JP2008165092A - カラーフィルタおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 カラー材料がブラックマトリックスを越えて他のカラー材料と混ざってしまうなどの不都合を未然に防止し、しかもブラックマトリックスにより区画される各領域における色を、該当する領域の全範囲にわたってほぼ均一にする。
【解決手段】 遮光層２の厚さを１μｍ以上、２．５μｍ以下に設定し、前記遮光層２の上部に０．１μｍ以上、前記遮光層２の厚さの１／２以下の厚さの撥液層３を設け、該撥液層３の頂部の幅を、前記遮光層２の幅より狭く設定した。
【選択図】 図１

Description

本発明は、ブラックマトリックス（以後、ＢＭという）により区画された透明基板上の領域にカラー材料を塗布してなるカラーフィルタ、およびその製造方法に関する。

液晶表示素子用カラーフィルタは液晶表示素子をカラー化するための必須部材であり、ガラスあるいは透明プラスチック基板上に着色画素を形成して作られる。着色画素は赤（Ｒ）、青（Ｂ）、緑（Ｇ）の３原色の画素をライン状またはモザイク状に配置した構成であり、各画素の間には、画素のコントラストを高めるため、ＢＭが形成される。

一方画素部の着色方法についてはＲ、Ｇ、Ｂそれぞれ感光性の着色ペーストを用いて光でパターニングする方法、また、非感光の樹脂インキをインクジェット装置を用いて所定位置に噴射し着色する方法、印刷装置を用いて基板上に転写し着色する方法、および予め透明電極を形成した基板上に電着法により着色する方法などが提案されている。これらの画素部形成法の中で、ＢＭ形成後にインクジェット装置を用いて画素部を着色するインクジェット法においては、通常のＢＭを用いた場合には、ＢＭ上にインキの溢れが発生し、平坦な画素が得られない。そこで、遮光層の上に、含フッ素化合物および／またはシリコーン微粒子を含有する光透過性樹脂層を積層してなるＢＭが提案されている。（特許文献１参照）
通常インクジェットノズル等を用いてカラー材料をＢＭで囲われた画素内に塗布する場合、カラー材料は溶剤などの揮発成分を含むので、塗布初期即ちウェット状態においては完成（乾燥後）の目標膜厚の通常２〜１０倍程度の高さに塗布する必要があり、多くの場合、ＢＭの高さ以上にインク材料を塗布する必要が生じる。特許文献１記載のＢＭ（遮光層＋撥液層）を採用することによって、撥液性を有する含フッ素化合物および／またはシリコーン微粒子の作用により、カラー材料がＢＭを越えて隣接する画素の他のカラー材料と混ざってしまうなどの不都合を未然に防止することができる。
特開平７−３５９１６号公報

前述の如くＢＭの高さを越えてカラー材料を塗布出来たとして、画素内カラー材料の乾燥、硬化後の厚さが遮光層部分の厚さより低くなる場合、図１に示す如く、通常遮光層部分の側壁は親液性であるので、図１にＢで示す如く側壁にカラー材料が固定され、カラー材料の厚さ分布は、側壁の近傍が厚く、画素内で凹状に分布する。この状態でカラーフィルタとして機能させた場合、画素の周辺が暗く、中央部が明るいと言った不具合現象が生じる。

一方、画素内のカラー材料の乾燥、硬化後の厚さがＢＭ全体（遮光層＋撥液層）を超えた場合、図２に示す如く、撥液層の側壁部分は、カラー材料を拘束固定しないので、図２にＢで示す如く側壁の近傍が薄く、画素内で凸状に分布する。この状態でカラーフィルタとしてカラー材料と撥液層との撥液性とカラー材料の乾燥・キュア工程により定まる角部の丸み部分が生じ、画素の周辺が明るく、中央部が暗いと言った不具合現象が生じる。

更に、遮光層の上に撥液層を形成する方法としては、透明基板にＢＭパターンを作製したあと、全面にポジ型の感光性レジストを塗布・乾燥・キュアし、そのあと、所定のマスクを用いてレジスト層を露光・現像し、ＢＭパターン上に撥液層のパターンを形成していた。しかし、基板サイズの大型化やカラーフィルタ画素のファイン化に伴い、遮光層の幅より撥液層の幅を狭く、かつ遮光層の幅からはみ出さないように、遮光層のパターンと撥液層用レジスト露光マスクの位置合わせの精度を出すためには設備コストが大規模になるとともにタクトタイムが長くなるという問題があった。

マスクの位置合わせの精度が悪い場合には、遮光層上の撥液層の位置がずれ、カラーフィルタとして品質が劣るとともに、必要な撥液性能が機能せず、インクの溢れや、白抜けが発生するという問題があった。

また、透明基板に遮光層のパターンを作製したあと、全面にポジ型の感光性レジストを塗布する場合には、遮光層上のレジスト膜厚よりも、遮光層で囲まれた画素部（以後、ＢＭ開口部という）のレジスト厚みが厚くなりやすい。また、ポジ型の感光性レジストでは、露光・現像によりレジストの露光部が除去され、非露光部が残るため、レジストが厚いＢＭ開口部において、ＢＭ開口部の中央部分に比べてＢＭ側壁側のレジストが露光不足になりやすく、そのためＢＭ側壁の表面に現像残りが生じ、撥液性膜が残ることになるため遮光層の側壁面が撥液性となり、ＢＭ側壁面にインクが付着しにくく、カラーフィルタの欠陥である白抜けが発生するという問題があった。

本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、カラー材料がＢＭを越えて隣接する他のカラー材料と混ざってしまうなどの不都合を未然に防止し、カラーフィルタとして機能させた場合、ＢＭで囲われた画素内の色を画素内全域において均一にすることが出来るカラーフィルタを提供することを第１の目的とし、このようなカラーフィルタを製造するための方法を提供することを第２の目的としている。

本発明のカラーフィルタは、厚さがｔ２なる遮光層および前記遮光層の上部に厚さｔ３なる撥液層を設けたＢＭにより区画された透明基板上の領域にカラー材料を塗布してなるカラーフィルタであって、
前記領域に塗布されたカラー材料の乾燥・キュア後の平均厚さｔ４が、前記遮光層の厚さｔ２の０．８倍以上であって、且つ前記ＢＭの厚さｔ２＋ｔ３の１．２倍以下に設定したことを特徴とするカラーフィルタである。

この場合、ＢＭで囲われた画素内のカラー材料の膜厚分布が、側壁部の影響を受けたとしても、カラー材料の乾燥・キュア後の厚さｔ４が遮光層の厚さｔ２以下の場合、カラー材料の乾燥・キュア後の厚さ分布は０．８×ｔ２以上ｔ２以下となる。即ち、厚さの分布幅は０．２×ｔ２以下となる。

また、カラー材料の乾燥・キュア後の厚さｔ４が遮光層の厚さｔ２以上の場合、カラー材料と撥液層との撥液性とカラー材料の乾燥・キュア工程により定まる角部の丸み部分の半径をｒとすると、カラー材料の乾燥・キュア後の厚さ分布はｔ２以上で且つほぼｔ４−ｒ以下となる。即ち、厚さの分布幅は前記ｒ以下となる。

さらに、前記遮光層の厚さｔ２を、１．３μｍ以上、２．５μｍ以下に設定し、前記撥液層の厚さｔ３を０．１μｍ以上で、前記遮光層の厚さｔ２の１／２以下に設定することがより好ましい。

こうすることにより、カラー材料の塗布初期のウェット膜厚を適正化でき、過大な撥液性を要すること無く、カラー材料がＢＭを越えて隣接する他のカラー材料と混ざること無く、容易に、且つ安価にカラーフィルタを構成することが可能となる。

さらに、厚さがｔ２なる遮光層および前記遮光層の上部に厚さｔ３なる撥液層を設けたＢＭにより区画された透明基板上の領域にカラー材料を塗布してなるカラーフィルタであって、
前記領域に塗布されたカラー材料の厚さｔ４を、前記ＢＭの厚さに等しくすることがより好ましい。

こうすることにより、塗布初期のウェット状態において撥液層より高い位置にあるカラー材料は、乾燥・キュアの工程において撥液層の側面に拘束されることなく移動し、且つ、乾燥・キュア後のカラー材料が遮光層の高さ等しいので、ＢＭにより区画された画素内においてフラットな膜厚とすることが可能となる。

また、厚さがｔ２なる遮光層および前記遮光層の上部に厚さｔ３なる撥液層を設けたＢＭにより区画された透明基板上の領域にカラー材料を塗布してなるカラーフィルタであって、
前記撥液層の頂部の幅ｗ３を、前記遮光層の幅ｗ２より小さくすることがより好ましい。

この場合、撥液層自身の含有する材料の撥液性が、撥液層側面の傾き角度により強化されるとともに、図３に示す如く、前記カラー材料と撥液層との撥液性とカラー材料の乾燥・キュア工程により定まる角部の丸み部分をこの側壁の傾斜部分に位置させることが可能であることにより、カラーフィルタとして機能させた場合、ＢＭで囲われた画素内の色を画素内全域において均一にすることが出来るカラーフィルタを提供することができる。

さらに、請求項４記載のカラーフィルタであって、且つ請求項１または請求項２または請求項３に記載のカラーフィルタとすることにより、カラーフィルタとして機能させた場合、ＢＭで囲われた画素内の色を画素内全域において均一にすることが出来き、且つ安価にカラーフィルタを提供することが可能となる。

