される。さらにより好ましくは、シリコーン類はオクチルトリメチルシラン、ポリジメチルシロキサン類、及びポリメチルヒドロゲノシロキサン類からなる群から選択される。
言うまでもなく、シリコーン類で処理される前に、金属酸化物の顔料を、他の表面剤、特に酸化セリウム、アルミナ、シリカ、アルミニウム化合物又はケイ素化合物、又はそれらの混合物で処理してもよい。
− シリカによるもの、例えばメルク社の製品ユーソレックスT-AVO、及び池田興産(Ikeda)の製品サンベイル(Sunveil);
− シリカ及び酸化鉄によるもの、例えば池田興産の製品サンベイルF;
− シリカ及びアルミナによるもの、例えばタイカ社(Tayca)の製品マイクロ二酸化チタンMT500SA及びマイクロ二酸化チタンMT100SA、タイオキサイド社(Tioxide)のタイオベイル及びローディア社(Rhodia)のミラサン(Mirasun)TiW60、;
− アルミナによるもの、例えば石原産業の製品タイペーク(Tipaque)TTO-55(A)及びタイペークTTO-55(B)及びケミラ社(Kemira)のUVT14/4;
− アルミナ及びステアリン酸アルミニウムによるもの、例えばタイカ社の製品マイクロ二酸化チタンMT100TV、MT100TX、MT100Z及びMT-01、ユニケマ社(Uniqema)の製品ソラベイル(Solaveil)CT200、ソラベイルCT100及びソラベイルCT-10W;
− シリカ、アルミナ及びアルギン酸によるもの、例えばタイカ社の製品MT-100AQ;
− アルミナ及びラウリン酸アルミニウムによるもの、例えばタイカ社の製品マイクロ二酸化チタンMT100S;
− 酸化鉄及びステアリン酸鉄によるもの、例えばタイカ社の製品マイクロ二酸化チタンMT100F;
− 酸化亜鉛及びステアリン酸亜鉛によるもの、例えばタイカ社の製品BR351;
− シリカ及びアルミナによるもので、シリコーン処理されたもの、例えばタイカ社の製品マイクロ二酸化チタンMT100SAS、マイクロ二酸化チタンMT500SAS、マイクロ二酸化チタンMT600SAS;
− シリカ、アルミナ、ステアリン酸アルミニウムによるもので、シリコーン処理されたもの、例えばチタン工業の製品STT-30-DS;
− シリカによるもので、シリコーン処理されたもの、例えばタイカ社の製品UV-Titan X195、又はケミラ社の製品SMT-100WRS;
− アルミナによるもので、シリコーン処理されたもの、例えば石原産業の製品タイペークTTO-55(S)又はケミラ社のUVチタンM262;
− トリエタノールアミンによるもの、例えばチタン工業の製品STT-65-S;
− ステアリン酸によるもの、例えば石原産業の製品タイペークTTO-55(C);
− ヘキサメタリン酸ナトリウムによるもの、例えばタイカ社の製品マイクロ二酸化チタンMT150W。
− サンスマート社(Sunsmart)からZ-Coteの名称で販売されているもの;
− エレメンティス社(Elementis)からナノックス(Nanox)の名称で販売されているもの;
− ナノフェーズ・テクノロジーズ社(Nanophase Technologies)からナノガード(Nanogard)WCD2025の名称で販売されているもの;
である。
− サンスマート社からZ-Cote HP1の名称で販売されているもの(ジメチコーン被覆ZnO);
− トシビ社(Toshibi)から酸化亜鉛CS-5の名称で販売されているもの(ポリメチルヒドロゲノシロキサン被覆ZnO);
− ナノフェーズ・テクノロジーズ社からナノガード酸化亜鉛FNの名称で販売されているもの(安息香酸C12-C15アルキル、フィンソルブ(Finsolv)TN中の40%分散液);
− 大東(Daito)からダイトウパージョン(Daitopersion)ZN-30及びダイトーパージョンZN-50の名称で販売されているもの(ポリメチルヒドロゲノシロキサン及びシリカで被覆された30%又は50%のナノ亜鉛酸化物を含む、シクロポリメチルシロキサン/オキシエチレン化ポリジメチルシロキサン中の分散液);
− ダイキンからNFDウルトラファイン(Ultrafine)ZnOの名称で販売されているもの(ペルフルオロアルキルエチルベースコポリマー及びペルフルオロアルキルホスフェートで被覆されたZnOのシクロペンタシロキサン中の分散液):
− 信越からSPD-Z1の名称で販売されているもの(シリコーングラフト化アクリルポリマー被覆ZnOのシクロジメチルシロキサン中の分散液);
− ISP社からエスカロールZ100の名称で販売されているもの(メトキシケイ皮酸エチルヘキシル/PVP-ヘキサデセン/メチコーンのコポリマーの混合物に分散させたアルミナ処理ZnO);
− 不二ピグメント(Fuji Pigment)からフジZnO-SMS-10の名称で販売されているもの(ポリメチルシルセスキオキサン及びシリカで被覆されたZnO);
− エレメンティス社からナノックス・ゲルTNの名称で販売されているもの(ヒドロキシステアリン酸の重縮合物と安息香酸C12-C15アルキル中に55%の濃度で分散されたZnO);
である。
被覆酸化鉄の顔料は、例えばナノガードWCD2008(FE45B・FN)、ナノガードWCD2009(FE45B556)、ナノガードFE45BL345及びナノガードFE45BLの名称でアルノー社から、又はトランスペアレント・アイアン・オキサイドの名称でBASF社から販売されている。
挙げることのできるロウ状化合物には、カルナウバロウ、ミツロウ、水添ヒマシ油、ポリエチレンロウ、及びポリメチレンロウ、例えばサソール社(Sasol)からCirebelle303の名称で販売されている製品が含まれる。
− 単独で又は混合物として、ビタミン類(A、C、E、K、PP等)及びそれらの誘導体又は前駆体;
− 抗汚染剤及び/又はフリーラジカル捕捉剤;
− 脱色素剤及び/又は色素沈着誘発剤(propigmenting agents);
− 抗グリケーション剤;
− 鎮痛剤;
− NOシンターゼインヒビター;
