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JP2008164595A - Apparatus for raising/lowering temperature, and high and low temperature test handler - Google Patents

Apparatus for raising/lowering temperature, and high and low temperature test handler Download PDF

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JP2008164595A
JP2008164595A JP2007314082A JP2007314082A JP2008164595A JP 2008164595 A JP2008164595 A JP 2008164595A JP 2007314082 A JP2007314082 A JP 2007314082A JP 2007314082 A JP2007314082 A JP 2007314082A JP 2008164595 A JP2008164595 A JP 2008164595A
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JP
Japan
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rail
test handler
storage rail
storage
high temperature
Prior art date
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Pending
Application number
JP2007314082A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideo Minami
日出夫 南
Hiroyuki Kimura
浩之 木村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ueno Seiki Co Ltd
Original Assignee
Ueno Seiki Co Ltd
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Publication date
Application filed by Ueno Seiki Co Ltd filed Critical Ueno Seiki Co Ltd
Priority to JP2007314082A priority Critical patent/JP2008164595A/en
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  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an apparatus for raising/lowering a temperature which raises or lowers the temperature of numerous semiconductor devices at a time in a handler for performing high temperature test and low temperature test to realize high-speed processing as the whole apparatus, and also to provide the high and low temperature test handler. <P>SOLUTION: The high and low temperature test handler 1 includes, in a chamber 2, the test handler 3 for carrying out various kinds of process treatments for a semiconductor device, and the apparatus 4 for raising/lowering the temperature for transferring the semiconductor device raised or lowered in temperature to the test handler 3. The apparatus 4 includes a drum 41 having torque applied by a motor not shown and rotating around the rotation shaft O. The drum 41 consists of a plurality of cylindrical storage rails 42, which is arranged in a circle, including inside a conveyance path for the semiconductor and having an opening along the outer peripheral direction of the drum 41. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、電子部品や半導体装置等のデバイスに対して各種の工程処理を施すテストハンドラの改良に係り、特に、一度に大量のデバイスの高低温化を可能とするデバイスの高低温化装置及び高低温テストハンドラに関する。   The present invention relates to an improvement in a test handler that performs various process processes on devices such as electronic components and semiconductor devices, and in particular, a device for lowering the temperature of a device that can increase the temperature of a large number of devices at once, and Related to high / low temperature test handler.

従来、デバイスの用途はオーディオ、テレビ、パソコン等、屋内で使用する機器が主体であったが、近年、自動車のIT化に伴い自動車用として多種多用な用途で用いられるようになっている。そのため、自動車の使用する環境、極端な例では、砂漠地帯や北極圏等、主に高温下や低温下での使用に対応する性能が求められている。   Conventionally, devices are mainly used indoors, such as audio, television, and personal computers. However, in recent years, with the introduction of IT in automobiles, they have been used in various applications for automobiles. For this reason, the environment used by automobiles, in extreme cases, is required to have performance that can be used mainly in high temperatures and low temperatures, such as desert areas and the Arctic Circle.

デバイスの構造は、シリコン基板上にアルミ配線等により構成されているペレット、それを搭載している基板(銅やガラエポ等)、それらを接続する配線(金、アルミ、半田等)、そして全体を保護する樹脂で構成されている。   The device structure consists of a pellet made of aluminum wiring on a silicon substrate, a board (copper, glass epoxy, etc.) on which it is mounted, wiring to connect them (gold, aluminum, solder, etc.), and the whole It is composed of a protective resin.

上述のようにデバイスはさまざまな物質で構成されているが、それぞれ熱膨張係数、熱抵抗が異なり、常温時の特性と例えば砂漠などの高温下、北極圏などの低温下での特性が異なり、最悪の場合、高低温環境下において動作しない場合がある。そのため、デバイスの特性検査を行うに際しては、このような高低温下での使用を想定して行う必要がある。   As mentioned above, the device is composed of various substances, but the thermal expansion coefficient and thermal resistance are different, respectively, the characteristics at normal temperature and the characteristics at high temperatures such as deserts and low temperatures such as the Arctic Circle, In the worst case, it may not operate in a high and low temperature environment. Therefore, when performing device characteristic inspection, it is necessary to assume the use under such high temperature and low temperature conditions.

また、デバイスは、上記の通り、積層される部品の性質により、熱膨張係数が異なるため、常温において組み立てた時点からの温度変化により、部品に含まれる物質がそれぞれ膨張し、最悪の場合には部品全体にクラック(ひび)が発生し機能しなくなることが考えられる。熱抵抗も部品を構成する物質の性質により異なるため、常温時に得た電気的特性が高低温下では得られなくなる場合がある。   In addition, as described above, since the device has a different coefficient of thermal expansion depending on the properties of the stacked components, the substances contained in the components expand due to temperature changes from the time of assembly at room temperature. It is conceivable that cracks (cracks) occur in the entire part and it will not function. Since the thermal resistance also varies depending on the properties of the materials constituting the part, the electrical characteristics obtained at room temperature may not be obtained at high and low temperatures.

そこで、例えば低温下での使用を想定して、ICをチャンバ内において低温環境下においてICの品質検査を行うIC用低温ハンドラが提案されている(特許文献1参照)。この文献によれば、装置を大型化することなく、チャンバ内を正圧に保ち湿分を含んだ外気がチャンバ内に混入しないように構成し、チャンバ内を低温環境下に保ちつつ、かつチャンバ内に流入する空気全体の湿分による装置の冷却部等への着霜を防止することを目的としたものである。   Thus, for example, a low temperature handler for IC has been proposed that performs IC quality inspection in a low temperature environment in a chamber assuming use at a low temperature (see Patent Document 1). According to this document, it is configured so that the inside of the chamber is kept at a positive pressure and outside air containing moisture is not mixed in the chamber without increasing the size of the apparatus, and the chamber is kept in a low temperature environment while being kept in the low temperature environment. The purpose is to prevent frost formation on the cooling unit of the apparatus due to moisture in the entire air flowing into the inside.

また、高温下での使用を想定し、リードフレームに装着されたデバイスのテスト位置に搬送するまでの間に、レール状のヒータを設け、このレール状のヒータ上にテスト待ちのデバイスを複数個並べることによって、ヒータの熱でデバイスを所望の温度に加熱することを可能とした技術が提案されている(特許文献2参照)。   Also, assuming use under high temperatures, a rail-shaped heater is provided before the device mounted on the lead frame is transported to the test position, and a plurality of devices waiting for testing are placed on the rail-shaped heater. A technique has been proposed in which the devices can be heated to a desired temperature with the heat of the heater by arranging them (see Patent Document 2).

また、搬送経路の途中に加熱手段を備えた搬送レールを複数列設け、この搬送レール上をリードフレームが移動して、レール上でデバイスを加熱してテストを行う装置も提案されている(特許文献3参照)。
特開平6−148268号公報 特開2004−219226号公報 特開2005−62090号公報
There is also proposed an apparatus in which a plurality of rows of conveyance rails provided with heating means are provided in the middle of the conveyance path, a lead frame moves on the conveyance rails, and a device is heated on the rails to perform a test (patent) Reference 3).
JP-A-6-148268 JP 2004-219226 A JP 2005-62090 A

ところで、高低温下を想定してデバイスのテストを行う場合、そのテスト温度は、高温テストで120℃前後、低温テストの場合で−40℃程度である。   By the way, when testing a device under the assumption of high and low temperatures, the test temperature is around 120 ° C. in the high temperature test and about −40 ° C. in the low temperature test.

高温環境への昇温方法としては、デバイスを例えば常温から125℃まで昇温するような場合、急激な温度変化はデバイスに与えるダメージが大きい。また、デバイス表面が所定温度に達していても、デバイス内部が所定温度に達していない場合もある。したがって、少なくとも90秒程度の時間を費やしてデバイスをゆっくり加熱する必要がある。この点は、低温環境下におく場合にも同様である。   As a method for raising the temperature to a high temperature environment, for example, when the temperature of the device is raised from room temperature to 125 ° C., a sudden temperature change causes a large damage to the device. Moreover, even if the device surface has reached a predetermined temperature, the inside of the device may not have reached the predetermined temperature. Therefore, it is necessary to spend at least about 90 seconds to heat the device slowly. This also applies to the case of being placed in a low temperature environment.

この点、特許文献1及び2におけるテスト装置では、デバイスを一列に整列し、順次加熱又は冷却して1個ずつテストする処理を行っているため、デバイスを高温又は低温化させるソーク時間が、テスト時間に対して長いため、全体としての処理時間も長くなってしまっており、処理時間を短くするためには大量のデバイスを一度に温める必要があった。   In this regard, in the test apparatuses in Patent Documents 1 and 2, since the devices are aligned in a row, and the test is performed one by one by sequentially heating or cooling, the soak time for raising or lowering the temperature of the device is tested. Since it is long with respect to time, the processing time as a whole also becomes long, and in order to shorten processing time, it was necessary to heat a lot of devices at once.

また、特許文献3のようにレールを複数並列に設けた場合には、レールの数を増やして同時に大量の電子部品の処理を行う場合には、装置構成上スペースが必要となる。   In addition, when a plurality of rails are provided in parallel as in Patent Document 3, a space is required in the apparatus configuration when a large number of electronic components are processed at the same time by increasing the number of rails.

さらに、従来より用いられているDIP/SIP(ピン挿入タイプ)のようなデバイスであれば、特許文献2及び3のように搬送レール内に電気ヒータを入れて印加する方法が主であったが、近年のSMD(表面実装タイプ)のデバイスでは、製品搬送を搬送アーム等で行うため、測定部内を高温エアーブロー等で高温槽化して測定するほうが好ましい。   Furthermore, if it is a device like DIP / SIP (pin insertion type) used conventionally, the method of putting an electric heater in a conveyance rail and applying it like patent document 2 and 3 was main. In recent SMD (surface mount type) devices, since the product is transported by a transport arm or the like, it is preferable to measure by making the inside of the measuring section into a high-temperature tank by high-temperature air blow or the like.

本発明は、上記のような従来技術の問題点を解決するために提案されたものであり、その目的は、高温テスト及び低温テストを実施するハンドラにおいて、一度に大量のデバイスの高温化又は低温化を可能とし、装置全体としての高速処理を実現した電子部品や半導体装置等のデバイスの高低温化装置及び高低温テストハンドラを提供することにある。   The present invention has been proposed in order to solve the above-described problems of the prior art. The object of the present invention is to increase or decrease the temperature of a large number of devices at a time in a handler that performs a high temperature test and a low temperature test. It is an object of the present invention to provide a high temperature reducing device and a high temperature test handler for devices such as electronic parts and semiconductor devices which can realize high-speed processing as a whole device.

上記の目的を達成するため、請求項1の発明は、デバイスを受け取り、所定の加熱又は冷却手段により加熱又は冷却して、各種工程処理を施す搬送装置へ順次受け渡すデバイスの高低温化装置であって、デバイスの搬送路を備え、デバイスを複数収納可能な収納レールと、前記収納レールを複数所定間隔で円環状に配置し保持する支持部と、この円環状に配置された複数の収納レールを前記支持部を介して間欠的に回転させる駆動手段とを備えたことを特徴とする。   In order to achieve the above object, the invention of claim 1 is an apparatus for lowering the temperature of a device that receives a device, heats or cools it with a predetermined heating or cooling means, and sequentially delivers it to a conveying device that performs various process treatments. A storage rail having a device transport path and capable of storing a plurality of devices, a plurality of storage rails arranged and held at predetermined intervals in an annular shape, and a plurality of storage rails arranged in the annular shape And a driving means for intermittently rotating through the support portion.

