JP2008159991A - ステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】ステージの走査中に、ステージと基板との間の相対位置ずれを防ぐステージ装置、これを用いる露光装置、及びその露光装置を用いるデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】 レチクル６を搭載する移動ステージ２１の第１、第２の駆動方向であるＹ方向の正負の方向に平行なレチクル６の重心を通過する直線上で、レチクル６の重心を挟む移動ステージ２１上の一対の位置に設置したレチクル６を吸着保持する真空吸着クランプ７Ａ，７Ｂを有する。移動ステージ２１が第１の駆動方向に移動する時は、正方向の真空吸着クランプ７Ａによりレチクル６を保持して移動し、第２の駆動方向に移動する時は、反対方向の真空吸着クランプ７Ｂによりレチクル６を保持して移動する。
【選択図】図４

Description

本発明は、基板を保持して移動するステージ装置、このステージ装置を用いる露光装置、及びその露光装置を用いるデバイス製造方法に関する。

従来、半導体露光装置、精密計測機、精密加工機等には、移動体の高い位置決め精度が要求されるため、例えばローレンツ力を利用したステージ装置が広く用いられている。
ローレンツ力を発生する従来のステージ装置には、一般にリニアモータの構成が多く用いられている。
半導体露光装置等に用いるリニアモータは、永久磁石を用いたリニアモータ固定子上を、基板を保持した移動体としての例えば電気子を用いたリニアモータ可動子がローレンツ力により１軸方向に移動する。
しかし、基板を保持した移動体を正確な位置に移動させるとしても、基板の保持状態が正確でなければ、基板の根本的な高精度の位置決めは困難であるため、基板を正確に保持する構成が極めて重要となる。

ここで従来のステージ装置の代表的な構成例を図８及び図９に示す。
露光パターンの原版であるレチクル６１は、レチクル保持手段６３のレチクルクランプパッド６３Ａがバキュームパッドとなり、真空吸引によりレチクルステージ６２にクランプされる。
レチクル６１を用いた露光処理に際しては、レチクル６１の移動位置においてレチクル６１上のパターンをスリット露光光６１Ａで縮小投影レンズ６４を介してシリコン基板より成るウェハ６５上に縮小投影する。
ウェハ６５は、レチクル６１の移動に同期するウェハステージ６６の移動により移動し、その位置でスキャン露光が行われる。
さらに、例えば特開２００６−４１３０２号公報（特許文献１）により、レチクル保持面に対して異なる位置でレチクルに当接し、相対的に変位可能に支持されたレチクル弾性チャックを有する露光装置が提案されている。
特開２００６−４１３０２号公報

上記図８及び図９に示す従来例においては、レチクル６１を真空吸引保持する際、保持面積が大きいため保持力が大きい反面、保持面形状、レチクルステージ形状、レチクル形状の影響を受け易い。
つまり、これらの形状にばらつきがある場合、保持する時にレチクル６１とレチクルステージ６２の双方にとって過拘束となる部位が生じるため、各々弾性変形した状態を維持したまま拘束される。
また、保持手段間の保持力の差や、保持手段接触面内差が大きくなる場合がある。
その状態でレチクルステージ６２の加減速を繰り返すと、慣性力を契機に保持する時に蓄えた弾性エネルギーが摩擦力に勝って開放し、レチクル６１とレチクルステージ６２間に不可逆な相対位置ずれが発生するおそれがある。
このことは、摩擦力が伴う現象であるため、相対位置ずれ量の予測は極めて困難であり、また、保持力のばらつき方次第では、ずれる箇所とずれない箇所が生じ、露光結果に悪影響を与えるおそれを懸念させる。
そこで、本発明は、ステージの走査中に、ステージと基板との間の相対位置ずれを防ぐステージ装置を提供することを目的とする。