− 真皮又は表皮の巨大分子の合成を刺激し及び/又はそれらの分解を防止する薬剤;
− 線維芽細胞の増殖を刺激する薬剤
− ケラチノサイトの増殖を刺激する薬剤;
− 筋弛緩剤;
− 張力付与剤(tensioning agents);
− マット化剤(matting agents);
− 角質溶解剤;
− 落屑剤;
− 保湿剤;
− 抗炎症剤;
− 細胞のエネルギー代謝に作用する薬剤;
− 昆虫忌避剤;
− サブスタンスP又はCGRPアンタゴニスト;
− 抜毛防止剤及び/又は育毛剤;及び
− 抗シワ剤;
を挙げることができる。
本発明に係る組成物は、好ましくは水中油型又は油中水型エマルションの形態である。
特に挙げることのできるグリセロール及び/又はソルビタンエステルには、例えばイソステアリン酸ポリグリセリル、例えばゴールドシュミット社からイソラン(Isolan)GI34の名称で販売されている製品、イソステアリン酸ソルビタン、例えばICI社からアルラセル987の名称で販売されている製品、イソステアリン酸ソルビタングリセリル、例えばICI社からアルラセル986の名称で販売されている製品、及びそれらの混合物が含まれる。
本発明の他の主題は、皮膚、唇、爪、毛髪、睫毛、眉毛及び/又は頭皮の処理用の化粧品、特に手入れ製品、抗日光製品及びメークアップ製品の製造における上述の本発明に係る組成物の使用からなる。
本発明に係る化粧品用組成物は、例えばメークアップ製品として使用され得る。
本発明においてエアゾール形態の状態にされた組成物は、一般に常套的な噴霧剤、例えばハイドロフルオロ化合物、ジクロロジフルオロメタン、ジフルオロエタン、ジメチルエーテル、イソブタン、n-ブタン、プロパン、又はトリクロロフルオロメタンを含む。それらは、組成物の全重量に対して、好ましくは15重量%〜50重量%の範囲の量で存在する。
限定するものではないが、本発明を例証する具体的な実施例を以下に記載する。
実施例1:2,4-ビス(エチル-4'-ジイルアミノベンゾエート)-6-{[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]ジシロキサニル]プロピル-3-イルアミノ}-s-トリアジンの調製:
1-アミノ-3-[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]ジシロキサニル]プロパン(41.7g、0.149mol)と、120mlの水に重炭酸ナトリウム(11.4g、0.135mol)が入った溶液に、pHが3〜6.5になるように、250mlのアセトンに塩化シアヌル(25g、0.135mol)が入った溶液を、0℃で滴下して加える。添加の終わりに、pHは6.5である。ついで、混合物を10℃で1時間30分攪拌し、研究室の温度に放置する。形成された沈殿物を濾過し、水で洗浄し、吸引ドレインし、乾燥させる。55.2g(収率:95%)の予想された誘導体が、白色粉末の形態で得られる(融点:59℃)。
20mlのトルエンに上述の生成物(2.1g、0.005mol)とパラ-アミノ安息香酸エチル(1.65g、0.01mol)を懸濁させた混合物を、1時間30分間、還流させる。得られた混合物を冷却し、熱いヘプタンを、得られた樹脂に添加する。粉砕し、濾過し、乾燥させた後、2.3g(収率:67%)の実施例1の誘導体が、白色粉末の形態で得られる:
融点:106−108℃、
UV(エタノール):λmax=311nm、E1%=1147。
融点:111−113℃、
UV(エタノール):λmax=312nm、E1%=1055。
UV(エタノール):λmax=312nm、E1%=1008。
反応器において、tert-オクチルアミン(51.7g、0.4mol)とトリエチルアミン(61.2ml、0.44mol)を、260mlのジクロロエタン中に導入する。混合物を70℃まで加熱し、ついで塩化4-ニトロベンゾイル(77.9g、0.42mol)を、50分以上かけて滴下して加える。混合物を4時間還流する。反応混合物を氷水に注ぎ;得られた混合物をジクロロメタンで抽出し、乾燥させ、溶媒を蒸発させる。得られたベージュ色の沈殿物を、イソプロピルエーテルとエタノール(比率:10/1)の混合物から再結晶化させる。真空下で乾燥させた後、84.6g(収率:76%)の4-ニトロ-N-(tert--オクチル)ベンズアミドがオフホワイト色の粉末の形態で得られ、さらなる精製をすることなく次の工程に使用される。
500mlの水素化装置において、200mlの酢酸エチルに溶解させた4-ニトロ-N-(tert-オクチル)ベンズアミド(30g、0.108mol)を、触媒として、50%の水分を含む10%のパラジウム炭4.8gの存在下(水素圧:8−10bar)、70−75℃の温度で1時間15分、水素化させる。濾過し、溶媒を濃縮し、真空下で乾燥させた後、20.4g(収率:76%)の4-アミノ-N-(tert-オクチル)ベンズアミドが淡黄色の粉末の形態で得られ、さらなる精製をすることなく次の工程に使用される。
10mlの無水トルエンに、実施例1の第1工程の生成物(1g、2.3×10−3mol)、先の工程の生成物(1.16g、4.6×10−3mol)及び重炭酸ナトリウム(0.39g、4.6×10−3mol)の混合物が入ったものを、115℃の温度で20分、CEMディスカバーマイクロ波反応器において150ワットの出力で加熱する。ジクロロメタンを添加し、反応混合物を飽和塩化ナトリウム溶液と、ついで水で2回洗浄する。有機相を乾燥させ、溶媒を蒸発させた後、淡黄色の油が得られる。シリカカラム(溶離液:70/30のヘプタン/EtOAc)での精製後、実施例3の誘導体の透明なフラクション(0.9g、収率:45%)を、白色フレークの形態で回収する:
UV(エタノール):λmax=302nm、E1%=775。