請求項6の発明は、請求項1の高低温装置を備えた高低温テストハンドラに関するものであって、電子部品や半導体装置等のデバイスを受け取り、所定の加熱又は冷却手段により加熱又は冷却して、各種工程処理を施す搬送装置へ順次受け渡すデバイスの高低温テストハンドラであって、チャンバ内に配置され、デバイスに対して各種工程処理を施すテストハンドラと、このテストハンドラに対して高温又は低温化されたデバイスを受け渡す高低温化装置と、チャンバ内の雰囲気を加熱又は冷却する高低温化手段と、前記チャンバ外に配置され前記高低温化装置にデバイスを受け渡す供給装置と、を備え、前記高低温化装置は、デバイスの搬送路を備えデバイスを複数収納可能な収納レールと、前記収納レールを複数円環状に配置し保持する支持部と、この円環状に配置された複数の収納レールを前記支持部を介して間欠的に回転させる駆動手段を備えたことを特徴とする。   The invention of claim 6 relates to a high / low temperature test handler comprising the high / low temperature apparatus of claim 1, which receives a device such as an electronic component or a semiconductor device and heats or cools it by a predetermined heating or cooling means. A high and low temperature test handler for a device that is sequentially transferred to a transfer device that performs various process processes, and is disposed in a chamber and performs various process processes on the device, and a high or low temperature for the test handler. A high temperature reduction apparatus that delivers a device that has been converted to a high temperature, a high temperature reduction means that heats or cools the atmosphere in the chamber, and a supply apparatus that is disposed outside the chamber and delivers the device to the high temperature reduction apparatus. The high temperature reducing device includes a device rail and a storage rail that can store a plurality of devices, and the storage rail is arranged and held in a plurality of annular shapes. A lifting unit, characterized in that a plurality of storage rails arranged on the annular with a drive means to intermittently rotate through the support portion.

以上の態様によれば、テストハンドラに用いられる高低温化装置を、内部にデバイスを複数個収納可能な収納レールを複数円環状に設け、これを支持部を介して回転可能に構成したことにより、この収納レール全体に、数多くのデバイスを同時に収納することが可能である。したがって、同時に多数のデバイスを保持し、加熱又は冷却することができ、別途設けたテストハンドラへデバイスを一つずつ受け渡すことが可能である。これにより、テストハンドラへの受渡しタイミングを遅らせることなく、かつ、高低温化装置においてデバイスに対するソーク時間、すなわち、含浸状態に置く加熱又は冷却時間を十分に確保することが可能となる。   According to the above aspect, the high temperature reducing apparatus used for the test handler is provided with a plurality of storage rails that can store a plurality of devices therein in an annular shape and is configured to be rotatable via the support portion. A large number of devices can be simultaneously stored in the entire storage rail. Therefore, a large number of devices can be held at the same time, heated or cooled, and devices can be transferred one by one to a separately provided test handler. As a result, it is possible to sufficiently ensure the soak time for the device, that is, the heating or cooling time in the impregnated state in the high temperature reducing apparatus without delaying the delivery timing to the test handler.

また、収納レールを円環状に配置したことにより、平面状に収納レールを並列に並べて構成する場合に比べ、省スペース化が可能である。また、回転させるという簡単な作用により、1周する間にデバイスのソーク時間を十分確保することが可能である。   Further, by arranging the storage rails in an annular shape, it is possible to save space compared to the case where the storage rails are arranged in parallel in a planar shape. Moreover, it is possible to ensure a sufficient soak time of the device during one round by a simple action of rotating.

請求項2の発明は、請求項1の発明において、前記支持部材は、前記円環状に配置された収納レールを両端において内周面から保持する円盤からなり、前記円盤の中心に回転軸が設けられ、前記駆動手段は、前記回転軸を回転させるものであることを特徴とする。   According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the support member is a disk that holds the storage rails arranged in an annular shape from the inner peripheral surface at both ends, and a rotation shaft is provided at the center of the disk. The drive means rotates the rotary shaft.

請求項3の発明は、請求項1の発明において、前記支持部材は、プーリーとこのプーリーに掛けられるベルトとからなり、前記収納レールは、前記ベルトに所定間隔で配置され、前記駆動手段は、前記プーリーの回転軸を回転させるものであることを特徴とする。   According to a third aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the support member includes a pulley and a belt that is hung on the pulley, the storage rail is disposed at a predetermined interval on the belt, and the driving unit includes: The rotating shaft of the pulley is rotated.

以上のような態様によれば、収納レールを円環状に配置するに際し、目的や用途、装置の配置スペースに応じて様々な構成を採用することが可能となる。   According to the above aspect, when the storage rails are arranged in an annular shape, various configurations can be employed depending on the purpose, application, and arrangement space of the apparatus.

請求項4の発明は、請求項1〜3のいずれか1項に記載の発明において、前記収納レールは、細溝を備え、前記細溝が前記円環状に配置される収納レールの外周側に位置するように、前記収納レールが配置され、この細溝に挿入される棒状体により、前記収納レールに収納されたデバイスが押し出されるようにして前記収納レール内を搬送されることを特徴とする。   According to a fourth aspect of the present invention, in the invention according to any one of the first to third aspects, the storage rail includes a narrow groove, and the narrow groove is disposed on an outer peripheral side of the storage rail disposed in the annular shape. The storage rail is disposed so as to be positioned, and the device stored in the storage rail is pushed out by the rod-shaped body inserted into the narrow groove, and is transported in the storage rail. .

以上のような態様によれば、円環状に配置された収納レールに設けられた細溝に、棒状体を挿入して、これにより、収納レールに収納されたデバイスを、テストハンドラ側に押し出すことにより、テストハンドラに対して、デバイスを供給することが可能となる。   According to the above aspect, the rod-shaped body is inserted into the narrow groove provided in the storage rail arranged in an annular shape, thereby pushing the device stored in the storage rail to the test handler side. Thus, it is possible to supply a device to the test handler.

請求項5の発明は、請求項1〜3のいずれか1項に記載の発明において、前記収納レール及び前記支持部材は、収納レール内部に収納されるデバイスの搬送方向に向けて、傾いて設置されることを特徴とする。   According to a fifth aspect of the present invention, in the invention according to any one of the first to third aspects, the storage rail and the support member are inclined and installed in a transport direction of a device stored inside the storage rail. It is characterized by being.

以上のような態様では、収納レールと支持部材とを、デバイスの搬送方向に向けて傾けることにより、例えばテストハンドラへの受渡し位置で、デバイスが一つずつピックアップされた場合には、デバイスの自重により、デバイスが搬送されることとなる。   In the aspect as described above, when the storage rail and the support member are inclined toward the device transport direction, for example, when the devices are picked up one by one at the delivery position to the test handler, the weight of the device is reduced. Thus, the device is transported.

請求項7の発明は、請求項6の発明において、前記テストハンドラと前記供給装置とは、前記高低温化装置の両端部に配置され、前記高低温化装置の前記収納レールにおける前記供給装置からのデバイスの受取り位置と、前記高低温化装置の前記収納レールから前記テストハンドラへのデバイスの受渡し位置とは、前記円環状に配置された収納レールの円周上隣合う位置であって、前記受取り位置は前記受渡し位置より、前記収納レールの回転方向下流側に設けられたことを特徴とする。   According to a seventh aspect of the invention, in the sixth aspect of the invention, the test handler and the supply device are arranged at both ends of the high temperature reducing device, and the supply device in the storage rail of the high temperature reducing device is provided. The device receiving position and the device delivery position from the storage rail to the test handler of the high temperature reducing device are positions adjacent to each other on the circumference of the storage rail arranged in an annular shape, The receiving position is provided downstream of the delivery position in the rotation direction of the storage rail.

以上のような態様によれば、供給装置からのデバイスの受取り位置と、テストハンドラへのデバイスの受渡し位置とを、同一の収納レールの位置に設けず、隣り合う位置でかつ受取り位置を受渡し位置の収納レール回転下流側に設けることにより、収納レールへのデバイスの入替えがスムーズに行えるようになる。   According to the aspect as described above, the receiving position of the device from the supply device and the delivery position of the device to the test handler are not provided at the same storage rail position, and the receiving position is the adjacent position and the delivery position. By providing the storage rail on the downstream side of the storage rail, the device can be smoothly replaced with the storage rail.

請求項8の発明は、搬送装置により半導体装置又は電子部品等のデバイスを搬送しながら、半導体装置又は電子部品等のデバイスの外観検査や電気特性検査等を経てデバイスをテーピング梱包する各種処理工程を行う工程処理部を備えたテストハンドラであって、前記搬送装置に設けられた保持機構からデバイスを受け取り、このデバイスを加熱又は冷却して前記保持機構へ順次受け渡す高温化又は低温化あるいはその両方の機能を備えた高低温化装置を、一工程処理部として備え、前記高低温化装置は、デバイスの搬送路を備え、デバイスを複数収納可能な収納レールと、前記収納レールを複数所定間隔で円環状に配置し保持する支持部と、を備え、さらに、この円環状に配置された複数の収納レールを前記支持部を介して間欠的に回転させる駆動手段とを備えたことを特徴とする。   The invention according to claim 8 includes various processing steps of taping and packing the device through appearance inspection and electrical property inspection of the device such as the semiconductor device or the electronic component while the device such as the semiconductor device or the electronic component is conveyed by the conveyance device. A test handler having a process processing unit for performing a process of receiving a device from a holding mechanism provided in the transfer device, heating or cooling the device and sequentially transferring the device to the holding mechanism, or both The high-temperature reduction apparatus having the function is provided as a one-process processing unit, the high-temperature reduction apparatus includes a device conveyance path, and a plurality of storage rails capable of storing a plurality of devices and a plurality of the storage rails at predetermined intervals. A support portion arranged and held in an annular shape, and a plurality of storage rails arranged in an annular shape are intermittently rotated via the support portion. Characterized in that a that the drive means.

以上のような態様では、搬送装置側から、収納レールにデバイスを受け取り収納し、再度、搬送装置へデバイスを受け渡すことにより、搬送装置の一処理工程処理装置として構成することができるので、従来のレールにデバイスを保持し、これを順次加熱し、受け渡すような構成に比較し、高温テストのために新たにテストハンドラを用意するような必要もなく、装置設置の省スペース化とともに、装置コストを安価に抑えることができるようになる。   In the above-described aspect, since the device is received and stored on the storage rail from the transfer device side, and the device is transferred again to the transfer device, it can be configured as one processing step processing device of the transfer device. Compared to a configuration in which devices are held on rails and heated and delivered sequentially, there is no need to prepare a new test handler for high temperature testing. Costs can be kept low.

請求項9の発明は、請求項8の発明において、前記高低温化装置は、前記搬送装置に設けられた保持機構からデバイスを受け取る受取り位置と前記搬送装置に設けられた保持機構へデバイスを受け渡す受渡し位置とを前記搬送装置における保持機構の隣り合う停止位置にそれぞれ設けられ、前記受取り位置は、前記隣り合う停止位置のうち、前記搬送装置の搬送方向上流側に設けられ、前記受渡し位置は、前記隣り合う停止位置のうち、前記搬送装置の搬送方向下流側に設けられたことを特徴とする。   According to a ninth aspect of the present invention, in the eighth aspect of the invention, the high temperature reducing apparatus receives the device from a holding position provided in the transfer device and a holding position provided in the transfer device. The delivery position is provided at a stop position adjacent to the holding mechanism in the transport device, and the receive position is provided on the upstream side in the transport direction of the transport device among the adjacent stop positions. Of the adjacent stop positions, it is provided on the downstream side in the transport direction of the transport device.

搬送装置からのデバイスの受取り位置と、搬送装置へのデバイスの受渡し位置とを、同一の収納レールの位置に設けず、隣り合う位置でかつ受取り位置を受渡し位置の上流側に設けることにより、収納レールへのデバイスの入替えがスムーズに行えるようになる。   The receiving position of the device from the transfer device and the delivery position of the device to the transfer device are not provided at the same storage rail position, but are stored at adjacent positions and at the upstream side of the transfer position. The device can be replaced smoothly on the rail.

以上のような本発明によれば、高温テスト及び低温テストを実施するハンドラにおいて、一度に大量のデバイスの高温化又は低温化を可能とし、装置全体としての高速処理を実現した電子部品や半導体装置等のデバイスの高低温化装置及び高低温テストハンドラを提供することができる。   According to the present invention as described above, in a handler that performs a high temperature test and a low temperature test, an electronic component or a semiconductor device that enables high temperature or low temperature of a large number of devices at a time and realizes high-speed processing as the entire apparatus. It is possible to provide a high temperature reduction apparatus and a high temperature test handler for such devices.