本発明のカラーフィルタ製造方法は、厚さがｔ２なる遮光層を形成した後、ポジ型感光性レジストを基板の所要範囲に塗布し、前記透明基板側から裏露光し、現像処理をすることにより前記撥液層を形成する方法である。

この場合、レジストを露光する時にレジスト用マスクを使用することなく、遮光層自身をマスクとして利用出来る為、レジスト用マスクと既形成の遮光層との位置合わせが不要になり工程が簡単となる。

また、露光強度、露光時間、露光光の光束の平行光または広がり状態、現像条件等を調節することにより、簡単に前記撥液層の頂部の幅ｗ３を、前記遮光層の幅ｗ２より小さくすることが可能となる。

また裏露光では、裏からの光がガラス基板を透過する際、ガラス面内での多重反射などにより、遮光層により囲われた画素部にあるレジスト全体にまんべんなく照射されるため、遮光層側壁面にも画素部のガラス面にもレジスト残渣が残らないため、ＢＭ側壁面の親液性が維持され、画素部のガラス面の親液性も向上し、結果としてインクが画素全体に塗れ広がるという効果が得られる。

またガラス基板を透過した光は非平行光になりやすいので遮光層の上のレジスト層に対しても、該レジストの周辺部（画素側）も裏露光による光の拡散や回折により露光されるので、遮光層の幅より所定の幅だけ狭い撥液層を容易に形成することができる。

なお、ここで言う遮光層の厚さｔ２とは、パターニングされた遮光層において基板からの高さが最も高い点における基板からの高さを表し、撥液層の厚さｔ３とは、遮光層の上に積層されている撥液層において基板からの高さが最も高い点の高さからｔ２を差し引いた高さを表す。また、遮光層の幅ｗ２とは、基板から０．９×ｔ２の位置における遮光層の幅を表し、撥液層の幅ｗ３とは基板からｔ２＋０．９×ｔ３の位置における撥液層の幅を表す。

本発明は、カラー材料がＢＭを越えて隣接する他のカラー材料と混ざってしまうなどの不都合を未然に防止し、しかも、ＢＭにより囲まれ区画される各領域（画素）における色を該当する領域の全範囲にわたってほぼ均一にすることができるとともにその実現を容易かつ安価に達成することができる。

以下、添付図面を参照して、本発明のカラーフィルタおよびその製造方法の実施形態を詳細に説明する。

図３は本発明のカラーフィルタの一実施形態を示す概略縦断面図である。
このカラーフィルタは、透明基板１の表面に、所定のパターンで遮光層２を形成し、遮光層２の上に撥液層３を形成し、遮光層２と撥液層３とによって構成されるＢＭによって区画された領域にカラー材料からなるカラー層４が形成されている。

遮光層は、ＢＭの下層に当たる部分であり、金属層または黒色樹脂層であるが、黒色樹脂層が好ましい。

金属層としては、Ｃｒ等の金属を真空蒸着またはスッパッタリングして形成された金属薄膜などが一般的である。

黒色樹脂層としては、樹脂中に黒色着色材料を分散または樹脂自身を染料により染色した薄膜が使用できる。着色剤は、使用する有機溶剤および水に不溶であり遮光剤としての役割を果たすものが使用される。例えば、有機顔料としてピグメントブラック７あるいはカーボンブラックの他、黒鉛、酸化鉄、酸化マンガン、チタンブラックなどの無機顔料あるいは金属酸化物を遮光剤として使用することができる。これら遮光剤は必要に応じて混合して用いることもでき、さらに他の色の顔料を添加することもできるが、遮光性と分散性の観点から、カーボンブラックを含むことが好ましい。カーボンブラックには、樹脂処理、酸性処理、塩基性処理などの表面処理を行うこともできる。

黒色樹脂層中に含まれる樹脂としては特に限定されないが、好ましくは２００℃以上でも軟化することのないアクリル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、および耐熱性樹脂として知られるポリイミド樹脂、芳香族ポリアミド樹脂などが適している。アクリル樹脂としては、例えば主たる樹脂成分としてポリエステル、エポキシ、ポリウレタン、アルキッド樹脂、スピラン樹脂、シリコーン樹脂等の低分子量ポリマまたはオリゴマにアクリル酸、メタクリル酸またはそのエステル基を導入したいわゆるプレポリマに、架橋剤として単分子中に２つ以上アクリル酸基、メタクリル酸基またはそのエステル基を有する多官能反応物を添加する系等があげられる。この場合、必要に応じて反応開始剤として熱または光によってラジカルを発生するラジカル発生剤を添加することは有効である。メラミン樹脂としてはフェノール樹脂、アルキッド樹脂等ＯＨ基を有するポリマーに架橋剤としてメチロール化メラミンを添加し、また、開始剤として光または熱による酸発生剤を加えた系も有効である。

黒色樹脂層を形成するには、該黒色樹脂層を形成すべき組成物に感光性を付与してフォトリソグラフィの方法によってパターン化してもよいし、感光性を付与せずフォトレジスト法によってパターン化しても良い。

遮光層の厚さは、１．３〜２．５μｍ であることが好ましく、塗布性、パターン解像度、光学濃度（ＯＤ値）などから最適値を決めることができる。ＯＤ値は２〜５の範囲で可能であるが、光漏れを防ぐためには２．５ 以上が好ましい。

遮光層は、親液性であることが好ましい。ここで言う親液性とは、画素形成に用いられるカラー材料としてのカラーインクに対する接触角で表され、遮光層に対する接触角は、好ましくは３０度以下、より好ましくは１５度以下である。遮光層を親液性にするためには、フッ素やシリコンなどの低表面エネルギーの物質をできるだけ少なくすることが好ましく、遮光層の塗膜中におけるフッ素原子の含有量は、好ましくは１００ｐｐｍ以下、より好ましくは１０ｐｐｍ以下であり、ケイ素原子の含有量は、好ましくは２００ｐｐｍ以下、より好ましくは２０ｐｐｍ以下である。

撥液層としては、光硬化型あるいは光可溶化型の感光剤（樹脂成分）に撥液性成分を混合したものに基づくものが使用できる。

光硬化型の感光剤を使用する場合、いわゆるネガ型レジストとなり、感光剤としては、架橋点を形成できるポリマまたはオリゴマを主成分に選び、これに架橋剤を添加することが好ましい。必要な場合には反応開始剤を添加することが有効である。

具体的には、ゼラチン、カゼイン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンなどの水溶性の高分子に、重クロム酸アンモニウムまたはビスアジド系の架橋剤を添加する系、または環化ゴム、ビニルフェノール等の芳香族ポリマーに同じくビスアジド系の架橋剤を添加する系が挙げられる。また、ラジカル重合で反応させる系としては、ポリエステル、エポキシ、ポリウレタン、アルキッド樹脂、スピラン樹脂、シリコーン樹脂等の低分子量ポリマまたはオリゴマに、アクリル酸、メタクリル酸またはそのエステル基を導入したプレポリマに、架橋剤として多官能アクリレート、メタクレートを添加する系が挙げられる。この場合、必要に応じて反応開始剤として光ラジカル発生剤を添加しても良い。また、エポキシ樹脂に光カチオン発生剤を添加する系、フェノールノボラックやＯＨ基を有するポリマに架橋剤としてメチロール化メラミンを添加し、また、開始剤として光酸発生剤を加える系も有効である。光硬化型の感光剤として上記の材料が有効であるが、特にこれらに限定されるものではなく、一般に光硬化型の感光剤として知られる材料はいずれも当該感光層の主成分として用いることができる。

光可溶化型の感光剤を使用する場合、いわゆるポジ型レジストとなり、感光剤としては主成分となる高分子とその高分子の溶媒に対する溶解性を抑制する作用を有し、さらに光を照射することにより溶解抑制効果を消失する物質との混合物または両者の結合体を用いることができる。

例えば、ｏ−ナフトキノンジアジドとアルカリ可溶性樹脂との混合物および両者をエステル結合したものは光可溶化型の感光剤として用いることができる。例えば、フェノール類としてフェノール、Ｏ−、ｍ−、Ｐ−クレゾール、２，５−キシレノール、３，５−キシレノール、３，４−キシレノール、２，３，５−トリメチルフェノール、４−ｔ−ブチルフェノール、２−ｔ−ブチルフェノール、３−ｔ−ブチルフェノール、２−エチルフェノール、３−エチルフェノール、４−エチルフェノール、３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール、４−メチル−２−ｔ−ブチルフェノール、２−ナフトール、１，３−ジヒドロキシナフタレン、１，５−ジヒドロキシナフタレン、１，７−ジヒドロキシナフタレンなどの芳香族ヒドロキシ化合物、アルデヒド類としてホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピルアルデヒド、ベンズアルデヒド、フェニルアルデヒドなどを用い、触媒として、有機酸例えば蟻酸、シュウ酸、Ｐ−トルエンスルホン酸、及びトリクロロ酢酸等、無機酸例えば燐酸、塩酸、硫酸、及び過塩素酸等、２価金属塩例えば酢酸亜鉛、及び酢酸マグネシウム等の存在下、バルクまたは任意の溶媒中で反応させ、フェノールノボラック樹脂を得ることができる。