クロロメチルトリメチルシラン(38.5g、0.314mol)を、反応器において、350mlのDMFにパラ-アミノ安息香酸のカリウム塩(50g、0.285mol)が入った不均一混合物に80℃で滴下して加える。混合物を3時間還流する。冷却後、塩を濾過し、DMFを蒸発させる。残渣をジクロロメタンに溶解させ、乾燥させ、溶媒を蒸発させる。得られた油を蒸留により精製する。0.6mbarの真空下、189℃で蒸留されるフラクションを回収する。油は結晶化する。50.4g(収率:79%)の実施例5の誘導体が白色粉末の形態で得られ、さらなる精製をすることなく次の工程に使用される。
40mlのトルエンに、実施例1の第1工程の生成物(2.1g、4.9×10−3mol)と先の工程の誘導体(2.19g、9.8×10−3mol)の混合物が入ったものを、窒素を拡散させながら、5時間還流する。混合物を冷却し、溶媒を蒸発させる。残渣をジクロロメタンに溶解させ、乾燥させ、溶媒を蒸発させる。3g(収率:76%)の実施例5の誘導体が、淡黄色のガムの形態で得られる:
UV(エタノール):λmax=311nm、E1%=907。
UV(エタノール):λ=300nm、E1%=480
λmax=325nm、E1%=709。
パラ-アミノ安息香酸n-ブチル(113.94g、0.59mol)と50mlの水に炭酸カリウム(40.68g、0.295mol)が入った溶液を、pHが3〜6.5になるように、500mlのジオキサンと50mlの水に塩化シアヌル(54.36g、0.295mol)が入った溶液に、5℃で同時に滴下して加える。混合物を5℃で1時間30分保持する。一置換s-トリアジンに相当する沈殿物が媒体中に形成される。混合物を70℃まで徐々に加熱し、50mlの水に2当量の炭酸カリウム(40.68g、0.295mol)が入ったものを添加する。ついで、70℃で5時間、攪拌し続ける。反応混合物を冷却し、濾過する。形成された沈殿物を水で洗浄し、吸引ドレインし、乾燥させる。ジオキサン/水から再結晶させた後、続いて真空下で乾燥させると、52.5g(収率:36%)の2,4-ビス(n-ブチル-4'-ジイルアミノベンゾエート)-6-クロロ-s-トリアジンの第1の再結晶化産物が白色粉末の形態で得られる。
40mlのトルエンに、先の生成物(2g、4×10−3mol)、アミノプロピル末端ポリジメチルシロキサン(ゲレスト社(Gelest)のDMS-A-11)(2.13g、2×10−3mol)とピリジン(0.32ml、4×10−3mol)の混合物が入ったものを、窒素を拡散させながら、70℃で5時間加熱する。混合物を冷却し、ジクロロメタンを添加し、有機相を水で3回洗浄する。有機相を乾燥させ、溶媒を蒸発させた後、褐色の油が得られる。熱いエタノール中でチャコールで処理し、セライト(Celite)を通して濾過した後、3.3g(収率:70%)の実施例7の誘導体が、淡褐色のガムの形態で得られる:
UV(エタノール):λmax=311nm、E1%=916。
UV(エタノール):λmax=311nm、E1%=1197。
UV(エタノール):λmax=311nm、E1%=892。
UV(エタノール):λmax=312nm、E1%=1228。
また、白色粉末の形態で、実施例10bの誘導体が0.42g得られる。
融点:165−167℃、
UV(エタノール):λmax=312nm、E1%=1040。
2-{1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]ジシロキサニル}プロパン-1-アミンと3-{1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]ジシロキサニル}プロパン-1-アミン(49.3g、0.176mol)の15:85混合物と、210mlの水に重炭酸ナトリウム(14.8g、0.176mol)が入った溶液を、pHが4〜5.8になるように、180mlのアセトンに塩化シアヌル(32.5g、0.176mol)が入った溶液に、0℃で滴下して加える。添加の終わりに、pHは5.3である。ついで、10℃で1時間30分攪拌し続け、混合物を研究室の温度に放置する。形成された沈殿物を濾過し、水で洗浄し、吸引ドレインし、乾燥させる。72.4g(収率:96%)の予想された異性型誘導体が、白色粉末の形態で15/85の比率で得られる(融点:59℃)。
2つの連続するシリカクロマトグラフィーカラム(溶離液:95/5のヘプタン/EtOAc)で20gの上述の混合物の分画を実施した。3.54gの50/50異性型混合物が得られ、さらなる精製をすることなく次の工程に使用した。
30mlのトルエンに懸濁させた上述の生成物(3g、0.007mol)、パラ-アミノ安息香酸n-ブチル(2.7g、0.014mol)、及び重炭酸ナトリウム(1.18g、0.014mol)の混合物を、70℃で5時間加熱する。混合物を冷却し、ジクロロメタンを添加する。水で2回洗浄した後、有機相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒を蒸発させる。得られた残渣を50/5のヘプタン/EtOAc混合物から結晶化させる。ついで、沈殿物をシリカにおけるカラムクロマトグラフィー(溶離液:95/5のCH2Cl2/EtOAc)により精製したところ、実施例12の2つの異性型の50/50混合物が、白色粉末の形態で3.7g(収率:71%)得られる:
融点:165−167℃、
UV(エタノール):λmax=312nm、E1%=1149。
実施例12の合成の第1工程の15/85異性型混合物を、遠心分配クロマトグラフィー(2相系:50/49/1のヘプタン/アセトニトリル/水)により分画したところ、次の工程で使用される2.0gの4,6-ジクロロ-N-(2-{1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]ジシロキサニル}プロピル)-1,3,5-トリアジン-2-アミンが得られた。