次に、本発明を実施するための最良の形態(以下、本実施形態とする)を、図1〜図4を参照して説明する。   Next, the best mode for carrying out the present invention (hereinafter referred to as the present embodiment) will be described with reference to FIGS.

(1)第1の実施形態
[構成]
本発明の第1の実施形態における高低温テストハンドラ1は、図1に示すように、チャンバ2内に、デバイスに対して各種工程処理を施すテストハンドラ3と、このテストハンドラ3に対して高温又は低温化された電子部品や半導体装置等のデバイスを受け渡す高低温化装置4と、チャンバ内の雰囲気を加熱又は冷却する高低温化手段5とを備え、また、チャンバ2の外部に高低温化装置4にデバイスを受け渡す供給装置6と、を備える。
(1) First Embodiment [Configuration]
As shown in FIG. 1, a high / low temperature test handler 1 according to the first embodiment of the present invention includes a test handler 3 that performs various process processes on a device in a chamber 2, and a high temperature for the test handler 3. Alternatively, the apparatus includes a high temperature reduction device 4 that delivers a device such as a temperature-reduced electronic component or a semiconductor device, and a high temperature reduction means 5 that heats or cools the atmosphere in the chamber. And a supply device 6 for delivering the device to the conversion device 4.

テストハンドラ3は、高低温化装置4の受渡し位置Xにて、高低温化装置4により処理されたデバイスを受け取り、このデバイスを吸着保持しながら、位置補正工程、電気測定工程、捺印工程、テーピング工程等の各種工程間を搬送し、デバイスに検査処理を施すものである。   The test handler 3 receives a device processed by the high temperature reducing device 4 at the delivery position X of the high temperature reducing device 4, and while holding this device by suction, a position correction process, an electrical measurement process, a stamping process, taping It conveys between various processes, such as a process, and inspects a device.

高低温化装置4は、図2の部分断面図に示すように、図示しないモータにより回転力を付与され、回転軸Oを中心として回転するドラム41を備える。このドラム41は、筒状で内部にデバイスの搬送路を備え、かつドラム41外周面方向に開口部を備えた収納レール42を、複数円環状に配置してなる。ドラム41はまた、この収納レール42を円環状に維持する支持部材43を収納レール42の両端部に備える。この支持部材43は、円盤状に構成され、ドラム41両端部において収納レール42を内周面側から支持している。そして、この支持部材43がその中心部においてドラム41の中心軸に設けられた回転軸Oと連結している。   As shown in the partial cross-sectional view of FIG. 2, the high temperature reducing device 4 includes a drum 41 that is rotated about a rotation axis O and is given a rotational force by a motor (not shown). The drum 41 has a cylindrical shape and is provided with a device conveyance path inside, and a storage rail 42 having an opening in the outer peripheral surface of the drum 41 is arranged in a plurality of annular shapes. The drum 41 also includes support members 43 that maintain the storage rail 42 in an annular shape at both ends of the storage rail 42. The support member 43 is formed in a disc shape, and supports the storage rail 42 from the inner peripheral surface side at both ends of the drum 41. And this support member 43 is connected with the rotating shaft O provided in the center axis | shaft of the drum 41 in the center part.

本実施形態では、このドラム41は、この収納レール42を22.5度間隔で16個配置し、回転軸41が図示しないモータにより回転され、収納レール42の間隔、すなわち22.5度間隔で間欠的に回転するようになっている。   In this embodiment, the drum 41 has 16 storage rails 42 arranged at intervals of 22.5 degrees, and the rotation shaft 41 is rotated by a motor (not shown), so that the storage rails 42 are spaced at intervals of 22.5 degrees. It is designed to rotate intermittently.

また、図1に示すように、ドラム41は、供給装置6側にデバイスの受取り位置Xを、反対のテストハンドラ3側にデバイスの受渡し位置Yを有する。すなわち、受取り位置Xは、円環状の最頂部にある収納レール42aよりもドラム41の図中矢印に示す回転方向隣の収納レール42bの、ドラム41入口側である供給装置6側端部に設けられている。一方、受渡し位置Yは、円環状の最頂部に位置する収納レール42aの、ドラム41の出口側であるテストハンドラ3側端部に設けられている。   As shown in FIG. 1, the drum 41 has a device receiving position X on the supply device 6 side and a device delivery position Y on the opposite test handler 3 side. That is, the receiving position X is provided at the supply device 6 side end, which is the inlet side of the drum 41, of the storage rail 42b adjacent to the rotation direction indicated by the arrow of the drum 41 relative to the storage rail 42a at the top of the annular shape. It has been. On the other hand, the delivery position Y is provided at the end of the storage rail 42a located at the top of the annular shape, on the end side of the test handler 3, which is the exit side of the drum 41.

図3に示すように、一つの収納レール42の形状は、断面が方形で縦長に構成され、筒型の一つの面であってドラム41を構成した場合に外周に位置する面に、細溝を備えている。また、収納レール42の搬送路を形成する内周面の大きさは、処理対象となるデバイスの大きさによって設計されるものであり、搬送されるデバイスが詰まったり側面と接触しないで搬送可能な程度の大きさに適宜設計されるものである。   As shown in FIG. 3, the shape of one storage rail 42 is a narrow groove on a surface located on the outer periphery when the drum 41 is formed as a cylindrical surface with a rectangular cross section. It has. Further, the size of the inner peripheral surface forming the transport path of the storage rail 42 is designed according to the size of the device to be processed, and the transported device can be transported without clogging or contacting the side surface. It is designed appropriately to a certain size.

また、ドラム41及び収納レール42の軸方向の長さについては、収納レール42の搬送路内に待機させるデバイスの数、一括処理するための所望のデバイス数によって決定される。このデバイスの待機数は、テストハンドラ3に対する受け渡し時間間隔(テストハンドラ3の間欠回転1回あたりの搬送時間と一工程における処理時間であるインデックス時間との和)と、デバイスを所定の温度にするための加熱又は冷却時間とが考慮される。例えば、テストハンドラ3における受け渡し時間間隔は、0.2〜0.3秒であって、デバイスの加熱時間が90秒であると考えられる。なお、本実施形態においては、一つの収納レール42に対して、約50個のデバイスが収納されるように構成している。   The axial lengths of the drum 41 and the storage rail 42 are determined by the number of devices waiting in the conveyance path of the storage rail 42 and the desired number of devices for batch processing. The number of standbys of this device is such that the delivery time interval for the test handler 3 (the sum of the transport time per intermittent rotation of the test handler 3 and the index time which is the processing time in one process) and the device at a predetermined temperature. Heating or cooling time is taken into account. For example, it is considered that the delivery time interval in the test handler 3 is 0.2 to 0.3 seconds, and the heating time of the device is 90 seconds. In the present embodiment, about 50 devices are configured to be stored in one storage rail 42.

また、高低温化装置4は、ドラム41の円環状の最頂部に位置する収納レール42a上に、収納レール42a内に収納されたデバイスを、供給装置6側からテストハンドラ3側に押し出す押圧棒44を備える。この押圧棒44は、円環状の最頂部に位置する収納レール42aの溝に入り、ドラム41の軸方向に移動することによって、収納レール42内部に収納されたデバイスを物理的に押してテストハンドラ3側に搬送するものである。この押圧棒44はまた、収納レール42の溝に挿入される位置から退避し溝に干渉しない位置に移動するように構成されており、収納レール42aに収納された一群のデバイスをすべてテストハンドラ3側に搬送した後は、溝に干渉しない位置に退避して、供給装置6側に移動する。   Further, the high temperature reducing device 4 is a pressing rod that pushes a device stored in the storage rail 42a from the supply device 6 side to the test handler 3 side on the storage rail 42a positioned at the top of the annular shape of the drum 41. 44. The pressing bar 44 enters the groove of the storage rail 42a located at the top of the annular shape, and moves in the axial direction of the drum 41 to physically press the device stored in the storage rail 42, thereby causing the test handler 3 to move. It conveys to the side. The pressing bar 44 is also configured to retreat from a position where it is inserted into the groove of the storage rail 42 and move to a position where it does not interfere with the groove, and all of the group of devices stored in the storage rail 42a are tested. After being conveyed to the side, the sheet is retracted to a position where it does not interfere with the groove and moves to the supply device 6 side.

高低温化手段5は、高温エアーブロー等で構成され、チャンバ2内の雰囲気を、高温又は低温環境にする手段である。具体的には、高温の場合にはチャンバ2内を120℃前後に、低温の場合には−40℃程度にするものである。なお、本実施形態においては、チャンバ2内のみで高低温化する手段を採用しているが、急激な温度変化はデバイスに与えるダメージが大きいため、チャンバ2内に入れる前に、例えば供給装置6で供給する際に予熱しておくことも可能である。   The high temperature lowering means 5 is configured by high temperature air blow or the like, and is a means for setting the atmosphere in the chamber 2 to a high temperature or low temperature environment. Specifically, the inside of the chamber 2 is set to around 120 ° C. when the temperature is high, and about −40 ° C. when the temperature is low. In the present embodiment, means for increasing the temperature only in the chamber 2 is adopted. However, since a sudden temperature change causes a large damage to the device, before entering the chamber 2, for example, the supply device 6 It is also possible to pre-heat when supplying with.

供給装置6は、整列レール61と、移送レール62と、供給レール63とから構成される。整列レール61は、直線状の溝61aを備え、この直線状の溝61aにはデバイスが図示しないパーツフィーダやチューブ供給器などのデバイスの整列供給手段から順次供給され、デバイスがレール上に整列載置されるようになっている。この整列レール61に順次供給されるデバイスは、移送レール62に対して順次受け渡される。   The supply device 6 includes an alignment rail 61, a transfer rail 62, and a supply rail 63. The alignment rail 61 includes a linear groove 61a. Devices are sequentially supplied to the linear groove 61a from device alignment supply means such as a parts feeder and a tube feeder (not shown), and the devices are aligned and mounted on the rail. It is supposed to be placed. Devices sequentially supplied to the alignment rail 61 are sequentially delivered to the transfer rail 62.

移送レール62は、整列レール61に連続してデバイスの搬送路を形成する溝62aを備えており、整列レール61から搬送されるデバイスがこの溝62aに載置されるようになっている。   The transfer rail 62 is provided with a groove 62a that forms a device transport path continuously to the alignment rail 61, and a device transported from the alignment rail 61 is placed in the groove 62a.

また、供給レール63は、整列レール61及び移送レール62と同様、デバイスの搬送路となる溝63aを備え、ドラム41の供給装置6側に設けられたデバイスの受取り位置Xに接続固定されている。すなわち、この供給レール63から、ドラム41の収納レール42aにデバイスが供給されるものである。本実施形態では、整列レール61と、供給レール63とは、収納レール42の位置に合わせて、22.5度の角度を以って設けられている。   Similarly to the alignment rail 61 and the transfer rail 62, the supply rail 63 includes a groove 63 a serving as a device conveyance path, and is connected and fixed to a device receiving position X provided on the supply device 6 side of the drum 41. . That is, the device is supplied from the supply rail 63 to the storage rail 42 a of the drum 41. In the present embodiment, the alignment rail 61 and the supply rail 63 are provided at an angle of 22.5 degrees in accordance with the position of the storage rail 42.

ここで、図1又は図4に示すように、移送レール62は、整列レール61と供給レール63との間を繋ぎ、整列レール61から受け取ったデバイスを、供給レール63に移送するものである。より具体的には、移送レール62は、整列レール61と水平で、かつ溝61aと溝62aとが連続した位置から、供給レール63と水平で、かつ溝62aと溝63aとが連続した位置に移動させる、言い換えれば、ドラム41の円周と同一円周に沿って移送レール62を回転させる回転支持部64が設けられ、この回転支持部64により整列レール61と供給レール63との間を移動するように構成されている。   Here, as shown in FIG. 1 or 4, the transfer rail 62 connects the alignment rail 61 and the supply rail 63, and transfers the device received from the alignment rail 61 to the supply rail 63. More specifically, the transfer rail 62 is horizontal from the alignment rail 61 and from a position where the groove 61a and the groove 62a are continuous to a position where the transfer rail 62 is horizontal from the supply rail 63 and is continuous from the groove 62a and the groove 63a. A rotation support part 64 that rotates the transfer rail 62 along the same circumference as the circumference of the drum 41 is provided, and the rotation support part 64 moves between the alignment rail 61 and the supply rail 63. Is configured to do.