また、キノンジアジド基含有化合物としては、例えば２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンなどのポリヒドロキシベンゾフェノンと、ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸又はナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホン酸との完全エステル化合物、あるいはその部分エステル化合物等を挙げることができる。

また、他のキノンジアジド基含有化合物例えばオルソベンゾキノンジアジド、オルソナフトキノンジアジド、オルソアントラキノンジアジド、及びオルソナフトキノンジアジドスルホン酸エステル類などのこれら核置換誘導体、更には、オルソナフトキノンスルホニルクロリドと水酸基又はアミノ基を持つ化合物例えばフェノール、ｐ−メトキシフェノール、ジメチルフェノール、ヒドロキノン、ビスフェノールＡ、ナフトール、カルビノール、ピロカテコール、ピロガロール、ピロガロールモノメチルエーテル、ピロガロール−１，３−ジメチルエーテル、没食子酸、水酸基を−部残してエステル化又はエーテル化された没食子酸、アニリン、及びＰ−アミノジフェニルアミン等との反応生成物なども用いることができる。これらは単独で用いても良いし、また２種類以上を組み合わせて用いても良い。これらのキノンジアジド基含有化合物は、例えば前記ポリヒドロキシベンゾフェノンとナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホニルクロリド又はナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホニルクロリドとをジオキサンなどの適当な溶媒中において、トリエタノールアミン、炭酸アルカリ、炭酸水素アルカリなどのアルカリ存在下に縮合させ、完全エステル化又は部分エステル化することにより製造することができる。

この他、ジアゾメルドラム酸とフェノールノボラック樹脂の混合物、ジアゾメドンとポリビニルフェノールとの混合物、ｏ−ニトロベンジルカルボン酸エステルとアクリル酸−メチルメタクリレート共重合体との混合物、およびポリｏ−ニトロベンジルメタクリレート等を用いることができる。

撥液性成分としては、表面エネルギーの低い含フッ素化合物やシリコーン微粒子が好ましく使用される。

含フッ素化合物としては、フッ素原子を有する高分子化合物、親水基および／または親油基と含フッ素基の両方を有するモノマ（低分子化合物）あるいはオリゴマなどがある。フッ素原子を有する高分子化合物は、光透過性の樹脂層中に溶解状態または分子オーダーでの混合状態で含有されていても良いし、あるいは微粒子状の分散状態で含有されていても良い。

光透過性の樹脂層中に溶解状態または分子オーダーでの混合状態で含有されるものとしては、例えば、フッ化ビニリデン、フッ化ビニル、三フッ化エチレンの単独重合体、これらと四フッ化エチレンや他の溶媒可溶性モノマーとの共重合体等があげられる。このように溶解状態あるいは分子オーダーで含有されるものは、パターニング精度を向上する点では有利である。

一般にフッ素系界面活性剤として知られている材料も用いることができ、感光剤の種類により、親水基、または親油基の構造を選択することで感光剤との混合状態を良好にすることができる。フッ素系界面活性剤の含フッ素基としては、ＣｎＦ_{（２ｎ＋１）}（ｎ＝１〜５０）のパーフルオロアルキル基、また、この中の１つまたは複数のフッ素原子をＣｎＦ_{（２ｎ＋１）}鎖で置換した枝別れタイプ、さらに芳香環の水素原子の一部または全部をＦまたはＣｎＦ_{（２ｎ＋１）}で置換したタイプ、および４フッ化エチレンのフッ素原子をＣＦ_３で置換したタイプを用いることができる。パーフルオロアルキル基の場合、その炭素鎖長に制限はないが、好ましくはｎ＜２０、より好ましくは３＜ｎ＜１５が効果的である。芳香環タイプとしては、フルオロベンゼン、ジフルオロベンゼン、トリフルオロベンゼン、パーフルオロベンゼン、フルオロフェノール、およびその誘導体を用いることができる。この様な含フッ素基は界面活性剤の中に単独もしくは複数個存在することができる。特に含フッ素成分として末端のＣＦ_３−を基本構造単位内に２つ以上含有するものはインキ反発性の点でＣＦ_３−が１つの構造に比べて非常に優れており、より好ましい。具体的には、モノマー内、またはオリゴマーが基本構成単位の繰り返しで構成されている場合には、基本構成単位内にＣｎＦ_{（２ｎ＋１）}の直鎖状の側鎖を２つ以上含む構造はいずれも良好なインキ反発性を実現できる。

親水基としては、ＯＨ基、カルボン酸、スルホン酸、リン酸およびその塩、アンモニウム塩、エチレンオキシド、およびポリエチレンオキシド等が効果的である。親油基としては鎖状炭化水素、芳香環等疎水性を示す構造はすべて用いることができる。オリゴマーの場合、主鎖にこれらの含フッ素基、親水基、および親油基がペンダントされている構造がより効果的である。これらの中でも、含フッ素化合物は、含フッ素基と、親水基および／または親油基を有するモノマまたはオリゴマであることが好ましい。含フッ素基と、親水基および／または親油基を有するモノマまたはオリゴマは、一般式Ｒｆ−Ｘ−Ｒｆ´、または一般式（Ｒｆ−Ｘ−Ｒ）−Ｙ−（Ｒｆ´−Ｘ´−Ｒｆ´）で表される化合物を含むことが好ましい。ここで、ＲｆおよびＲｆ´はフルオロアルキル基、ＲおよびＲ´はアルキレン基を表し、ＲｆとＲｆ´またＲとＲ´は同一でも異なっていてもよい。また、Ｘ、Ｘ´、およびＹは、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＯ−、―ＣＯＮＲ´´―、―ＯＣＯＮＲ´´―、―ＳＯ_２ＮＲ´´―、―ＳＯ_２―、―ＳＯ_２Ｏ―、―Ｏ―、―ＮＲ´´―、―Ｓ―、−ＣＯ−、―ＯＳＯ_２Ｏ―、―ＯＰＯ（ＯＨ）Ｏ―のうちの何れかを表し、Ｘ、Ｘ´、およびＹは同一でも異なっていてもよい。Ｒ´´は、アルキル基または水素を表す。

一方、シリコーン微粒子を撥液性成分として使用する場合としては、光透過性の樹脂層中に有機シリコーンをエマルジョン状態で分散した構造や、シリコーンゲル微粒子を光透過性の樹脂層中に分散した構造などが挙げられる。有機シリコーンとしては、鎖状のシロキサン構造、シロキサンが環状構造を形成した例えばシクロシロキサン構造等が挙げられる。シリコーンゲル微粒子の大きさとしては、撥液層の分解能の点で小さい方が好ましく、直径５０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以下である。また、シリコーンゲル微粒子を分散させる際に分散性を良好に保つために界面活性剤を用いることが有効である。添加する界面活性剤としては特に限定されないが、ケイ素を含有するシリコン系の界面活性剤が分散性の面でより有効である。また、感光剤中に有機シリコーンをエマルジョン状態で分散する場合にも界面活性剤の添加は分散安定性の向上にも有効である。

撥液層中の感光剤成分と撥液性成分の割合については、前者が多すぎるとインキ反発性が不充分となり、また後者が多すぎるとパターン解像度が劣化する。そのため、非遮光層中の撥液層成分は１重量％以上３０重量％以下であることが好ましい。

撥液層の厚さは本発明の範囲で任意に設定することができ、中でも０．０１〜３．０μｍ であることが好ましく、０．１μｍ〜０．５μｍであることがより好ましい。

撥液層は、撥液性の性質を持つように形成する。ここで言う撥液性とは、画素形成に用いられるカラー材料としてのカラーインクに対する接触角で表され、好ましくは４５度以上、より好ましくは６０度以上であるが、インクを反発し、ＢＭに囲まれた領域のみにカラー材料を形成させる効果を持つものであれば、特に限定されない。撥液層を撥液性にするためには、上記のようにフッ素やシリコンなどの低表面エネルギーの物質を含むことが好ましく、撥液層の塗膜中、特に撥液層塗膜の表面から０．１μｍの範囲内におけるフッ素原子の含有量は、好ましくは５００ｐｐｍ以上、より好ましくは５０００ｐｐｍ以上である。フッ素含有量がこの範囲に入らない場合は、ケイ素原子の含有量が、好ましくは１０００ｐｐｍ以上、より好ましくは１００００ｐｐｍ以上含まれることが好ましい。なお、撥液層塗膜の表面から０．１μｍより内部の部分においては、フッ素原子やケイ素原子は上記範囲でなくても良く、このように、表面近傍に低表面エネルギー成分を偏在させることで撥液性の効果を高くすることができる。

カラー材料の形成に用いるカラーインクとしては、水系、および有機溶剤系のいずれも用いることができる。着色剤は染料、顔料ともに使用できるが、耐溶剤性や信頼性の面から有機顔料が好ましい。カラーインクは、ＢＭで囲まれた領域に噴射された後、加熱もしくは紫外線などのエネルギー線を照射することによって硬化させることができ、例えば、遮光層で使われるものと同じものを挙げることができる。