上述の生成物(2g、0.0047mol)を、18mlのトルエンに溶解させる。ピリジン(0.8ml、0.009mol)とパラ-アミノ安息香酸n-ブチル(1.8g、0.009mol)をそこに添加する。攪拌しつつ、混合物を70℃で3時間加熱する。溶液を冷却し、シリカ床にそそぎ、濾過ケーキを80mlのトルエンですすぐ。溶媒を蒸発させた後、得られた褐色-ベージュ色の固形物を、30mlのヘプタンから結晶化させる。このようにして、2.2g(収率63%)の実施例13の誘導体が、淡いベージュ色の粉末の形態で得られる:
融点:149−151℃、
UV(エタノール):λmax=312nm、E1%=955。
UV(エタノール):λmax=312nm、E1%=1109。
脂肪相(A)を70℃まで加熱する。水相(B)を最終ビーカーで加熱する。(C)相を、油に粉末を分散させることで調製する。ローター-ステーターで攪拌することにより、脂肪相を水相に乳化させる。素早く攪拌しつつ、(C)相を導入し、ついで、混合物を室温に戻るまでゆっくりと攪拌する。得られた混合物を(D)で中和し、ついで調整する。
Claims (15)
- (a)少なくとも一のジベンゾイルメタン誘導体型の紫外線遮蔽剤と、
(b)ジベンゾイルメタン誘導体の存在下で光過敏性である少なくとも一の1,3,5-トリアジン型の紫外線遮蔽剤と、
(c)以下の式(I):
[上式中:
− Rは同一でも異なっていてもよく、直鎖状又は分枝状で、ハロゲン化されていても又は不飽和であってもよいC1-C30アルキル基、C6-C12アリール基、C1-C10アルコキシ基又はトリメチルシリルオキシ基を表し;
− a=0から3であり;
− D基は以下の式(II):
のs-トリアジン化合物を示し;
ここで:
− Xは、-O-あるいはR3が水素又はC1-C5アルキル基を表す-NR3-を表し;
− R1は、ケイ素原子を含有可能な直鎖状又は分枝状で不飽和であってもよいC1-C20アルキル基、1〜3の直鎖状又は分枝状C1-C4アルキル基で置換されていてもよいC5-C20シクロアルキル基、-(CH2CHR4-O)mR5基又は-CH2-CH(OH)-CH2-O-R6基を表し;
− R4は水素又はメチルを表し;(C=O)XR1基はアミノ基に対してオルト、メタ又はパラ位に存在してよく;
− R5は、水素又はC1-C8アルキル基を表し;
− R6は、水素又はC4-C8アルキル基を表し;
− mは、2〜20の範囲の整数であり;
− n=0から2であり;
− R2は同一でも異なっていてもよく、ヒドロキシル基、直鎖状又は分枝状のC1-C8アルキル基又はC1-C8アルコキシ基を表し、同じ芳香環上の隣接する2つのR2基は共同して、アルキリデン基が1又は2の炭素原子を含むアルキリデンジオキシ基を形成可能であり;
− Aは、メチレン、-[CH(Si(CH3)3]-、エチレン、及び次の式(III)、(IV)及び(V):
の一つに相当する基から選択される二価基であり;
ここで:
− Zは、ヒドロキシル基又は酸素で置換されていてもよく、アミノ基を含んでいてもよい、直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のC1-C10アルキレンジラジカルであり;
− Wは、水素原子、ヒドロキシル基、又は直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のC1-C8アルキル基を表す]
の2つのアミノベンゾエート又はアミノベンズアミド基で置換された少なくとも一のケイ素含有s-トリアジン化合物、又はその互変異性型;
を含有することを特徴とする少なくとも一の遮蔽系を生理学的に許容可能な担体中に含有してなる組成物。 - 式(I)の化合物が、式(R)b-(Si)(O)(4−b)/2[ここで、Rは式(I)における場合と同じ意味を有し;b=1、2又は3である]の単位をさらに含む請求項1又は2に記載の組成物。
- s-トリアジン化合物が、組成物の全重量に対して0.01重量%〜20重量%の範囲の含有量で存在しており、ジベンゾイルメタン誘導体が、組成物の全重量に対して0.01重量%〜20重量%の範囲の含有量で存在しており、光過敏性の1,3,5-トリアジン化合物が、組成物の全重量に対して0.01重量%〜20重量%の範囲の含有量で存在している請求項1から5の何れか一項に記載の組成物。
- ジベンゾイルメタン誘導体が、4-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタンであることを特徴とする請求項1から6の何れか一項に記載の組成物。
- ケイ素非含有の親油性1,3,5-トリアジン型の紫外線遮蔽剤が、以下の式(VIII):
{上式中、A1、A2及びA3基は同一でも異なっていてもよく、式(IX):
[上式中:
− Xaは同一でも異なっていてもよく、酸素又は-NH-基を表し;
− Raは同一でも異なっていてもよく、水素;アルカリ金属;一又は複数のアルキル又はヒドロキシアルキル基で置換されていてもよいアンモニウム基;直鎖状又は分枝状のC1-C18アルキル基;一又は複数のC1-C4アルキル基で置換されていてもよいC5-C12シクロアルキル基;1〜6のエチレンオキシド単位を有するポリオキシエチレン基で、その末端OH基がメチル化されているもの;以下の式(X)、(XI)又は(XII):
(上式中:
− R9は水素又はメチル基であり;
− R10はC1-C9アルキル基であり;
− qは0〜3の範囲の整数であり;
− rは1〜10の範囲の整数であり;
− A'はC4-C8アルキル基又はC5-C8シクロアルキル基であり;
− B'は、直鎖状又は分枝状のC1-C8アルキル基;C5-C8シクロアルキル基;一又は複数のC1-C4アルキル基で置換されていてもよいアリール基から選択される)
の基から選択される]
の基から選択される}
の1,3,5-トリアジン誘導体から選択される請求項1から7の何れか一項に記載の組成物。 - 他のUVA活性及び/又はUVBの有機又は無機光保護剤をさらに含んでいることを特徴とする請求項1から10の何れか一項に記載の組成物。