上記の課題を解決するための本発明のステージ装置は、基板を保持して移動するステージと、前記ステージの第１の駆動方向に平行な前記基板の重心を通過する直線上で、前記基板の重心を挟んで前記ステージ上に一対に設けられ、前記基板を保持する第１及び第２の保持装置と、を有し、前記ステージが前記第１の駆動方向に移動する時に前記第１の保持装置により前記基板を保持して移動し、前記ステージが前記第１の駆動方向とは逆の第２の駆動方向に移動する時に前記第２の保持装置により前記基板を保持して移動することを特徴とする。

本発明のステージ装置によれば、前記ステージが第１の駆動方向に移動する時に第１の保持装置により前記基板を保持して移動し、前記ステージが第２の駆動方向に移動する時に第２の保持装置により前記基板を保持して移動する。
このため、移動時に１点保持であるため、保持する時にレチクル６とステージの双方にとって過拘束となる部位が生じることがなくなり、レチクル６が弾性変形した状態に拘束されるという現象を改善することができる。
即ち、保持の際、接触面内差等がなく、ステージの加減速を繰り返しても、基板とステージ間に不可逆な相対位置ずれが発生するおそれをなくすことができる。
また、ステージ駆動熱や他の熱の蓄積により、前記基板が仮に熱膨張するとしても、第１又は第２の保持装置の１点拘束であり熱応力が発生しないため、基板等は拘束点を中心に熱量に応じた可逆的な変形を示す。

以下、図面を参照して、本発明の実施例を説明する。

以下、本発明の実施例１のステージ装置が適用される例示的な露光装置を説明する。
図１は、本発明の実施例１のステージ装置が適用される例示的な露光装置の構成を示す概略構成図である。
露光装置は 図１に示すように、照明系ユニット１、基板の一例のレチクル６を搭載したレチクルステージ２、縮小投影レンズ３、及び、感光基板であるウェハ４Ａを搭載したウェハステージ４を有する。
露光装置は、レチクル６に形成された回路パターンをウェハ４Ａに投影露光するものであり、ステップアンドリピート投影露光方式、又は、ステップアンドスキャン投影露光方式であってもよい。
一方、照明系ユニット１は、露光光を光源から導出し、成形均一な露光光を照射する。
即ち、照明系ユニット１は、回路パターンが形成されたレチクル６を照明するものであり、成形均一な露光光を照射するための光源部と照明光学系とを有する。

光源部は、例えば、光源としてレーザを使用する。レーザは、波長約１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザ、波長約２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザ、波長約１５３ｎｍのＦ２エキシマレーザ等を使用することができる。
ただし、レーザの種類はエキシマレーザに限定されず、例えば、ＹＡＧレーザを使用してもよく、そのレーザの個数も特段の限定はない。
光源にレーザが使用される場合、レーザ光源からの平行光束を整形する光束整形光学系、コヒーレントなレーザ光束をインコヒーレント化するインコヒーレント化光学系を使用することが好ましい。
また、光源部に使用可能な光源はレーザに限定されるものではなく、一又は複数の水銀ランプやキセノンランプ等のランプも使用可能である。
照明光学系は、レチクル又はマスクを照明する光学系であり、レンズ、ミラー、ライトインテグレーター、絞り等を含む。

縮小投影レンズ３は、原版であるレチクル６上のパターンを、シリコン基板より成るウェハ４Ａ上に縮小投影する。
縮小投影レンズ３には、複数のレンズ素子のみからなる光学系、複数のレンズ素子を少なくとも一枚の凹面鏡とを有する光学系（カタディオプトリック光学系）等を使用することができる。
さらに、縮小投影レンズ３には、複数のレンズ素子と少なくとも一枚のキノフォーム等の回折光学素子とを有する光学系、全ミラー型の光学系等を使用することができる。

