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JP2008150355A - 複素環化合物 - Google Patents

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JP2008150355A
JP2008150355A JP2007118644A JP2007118644A JP2008150355A JP 2008150355 A JP2008150355 A JP 2008150355A JP 2007118644 A JP2007118644 A JP 2007118644A JP 2007118644 A JP2007118644 A JP 2007118644A JP 2008150355 A JP2008150355 A JP 2008150355A
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Abstract

【課題】環構造の非対称な五員環が繰り返し単位であるＨＴ構造の割合が高いＨＴレジオレギュラーポリマーが合成できる化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）：
Figure 2008150355

〔式中、Ｘ及びＹは相異なり、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ＣＦ3ＳＯ3−、ＣＨ3ＳＯ3−、Ｃ6Ｈ5ＳＯ3−又はＣＨ3Ｃ6Ｈ4ＳＯ3−である。Ｒ1は置換されていてもよい炭素数２以上の１価の脂肪族炭化水素基である。Ａ1及びＡ2は、一方が−Ｓ−、−Ｏ−、−Ｓｅ−又は−Ｔｅ−であり、他方が−Ｎ＝、−Ｐ＝又は−Ｓｉ（Ｒ2）＝（ここで、Ｒ2は、水素原子、置換されていてもよい１価の炭化水素基、ハロゲン原子、アミノ基又はカルボニル基である。）である。２本存在する実線と破線の平行線は、一方が単結合であり、他方が二重結合である。〕
で表される複素環化合物。
【選択図】なし

Description

本発明は、新規な複素環化合物に関する。
有機電子材料として五員環であるヘテロ環を有する構造を繰り返し単位とする共役ポリマーが重要である。中でも繰り返し単位の結合の向きが一定であるｈｅａｄ ｔｏ ｔａｉｌ構造（以下、「ＨＴ構造」という）の割合が高い（以下、「ＨＴレジオレギュラー」という）ポリマーは「ＨＴレジオレギュラーポリマー」と呼ばれる。ＨＴレジオレギュラーポリマーは、ＨＴ構造の割合が低いレジオランダムポリマーに比べて平面性が高く、共役長が長いので、導電性が高いことが知られている。例えば、側鎖置換基の結合位で繰り返し単位の向きが決まっているＨＴレジオレギュラーポリチオフェンが提案されている（非特許文献１）。
しかし、環構造の非対称な五員環が繰り返し単位であるＨＴレジオレギュラーポリマーはほとんど知られていない。
そこで、環構造の非対称な五員環が繰り返し単位であるＨＴ構造の割合が高いＨＴレジオレギュラーポリマーが合成できる化合物が望まれている。
Polymer Journal, 6巻, 65頁(2004)
そこで、本発明は、環構造の非対称な五員環が繰り返し単位であり、ＨＴ構造の割合が高いＨＴレジオレギュラーポリマーが合成できる化合物を提供することを目的とする。
本発明者らは上記目的を達成すべく鋭意研究を行った結果、新規な複素環化合物を見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、下記一般式（Ｉ）：
Figure 2008150355

〔式中、Ｘ及びＹは相異なり、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ＣＦ3ＳＯ3−、ＣＨ3ＳＯ3−、Ｃ6Ｈ5ＳＯ3−又はＣＨ3Ｃ6Ｈ4ＳＯ3−である。Ｒ1は置換されていてもよい炭素数２以上の１価の脂肪族炭化水素基である。Ａ1及びＡ2は、一方が−Ｓ−、−Ｏ−、−Ｓｅ−又は−Ｔｅ−であり、他方が−Ｎ＝、−Ｐ＝又は−Ｓｉ（Ｒ2）＝（ここで、Ｒ2は、水素原子、置換されていてもよい１価の炭化水素基、ハロゲン原子、アミノ基又はカルボニル基である。）である。２本存在する実線と破線の平行線は、一方が単結合であり、他方が二重結合である。〕
で表される複素環化合物を提供する。
本発明は第二に、下記一般式（ＩＩＩ）：
Figure 2008150355