中でも、少なくとも着色剤、メラミン樹脂、水、および２５℃では酸性を示さず、加熱により酸を発生する物質を含む熱硬化性水系カラーインク、少なくとも着色剤、有機溶剤、ポリイミド前駆体を含む熱硬化性有機溶剤系カラーインク、少なくとも着色剤、有機溶剤、バインダー樹脂、不飽和基含有多官能モノマー、光重合開始剤を含む光硬化性有機溶剤系カラーインク、少なくとも着色剤、有機溶剤、バインダー樹脂、エポキシ基含有多官能モノマー、硬化剤を含む熱硬化性有機溶剤系カラーインクなどが好適である。

溶剤としては、水および有機溶剤を用いることができる。有機溶剤としては、特に限定されるものではなく、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル等のジエチレングリコールモノアルキルエーテル類；ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート等のジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ブチルジグルコールアセテート等の他のエーテル類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン等のケトン類；２−ヒドロキシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル等の乳酸アルキルエステル類；２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ぎ酸ｎ−アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸ｎ−ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸ｎ−プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸エチル等の他のエステル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類等を用いることができ、これらの単独、あるいは２種類以上の混合溶媒も好ましく用いることができる。またこれら以外の溶剤との混合も好ましく用いられる。

さらに、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、しゅう酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテート等の高沸点溶剤を用いると、インク乾燥によるノズル詰まりを防止することができるため好ましい。これらの高沸点溶剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。

本発明のカラーフィルタは、例えば、以下のようにして作製されるが、これらに限定されるものではない。

まず、下層を遮光層、上層を撥液層とするＢＭの形成について述べる。遮光層の形成には黒色樹脂層を用い、該黒色樹脂層を形成すべき組成物に感光性を付与してフォトリソグラフィの方法によってパターン化してもよいし、感光性を付与せずフォトレジスト法によってパターン化しても良い。

まず、遮光層に用いられる材料が感光性の場合について述べる。この場合、まず、遮光層のみをパターニングした後、しかるべき方法によって撥液層をパターニングすることによって、遮光層と撥液層が積層したＢＭを得ることができる。

遮光層は、感光性黒色樹脂組成物を用いてパターニングすることが好ましい。感光性黒色樹脂組成物を基板上に塗布する方法としては、スピンコーター、バーコーター、ブレードコーター、ロールコーター、ダイコーター、スクリーン印刷法などで基板に塗布する方法、基板を着色組成物中に浸漬する方法、着色組成物を基板に噴霧するなどの種々の方法を用いることができる。

透明基板としては、特に限定されず、ソーダガラス、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、石英ガラスなどのガラスや、プラスチックフィルム、シートなどを用いることができる。また、透明基板上には、必要に応じて遮光層および画素と透明基板の接着性を向上する透明薄膜を塗布しておくことができる。接着性向上のための透明薄膜としては、シランカップリング剤などの接着助剤で基板表面を処理しておくと、着色膜と基板の接着力を向上させることができる。

上記により、基板上に黒色樹脂組成物を塗布した後、風乾、減圧乾燥、加熱乾燥などにより溶剤を除去し、塗膜を形成する。この後、必要に応じて塗膜上に酸素遮断膜を設けても良い。続いて該塗膜上にマスクを置き、露光装置を用いて紫外線を照射する。ついでアルカリ性現像液で現像を行う。ここで、現像液として非イオン系界面活性剤などの界面活性剤を０．０１〜１質量％添加したアルカリ性現像液を使用すると、より良好なパターンが得られるため好ましい。

アルカリ性現像液に用いるアルカリ性物質としては特に限定はしないが、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水等の無機アルカリ類、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン等の１級アミン類、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン等の２級アミン類、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン等の３級アミン類、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）等のテトラアルキルアンモニウムヒドロキシド類、コリン等の４級アンモニウム塩、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、ジエチルアミノエタノール等のアルコールアミン類、ピロール、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ［４，３，０］−５−ノナン、モルホリン等の環状アミン類などの有機アルカリ類等が挙げられ、エタノール、γーブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等の水溶性有機溶剤を適宜加えても良い。

得られた遮光層の塗膜パターンは、その後、加熱処理することによってパターンニングされた遮光層となる。加熱処理は通常、空気中、窒素雰囲気中、あるいは、真空中などで、１５０〜３００℃、好ましくは１８０〜２５０℃の温度のもとで、０．２５〜５時間、連続的または段階的に行われる。

次に、パターニングされた遮光層の上層に撥液層を形成させる。撥液層に用いる材料としては感光性樹脂組成物が好ましく、ネガ型レジスト、ポジ型レジストのどちらも使用することができるが、ポジ型レジストを使用することが好ましい。撥液性のポジ型レジストとした場合には、パターニングされた遮光層の上に、遮光層の塗膜形成と同様の方法にて撥液層の塗膜を形成し、その後、いわゆる透明基板側から紫外線を照射するいわゆる裏露光を行うことが好ましい。かかる方法によれば、レジストを露光する時にレジスト用マスクを使用することなく、パターニングされた遮光層（２）自身をマスクとして利用出来る為、レジスト用マスクと既形成の遮光層（２）との位置合わせが不要になり工程が簡単となる。また裏露光では、裏からの光がガラス基板を透過する際、ガラス面内での多重反射などにより、遮光層により囲われた画素部にあるレジスト全体にまんべんなく照射されため、遮光層側壁面にも画素部のガラス面にもレジスト残渣が残らないため、ＢＭ側壁面の親液性が維持され、画素部のガラス面の親液性も向上し、結果としてインクが画素全体に塗れ広がるという効果が得られる。

露光照度、露光時間、露光光の光束の平行光または広がり状態、現像条件等を調節することにより、簡単に前記撥液層（３）の頂部の幅ｗ３を、前記遮光層（２）の幅ｗ２より小さくすることが可能となる。

露光工程に使用できるランプとしては、超高圧水銀灯、ケミカル灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、紫外線ＬＥＤランプ等を用いることができる。露光照度は１０ｍＷ／ｃｍ^２〜３００ｍＷ／ｃｍ^２あることが好ましい。１０ｍＷ／ｃｍ^２より小さいとｗ３がｗ２より大きくなる傾向があるため好ましくなく、３００ｍＷ／ｃｍ^２より大きいとポジ型レジストの溶解速度を制御することが困難となり撥液層の欠けや剥がれの原因となる。露光時間は、露光照度との兼ね合いから適宜調整することができるが、生産性の観点から１秒〜３０秒が好ましい。通常、露光照度と露光時間を掛け合わせた露光量は、１０ｍＪ／ｃｍ^２〜３００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲で使用される。

また、裏露光の特徴としてマスクを設置することなくパターニング露光が可能である。通常のフォトリソ法による露光の場合は、マスク汚れを防止するための露光ギャップが必要であり、通常、マスクと被射塗膜との間は１００μｍ以上離れている。そのため、一般的には、フォトリソ法に使用する露光装置はコリメーション角が２°以下の平行光が用いられている。ところが、本発明における裏露光を実施する場合には、遮光層と撥液層は接した状態、すなわち露光ギャップは０の状態となるため平行光の必要は無く、むしろ照射光としては広がりを持った方が撥液層の幅ｗ３を遮光層ｗ２より小さくすることができるため好ましい。コリメーション角としては３°〜５０°であることが好ましく、１０°〜３０°であることがさらに好ましい。３°より小さい場合は、撥液層の幅ｗ３を遮光層の幅ｗ２より小さくする効果が小さく、５０°より大きい場合は、光の拡散が大きくなり過ぎ、撥液層の溶解速度を制御することが困難となるため好ましくない。

次に現像工程を行う。現像液は、遮光層で使用できるものと同様のものが挙げられ
これら現像液のアルカリ性物質の濃度は特に限定されるわけではないが、通常０．０１〜５０重量％、好ましくは０．０５〜５重量％である。アルカリ濃度が低すぎると現像されにくく、ｗ３が大きくなる傾向があるため好ましくなく、逆に高すぎると塗膜表面の膜荒れやパターンのぎざりが起こりやすく好ましくない。アルカリ現像はディップ現像、シャワー現像、パドル現像などの方法が可能であり、これらを組み合わせても良い。シャワー現像では最適な画素形状になるようにシャワー圧力を調整することが好ましく、シャワーの圧力は０．０５〜５ＭＰａが好ましい。現像後はアルカリ現像液を除去するために適宜純水などによる洗浄工程を加えても良い。

得られた撥液層の塗膜パターンは、その後、加熱処理することによってパターニングされた撥液層となる。加熱処理は通常、空気中、窒素雰囲気中、あるいは、真空中などで、１５０〜３００℃、好ましくは１８０〜２５０℃の温度のもとで、０．２５〜５時間、連続的または段階的に行われる。

一方、遮光層に用いられる材料が非感光性の場合について述べる。この場合、遮光層自体をフォトリソ法によりパターニングすることは出来ないため、印刷法、転写法、フォトレジスト法などにより、パターニングした遮光層を得ることができるが工程が長く、コスト的に不利である。よって、好ましくは、遮光層の塗膜を形成した後にパターン化することなく、その上に撥液層となる感光性樹脂組成物層を形成し、この感光性樹脂組成物層をレジストとしてフォトリソ法によりパターン化し、さらにそのレジストパターンをマスクとして遮光層をエッチングし、パターン化する。この方法によれば、１回のフォトリソ工程で遮光層と撥液層を同時に形成することが出来る。撥液層となる感光性樹脂組成物は、ネガ型レジストでもポジ型レジストでも良い。