レチクルステージ２は、露光原版であるレチクル６を搭載し、露光光に対してレチクル６をスキャン露光させる。
ウェハステージ４は、シリコン基板であるウェハ４Ａを搭載し、レチクルステージ２と同期して、露光光に対してスキャン移動露光する。
レチクルステージ２及びウェハステージ４は、例えばリニアモータによって移動可能である。ステップアンドスキャン投影露光方式の場合には、それぞれのステージ２，４は同期して移動する。
なお、図２に示されるようにレチクルステージ２は、１枚平板状のリニアモータ固定子２ａとリニアモータ固定子２ａを移動可能に包囲する包囲板状のリニアモータ可動子２ｂとを用いるという構成がある。
また、図３、図４に示されるようにレチクルステージ２は、２枚平行平板状のリニアモータ固定子２ｃとリニアモータ固定子２ａ内の空間に移動可能に位置する１枚平板状のリニアモータ可動子２ｄとを用いるという構成がある。
一方、露光装置本体５は、レチクルステージ２、縮小投影レンズ３、及びウェハステージ４等を支持する。

図３は、レチクルステージ２の構成例を説明する説明図であり、図４（ａ）は、図３に示すレチクルステージ２の上面図であり、図４（ｂ）は、図３に示すレチクルステージ２の要部説明図である。
図３に示されるようにレチクルステージ２は、一例として縮小投影レンズ３の上方の位置にあり、縮小投影レンズ３の下方にはウェハステージ４が位置する。
ただし反射ミラー等を用いることで他の配置構成を用いることは任意である。
レチクル保持手段７は、図３及び図４（ａ）に示すように、左右にリニアモータ可動子２ｄを有する移動ステージ２１上で、保持するレチクル６の駆動方向１００の重心位置の直線を通る前後２点の位置に相当する位置に設けられている。
レチクル保持手段７は、負圧を発生して移動ステージ２１上にレチクル６を吸着保持し、かつレチクル６の移動ステージ２１に対する位置決めを安定して保持する。レチクル保持手段７の吸引口形状はＸ方向横長等任意である。

図４（ａ）に示されるように自重及び振動補償機構の一部である気体軸受８は、左右にリニアモータ可動子２ｄを有する平板状の移動ステージ２１で、レチクル６を保持する上面の４隅の位置に設けられる。この構成により、レチクル６の自重を補償する。
気体軸受８は、レチクル６の底面やその他の部材に非接触である非接触式気体ばねである。
なお、実施例１では、図４（ａ）に示されるように４点の気体軸受８の各々の位置は、レチクルステージ２の移動ステージ２１上において、搭載する際のレチクル６の４隅の４点の位置付近に一致する位置である。
また、図４（ａ）に示すスリット露光光９は、リニアモータの駆動で移動したレチクル６上の原版パターンに対してスリット状の露光光を透過させる露光光である。

本発明のステージ装置は、基板であるレチクル６を保持して移動するステージを有する。
前記ステージは、一つには例えば１軸駆動の左右のリニアモータの可動子としての移動ステージ２１であり、１軸方向に任意に移動可能である。また、ＸＹ方向の２軸方向に移動可能なステージに適用してもよい。

本発明のステージ装置は、前記ステージの第１の駆動方向１００及び前記第１の駆動方向１００とは逆の第２の駆動方向に平行な基板の重心を通過する直線上に前記基板を保持する第１及び第２の保持装置を有する。
即ち、前記基板の重心を通過する直線上に前記基板であるレチクル６の重心を挟んで前記ステージ上に一対設けられ、前記基板を保持する第１及び第２の保持装置を有する。
第１の駆動方向１００はＹ方向の正方向であり、第２の駆動方向はＹ方向の反対方向であり、互いに逆向きである。
第１及び第２の保持装置は、真空吸着力保持手段、静電吸着力保持手段あるいは機械的保持手段により前記基板を保持する。第１及び第２の保持装置は、例えばレチクル保持手段７、真空吸着保持手段７Ａ，７Ｂがその一例である。

本発明のステージ装置は、前記ステージが第１の駆動方向１００に移動する時に第１の保持装置の一例としての一方の真空吸着保持手段７Ａにより前記基板であるレチクル６を保持して移動する。
また、本発明のステージ装置は、前記ステージが第２の駆動方向に移動する時に第２の保持装置の一例としてのもう一方の真空吸着保持手段７Ｂにより基板であるレチクル６を保持して移動する。

