JP2008149731A - 高分子樹脂フィルム及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 溶液製膜法で製造する光学用途透明フィルム、写真感光材料用支持体フィルム等において、フィルム表面に各種機能層を塗工しても塗工ムラが発生しないようにした高分子樹脂フィルム及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 溶液製膜法によって製造されたものであって、ウェブ長手方向の周期的な厚みムラのピッチａ［ｃｍ］と厚みムラ率ｄ［％］とが以下の式（１）を満たすことを特徴とする高分子樹脂フィルム。
ｄ≦０.４６ａ^３−０.９１ａ^２＋０.６０ａ＋１.０１……（１）
（但し、０.２＜ａ＜３）
【選択図】 なし

Description

本発明は、偏光板保護膜等の光学用途透明フィルム、写真感光材料用支持体フィルム等に用いることができる高分子樹脂フィルム及びその製造方法に関し、さらに詳しくは、フィルム表面に機能層を塗工した際、塗工ムラが発生しないようにした高分子樹脂フィルム及びその製造方法に関するものである。

一般に、光学用途透明フィルム、写真感光材料用支持体フィルム等のフィルムとしては、セルローストリアセテートフィルム等が用いられており、このセルローストリアセテートフィルム等は溶液製膜法により製造されている。溶液製膜法は、有機溶媒に溶かしたポリマー溶液をダイから支持体上に流延するとともに、ダイ近傍に設けた減圧チャンバーにより流延リボン（ダイ吐出口から支持体着地までの間の液膜。以下同様）を支持体に密接に接触させるものである。このような溶液製膜法としては、例えば、特公昭４９−３６９４６号公報においては、エアー同伴を防止するために２つの吸引室を持つ減圧チャンバーを設け液体組成物流とローラーとを密接に接触させる液体組成物のキャスト方法が提案されており、特公昭６２−３８１３３号公報及び特公昭６３−５７２２２号公報においては、隔離壁で２つの真空帯域を設けることにより端部ビードを安定化できるウェブの均一押しつけ装置が提案されており、特開平５−８６２１２号公報等においては、良溶剤と貧溶剤とを特定の割合にしたドープを用いることによりカワバリの発生を防止した流延方法が提案されている。

しかしながら、上述した従来の溶液製膜法で製造された高分子樹脂フィルムは、減圧チャンバー内部の気柱振動、減圧のための吸引ダクトの気柱振動、ブロワーの振動が伝わった減圧チャンバーの振動等の風圧振動や機械振動による振動外乱により、流延リボンがある周波数で振動するので、フィルムの長手方向に微小な周期的な段状の厚みムラが発生するものであった。

特に、近年、液晶表示装置（以下、ＬＣＤという）の薄型化が進み、それぞれの素子も薄膜化が求められており、偏光板用保護膜も薄膜化が要求されているが、薄膜化することにより溶液製膜法の特徴であるレベリング効果が低減して種々の厚みムラが顕在化してくるものであった。

ところで、光学用途透明フィルムは、例えばハードコートや反射防止機能を付与するためにアンチグレア層を塗工しているが、ベースに厚みムラが存在するとそれに起因する塗工ムラが発生し、光学用途のフィルムの外観価値や機能性を阻害するので、ＬＣＤ等において品質上の大きな問題であった。

また、写真感光材料用支持体においても乳剤塗工において同様な問題が生じるものであった。

本発明は、以上の問題点を解決し、溶液製膜法で製造されたフィルムに各種機能層を塗工しても塗工ムラが発生しない高分子樹脂フィルム及びその製造方法を提供することを目的とする。

本発明者は、上記目的を達成するために鋭意研究し、周期的な長手方向の厚みムラの所定範囲において、厚みムラのピッチと厚みムラとの関係が所定の領域にあると、高分子樹脂フィルムを塗工に供しても良好な外観品質を得ることを見出し、本発明を完成させたものである。

すなわち、本発明による高分子樹脂フィルムは、溶液製膜法によって製膜されたものであって、ウェブ長手方向の周期的な厚みムラのピッチａ［ｃｍ］と厚みムラ率ｄ［％］とが以下の式（１）を満たすことを特徴として構成されている。
ｄ≦０.４６ａ^３−０.９１ａ^２＋０.６０ａ＋１.０１……（１）
（但し、０.２＜ａ＜３）

さらに、本発明者は、流延リボンの伸縮率と、流延速度及び伸縮周波数との関係が所定の領域にあると、高分子樹脂フィルムを塗工に供しても良好な外観品質を得ることを見出し、本発明を完成させたものである。

すなわち、本発明による高分子樹脂フィルムの製造方法は、高分子樹脂を有機溶媒に溶かした溶液をダイから支持体に流延してフィルムを製造する方法において、流延速度ｖ［ｃｍ／ｓ］、伸縮周波数ｆ［１／ｓ］及び伸縮率ｅ［％］が、以下の式（３）を満たすことを特徴として構成されている。
ｅ≦０.４６(ｖ／ｆ)^３−０.９１(ｖ／ｆ)^２＋０.６０(ｖ／ｆ)＋１.０１
……（３）
(但し、０.２＜(ｖ／ｆ)＜３)

本発明は、溶液製膜法で製造したフィルムの長手方向に発生する周期的な厚みムラに対して、そのピッチと厚みムラとの関係が適切な領域に入るように設定することにより、該フィルムを塗工に供しても良好な外観品質を得ることができる。

本発明の高分子樹脂フィルムにおいては、ウェブ長手方向の厚みムラピッチａ［ｃｍ］が０．２〜３ｃｍの範囲にある段状の厚みムラに関し、厚みムラのピッチａと厚みムラ率ｄ［％］とが、以下の式（１）を満たすものであり、
ｄ≦０.４６ａ^３−０.９１ａ^２＋０.６０ａ＋１.０１……（１）
さらに、好ましくは以下の式（２）を満たすものである。
ｄ≦０.１９ａ^３−０.３８ａ^２＋０.２５ａ＋０.４２……（２）

すなわち、本発明者は、ウェブの長手方向の周期的な厚みムラのピッチａ［ｃｍ］と厚みムラ率ｄ［％］との関係と、塗工ムラの見え方の強弱とについて、図１に示すような結果を得た。図１において、曲線ａは上記式（１）を示し、曲線ｂは上記式（２）を示し、曲線ａより上の領域は、塗工ムラが強く見える領域であり、曲線ａと曲線ｂとの間の領域は、塗工ムラが弱く見える領域であり、曲線ｂの下の領域は、塗工ムラが見えない領域である。このような塗工ムラの強弱は、目視観察により判断した。

なお、厚みムラ率は、厚みムラの凹凸の最大値と最小値との差をフィルムの平均厚さで割った値である。厚みムラのピッチ及び厚みムラ率の測定は、フィルムの厚みを長手方向に連続測定し、そのチャートから周期的な厚みムラのピッチと厚みムラの最大値、最小値及び平均値を読み取る方法や、厚み変動値の周波数分析と最大ピーク値を読み取る方法により行うことができる。厚みの連続測定方法は、接触式連続厚み計や非接触式連続厚み計などにより行うことができる。

厚みムラピッチ及び厚みムラを以上のような所定範囲に設定するには、溶液の送液量脈動、流延部の機械振動、支持体の速度ムラ、ダイリップ吐出リボン部の静圧変動及び動圧変動の抑制、適切なリボン長の設定等により達成することができる。

また、ウェブの長手方向の厚みムラのピッチが０．２ｃｍ以下において、厚みムラ率が２％以下であることが好ましく、１％以下であることがより好ましい。厚みムラ率が２％を超えると、塗工ムラが強く見えることとなる。

さらに、ウェブの長手方向の厚みムラのピッチが３ｃｍ以上において、厚みムラ率が７％以下であることが好ましく、２．８％以下であることがより好ましい。厚みムラ率が７％を超えると、塗工ムラが強く見えることとなる。

本発明の高分子樹脂フィルの製造方法においては、流延速度を伸縮周波数で割った値が０．２〜３ｃｍの範囲において、流延速度ｖ［ｃｍ／ｓ］、伸縮周波数ｆ［１／ｓ］及び流延リボンの伸縮率ｅ［％］が、以下の式（３）を満たすものであり、
ｅ≦０.４６(ｖ／ｆ)^３−０.９１(ｖ／ｆ)^２＋０.６０(ｖ／ｆ)＋１.０１
……（３）
さらに、好ましくは以下の式（４）を満たすものである。
ｅ≦０.１９(ｖ／ｆ)^３−０.３８(ｖ／ｆ)^２＋０.２５(ｖ／ｆ)＋０.４２
……（４）

すなわち、本発明者は、流延リボンの伸縮率ｅと、流延速度ｖ及び伸縮周波数ｆとについて、図２に示すような結果を得た。図２において、曲線ｃは上記式（３）を示し、曲線ｄは上記式（４）を示し、曲線ｃより上の領域は、塗工ムラが強く見える領域であり、曲線ｃと曲線ｄとの間の領域は、塗工ムラが弱く見える領域であり、曲線ｄの下の領域は、塗工ムラが見えない領域である。このような塗工ムラの強弱は、目視観察により判断した。

流延リボンの平均長さｌは、流延ダイ吐出口から支持体着地までの液膜の長さである。流延リボンの平均長さｌは、流延リボンをビデオ撮影し最大長さと最小長さを測定し、それらの平均値より求める。

流延速度ｖは、支持体の移動速度である。支持体駆動モーターの回転数或いは、支持体の移動速度を接触又は非接触速度計により直接測定することにより求める。

伸縮周波数ｆは、１秒間の流延リボンの伸縮回数である。流延ビデオ画像より、流延リボンの長さの変化を連続測定し、周波数分析を行うことにより求める。

伸縮率ｅは、流延リボンの最大長さと最小長さとの差を平均長さで割った値である。

これらの流延速度、伸縮周波数及び伸縮率を以上のような所定範囲に設定するには、溶液の送液量脈動、流延部の機械振動、支持体の速度ムラ、ダイリップ吐出リボン部の静圧変動及び動圧変動の抑制、適切なリボン長の設定等により達成することができる。

流延リボンを含む雰囲気の静圧変動幅は、２．４Ｐａ以下であることが好ましく、２．０Ｐａ以下であることがよりに好ましく、０．５Ｐａ以下であることが最も好ましい。制圧変動幅が２．４Ｐａを超えると、厚みムラが大きくなりすぎ実用化できない。静圧変動幅を上記２．４Ｐａ以下にするには、送風ダクトの振動防止などにより行うことができる。静圧変動幅は、圧力センサーにより、静圧を連続測定し、そのチャートから周期的な静圧変動の周期と静圧変動の最大値、最小値を読み取る方法や、静圧変動値の周波数分析と最大ピーク値を読み取る方法により測定することができる。

本発明による高分子樹脂フィルムを製造する溶液製膜装置の例を図３〜図８を参照して説明する。

図３は溶液製膜装置の流延ダイ部分の模試図である。図３においては、１は流延ダイ、２は支持体（流延バンド又は流延ドラム）、３は減圧チャンバーで、４は流延ダイ１から支持体（流延バンド又は流延ドラム）２に流延されている流延リボンである。

溶液製膜装置としては、表面が鏡面処理された流延バンドを用いた溶液製膜装置であっても、流延ドラムを用いた溶液製膜装置であってもよい。流延バンドを用いた溶液製膜装置を図４に、流延ドラムを用いた溶液製膜装置を図５に示す。

図４に示すバンド式の溶液製膜装置において、１０は流延ダイで、この流延ダイ１０に対向して回転ドラム２０が設けられており、この回転ドラム２０に流延バンド３０が巻き掛けられて走行するようになっている。また、流延ダイ１０に隣接して減圧チャンバー４０が設けられ、この減圧チャンバー４０は、吸引ダクト５０及びバッファータンク６０を介してブロワー７０に連結されている。

図５に示すドラム式の溶液製膜装置において、８０は流延ドラムで、バンド式の溶液製膜装置における回転ドラム２０及び流延バンド３０の代わりに設けられている。なお、減圧チャンバー４０、吸引ダクト５０、バッファータンク６０及びブロワー７０は同一に構成されている。

上記流延ダイとしては、図６、図７及び図８に示すようなものを用いることができる。

図６は、単層のフィルムを製膜する際に用いる流延ダイで、この流延ダイ１０は、１つのマニホールド１１が形成されている。図７は、マルチマニホールド型の共流延ダイで、この共流延ダイ１０は、３つのマニホールド１２が形成され３層構成のフィルムを製膜できるものである。図８は、フィードブロック型の共流延ダイで、この共流延ダイ１０は、マニホールド１３が形成されると共に、フィードブロック１４が設けられ、フィードブロック１３において合流させられて複数層（図８においては３層）になったドープを流延するものである。なお、以上の流延ダイにおいては、コートハンガーダイを使用しているが、これに限定されるものでなく、Ｔダイ等他の形状のダイであっても良い。

溶液製膜法におけるダイリップクリアランスｃ１は、通常０．２ｍｍから３ｍｍの範囲で設定し、好ましくは０．５ｍｍから２．５ｍｍの範囲で設定するのが良いが、これに限定されるものではない。

流延ダイと支持体の距離ｈは通常１ｍｍから１０ｍｍの範囲で設定し、好ましくは１．５ｍｍから６ｍｍの範囲で設定するのが良いが、これに限定されるものではない。

減圧チャンバーの減圧度ｐは、通常−５００〜−１０Ｐａの範囲で設定し、好ましくは−４００〜−２０Ｐａで設定するのが良いがこれに限定されるものではない。

流延速度ｖは、通常３ｍ／分〜１５０ｍ／分の範囲で設定し、好ましくは１０ｍ／分〜１００ｍ／分の範囲で設定するのが良いが、これに限定されるものではない。

フィルムの厚みｔは、２０〜５００μｍが好ましく、３０〜３００μｍがより好ましく、３５〜２００μｍが最も好ましいが、これに限定されるものではない。

溶液の送液量脈動は０．３％以下、流延ダイの振動変位量は、ダイと支持体の距離の０．０２％以下、支持体の速度ムラは支持体平均速度に対し０．０２％以下であることが好ましい。

溶液製膜装置の流延部近傍には、流延リボンに作用する動圧外乱を小さくできるので、遮風手段を設けることが好ましい。遮風手段としては、遮風板、遮風ブロック、遮風箱、遮風フィンを用いることができる。また、遮風手段には、遮風効果をより大きくするために、吸引手段（ブロワ−等）を設けることが好ましい。なお、これらの遮風手段及び吸引手段は、単独で用いても、任意に組み合わせて用いてもよい。

遮風手段を設けた溶液製膜装置の例を図９〜図３３を参照して説明する。
図９に示す溶液製膜装置は、流延ダイ１０の下流側（流延リボン１００の流れる方向側。以下同様）に密着して遮風板９１が設けられている。図１０に示す溶液製膜装置は、流延ダイ１０の上流側（流延リボンの流れる方向側と反対方向側。以下同様）に密着して遮風板９１が設けられている。図１１に示す溶液製膜装置は、流延ダイ１０の下流側に少しの間隔を隔てて遮風板９１が設けられている。図１２に示す溶液製膜装置は、流延ダイ１０の上流側に少しの間隔を隔てて遮風板９１が設けられている。図１３に示す溶液製膜装置は、流延ダイ１０の下流側に少しの間隔を隔てて２枚の遮風板９１が設けられている。図１４に示す溶液製膜装置は、流延ダイ１０の上流側に少しの間隔を隔てて２枚の遮風板９１が設けられている。

図１５に示す溶液製膜装置は、流延ダイ１０の下流側に密着して遮風ブロック９２が設けられている。図１６に示す溶液製膜装置は、流延ダイ１０の上流側に密着して遮風ブロック９２が設けられている。図１７に示す溶液製膜装置は、流延ダイ１０の下流側に少しの間隔を隔てて遮風ブロック９２が設けられている。図１８に示す溶液製膜装置は、流延ダイ１０の下流側に少しの間隔を隔てて遮風ブロック９２が設けられている。

図１９に示す溶液製膜装置は、流延ダイ１０の下流側に密着して遮風箱９３が設けられている．図２０に示す溶液製膜装置は、流延ダイ１０の上流側に密着して遮風箱９３が設けられている。図２１に示す溶液製膜装置は、流延ダイ１０の下流側に密着して遮風箱９３が設けられ、また、この遮風箱９３に吸引用のブロワ−９４が設けられている。図２２に示す溶液製膜装置は、流延ダイ１０の上流側に密着して遮風箱９３が設けられ、また、この遮風箱９３に吸引用のブロワ−９４が設けられている。

図２３に示す溶液製膜装置は、流延ダイ１０の下流側に密着して遮風フィン９５が設けられている。図２４に示す溶液製膜装置は、流延ダイ１０の上流に密着して遮風フィン９５が設けられている。図２５に示す溶液製膜装置は、流延ダイ１０の下流側に少しの間隔を隔てて背の低い遮風フィン９５が設けられている。図２６に示す溶液製膜装置は、流延ダイ１０の上流に背の低い遮風フィン９５が設けられている。

図２７に示す溶液製膜装置は、流延ダイ１０の両側に密着して遮風板９１が設けられている。図２８に示す溶液製膜装置は、流延ダイ１０の両側に少しの間隔を隔てて遮風板９１が設けられている。図２９に示す溶液製膜装置は、流延ダイ１０の両側に密着して遮風ブロック９２が設けられている。図３０に示す溶液製膜装置は、流延ダイ１０の両側に密着して遮風箱９３が設けられている。図３１に示す溶液製膜装置は、流延ダイ１０の両側に密着して遮風板９３が設けられ、また、この遮風箱９３にブロワ−９４が設けられている。図３２に示す溶液製膜装置は、流延ダイ１０の両側に密着して遮風フィン９５が設けられている。図３３に示す溶液製膜装置は、流延ダイ１０の両側に少しの間隔を隔てて背の低い遮風フィン９５が設けられている。

本発明の高分子樹脂フィルムは溶液製膜法で製造されるものであるが、この溶液製膜法に用いられるポリマー溶液の素材ポリマーとしては、セルロースアシレート、ポリカーボネート等が用いられる。セルロースアシレートの詳細について、以下に記載する。好ましいセルロースアシレートは、セルロースの水酸基への置換度が下記式（１）〜（４）のすべてを満足するものである。
（１） ２．６≦Ａ＋Ｂ≦３．０
（２） ２．０≦Ａ≦３．０
（３） ０≦Ｂ≦０．８
（４） １．９＜Ａ−Ｂ

ここで、式中Ａ及びＢはセルロースの水酸基に置換されているアシル基の置換基を表し、Ａはアセチル基の置換度、またＢは炭素原子数３〜５のアシル基の置換度である。セルロースには１グルコース単位に３個の水酸基があり、上記の数字はその水酸基３．０に対する置換度を表すもので、最大の置換度が３．０である。セルローストリアセテートは一般にＡの置換度が２．６以上３．０以下であり（この場合、置換されなかった水酸基が最大０．４もある）、Ｂ＝０の場合がセルローストリアセテートである。本発明の溶液製膜方法のポリマー溶液に用いるセルロースアシレートは、アシル基が全部アセチル基のセルローストリアセテート、及びアセチル基が２．０以上で、炭素原子数が３〜５のアシル基が０．８以下、置換されなかった水酸基が０．４以下のものが好ましく、置換度２．６〜３．０のセルローストリアセテートが特に好ましい。なお、置換度は、セルロースの水酸基に置換する酢酸及び炭素原子数３〜５の脂肪酸の結合度を測定し、計算によって得られる。測定方法としては、ＡＳＴＭのＤ−８１７−９１に準じて実施することができる。

アセチル基の他の炭素原子数３〜５のアシル基はプロピオニル基（Ｃ_２Ｈ_５ＣＯ−）、ブチリル基（Ｃ_３Ｈ_７ＣＯ−）（ｎ−、ｉｓｏ−）、バレリル基（Ｃ_４Ｈ_９ＣＯ−）（ｎ−、ｉｓｏ−、ｓｅｃ−、ｔｅｒｔ−）で、これらのうちｎ−置換のものがフィルムにした時の機械的強さ、溶解し易さ等から好ましく、特にｎ−プロピオニル基が好ましい。また、アセチル基の置換度が低いと機械的強さ、耐湿熱性が低下する。炭素原子数３〜５のアシル基の置換度が高いと有機溶剤への溶解性は向上するが、それぞれの置換度が前記の範囲であれば良好な物性を示す。

セルロースアシレートの重合度（粘度平均）は２００〜７００が好ましく、特に２５０〜５５０のものが好ましい。粘度平均重合度（ＤＰ）は、オストワルド粘度計で求めることができ、測定されたセルロースアシレートの固有粘度［η］から下記式により求められる。
ＤＰ＝［η］／Ｋｍ(式中、Ｋｍは定数６×１０^−４)

セルロースアシレート原料のセルロースとしては、綿花リンターや木材パルプなどがあるが、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、また、これらを混合して使用してもよい。

セルロースアシレートを溶解する有機溶剤の例には、炭化水素（例：ベンゼン、トルエン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン）、ハロゲン化炭化水素（例：メチレンクロライド、クロロベンゼン）、アルコール（例：メタノール、エタノール、ジエチレングリコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、プロパノール、イソ−プロパノール、１−ブタノール、ｔ−ブタノール、２−メチル−２−ブタノール、２−メトキシエタノール、２−ブトキシエタノール）、ケトン（例：アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン）、エステル（例：酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ペンチル、酢酸ブチル、酢酸ペンチル及び２−エトキシ−エチルアセテート）及びエーテル（例：テトラヒドロフラン、メチルセロソルブ、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、アニソール、フェネトール）などがあげられる。

炭素原子数１〜７のハロゲン化炭化水素が好ましく用いられ、メチレンクロライドが最も好ましく用いられる。セルロースアシレートの溶解性、支持体からの剥ぎ取り性、フィルムの機械強度等、光学特性等の物性の観点から、メチレンクロライドの他に炭素原子数１〜５のアルコールを一種、ないし数種類混合することが好ましい。アルコールの含有量は、溶剤全体に対し２〜２５質量％が好ましく、５〜２０質量％がより好ましい。アルコールの具体例としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール等があげられるが、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール、あるいはこれらの混合物が好ましく用いられる。

溶剤はセルロースエステルフィルムの形成において除去する。溶剤の残留量は一般に５質量％未満である。残留量は、１質量％未満であることが好ましく、０．５質量％未満であることがさらに好ましい。

本発明の高分子樹脂フィルムの溶液製膜法に用いるポリマー溶液には、各調製工程において用途に応じた種々の添加剤（例えば、可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、微粒子粉体、離型剤、光学特性調整剤、フッ素系界面活性剤）を加えることができる。またその添加する時期はポリマー溶液作製工程において何れでも添加しても良いが、ポリマー溶液調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。

前記可塑剤としては、リン酸エステル又はカルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルフォスフェート（ＴＰＰ）及びトリクレジルフォスフェート（ＴＣＰ）、クレジルジフェニルフォスフェート、オクチルジフェニルフォスフェート、ジフェニルビフェニルフォスフェート、トリオクチルフォスフェート、トリブチルフォスフェート等があげられる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステル及びクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）及びジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステルの例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）及びＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチルが含まれる。

その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、トリメチルトリメリテート等のトリメリット酸エステルが含まれる。グリコール酸エステルの例としては、トリアセチン、トリブチリン、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレートなどがある。

以上に例示した可塑剤の中でも、トリフェニルフォスフェート、ビフェニルジフェニルフォスフェート、トリクレジルフォスフェート、クレジルジフェニルフォスフェート、トリブチルフォスフェート、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジエチルヘキシルフタレート、トリアセチン、エチルフタリルエチルグリコレート、トリメチルトリメリテートらを用いることが好ましい。特にトリフェニルフォスフェート、ビフェニルジフェニルフォスフェート、ジエチルフタレート、エチルフタリルエチルグリコレート、トリメチルトリメリテートが好ましい。

以上のような可塑剤は１種でもよいし２種以上併用してもよい。可塑剤の添加量は、セルロースアシレートに対して０．１〜２０質量％が好ましく、５〜１５質量％がより好ましい。添加量が０．１質量％未満では添加効果を十分に発揮することができず、添加量が２０質量％を超えると、フィルム表面にブリードアウトする場合がある。

その他、本発明においてはその光学的異方性を小さくする可塑剤として、特開平１１−１２４４４５号記載の（ジ）ペンタエリスリトールエステル類、特開平１１−２４６７０４号記載のグリセロールエステル類、特開２０００−６３５６０号記載のジグリセロールエステル類、特開平１１−９２５７４号記載のクエン酸エステル類、特開平１１−９０９４６号記載の置換フェニルリン酸エステル類などが好ましく用いられる。

前記紫外線吸収剤は、目的に応じ任意の種類のものを選択することができ、サリチル酸エステル系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系、シアノアクリレート系、ニッケル錯塩系等の吸収剤を用いることができるが、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸エステル系が好ましい。ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の例として、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−アセトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４，４’−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−メタクリロキシ）プロポキシベンゾフェノン等をあげることができる。ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール等をあげることができる。サリチル酸エステル系としては、フェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニルサリシレート、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルサリシレート等をあげることができる。これら例示した紫外線吸収剤の中でも、特に２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４，４’−メトキシベンゾフェノン、２（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾールが特に好ましい。

紫外線吸収剤は、吸収波長の異なる複数の吸収剤を複合して用いることが、広い波長範囲で高い遮断効果を得ることができるので好ましい。液晶用紫外線吸収剤は、液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ、液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。特に好ましい紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系化合物やベンゾフェノン系化合物である。中でも、ベンゾトリアゾール系化合物は、セルロースエステルに対する不要な着色が少ないことから、好ましい。

また、紫外線吸収剤については、特開昭６０−２３５８５２号、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号、同６−１１８２３３号、同６−１４８４３０号、同７−１１０５６号、同７−１１０５５号、同７−１１０５６号、同８−２９６１９号、同８−２３９５０９号、特開２０００−２０４１７３号の各公報に記載がある。

紫外線吸収剤の添加量は、セルロースアシレートに対し０．００１〜５質量％が好ましく、０．０１〜１質量％がより好ましい。添加量が０．００１質量％未満では添加効果を十分に発揮することができず、添加量が５質量％を超えると、フィルム表面へ紫外線吸収剤がブリードアウトする場合がある。

また、紫外線吸収剤はセルロースアシレート溶解時に同時に添加しても良いし、溶解後のポリマー溶液に添加しても良い。特にスタティックミキサ等を用い、流延直前にポリマー溶液に紫外線吸収剤溶液を添加する形態が、分光吸収特性を容易に調整することができるので好ましい。

前記劣化防止剤は、セルローストリアセテート等が劣化、分解するのを防止することができる。劣化防止剤としては、ブチルアミン、ヒンダードアミン化合物（特開平８−３２５５３７号公報）、グアニジン化合物（特開平５−２７１４７１号公報）、ベンゾトリアゾール系ＵＶ吸収剤（特開平６−２３５８１９号公報）、ベンゾフェノン系ＵＶ吸収剤（特開平６−１１８２３３号公報）などの化合物がある。

このうち、ヒンダードアミン化合物の例としては、ｔ−ブチルアミン、トリフェニルアミン、トリベンジルアミン等がある。また、グアニジン誘導体として、下記式（１ａ）、（１ｂ）で示される化合物等がある。

劣化防止剤の添加量は、０．００１〜５％が好ましく、０．０１〜１％がより好ましい。添加量が０．００１％未満であると添加効果が少なく、添加量が５％を超えると、原料コストが上昇して不利である。

前記微粒子粉体としては、シリカ、カオリン、タルク、ケイソウ土、石英、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化チタン、アルミナなどを目的に応じ、任意に用いることができる。これら微粒子粉体はポリマー溶液に添加する前に、高速ミキサー、ボールミル、アトライター、超音波分散機等、任意の手段でバインダー溶液中に分散を行うことが好ましい。バインダーとしてはセルロースアシレートが好ましい。紫外線吸収剤等、他の添加物と共に分散を行うことも好ましい。分散溶媒は任意であるが、ポリマー溶液溶媒と近い組成であることが好ましい。

微粒子粉体の数平均粒径は０．０１〜１００μｍが好ましく、０．１〜１０μｍが特に好ましい。上記の分散液はセルロースアシレート溶解工程に同時に添加しても良いし、任意の工程でポリマー溶液に添加できるが、紫外線吸収剤同様スタティックミキサ等を用い、流延直前に添加する形態が好ましい。

微粒子粉体の含有量は、セルロースアシレートに対して０．００１〜５質量％であることが好ましく、０．０１〜１質量％であることがより好ましい。添加量が０．００１質量％未満では添加効果を十分に発揮することができず、添加量が５質量％を超えると、外観面状が悪くなる場合がある。

前記離型剤としては、界面活性剤が有効であり、リン酸系、スルフォン酸系、カルボン酸系、ノニオン系、カチオン系など特に限定されない。これらは、例えば特開昭６１−２４３８３７号などに記載されている。離型剤の添加量は、セルロースアシレートに対して０．００１〜２質量％が好ましく、０．０１〜１質量％がより好ましい。添加量が０．００１質量％未満であれば添加効果を十分に発揮することができず、添加量が２質量％を超えると、析出したり、不溶解物を生じたりすることがある。

ノニオン系界面活性剤としては、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレン、ポリグリシジルやソルビタンをノニオン性親水性基とする界面活性剤であり、具体的には、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニールエーテル、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレングリコール、多価アルコール脂肪酸部分エステル、ポリオキシエチレン多価アルコール脂肪酸部分エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステル、脂肪酸ジエタノールアミド、トリエタノールアミン脂肪酸部分エステルを挙げることができる。

アニオン系界面活性剤としてはカルボン酸塩、硫酸塩、スルフォン酸塩、リン酸エステル塩であり、代表的なものとしては脂肪酸塩、アルキルベンゼンスルフォン酸塩、アルキルナフタレンスルフォン酸塩、アルキルスルフォン酸塩、α−オレフィンスルフォン酸塩、ジアルキルスルフォコハク酸塩、α−スルフォン化脂肪酸塩、Ｎ−メチルーＮオレイルタウリン、石油スルフォン酸塩、アルキル硫酸塩、硫酸化油脂、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニールエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンスチレン化フェニールエーテル硫酸塩、アルキルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩、ナフタレンスルフォン酸塩ホルムアルデヒド縮合物などである。

カチオン系界面活性剤としてはアミン塩、４級アンモニウム塩、ピリジュム塩などを挙げることができ、第一〜第３脂肪アミン塩、第４級アンモニウム塩（テトラアルキルアンモニウム塩、トリアルキルベンジルアンモニウム塩、アルキルピリジウム塩、アルキルイミダゾリウム塩など）を挙げることができる。両性系界面活性剤としてはカルボキシベタイン、スルフォベタインなどであり、Ｎ−トリアルキル−Ｎ−カルボキシメチルアンモニウムベタイン、Ｎ−トリアルキル−Ｎ−スルフォアルキレンアンモニウムベタインなどである。

前記フッ素系界面活性剤を添加することにより、帯電防止効果を発揮することができる。フッ素系界面活性剤の添加量は、セルロースアシレートに対して０．００２〜２質量％が好ましく、０．０１〜０．５質量％がより好ましい。添加量が０．００２質量％未満であれば添加効果を十分に発揮することができず、添加量が２質量％を超えると、析出したり、不溶解物を生じたりすることがある。

本発明においては、レターデーション上昇剤（光学特性調整剤）を添加することができる。レターデーション上昇剤を添加することにより、光学異方性をコントロールすることができる。レターデーション上昇剤は、セルロースアシレートフイルムのレターデーションを調整するため、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物を使用することが好ましい。芳香族化合物は、セルロースアシレート１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部の範囲で使用する。芳香族化合物は、セルロースアセレート１００質量部に対して、０．０５〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、０．１〜１０質量部の範囲で使用することがさらに好ましい。二種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。

芳香族炭化水素環は、６員環（すなわち、ベンゼン環）であることが特に好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環又は７員環であることが好ましく、５員環又は６員環であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環及び１，３，５−トリアジン環が含まれる。

本発明においては、着色剤を添加することができる。着色剤を添加することにより、感光材料支持体等に用いる場合、ライトパイピングを防止することができる。着色剤の添加量は、セルロースアシレートに対する重量割合で１０〜１０００ｐｐｍが好ましく、５０〜５００ｐｐｍが更に好ましい。

また、本発明におけるポリマー溶液には、ルシウム、マグネシウムなどのアルカリ土類金属の塩などの熱安定剤、帯電防止剤、難燃剤、滑剤、油剤などを、必要に応じて適宜添加することができる。

本発明の溶液製膜方法により製造されるフィルムの光学特性について記す。まず、フィルムの面内のレターデーション（Ｒｅ）について記すと、その測定法はエリプソメーター（偏光解析計ＡＥＰ−１００：島津製作所（株）製）を用いて、波長６３２．８ｎｍにおける面内の縦横の屈折率差にフィルム膜厚さを乗じたものであり、下記の式で求められる。
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
ｎｘ：横方向の屈折率
ｎｙ：縦方向の屈折率

レターデーション（Ｒｅ）は、小さいほど面内方向の光学異方性がないことを示し、０〜３００ｎｍの範囲で用途に応じて用いられる。また、フィルムの厚さ方向のレターデーション（Ｒｔｈ）も重要であり、波長６３２．８ｎｍにおける厚さ方向の複屈折にフィルム膜厚さを乗じたものであり、下記の式で求められる。
Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
ｎｘ：横方向の屈折率
ｎｙ：縦方向の屈折率
ｎｚ：厚さ方向の屈折率

厚さ方向の屈折率が小さいほど、厚さ方向の光学異方性がないことを示すが、その使用用途によって好ましい範囲は定まる。一般には、本発明により製造されたセルロースアシレートフィルムのＲｔｈは１００μｍ当たり、０ｎｍ〜６００ｎｍであり、さらには０ｎｍ〜４００ｎｍで用いられる。

本発明の高分子樹脂フィルムは、例えば、偏光板保護膜、光学補償シート、ＡＲ、ＬＲ、ＡＧ膜用支持体フィルム等の光学用途フィルム、写真感光材料用支持体フィルムとしても利用することができる。

本発明の高分子樹脂フィルムを光学補償シートに利用する場合、フイルムそのものを光学補償シートとして用いることができる。なお、フイルムそのものを光学補償シートとして用いる場合は、偏光板の透過軸と、光学補償シートの遅相軸とを実質的に平行又は垂直になるように配置することが好ましい。このような偏光板と光学補償シートとの配置については、特開平１０−４８４２０号公報に記載がある。液晶表示装置は、二枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光板、及び該液晶セルと該偏光板との間に少なくとも一枚の光学補償シートを配置した構成を有している。

液晶セルの液晶層は、通常は、二枚の基板の間にスペーサーを挟み込んで形成した空間に液晶を封入して形成する。透明電極層は、導電性物質を含む透明な膜として基板上に形成する。液晶セルには、さらにガスバリアー層、ハードコート層あるいは（透明電極層の接着に用いる）アンダーコート層（下塗り層）を設けてもよい。これらの層は、通常、基板上に設けられる。液晶セルの基板は、一般に５０μｍ〜２ｍｍの厚さを有する。

光学補償シートは複屈折性を有し、液晶表示装置の表示画面の着色を取り除いたり、視野角特性を改善したりする目的で用いられる。本発明によるセルロースアシレートフィルムそのものを、光学補償シートとして用いることができる。さらに反射防止層、防眩性層、λ／４層や２軸延伸セルロースアシレートフィルムとして機能を付与してもよい。また、液晶表示装置の視野角を改良するため、本技術のセルロースアシレートフィルムと、それとは（正／負の関係が）逆の複屈折を示すフィルムを重ねて光学補償シートとして用いてもよい。

また、支持体の上に液晶性化合物（特にディスコティック液晶性分子）を含む光学的異方性層を設けた光学補償シートも提案されている（特開平３−９３２５号、同６−１４８４２９号、同８−５０２０６号、同９−２６５７２号の各公報記載）。本発明の高分子樹脂フィルムそのような光学補償シートの支持体としても用いることができる。

前記偏光板の偏光素子には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。いずれの偏光素子も、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。偏光板の保護膜は、２５〜３５０μｍの厚さを有することが好ましく、４０〜２００μｍの厚さを有することがさらに好ましい。液晶表示装置には、表面処理膜を設けてもよい。表面処理膜の機能には、ハードコート、防曇処理、防眩処理及び反射防止処理が含まれる。

前記光学的異方性層は、負の一軸性を有し傾斜配向したディスコティック液晶性分子を含む層であることが好ましい。ディスコティック液晶性分子を含む層が、円盤面と支持体面とのなす角が光学的異方性層の深さ方向において変化したハイブリッド配向していても構わないし、円盤面が支持体面と平行なホメオトロピック配向、円盤面が支持体面と垂直なホモジニアス配向、又は、円盤面が光学的異方性層の深さ方向でねじれているツイスト配向を取っていても構わない。また、これらの配向が混在した配向（例えば、ハイブリッド配向＋ツイスト配向）していても構わない。そのなかでもハイブリッド配向していることが好ましい。ディスコティック液晶性分子ひとつひとつの光軸は、円盤面の法線方向に存在する。しかし、ディスコティック液晶性分子がハイブリッド配向している層全体としては、光軸は存在しない。

本発明の溶液製膜方法により製造されるフィルムは、様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ−ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）及びＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）のような様々な表示モードが提案されている。また、上記表示モードを配向分割した表示モードも提案されている。セルロースアシレートフィルムは、いずれの表示モードの液晶表示装置においても有効である。また、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表示装置においても有効である。

本発明の高分子樹脂フィルムをＴＮモードの液晶セルを有するＴＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として用いてもよい。ＴＮモードの液晶セルとＴＮ型液晶表示装置については、古くから良く知られている。ＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平３−９３２５号、同６−１４８４２９号、同８−５０２０６号、同９−２６５７２号の各公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１４３や、Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１０６８）に記載がある。ＴＮ型液晶表示装置については、特開平１０−１２３４７８号、ＷＯ９８４８３２０号、特許第３０２２４７７号の各公報に記載がある。

本発明の高分子樹脂フィルムをＳＴＮモードの液晶セルを有するＳＴＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として用いてもよい。一般的にＳＴＮ型液晶表示装置では、液晶セル中の棒状液晶性分子が９０〜３６０度の範囲にねじられており、棒状液晶性分子の屈折率異方性（Δｎ）とセルギャップ（ｄ）との積（Δｎｄ）が３００〜１５００ｎｍの範囲にある。ＳＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開２０００−１０５３１６号公報に記載がある。

本発明の高分子樹脂フィルムをＶＡモードの液晶セルを有するＶＡ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として用いてもよい。ＶＡ型液晶表示装置に用いる光学補償シートには、レターデーションの絶対値が最小となる方向が光学補償シートの面内にも法線方向にも存在しないことが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に用いる光学補償シートの光学的性質は、光学的異方性層の光学的性質、支持体の光学的性質及び光学的異方性層と支持体との配置により決定される。ＶＡ型液晶表示装置に光学補償シートを二枚使用する場合は、光学補償シートの面内レターデーションを、−５ｎｍ〜５ｎｍの範囲内にすることが好ましい。従って、二枚の光学補償シートのそれぞれの面内レターデーションの絶対値は、０〜５とすることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に光学補償シートを一枚使用する場合は、光学補償シートの面内レターデーションを、−１０ｎｍ〜１０ｎｍの範囲内にすることが好ましい。

本発明の高分子樹脂フィルムを、ＯＣＢモードの液晶セルを有するＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮモードの液晶セルを有するＨＡＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として用いてもよい。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートには、レターデーションの絶対値が最小となる方向が光学補償シートの面内にも法線方向にも存在しないことが好ましい。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートの光学的性質も、光学的異方性層の光学的性質、支持体の光学的性質及び光学的異方性層と支持体との配置により決定される。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平９−１９７３９７号公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３８（１９９９）ｐ．２８３７）に記載がある。

本発明の高分子樹脂フィルムをＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）モードの液晶セルを有するＡＳＭ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として用いてもよい。ＡＳＭモードの液晶セルは、セルの厚さが位置調整可能な樹脂スペーサーにより維持されているとの特徴がある。その他の性質は、ＴＮモードの液晶セルと同様である。ＡＳＭモードの液晶セルとＡＳＭ型液晶表示装置については、クメ（Ｋｕｍｅ）外の論文（Ｋｕｍｅ ｅｔ ａｌ．，ＳＩＤ ９８ Ｄｉｇｅｓｔ １０８９（１９９８））に記載がある。

溶液製膜工程において使用した原料は、以下の通りである。
セルローストリアセテート １００重量部
トリフェニルフォスフェート １０重量部
ビフェニルジフェニルフォスフェート ５重量部
メチレンクロライド ３１５重量部
メタノール ６０重量部
ｎ−ブタノール １０重量部
乾燥後の製品厚み ４０、８０μｍ
減圧チャンバー減圧度 ０〜５００Ｐａ

共流延時の副流ドープ組成
セルローストリアセテート １００重量部
トリフェニルフォスフェート １０重量部
ビフェニルジフェニルフォスフェート ５重量部
メチレンクロライド ４００重量部
メタノール ７５重量部
ｎ−ブタノール １３重量部
乾燥後の製品厚み合計 ８０μｍ
主流厚み ７６μｍ
副流厚み（上下層） 各２μｍ

前記図３に示す流延装置を用い、実施例の各条件にて、流延リボンの平均長さｌ、流延リボンを含む雰囲気の静圧変動幅Δｐ、厚みムラピッチａ、厚みムラ率ｄ、伸縮周波数ｆ、流延リボンの伸縮率ｅを測定するとともに、製膜したフィルムの塗工ムラを目視観察により評価した。

［実施例１］
下記の条件で製膜を行った。
１）流延ダイと支持体の距離ｈ＝３．５ｍｍ
２）減圧チャンバーの減圧度ｐ＝−２００Ｐａ
３）ドープ粘度μ＝４５Ｐａ・ｓ
４）ダイリップクリアランスｃ１＝０．９ｍｍ
５）流延速度ｖ＝８３．３ｃｍ／ｓ
６）ベース厚みｔ＝８０μｍ

この時、流延リボンの平均長さｌ＝１０ｍｍ、流延リボンを含む雰囲気の静圧変動幅Δｐ＝０．５Ｐａ、厚みムラのピッチａ＝０．９ｃｍ、厚みムラ率ｄ＝０．３％、伸縮周波数ｆ＝９３（１／ｓ）、流延リボンの伸縮率ｅ＝０．３％であった。

この実施例は、図１において曲線ｂより下の領域に入リ、また、図２において曲線ｄより下の領域に入り、塗工ムラは見えなかった。

［実施例２］
下記の条件で製膜を行った。
１）流延ダイと支持体の距離ｈ＝３．５ｍｍ
２）減圧チャンバーの減圧度ｐ＝−１００Ｐａ
３）ドープ粘度μ＝４５Ｐａ・ｓ
４）ダイリップクリアランスｃ１＝０．９ｍｍ
５）流延速度ｖ＝８３．３ｃｍ／ｓ
６）ベース厚みｔ＝８０μｍ

この時、流延リボンの平均長さｌ＝１４ｍｍ、流延リボンを含む雰囲気の静圧変動幅Δｐ＝０．４Ｐａ、厚みムラのピッチａ＝１．６ｃｍ、厚みムラ率ｄ＝、０．４％、伸縮周波数ｆ＝５２（１／ｓ）、流延リボンの伸縮率ｅ＝０．４％であった。

この実施例は、図１において曲線ｂより下の領域に入リ、また、図２において曲線ｄより下の領域に入り、塗工ムラは見えなかった。

［実施例３］
下記の条件で製膜を行った。
１）流延ダイと支持体の距離ｈ＝３．５ｍｍ
２）減圧チャンバーの減圧度ｐ＝−４０Ｐａ
３）ドープ粘度μ＝４５Ｐａ・ｓ
４）ダイリップクリアランスｃ１＝０．９ｍｍ
５）流延速度ｖ＝８３．３ｃｍ／ｓ
６）ベース厚みｔ＝８０μｍ

この時、流延リボンの平均長さｌ＝１９ｍｍ、流延リボンを含む雰囲気の静圧変動幅Δｐ＝０．４Ｐａ、厚みムラのピッチａ＝２．４ｃｍ、厚みムラ率ｄ＝、０．９％、伸縮周波数ｆ＝３４．７（１／ｓ）、流延リボンの伸縮率ｅ＝０．９％であった。

この実施例は、図１において曲線ｂより下の領域に入リ、また、図２において曲線ｄより下の領域に入り、塗工ムラは見えなかった。

［実施例４］
下記の条件で製膜を行った。
１）流延ダイと支持体の距離ｈ＝１．５ｍｍ
２）減圧チャンバーの減圧度ｐ＝０Ｐａ
３）ドープ粘度μ＝４５Ｐａ・ｓ
４）ダイリップクリアランスｃ１＝１．２ｍｍ
５）流延速度ｖ＝５８．３ｃｍ／ｓ
６）ベース厚みｔ＝８０μｍ

この時、流延リボンの平均長さｌ＝１２ｍｍ、流延リボンを含む雰囲気の静圧変動幅Δｐ＝０．２Ｐａ、厚みムラのピッチａ＝１．８ｃｍ、厚みムラ率ｄ＝、０．７％、伸縮周波数ｆ＝３２．４（１／ｓ）、流延リボンの伸縮率ｅ＝０．７％であった。

この実施例は、図１において曲線ａと曲線ｂの間の領域に入リ、また、図２において曲線ｃと曲線ｄの間の領域に入り、塗工ムラは見えたが弱かった。

［実施例５］
下記の条件で製膜を行った。
１）流延ダイと支持体の距離ｈ＝５ｍｍ
２）減圧チャンバーの減圧度ｐ＝１０Ｐａ
３）ドープ粘度μ＝４５Ｐａ・ｓ
４）ダイリップクリアランスｃ１＝１．５ｍｍ
５）流延速度ｖ＝８３．３ｃｍ／ｓ
６）ベース厚みｔ＝８０μｍ

この時、流延リボンの平均長さｌ＝２６ｍｍ、流延リボンを含む雰囲気の静圧変動幅Δｐ＝２．０Ｐａ、厚みムラのピッチａ＝４．０ｃｍ、厚みムラ率ｄ＝９．０％、伸縮周波数ｆ＝２０．８（１／ｓ）、流延リボンの伸縮率ｅ＝９．０％であった。

この実施例は、図１において曲線ａと曲線ｂの間の領域に入リ、また、図２において曲線ｃと曲線ｄの間の領域に入り、塗工ムラは見えたが弱かった。

［実施例６］
下記の条件で製膜を行った。
１）流延ダイと支持体の距離ｈ＝３．５ｍｍ
２）減圧チャンバーの減圧度ｐ＝３００Ｐａ
３）ドープ粘度μ＝４５Ｐａ・ｓ
４）ダイリップクリアランスｃ１＝１．０ｍｍ
５）流延速度ｖ＝８３．３ｃｍ／ｓ
６）ベース厚みｔ＝８０μｍ

この時、流延リボンの平均長さｌ＝７．０ｍｍ、流延リボンを含む雰囲気の静圧変動幅Δｐ＝２．０Ｐａ、厚みムラのピッチａ＝０．７ｃｍ、厚みムラ率ｄ＝０．５％で、伸縮周波数ｆ＝１１９（１／ｓ）、流延リボンの伸縮率ｅ＝０．５％であった。

この実施例は、図１において曲線ａと曲線ｂの間の領域に入リ、また、図２において曲線ｃと曲線ｄの間の領域に入り、塗工ムラは見えたが弱かった。

[実施例７]
下記の条件で製膜を行った。
１）流延ダイと支持体の距離ｈ＝１．５ｍｍ
２）減圧チャンバーの減圧度ｐ＝０Ｐａ
３）ドープ粘度μ＝４５Ｐａ・ｓ
４）ダイリップクリアランスｃ１＝１．２ｍｍ
５）流延速度ｖ＝３３．３ｃｍ／ｓ
６）ベース厚みｔ＝８０μｍ

この時、流延リボンの平均長さｌ＝１２．０ｍｍ、リボン近傍の静圧変動周波数＝１７０Ｈｚ、流延リボンを含む雰囲気の静圧変動幅Δｐ＝５．０Ｐａ、厚みムラのピッチａ＝０．２ｃｍ、厚みムラ率ｄ＝０．４％、伸縮周波数ｆ＝１６６．５（１／ｓ）、流延リボンの伸縮率ｅ＝０．４％であった。

この実施例は、図１において曲線ａと曲線ｂの間の領域に入リ、また、図２において曲線ｃと曲線ｄの間の領域に入り、塗工ムラは見えたが弱かった。

［実施例８］
下記の条件で製膜を行った。
１）流延ダイと支持体の距離ｈ＝３．５ｍｍ
２）減圧チャンバーの減圧度ｐ＝−３００Ｐａ
３）主流ドープ粘度μ＝４５Ｐａ・ｓ
副流ドープ粘度μｓ＝２０Ｐａ・ｓ
４）ダイリップクリアランスｃ１＝１．０ｍｍ
５）流延速度ｖ＝１３３．３ｃｍ／ｓ
６）ベース厚みｔ＝８０μｍ

この時、流延リボンの平均長さｌ＝８ｍｍ、流延リボンを含む雰囲気の静圧変動幅Δｐ＝０．２Ｐａ、厚みムラのピッチａ＝１．２ｃｍ、厚みムラ率ｄ＝０．１％、伸縮周波数ｆ＝１１１（１／ｓ）、流延リボンの伸縮率ｅ＝０．１％であった。