〔式中、Ｘ、Ｒ1、Ａ1、Ａ2、及び２本存在する実線と破線の平行線は前記と同じ意味を表す。〕
で表される化合物をハロゲン化する工程を含む前記複素環化合物の製造方法を提供する。
本発明の複素環化合物は、環構造の非対称な五員環が繰り返し単位であるＨＴレジオレギュラーポリマーを合成することができるものである。そして、通常、該ＨＴレジオレギュラーポリマーは高収率で得られる。
次に、本発明を詳細に説明する。
＜複素環化合物＞
本発明の複素環化合物は、前記一般式（Ｉ）で表されるものである。
前記一般式（Ｉ）中、Ｘ及びＹは、好ましくは塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子である。Ｘ及びＹは異なるものであり、Ｘ及びＹの組み合わせとしては、順不同で、塩素原子と臭素原子との組み合わせ、塩素原子とヨウ素原子との組み合わせ、臭素原子とヨウ素原子との組み合わせであることが好ましく、より具体的には（Ｘ，Ｙ）と表すと、（塩素原子，臭素原子）、（塩素原子，ヨウ素原子）、（臭素原子，ヨウ素原子）であることがさらに好ましい。
前記一般式（Ｉ）中、Ｒ1で表される１価の脂肪族炭化水素基は、脂環式炭化水素基を含み、炭素数が、好ましくは２〜１６であり、より好ましくは２〜１２であり、さらに好ましくは２〜８である。Ｒ1で表される１価の脂肪族炭化水素基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基等が挙げられる。該アルキル基の具体例としては、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、シクロプロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロブチル基、ペンチル基、ｉｓｏ−ペンチル基、ｎｅｏ−ペンチル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、メンチル基、ピナニル基、ビシクロヘプチル基（即ち、ノルボルニル基）、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等が挙げられる。該アルケニル基の具体例としては、ビニル基、ｎ−プロペニル基、ｉｓｏ−プロペニル基、シクロプロペニル基、ｎ−ブチレニル基、ｉｓｏ−ブチレニル基、ｔ−ブチレニル基、シクロブチレニル基、ペンテニル基、ｉｓｏ−ペンテニル基、ｎｅｏ−ペンテニル基、シクロペンテニル基、ヘキセニル基、シクロヘキセニル基、メチルシクロヘキセニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘキサジエニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基等が挙げられる。該アルキニル基の具体例としては、アセチル基、ｎ−プロピニル基、ｉｓｏ−プロピニル基、シクロプロピニル基、ｎ−ブチリニル基、ｉｓｏ−ブチリニル基、ｔ−ブチリニル基、シクロブチリニル基、ペンチニル基、ｉｓｏ−ペンチニル基、ｎｅｏ−ペンチニル基、シクロペンチニル基、ヘキシニル基、シクロヘキシニル基、メチルシクロヘキシニル基、シクロヘキシニル基、オクチニル基、ノニニル基、デシニル基、ウンデシニル基、ドデシニル基等が挙げられ、好ましくは炭素数２〜１６のアルキル基であり、より好ましくは炭素数２〜１２のアルキル基であり、さらに好ましくは炭素数２〜８のアルキル基である。なお、これらの炭素数には、後述の置換基の炭素数は含まない。
Ｒ1で表される１価の脂肪族炭化水素基中の水素原子の一部又は全部は、置換基により置換されていてもよい。該置換基としては、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、スルホニル基、ホスホニル基、チオール基等のハロゲン原子、窒素原子、硫黄原子、リン原子、炭素数１〜２０のアルコキシ基、水酸基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数１〜２０のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数１〜２０のアルキルカルボニル基、アルデヒド基等が挙げられる。該アルキル基の具体例としては、前記アルキル基の例示の他にメチル基が挙げられる。該アルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、ｉｓｏ−プロピルオキシ基、シクロプロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、ｉｓｏ−ブチルオキシ基、ｔ−ブチルオキシ基、シクロブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ｉｓｏ−ペンチルオキシ基、ｎｅｏ−ペンチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、メチルシクロヘキシルオキシ基、シクロヘキセニルオキシ基、シクロヘキサジエニルオキシ基、メンチルオキシ基、ピナニルオキシ基、ビシクロヘプチルオキシ基（即ち、ノルボニルオキシ基）、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基、キシリルオキシ基、メシチルオキシ基、クミルオキシ基等が挙げられる。該アリール基の具体例としては、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等が挙げられる。該アラルキル基の具体例としては、１-フェニルエチル基、２−フェニルエチル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、ベンジル基、キシリル基、メシチル基、クミル基等が挙げられる。該アルキルオキシカルボニル基、該アルキルカルボニルオキシ基、該アルキルカルボニル基としては、前記アルキル基（メチル基を含む）に、それぞれ、オキシカルボニル基、カルボニルオキシ基、カルボニル基が結合した基が挙げられる。