さらに、本発明のステージ装置は、前記ステージが第１及び第２の駆動方向を変える際、前記ステージの移動速度が零となるタイミングで第２の保持装置による保持が完了するまで第１の保持装置による保持を開放しない。
あるいは、第１の保持装置による保持が完了するまで第２の保持装置による保持を開放しないことで、前記ステージと基板との間の相対位置ずれを生じさせない。
このことにより、本発明のステージ装置は、第１及び第２の保持装置としての例えばレチクル保持手段７、真空吸着保持手段７Ａ，７Ｂによるレチクル６の保持位置の変更時間を最小とする。

さらに、本発明のステージ装置は、前記ステージが前記基板を保持した時に前記基板の４隅に対応する前記ステージ上の位置に設けられ、前記基板面に垂直方向に力を付与する自重及び振動補償機構を備える。
即ち、前記基板面に垂直方向に力を付与し、前記基板の自重及び自励振動によるモーメントが前記第１及び第２の保持装置に与える負荷を軽減する自重及び振動補償機構を備える。
前記自重及び振動補償機構は、前記基板であるレチクル６の底面に垂直方向（Ｚ方向）に力を付与する非接触式気体ばねである気体軸受８と、前記気体軸受８と前記ステージ間に介在される緩衝部８ａとを有する。

以上の本発明のステージ装置のより具体的な構成を図５を参照して説明する。図５（ａ）は、本発明の実施例１のステージ装置のより具体的な構成を説明する説明図である。
ここで、レチクル保持手段７は、Ｚ方向に駆動可能である＋Ｙ方向用Ｚ駆動真空吸着保持手段７Ａ、及び、−Ｙ方向用Ｚ駆動真空吸着保持手段７Ｂとして構成されている。以下、双方を真空吸着保持手段７Ａ、７Ｂと称す。
真空吸着保持手段７Ａ、７Ｂは、レチクル６の重心を通りステージ駆動方向１００と並行な直線上において、図５（ａ）に示すように、その重心を挟むようにレチクル６の一対の外周近くの２点の位置に設置されている。

また、ステージ装置は真空吸着保持手段７Ａ、７ＢをＺ方向に駆動する駆動手段を備える。この駆動手段として、たとえばピエゾアクチュエータや電磁力を利用したアクチュエータ等が用いられる。
一方、自重及び振動補償機構は、前記基板としてのレチクル６底面に垂直方向に力を付与する非接触式気体ばねである気体軸受８と、気体軸受８とステージ間に介在される緩衝部８ａとを有する。
緩衝部８ａは、例えばコイルバネ状の部材、若しくはリング等を有して緩衝の作用のある任意の部材から構成されている。

気体軸受８と緩衝部８ａを有する機構は、レチクルステージ２の移動ステージ２１上において、移動ステージ２１上に搭載されるレチクル６の４隅付近の位置に相当する各位置に配置されている。
各気体軸受８は、レチクル６面に垂直方向であるＺ方向に力を付与し、レチクル６の自重及び自励振動によるモーメントが真空吸着保持手段７Ａ、７Ｂに与える負荷を軽減する。
即ち、各気体軸受８は、周囲に非接触であるため、各々Ｚ方向のみに力を作用することでレチクル６の自重を補償する。各気体軸受８は、レチクル６の４隅付近の位置に対応するため、レチクル６の自重補償の安定性が高い。

以上の構成のステージ装置は、移動ステージ２１が正方向であるＹ方向に移動する際は、駆動方向１００の真空吸着保持手段７Ａによりレチクル６を吸引し吸着保持する。
その際、真空吸着保持手段７Ｂは、Ｚ方向の反対方向に非吸着時の位置に退避した状態をとって吸引を止めている。
ステージが駆動方向１００をＹ方向の反対方向に切り替える際は、真空吸着保持手段７Ｂが吸着位置に上昇して吸引を始め、レチクル６を吸着保持する。
真空吸着保持手段７Ｂが吸着完了したと同時に真空吸着保持手段７Ａは吸着を解除し、非吸着時の位置に退避する。