- 付加的な有機光保護剤が、アントラニレート類;ケイ皮酸誘導体;サリチル酸誘導体;ショウノウ誘導体;ベンゾフェノン誘導体;β,β-ジフェニルアクリレート誘導体;ベンザルマロネート誘導体;ベンゾイミダゾール誘導体;イミダゾリン類;ビス-ベンゾアゾリル誘導体;p-アミノ安息香酸(PABA)誘導体;ベンゾオキサゾール誘導体;遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーン;α-アルキルスチレンベースの二量体;4,4-ジアリールブタジエン類、及びそれらの混合物から選択される請求項11に記載の組成物。
- 付加的な無機光保護剤が処理又は未処理金属酸化物の顔料であることを特徴とする請求項11に記載の組成物。
- 水中油型又は油中水型エマルションの形態であることを特徴とする請求項1から13の何れか一項に記載の組成物。
- 請求項1から14の何れか一項に記載のジベンゾイルメタン誘導体の存在下で光過敏性である1,3,5-トリアジン誘導体の紫外線に対する安定性を改善するための方法において、請求項1から14の何れか一項に記載の式(I)の2つのアミノベンゾエート又はアミノベンズアミド基で置換された少なくとも一のケイ素含有s-トリアジン化合物又はその互変異性型を、前記組合せに添加することからなることを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR0655164A FR2908987B1 (fr) | 2006-11-28 | 2006-11-28 | Composition photoprotectrice contenant un derive de 1,3,5-triazine photosensible, un derive du dibenzoylmethane, et un s-triazine siliciee et substituee par deux groupes aminobenzaotes ou aminobenzamides |
| FR0655164 | 2006-11-28 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008179608A true JP2008179608A (ja) | 2008-08-07 |
| JP5730460B2 JP5730460B2 (ja) | 2015-06-10 |
Family
ID=38181041
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007306895A Active JP5730460B2 (ja) | 2006-11-28 | 2007-11-28 | 光過敏性1,3,5−トリアジン誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体、及び2つのアミノベンゾエート又はアミノベンズアミド基で置換されたケイ素含有s−トリアジンを含有する光保護組成物 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US20100003207A1 (ja) |
| EP (1) | EP1927343B1 (ja) |
| JP (1) | JP5730460B2 (ja) |
| AT (1) | ATE547089T1 (ja) |
| ES (1) | ES2382358T3 (ja) |
| FR (1) | FR2908987B1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107443700A (zh) * | 2016-05-30 | 2017-12-08 | 住友化学株式会社 | 树脂层叠体的制造方法 |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101313882B (zh) * | 2008-06-03 | 2011-09-07 | 江南大学 | 一种具有乳化功能的纳微米级防晒剂的制备方法 |
| JP2011012002A (ja) * | 2009-07-01 | 2011-01-20 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | メラミン官能性有機ケイ素化合物及びその製造方法 |
| WO2011003774A2 (en) * | 2009-07-07 | 2011-01-13 | Basf Se | Uv filter combinations comprising benzylidene malonates |
| FR2949332B1 (fr) * | 2009-08-28 | 2011-09-16 | Oreal | Composition contenant un filtre dibenzoylmethane, un compose phenol ou bis-phenol et une s-triazine siliciee ; procede de photostabilisation du filtre dibenzoylmethane |
| FR2949340B1 (fr) * | 2009-08-28 | 2011-09-16 | Oreal | Composition contenant un filtre dibenzoylmethane, un ester de piperidine et une s-triazine siliciee ; procede de photostabilisation du filtre dibenzoylmethane |
| FR2957251B1 (fr) * | 2010-03-15 | 2012-03-02 | Oreal | Composition contenant une s-triazine siliciee substituee par au moins deux groupes alkylaminobenzoates et un filtre uv merocyanine hydrophile ou hydrosoluble |