前記一般式（Ｉ）中、Ａ1及びＡ2は、一方が−Ｓ−、−Ｏ−、−Ｓｅ−又は−Ｔｅ−であり、他方が−Ｎ＝、−Ｐ＝又は−Ｓｉ（Ｒ2）＝（ここで、Ｒ2は、水素原子、置換されていてもよい１価の炭化水素基、ハロゲン原子、アミノ基又はカルボニル基である。）である。これらＡ1及びＡ2の組み合わせとしては、順不同で、例えば、−Ｓ−と−Ｎ＝との組み合わせ、−Ｏ−と−Ｎ＝との組み合わせ、−Ｓｅ−と−Ｎ＝との組み合わせ、−Ｓ−と−Ｐ＝との組み合わせ、−Ｏ−と−Ｐ＝との組み合わせ、−Ｓｅ−と−Ｐ＝との組み合わせ、−Ｓ−と−Ｓｉ（Ｒ2）＝との組み合わせ、−Ｏ−と−Ｓｉ（Ｒ2）＝との組み合わせ、−Ｓｅ−と−Ｓｉ（Ｒ2）＝との組み合わせ等が挙げられ、より具体的に（Ａ1，Ａ2）と表すと、（−Ｓ−，−Ｎ＝）、（−Ｏ−，−Ｎ＝）、（−Ｓｅ−，−Ｎ＝）、（−Ｓ−，−Ｐ＝）、（−Ｏ−，−Ｐ＝）、（−Ｓｅ−，−Ｐ＝）、（−Ｓ−，−Ｓｉ（Ｒ2）＝）、（−Ｏ−，−Ｓｉ（Ｒ2）＝）、（−Ｓｅ−，−Ｓｉ（Ｒ2）＝）が好ましく、（−Ｓ−，−Ｎ＝）、（−Ｏ−，−Ｎ＝）、（−Ｓｅ−，−Ｎ＝）、（−Ｓ−，−Ｓｉ（Ｒ2）＝）、（−Ｏ−，−Ｓｉ（Ｒ2）＝）がより好ましく、（−Ｓ−，−Ｎ＝）がさらに好ましい。
前記一般式（Ｉ）中、Ｒ2で表される置換されていてもよい１価の炭化水素基としては、前記１価の脂肪族炭化水素基の項で説明し例示したものに加えて、メチル基が挙げられる。Ｒ2は、好ましくは水素原子又は炭素原子数１〜１２のアルキル基であり、より好ましくは水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基であり、さらに好ましくは水素原子である。
Ｒ2で表される置換されていてもよい１価の炭化水素基中の水素原子の一部又は全部は、置換基により置換されていてもよい。該置換基としては、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、スルホニル基、ホスホニル基、チオール基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアラルキルオキシ基、炭素数１〜２０のアリールオキシ基、水酸基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数１〜２０のアルキルオキシカルボニル基、炭素数１〜２０のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数１〜２０のアルキルカルボニル基、アルデヒド基等が挙げられる。該アルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、ｉｓｏ−プロピルオキシ基、シクロプロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、ｉｓｏ−ブチルオキシ基、ｔ−ブチルオキシ基、シクロブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ｉｓｏ−ペンチルオキシ基、ｎｅｏ−ペンチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、メチルシクロヘキシルオキシ基、シクロヘキセニルオキシ基、シクロヘキサジエニルオキシ基、メンチルオキシ基、ピナニルオキシ基、ビシクロヘプチルオキシ基（即ち、ノルボニルオキシ基）、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基等が挙げられる。該アラルキルオキシ基の具体例としては、１−フェニルエトキシ基、２−フェニルエチルオキシ基、２−メチルフェニルオキシ基、３−メチルフェニルオキシ基、４−メチルフェニルオキシ基、ベンジルオキシ基等が挙げられる。該アリールオキシ基の具体例としては、フェニルオキシ基、キシリルオキシ基、メシチルオキシ基、クミルオキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。該アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、シクロプロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロブチル基、ペンチル基、ｉｓｏ−ペンチル基、ｎｅｏ−ペンチル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、シクロヘキサジエニル基、メンチル基、ピナニル基、ビシクロヘプチル基（即ち、ノルボニル基）、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基が挙げられる。該アラルキル基の具体例としては、１−フェニルエチル基、２−フェニルエチル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、ベンジル基等が挙げられる。該アリール基の具体例としては、フェニル基、キシリル基、メシチル基、クミル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等が挙げられる。アルキルオキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルキルカルボニル基としては、前記アルキル基に、それぞれ、オキシカルボニル基、カルボニルオキシ基、カルボニル基が結合した基が挙げられる。
本発明の複素環化合物としては、前記一般式（Ｉ）において、Ｘ及びＹが相異なり、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子であり、かつＡ1及びＡ2が、一方は−Ｓ−又は−Ｏ−であり、他方は−Ｎ＝であるものが好ましい。
本発明の複素環化合物の具体例としては、以下の構造式で表されるものが挙げられる。
Figure 2008150355