かかる方法にて作製したＢＭは前記撥液層（３）の頂部の幅ｗ３が、遮光層（２）の幅ｗ２より小さいことが好ましい。さらに、ｗ２／ｗ３の比が０．１〜０．８が好ましく、０．２〜０．７がより好ましい。ｗ２／ｗ３の比が上記範囲にある場合、その後の工程であるカラー材料の形成時に、カラーインクがＢＭから溢れることを防止する効果を大きくすることができ、結果として画素形状の安定的な形成が可能となり外観ムラを抑制できるため好ましい。また、遮光層および撥液層の断面形状については特に限定されず、パターンの両側が順テーパー形状となった台形の他、半円形や半楕円形であっても良い。

ＢＭの配置は任意に設定することができ、線状に配置されたいわゆるストライプタイプのものや、ＢＭを格子状に配置することができる。さらに対向基板でのＴＦＴパターンに合わせた出っ張りや窪みなどを有しても良い。

続いて、カラー材料であるカラーインクを塗布する。塗布の方法としては、ＢＭに囲まれた領域に選択的に噴射できるインクジェット法、印刷法などが好ましく、インクジェット法が特に好ましい。

インクジェット法としては、圧電素子を用いて間欠的にインクを噴射する方法や、帯電したインクを連続的に噴射し電場によって制御する方法、インクを加熱しその発泡を利用して間欠的に噴射する方法等、各種の方法を採用でき、中でも圧電素子を用いたいわゆるピエゾ方式が好ましい。インクジェット装置を用いて着色する方法としては、例えばＲ、Ｇ、Ｂ３色分のヘッドを用意し、それぞれのヘッドから微小インキ滴を噴射しＢＭで囲まれた領域にカラー材料を形成させる。この時、ＢＭの形状とカラー材料の形状を本発明の範囲にすることで、画素内を均一に着色することができ、白抜けや溢れ、外観ムラなどの欠陥なく良好なカラーフィルタを安価に製造することができる。一例としては、前記遮光層２の厚さｔ２を１．５μｍとし、前記撥液層３の厚さｔ３を前記遮光層の厚さの１／３、即ち、０．５μｍとし、しかも、前記撥液層３の頂部の幅を、前記遮光層２の幅より片側５μｍ、両側で１０μｍ狭くすれば良い。前記カラー層４の乾燥、硬化後の高さｔ４を、前記ＢＭの高さに略等しい２μｍに設定し、カラーインクの量を調整することで、本発明の範囲にすることができる。前記遮光層２の厚さｔ２は、必ずしもここに示した値である必要はなく、１．３μｍ以上、２．５μｍ以下であれば良い。同様に、前記撥液層３の厚さｔ３は、０．１μｍ以上で、前記遮光層２の厚さｔ２の１／２以下であれば良い。更に、前記カラー層４の乾燥・キュア後の高さｔ４は、前記遮光層２の厚さｔ２の０．８倍以上であって、且つ前記ＢＭの厚さｔ２＋ｔ３の１．２倍以下であれば、カラーフィルタを通して目視した場合、画素内の色がほぼ均一に見えるので良い。

上記方法によりで任意の色数について着色パターンを形成せしめると、所望のパターン状に設けられた着色層からなる画素を有するカラーフィルターが作製できる。また、色数は任意だが、ＲＧＢの３色が好ましい。

また必要に応じて、保護膜、透明電導膜等を形成することができる。これらを形成する位置、形成順序、形成方法などは、特に限定されない。一例として、ＢＭおよび着色層の上に保護膜、さらにその上に透明導電膜を形成するなどの構成が挙げられる。

以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。

実施例１
Ａ．遮光層材料（ＢＭ−１）の作製
ビススフェノールＡ型液状エポキシ樹脂（Ｒ−１４０ｐ、三井石油製） ５０重量部、カーボン粉（ＭＡ−８、三菱マテリアル製）３０重量部、トルエン２０重量部を混合し、遮光層材料（ＢＭ−１）を得た。
Ｂ．撥液層材料（ＰＰ−１）の作製
ｏ−ナフトキノンジアジド／フェノールノボラック系ポジ型感光剤（マイクロポジットＲＣ１００、シプレー社）６０重量部、“シンナー”Ｃ（シプレー社）２０重量部、フッ素系界面活性剤（ＥＦ−１２３Ａ、トーケムプロダクツ）５重量部、（Ｆ１７９、大日本インキ）５重量部を混合し、撥液層材料（ＰＰ−１）を得た。
Ｃ．カラーインク（ＩＮＫ−１Ｒ、ＩＮＫ−１Ｇ、ＩＮＫ−１Ｂ）の作製
赤色顔料ＰＲ１７７を５重量部、界面活性剤“ニューコール”７１０Ｆ（日本乳化剤）５重量部、水７９重量部、メラミン樹脂（“スミテックレジン”Ｍ３、住友化学）１０重量部、硬化剤ＡＣＸ（住友化学）１重量部を混合し、赤色カラーインク（ＩＮＫ−１Ｒ）を得た。同様にして、赤色顔料の代わりに緑色顔料ＰＧ３６を用いて緑色カラーインク（ＩＮＫ−１Ｇ）を、赤色顔料の代わりに青色顔料ＰＢ１５を用いて青色カラーインク（ＩＮＫ−１Ｂ）を得た。
Ｄ．ＢＭの作製
コーニングジャパン株式会社製０．７ｍｍ厚ガラス基板“１７３７”上に、上記Ａで作製した遮光層材料（ＢＭ−１）を熱処理後の膜厚が１．５μｍとなるようスピンナーで塗布して塗膜を形成した。該塗膜を、１００℃のオーブンで１０分乾燥した後、この上に撥液層材料（ＰＰ−１）を熱処理後の膜厚が０．５μｍとなるようにスピンナーで塗布し、８０℃のオーブンで１０分乾燥した。キャノン株式会社製紫外線露光機“ＰＬＡ−５０１Ｆ”を用い、各色画素の周辺部に格子状にＢＭが残るフォトマスクパターンを介して、１００ｍＪ／ｃｍ^２（３６５ｎｍの紫外線強度）で露光した。露光後、水酸化ナトリウムの２．０％の水溶液からなる現像液に浸漬し、パターニングした。次に１００℃で２０分加熱した後、トルエン中に１分浸漬し、遮光層をエッチングによりパターニングした。パターニング後２３０℃で３０分加熱硬化を行いＢＭを作製した。このとき、遮光層の高さは１．５０μｍ、幅１５μｍ、撥液層の高さは０．５μｍ、幅１５μｍであった。
Ｅ．カラーフィルタの作製
上記Ｄで作製したＢＭ付き基板の画素部にインクジェット噴射装置を用いて対応する位置に、赤色、緑色、青色の各カラーインク（ＩＮＫ−１Ｒ、ＩＮＫ−１Ｇ、ＩＮＫ−１Ｂ）を噴射し着色した。着色後１５０℃で１５分加熱し、カラーインク中のメラミン成分を硬化し、カラーフィルタを作製した。

得られたカラーフィルタは、画素の白抜けやインク溢れなどは無く良好であった。また、赤、緑、青色の任意の各１０画素の膜厚プロファイルを測定したところ、画素内の膜厚の最小値は１．２４μｍ、最大値は１．４６μｍであり、カラーフィルタは外観ムラなどが無く良好であった。結果を表１にまとめた。

実施例２
実施例１のＡ〜Ｄと同様にしてＢＭを作製し、カラーインク（ＩＮＫ−１Ｒ、ＩＮＫ−１Ｇ、ＩＮＫ−１Ｂ）の噴射量を増やして着色した。着色後１５０℃で１５分加熱し、カラーインク中のメラミン成分を硬化し、カラーフィルタを作製した。

得られたカラーフィルタは、画素の白抜けやインク溢れなどは無く良好であった。また、赤、緑、青色の任意の各１０画素の膜厚プロファイルを測定したところ、画素内の膜厚の最小値は２．１２μｍ、最大値は２．３０μｍであり、カラーフィルタは外観ムラなどが無く良好であった。結果を表１にまとめた。

実施例３
撥液層の高さが０．８μｍになるようにスピンナーで塗布した以外は、実施例１と同様にしてＢＭを作製した。遮光層の高さは１．５０μｍ、幅１５μｍ、撥液層の高さは０．８μｍ、幅１５μｍであった。

実施例１と同様にしてカラーインクを噴射した後、硬化し、カラーフィルタを作製した。

得られたカラーフィルタは、画素の白抜けやインク溢れなどは無く良好であった。また、また、赤、緑、青色の任意の各１０画素の膜厚プロファイルを測定したところ、画素内の膜厚の最小値は１．２３μｍ、最大値は１．４３μｍであったが、ＢＭの高さが遮光層と撥液層の合計が２．３μｍと画素との膜厚差が大きいことに起因すると思われるごく軽微な外観ムラが観察された。結果を表１にまとめた。

実施例４
撥液層の高さが０．２μｍになるようにスピンナーで塗布した以外は、実施例１と同様にしてＢＭを作製した。遮光層の高さは１．５０μｍ、幅１５μｍ、撥液層の高さは０．２μｍ、幅１５μｍであった。