| FR2989032B1 (fr) * | 2012-04-05 | 2015-04-10 | Michelin & Cie | Pneumatique et ensemble pneumatique-roue a mobilite etendue |
| DE102015216607A1 (de) * | 2015-08-31 | 2017-03-02 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Sonnenschutzzusammensetzung |
| CN111346570B (zh) * | 2020-03-23 | 2022-02-18 | 佛山市天宝利硅工程科技有限公司 | 一种磺酸基阴离子双子表面活性剂及其制备方法 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10139648A (ja) * | 1996-11-08 | 1998-05-26 | L'oreal Sa | 新規なサンスクリーン剤及びそれを含む光保護化粧品組成物並びにその使用 |
| JPH10175836A (ja) * | 1996-12-17 | 1998-06-30 | L'oreal Sa | ジベンゾイルメタン誘導体、1,3,5−トリアジン誘導体及びベンザルマロナート基を含むケイ素誘導体を含む組成物及びその使用 |
| JPH10175837A (ja) * | 1996-12-17 | 1998-06-30 | L'oreal Sa | ジベンゾイルメタン誘導体、1,3,5−トリアジン誘導体及びアミド化合物を含む組成物及びその使用 |
| JP2000063388A (ja) * | 1998-01-02 | 2000-02-29 | F Hoffmann La Roche Ag | 光遮蔽組成物としてのシラニル―トリアジン |
| JP2005239722A (ja) * | 2004-02-24 | 2005-09-08 | L'oreal Sa | 少なくとも二のシラン性パラ−アミノベンザルマロナート基を有するs−トリアジン誘導体;これらの誘導体を含有する光保護化粧品用組成物;該s−トリアジン誘導体の使用 |
| JP2007509889A (ja) * | 2003-11-05 | 2007-04-19 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. | ポリシロキサンに基づくuvフィルタを含有する、uvフィルタの総量が減少した光保護組成物 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0933376B1 (en) * | 1998-01-02 | 2003-08-20 | F. Hoffmann-La Roche Ag | Silanyl-triazines as light screening compositions |
| FR2780975B1 (fr) * | 1998-07-10 | 2002-02-15 | Oreal | Procede de photostabilisation de filtres solaires derives du dibenzoylmethane, compositions cosmetiques filtrantes photostabilisees ainsi obtenues et leurs utilisations |
| FR2817148B1 (fr) * | 2000-11-30 | 2005-05-20 | Oreal | Composition cosmetique contenant des filtres mineraux |
| FR2833164B1 (fr) * | 2001-12-07 | 2004-07-16 | Oreal | Compositions cosmetiques antisolaires a base d'un melange synergique de filtres et utilisations |
-
2006
- 2006-11-28 FR FR0655164A patent/FR2908987B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-11-09 EP EP07120372A patent/EP1927343B1/fr not_active Not-in-force
- 2007-11-09 ES ES07120372T patent/ES2382358T3/es active Active
- 2007-11-09 AT AT07120372T patent/ATE547089T1/de active
- 2007-11-28 US US11/987,212 patent/US20100003207A1/en not_active Abandoned
- 2007-11-28 JP JP2007306895A patent/JP5730460B2/ja active Active
-
2016
- 2016-08-16 US US15/237,939 patent/US20170135933A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10139648A (ja) * | 1996-11-08 | 1998-05-26 | L'oreal Sa | 新規なサンスクリーン剤及びそれを含む光保護化粧品組成物並びにその使用 |
| JPH10175836A (ja) * | 1996-12-17 | 1998-06-30 | L'oreal Sa | ジベンゾイルメタン誘導体、1,3,5−トリアジン誘導体及びベンザルマロナート基を含むケイ素誘導体を含む組成物及びその使用 |
| JPH10175837A (ja) * | 1996-12-17 | 1998-06-30 | L'oreal Sa | ジベンゾイルメタン誘導体、1,3,5−トリアジン誘導体及びアミド化合物を含む組成物及びその使用 |