Figure 2008150355
これらの中でも、溶解性の観点から、以下の構造式で表されるものが好ましい。
Figure 2008150355

また、合成の容易性の観点から、以下の構造式で表されるものがさらに好ましい。
Figure 2008150355
−製造方法−
本発明の複素環化合物は、如何なる方法で合成されたものであってもよいが、その純度と合成効率の観点から、下記一般式（II）：
Figure 2008150355

〔式中、Ｒ1、Ａ1、Ａ2、及び２本存在する実線と破線の平行線は前記と同じ意味である。〕
で表される複素環化合物から、以下の第一の工程及び／又は第二の工程を含む方法、好ましくは第一の工程及び第二の工程を含む方法で合成することが好ましい。以下、２段階の反応を詳細に説明する。
第一の工程は、前記一般式（ＩＩ）で表されるアミン化合物からアミノ基を脱離しハロゲン原子を付加して前記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物を合成する工程である。
第二の工程は、前記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物をハロゲン化する工程である。このハロゲン化は、ハロゲンガス及び／又はＮ−ハロゲノスクシンイミドにより行われることが好ましい。
なお、これらの第一の工程、第二の工程の前後に、その他の工程を有していてもよい。
次に、下記構造式（Ｉａ）：
Figure 2008150355

〔式中、Ｘ、Ｙ、Ｒ1、及び２本存在する実線と破線の平行線は前記と同じ意味を表す。〕
で表されるチアゾール化合物の合成を一例として、前述の第一の工程、第二の工程を具体的に説明する。
第一の工程では、下記一般式（ＩＩａ）：
Figure 2008150355

〔式中、Ｒ1、及び２本存在する実線と破線の平行線は前記と同じ意味を表す。〕
で表されるアミン化合物を、例えば、(1)亜硝酸アルキルとの撹拌及び(2)ハロゲン化水素又はハロゲン化金属との撹拌を連続又は同時に行うことにより、アミノ基を脱離しハロゲン原子を付加して、下記一般式（ＩＩＩａ）：
Figure 2008150355