実施例１と同様にしてカラーインクを噴射した後、硬化し、カラーフィルタを作製した。
得られたカラーフィルタは、画素の白抜けやインク溢れなどは無く良好であった。また、また、赤、緑、青色の任意の各１０画素の膜厚プロファイルを測定したところ、画素内の膜厚の最小値は１．２９μｍ、最大値は１．３９μｍであり、カラーフィルタは外観ムラなどが無く良好であった。結果を表１にまとめた。

実施例５
遮光層の高さが２．２０μｍになるようにスピンナーで塗布した以外は、実施例１と同様にしてＢＭを作製した。遮光層の高さは２．２０μｍ、幅１５μｍ、撥液層の高さは０．５μｍ、幅１５μｍであった。

実施例１と同様にしてカラーインクを噴射した後、硬化し、カラーフィルタを作製した。
得られたカラーフィルタは、画素の白抜けやインク溢れなどは無く良好であった。また、また、赤、緑、青色の任意の各１０画素の膜厚プロファイルを測定したところ、画素内の膜厚の最小値は２．２０μｍ、最大値は２．０９μｍであり、カラーフィルタは外観ムラなどが無く良好であった。結果を表１にまとめた。

実施例６
Ａ．遮光層材料（ＢＭ−２）の作製
ポリイミド樹脂（“セミコファイン”ｓｐ７４０、東レ）３０重量部、カーボン粉（ＭＡ−８、三菱マテリアル製）３０重量部、Ｎ−メチルピロリドン４０重量部を混合し、遮光層材料（ＢＭ−２）を得た。
Ｄ．ＢＭの作製
コーニングジャパン株式会社製０．７ｍｍ厚ガラス基板“１７３７”上に、上記Ａで作製した遮光層材料（ＢＭ−２）を熱処理後の膜厚が１．５μｍとなるようスピンナーで塗布して塗膜を形成した。該塗膜を、１００℃のオーブンで１０分乾燥した後、この上に撥液層材料（ＰＰ−１）を熱処理後の膜厚が０．５μｍとなるようにスピンナーで塗布し、８０℃のオーブンで１０分乾燥した。キャノン株式会社製紫外線露光機“ＰＬＡ−５０１Ｆ”を用い、各色画素の周辺部に格子状にＢＭが残るフォトマスクパターンを介して、１００ｍＪ／ｃｍ^２（３６５ｎｍの紫外線強度）で露光した。露光後、水酸化ナトリウムの２．０％の水溶液からなる現像液に浸漬し、撥液層の現像と遮光層のエッチングを同時に行いパターニングした。パターニング後２３０℃で３０分加熱硬化を行いＢＭを作製した。このとき、遮光層の高さは１．５０μｍ、幅１５μｍ、撥液層の高さは０．５μｍ、幅１５μｍであった。
Ｅ．カラーフィルタの作製
上記Ｄで作製したＢＭ付き基板の画素部にインクジェット噴射装置を用いて対応する位置に、赤色、緑色、青色の各カラーインク（ＩＮＫ−１Ｒ、ＩＮＫ−１Ｇ、ＩＮＫ−１Ｂ）を噴射し着色した。着色後１５０℃で１５分加熱し、カラーインク中のメラミン成分を硬化し、カラーフィルタを作製した。

得られたカラーフィルタは、画素の白抜けやインク溢れなどは無く良好であった。また、赤、緑、青色の任意の各１０画素の膜厚プロファイルを測定したところ、画素内の膜厚の最小値は１．４５μｍ、最大値は１．６４μｍであり、カラーフィルタは外観ムラなどが無く良好であった。結果を表１にまとめた。

実施例７
実施例４と同様にしてＢＭを作製し、カラーインク（ＩＮＫ−１Ｒ、ＩＮＫ−１Ｇ、ＩＮＫ−１Ｂ）の噴射量を増やして着色した。着色後１５０℃で１５分加熱し、カラーインク中のメラミン成分を硬化し、カラーフィルタを作製した。

得られたカラーフィルタは、画素の白抜けやインク溢れなどは無く良好であった。また、赤、緑、青色の任意の各１０画素の膜厚プロファイルを測定したところ、画素内の膜厚の最小値は２．２６μｍ、最大値は２．３９μｍであり、カラーフィルタは外観ムラなどが無く良好であった。結果を表１にまとめた。

実施例８
Ｃ．カラーインク（ＩＮＫ−２Ｒ、ＩＮＫ−２Ｇ、ＩＮＫ−２Ｂ）の作製
赤色顔料ＰＲ１７７を５重量部、ポリイミド樹脂（“セミコファイン”ｓｐ７４０、東レ）
１０重量部、Ｎ−メチルピロリドン８５重量部を混合し、赤色カラーインク（ＩＮＫ−２Ｒ）を得た。同様にして、赤色顔料の代わりに緑色顔料ＰＧ３６を用いて緑色カラーインク（ＩＮＫ−２Ｇ）を、赤色顔料の代わりに青色顔料ＰＢ１５を用いて青色カラーインク（ＩＮＫ−２Ｂ）を得た。
Ｅ．カラーフィルタの作製
実施例４と同様にしてＢＭを作製し、基板の画素部にインクジェット噴射装置を用いて対応する位置に、赤色、緑色、青色の各カラーインク（ＩＮＫ−２Ｒ、ＩＮＫ−２Ｇ、ＩＮＫ−２Ｂ）を噴射し着色した。着色後２８０℃で３０分加熱硬化し、カラーフィルタを作製した。

得られたカラーフィルタは、画素の白抜けやインク溢れなどは無く良好であった。また、赤、緑、青色の任意の各１０画素の膜厚プロファイルを測定したところ、画素内の膜厚の最小値は１．３２μｍ、最大値は１．４９μｍであり、カラーフィルタは外観ムラなどが無く良好であった。結果を表１にまとめた。

実施例９
実施例４と同様にしてＢＭを作製し、カラーインク（ＩＮＫ−２Ｒ、ＩＮＫ−２Ｇ、ＩＮＫ−２Ｂ）の噴射量を増やして着色した。着色後２８０℃で３０分加熱硬化し、カラーフィルタを作製した。

得られたカラーフィルタは、画素の白抜けやインク溢れなどは無く良好であった。また、赤、緑、青色の任意の各１０画素の膜厚プロファイルを測定したところ、画素内の膜厚の最小値は１．８９μｍ、最大値は２．０７μｍであり、カラーフィルタは外観ムラなどが無く良好であった。結果を表１にまとめた。

実施例１０
Ｃ．カラーインク（ＩＮＫ−３Ｒ、ＩＮＫ−３Ｇ、ＩＮＫ−３Ｂ）の作製
赤色顔料ＰＲ１７７を５重量部、高分子分散剤“ソルスパース”２４０００（アビシア社）１重量部、アクリル共重合体溶液（“サイクロマーＰ”ＡＣＡ−２５０、ダイセル化学工業）５重量部、エポキシ樹脂“エピコート”８２８（油化シェル社）３重量部、３−メトキシ−３−メチル−ブチルアセテート８６重量部を混合し、赤色カラーインク（ＩＮＫ−３Ｒ）を得た。同様にして、赤色顔料の代わりに緑色顔料ＰＧ３６を用いて緑色カラーインク（ＩＮＫ−３Ｇ）を、赤色顔料の代わりに青色顔料ＰＢ１５を用いて青色カラーインク（ＩＮＫ−３Ｂ）を得た。
Ｅ．カラーフィルタの作製
実施例４と同様にしてＢＭを作製し、基板の画素部にインクジェット噴射装置を用いて対応する位置に、赤色、緑色、青色の各カラーインク（ＩＮＫ−３Ｒ、ＩＮＫ−３Ｇ、ＩＮＫ−３Ｂ）を噴射し着色した。着色後２２０℃で３０分加熱硬化し、カラーフィルタを作製した。

得られたカラーフィルタは、画素の白抜けやインク溢れなどは無く良好であった。また、赤、緑、青色の任意の各１０画素の膜厚プロファイルを測定したところ、画素内の膜厚の最小値は１．２３μｍ、最大値は１．３９μｍであり、カラーフィルタは外観ムラなどが無く良好であった。結果を表１にまとめた。

実施例１１
実施例４と同様にしてＢＭを作製し、カラーインク（ＩＮＫ−３Ｒ、ＩＮＫ−３Ｇ、ＩＮＫ−３Ｂ）の噴射量を増やして着色した。着色後２２０℃で３０分加熱硬化し、カラーフィルタを作製した。

得られたカラーフィルタは、画素の白抜けやインク溢れなどは無く良好であった。また、赤、緑、青色の任意の各１０画素の膜厚プロファイルを測定したところ、画素内の膜厚の最小値は２．１６μｍ、最大値は２．３１μｍであり、カラーフィルタは外観ムラなどが無く良好であった。結果を表１にまとめた。

実施例１２
Ａ．遮光層材料（ＢＭ−３）の作製
カーボン粉（ＭＡ−８、三菱マテリアル製）３０重量部、アクリル共重合体溶液（“サイクロマーＰ”ＡＣＡ−２５０、ダイセル化学工業）２０重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１０重量部、光重合開始剤“イルガキュア”３６９（チバ・スペシャリティケミカルズ）３重量部、シクロヘキサノン３７重量部を混合し、遮光層材料（ＢＭ−２）を得た。