この移送レール62は、整列レール61から受け取ったデバイスが移送レール62の溝内を埋める程度に一杯になったところで、供給レール63側に移動し、供給レール63に溝内のデバイスをすべて受渡したところで、整列レール61側に戻るようになっている。   The transfer rail 62 moves to the supply rail 63 side when the device received from the alignment rail 61 is filled to fill the groove of the transfer rail 62, and all the devices in the groove are delivered to the supply rail 63. By the way, it returns to the alignment rail 61 side.

そして、移送レール62から供給レール63へデバイスが受け渡され、移送レール62が整列レール61側に復帰したところで、供給レール63上のデバイスは、収納レール42bに搬送されるように構成されている。   Then, when the device is transferred from the transfer rail 62 to the supply rail 63 and the transfer rail 62 returns to the alignment rail 61 side, the device on the supply rail 63 is configured to be conveyed to the storage rail 42b. .

なお、整列レール61、移送レール62及び供給レール63の溝内に載置されたデバイスを、搬送させる機構は、振動やエアを搬送方向に向けて作用させる構成など、公知の直線状の部品移送手段のいずれの構成を用いることもできる。この点、本実施形態では、図に一例として示す押圧棒65のように、搬送路Rの溝と略同一の形状からなり、この溝内を収納レール42方向に移動するように構成することとしている。これにより、整列レール61、移送レール62及び供給レール63の溝内に整列して載置されたデバイスが一つずつ収納レール42に受け渡されるようになっている。   It should be noted that the mechanism for transporting the devices placed in the grooves of the alignment rail 61, the transfer rail 62, and the supply rail 63 is a known linear component transfer, such as a configuration in which vibrations and air act in the transport direction. Any configuration of means can be used. In this regard, in the present embodiment, as a pressing rod 65 shown as an example in the figure, it has substantially the same shape as the groove of the transport path R, and is configured to move in the groove toward the storage rail 42. Yes. As a result, devices placed in alignment in the grooves of the alignment rail 61, the transfer rail 62, and the supply rail 63 are delivered to the storage rail 42 one by one.

[作用効果]
以上のような構成の高低温テストハンドラ1は、次のように作用する。
図4を参照して説明すると、まず、デバイスが図示しないパーツフィーダ等のデバイスの整列供給手段から、整列レール61の直線状の溝61aに順次供給される。この整列レール61に順次供給されるデバイスは、次に、移送レール62の溝62aに対して順次受け渡される。
[Function and effect]
The high / low temperature test handler 1 configured as described above operates as follows.
Referring to FIG. 4, first, devices are sequentially supplied from a device alignment supply means such as a parts feeder (not shown) to the linear groove 61 a of the alignment rail 61. The devices sequentially supplied to the alignment rail 61 are then sequentially transferred to the grooves 62a of the transfer rail 62.

移送レール62は、整列レール61から受け取ったデバイスが移送レール62の溝内を埋める程度に一杯になったところで、供給レール63側に移動し、供給レール63に溝内のデバイスをすべて受渡したところで、整列レール61側に戻るようになっている。   The transfer rail 62 is moved to the supply rail 63 side when the device received from the alignment rail 61 is filled to fill the groove of the transfer rail 62, and when all the devices in the groove are delivered to the supply rail 63. , And return to the alignment rail 61 side.

そして、移送レール62から供給レール63へデバイスが受け渡され、移送レール62が整列レール61側に復帰したところで、供給レール63上のデバイスは、押圧棒65により、一つずつ収納レール42bに受け渡されるようになっている。   Then, when the device is transferred from the transfer rail 62 to the supply rail 63 and the transfer rail 62 returns to the alignment rail 61 side, the devices on the supply rail 63 are received one by one by the pressing rod 65 into the storage rail 42b. It is supposed to be passed.

次に、高低温化装置4への受渡し及び当該装置の作用について説明する。
図1を参照して説明すると、まず、初期状態として、供給レール63から上記のようにしてデバイスが、収納レール42の一つずつに載置されていく。なお、このとき、チャンバ2内は、高温の場合は120℃前後の雰囲気に、低温の場合には−40℃程度の雰囲気になっている。
Next, the delivery to the high temperature reducing device 4 and the operation of the device will be described.
Referring to FIG. 1, first, as an initial state, devices are placed on the storage rails 42 one by one from the supply rail 63 as described above. At this time, the inside of the chamber 2 has an atmosphere of about 120 ° C. when the temperature is high, and an atmosphere of about −40 ° C. when the temperature is low.

ここで、例えば、収納レール42bのデバイスの収納数が18個だとして、整列レール61,移送レール62及び供給レール63のそれぞれに載置されるデバイスの数が9個だったとした場合、収納レール42bの一列ごとに、供給レール63から2回に分けて受渡しがなされる。   Here, for example, when the number of devices stored in the storage rail 42b is 18, and the number of devices mounted on each of the alignment rail 61, the transfer rail 62, and the supply rail 63 is nine, the storage rail For each row of 42b, delivery is performed in two portions from the supply rail 63.

このようにして、供給レール63から収納レール42bに対して2回に分けてデバイスが供給されることで、収納レール42bの一列が、デバイスで埋まる。その後、ドラム41は、図中矢印方向に22.5回転する。そうすると、デバイスの収納されていない収納レール42aが供給レール63と連結する。以下、同様にして、供給レール63から収納レール42に対して、2回に分けてデバイスが供給されることで、他の収納レール42が順次デバイスで埋まることとなる。   In this way, the device is supplied in two steps from the supply rail 63 to the storage rail 42b, so that one row of the storage rail 42b is filled with the device. Thereafter, the drum 41 rotates 22.5 in the direction of the arrow in the figure. Then, the storage rail 42 a in which no device is stored is connected to the supply rail 63. In the same manner, the device is supplied from the supply rail 63 to the storage rail 42 in two steps, so that the other storage rails 42 are sequentially filled with the device.

この動作を繰り返して、ドラム41が1回転したことにより、収納レール42がすべてデバイスで埋まると、収納レール42に収納されたデバイスはテストする際に必要な温度まで昇温されている。   By repeating this operation and rotating the drum 41 once, when all the storage rails 42 are filled with devices, the devices stored in the storage rails 42 are heated to a temperature required for testing.

続いて、収納レール42内で昇温された電子部品は、1個ずつ押し出され、テストハンドラ3への受渡し位置Yへと搬送され、テストハンドラ3において、各種テストがなされる。   Subsequently, the electronic components heated in the storage rail 42 are pushed out one by one and transported to the delivery position Y to the test handler 3, and various tests are performed in the test handler 3.

このテストハンドラ3への受渡しの際のドラム41の作用を図5を参照して具体的に説明すると、収納レール42内で昇温又は冷温化したデバイスは、押圧棒44によりテストハンドラ3側に押し出されることにより収納レール42から一つずつテストハンドラ3の受渡し位置Yに排出されていく。   The action of the drum 41 during delivery to the test handler 3 will be described in detail with reference to FIG. 5. The device whose temperature is increased or decreased in the storage rail 42 is moved to the test handler 3 side by the pressing rod 44. By being pushed out, it is discharged from the storage rail 42 one by one to the delivery position Y of the test handler 3.

このとき、収納レール42a一列に収納されたデバイスのすべてを順次0.2〜0.3秒間隔で、押圧棒44によりテストハンドラ3の受渡し位置Yに移動させるようにして、この間ドラム41を回転させない。収納レール42aに収納されたデバイスのすべてがテストハンドラ3の受渡し位置Yに移動したら、ドラム41は、図中矢印方向に22.5度回転して、収納レール42bの位置に移る。   At this time, all the devices stored in the storage rail 42a are sequentially moved to the delivery position Y of the test handler 3 by the pressing rod 44 at intervals of 0.2 to 0.3 seconds, and the drum 41 is rotated during this time. I won't let you. When all of the devices stored in the storage rail 42a move to the delivery position Y of the test handler 3, the drum 41 rotates 22.5 degrees in the direction of the arrow in the figure and moves to the position of the storage rail 42b.

収納レール42aの位置には、一列にデバイスが収納された状態の収納レールが、位置するようになる。そこで、収納レール42aの位置においては、上記の処理を繰り返して、収納されたデバイスをテストハンドラ3側にある受渡し位置Yに順次間欠的に移動させる。   At the position of the storage rail 42a, the storage rail in which the devices are stored in a row is positioned. Therefore, at the position of the storage rail 42a, the above process is repeated, and the stored devices are sequentially and intermittently moved to the delivery position Y on the test handler 3 side.

一方、収納レール42bの位置には、空になった収納レール42が位置するため、この収納レール42に対しては、上述した供給装置6の作用により、新たにデバイスが挿入される。   On the other hand, since the empty storage rail 42 is located at the position of the storage rail 42b, a new device is inserted into the storage rail 42 by the action of the supply device 6 described above.

テストハンドラ3への受渡し時間からみると、上述のとおり、本実施形態においては一列の収納レールに約50個のデバイスが収納されるように構成しており、これを0.2〜0.3秒の間隔でテストハンドラ3へ受け渡すとすると、収納レール42一列のデバイスがすべて受け渡される時間は、10〜15秒程度である。すなわち、ドラム41は、10〜15秒間隔で間欠回転を行うことになるから、収納レール42bの位置における供給装置6から収納レールへのデバイスの挿入作業も10〜15秒程度で行われるようにする。   From the point of view of the delivery time to the test handler 3, as described above, in the present embodiment, about 50 devices are accommodated in one row of storage rails. Assuming delivery to the test handler 3 at intervals of seconds, it takes about 10 to 15 seconds for all the devices in one row of the storage rail 42 to be delivered. That is, since the drum 41 is intermittently rotated at intervals of 10 to 15 seconds, the device insertion operation from the supply device 6 to the storage rail at the position of the storage rail 42b is also performed in about 10 to 15 seconds. To do.

以上のように作用する本実施形態の高低温テストハンドラ1によれば、高温又は低温雰囲気のチャンバ2内に配置された高低温化装置4を、回転軸Oを中心として回転可能に構成されたドラム41により構成し、このドラム41に、縦長で内部に搬送路を備えデバイスを複数個収納可能な収納レール42を複数円環状に設けたことにより、この収納レール42並びにドラム41全体に、数多くのデバイスを同時に収納することが可能である。   According to the high / low temperature test handler 1 of the present embodiment acting as described above, the high / low temperature apparatus 4 arranged in the chamber 2 in a high temperature or low temperature atmosphere is configured to be rotatable around the rotation axis O. The drum 41 is provided with a plurality of storage rails 42 that are vertically long and have a conveyance path inside and can store a plurality of devices in an annular shape. The devices can be stored at the same time.

したがって、本実施形態の高低温化装置4においては、同時に多数のデバイスを保持し、加熱又は冷却することができ、さらに、ドラム41からは、テストハンドラ3へデバイスを一つずつ受け渡すことが可能である。これにより、テストハンドラ3への受渡しタイミングを遅らせることなく、かつ、ドラム41においてデバイスに対するソーク時間、すなわち、含浸状態に置く加熱又は冷却時間を十分に確保することが可能である。   Therefore, in the high temperature reduction device 4 of the present embodiment, a large number of devices can be simultaneously held and heated or cooled, and further, devices can be transferred from the drum 41 to the test handler 3 one by one. Is possible. As a result, it is possible to sufficiently ensure the soak time for the device in the drum 41, that is, the heating or cooling time in the impregnated state without delaying the delivery timing to the test handler 3.

また、収納レール42を円環状に配置し、この収納レール42の受渡し位置にて供給装置6からデバイスを受け渡した後、これを1回転させてからテストハンドラ3にデバイスを受け渡す、という構成を採用することにより、例えば、平面状に収納レールを並列に並べて構成する場合に比べ、省スペース化が可能である。また、回転させるという簡単な作用により、1周する間にデバイスのソーク時間を十分確保することが可能である。   Further, the storage rail 42 is arranged in an annular shape, and after the device is delivered from the supply device 6 at the delivery position of the storage rail 42, the device is delivered to the test handler 3 after being rotated once. By adopting, for example, space can be saved as compared with the case where the storage rails are arranged in parallel in a planar shape. Moreover, it is possible to ensure a sufficient soak time of the device during one round by a simple action of rotating.