〔式中、Ｘ、Ｒ1、及び２本存在する実線と破線の平行線は前記と同じ意味を表す。〕
で表される化合物を合成することができる。亜硝酸アルキルの使用量は、前記アミン化合物１モルに対して、通常、１〜２モルであり、好ましくは１〜１．３モルである。ハロゲン化水素又はハロゲン化金属の使用量は、前記アミン化合物１モルに対して、通常、１〜５モルであり、好ましくは１〜３モルである。
第二の工程では、こうして得られた化合物を、ハロゲンガス（例えば、塩素ガス等）及び／又はＮ−ハロゲノスクシンイミド（例えば、Ｎ−ブロモスクシンイミド等）によりハロゲン化することにより、目的とするチアゾール化合物を合成することができる。前記ハロゲンガス及びＮ−ハロゲノスクシンイミドの合計使用量は、前記化合物１モルに対して、通常、１〜１０モルであり、好ましくは１〜２モルである。
前記合成方法の具体的なスキームは、例えば、以下のとおりである。
Figure 2008150355

〔式中、Ｘ、Ｙ及びＲ1は前記と同じ意味を表す。〕
−ＨＴレジオレギュラーポリマーの合成−
本発明の複素環化合物とメチルマグネシウムクロリドとを溶媒の存在下で撹拌すると、該複素環化合物中のハロゲン原子（Ｘ又はＹ）のどちらかが選択的に反応するので、その反応液に適切な触媒（例えば、塩化１，３−ジフェニルホスフィノプロパンニッケル(II)（Ni(dppp)Cl2）等）を加えることで重合が起こり、ＨＴレジオレギュラーポリマーが得られる。また、このような反応性（選択性）の違いを利用して、前記複素環化合物を基質とした位置異性体の一種のみを選択的に得ることができる。
以下、本発明について、実施例を用いて具体的に説明するが、本発明はこれらに何ら限定されるものではない。
＜実施例１＞
(i)2-ブロモ-4-ヘキシルチアゾールの合成
2-アミノ-4-ヘキシルチアゾール(Helvetica Chemica Acta XXXII, Fasciculus I, 35 (1949) 10.0 g(54.3 mmol)を溶解させたアセトニトリル40mLに、亜硝酸t-ブチル8.39 mL(70.5 mmol)を加え、臭化銅(II)12.1 g(54.3 mmol)のアセトニトリル20mL懸濁液をアルゴンガス雰囲気下で氷冷しながら少量ずつ加えて２時間撹拌した。次いで、得られた反応混合液をクロロホルム/ヘキサン混合液100 mlに注ぎ、沈殿物をろ過で取り除いた。ろ液を20重量％塩酸水溶液 100 mlで3回洗浄した後、クロロホルムで抽出を行った。得られた抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧下で濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：クロロホルム/ヘキサン=1/1（容積比）)により精製を行った。マススペクトルに臭素原子を一個含有する分子量248のピークが認められたことから、目的とする2-ブロモ-4-ヘキシルチアゾールが得られたことが確認できた。
(ii)2-ブロモ-4-ヘキシル-5-ヨードチアゾールの合成
2-ブロモ-4-ヘキシルチアゾール 4.07 g(16.4 mmol)をアセトニトリル8mLに溶解させ、Ｎ−ヨードスクシンイミド4.41 g (19.7 mmol)のアセトニトリル32mL溶液をアルゴンガス雰囲気下で加えて18時間還流した。次いで、得られた反応混合液をNa2S2O3水溶液で洗浄し、水層はクロロホルムで抽出し、有機層に加えた。有機層を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：クロロホルム/ヘキサン=1/1（容積比）)により、赤色透明液体を取り出した。マススペクトルに臭素原子を一個含有する分子量373のピークが認められたことから、前記赤色透明液体は、目的とする2-ブロモ-4-ヘキシル-5-ヨードチアゾールであることが確認できた。その収量は4.80gであり、収率78.3%であった。
以下のデータより、得られた赤色透明液体が2-ブロモ-4-ヘキシル-5-ヨードチアゾールであることを同定した。
(1) 1H-NMR (ppm/300MHz, CDCl3) 0.89 (3H, t), 1.31 (6H, m), 1.66 (2H, m), 2.71 (2H, m)
(2) 13C-NMR (ppm/75MHz, CDCl3) 14.1, 22.6, 28.8, 29.0, 31.4, 31.5, 69.8, 138.9, 161.8
なお、2-ブロモ-4-ヘキシル-5-ヨードチアゾールをモノマーとして用いると、ＨＴレジオレギュラーポリマーを高収率で合成できる。