| JP2000063388A (ja) * | 1998-01-02 | 2000-02-29 | F Hoffmann La Roche Ag | 光遮蔽組成物としてのシラニル―トリアジン |
| JP2007509889A (ja) * | 2003-11-05 | 2007-04-19 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. | ポリシロキサンに基づくuvフィルタを含有する、uvフィルタの総量が減少した光保護組成物 |
| JP2005239722A (ja) * | 2004-02-24 | 2005-09-08 | L'oreal Sa | 少なくとも二のシラン性パラ−アミノベンザルマロナート基を有するs−トリアジン誘導体;これらの誘導体を含有する光保護化粧品用組成物;該s−トリアジン誘導体の使用 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107443700A (zh) * | 2016-05-30 | 2017-12-08 | 住友化学株式会社 | 树脂层叠体的制造方法 |
| CN107443700B (zh) * | 2016-05-30 | 2021-11-09 | 住友化学株式会社 | 树脂层叠体的制造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1927343B1 (fr) | 2012-02-29 |
| FR2908987A1 (fr) | 2008-05-30 |
| US20100003207A1 (en) | 2010-01-07 |
| ATE547089T1 (de) | 2012-03-15 |
| JP5730460B2 (ja) | 2015-06-10 |
| FR2908987B1 (fr) | 2009-01-23 |
| ES2382358T3 (es) | 2012-06-07 |
| US20170135933A1 (en) | 2017-05-18 |
| EP1927343A1 (fr) | 2008-06-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5001154B2 (ja) | シランメロシアニンスルホン誘導体;シランメロシアニンスルホン誘導体を含有する光保護用組成物;それらのuvフィルターとしての使用 | |
| JP5730460B2 (ja) | 光過敏性1,3,5−トリアジン誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体、及び2つのアミノベンゾエート又はアミノベンズアミド基で置換されたケイ素含有s−トリアジンを含有する光保護組成物 | |
| JP5202309B2 (ja) | 二つのアミノベンゾアート又はアミノベンズアミド基で置換されたケイ素含有s−トリアジンによるジベンゾイルメタンの光安定化;光保護組成物、新規なケイ素含有s−トリアジン化合物 | |
| EP2485708B1 (en) | Photoprotective composition based on a 2-alkoxy-4-alkyl ketone phenol compound; use of said compound for increasing the sun protection factor | |
| FR2957249A1 (fr) | Composition contenant un filtre dibenzoylmethane et un derive dicyano ou cyanoacetate de merocyanine ; procede de photostabilisation du filtre dibenzoylmethane | |
| US20080317685A1 (en) | Photoprotective cosmetic compositions comprising photostabilized dibenzoylmethane compounds and siloxane-containing arylalkyl benzoate amide compounds | |
| US20070218022A1 (en) | Photostable sunscreen compositions comprising cinnamic acid ester UV-B filters, dibenzoylmethane UV-A filters and s-triazine compounds | |
| WO2011080043A1 (en) | Ureidopyrimidones; cosmetic use as uv-screening agents; antisun compositions containing them | |
| FR2986424A1 (fr) | Composition contenant une s-triazine siliciee substituee par au moins deux groupes alkylaminobenzoates et des particules d'aerogel de silice hydrophobe | |
| JP5792170B2 (ja) | 少なくとも1種の親油性2−ヒドロキシベンゾフェノン遮蔽剤及び少なくとも2つのアルキルアミノベンゾエート基で置換されているケイ素s−トリアジンを含む組成物 | |
| JP2007204476A (ja) | ケイ皮酸エステルタイプのUV−Bスクリーニング剤、ジベンゾイルメタンタイプのUV−Aスクリーニング剤、及びs−トリアジン誘導体を含む組成物;光安定化方法 | |