Ｄ．ＢＭの作製
コーニングジャパン株式会社製０．７ｍｍ厚ガラス基板“１７３７”上に、上記Ａで作製した遮光層材料（ＢＭ−３）を熱処理後の膜厚が１．５μｍとなるようスピンナーで塗布して塗膜を形成した。該塗膜を、８０℃のオーブンで１０分乾燥した後、キャノン株式会社製紫外線露光機“ＰＬＡ−５０１Ｆ”を用い、各色画素の周辺部に格子状にＢＭが残るフォトマスクパターンを介して、１００ｍＪ／ｃｍ^２（３６５ｎｍの紫外線強度）で露光した。水酸化ナトリウムの２．０％の水溶液からなる現像液に浸漬してパターニングし、２３０℃で３０分加熱硬化を行った。次に、遮光層パターンの上に撥液層材料（ＰＰ−１）を熱処理後の膜厚が０．５μｍとなるようにスピンナーで塗布し、８０℃のオーブンで１０分乾燥した。コリメーション角が２０°と平行度の低いＬＥＤランプ（照度２０ｍＷ／ｃｍ^２）を用い、遮光層パターンをマスクの代わりとしガラス基板側よりいわゆる裏露光を１００ｍＪ／ｃｍ^２（３６５ｎｍの紫外線強度）で露光した。

露光後、水酸化ナトリウムの２．０％の水溶液からなる現像液に浸漬し、２３０°で３０分加熱硬化を行い、遮光層の上に撥液層が積層したＢＭを作製した。このとき、遮光層の高さは１．５０μｍ、幅１５μｍ、撥液層の高さは０．５μｍ、幅１０μｍであった。
Ｅ．カラーフィルタの作製
上記Ｄで作製したＢＭ付き基板の画素部にインクジェット噴射装置を用いて対応する位置に、赤色、緑色、青色の各カラーインク（ＩＮＫ−１Ｒ、ＩＮＫ−１Ｇ、ＩＮＫ−１Ｂ）を噴射し着色した。着色後１５０℃で１５分加熱し、カラーインク中のメラミン成分を硬化し、カラーフィルタを作製した。

得られたカラーフィルタは、画素の白抜けやインク溢れなどは無く良好であった。また、赤、緑、青色の任意の各１０画素の膜厚プロファイルを測定したところ、画素内の膜厚の最小値は１．４６μｍ、最大値は１．５４μｍであり、カラーフィルタは外観ムラなどが無く良好であった。結果を表１にまとめた。

実施例１３
実施例１０と同様にしてＢＭを作製し、カラーインク（ＩＮＫ−１Ｒ、ＩＮＫ−１Ｇ、ＩＮＫ−１Ｂ）の噴射量を増やして着色した。着色後１５０℃で１５分加熱し、カラーインク中のメラミン成分を硬化し、カラーフィルタを作製した。

得られたカラーフィルタは、画素の白抜けやインク溢れなどは無く良好であった。また、赤、緑、青色の任意の各１０画素の膜厚プロファイルを測定したところ、画素内の膜厚の最小値は２．２５μｍ、最大値は２．３４μｍであり、カラーフィルタは外観ムラなどが無く良好であった。結果を表１にまとめた。

実施例１４
Ｄ．ＢＭの作製
コーニングジャパン株式会社製０．７ｍｍ厚ガラス基板“１７３７”上に、上記Ａで作製した遮光層材料（ＢＭ−３）を熱処理後の膜厚が１．５μｍとなるようスピンナーで塗布して塗膜を形成した。該塗膜を、８０℃のオーブンで１０分乾燥した後、キャノン株式会社製紫外線露光機“ＰＬＡ−５０１Ｆ”を用い、各色画素の周辺部に格子状にＢＭが残るフォトマスクパターンを介して、１００ｍＪ／ｃｍ^２（３６５ｎｍの紫外線強度）で露光した。水酸化ナトリウムの２．０％の水溶液からなる現像液に浸漬してパターニングし、２３０℃で３０分加熱硬化を行った。次に、遮光層パターンの上に撥液層材料（ＰＰ−１）を熱処理後の膜厚が０．１μｍとなるようにスピンナーで塗布し、８０℃のオーブンで１０分乾燥した。キャノン株式会社製紫外線露光機“ＰＬＡ−５０１Ｆ”を用い、遮光層パターンをマスクの代わりとしガラス基板側よりいわゆる裏露光を１００ｍＪ／ｃｍ^２（３６５ｎｍの紫外線強度）で露光した。

露光後、水酸化ナトリウムの２．０％の水溶液からなる現像液に浸漬し、２３０°で３０分加熱硬化を行い、遮光層の上に撥液層が積層したＢＭを作製した。このとき、遮光層の高さは１．５０μｍ、幅１５μｍ、撥液層の高さは０．１μｍ、幅１５μｍであった。
Ｅ．カラーフィルタの作製
上記Ｄで作製したＢＭ付き基板の画素部にインクジェット噴射装置を用いて対応する位置に、赤色、緑色、青色の各カラーインク（ＩＮＫ−１Ｒ、ＩＮＫ−１Ｇ、ＩＮＫ−１Ｂ）を噴射し着色した。着色後１５０℃で１５分加熱し、カラーインク中のメラミン成分を硬化し、カラーフィルタを作製した。

得られたカラーフィルタは、画素の白抜けやインク溢れなどは無く良好であった。また、赤、緑、青色の任意の各１０画素の膜厚プロファイルを測定したところ、画素内の膜厚の最小値は１．５０μｍ、最大値は１．５０μｍであり、カラーフィルタは外観ムラなどが全く無く極めて良好であった。結果を表１にまとめた。

実施例１５
実施例１０と同様にしてＢＭを作製し、カラーインクの種類を変えて（ＩＮＫ−２Ｒ、ＩＮＫ−２Ｇ、ＩＮＫ−２Ｂ）噴射着色した。着色後２８０℃で３０分加熱硬化し、カラーフィルタを作製した。

得られたカラーフィルタは、画素の白抜けやインク溢れなどは無く良好であった。また、赤、緑、青色の任意の各１０画素の膜厚プロファイルを測定したところ、画素内の膜厚の最小値は１．３４μｍ、最大値は１．５３μｍであり、カラーフィルタは外観ムラなどが無く良好であった。結果を表１にまとめた。

実施例１６
実施例１３と同様にしてＢＭを作製し、カラーインク（ＩＮＫ−２Ｒ、ＩＮＫ−２Ｇ、ＩＮＫ−２Ｂ）の噴射量を増やして着色した。着色後２８０℃で３０分加熱硬化し、カラーフィルタを作製した。

得られたカラーフィルタは、画素の白抜けやインク溢れなどは無く良好であった。また、赤、緑、青色の任意の各１０画素の膜厚プロファイルを測定したところ、画素内の膜厚の最小値は１．９８μｍ、最大値は２．１５μｍであり、カラーフィルタは外観ムラなどが無く良好であった。結果を表１にまとめた。

実施例１７
実施例１０と同様にしてＢＭを作製し、カラーインクの種類を変えて（ＩＮＫ−３Ｒ、ＩＮＫ−３Ｇ、ＩＮＫ−３Ｂ）噴射着色した。着色後２３０℃で３０分加熱硬化し、カラーフィルタを作製した。

得られたカラーフィルタは、画素の白抜けやインク溢れなどは無く良好であった。また、赤、緑、青色の任意の各１０画素の膜厚プロファイルを測定したところ、画素内の膜厚の最小値は１．２６μｍ、最大値は１．３４μｍであり、カラーフィルタは外観ムラなどが無く良好であった。結果を表１にまとめた。

実施例１８
実施例１５と同様にしてＢＭを作製し、カラーインク（ＩＮＫ−３Ｒ、ＩＮＫ−３Ｇ、ＩＮＫ−３Ｂ）の噴射量を増やして着色した。着色後２３０℃で３０分加熱硬化し、カラーフィルタを作製した。

得られたカラーフィルタは、画素の白抜けやインク溢れなどは無く良好であった。また、赤、緑、青色の任意の各１０画素の膜厚プロファイルを測定したところ、画素内の膜厚の最小値は２．０７μｍ、最大値は２．２６μｍであり、カラーフィルタは外観ムラなどが無く良好であった。結果を表１にまとめた。

比較例１
実施例１と同様にして作製したＢＭ付き基板の画素部にインクジェット噴射装置を用いて対応する位置に、赤色、緑色、青色の各カラーインク（ＩＮＫ−１Ｒ、ＩＮＫ−１Ｇ、ＩＮＫ−１Ｂ）を噴射量を少なくし着色した。着色後１５０℃で１５分加熱し、カラーインク中のメラミン成分を硬化し、カラーフィルタを作製した。

得られたカラーフィルタは、一部に白抜けが発生してしまい、欠陥となっていた。また、白抜けの無い、赤、緑、青色の任意の各１０画素の膜厚プロファイルを測定したところ、画素内の膜厚の最小値は０．７６μｍ、最大値は１．１８μｍであり、著しい凹形状となっていた。カラーフィルタは外観ムラが観測された。結果を表１にまとめた。

比較例２
実施例１と同様にして作製したＢＭ付き基板の画素部にインクジェット噴射装置を用いて対応する位置に、赤色、緑色、青色の各カラーインク（ＩＮＫ−１Ｒ、ＩＮＫ−１Ｇ、ＩＮＫ−１Ｂ）を噴射量を多くし着色した。着色後１５０℃で１５分加熱し、カラーインク中のメラミン成分を硬化し、カラーフィルタを作製した。