ただし、真空吸着保持手段７Ａ、７Ｂ、及び、自重及び振動補償機構は、慣性力及び慣性モーメントに勝る摩擦力が得られる程度の保持力が生成できる範囲でレチクル６の保持領域の面積を小さくすることも好ましい。
また、レチクル６垂直面内周りのモーメントに対しては、自重及び振動補償機構を備え、真空吸着保持手段７Ａ、７Ｂと離れた位置でレチクル６底面に垂直な方向のみに力を与えるとよい。

レチクル６面内周りのモーメントを零にするには、レチクル６の重心を通りステージ駆動方向１００と並行な直線上の点に真空吸着保持手段７Ａ、７Ｂを設けることが好ましい。
また、レチクル６の重心を後方から押し出すより、前方に引張る方が、レチクル６の重心と保持位置とのわずかなずれによる慣性モーメントに対し、レチクル６の姿勢安定性はロバストとなる。
このため、レチクル６重心から駆動方向１００側の点に真空吸着保持手段７Ａ又は、７Ｂを設ける方がよい。特にレチクル６の重心から遠い最外周付近に真空吸着保持手段７Ａ又は７Ｂを設けるとなおよい。

また、移動ステージ２１が駆動方向１００を変える際、拘束点を変える必要があるが、その間の位置ずれ及びむだなステージ停止時間を生じる懸念がある。
しかし、この点に関しては、ステージ速度が零となる前後微小時間内で次の真空吸着保持手段７Ａ又は７Ｂの保持位置での保持が完了するまで真空吸着保持手段７Ａ又は７Ｂの現保持を維持することで防止できる。
なお、実施例１では、本発明のステージ装置をレチクルステージ２に適用した場合を説明したがウェハステージ４に適用してもよい。

以上本発明の実施例１では、レチクル６の重心を通りステージ駆動方向１００と並行な直線上において、レチクル６の互いに対向する外周近くの２点の位置に相当するステージ上の位置に真空吸着保持手段７Ａ、７Ｂを個々に設置する。
このため、レチクル６１を真空吸引保持する際の保持精度は、保持手段の面形状、レチクルステージ形状、レチクル形状等から受ける影響を低減することが可能となった。
即ち、移動時は１点保持であるため、保持時にレチクル６と移動ステージ２１の双方にとって過拘束となる部位が生じることがなくなり、レチクル６が弾性変形した状態に拘束されるという現象を改善することが可能となった。

このため、実施例１では、保持手段の接触面内差等がなく、レチクルステージ２の加減速を繰り返しても、レチクル６と移動ステージ２１間に不可逆な相対位置ずれが発生するおそれをなくすことが可能となった。
したがって、実施例１では、上記の構成により、ステージ移動時の移動ステージ２１とレチクル６の相対的な位置ずれを防止することができ、半導体露光装置におけるアライメント精度の安定性を増すことができる。
また、ステージ駆動熱や露光熱の蓄積により、レチクル６が仮に熱膨張するとしても、真空吸着保持手段７Ａ又は７Ｂの１点拘束であり熱応力が発生しないため、レチクル６等は拘束点を中心に熱量に応じた可逆的な変形を示す。

このため、仮に可逆的な変形が生じても本発明のステージ装置を用いる露光装置の露光処理時には、レチクル６の蓄熱量に応じた露光光の倍率補正を高精度に行うことができ、高い露光精度を安定して保つことができる。
また、ステージの蓄熱等の相対変形を許容できるため、アライメント精度を悪化させることなく、より軽量なステージ設計が可能となり、ステージ駆動に要するエネルギーの低減、さらにはステージの高加速度化が可能となる。
さらに、従来のような保持面積が大きい保持機構では、各保持面の面精度が厳しく要求されたが、真空吸着保持手段７Ａ又は７Ｂを用いて保持面積が小面積になる分、加工コストを低減することが可能となる。