| JP4732814B2 (ja) | トリアジン誘導体、少なくとも1つの追加の光防護剤および安息香酸アリールアルキル誘導体を含む光防護組成物、これらの化粧用使用 | |
| US20110097365A1 (en) | S-triazine derivatives containing at least two particular silane aminobenzoate or silane aminobenzamide groups; photoprotective cosmetic compositions containing these derivatives; uses of the said s-triazine derivatives | |
| JP5730461B2 (ja) | 2つのアミノベンゾエート又はアミノベンズアミド基で置換されたケイ素含有s−トリアジンとケイ素非含有親油性トリアジン紫外線遮蔽剤の組合せを含む化粧品用組成物 | |
| JP2007204478A (ja) | ジベンゾイルメタンタイプのUV−Aスクリーニング剤及びs−トリアジン誘導体を含む組成物;光安定化方法 | |
| FR2968547A1 (fr) | Utilisation de derives de 4-carboxy 2-pyroolidone comme solvants de composes ureidopyrimidones ; compositions solaires les contenant | |
| FR2908988A1 (fr) | Photostabilisation d'un dibenzoylmethane par une s-triazine siliciee et substituee par deux groupes aminobenzaotes ou aminobenzamides et une bis-resorcinyltriazine; compositions photoprotectrices contenant cette association ternaire | |
| JP2007204477A (ja) | シンナメートエステルタイプのUV−Bスクリーニング剤及びs−トリアジン誘導体を含む組成物;シンナメートエステルタイプのUV−Bスクリーニング剤の光安定化方法 | |
| JP4713251B2 (ja) | 安息香酸アリールアルキル誘導体およびビス−レソルシニルトリアジン化合物を用いたジベンゾイルメタン誘導体を光防護する方法、ならびに光防護組成物 | |
| WO2006003020A1 (en) | Compositions containing a triazine derivative, an arylalkyl benzoate derivative and a eutectic n-butylphthalimide/isopropylphthalimide mixture; cosmetic uses thereof | |
| US20070196294A1 (en) | Photostable sunscreen compositions comprising dibenzoylmethane compound UV-A filters and s-triazine compounds | |
| JP2008001706A (ja) | ジベンゾイルメタン誘導体およびアリールアルキルアミドまたはエステル化合物を含む化粧品組成物、ジベンゾイルメタン誘導体を光安定化する方法 | |
| WO2012010554A1 (en) | Use of compounds resulting from a sugar polyol or from a dehydrogenated sugar polyol derivative as a uv-screening agent; antisun compositions containing same; and novel compounds | |
| FR2949326A1 (fr) | Composition contenant un derive de dibenzoylmethane, une 2-hydroxybenzophenone lipophile et une s-triazine siliciee ; procede de photostabilisation |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20101116 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110107 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130116 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130205 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130502 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140217 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141021 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150121 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150310 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150408 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5730460 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |