JP2008158204A - 反射防止膜、賦型用型およびこれらの製造方法、ならびにこの反射防止膜を有する光学部材 - Google Patents

Abstract

【課題】反射防止性を有しかつ汚染物質の付着による反射防止性の低下が抑制された反射防止膜、ならびにこの反射防止膜を容易かつ低コストで量産する。
【解決手段】算術平均粗さ（Ｒａ）が１μｍ〜３０μｍの凹凸を有する反射防止膜。凹状の二次表面形状：相互に連結されていてもよい凹状の基本形状からなり、前記基本形状が、平均深さ３０ｎｍ〜２００ｎｍかつ平均直径８０ｎｍ〜４００ｎｍであり、前記基本形状の前記反射防止面における配置が実質的に不規則である表面形状。凸状の二次表面形状：相互に連結されていてもよい凸状の基本形状からなり、前記基本形状が、平均高さ３０ｎｍ〜２００ｎｍかつ平均直径８０ｎｍ〜４００ｎｍであり、前記基本形状の前記反射防止面における配置が実質的に不規則である表面形状。
【選択図】図１

Description

本発明は、反射防止膜、賦型用型およびこれらの製造方法、ならびにこの反射防止膜を有する光学部材に関するものである。

交互吸着法を用いて数十〜数百ｎｍ程度の直径の微粒子を透明基材の表面に付着させ、表面に微細な凹凸が形成された反射防止材を得る技術については、本出願人が出願し、既に公知である（特許文献１：特開２００２−６１２６号公報）。
特開２００２−６１２６号公報

上記特許文献１に記載された技術は、優れた反射防止性を有する反射防止材を得ることができる点で好ましいものであり、そして、特許文献２および３に記載された技術は、そのような優れた反射防止性を有する反射防止材を容易かつ効率的に製造することができる点で好ましいものである。

上記の反射防止材は、主として、表面に存在する微細な凹凸形状によって反射防止性がもたらされているものである。このことから、反射防止材の表面に汚染物資が付着した場合、その付着面における微細な凹凸形状が変化あるいは消失して、その優れた反射防止性が低下したり反射防止性の均一性が損なわれる場合があった。

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、複数の表面形状が複合した所定の反射防止面を形成することによって、優れた反射防止性を有するとともに反射防止性の変化や不均一化が抑制された反射防止膜、およびこの反射防止膜を効率的に製造する方法を提供するものである。

本発明による第一の反射防止膜は、算術平均粗さ（Ｒａ）が１μｍ〜３０μｍの凹凸を有する一次表面形状と、この一次表面形状上に形成された下記の凹状の二次表面形状とが複合した輪郭形状の反射防止面を表面に有することを特徴とするもの、である。

凹状の二次表面形状：相互に連結されていてもよい凹状の基本形状からなり、前記基本形状が、平均深さ３０ｎｍ〜２００ｎｍかつ平均直径８０ｎｍ〜４００ｎｍであり、前記基本形状の前記反射防止面における配置が実質的に不規則である表面形状。

そして、本発明による第二の反射防止膜は、算術平均粗さ（Ｒａ）が１μｍ〜３０μｍの凹凸を有する一次表面形状と、この一次表面形状上に形成された下記の凸状の二次表面形状とが複合した輪郭形状の反射防止面を表面に有することを特徴とするもの、である。

凸状の二次表面形状：相互に連結されていてもよい凸状の基本形状からなり、前記基本形状が、平均高さ３０ｎｍ〜２００ｎｍかつ平均直径８０ｎｍ〜４００ｎｍであり、前記基本形状の前記反射防止面における配置が実質的に不規則である表面形状。

上記の本発明による第一の反射防止膜および第二の反射防止膜は、好ましい態様として、前記の一次表面形状が、隣接する凸間の平均間隔（Ｓｍ）が３μｍ〜２００μｍのもの、を包含する。

そして、本発明による反射防止材は、基材と、上記いずれかの反射防止膜とからなることを特徴とするもの、である。

また、本発明による第一の賦型用型は、算術平均粗さ（Ｒａ）が１μｍ〜３０μｍの凹凸を有する一次表面形状と、この一次表面形状上に形成された下記の凸状の二次表面形状とが複合した輪郭形状を賦型表面に有することを特徴とするもの、である。

凸状の二次表面形状：相互に連結されていてもよい凸状の基本形状からなり、前記基本形状が、平均高さ３０ｎｍ〜２００ｎｍかつ平均直径８０ｎｍ〜４００ｎｍであり、前記基本形状の前記反射防止面における配置が実質的に不規則である表面形状。

このような本発明による第一の賦型用型は、好ましい態様として、ローラ状形態の賦型用型を包含する。

また、本発明による第二の賦型用型は、算術平均粗さ（Ｒａ）が１μｍ〜３０μｍの凹凸を有する一次表面形状と、この一次表面形状上に形成された下記の凹状の二次表面形状とが複合した輪郭形状を賦型表面に有することを特徴とするもの、である。

凹状の二次表面形状：相互に連結されていてもよい凹状の基本形状からなり、前記基本形状が、平均深さ３０ｎｍ〜２００ｎｍかつ平均直径８０ｎｍ〜４００ｎｍであり、前記基本形状の前記反射防止面における配置が実質的に不規則である表面形状。

このような本発明による第二の賦型用型は、好ましい態様として、フィルム状形態の賦型用型を包含する。

そして、本発明によるローラ状形態の賦型用型の製造方法は、前記の一次表面形状を有するローラ周面に、交互吸着法を用いて下地層を形成し、次いで、前記下地層上に微粒子を固定化することによって、ローラ周面上に、前記の一次表面形状と前記の二次表面形状とが複合した輪郭形状を形成させる工程を含むことを特徴とするもの、である。

そして、本発明によるフィルム状形態の賦型用型の製造方法は、フィルム基材と上記のローラ状形態の賦型用型との間に、賦型可能な硬化性樹脂組成物を適用し、この賦型可能な硬化性樹脂組成物を前記のローラ状形態の賦型用型によって賦型し、さらに、前記の硬化性樹脂組成物の賦型物を硬化させる工程を含むことを特徴とするもの、である。

また、本発明による第一の反射防止膜の製造方法は、フィルム基材と上記のローラ状形態の賦型用型との間に、賦型可能な硬化性樹脂組成物を適用し、この賦型可能な硬化性樹脂組成物を前記のローラ状形態の賦型材によって賦型し、さらに、前記の硬化性樹脂組成物の賦型物を硬化させる工程を含むことを特徴とするもの、である。

また、本発明による第二の反射防止膜の製造方法は、フィルム基材と上記のフィルム状形態の賦型用型との間に、賦型可能な硬化性樹脂組成物を適用し、この賦型可能な硬化性樹脂組成物を前記のフィルム状形態の賦型用型によって賦型し、さらに、前記の硬化性樹脂組成物の賦型物を硬化させる工程を含むことを特徴とするもの、である。

さらに、本発明による光学部材は、上記のいずれかの反射防止膜を有することを特徴とするもの、である。

本発明による反射防止膜は、算術平均粗さ（Ｒａ）が１μｍ〜３０μｍの凹凸を有する一次表面形状と、この一次表面形状上に形成された微細な所定の凹状または凸状の二次表面形状とが複合した輪郭形状の反射防止面を表面に有するものであることから、優れた反射防止性を示すものである。

このような本発明による反射防止膜は、顕微鏡程度の微視的観察によればその凹部また凸部の配置が実質的に不規則であると同時に、肉眼による巨視的観察によれば前記凸部または凹部の配置が実質的に均一であって、そしてこの凹部また凸部が特定Ｒａの一次表面形状上に形成されていることから、反射防止特性のレベルおよびその均質度において特に優れたものである。そして、各種の汚染物質（例えば、人の指との接触による汚れや、大気中の汚染物質等）が付着しても、反射防止特性の低下が抑制されたものである。

このような優れた反射防止性は、主として、（イ）一次表面形状の基づく反射防止性と、（ロ）凹状の二次表面形状に基づく反射防止性と、（ハ）一次表面形状と凹状の二次表面形状とが複合した輪郭形状に基づく反射防止性との、相乗的な作用・効果によるものと考えられる。特に、（ハ）一次表面形状と凹状の二次表面形状とが複合した輪郭形状であることにより、二次元ないし三次元的に、凹状の基本形状の開口向きが一次表面形状に基づいて多方向に分散されること、および凹状の基本形状の開口位置が一次表面形状に基づいて分散配置されること、ならびに凹状の基本形状の開口向きおよび存在位置が一次表面形状に基づいて連続的に変化していることによる、反射防止性向上効果によるものと考えられる。

一方、本発明において反射防止特性の低下が抑制されるのは、反射防止面に汚染物質が付着して表面の微細な凹状の基本形状に基づく反射防止機能が低下したとしても、一次表面形状に基づく反射防止機能については汚染物質が付着後においても依然として高レベルに維持されることから、反射防止膜全体としての反射防止性低下が抑制されることによるものと考えられる。

上記の本発明による反射防止膜を有する光学部材は、光反射が有効に防止されて、例えばディスプレイ装置のような情報表示のための光学部材の場合にはその視認性が向上し、また、太陽電池パネルのような受光用光学部材の場合には光利用効率が向上する。

このような本発明による反射防止膜は、所定の賦型用型から容易に製造することができる。即ち、前記の所定の反射防止面を形成可能な賦型用型を用意し、この賦型用型を用いることによって、特定の反射防止面を有する光学部材を多数複製することができる。このような方法によれば、単一の複製用型から実質的に同一形状の反射防止構造を有する光学部材を製造することができる。

よって、製品ごとにコーティングや蒸着あるいは回折格子を作製する方法に比べて、極めて安定して、容易かつ低コストで所定の反射防止構造を有する光学部材を製造することができる。

さらに、本発明では、特定の輪郭形状をローラ周面上に形成させ、このローラ周面上の輪郭形状を利用して目的とする反射防止膜を得ていることから、大きな表面積を有する平面上に輪郭形状を形成させる場合に比較して、精密な輪郭形状を反射防止面の全面にわたって均一に形成させることが容易である。

＜反射防止膜（第一の反射防止膜）＞
本発明による第一の反射防止膜は、所定の一次表面形状と所定の凹状の二次表面形状とが複合した輪郭形状の反射防止面を表面に有する反射防止膜であって、具体的には、
算術平均粗さ（Ｒａ）が１μｍ〜３０μｍの凹凸を有する一次表面形状と、この一次表面形状上に形成された下記の凹状の二次表面形状とが複合した輪郭形状の反射防止面を表面に有する反射防止膜である。

凹状の二次表面形状：相互に連結されていてもよい凹状の基本形状からなり、前記基本形状が、平均深さ３０ｎｍ〜２００ｎｍかつ平均直径８０ｎｍ〜４００ｎｍであり、前記基本形状の前記反射防止面における配置が実質的に不規則である表面形状。

図１は、このような本発明による第一の反射防止膜の断面を模式的に示すものである。

本発明による第一の反射防止膜１０は、図１に示されるように、凹凸の大きさおよび隣接する凸部間の距離Ｚの両方が相対的に大きい一次表面形状１１と、この一次表面形状１１上に形成された凹状の二次表面形状１２とが複合した輪郭形状を表面に有するものとして、捉えることができる。この第一の反射防止膜１０は、透明性材料、好ましくは透明性樹脂材料、特に好ましくは透明性の紫外線硬化型樹脂材料によって形成することができる。

なお、第一の反射防止膜１０の反射防止面が形成されていない面には、必要に応じて、基材１３が形成されていてもよい。

前記の凹状の二次表面形状１２は、凹状の基本形状からなり、そして、この凹状の基本形状は、前記の一次表面形状上に実質的に不規則に配置されている。図２は、本発明の凹部を構成する基本形状を模式的に示す図であって、図２（ａ）および（ｃ）は、基本形状を上面側から観察した場合の平面図であり、図２（ｂ）および（ｄ）、基本形状の側面を示す断面図である。これらの図２（ａ）〜（ｄ）には、基本形状が完全に独立した場合、複数の基本形状が連結して一塊になっている場合あるいは帯状になっている場合における、基本形状の直径および基本形状の深さＹが示されている。図２（ａ）〜（ｄ）における基準面が、本発明における一次表面形状に相当する。

本発明による反射防止膜の一次表面形状は、算術平均粗さ（Ｒａ）が１μｍ〜３０μｍ、好ましくは３μｍ〜２０μｍ、特に好ましくは５μｍ〜１０μｍ、の凹凸を有するものである。算術平均粗さ（Ｒａ）が１μｍ未満である場合には、アンチグレア効果不足で あり、一方３０μｍ超過の場合には、外光に対してのコントラスト低下が激しい点で好ましくない。

そして、本発明による反射防止膜の一次表面形状は、隣接する凹間の平均間隔（Ｓｍ）が３μｍ〜２００μｍ、特に３０μｍ〜１００μｍ、のものが好ましい。ここで、隣接する凸間の平均間隔（Ｓｍ）は、凸部のほぼ中央付近の存在する頂部と、それに隣接する他の凸部のほぼ中央付近の存在する頂部部との間の距離を意味する（図１中のＺ）。このＳｍは、例えば表面粗さ計等によって求めることができる。

本発明による反射防止膜の二次表面形状は、相互に連結されていてもよい凹状の基本形状からなり、前記基本形状が、平均深さ３０ｎｍ〜２００ｎｍかつ平均直径８０ｎｍ〜４００ｎｍであり、前記基本形状の前記反射防止面における配置が実質的に不規則である表面形状である。ここで、基本形状とは、前記平均深さならびに前記平均直径で規定される凹部の要素のことをいう。

ここで、実質的に不規則であるとは、凹部の基本形状が、計算された人為的な分布で基材表面に形成されているわけでは無く、また、凹部の基本形状が、マクロな光学特性を発現するほどの大きさで人為的にまたは自己組織化により回折格子状やフォトニック結晶状に分布しているわけでも無く、凹部の基本形状が実質的にランダムに基材表面に分布していることを指す。本発明の凹部の基本形状の実質的に不規則な配置の中には、マイクロメートルスケールで部分的に、かつ低頻度で数個から数十個の凹部の基本形状が、たまたま回折格子様やフォトニック結晶様に分布している場合があるが、それはマクロな光の回折効果やフォトニック結晶構造由来の光学的効果を示す程度の大きさよりはるかに小さい偶然の産物である。

この凹部を構成する基本形状は、各々が実質的に独立して凹部を形成する場合と、例えば帯のように、あるいは一塊に相互に実質的に連結して凹部を形成する場合がある。基本形状からなる要素が独立しているのか連結しているのかは、走査型電子顕微鏡により撮影された表面像と断面像から得られる要素間の形状から判定する。

基本形状の平均深さと平均直径は、表面粗さ計やプローブ顕微鏡や顕微干渉計などを用いて求めることができるが、実際の形状をより正しく反映すると考えられることから走査型電子顕微鏡を用いて求めるのが好ましい。平均深さと平均直径は共に算術平均（相加平均）値であり、最低３つの基本形状を各１回ずつ測定する必要があり、基本形状の分布の度合いにもよるが、好ましくは５つ以上の基本形状を各１回以上測定して平均値を求めるとよく、より好ましくは２０以上の基本形状を各１回以上測定して平均値を求めることができる。

前記反射防止面を占める前記凹部の割合は、前記反射防止面の有効面積に対して、１０％〜９０％であることが好ましく、２５％〜７５％であることが特に好ましい。１０％未満である場合には凹部が少なすぎて十分な反射防止性が得られにくく、一方、９０％超過の場合には凹部が多すぎて反射防止膜としての機能が低下するので、好ましくない。前記基本形状の平均深さ３０ｎｍ未満の場合には凹部の高さが小さすぎて実質的に反射防止構造として機能せず、一方２００ｎｍ超過の場合、凹部の深さが大きすぎて不要な光散乱性を発現することから好ましくない。平均直径が８０ｎｍ未満の場合には凹部の直径が小さすぎて反射防止能が不十分であり、一方、４００ｎｍ超過の場合には凹部の直径が大きすぎて不要な光散乱性を発現することから好ましくない。前記平均深さを前記平均直径で割った値は、好ましくは０．０７５〜２．５、特に好ましくは０．２〜１．８の範囲である。この値が０．０７５未満の場合には反射防止構造としての機能が不十分であり、一方、製造上理由から２．５超過のものを作ることは難しい。

また、この凹部は大きさがそろっていること、即ち前記凹部の直径の頻度分布が狭いこと、が好ましい。従って、この凹部は、直径の頻度分布が、頻度が最も高い凹部との直径の差が７５ｎｍ以内である凹部の個数が、頻度が最も高い凹部との直径の差が３００ｎｍ以内である凹部の個数の７０％以上、特に８０％以上、の狭いものであることが好ましい。

そして、前記凹部の総数に対する、相互に連結されていない前記凹部の割合が、１０％以上、特に２０％以上、であることが好ましい。

このような反射防止構造は、顕微鏡程度の微視的観察によればその凹部の配置が実質的に不規則であると同時に、肉眼による巨視的観察によれば前記凹部の配置が実質的に均一であることから、反射防止特性のレベルおよびその均質度において特に優れたものである。

＜反射防止膜（第二の反射防止膜）＞
また、本発明による第二の反射防止膜は、所定の一次表面形状と所定の凸状の二次表面形状とが複合した輪郭形状の反射防止面を表面に有する反射防止膜であって、具体的には、
算術平均粗さ（Ｒａ）が１μｍ〜３０μｍの凹凸を有する一次表面形状と、この一次表面形状上に形成された下記の凸状の二次表面形状とが複合した輪郭形状の反射防止面を表面に有する反射防止膜である。

凸状の二次表面形状：相互に連結されていてもよい凹状の基本形状からなり、前記基本形状が、平均高さ３０ｎｍ〜２００ｎｍかつ平均直径８０ｎｍ〜４００ｎｍであり、前記基本形状の前記反射防止面における配置が実質的に不規則である表面形状。

図３は、このような本発明による第一の反射防止膜の断面を模式的に示すものである。

本発明による第二の反射防止膜２０は、図３に示されるように、凹凸の大きさおよび隣接する凸部間の距離Ｚの両方が相対的に大きい一次表面形状２１と、この一次表面形状２１上に形成された凸状の二次表面形状２２とが複合した輪郭形状を表面に有するものとして、捉えることができる。

この第二の反射防止膜２０は、透明性材料、好ましくは透明性樹脂材料、特に好ましくは透明性の紫外線硬化型樹脂材料によって形成することができる。なお、第二の反射防止膜２０の反射防止面が形成されていない面には、必要に応じて、基材２３が形成されていてもよい。

この凸状の基本形状は、相互に連結されていてもよい。そして、この凸状の基本形状は、前記の一次表面形状上に実質的に不規則に配置されている。図４は、本発明の凸部を構成する基本形状を模式的に示す図であって、図４（ａ）および（ｃ）は、基本形状を上面側から観察した場合の平面図であり、図４（ｂ）および（ｄ）は、基本形状の側面を示す断面図である。これらの図４（ａ）〜（ｄ）には、基本形状が完全に独立した場合、複数の基本形状が連結して一塊になっている場合あるいは帯状になっている場合における、基本形状の直径おとび基本形状の深さＹが示されている。図４（ａ）〜（ｄ）における基準面が、本発明における一次表面形状に相当する。

本発明による反射防止膜の一次表面形状は、算術平均粗さ（Ｒａ）が１μｍ〜３０μｍ、好ましくは３μｍ〜２０μｍ、特に好ましくは５μｍ〜１０μｍ、の凹凸を有するものである。算術平均粗さ（Ｒａ）が１μｍ未満である場合には、アンチグレア効果不足であり、一方３０μｍ超過の場合には、外光に対してのコントラスト低下が激しい点で好ましくない。そして、本発明による反射防止膜の一次表面形状は、隣接する凸間の平均間隔（Ｓｍ）が３μｍ〜２００μｍ、特に３０μｍ〜１００μｍ、のものが好ましい。ここで、隣接する凸間の平均間隔（Ｓｍ）は、凸部のほぼ中央付近の存在する頂部と、それに隣接する他の頂部のほぼ中央付近の存在する頂部との間の距離を意味する（図２中のＺ）。このＳｍは、例えば表面粗さ計等によって求めることができる。

本発明による反射防止膜の二次表面形状は、相互に連結されていてもよい凸状の基本形状からなり、前記基本形状が、平均高さ３０ｎｍ〜２００ｎｍかつ平均直径８０ｎｍ〜４００ｎｍであり、前記基本形状の前記反射防止面における配置が実質的に不規則である表面形状である。ここで、基本形状とは、前記平均高さならびに前記平均直径で規定される凹部の要素のことをいう。

ここで、実質的に不規則であるとは、凸部の基本形状が、計算された人為的な分布で基材表面に形成されているわけでは無く、また、凸部の基本形状が、マクロな光学特性を発現するほどの大きさで人為的にまたは自己組織化により回折格子状やフォトニック結晶状に分布しているわけでも無く、凸部の基本形状が実質的にランダムに基材表面に分布していることを指す。本発明の凸部の基本形状の実質的に不規則な配置の中には、マイクロメートルスケールで部分的に、かつ低頻度で数個から数十個の凸部の基本形状が、たまたま回折格子様やフォトニック結晶様に分布している場合があるが、それはマクロな光の回折効果やフォトニック結晶構造由来の光学的効果を示す程度の大きさよりはるかに小さい偶然の産物である。

この凸部を構成する基本形状は、各々が実質的に独立して凸部を形成する場合と、例えば帯のように、あるいは一塊に相互に実質的に連結して凸部を形成する場合がある。基本形状からなる要素が独立しているのか連結しているのかは、走査型電子顕微鏡により撮影された表面像と断面像から得られる要素間の形状から判定する。

基本形状の平均高さと平均直径は、表面粗さ計やプローブ顕微鏡や顕微干渉計などを用いて求めることができるが、実際の形状をより正しく反映すると考えられることから走査型電子顕微鏡を用いて求めるのが好ましい。平均深さと平均直径は共に算術平均（相加平均）値であり、最低３つの基本形状を各１回ずつ測定する必要があり、基本形状の分布の度合いにもよるが、好ましくは５つ以上の基本形状を各１回以上測定して平均値を求めるとよく、より好ましくは２０以上の基本形状を各１回以上測定して平均値を求めることができる。

前記反射防止面を占める前記凸部の割合は、前記反射防止面の有効面積に対して、１０％〜９０％であることが好ましく、２５％〜７５％であることが特に好ましい。１０％未満である場合には凸部が少なすぎて十分な反射防止性が得られにくく、一方、９０％超過の場合には凸部が多すぎて反射防止膜としての機能が低下するので、好ましくない。前記基本形状の平均深さ３０ｎｍ未満の場合には凸部の高さが小さすぎて実質的に反射防止構造として機能せず、一方２００ｎｍ超過の場合、凸部の深さが大きすぎて不要な光散乱性を発現することから好ましくない。平均直径が８０ｎｍ未満の場合には凸部の直径が小さすぎて反射防止能が不十分であり、一方、４００ｎｍ超過の場合には凸部の直径が大きすぎて不要な光散乱性を発現することから好ましくない。前記平均深さを前記平均直径で割った値は、好ましくは０．０７５〜２．５、特に好ましくは０．２〜１．８の範囲である。この値が０．０７５未満の場合には反射防止構造としての機能が不十分であり、一方、製造上理由から２．５超過のものを作ることは難しい。

また、この凸部は大きさがそろっていること、即ち前記凸部の直径の頻度分布が狭いこと、が好ましい。従って、この凸部は、直径の頻度分布が、頻度が最も高い凹部との直径の差が７５ｎｍ以内である凸部の個数が、頻度が最も高い凸部との直径の差が３００ｎｍ以内である凸部の個数の７０％以上、特に８０％以上、の狭いものであることが好ましい。

そして、前記凸部の総数に対する、相互に連結されていない前記凸部の割合が、１０％以上、特に２０％以上、であることが好ましい。

このような反射防止構造は、顕微鏡程度の微視的観察によればその凸部の配置が実質的に不規則であると同時に、肉眼による巨視的観察によれば前記凸部の配置が実質的に均一であることから、反射防止特性のレベルおよびその均質度において特に優れたものである。

＜賦型用型＞
本発明による反射防止膜は、好ましくは所定の賦型用型を用い、これにより所定の反射防止面が得られるように樹脂組成物を賦型し、硬化を行うことによって、得ることができる。

上記の第一の反射防止膜を得る場合の賦型用型としては下記の第一の賦型用型が好ましく、上記の第二の反射防止膜を得る場合の賦型用型としては下記の第二の賦型用型が好ましい。

<<第一の賦型用型>>
本発明による第一の賦型用型は、算術平均粗さ（Ｒａ）が１μｍ〜３０μｍの凹凸を有する一次表面形状と、この一次表面形状上に形成された下記の凸状の二次表面形状とが複合した輪郭形状を賦型表面に有する賦型用型である。

凸状の二次表面形状：相互に連結されていてもよい凸状の基本形状からなり、前記基本形状が、平均高さ３０ｎｍ〜２００ｎｍかつ平均直径８０ｎｍ〜４００ｎｍであり、前記基本形状の前記反射防止面における配置が実質的に不規則である表面形状。

このような第一の賦型用型は、上記の第一の反射防止膜を得るための賦型用型として好ましいものであって、上記の第一の反射防止膜を賦型するのに適した形態、好ましくはローラ状形態、のものである。

<<ローラ状形態の賦型用型の製造方法>>
本発明によるローラ状形態の賦型用型の製造方法は、
前記の一次表面形状を有するローラ周面に、交互吸着法を用いて下地層を形成し、次いで、前記下地層上に微粒子を固定化することによって、ローラ周面上に、前記の一次表面形状と前記の二次表面形状とが複合した輪郭形状を形成させる工程を含むもの、である。

（１）一次表面形状を有するローラ周面
本発明では、各種材料からなるローラを用いることができる。このようなローラとしては、金属材料、例えばニッケル、銅等からなるものが好ましいが、無機材料、例えばガラス等や、各種の高分子化合物等の有機材料からなるものを用いることができる。

前記の一次表面形状を有するローラ周面を得る方法は任意であって、例えばローラの材質等に応じて適宜決定することができる。ローラが金属、好ましくはニッケル、銅である場合、そのローラ周面に前記の一次表面形状を形成させる好ましい方法としては、例えばサンドブラスト法、マット鍍金法および腐食法による方法等を挙げることができる。

以下に、本発明において採用可能な好ましいサンドブラスト法、マット鍍金法および腐食法について示す。

サンドドブラスト法：金属ロールにシリカ粒子を噴射し、ロール表面に物理的に凹凸を形成する。

マット鍍金法：金属ロール表面への鍍金工程で鍍金条件を調整することで表面を鏡面でなくマット面とする。

腐食法：金属ロールの表面を酸化力のある溶液に浸漬し、表面に凹凸を形成する。

（２）交互吸着法
下地層の形成は、交互吸着法を用いて行うことができる。ここで、交互吸着法とは、基材を正の電解質ポリマー水溶液と負の電解質ポリマー水溶液に交互に浸漬することによって、基板上に、正の電解質ポリマーからなる薄膜と負の電解質ポリマーからなる薄膜を交互に生成させることからなる方法をいう。このような交互吸着法では、通常、必要であれば浸漬に先立って表面に初期電荷を与えた基板を、正の電解質ポリマー水溶液と負の電解質ポリマー水溶液に交互に浸漬することにより、その浸漬回数に応じた層数の多層構造物が形成させることが可能になる。

正の電解質ポリマー水溶液に浸漬する回数および負の電解質ポリマー水溶液に浸漬する回数は、下地層としての要求性能および下地層の厚さ等に応じて適宜定めることができる。

ここで下地層としての要求性能とは、主に後述する微粒子を必要量付着させるだけの電荷を基材に付与する性能のことである。一般に、下地層の厚さが厚いほど、即ち電解質ポリマー水溶液への浸漬回数が多いほど、微粒子の付着量を多くすることができる傾向が見られる。

下地層の厚さは薄いほど、すなわち電解質ポリマーへの浸漬回数が少ないほど生産性の観点からは好ましい。しかし、経験上、吸着力が弱い微粒子を使用する場合は下地層は厚めが良いという傾向があることがわかっている。下地層の厚さを厚くするには浸漬回数を増やす方法以外に電解質ポリマー水溶液の水素イオン濃度やイオン強度を調整することによって浸漬一回あたりの膜厚を高める方法が知られている。

一般的に下地層の厚さは５０ｎｍ以下、特に３０ｎｍ以下が好ましい。また、正の電解質ポリマー水溶液の浸漬回数および負の電解質ポリマー水溶液の浸漬回数は、それぞれ、２０回以下、特に１０回以下が好ましい。

正の電解質ポリマーとしては、ポリアリルアミン塩酸塩、ポリピロール、ポリアニリン、ポリエチレンイミン、ポリリジン、ポリジアリルジメチルアンモニウムクロライド（ＰＤＤＡ）、ポリビニルピリジンおよびこれらのモノマー成分が含まれる共重合体等が好ましく、負の電解質ポリマーとしては、ポリアクリル酸、ポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）、ポリメタクリル酸およびこれらのモノマー成分が含まれる共重合体等が好ましい。

下地層をこのような交互吸着法によって形成した場合、この下地層と後述する微粒子との付着強度が向上するとともに、この下地層に対する微粒子の付着状況が反射防止構造として好ましいものにすることができる。例えば、電荷を持たせた微粒子を使用した場合には、下地層表面の電荷と微粒子の電荷との相互作用によりその付着強度が向上することが認められる。

なお、正負どちらか一方の電解質ポリマー水溶液に一度浸漬するだけで下地層として機能するポリマー吸着層が基材に形成される場合もある。実際、この場合が最も生産性が高いといえる。本発明では、このような一度の浸漬で済む場合も、便宜上、交互吸着法に含めている。

前記の一次表面形状を有するローラ周面に交互吸着法によって下地層を形成させる方法としては、下地層の形成に使用される電解質ポリマー水溶液に前記ローラのローラ周面の少なくとも一部を接触ないし浸漬した状態でローラをその軸を中心に回転させる方法が便利である。

（３）微粒子
本願発明において使用可能な微粒子（３）としては、例えば有機または無機の各種微粒子材料をすることができる。本発明では、好ましくはシリカ微粒子、（メタ）アクリル系高分子微粒子、スチレン系高分子微粒子、スチレン−ブタジエン系高分子微粒子等を使用することができる。ここで、「（メタ）アクリル」とは、「アクリル」および「メタクリル」の両者を意味する。この微粒子は、本発明による反射防止膜および賦型用型に形成される微細な基本形状の素になることから、その大きさおよび形状は、目的とする反射防止膜および原型に応じて決定することができる。基本形状の大きさがそろっている本発明による反射防止膜および賦型用型を得る場合には、粒径がそろった微粒子を使用することが好ましい。大きさが異なる二種の基本形状が混在した反射防止構造を目的とするときは、粒径がそろった比較的大きな微粒子と粒径がそろった比較的小さな微粒子とを併用することができる。

複数の微粒子が凝集したり連続することを防止するために各粒子間に反発力が生じさせ、そして微粒子と下地層との付着力を向上させることを目的として、各微粒子に電荷を持たせることが好ましい。

（４）加熱処理およびオーバーコート処理
微粒子の付着後に、微粒子が付着した表面に対して、加熱処理および／またはオーバーコート処理を行うことが好ましい。このことによって、微粒子の付着強度が向上するとともに、微粒子によって構成される凸部の裾部の逆テーパ形状が解消されて、樹脂組成物を賦型することが容易になる。加熱条件およびオーバーコート処理の条件は、微粒子および／または下地の種類や内容および付着強度等を考慮して定めることができる。例えば、微粒子として高分子微粒子を用いる場合の加熱条件としては、２００℃以下、特に、４０℃〜１５０℃が好ましい。

オーバーコート処理において用いられるオーバーコート材としては、ポリマー材料、金属クロライドの縮合物、金属アルコキシドの縮合物、交互吸着膜、好ましくは、膜厚制御性が高く、付き回り性（即ち、付着対象物の表面形状に沿って、むら無くまつわりつく性質）も優れた交互吸着膜を用いることができる。そのような好ましい交互吸着膜は、例えば前記した正の電解質ポリマーおよび負の電解質ポリマーを使用した前記交互吸着法によって形成することができる。

特にオーバーコート材としては、フッ素系ポリマー材料、フッ素系金属クロライド縮合物、フッ素系交互吸着膜などのフッ素系材料が好ましい。このようなフッ素系材料からなるオーバーコート材は、上記基材に極めて良好な防汚性や、剥離性付与できる点で特に好ましいものである。また、逆テーパー形状を解消するための各種交互吸着膜の上に防汚性や剥離性を付与するためのフッ素系シランカップリング剤をコートする等の二層タイプのオーバーコート層であっても良い。なお、オーバーコート処理は、１回または複数回行うことができる。特にフッ素系材料によって複数回のオーバーコート処理を行うことによって、防汚性や剥離性ならびに耐久性を著しく向上させることができる。

以上のようにして、本発明によるローラ状形態の賦型用型を得ることができる。

<<第二の賦型用型>>
本発明による第二の賦型用型は、算術平均粗さ（Ｒａ）が１μｍ〜３０μｍの凹凸を有する一次表面形状と、この一次表面形状上に形成された下記の凹状の二次表面形状とが複合した輪郭形状を賦型表面に有する賦型用型である。

凹状の二次表面形状：相互に連結されていてもよい凹状の基本形状からなり、前記基本形状が、平均深さ３０ｎｍ〜２００ｎｍかつ平均直径８０ｎｍ〜４００ｎｍであり、前記基本形状の前記反射防止面における配置が実質的に不規則である表面形状。

このような第二の賦型用型は、上記の第二の反射防止膜を得る賦型材として好ましいものであって、上記の第二の反射防止膜を賦型するのに適した形態、好ましくはフィルム状形態のものである。

<<フィルム状形態の賦型用型の製造方法>>
本発明によるフィルム状形態の賦型用型の製造方法は、フィルム基材と上記のローラ状形態の賦型用型との間に、賦型可能な硬化性樹脂組成物を適用し、この賦型可能な硬化性樹脂組成物を前記のローラ状形態の賦型用型によって賦型し、さらに、前記の硬化性樹脂組成物の賦型物を硬化させる工程を含むもの、である。

下記は、好ましいローラ状形態の賦型用型の製造方法の具体例を、必要に応じて図５を参照しながら示すものである。

図５において、３０はフィルム基材である。３１は、算術平均粗さ（Ｒａ）が１μｍ〜３０μｍの凹凸を有する一次表面形状と、この一次表面形状上に形成された所定の凸状の二次表面形状とが複合した輪郭形状を賦型表面に有するローラ状形態の賦型用型である。なお、このローラ状形態の賦型用型およびその製造方法の詳細は前記した通りである。

このローラ状形態の賦型用型３１は、そのローラ中心軸を中心に左回転しており、その賦型用型の回転に伴って、ローラの左側のフィルム基材３０がローラ状形態の賦型用型３１のローラ周面の少なくとも一部分に沿って移動したのちに、ローラ周面から剥離され、ローラの右側方向に移動するようになっている。３２および３３は、押圧ローラである。この押圧ローラ３２および押圧ローラ３３ならびにフィルム基材３０の張力等によって、フィルム基材３０がローラ状形態の賦型用型３１の回転にあわせローラ周面に沿って移動する期間中、フィルム基材３０と賦型用型３１との間に押圧が生じるようになっている。なお、図５には、２つの押圧ローラ３２および３３がローラ状形態の賦型用型３１の対向位置に設けられ、フィルム基材が賦型用型のローラ周面の半周面（中心角１８０°）に押圧される場合が示されているが、本発明はそのような場合のみに限定されない。また、押圧ローラの数は２個が好ましいが、必要に応じて３個以上設けることもできる。押圧ローラの数は、場合により１または０個であってもよい。また、押圧ローラは、必ずしもローラ状形態の賦型用型３１に接している必要はなく、賦型用型から離れた位置に設けることができる。

前記のフィルム基材３０とローラ状形態の賦型用型材との間には、賦型可能な硬化性樹脂組成物３４が適用される。このフィルム基材３０とローラ状形態の賦型用型３１との間に適用された硬化性樹脂組成物３４は、押圧ローラ３２の押圧部ないしその周辺部において層状に圧延され、フィルム基材３０とローラ状形態の賦型用型３１との間に介在した状態で、フィルム基材３０がローラ状形態の賦型用型３１の回転にあわせローラ周面に沿って移動する期間中、前記のローラ状形態の賦型用型３１によって賦型される。賦型された硬化性樹脂組成物３５は、フィルム基材３０と共にローラ状形態の賦型用型３１から剥離される。

本発明によるフィルム状形態の賦型用型は、上記の硬化性樹脂組成物の賦型物を硬化させることによって、製造することができる。硬化性樹脂組成物の賦型物の硬化は、フィルム基材３０および賦型された硬化性樹脂組成物がローラ状形態の賦型材３１の回転にあわせてローラ周面に沿って移動する間に行うことが好ましい。なお、賦型された硬化性樹脂組成物の硬化は、ローラ状形態の賦型材３１から剥離された後に行うこともできるし、また、ローラ周面に沿って移動する間に硬化処理の少なくとも一部を行い、ローラ状形態の賦型材から剥離された後に更なる硬化処理を行うこともできる。

硬化性樹脂組成物３１としては、各種の紫外線硬化性樹脂組成物および熱硬化性樹脂組成物を用いることができる。本発明では、紫外線硬化性樹脂組成物が好ましい。そのような紫外線硬化性樹脂組成物の特に好ましい具体例としては、例えばエポキシアクリレート系樹脂や、ウレタンアクリレート系樹脂に型剥離性を向上させるフッ素化合物やシリコン化合物を添加することも可能である。紫外線は、フィルム基材３０ならびに紫外線硬化性樹脂組成物がローラ状形態の賦型用型３１の回転にあわせローラ周面に沿って移動する途中で、紫外線照射装置３６によって照射することが好ましい。この場合、フィルム基材３０は、紫外線透過性が良い物が好ましい。なお、紫外線樹脂組成物の硬化物は、賦型用型として利用されるものであるから透明である必要はない。

以上のようにして得られたフィルム状形態の賦型用型には、各種の処理を施すことができる。そのような表面処理の好ましい具体例としては、例えば、剥離性を向上させたり、離型物の耐摩耗性や、耐汚染性を向上させる様にフッ素化合物やシリコン化合物をコートするともを挙げることができる。

＜反射防止膜の製造方法（第一の反射防止膜の製造方法）＞
本発明による第一の反射防止膜の製造方法は、フィルム基材と上記のローラ状形態の賦型用型との間に、賦型可能な硬化性樹脂組成物を適用し、この賦型可能な硬化性樹脂組成物を前記フィルム基材上において前記のローラ状形態の賦型材によって賦型し、さらに、前記の硬化性樹脂組成物の賦型物を硬化させる工程を含むもの、である。

このような本発明による反射防止膜の製造方法は、図５および前記の<<フィルム状形態の賦型用型の製造方法>>の関連記載を参照して説明することができる。

本発明による第一の反射防止膜の製造方法における、フィルム基材、ローラ状形態の賦型用型、賦型可能な硬化性樹脂組成物、その賦型方法ないし硬化方法の内容等は、図５および<<フィルム状形態の賦型用型の製造方法>>に関連して前記したものを用いることができる。ただし、第一の反射防止膜が得られる点で、前記とは異なっている。

このことから、第一の反射防止膜の製造で用いられる賦型可能な硬化性樹脂組成物は、透明性が良好な樹脂硬化物となるものが好ましい。本発明による反射防止膜の製造方法において用いることができる樹脂組成物としては、例えばポリオキシアクリレート系樹脂およびウレタナクリレート系樹脂に必要に応じて各種添加剤を加える事が好ましい。

＜反射防止膜の製造方法（第二の反射防止膜の製造方法）＞
本発明による第二の反射防止膜の製造方法は、フィルム基材と上記のフィルム状形態の賦型用型との間に、賦型可能な硬化性樹脂組成物を適用し、この賦型可能な硬化性樹脂組成物を前記のフィルム状形態の賦型用型によって賦型し、さらに、前記の硬化性樹脂組成物の賦型物を硬化させる工程を含むもの、である。

下記は、好ましい第二の反射防止膜の製造方法の具体例を、必要に応じて図６を参照しながら示すものである。

図６において、４０は基材である。この基材４０は、板状のものであってもフィルム状のものであってもよい。また、屈曲性が乏しいものであっても、高度の屈曲性示すものであってもよい。本発明において好ましい基材としては、透明性が優れたもの、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂からなる基材を挙げることができる。

４１は、算術平均粗さ（Ｒａ）が１μｍ〜３０μｍの凹凸を有する一次表面形状と、この一次表面形状上に形成された凹状の二次表面形状とが複合した輪郭形状を賦型表面に有するフィルム状形態の賦型用型である。なお、フィルム状形態の賦型用型の詳細およびその製造方法は前記した通りである。

図６において、基材４０およびフィルム状形態の賦型用型４１は、押圧ローラ４２から押圧ローラ４３までの領域において、共に水平に右方向に実質的に速度差が生じないように移動している。

前記の基材４０とフィルム状形態の賦型用型４１との間には、賦型可能な硬化性樹脂組成物４４が適用される。この基材４０とフィルム状形態の賦型用型４１との間に適用された硬化性樹脂組成物４４は、押圧ローラ４２の押圧部ないしその周辺部において層状に圧延され、基材４０とフィルム状形態の賦型用型４１との間に介在した状態で、押圧ローラ４２の押圧部から押圧ローラ４３の押圧部まで移動する期間中、前記のフィルム状形態の賦型用型４１によって賦型される。押圧ローラ４３の押圧部においてフィルム状形態の賦型用型４１が剥離される。

本発明による第二の反射防止膜４６は、上記の硬化性樹脂組成物の賦型物を硬化させることによって、製造することができる。硬化性樹脂組成物の賦型物の硬化は、フィルム状形態の賦型用４１が剥離される前に行うことが好ましい。なお、硬化処理はフィルム状形態の賦型用型４１が剥離された後に行うこともできるし、また、硬化処理はフィルム状形態の賦型用型が剥離される前に硬化処理の少なくとも一部を行い、フィルム状形態の賦型用が剥離された後に更なる硬化処理を行うこともできる。

硬化性樹脂組成物としては、各種の紫外線硬化性樹脂組成物および熱硬化性樹脂組成物を用いることができる。本発明では、紫外線硬化性樹脂組成物が好ましい。そのような紫外線硬化性樹脂組成物の特に好ましい具体例としては、例えばポリオキシアクリレート系樹脂や、ウレタナクリレート系樹脂に必要に応じて剥離性、耐摩耗性や、耐汚染性を向上させる様にフッ素化合物やシリコン化合物を添加したものを挙げることができる。紫外線は、硬化性樹脂組成物が基材４０と共に押圧ローラ４２から押圧ローラ４３まで移動する途中において、紫外線照射装置４５によって照射することが好ましい。この場合、基材４０は紫外線透過性が良い物が好ましい。

＜光学部材＞
本発明による光学部材は、前記の反射防止膜を有するものである。
このような本発明による光学部材は、反射防止特性のレベルおよびその均質度において特に優れたものであり、かつ各種の汚染物質が付着しても反射防止特性の低下が抑制されたものである。

よって、例えばディスプレイ装置のような情報表示のための光学部材として用いられた場合にはその視認性を向上させ、そして、太陽電池パネルのような受光用光学部材に適用された場合には光利用効率を著しく向上させることができるものである。

＜実施例１＞
直径３００ｍｍ、長さ１５００ｍｍの鉄製のローラに、下記方法により、下地層形成、粒子膜の形成およびオーバーコート層の形成を行って、本発明によるローラ状形態の賦型用型を製造した。

このローラ状形態の賦型用型は、下記の一次表面形状と二次表面形状が輪郭形状を表面に有するものであった。
一次表面形状：算術平均粗さ（Ｒａ）５μｍの凹凸が形成。凸間の平均間隔（Ｓｍ）５０μｍ
二次表面形状：基本形状の平均高さ９７ｎｍ、平均直径１３８ｎｍの凸部が形成

Ａ．下地層形成
１．準備作業
・洗浄済みのロールを準備。
・２種類のポリマー溶液を準備。
・ＰＤＤＡポリマー溶液(＋)：ＰＤＤＡ(分子量400,000-500,000)0.4wt%、0.1MNacl
（ＰＤＤＡ：Aldrich Chemical Company.inc製）
・ＰＳＳポリマー溶液(−)：ＰＳＳ(分子量1,000,000)0.4wt%、0.1MNacl
（ＰＳＳ：Aldrich Chemical Company.inc製）

２．ＰＤＤＡポリマー溶液のコーティング処理
2-1 インキパンにＰＤＤＡポリマー溶液を約２リットル入れる。
2-2 ＰＤＤＡポリマー溶液インキパンにロールを直径の１／３程度浸漬し、ロールを回転させなが約２分間コーティング処理。
2-3 インキパンの交換（ＰＤＤＡ用インキパンを洗浄用インキパンへ交換）。
2-4 準備した純水洗浄用インキパンにロールを浸漬、ロールを回転させシャワー純水をかけながら洗浄する。洗浄時間２分３０秒。

３．ＰＳＳポリマー溶液のコーティング処理
3-1 インキパンにＰＳＳポリマー溶液を約２リットル入れる。
3-2 ＰＳＳポリマー溶液インキパンにロールを１／３程度浸漬、ロールを回転させながら約２分間コーティング処理。
3-3 インキパンの交換（ＰＳＳ用インキパンを洗浄用インキパンへ交換）。
3-4 準備した純水洗浄用インキパンにロールを浸漬、ロールを回転させシャワー純水をかけながら洗浄する。洗浄時間２分３０秒。
以上のＰＤＤＡポリマー溶液コーティング処理およびＰＳＳポリマー溶液のコーティング処理工程を交互に計６回繰り返した。

４．ポリマー溶液ＰＤＤＡのコーティング処理
4-1 インキパンにＰＤＤＡポリマー溶液を約２リットル入れる。
4-2 ＰＤＤＡ溶液インキパンにロールを直径の１／３程度浸漬、ロールを回転させながら約１０分間コーティング処理。
4-3 インキパンの交換（ＰＤＤＡ用インキパンを洗浄用インキパンへ交換）
4-4 準備した純水洗浄用インキパンにロールを浸漬、ロールを回転させシャワー純水をかけながら洗浄する。洗浄時間２分３０秒。

５．後処理
・洗浄終了後、空気を弱めにをかけ、ある程度水気をよくとる。
・次いで、自然乾燥させる。

Ｂ．下地層形成
１．準備作業
・下地層形成済みのロールを準備。
・粒子液を準備。スフェリカスラリー１２０（触媒化成工業(株)）、粒子濃度約１８.２％を用意。粒子径０.１１μ（カタログ値）

２．粒子膜のコーティング
２−１ インキパンに粒子溶液を約２リットル入れる。
２−２ 粒子溶液インキパンにロールを１／３程度浸漬、ロールを回転させながら１分間コーティング処理。
２−３ インキパンの交換（粒子用インキパンを洗浄用インキパンへ交換）
２−４ 準備した純水洗浄用インキパンにロールを浸漬、ロールを回転させシャワー純水をかけながら洗浄する。洗浄時間４分。
２−５ 洗浄終了後、空気を弱めにをかけ、水気をよくとる。
あとは自然乾燥させる。

Ｃ．オーバーコート層形成
１．準備作業
・ 粒子成膜済み（熱処理済み）サンプルを準備。
・ ２種類のポリマー溶液を準備。
1-1 ＰＤＤＡポリマー溶液(＋)→ＰＤＤＡ(分子量400,000-500,000)0.4wt%、0.2MNacl
1-2 ＰＳＳポリマー溶液(−)→ＰＳＳ(分子量1,000,000)0.4wt% 0.2MNacl

２．ポリマー溶液ＰＤＤＡのコーティング
2-1 インキパンにＰＤＤＡポリマー溶液を約２リットル入れる。
2-2 ＰＤＤＡ溶液インキパンにロールを１／３程度浸漬、ロールを回転させながら約２分間右コーティング処理。
2-3 インキパンの交換（ＰＤＤＡ用インキパンを洗浄用インキパンへ交換）
2-4 準備した純水洗浄用インキパンにロールを浸漬、ロールを回転させシャワー純水をかけながら洗浄する。洗浄時間２分３０秒。

３．ポリマー溶液ＰＳＳのコーティング
3-1 インキパンにＰＳＳポリマー溶液を約２リットル入れる。
3-2 ＰＳＳ溶液インキパンにロールを１／３程度浸漬、ロールを回転させながら約２分間コーティング処理。
3-3 インキパンの交換（ＰＳＳ用インキパンを洗浄用インキパンへ交換）
3-4 準備した純水洗浄用インキパンにロールを浸漬、ロールを回転させシャワー純水をかけながら洗浄する。洗浄時間２分３０秒。
以上の工程を計６回繰り返す。

４．ポリマー溶液ＰＤＤＡのコーティング
4-1 インキパンにＰＤＤＡポリマー溶液を約２リットル入れる。
4-2 ＰＤＤＡ溶液インキパンにロールを１／３程度浸漬、ロールを回転させながら約２分間コーティング処理。
4-3 インキパンの交換（ＰＤＤＡ用インキパンを洗浄用インキパンへ交換）
4-4 準備した純水洗浄用インキパンにロールを浸漬、ロールを回転させシャワー純水をかけながら洗浄する。洗浄時間２分３０秒。

５．後処理
・洗浄終了後、空気を弱めにをかけ、ある程度水気をよくとる。
・次いで、自然乾燥させる。
洗浄終了後、空気を弱めにをかけ、ある程度水気をよくとる。あとは自然乾燥させる。

＜実施例２＞
実施例１で得られたローラ状形態の賦型用型ならびに図５に示される装置を用い、本発明による反射防止膜を製造した。
フィルム基材３０としては厚さ１００μｍのＰＥＴ製基材を用い、紫外線硬化性樹脂組成物３４としては、エポキシアクリレート系樹脂にフッ素化合物を添加したものを用いた。

フィルム基材３０の水平方向への移動速度は２０ｍ／ｍであり、この速度に対応してローラ状形態の賦型用型３１、押圧ローラ３２および押圧ローラ３３が回転している。フィルム基材３０とローラ状形態の賦型用型３１との間に適用された硬化性樹脂組成物３４は、押圧ローラ３２の押圧部ないしその周辺部において層状に圧延され、フィルム基材３０とローラ状形態の賦型用型３１との間に介在した状態で、フィルム基材３０がローラ状形態の賦型用型３１の回転にあわせローラ周面に沿って移動する期間中、前記のローラ状形態の賦型用型３１によって賦型される。賦型された硬化性樹脂組成物３５は、フィルム基材３０と共にローラ状形態の賦型用型３１から剥離される。

賦型された硬化性樹脂組成物３５は、厚さが１０μｍのものであって、下記の一次表面形状と二次表面形状が輪郭形状を表面に有するものであった。
一次表面形状：算術平均粗さ（Ｒａ）５μｍの凹凸が形成。凹間の平均間隔（Ｓｍ）５０μｍ。
二次表面形状：基本形状の平均高さ９７ｎｍ、平均直径１３８ｎｍの凹部が形成

＜実施例３＞
実施例２で得られた本発明の反射防止膜を、図６に示される装置においてフィルム状形態の賦型用型４１として用い、本発明による反射防止膜を製造した。

基材４０としては厚さ５０μｍのＰＥＴ製基材を用いた。基材４０の水平方向への移動速度は３０ｍ／ｍであって、この速度に対応してフィルム状形態の賦型用型４１が移動し、そして、押圧ローラ４２および押圧ローラ４３が回転している。

基材４０とフィルム状形態の賦型用型４１との間に、賦型可能な硬化性樹脂組成物４４を適用して、押圧ローラ４２の押圧部ないしその周辺部において層状に圧延し、基材４０とフィルム状形態の賦型用型４１との間に介在した状態で、押圧ローラ４２の押圧部から押圧ローラ４３の押圧部まで移動する期間中、前記のフィルム状形態の賦型用型４１によって賦型し、押圧ローラ４３の押圧部においてフィルム状形態の賦型用型４１を剥離して、本発明による反射防止膜４６を製造した。

この反射防止膜４６は、下記の一次表面形状と二次表面形状が輪郭形状を表面に有するものであった。
一次表面形状：算術平均粗さ（Ｒａ）５μｍの凹凸が形成。凸間の平均間隔（Ｓｍ）５０μｍ。
二次表面形状：基本形状の平均高さ９７ｎｍ、平均直径１３８ｎｍの凸部が形成

本発明による第一の反射防止膜の断面図 本発明による第一の反射防止膜における凹状の二次表面形状の概要を示す断面図 本発明による第二の反射防止膜の断面図 本発明による第二の反射防止膜における凸状の二次表面形状の概要を示す断面図 本発明による好ましい第一の賦型用型の製造方法の概要を示す図 本発明による好ましい第二の賦型用型の製造方法の概要を示す図 本発明の実施例２で得られた一次表面形状と二次表面形状との輪郭形状を表面に有するフィルムの反射率を示すグラフ 本発明の実施例２で得られた一次表面形状と二次表面形状との輪郭形状を表面に有するフィルムの透過率を示すグラフ

符号の説明

１０、２０ 反射防止膜
１１、２１ 一次表面形状
１２、２２ 二次表面形状
３０、４０ 基材
３１ ローラ状形態の賦型用型
４１ フィルム状形態の賦型用型
３２、３３、４２、４３ 押圧ローラ
３４ ４４ 硬化性樹脂組成物
３６、４５ 紫外線照射装置

Claims (13)

1. 算術平均粗さ（Ｒａ）が１μｍ〜３０μｍの凹凸を有する一次表面形状と、この一次表面形状上に形成された下記の凹状の二次表面形状とが複合した輪郭形状の反射防止面を表面に有することを特徴とする、反射防止膜。
   凹状の二次表面形状：相互に連結されていてもよい凹状の基本形状からなり、前記基本形状が、平均深さ３０ｎｍ〜２００ｎｍかつ平均直径８０ｎｍ〜４００ｎｍであり、前記基本形状の前記反射防止面における配置が実質的に不規則である表面形状。
2. 算術平均粗さ（Ｒａ）が１μｍ〜３０μｍの凹凸を有する一次表面形状と、この一次表面形状上に形成された下記の凸状の二次表面形状とが複合した輪郭形状の反射防止面を表面に有することを特徴とする、反射防止膜。
   凸状の二次表面形状：相互に連結されていてもよい凸状の基本形状からなり、前記基本形状が、平均高さ３０ｎｍ〜２００ｎｍかつ平均直径８０ｎｍ〜４００ｎｍであり、前記基本形状の前記反射防止面における配置が実質的に不規則である表面形状。
3. 前記の一次表面形状が、隣接する凸間の平均間隔（Ｓｍ）が３μｍ〜２００μｍのものである、請求項１または２に記載の反射防止膜。
4. 基材と、請求項１〜３のいずれか１項に記載の反射防止膜とからなることを特徴とする、反射防止材。
5. 算術平均粗さ（Ｒａ）が１μｍ〜３０μｍの凹凸を有する一次表面形状と、この一次表面形状上に形成された下記の凸状の二次表面形状とが複合した輪郭形状を賦型表面に有することを特徴とする、賦型用型。
   凸状の二次表面形状：相互に連結されていてもよい凸状の基本形状からなり、前記基本形状が、平均高さ３０ｎｍ〜２００ｎｍかつ平均直径８０ｎｍ〜４００ｎｍであり、前記基本形状の前記反射防止面における配置が実質的に不規則である表面形状。
6. ローラ状形態の請求項５に記載の賦型用型。
7. 算術平均粗さ（Ｒａ）が１μｍ〜３０μｍの凹凸を有する一次表面形状と、この一次表面形状上に形成された下記の凹状の二次表面形状とが複合した輪郭形状を賦型表面に有することを特徴とする、賦型用型。
   凹状の二次表面形状：相互に連結されていてもよい凹状の基本形状からなり、前記基本形状が、平均深さ３０ｎｍ〜２００ｎｍかつ平均直径８０ｎｍ〜４００ｎｍであり、前記基本形状の前記反射防止面における配置が実質的に不規則である表面形状。
8. フィルム状形態の請求項７に記載の賦型用型。
9. 請求項６に記載のローラ状形態の賦型用型の製造方法であって、
   前記の一次表面形状を有するローラ周面に、交互吸着法を用いて下地層を形成し、
   次いで、前記下地層上に微粒子を固定化することによって、ローラ周面上に、前記の一次表面形状と前記の二次表面形状とが複合した輪郭形状を形成させる工程を含むことを特徴とする、ローラ状形態の賦型用型の製造方法。
10. 請求項８に記載のフィルム状形態の賦型用型の製造方法であって、
    フィルム基材と請求項６に記載のローラ状形態の賦型用型との間に、賦型可能な硬化性樹脂組成物を適用し、
    この賦型可能な硬化性樹脂組成物を前記のローラ状形態の賦型用型によって賦型し、
    さらに、前記の硬化性樹脂組成物の賦型物を硬化させる工程を含むことを特徴とする、フィルム状形態の賦型用型の製造方法。
11. 請求項１に記載の反射防止膜の製造方法であって、
    フィルム基材と請求項６に記載のローラ状形態の賦型用型との間に、賦型可能な硬化性樹脂組成物を適用し、
    この賦型可能な硬化性樹脂組成物を前記のローラ状形態の賦型材によって賦型し、
    さらに、前記の硬化性樹脂組成物の賦型物を硬化させる工程を含むことを特徴とする、反射防止膜の製造方法。
12. 請求項２に記載の反射防止膜の製造方法であって、
    フィルム基材と請求項８に記載のフィルム状形態の賦型用型との間に、賦型可能な硬化性樹脂組成物を適用し、
    この賦型可能な硬化性樹脂組成物を前記のフィルム状形態の賦型用型によって賦型し、
    さらに、前記の硬化性樹脂組成物の賦型物を硬化させる工程を含むことを特徴とする、反射防止膜の製造方法。
13. 請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止膜を有することを特徴とする、光学部材。

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