＜実施例２＞
(iii)2-クロロ-4-ヘキシルチアゾールの合成
アセトニトリル200mLに亜硝酸t-ブチル9.7 mL(81 mmol)と塩化銅(II)8.75 g(65.1 mmol)を加え、アルゴンガス雰囲気下で氷冷しながら2-アミノ-4-ヘキシルチアゾール(Helvetica Chemica Acta XXXII, Fasciculus I, 35 (1949) 10.0 g(54.3 mmol)を溶解させたアセトニトリル10mLを少量ずつ加え、室温に戻して２時間撹拌した。次いで、得られた反応混合液をクロロホルム/ヘキサン混合液100 mlに注ぎ、沈殿物をろ過で取り除いた。ろ液を20重量％塩酸水溶液 100 mlで3回洗浄した後、クロロホルムで抽出を行った。得られた抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、減圧下で濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：クロロホルム/ヘキサン=1/1（容積比）)により精製を行うことで、目的とする2-クロロ-4-ヘキシルチアゾールが得られた。
(iv)2-クロロ-4-ヘキシル-5-ヨードチアゾールの合成
2-クロロ-4-ヘキシルチアゾール 5.30 g(26.0 mmol)とＮ−ヨードスクシンイミド7.02 g (31.2 mmol)をアセトニトリル40mLに溶解させ、アルゴンガス置換をして50℃で2時間撹拌した。得られた反応混合液をNa2S2O3水溶液で洗浄し、水層はクロロホルムで抽出し有機層に加えた。有機層を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒：クロロホルム/ヘキサン=1/1（容積比）)により、赤色透明液体を取り出した。マススペクトル(装置：HP-6890GC/HP-5973MSD、カラム：SGE BPX-5（30m×0.25mm I.D.×0.25μm）、カラム温度：50℃（5分）→10℃/分→350℃（5分 hold）、注入口温度：280℃、キャリアーガス：He、1.0ml/分)に塩素原子を一個含有する分子量330のピークが認められたことから、前記赤色透明液体は、目的とする2-クロロ-4-ヘキシル-5-ヨードチアゾールであることが確認できた。その収量は7.50gであり、収率は87.6%であった。
以下のデータより、得られた赤色透明液体が2-クロロ-4-ヘキシル-5-ヨードチアゾールであることを同定した。
(1) 1H-NMR (ppm/300MHz, CDCl3) 0.89 (3H, t), 1.31 (6H, m), 1.66 (2H, m), 2.69 (2H, m)
(2) 13C-NMR (ppm/75MHz, CDCl3) 14.0, 22.9, 29.1, 29.2, 31.78, 31.82, 68.4, 154.9, 160.5
＜参考例１＞
(v)ＨＴレジオレギュラーポリチアゾールの合成
アルゴンガス雰囲気下、2-クロロ-4-ヘキシル-5-ヨードチアゾール 1.00g (3.03 mmol)をテトラヒドロフラン(THF) 5mLに溶かし、-78℃に冷却した後、3.0M メチルマグネシウムクロリドTHF溶液 1.01mL（3.03mmol）を滴下し、1時間攪拌して、反応溶液を得た。塩化１，３−ジフェニルホスフィノプロパンニッケル(II)（Ni(dppp)Cl2） 0.082g（0.15mmol）のTHF5mL懸濁液を注加し、0℃で4.5時間撹拌後、メタノール100mL中に反応溶液を滴下したところ、沈殿が析出した。こうして得られた溶液（沈殿含む）を、ろ過、メタノールで洗浄し、得られた沈殿物を減圧乾燥することにより、赤紫色を呈する粉末としてＨＴレジオレギュラーポリ(4-ヘキシルチアゾール-2,5-ジイル) (HT-PHTz) 328mg（収率：64.7%）を得た。
こうして得られたHT-PHTzの重水素化クロロホルム：トリフルオロ酢酸(容積比で9:1)の混合溶液中での1H-NMR (300MHz)を測定した。その結果、3.0〜3.3ppm（ＨＴ構造のチアゾール環隣接ＣＨ2プロトン）のピーク面積と2.7〜3.0ppm（ＨＴ構造以外のチアゾール環隣接ＣＨ2プロトン）のピーク面積との比から、該HT-PHTz中に複数含まれる前記式（Ｉ）で表される複素環化合物に由来する下記式（IV）：
Figure 2008150355
で表される繰り返し単位同士の直接結合の合計個数に対して、ＨＴ結合を形成する該直接結合の合計個数の割合は92％であった。

Claims (4)

  1. 下記一般式（Ｉ）：
    Figure 2008150355
    〔式中、Ｘ及びＹは相異なり、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ＣＦ3ＳＯ3−、ＣＨ3ＳＯ3−、Ｃ6Ｈ5ＳＯ3−又はＣＨ3Ｃ6Ｈ4ＳＯ3−である。Ｒ1は置換されていてもよい炭素数２以上の１価の脂肪族炭化水素基である。Ａ1及びＡ2は、一方が−Ｓ−、−Ｏ−、−Ｓｅ−又は−Ｔｅ−であり、他方が−Ｎ＝、−Ｐ＝又は−Ｓｉ（Ｒ2）＝（ここで、Ｒ2は、水素原子、置換されていてもよい１価の炭化水素基、ハロゲン原子、アミノ基又はカルボニル基である。）である。２本存在する実線と破線の平行線は、一方が単結合であり、他方が二重結合である。〕
    で表される複素環化合物。
  2. 前記一般式（Ｉ）において、Ｘ及びＹが相異なり、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子であり、かつＡ1及びＡ2が、一方は−Ｓ−又は−Ｏ−であり、他方は−Ｎ＝である請求項１に記載の複素環化合物。
  3. 下記一般式（ＩＩＩ）：
    Figure 2008150355
    〔式中、Ｘ、Ｒ1、Ａ1、Ａ2、及び２本存在する実線と破線の平行線は前記と同じ意味を表す。〕
    で表される化合物をハロゲン化する工程を含む請求項２に記載の複素環化合物の製造方法。
  4. 下記一般式（ＩＩ）：
    Figure 2008150355
    〔式中、Ｒ1、Ａ1、Ａ2、及び２本存在する実線と破線の平行線は前記と同じ意味である。〕
    で表されるアミン化合物からアミノ基を脱離しハロゲン原子を付加して前記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物を合成する工程を含む請求項３に記載の製造方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020515602A (ja) * 2017-03-29 2020-05-28 メルク、パテント、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツングＭｅｒｃｋ Ｐａｔｅｎｔ ＧｍｂＨ 芳香族化合物

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5544775B2 (ja) * 2008-07-29 2014-07-09 住友化学株式会社 燐光発光性化合物を含む組成物及び該組成物を用いてなる発光素子
JP5848284B2 (ja) 2012-07-11 2016-01-27 富士フイルム株式会社 熱電変換素子及びこれを用いた熱電変換材料

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63250385A (ja) * 1987-04-04 1988-10-18 Tokuyama Soda Co Ltd ハロゲン化複素環式化合物の製造方法
WO2005070994A1 (ja) * 2004-01-26 2005-08-04 Konica Minolta Holdings, Inc. 有機半導体材料、有機トランジスタ、電界効果トランジスタ、スイッチング素子及びチアゾール化合物
JP2005223238A (ja) * 2004-02-09 2005-08-18 Konica Minolta Holdings Inc 有機半導体材料及びそれを用いた有機薄膜トランジスタ、電界効果有機薄膜トランジスタ並びにそれらを用いたスイッチング素子
JP2006060116A (ja) * 2004-08-23 2006-03-02 Konica Minolta Holdings Inc 有機薄膜トランジスタ材料、有機薄膜トランジスタ、電界効果トランジスタ及びスイッチング素子
JP2008291229A (ja) * 2007-04-27 2008-12-04 Sumitomo Chemical Co Ltd 複素環高分子化合物