さらに、供給装置6からのデバイスの受取り位置Xと、テストハンドラ3へのデバイスの受渡し位置Yとを、同一の収納レール42の位置に設けず、隣り合う位置でかつ受取り位置を受渡し位置の収納レール回転下流側に設けることにより、収納レールへのデバイスの入替えがスムーズに行えるようになる。   Further, the receiving position X of the device from the supply device 6 and the delivery position Y of the device to the test handler 3 are not provided at the position of the same storage rail 42, and the receiving position is stored at the adjacent position and at the delivery position. By providing on the downstream side of the rail rotation, the device can be smoothly replaced with the storage rail.

(2)第2の実施形態
[1.構成の概要]
第2の実施形態は、第1の実施形態で示した高低温化装置を、高低温化ユニットとして、テストハンドラにおける外観検査工程や電気特性検査工程あるいはテーピング工程等と同様の位置づけの一工程を構成する工程処理装置としたものである。
(2) Second Embodiment [1. Configuration Overview]
In the second embodiment, the high temperature reduction apparatus shown in the first embodiment is used as a high temperature reduction unit, and the same positioning process as the appearance inspection process, electrical property inspection process, taping process, etc. in the test handler is performed. The process processing apparatus is configured.

まず、本実施形態の高低温化装置の全体構成について、図6を参照して説明する。図6は、本実施形態の高低温化装置をその一工程処理装置として含むテストハンドラの平面図(a)と側面模式図(b)である。なお、本実施形態では、1つのテストハンドラの工程処理装置として、電子部品や半導体装置等のデバイスを高温化する高温化装置と、デバイスを低温化、又は高温化されたデバイスを常温化する低温化装置とが異なる位置に設けている。ただし、本実施形態は最適な実施態様を示すものであり、他の実施態様として、テストハンドラの工程処理部に高温化装置又は低温化装置のみを用いて構成することも可能である。   First, the whole structure of the high temperature reduction apparatus of this embodiment is demonstrated with reference to FIG. FIG. 6 is a plan view (a) and a schematic side view (b) of a test handler including the high temperature reducing apparatus of the present embodiment as its one-step processing apparatus. In this embodiment, as a process processing apparatus of one test handler, a high temperature apparatus for increasing the temperature of a device such as an electronic component or a semiconductor device, and a low temperature for decreasing the temperature of the device or increasing the temperature of the heated device. It is provided at a position different from the control device. However, this embodiment shows an optimal embodiment. As another embodiment, the process processing unit of the test handler can be configured using only the high temperature apparatus or the low temperature apparatus.

本実施形態の高低温化装置7は、図6に示すように、電子部品や半導体装置等のデバイスに対して各種工程処理を施すテストハンドラ30の円周等配位置に設けられた工程処理装置の一部をなす高温化装置71と、低温化装置72とからなる。   As shown in FIG. 6, the high temperature reduction apparatus 7 of the present embodiment is a process processing apparatus provided at a circumferentially equidistant position of a test handler 30 that performs various process processes on devices such as electronic components and semiconductor devices. The temperature increasing device 71 and the temperature decreasing device 72 are part of the above.

より具体的には、図6の位置1において、パーツフィーダから整列搬送されるデバイスを、ターンテーブルTの下方に伸びるように、円周等配位置に複数(ここでは、22.5度間隔で16個)設けられた吸着保持機構のノズルNによってピックアップされる。このターンテーブルTは、図中時計回り方向に間欠回転するものであり、位置2においてデバイスの電極の極性チェックを外観カメラ等によってなされる外観検査装置が設けられ、位置3において極性の修正を行う反転装置が設けられている。   More specifically, at position 1 in FIG. 6, a plurality of devices aligned and conveyed from the parts feeder are arranged at equal circumferential positions so as to extend below the turntable T (here, at intervals of 22.5 degrees). 16) Picked up by the nozzle N of the suction holding mechanism provided. This turntable T rotates intermittently in the clockwise direction in the figure, and is provided with an appearance inspection device in which the polarity of the electrode of the device is checked by an appearance camera or the like at position 2, and the polarity is corrected at position 3. A reversing device is provided.

なお、本実施形態では、ターンテーブルTへのデバイスの供給手段をパーツフィーダとしているが、これは部品供給手段の一例を示すに過ぎず、その他、例えばリードフレームでの供給、チューブ(スティック)供給、ウェーハ供給等、周知のあらゆる供給手段に代替可能である。   In the present embodiment, the device supply means to the turntable T is a parts feeder. However, this is merely an example of the component supply means. In addition, for example, supply in a lead frame, tube (stick) supply Any known supply means such as wafer supply can be substituted.

そして、位置4及び位置5に本実施形態に係る高温化装置71が設けられ、ここにおいて、ノズルNに保持されたデバイスが、所定の温度に加熱される。加熱されたデバイスは、再びノズルNに保持され、位置6において、加熱された状態で電気テスト工程処理がなされる。   And the high temperature apparatus 71 which concerns on this embodiment is provided in the position 4 and the position 5, and the device hold | maintained at the nozzle N here is heated to predetermined temperature. The heated device is again held by the nozzle N, and an electrical test process is performed at position 6 in a heated state.

位置7及び8には、本実施形態に係る低温化装置72が設けられ、ここにおいて、ノズルNに保持され搬送されたデバイスが、加熱された温度から常温にまで冷却される。そして、常温のデバイスが、位置9において、電気テストがなされる。なお、この低温化装置1bでは、デバイスを常温より冷却し冷却された状態で位置9の電気テスト工程を施しても構わない。   Positions 7 and 8 are provided with a temperature reducing device 72 according to the present embodiment, in which the device held and transported by the nozzle N is cooled from the heated temperature to room temperature. The room temperature device is then subjected to an electrical test at position 9. In the low temperature apparatus 1b, the electrical test process at the position 9 may be performed in a state where the device is cooled from room temperature and cooled.

このように、本実施形態の高温化装置71及び低温化装置72において、それぞれ吸着保持手段であるノズルNの停止位置がそれぞれ位置4及び5並びに位置7及び位置8と2つ設けられているのは、高温化装置71又は低温化装置72が、位置4又は位置7において、ノズルNよりデバイスを受け取り、デバイスを所定の時間を掛け加熱又は冷却した後、位置5又は8において、ノズルNに受け渡すためである。   As described above, in the high temperature device 71 and the low temperature device 72 of the present embodiment, two stop positions of the nozzle N, which is the suction holding means, are provided at positions 4 and 5, and positions 7 and 8, respectively. The temperature increasing device 71 or the temperature decreasing device 72 receives the device from the nozzle N at the position 4 or 7 and heats or cools the device over a predetermined time, and then receives the device at the position 5 or 8 at the nozzle N. To pass.

以上のような電気テスト工程までを終えたデバイスは、そのままノズルNに保持された状態で、従来と同様、反転装置(位置10)、不良品を判別する外観検査装置(位置11)、不良品と良品とを複数分類しそのレベルに応じて分類してシュートする分類ソート装置(位置12,13)、良品を順次テープに梱包するテーピング装置(位置14,15)、テーピング梱包されなかったデバイスを廃棄する強制排出装置(位置16)を経るようになっている。   The device that has completed the electrical test process as described above is held in the nozzle N as it is, and the reversing device (position 10), the appearance inspection device (position 11) for determining defective products, and the defective products, as in the past. Sorting and sorting devices (positions 12 and 13) that classify and shoot according to their level, taping devices (positions 14 and 15) that sequentially pack good products on tape, and devices that have not been taped and packed It passes through a forced discharge device (position 16) to be discarded.

[2.高低温化装置の構成]
次に、高低温化装置7の構成について、図6〜9を参照して説明する。図7は、図6の平面図で表した全体構成から、位置4及び5並びに位置8及び9における高低温化装置7についてのみ抽出した簡略斜視図(a)及び平面図(b)である。なお、図7(a)においては、図示の便宜上、適宜構成を省略して表している。また、以下の本実施形態において、高低温化装置7において、第1の実施形態と同様の構成については、同様の符号を付し説明を省略する場合がある。
[2. Configuration of high temperature reduction equipment]
Next, the structure of the high temperature reduction apparatus 7 is demonstrated with reference to FIGS. FIG. 7 is a simplified perspective view (a) and a plan view (b) extracted from the overall configuration shown in the plan view of FIG. 6 only for the high temperature reducing device 7 at positions 4 and 5 and positions 8 and 9. In FIG. 7A, the configuration is appropriately omitted for convenience of illustration. In the present embodiment below, in the high temperature reducing device 7, the same configuration as that of the first embodiment may be denoted by the same reference numeral, and description thereof may be omitted.

図7及び図8に示すように、高低温化装置7は、モータMによりベルトを介して回転力を付与され、回転軸Oを中心として回転するドラム73を備える。このドラム73は、図8にその断面図を示すように、筒状で内部にデバイスの搬送路とドラム73外周面方向に開口部とを備えた収納レール74を、複数円環状に配置してなる。ドラム73はまた、この収納レール74を円環状に維持する支持部材75を収納レール74の両端部に備える。この支持部材75は、円盤状に構成され、ドラム73両端部において収納レール74を内周面側から支持している。そして、この支持部材75がその中心部においてドラム73の中心軸に設けられた回転軸Oと連結している。   As shown in FIG. 7 and FIG. 8, the high temperature reducing device 7 includes a drum 73 that receives a rotational force from a motor M via a belt and rotates about a rotation axis O. As shown in the sectional view of FIG. 8, the drum 73 has a cylindrical shape and a plurality of annular storage rails 74 each having a device transport path and an opening in the outer peripheral surface of the drum 73. Become. The drum 73 also includes support members 75 that maintain the storage rail 74 in an annular shape at both ends of the storage rail 74. The support member 75 is formed in a disc shape, and supports the storage rail 74 from the inner peripheral surface side at both ends of the drum 73. And this support member 75 is connected with the rotating shaft O provided in the center axis | shaft of the drum 73 in the center part.

ここで、高低温化装置7の加熱又は冷却手段について説明する。高温化ユニット71においては、図7に点線で示すように、装置全体をチャンバで覆い、チャンバ内を高温雰囲気にして加熱手段とする。また、ドラム73内部又は近傍にヒータ等の加熱手段を備え、赤外線を放射し、この放射される赤外線が直接的に又は収納レールを介して間接的にデバイスに伝導し、近い位置からデバイスを加熱する構成も可能である。この場合、収納レール74は、熱伝導率の高い材料によって構成されるのが好ましい。   Here, the heating or cooling means of the high temperature reducing device 7 will be described. In the high temperature unit 71, as shown by a dotted line in FIG. 7, the entire apparatus is covered with a chamber, and the inside of the chamber is made a high temperature atmosphere to serve as a heating means. Also, heating means such as a heater is provided in or near the drum 73 to emit infrared rays, and the emitted infrared rays are conducted to the device directly or indirectly through the storage rail to heat the device from a close position. It is also possible to configure. In this case, the storage rail 74 is preferably made of a material having high thermal conductivity.

一方、低温化ユニット72においては、チャンバ内を冷却雰囲気にして冷却手段としたり、高温化ユニット71のヒータに代えて冷却手段としてペルチェ素子を用いたりして構成することができる。なお、チャンバ内の雰囲気を高温化又は低温化する場合には、加熱又は冷却手段として、図7の一点鎖線にて示すように、高温エアーブロー等によりなる高低温化手段5にて、高温又は低温環境にする。この場合、具体的には、高温の場合にはチャンバ内を120℃前後に、低温の場合には−40℃程度にするものである。   On the other hand, the low temperature unit 72 can be configured by using a cooling atmosphere in the chamber as a cooling means, or by using a Peltier element as a cooling means instead of the heater of the high temperature unit 71. When the atmosphere in the chamber is increased or decreased in temperature, as shown in the dashed line in FIG. Use a low temperature environment. In this case, specifically, the inside of the chamber is set to around 120 ° C. when the temperature is high, and about −40 ° C. when the temperature is low.

本実施形態では、図8に示すように、このドラム73は、この収納レール74を45度間隔で8個配置し、回転軸Oが図示しないモータにより回転され、収納レール74の間隔、すなわち45°間隔で間欠的に回転するようになっている。   In the present embodiment, as shown in FIG. 8, the drum 73 has eight storage rails 74 arranged at intervals of 45 degrees, and the rotating shaft O is rotated by a motor (not shown), so that the interval between the storage rails 74, that is, 45 It is designed to rotate intermittently at intervals of °.

また、図7に示すように、ドラム73は、テストハンドラからデバイスを受け取る受取り位置Xと、テストハンドラへ受け渡す受渡し位置Yとを同一の方向に備える。すなわち、テストハンドラ30側に、デバイスをテストハンドラ30から受け取る受取り位置Xと、デバイスをテストハンドラ30に受け渡す受渡し位置Yをともに備える。受取り位置Xは、円環状の最頂部の収納レール74aよりもドラム73の図中矢印に示す回転方向隣の収納レール74bのテストハンドラ30側端部に設けられている。   As shown in FIG. 7, the drum 73 includes a receiving position X for receiving a device from the test handler and a delivery position Y for transferring to the test handler in the same direction. That is, both the receiving position X for receiving the device from the test handler 30 and the delivery position Y for transferring the device to the test handler 30 are provided on the test handler 30 side. The receiving position X is provided at the end on the test handler 30 side of the storage rail 74b adjacent to the rotation direction indicated by the arrow of the drum 73 relative to the storage rail 74a at the top of the annular shape.

この受取り位置Xには、図9(a)にその詳細拡大図を示すように、Nノズルの真空破壊により受け取ったデバイスを一時載置するステージ76aが設けられ、このステージ76aに置かれたデバイスを一つずつ収納レール74bに向かって挿入する押入れ部材76bが設けられている。この押入れ部材76bは、ステージ76a上をテストハンドラ30側から、収納レール42b側に向かってテストハンドラ30のターンテーブルTの回転タイミングに合わせて往復移動するように構成されている。なお、ステージ76aは、デバイスをノズルNから受け取った後、収納レール42bの搬送路と平行な面となるように、45°回転するようになっている(回転前を図中に二点鎖線で示す。)。   In this receiving position X, as shown in a detailed enlarged view in FIG. 9A, a stage 76a for temporarily placing a device received by vacuum breakage of the N nozzle is provided, and the device placed on this stage 76a A push-in member 76b is provided for inserting each of them toward the storage rail 74b. The pushing member 76b is configured to reciprocate on the stage 76a from the test handler 30 side toward the storage rail 42b in accordance with the rotation timing of the turntable T of the test handler 30. In addition, after receiving the device from the nozzle N, the stage 76a is rotated by 45 ° so as to be in a plane parallel to the conveyance path of the storage rail 42b (before the rotation is indicated by a two-dot chain line in the figure). Show.)

一方、受渡し位置Yは、円環状の最頂部に位置する収納レール74aの、テストハンドラ30側端部に設けられている。この受渡し位置Yには、図9(b)にその詳細拡大図を示すように、収納レール74aの側端部にあるデバイスを収納レールから分離し、テストハンドラ30のノズルNによってピックアップするための位置に移動させるエスケープ77aが設けられている。また、このエスケープ77aに対して、収納レール74a内のデバイスを順次送り出すための送り部材77bが設けられている。なお、エスケープ77a、送り部材77b及び支持部77cについては、図7において説明の便宜上、図示を省略している。   On the other hand, the delivery position Y is provided at the end on the test handler 30 side of the storage rail 74a located at the top of the annular shape. 9B, the device at the side end of the storage rail 74a is separated from the storage rail and picked up by the nozzle N of the test handler 30. An escape 77a that moves to a position is provided. Further, a feed member 77b for sequentially feeding the devices in the storage rail 74a is provided for the escape 77a. Note that the escape 77a, the feed member 77b, and the support portion 77c are not shown in FIG. 7 for convenience of explanation.

この送り部材77bは、収納レール74aの開口部から挿入され、収納レール74a軸方向に、テストハンドラ30の反対側からテストハンドラ30側に向けて、移動するものである。その駆動機構は、ドラム73の側方に設けられ、図示しないモータの回転によりボールネジBが回転し、これに連結した送り部材77bと支持部77cが移動することにより実現するものである。   The feed member 77b is inserted from the opening of the storage rail 74a and moves in the axial direction of the storage rail 74a from the opposite side of the test handler 30 toward the test handler 30 side. The drive mechanism is provided on the side of the drum 73, and is realized by the ball screw B being rotated by the rotation of a motor (not shown) and the feed member 77b and the support portion 77c connected thereto being moved.

この送り部材77bの移動タイミングも、テストハンドラ30におけるターンテーブルTの間欠回転のタイミングと同期しており、ノズルNの移動に伴って、収納レール74a内に収納されたデバイスを一つずつエスケープ77aに向かって排出するようになっている。なお、この送り部材77bはまた、収納レール74aの溝に挿入される位置から退避し溝に干渉しない位置に移動するように構成されており、収納レール74aに収納された一群のデバイスをすべてテストハンドラ30側に搬送した後は、溝に干渉しない位置であるテストハンドラ30とは反対の端部に退避する。   The movement timing of the feed member 77b is also synchronized with the timing of intermittent rotation of the turntable T in the test handler 30, and as the nozzle N moves, the devices stored in the storage rail 74a are escaped one by one. It is supposed to be discharged towards. The feed member 77b is also configured to move away from the position where it is inserted into the groove of the storage rail 74a and move to a position where it does not interfere with the groove, and all of the group of devices stored in the storage rail 74a are tested. After transporting to the handler 30 side, it retreats to the end opposite to the test handler 30 which is a position that does not interfere with the groove.

なお、この収納レール74の形状は、第1の実施形態と同様であるので説明を省略する。また、第1の実施形態と同様、収納レールの内周面の大きさは、処理対象となるデバイスの大きさによって設計されるものであり、搬送されるデバイスが詰まったり側面と接触しないで搬送可能な程度の大きさに適宜設計されるものである。   Note that the shape of the storage rail 74 is the same as that of the first embodiment, and a description thereof will be omitted. Further, as in the first embodiment, the size of the inner peripheral surface of the storage rail is designed according to the size of the device to be processed, and the device to be transported is transported without being clogged or in contact with the side surface. It is appropriately designed to have a possible size.

また、ドラム73及び収納レール74の軸方向の長さについては、収納レール74の搬送路内に待機させるデバイスの数、一括処理するための所望のデバイス数によって決定される。このデバイスの待機数は、テストハンドラ3に対する受け渡し時間間隔(テストハンドラ3の間欠回転1回あたりの搬送時間と一工程における処理時間との和)と、デバイスを所定の温度にするための加熱又は冷却時間とが考慮される。例えば、テストハンドラ30における受け渡し時間間隔は、0.2〜0.3秒であって、デバイスの加熱時間が90秒であると考えられる。なお、本実施形態においては、一つの収納レール74に対して、約50個のデバイスが収納されるように構成している。   The axial lengths of the drum 73 and the storage rail 74 are determined by the number of devices waiting in the conveyance path of the storage rail 74 and the desired number of devices for batch processing. The number of standbys of this device is the delivery time interval to the test handler 3 (the sum of the transport time per intermittent rotation of the test handler 3 and the processing time in one process) and the heating or heating to bring the device to a predetermined temperature. Cooling time is taken into account. For example, it is considered that the delivery time interval in the test handler 30 is 0.2 to 0.3 seconds, and the heating time of the device is 90 seconds. In the present embodiment, about 50 devices are stored in one storage rail 74.

図7に示す高低温化手段5は、第1の実施形態と同様であり、高温エアーブロー等で構成され、チャンバ2内の雰囲気を、高温又は低温環境にする手段である。具体的には、高温の場合にはチャンバ2内を120℃前後に、低温の場合には−40℃程度にするものである。   The high temperature lowering means 5 shown in FIG. 7 is the same as that of the first embodiment, is configured by high temperature air blow or the like, and is a means for setting the atmosphere in the chamber 2 to a high temperature or low temperature environment. Specifically, the inside of the chamber 2 is set to around 120 ° C. when the temperature is high, and about −40 ° C. when the temperature is low.

なお、収納レールの溝内に載置されたデバイスを、搬送させる機構は、振動やエアを搬送方向に向けて作用させる構成など、公知の直線状の部品移送手段のいずれの構成を用いることもできる。この点、本実施形態では、図に一例として示す送り部材77bのように、搬送路の溝と略同一の形状からなり、この溝内を収納レール74a方向に移動するように構成することとしている。   The mechanism for transporting the device placed in the groove of the storage rail may use any configuration of known linear component transfer means, such as a configuration in which vibration and air act in the transport direction. it can. In this respect, in the present embodiment, like a feed member 77b shown as an example in the figure, it has substantially the same shape as the groove of the conveyance path, and is configured to move in the groove toward the storage rail 74a. .

[3.全体の作用効果]
以上のように構成される本実施形態の高低温化装置の作用の概略について説明する。なお、以下では、図6の位置4における高温化装置及び位置6の高温測定の実施例について説明し、位置7及び位置9の低温化装置及び低温測定の場合についは省略するが、低温化装置及び低温化測定における処理の内容は高温化装置及び高温化測定における処理と同様である。
[3. Overall effect]
An outline of the operation of the high temperature reducing device of the present embodiment configured as described above will be described. In the following, an example of the high temperature apparatus at position 4 and the high temperature measurement at position 6 in FIG. 6 will be described, and the low temperature apparatus and low temperature measurement at positions 7 and 9 will be omitted. The contents of the process in the low temperature measurement are the same as those in the high temperature apparatus and the high temperature measurement.

図6に示すように、テストハンドラ30のノズルNに保持されて位置4に搬送されてくるデバイスCは、位置5の高温化装置71の受取り位置Xにおいて、図7のステージ76aに載置される。ステージ76aに載置されたデバイスは、押入れ部材76bによって、収納レール74bに順次挿入される(図9(a)参照)。   As shown in FIG. 6, the device C held by the nozzle N of the test handler 30 and transported to the position 4 is placed on the stage 76 a in FIG. 7 at the receiving position X of the high temperature apparatus 71 at the position 5. The The devices placed on the stage 76a are sequentially inserted into the storage rail 74b by the push-in member 76b (see FIG. 9A).

収納レール74bに対しては、ノズルNの後続のノズルに保持されたデバイスを上記同様に、テストハンドラ30のターンテーブルTの間欠回転に同期して、押入れ部材76bの往復動により、一つずつ挿入されることとなる。   For the storage rail 74b, the devices held by the nozzles subsequent to the nozzle N are synchronized one by one with the reciprocating motion of the pushing member 76b in synchronism with the intermittent rotation of the turntable T of the test handler 30. Will be inserted.

上記の通り、収納レール74bは、デバイスの品種や収納レール74aの長さ設定などの実施態様により、挿入可能なデバイスの数は適宜設定可能であるが、ここでは、50個とする。収納レール74aに50個のデバイスが挿入されると、ドラム73は、収納レール一つ分である45°回転する。   As described above, the number of devices that can be inserted in the storage rail 74b can be set as appropriate depending on the type of device, the length setting of the storage rail 74a, and the like. When 50 devices are inserted into the storage rail 74a, the drum 73 rotates 45 °, which is one storage rail.

一方、収納レール74aでは、上記のとおり、受取り位置XにおいてデバイスCを受け渡し、空になったノズルNが、ターンテーブルTの回転によって、移動してくる。このとき、収納レール74aには、上記収納レール74bにおいて示した位置におけるデバイスCの収納作業が完了し、図中矢印方向に1回転(ここでは、受取り位置Xの位置から受渡し位置Yまでの315°の回転)し、十分に加熱されたデバイスが収納された状態となっている。この収納レール74aに対して、送り部材77bが、テストハンドラと反対側の端部より収納レール74a内に挿入され、デバイスCをエスケープ77aに対して一つ押し出す。   On the other hand, in the storage rail 74a, as described above, the nozzle C that has passed the device C at the receiving position X and has become empty moves as the turntable T rotates. At this time, the storage operation of the device C at the position shown in the storage rail 74b is completed on the storage rail 74a, and the storage rail 74a is rotated once in the direction of the arrow in FIG. Rotation of °) and fully heated device is stored. A feed member 77b is inserted into the storage rail 74a from the end opposite to the test handler with respect to the storage rail 74a, and pushes one device C against the escape 77a.

次に、送り部材77bによりエスケープ77aに対して押し出され、エスケープ77a上に載置したデバイスCをノズルNがピックアップし、このデバイスCを、ターンテーブルTの間欠回転により、図6に示す位置6に設けられた高温測定装置に搬送する。この高温測定装置において、加熱されたデバイスの電気特性検査が行われる。   Next, the nozzle N picks up the device C pushed out by the feed member 77b and placed on the escape 77a, and the device C is moved to the position 6 shown in FIG. It is transported to a high-temperature measuring device provided in In this high-temperature measuring apparatus, the electrical characteristics of the heated device are inspected.

以上のような本実施形態の高低温化装置7においては、同時に多数のデバイスを保持し、加熱又は冷却することができ、さらに、ドラム73からは、テストハンドラ30へデバイスを一つずつ受け渡すことが可能である。これにより、テストハンドラ30への受渡しタイミングを遅らせることなく、かつ、ドラム73においてデバイスに対するソーク時間、すなわち、含浸状態に置く加熱又は冷却時間を十分に確保することが可能である。   In the high temperature reducing apparatus 7 of the present embodiment as described above, a large number of devices can be held and heated or cooled at the same time, and devices are transferred from the drum 73 to the test handler 30 one by one. It is possible. As a result, it is possible to sufficiently ensure the soak time for the device in the drum 73, that is, the heating or cooling time in the impregnated state without delaying the delivery timing to the test handler 30.

また、収納レール74を円環状に配置し、この収納レール74の受取り位置Xにてテストハンドラ30のノズルNからデバイスを受け取った後、これを1回転させてから受渡し位置Yにおいてテストハンドラ30にデバイスを受け渡す、という構成を採用することにより、例えば、平面状に収納レールを並列に並べて構成する場合に比べ、省スペース化が可能である。また、回転させるという簡単な作用により、1周する間にデバイスのソーク時間を十分確保することが可能である。   Further, the storage rail 74 is arranged in an annular shape, and after receiving the device from the nozzle N of the test handler 30 at the receiving position X of the storage rail 74, the device is rotated once and then transferred to the test handler 30 at the delivery position Y. By adopting a configuration in which devices are delivered, for example, space can be saved compared to a case where storage rails are arranged in parallel in a planar shape. Moreover, it is possible to ensure a sufficient soak time of the device during one round by a simple action of rotating.

さらに、テストハンドラ30からのデバイスの受取り位置Xと、テストハンドラ30へのデバイスの受渡し位置Yとを、同一の収納レール74の位置に設けず、隣り合う位置でかつ受取り位置を受渡し位置の収納レール回転上流側に設けることにより、収納レールへのデバイスの入替えがスムーズに行えるようになる。特に、テストハンドラ30側から、収納レールにデバイスを受け取り収納し、再度テストハンドラ30側からデバイスを受け渡すことにより、テストハンドラ30の一処理工程処理装置として構成することができるので、従来のレールにデバイスを保持し、これを順次加熱し、受け渡すような構成に比較し、高温テストのために新たにテストハンドラを用意するような必要もなく、装置設置の省スペース化とともに、装置コストを安価に抑えることができるようになる。   Further, the device reception position X from the test handler 30 and the device delivery position Y to the test handler 30 are not provided at the same storage rail 74 position, and the reception position is stored at the adjacent position at the delivery position. By providing on the upstream side of the rail rotation, the device can be smoothly replaced with the storage rail. In particular, since the device is received and stored in the storage rail from the test handler 30 side, and the device is transferred from the test handler 30 side again, the device can be configured as a single processing step processing apparatus of the test handler 30. Compared to a configuration in which the device is held and heated and delivered sequentially, there is no need to prepare a new test handler for high-temperature testing. It becomes possible to keep it cheap.

(3)他の実施形態
本発明は、第1の実施形態において示した態様に限られるものではなく、例えば次のような態様も含むものである。上記実施形態においては、ドラム41において、収納レール42を円環状として略真円形に配置しているが、本発明においては、例えば、収納レールを楕円状に配置するなど、収納レールを回転させてソーク時間を確保するような構成であれば、円環状配置の意義は真円に限られるものではない。また、配置する収納レールの長さ及び数は、設計事項であり、テストハンドラの処理時間や、デバイスの加熱又は冷却時間に応じて適宜変更可能である。
(3) Other Embodiments The present invention is not limited to the aspect shown in the first embodiment, and includes, for example, the following aspects. In the above embodiment, in the drum 41, the storage rail 42 is arranged in a substantially true circle as an annular shape. However, in the present invention, for example, the storage rail is arranged in an elliptical shape, and the storage rail is rotated. As long as the soak time is ensured, the significance of the annular arrangement is not limited to a perfect circle. Further, the length and number of storage rails to be arranged are design matters, and can be appropriately changed according to the processing time of the test handler and the heating or cooling time of the device.

また、ドラムの収納レールを円環状に保持する支持部材については、上記実施形態のような構成に限られず、例えば、図10に示すように、プーリーにベルトを配しこのベルト上に収納レールを固定する構成など、やはり収納レールを回転させてソーク時間を確保できる構成であれば、いかなる構成を採用することも本発明の範囲に含まれる。このように、本発明では、収納レールを円環状に配置するに際し、目的や用途、装置の配置スペースに応じて様々な構成を採用することが可能となる。   Further, the support member for holding the drum storage rail in an annular shape is not limited to the configuration described in the above embodiment. For example, as shown in FIG. 10, a belt is arranged on a pulley and the storage rail is arranged on the belt. Any configuration that can secure the soak time by rotating the storage rail, such as a fixed configuration, is also included in the scope of the present invention. As described above, in the present invention, when the storage rails are arranged in an annular shape, various configurations can be adopted according to the purpose, application, and arrangement space of the apparatus.

第1の実施形態においては、供給装置6におけるデバイスの移動、収納レール42におけるデバイスの移動をいずれも押圧棒により、デバイスを搬送方向に押し出す構成を示したが、本発明はこれに限られるものではなく、エアシュートや振動搬送など公知のあらゆる搬送方法を採用可能である。例えば、ドラムの回転軸Oをテストハンドラ3側に傾け、デバイスの自重によって、テストハンドラ3の受渡し位置Y方向に移動するように構成することも可能である。これにより、テストハンドラへの受渡し位置で、デバイスが一つずつピックアップされた場合には、デバイスの自重により、デバイスが搬送されることとなる。   In the first embodiment, the configuration in which the device is pushed in the transport direction by the pressing rod is shown for both the movement of the device in the supply device 6 and the movement of the device in the storage rail 42, but the present invention is limited to this. Instead, any known transfer method such as air chute or vibration transfer can be employed. For example, the drum rotation axis O can be tilted toward the test handler 3 and moved in the direction of the delivery position Y of the test handler 3 by the weight of the device. As a result, when devices are picked up one by one at the delivery position to the test handler, the devices are transported by their own weight.

また、第1の実施形態においては供給装置6を、整列レール61と、移送レール62と、供給レール63の3つの部位で構成しているが、これは、収納レール42における受取り位置Xと受渡し位置Yとを、第1の実施形態において22.5度ずらして設けたことによるものであり、構成上あるいは処理時間等の制約上、可能であれば受取り位置Xと受渡し位置Yとを、例えば、ドラム41の円環最頂部の位置に設けることも可能である。このように構成した場合には、供給装置6を一つのレールから構成することも可能となる。   In the first embodiment, the supply device 6 is composed of three parts, that is, an alignment rail 61, a transfer rail 62, and a supply rail 63. This is different from the receiving position X in the storage rail 42 and the delivery. This is because the position Y is shifted by 22.5 degrees in the first embodiment, and if possible, the receiving position X and the delivery position Y are set, for example, due to structural or processing time constraints. It is also possible to provide the drum 41 at the top of the ring. In the case of such a configuration, the supply device 6 can be configured from one rail.

第2の実施形態の高低温化装置において、受取り位置Xをテストハンドラ30の回転方向において上流側の位置4又は位置7に、受渡し位置Yをテストハンドラ30の回転方向において下流側の位置5又は位置8にそれぞれ設けたが、本発明は上記のような実施態様に限られるものではなく、例えば次のような態様も含むものである。   In the high temperature reduction device of the second embodiment, the receiving position X is set to the upstream position 4 or 7 in the rotation direction of the test handler 30, and the delivery position Y is set to the downstream position 5 or 5 in the rotation direction of the test handler 30. Although provided at each of the positions 8, the present invention is not limited to the embodiment as described above, and includes, for example, the following aspects.

すなわち、図11に示すように、上記実施形態と反対に、受取り位置Xをテストハンドラ30の回転方向において下流側の位置5又は位置8に、受渡し位置Yをテストハンドラ30の回転方向において上流側の位置4又は位置7にそれぞれ設けることも可能である。この実施態様は、テストハンドラの保持吸着手段を、上記実施形態における20°置きの18個でなく、10°置きの36個設け、ノズルNに1つ置きにデバイスを保持させるような態様(特開2005−064182号公報参照)において有効である。この場合には、ドラム73は、図に矢印で示すように、テストハンドラ30の搬送方向と同一の方向に回転するように構成される。   That is, as shown in FIG. 11, contrary to the above-described embodiment, the receiving position X is at the downstream position 5 or 8 in the rotational direction of the test handler 30, and the delivery position Y is upstream in the rotational direction of the test handler 30. It is also possible to provide them at position 4 or position 7, respectively. In this embodiment, the holding suction means of the test handler is provided in 36 units of 10 ° intervals instead of 18 units of 20 ° in the above embodiment, and the nozzles N are held every other device (special feature). This is effective in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-064182. In this case, the drum 73 is configured to rotate in the same direction as the conveyance direction of the test handler 30 as indicated by an arrow in the drawing.

また、図11の構成にさらに改良を加え、図12に示すように、受取り位置X及び受渡し位置Yとを、ターンテーブルTの一つの停止位置として、上記実施形態における受取り位置を挿入位置Pとし、受渡し位置を排出位置Qとし、図12(a)に示すように、ステージ76a及びエスケープ77aが、45°の角度で往復回転することにより、一つの受取り位置X及び受渡し位置Yへ移動するようにすることも可能である。この場合には、当該停止位置に移動してきたノズルNが、保持したデバイスをステージ76aにおいて、受渡し、ステージ76a上に載置されたデバイスは、押入れ部材76bにより挿入位置Pにおいて、収納レール74aに挿入され、このとき同時に、収納レール74bにおいて、押出し部材77bの作用により、エスケープ77a上の排出位置Qに加熱済のデバイスが排出される。その後、ステージ76a及びエスケープ77aが、45°の角度で図中右側に回転し、エスケープ77aが受取り位置X及び受渡し位置Yに移動し、ノズルNが、エスケープ77a上の加熱されたデバイスを受け取り、移動するものである。   11 is further improved. As shown in FIG. 12, the receiving position X and the delivery position Y are set as one stop position of the turntable T, and the receiving position in the above embodiment is set as the insertion position P. The delivery position is the discharge position Q, and as shown in FIG. 12 (a), the stage 76a and the escape 77a are reciprocally rotated at an angle of 45 ° to move to one delivery position X and delivery position Y. It is also possible to make it. In this case, the nozzle N that has moved to the stop position delivers the held device on the stage 76a, and the device placed on the stage 76a is moved to the storage rail 74a at the insertion position P by the push-in member 76b. At the same time, the heated device is discharged to the discharge position Q on the escape 77a by the action of the pushing member 77b in the storage rail 74b. Thereafter, the stage 76a and the escape 77a rotate to the right in the figure at an angle of 45 °, the escape 77a moves to the receiving position X and the delivery position Y, the nozzle N receives the heated device on the escape 77a, It is something that moves.

このように、受取り位置X及び受渡し位置Yとを、ターンテーブルTの一つの停止位置として構成した場合であっても、本発明の高低温化装置7をテストハンドラ30の一処理工程処理装置として構成することができるので、従来のレールにデバイスを保持し、これを順次加熱し、受け渡すような構成に比較し、高温テストのために新たにテストハンドラを用意するような必要もなく、装置設置の省スペース化とともに、装置コストを安価に抑えることができる。   Thus, even when the receiving position X and the delivery position Y are configured as one stop position of the turntable T, the high temperature reducing device 7 of the present invention is used as one processing process processing device of the test handler 30. Compared to a configuration in which the device is held on a conventional rail, and this is sequentially heated and delivered, there is no need to prepare a new test handler for high-temperature testing. The installation cost can be saved and the cost of the apparatus can be reduced.

本発明の第1の実施形態における高低温テストハンドラの全体構成を示す斜視図。The perspective view which shows the whole structure of the high-low temperature test handler in the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態における高低温化装置の部分断面図。The fragmentary sectional view of the high temperature reduction apparatus in the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態における収納レールの斜視図。The perspective view of the storage rail in the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態における供給装置の模式図。The schematic diagram of the supply apparatus in the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態における高低温化装置の部分模式図。The partial schematic diagram of the high temperature reduction apparatus in the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態における高低温化装置を備えたテストハンドラの全体構成を示す模式図。The schematic diagram which shows the whole structure of the test handler provided with the high temperature reduction apparatus in the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態における高低温化装置の構成を示す簡略斜視図(a)及び平面図(b)。The simplified perspective view (a) and top view (b) which show the structure of the high temperature reduction apparatus in the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態における高低温化装置をドラムの構成を示す断面模式図。The cross-sectional schematic diagram which shows the structure of the drum in the high temperature reduction apparatus in the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態における高低温化装置の部分構成を示す斜視図。The perspective view which shows the partial structure of the high temperature reduction apparatus in the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態における高低温化装置の部分断面図。The fragmentary sectional view of the high temperature reduction apparatus in other embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態における高低温化装置の平面図。The top view of the high temperature reduction apparatus in other embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態における高低温化装置の部分拡大斜視図。The partial expansion perspective view of the high temperature reduction apparatus in other embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1…高低温テストハンドラ
1b…低温化装置
2…チャンバ
3,30…テストハンドラ
4…高低温化装置
5…高低温化手段
6…供給装置
7…高低温化装置
41…ドラム
41…回転軸
42,42a,42b…収納レール
43…支持部材
44…押圧棒
61…整列レール
61a,62a,63a…溝
62…移送レール
63…供給レール
64…回転支持部
65…押圧棒
71…高温化装置
72…低温化装置
73…ドラム
74,74a,74b…収納レール
75…支持部材
76a…ステージ
76b…押入れ部材
77a…エスケープ
77b…押出し部材
B…ボールネジ
C…デバイス
M…モータ
N…ノズル
O…回転軸
P…挿入位置
Q…排出位置
R…搬送路
X…受取り位置
Y…受渡し位置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... High and low temperature test handler 1b ... Low temperature apparatus 2 ... Chamber 3, 30 ... Test handler 4 ... High temperature reduction apparatus 5 ... High temperature reduction means 6 ... Supply apparatus 7 ... High temperature reduction apparatus 41 ... Drum 41 ... Rotating shaft 42 42a, 42b ... storage rail 43 ... support member 44 ... pressing rod 61 ... alignment rail 61a, 62a, 63a ... groove 62 ... transfer rail 63 ... supply rail 64 ... rotating support 65 ... pressing rod 71 ... high temperature device 72 ... Low temperature device 73 ... drum 74, 74a, 74b ... storage rail 75 ... support member 76a ... stage 76b ... push-in member 77a ... escape 77b ... push-out member B ... ball screw C ... device M ... motor N ... nozzle O ... rotating shaft P ... Insertion position Q ... Discharge position R ... Conveyance path X ... Reception position Y ... Delivery position

Claims (9)

電子部品や半導体装置等のデバイスを受け取り、所定の加熱又は冷却手段により加熱又は冷却して、各種工程処理を施す搬送装置へ順次受け渡す高低温化装置であって、
デバイスの搬送路を備え、デバイスを複数収納可能な収納レールと、
前記収納レールを複数所定間隔で円環状に配置し保持する支持部と、
を高温又は低温雰囲気のチャンバ内に備え、
さらに、この円環状に配置された複数の収納レールを前記支持部を介して間欠的に回転させる駆動手段とを備えたことを特徴とする高低温化装置。
A high-temperature reduction device that receives devices such as electronic parts and semiconductor devices, heats or cools them with a predetermined heating or cooling means, and sequentially delivers them to a conveying device that performs various process treatments,
A storage rail with a device transport path that can store multiple devices,
A support portion for arranging and holding the storage rails in a ring shape at a predetermined interval; and
In a chamber with a high or low temperature atmosphere,
And a driving means for intermittently rotating the plurality of storage rails arranged in an annular shape via the support portion.
前記支持部は、前記円環状に配置された収納レールを両端において内周面において保持する円盤からなり、
前記円盤の中心に回転軸が設けられ、
前記駆動手段は、前記回転軸を回転させるものであることを特徴とする請求項1記載の高低温化装置。
The support part is composed of a disk that holds the storage rails arranged in an annular shape on the inner peripheral surface at both ends,
A rotation axis is provided at the center of the disk;
The high temperature reduction apparatus according to claim 1, wherein the driving unit rotates the rotating shaft.
前記支持部は、プーリーとこのプーリーに掛けられるベルトとからなり、
前記収納レールは、前記ベルトに所定間隔で配置され、
前記駆動手段は、前記プーリーの回転軸を回転させるものであることを特徴とする請求項1記載の高低温化装置。
The support portion includes a pulley and a belt hung on the pulley,
The storage rails are arranged at predetermined intervals on the belt,
2. The high temperature reducing apparatus according to claim 1, wherein the driving means rotates a rotating shaft of the pulley.
前記収納レールは、細溝を備え、
前記細溝が前記円環状に配置される収納レールの外周側に位置するように、前記収納レールが配置され、
この細溝に挿入される棒状体により、前記収納レールに収納されたデバイスが押し出されるようにして前記収納レール内を搬送されることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の高低温化装置。
The storage rail includes a narrow groove,
The storage rail is arranged so that the narrow groove is positioned on the outer peripheral side of the storage rail arranged in the annular shape,
4. The device according to claim 1, wherein the device stored in the storage rail is pushed out by the rod-shaped body inserted into the narrow groove so that the device is transported through the storage rail. 5. High temperature reduction equipment.
前記収納レール及び前記支持部は、収納レール内部に収納されるデバイスの搬送方向に向けて、傾いて設置されることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の高低温化装置。   The high temperature reduction according to any one of claims 1 to 3, wherein the storage rail and the support portion are installed to be inclined toward a transport direction of a device stored in the storage rail. apparatus. デバイスを受け取り、所定の加熱又は冷却手段により加熱又は冷却して、各種工程処理を施す搬送装置へ順次受け渡すデバイスの高低温テストハンドラであって、
チャンバ内に配置され、デバイスに対して各種工程処理を施すテストハンドラと、このテストハンドラに対して高温又は低温化されたデバイスを受け渡す高低温化装置と、チャンバ内の雰囲気を加熱又は冷却する高低温化手段と、
前記チャンバ外に配置され前記高低温化装置にデバイスを受け渡す供給装置と、を備え、
前記高低温化装置は、デバイスの搬送路を備えデバイスを複数収納可能な収納レールと、前記収納レールを複数円環状に配置し保持する支持部と、この円環状に配置された複数の収納レールを前記支持部を介して間欠的に回転させる駆動手段を備えたことを特徴とする高低温テストハンドラ。
A high and low temperature test handler for a device that receives a device, heats or cools it with a predetermined heating or cooling means, and sequentially delivers it to a transfer device that performs various process processes,
A test handler that is disposed in the chamber and performs various process processes on the device, a high-temperature reduction apparatus that delivers a device that is high or low in temperature to the test handler, and an atmosphere in the chamber is heated or cooled High temperature reduction means,
A supply device that is disposed outside the chamber and delivers the device to the high temperature reducing device,
The high temperature reduction apparatus includes a storage rail having a device transport path and capable of storing a plurality of devices, a support portion for arranging and holding the storage rail in a plurality of annular shapes, and a plurality of storage rails arranged in the annular shape. A high-low temperature test handler characterized by comprising a driving means for intermittently rotating the cradle through the support section.
前記テストハンドラと前記供給装置とは、前記高低温化装置の両端部に配置され、
前記高低温化装置の前記収納レールにおける前記供給装置からのデバイスの受取り位置と、前記高低温化装置の前記収納レールから前記テストハンドラへのデバイスの受渡し位置とは、前記円環状に配置された収納レールの円周上隣合う位置であって、前記受取り位置は前記受渡し位置より、前記収納レールの回転方向下流側に設けられたことを特徴とする請求項6記載の高低温テストハンドラ。
The test handler and the supply device are arranged at both ends of the high temperature reducing device,
The receiving position of the device from the supply device in the storage rail of the high temperature reducing device and the delivery position of the device from the storage rail to the test handler of the high temperature reducing device are arranged in the annular shape. 7. The high / low temperature test handler according to claim 6, wherein the receiving rails are adjacent to each other on the circumference of the storage rail, and the receiving position is provided downstream of the transfer position in the rotation direction of the storage rail.
搬送装置により半導体装置又は電子部品等のデバイスを搬送しながら、半導体装置又は電子部品等のデバイスの外観検査や電気特性検査等を経てデバイスをテーピング梱包する各種処理工程を行う工程処理部を備えた高低温テストハンドラであって、
前記搬送装置に設けられた保持機構からデバイスを受け取り、このデバイスを加熱又は冷却して前記保持機構へ順次受け渡す高温化又は低温化あるいはその両方の機能を備えた高低温化装置を、一工程処理部として備え、
前記高低温化装置は、
デバイスの搬送路を備え、デバイスを複数収納可能な収納レールと、
前記収納レールを複数所定間隔で円環状に配置し保持する支持部と、
を備え、
さらに、この円環状に配置された複数の収納レールを前記支持部を介して間欠的に回転させる駆動手段とを備えたことを特徴とする高低温テストハンドラ。
A process processing unit is provided that performs various processing steps for taping and packing a device through an appearance inspection and an electrical property inspection of the device such as the semiconductor device or the electronic component while the device such as the semiconductor device or the electronic component is transferred by the transfer device. A high and low temperature test handler,
A high temperature reduction apparatus having a function of increasing or decreasing the temperature by receiving a device from a holding mechanism provided in the transfer apparatus, and sequentially transferring the device to the holding mechanism by heating or cooling the device. As a processing unit,
The high temperature reducing device is:
A storage rail with a device transport path that can store multiple devices,
A support portion for arranging and holding the storage rails in a ring shape at a predetermined interval; and
With
And a drive means for intermittently rotating the plurality of storage rails arranged in an annular shape via the support portion.
前記高低温化装置は、前記搬送装置に設けられた保持機構からデバイスを受け取る受取り位置と前記搬送装置に設けられた保持機構へデバイスを受け渡す受渡し位置とを前記搬送装置における保持機構の隣り合う停止位置にそれぞれ設けられ、
前記受取り位置は、前記隣り合う停止位置のうち、前記搬送装置の搬送方向上流側に設けられ、前記受渡し位置は、前記隣り合う停止位置のうち、前記搬送装置の搬送方向下流側に設けられたことを特徴とする請求項8記載の高低温テストハンドラ。
The high temperature reduction apparatus has a receiving position for receiving a device from a holding mechanism provided in the conveying apparatus and a delivery position for transferring the device to a holding mechanism provided in the conveying apparatus adjacent to the holding mechanism in the conveying apparatus. Provided at each stop position,
The receiving position is provided on the upstream side in the transport direction of the transport device among the adjacent stop positions, and the delivery position is provided on the downstream side in the transport direction of the transport device among the adjacent stop positions. The high and low temperature test handler according to claim 8.
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