得られたカラーフィルタは、一部に溢れが発生してしまい、欠陥となっていた。また、溢れの無い、赤、緑、青色の任意の各１０画素の膜厚プロファイルを測定したところ、画素内の膜厚の最小値は２．２３μｍ、最大値は２．９０μｍであり、著しい凸形状となっていた。カラーフィルタは外観ムラが観測された。結果を表１にまとめた。

比較例３
Ｄ．ＢＭの作製
コーニングジャパン株式会社製０．７ｍｍ厚ガラス基板“１７３７”上に、実施例１のＡで作製した遮光層材料（ＢＭ−１）を熱処理後の膜厚が０．９μｍとなるようスピンナーで塗布して塗膜を形成した。該塗膜を、１００℃のオーブンで１０分乾燥した後、この上に撥液層材料（ＰＰ−１）を熱処理後の膜厚が０．５μｍとなるようにスピンナーで塗布し、８０℃のオーブンで１０分乾燥した。キャノン株式会社製紫外線露光機“ＰＬＡ−５０１Ｆ”を用い、各色画素の周辺部に格子状にＢＭが残るフォトマスクパターンを介して、１００ｍＪ／ｃｍ^２（３６５ｎｍの紫外線強度）で露光した。露光後、水酸化ナトリウムの２．０％の水溶液からなる現像液に浸漬し、パターニングした。次に１００℃で２０分加熱した後、トルエン中に１分浸漬し、遮光層をエッチングによりパターニングした。パターニング後２３０℃で３０分加熱硬化を行いＢＭを作製した。このとき、遮光層の高さは０．９０μｍ、幅１５μｍ、撥液層の高さは０．５μｍ、幅１５μｍであった。
Ｅ．カラーフィルタの作製
上記Ｄで作製したＢＭ付き基板の画素部にインクジェット噴射装置を用いて対応する位置に、赤色、緑色、青色の各カラーインク（ＩＮＫ−１Ｒ、ＩＮＫ−１Ｇ、ＩＮＫ−１Ｂ）を噴射し着色した。着色後１５０℃で１５分加熱し、カラーインク中のメラミン成分を硬化し、カラーフィルタを作製した。

得られたカラーフィルタは、一部白抜けが発生し、欠陥となっていた。また、白抜けの無い赤、緑、青色の任意の各１０画素の膜厚プロファイルを測定したところ、画素内の膜厚の最小値は１．２０μｍ、最大値は１．６８μｍであり著しい凸形状となっていた。カラーフィルタは外観ムラが観測された。結果を表１にまとめた。

比較例４
Ｄ．ＢＭの作製
コーニングジャパン株式会社製０．７ｍｍ厚ガラス基板“１７３７”上に、実施例１のＡで作製した遮光層材料（ＢＭ−１）を熱処理後の膜厚が３．０μｍとなるようスピンナーで塗布して塗膜を形成した。該塗膜を、１００℃のオーブンで１０分乾燥した後、この上に撥液層材料（ＰＰ−１）を熱処理後の膜厚が０．５μｍとなるようにスピンナーで塗布し、８０℃のオーブンで１０分乾燥した。キャノン株式会社製紫外線露光機“ＰＬＡ−５０１Ｆ”を用い、各色画素の周辺部に格子状にＢＭが残るフォトマスクパターンを介して、１００ｍＪ／ｃｍ^２（３６５ｎｍの紫外線強度）で露光した。露光後、水酸化ナトリウムの２．０％の水溶液からなる現像液に浸漬し、パターニングした。次に１００℃で２０分加熱した後、トルエン中に１分浸漬し、遮光層をエッチングによりパターニングした。パターニング後２３０℃で３０分加熱硬化を行いＢＭを作製した。このとき、遮光層の高さは３．０μｍ、幅１５μｍ、撥液層の高さは０．５μｍ、幅１５μｍであった。
Ｅ．カラーフィルタの作製
上記Ｄで作製したＢＭ付き基板の画素部にインクジェット噴射装置を用いて対応する位置に、赤色、緑色、青色の各カラーインク（ＩＮＫ−１Ｒ、ＩＮＫ−１Ｇ、ＩＮＫ−１Ｂ）を噴射し着色した。着色後１５０℃で１５分加熱し、カラーインク中のメラミン成分を硬化し、カラーフィルタを作製した。

得られたカラーフィルタは、白抜けやインク溢れは無かったが、赤、緑、青色の任意の各１０画素の膜厚プロファイルを測定したところ、画素内の膜厚の最小値は１．２０μｍ、最大値は１．６８μｍであり著しい凹形状となっていた。カラーフィルタは外観ムラが観測された。結果を表１にまとめた。

比較例５
Ｄ．ＢＭの作製
コーニングジャパン株式会社製０．７ｍｍ厚ガラス基板“１７３７”上に、上記Ａで作製した遮光層材料（ＢＭ−３）を熱処理後の膜厚が１．５μｍとなるようスピンナーで塗布して塗膜を形成した。該塗膜を、８０℃のオーブンで１０分乾燥した後、キャノン株式会社製紫外線露光機“ＰＬＡ−５０１Ｆ”を用い、各色画素の周辺部に格子状にＢＭが残るフォトマスクパターンを介して、１００ｍＪ／ｃｍ^２（３６５ｎｍの紫外線強度）で露光した。水酸化ナトリウムの２．０％の水溶液からなる現像液に浸漬してパターニングし、２３０℃で３０分加熱硬化を行った。
Ｅ．カラーフィルタの作製
上記Ｄで作製したＢＭ付き基板の画素部にインクジェット噴射装置を用いて対応する位置に、赤色、緑色、青色の各カラーインク（ＩＮＫ−１Ｒ、ＩＮＫ−１Ｇ、ＩＮＫ−１Ｂ）を噴射し着色した。着色後１５０℃で１５分加熱し、カラーインク中のメラミン成分を硬化し、カラーフィルタを作製した。

得られたカラーフィルタは、一部溢れが発生し、欠陥となっていた。また、溢れの無い赤、緑、青色の任意の各１０画素の膜厚プロファイルを測定したところ、画素内の膜厚の最小値は１．１８μｍ、最大値は１．６７μｍであり著しい凹形状となっていた。カラーフィルタは外観ムラが観測された。結果を表１にまとめた。

従来のカラーフィルタの一例を示す概略縦断面図である。 従来のカラーフィルタの一例を示す概略縦断面図である。 本発明のカラーフィルタの一実施形態を示す概略縦断面図である。

符号の説明

１ 透明基板
２ 遮光層
３ 撥液層
４ カラー層
Ａ ＢＭ
ｂ 塗布初期のカラー材料液形状
Ｂ 乾燥・キュア後のカラー材料液形状

Claims (6)

1. 厚さがｔ２なる遮光層（２）および前記遮光層（２）の上部に厚さがｔ３なる撥液層（３）が積層されてなるブラックマトリックス（Ａ）により区画された透明基板（１）上の該ブラックマトリックス（Ａ）で囲まれた領域にカラー材料（４）を形成してなるカラーフィルタであって、該領域に形成されたカラー材料（４）の厚さｔ４が、前記遮光層（２）の厚さｔ２の０．８倍以上、且つ該ブラックマトリックス（Ａ）の厚さｔ２＋ｔ３の１．２倍以下の範囲内であることを特徴とするカラーフィルタ。
2. 前記遮光層（２）の厚さｔ２が、１．３μｍ以上、２．５μｍ以下であって、前記撥液層（３）の厚さｔ３が０．１μｍ以上であり、前記撥液層（３）の厚さｔ３が前記遮光層（２）の厚さｔ２の１／２以下であることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタ。
3. 厚さがｔ２なる遮光層（２）および前記遮光層（２）の上部に厚さｔ３なる撥液層（３）を設けたブラックマトリックス（Ａ）により区画された透明基板（１）上の該ブラックマトリックス（Ａ）で囲まれた領域にカラー材料（４）を形成してなるカラーフィルタであって、前記領域に形成されたカラー材料（４）の厚さｔ４が、前記ブラックマトリックス（Ａ）の厚さに等しいことを特徴とする請求項１または２に記載のカラーフィルタ。
4. 厚さがｔ２なる遮光層（２）および前記遮光層（２）の上部に厚さがｔ３なる撥液層（３）が積層されてなるブラックマトリックス（Ａ）により区画された透明基板（１）上の該ブラックマトリックス（Ａ）で囲まれた領域にカラー材料（４）を形成してなるカラーフィルタであって、前記撥液層（３）の頂部の幅ｗ３を、前記遮光層（２）の幅ｗ２より小さくしたことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のカラーフィルタ。
5. 請求項１〜４のいずれかに記載のカラーフィルタを製造する方法であって、透明基板上に厚さがｔ２なる遮光層（２）を形成した後、撥液層形成用ポジ型感光性レジストを基板の所要範囲に塗布し、前記透明基板（１）側から露光し、現像して該遮光層上に前記撥液層（３）が積層されてなるブラックマトリックス（Ａ）を形成し、該ブラックマトリックス（Ａ）により区画された透明基板（１）上の領域にカラー材料（４）を塗布することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
6. 請求項５に記載のカラー材料（４）をインクジェット法を用いて塗布することを特徴とするカラーフィイルタの製造方法。
   

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