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005223239A (ja) 2004-02-09 2005-08-18 Konica Minolta Holdings Inc 有機半導体材料及びそれを用いた有機薄膜トランジスタ、電界効果有機薄膜トランジスタ並びにそれらを用いたスイッチング素子

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63250385A (ja) * 1987-04-04 1988-10-18 Tokuyama Soda Co Ltd ハロゲン化複素環式化合物の製造方法
WO2005070994A1 (ja) * 2004-01-26 2005-08-04 Konica Minolta Holdings, Inc. 有機半導体材料、有機トランジスタ、電界効果トランジスタ、スイッチング素子及びチアゾール化合物
JP2005223238A (ja) * 2004-02-09 2005-08-18 Konica Minolta Holdings Inc 有機半導体材料及びそれを用いた有機薄膜トランジスタ、電界効果有機薄膜トランジスタ並びにそれらを用いたスイッチング素子
JP2006060116A (ja) * 2004-08-23 2006-03-02 Konica Minolta Holdings Inc 有機薄膜トランジスタ材料、有機薄膜トランジスタ、電界効果トランジスタ及びスイッチング素子
JP2008291229A (ja) * 2007-04-27 2008-12-04 Sumitomo Chemical Co Ltd 複素環高分子化合物

Non-Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JPN6012042092; ＣＨＥＮ，　Ｔ．: Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ａｍｅｒｉｃａｎ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｓｏｃｉｅｔｙ Ｖｏｌ．１１７，　Ｎｏ．１, 1995, ｐ．２３３-４４ *
JPN6012042094; ＢＩＤＡＮ，　Ｇ．: Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　ｏｆ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｖｏｌ．１０，　Ｎｏ．４, 1998, ｐ．１０５２-１０５８ *
JPN6012042096; ＬＯＥＷＥ，　Ｒ．　Ｓ．: Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ Ｖｏｌ．３４，　Ｎｏ．１３, 2001, ｐ．４３２４-４３３３ *
JPN6012042097; ＳＴＡＮＥＴＴＹ，　Ｐ．: Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｖｏｌ．７１，　Ｎｏ．１０, 2006, ｐ．３７５４-３７６１ *
JPN6012042098; ＢＯＧＡ，　Ｃ．: Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｖｏｌ．６０１，　Ｎｏ．２, 2000, ｐ．２３３-２３６ *
JPN6012042100; ＨＯＤＧＥＴＴＳ，　Ｋ．　Ｊ．: Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｌｅｔｔｅｒｓ Ｖｏｌ．４，　Ｎｏ．８, 2002, ｐ．１３６３-１３６５ *
JPN6012042101; ＨＯＤＧＥＴＴＳ，　Ｋ．　Ｊ．: Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｌｅｔｔｅｒｓ Ｖｏｌ．４，　Ｎｏ．１７, 2002, ｐ．２９０５-２９０７ *
JPN6012042103; ＯＫＯＮＹＡ，　Ｊ．　Ｆ．: Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔｅｒｓ Ｖｏｌ．４３，　Ｎｏ．３９, 2002, ｐ．７０５１-７０５３ *
JPN6012042106; Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ Ｖｏｌ．３６，　Ｎｏ．２１, 2003, ｐ．７９８６-７９９３ *
JPN6012042108; Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　ｏｆ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｖｏｌ．９，　Ｎｏ．５, 1997, ｐ．１２１７-１２２５ *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020515602A (ja) * 2017-03-29 2020-05-28 メルク、パテント、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツングＭｅｒｃｋ Ｐａｔｅｎｔ ＧｍｂＨ 芳香族化合物

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