次に、本発明の実施例２を説明する。
実施例２のステージ装置の要点は、前記自重及び振動補償機構が、レチクル６に垂直方向に接触し前記垂直方向に前記力を付与する鋼球８ｂと、前記鋼球８ｂを前記ステージ上に支持する緩衝部８ａとから構成される点にある。
図５（ｂ）は、本発明の実施例２のステージ装置の重点の具体的な構成を説明する説明図である。なお、図５（ｂ）中で図５（ａ）と同じ符号は、同一の構成要素を示す。

実施例２の場合、各自重及び振動補償機構の一部を構成する各気体軸受８の代りに、レチクル６に垂直方向に接触し、垂直方向であるＺ方向に力を付与する鋼球８ｂをその各々の位置において用いる。
ただし、各鋼球８ｂは、例えばその外周を適度に覆うジョイント等を用いて各緩衝部８ａに対し任意に回転可能であってもよく、あるいは各緩衝部８ａに対し固定した状態であってもよい。
実施例２のステージ装置のその他の構成及び動作方法は実施例１の場合と同様であり、詳しい説明は省略する。
実施例２の場合も、実施例１で説明した効果と同様の効果を得ることができる。なお、実施例２の場合も、本発明のステージ装置をレチクルステージ２に適用した場合を例示するがウェハステージ４に適用してもよい。

次に、図６及び図７を参照して、上述の露光装置を利用したデバイス製造方法の実施例を説明する。
図７は、デバイス（ＩＣやＬＳＩなどの半導体チップ、ＬＣＤ、ＣＣＤ等）の製造を説明するためのフローチャートである。ここでは、半導体チップの製造方法を例に説明する。
ステップＳ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行う。
ステップＳ２（マスク製作）では設計した回路パターンに基づいてマスクを製作する。なお、ここではレチクルを製作してもよい。
ステップＳ３（ウェハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウェハを製造する。
ステップＳ４（ウェハプロセス）は前工程と呼ばれ、マスク又はレチクルとウェハを用いて、上記の露光装置によりリソグラフィ技術を利用してウェハ上に実際の回路を形成する。
ステップＳ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップＳ４によって作製されたウェハを用いて半導体チップ化する工程である。
この工程にはアッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組み立て工程を含む。
ステップＳ６（検査）ではステップＳ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。
こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、それが出荷（ステップＳ７）される。

図７は、ステップ４のウェハプロセスの詳細なフローチャートである。
ステップＳ１１（酸化）ではウェハの表面を酸化させる。
ステップＳ１２（ＣＶＤ）ではウェハの表面に絶縁膜を形成する。
ステップＳ１３（電極形成）ではウェハに電極を形成する。
ステップＳ１４（イオン打ち込み）ではウェハにイオンを打ち込む。
ステップＳ１５（レジスト処理）ではウェハに感光剤を塗布する。
ステップＳ１６（露光）では上記の露光装置によってマスク又はレチクルの回路パターンをウェハに露光する。
ステップＳ１７（現像）では露光したウェハを現像する。
ステップＳ１８（エッチング）では現像したレジスト像以外の部分を削り取る。
ステップＳ１９（レジスト剥離）では、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。
これらのステップを繰り返し行うことによってウェハ上に多重に回路パターンが形成される。このデバイス製造方法では、上記の露光装置を用いるため、露光精度の信頼性が高く、より信頼性の高いデバイスを製造できる。

本発明の実施例１のステージ装置が適用される例示的な露光装置の構成を示す概略構成図である。 本発明の実施例１のレチクルステージの一つの構成例を示す斜視図である。 本発明の実施例１のレチクルステージの他の構成例、及び縮小投影レンズ、ウェハステージとの配置関係の例を説明する説明図である。 図４（ａ）は、本発明の実施例１のレチクルステージの構成を示す上面図である。 図４（ｂ）は、本発明の実施例１のレチクルステージの構成を示す側面図である。 図５（ａ）は、本発明の実施例１のレチクルステージの要部構成を説明する説明図である。 図５（ｂ）は、本発明の実施例２のレチクルステージの要部構成を説明する説明図である。 本発明の露光装置を使用したデバイス製造方法を説明するためのフローチャートである。 図６に示すフローチャートのステップ４のウェハプロセスの詳細なフローチャートである。 従来のレチクルステージの構成例、及び縮小投影レンズ、ウェハステージとの配置関係を説明する説明図である。 図９（ａ）は、従来のレチクルステージの構成を示す上面図である。 図９（ｂ）は、従来のレチクルステージの構成を示す側面図である。

符号の説明

１ 照明系ユニット
２ レチクルステージ
２ａ，２ｃ リニアモータ固定子
２ｂ，２ｄ リニアモータ可動子
３ 縮小投影レンズ
４ ウェハステージ
４Ａ ウェハ
５ 露光装置本体
６ レチクル
７ レチクルクランプ
７Ａ Ｙ方向用Z駆動真空吸着クランプ
７Ｂ Ｙ方向用Z駆動真空吸着クランプ
８ 気体軸受
８ａ 緩衝部
８ｂ 鋼球
９ スリット露光光
２１ 移動ステージ
６１ レチクル
６１Ａ スリット露光光
６２ レチクルステージ
６３ レチクルクランプ
６３Ａ レチクルクランプパッド
６４ 縮小投影レンズ
６５ ウェハ
６６ ウェハステージ

Claims (8)

1. 基板を保持して移動するステージと、
   前記ステージの第１の駆動方向に平行な前記基板の重心を通過する直線上で、前記基板の重心を挟んで前記ステージ上に一対に設けられ、前記基板を保持する第１及び第２の保持装置と、を有し、
   前記ステージが前記第１の駆動方向に移動する時に前記第１の保持装置により前記基板を保持して移動し、前記ステージが前記第１の駆動方向とは逆の第２の駆動方向に移動する時に前記第２の保持装置により前記基板を保持して移動することを特徴とするステージ装置。
2. 前記第１及び第２の保持装置は、真空吸着力保持手段、静電吸着力保持手段あるいは機械的保持手段により前記基板を保持することを特徴とした請求項１記載のステージ装置。
3. 前記ステージが前記第１及び第２の駆動方向を変える際、前記第１または第２のうちいずれか一方の保持装置による保持が完了するまで、他方の保持装置による保持を開放しないことを特徴とする請求項１又は２記載のステージ装置。
4. 前記基板の４隅に対応する前記ステージ上の位置に設けられ、前記ステージが前記基板を保持した時に前記基板面に垂直方向に力を付与し、前記基板の自重及び自励振動によるモーメントが前記第１及び第２の保持装置に与える負荷を軽減する自重及び振動補償機構を備える請求項１から３のいずれかに記載のステージ装置。
5. 前記自重及び振動補償機構は、前記基板面に垂直方向に力を付与する気体軸受と、
   前記気体軸受と前記ステージ間に介在される緩衝部と、を有することを特徴とした請求項４記載のステージ装置。
6. 前記自重及び振動補償機構は、前記基板に垂直方向に接触し、前記垂直方向に前記力を付与する鋼球と、
   前記鋼球を前記ステージ上に支持する緩衝部と、を有することを特徴とした請求項４記載のステージ装置。
7. 請求項１から６のいずれかに記載のステージ装置と、露光手段と、を有し、
   前記基板がレチクルであり、前記レチクルを通して前記露光手段が前記レチクルに描かれたパターンを感光基板に露光することを特徴とする露光装置。
8. 請求項７記載の露光装置を用いてウェハを露光する工程と、
   前記ウェハを現像する工程とを備えることを特徴とするデバイス製造方法。

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