この実施例は、図１において曲線ｂより下の領域に入リ、また、図２において曲線ｄより下の領域に入り、塗工ムラは見えなかった。

［実施例９］
下記の条件で製膜を行った。
１）流延ダイと支持体の距離ｈ＝３．５ｍｍ
２）減圧チャンバーの減圧度ｐ＝−２００Ｐａ
３）ドープ粘度μ＝４５Ｐａ・ｓ
４）ダイリップクリアランスｃ１＝０．９ｍｍ
５）流延速度ｖ＝８３．３ｃｍ／ｓ
６）ベース厚みｔ＝８０μｍ

この時、流延リボンの平均長さｌ＝１０ｍｍ、流延リボンを含む雰囲気の静圧変動幅Δｐ＝１．２Ｐａ、厚みムラのピッチａ＝０．９ｃｍ、厚みムラ率ｄ＝０．７％、伸縮周波数ｆ＝９２．６（１／ｓ）、流延リボンの伸縮率ｅ＝０．７％であった。

この実施例は、図１において曲線ｂより下の領域に入リ、また、図２において曲線ｄより下の領域に入り、塗工ムラは見えなかった。

［比較例１］
下記の条件で製膜を行った。
１）流延ダイと支持体の距離ｈ＝３．５ｍｍ
２）減圧チャンバーの減圧度ｐ＝−１００Ｐａ
３）ドープ粘度μ＝４５Ｐａ・ｓ
４）ダイリップクリアランスｃ１＝０．９ｍｍ
５）流延速度ｖ＝８３．３ｃｍ／ｓ
６）ベース厚みｔ＝８０μｍ

この時、流延リボンの平均長さｌ＝１４ｍｍ、流延リボンを含む雰囲気の静圧変動幅Δｐ＝２．４Ｐａ、厚みムラのピッチａ＝１．６ｃｍ、厚みムラ率ｄ＝２．４％、伸縮周波数ｆ＝５２（１／ｓ）、流延リボンの伸縮率ｅ＝２．４％であった。

この比較例は、図１において曲線ｂより上の領域に入リ、また、図２において曲線ｄより上の領域に入り、塗工ムラは強く見えた。

［比較例２］
下記の条件で製膜を行った。
１）流延ダイと支持体の距離ｈ＝３．５ｍｍ
２）減圧チャンバーの減圧度ｐ＝−４０Ｐａ
３）ドープ粘度μ＝４５Ｐａ・ｓ
４）ダイリップクリアランスｃ１＝０．９ｍｍ
５）流延速度ｖ＝８３．３ｃｍ／ｓ
６）ベース厚みｔ＝８０μｍ

この時、流延リボンの平均長さｌ＝１９ｍｍ、流延リボンを含む雰囲気の静圧変動幅Δｐ＝２．４Ｐａ、厚みムラのピッチａ＝２．４ｃｍ、厚みムラ率ｄ＝５．３％、伸縮周波数ｆ＝３４．７（１／ｓ）、流延リボンの伸縮率ｅ＝５．３％であった。

この比較例は、図１において曲線ｂより上の領域に入リ、また、図２において曲線ｄより上の領域に入り、塗工ムラは強く見えた。

［実施例１０］
ドープ処方を変えて、下記の条件で製膜を行った。
セルローストリアセテート １００重量部
トリフェニルフォスフェート １０重量部
ビフェニルジフェニルフォスフェート ５重量部
酢酸メチル ３１５重量部
エタノール ６０重量部
ｎ−ブタノール １０重量部

溶媒にてセルローストリアセテートを３０分間膨潤させ、−７０℃にて冷却後５０℃に加温溶解した。
１）流延ダイと支持体の距離ｈ＝３．５ｍｍ
２）減圧チャンバーの減圧度ｐ＝０Ｐａ
３）ドープ粘度μ＝３０Ｐａ・ｓ
４）ダイリップクリアランスｃ１＝１．２ｍｍ
５）流延速度ｖ＝１６．７ｃｍ／ｓ
６）ベース厚みｔ＝８０μｍ

この時、流延リボンの平均長さｌ＝１０ｍｍ、流延リボンを含む雰囲気の静圧変動幅Δｐ＝０．５Ｐａ、厚みムラのピッチａ＝１．０ｃｍ、厚みムラ率ｄ＝０．１％、伸縮周波数ｆ＝１６．７（１／ｓ）、流延リボンの伸縮率ｅ＝０．１％であった。

この実施例は、図１において曲線ｂより下の領域に入リ、また、図２において曲線ｄより下の領域に入り、塗工ムラは見えなかった。

［実施例１１］
＜セルローストリアセテート溶液の作製＞
攪拌羽根を有するステンレス性溶解タンクに、下記の溶媒混合溶液によく攪拌しつつ、セルローストリアセテート粉体（平均サイズ２ｍｍ）を徐々に添加して仕込んだ。添加後、室温（２５℃）にて３時間，２５℃にて放置し、セルローストリアセテートを膨潤させた。なお、溶媒である酢酸メチルとシクロペンタノン、アセトン、メタノール及びエタノールは、すべてその含水率が０．２質量％以下のものを利用した。

セルローストリアセテート １６質量部
（置換度２．８３、粘度平均重合度３２０、含水率０．４質量％、メチレンクロライド溶液中６質量％の粘度３０５ｍＰａ・ｓ）
酢酸メチル ５３質量部
シクロペンタン １０質量部
アセトン ５質量部
メタノール ５質量部
エタノール ５質量部
可塑剤Ａ（ジペンタエリスリトールヘキサアセテート） ３質量部
可塑剤Ｂ（トリフェニルフォスフェート） ３質量部
微粒子粉体（シリカ（粒径２０ｎｍ）） ０．１質量部
紫外線吸収剤ａ ０．１質量部
（２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン）
紫外線吸収剤ｂ ０．１質量部
（２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール）
紫外線吸収剤ｃ ０．１質量部
（２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール
Ｃ₁₂Ｈ₂₅ＯＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−Ｐ(＝Ｏ)−(ＯＫ)₂
０．０５質量部

なお、後述する冷却溶解法で得られたこの溶液の粘度は１６０Ｐａ・Ｓ（４５℃）であった。

＜セルローストリアセテート溶液の冷却溶解＞
上述したセルローストリアセテート溶液をスクリュー押し出し機で送液して、−７０℃で３分間となるように冷却部分を通過させた。冷却は冷凍機で冷却した−８０℃の冷媒（３Ｍ社製，『フロリナート』）を用いて実施した。そして、冷却により得られた溶液は、静止型混合器を設置した熱交換器により１２０℃まで温度を上昇させ、３分間保持した後冷却し５０℃としてステンレス製の容器に移送し、５０℃で２時間撹拌し脱泡を行った。このように調製したセルローストリアセテート溶液を、絶対濾過精度０．０１ｍｍの濾紙（東洋濾紙（株）製，『＃６３』）で濾過し、さらに、絶対濾過精度０．００２５ｍｍの濾紙（ポール社製，『ＦＨ ０２５』）にて濾過した。

＜セルローストリアセテート溶液の流延製膜＞
上記の方法により調製したセルローストリアセテート溶液は２５Ｐａ・ｓであった。この溶液を実施例１０と同様な条件下で流延してセルローストリアセテートフィルムを得た。

その結果、流延リボンの平均長さはｌ＝９．５ｍｍ、流延リボンを含む雰囲気の静圧変動幅ΔＰ＝０．５Ｐａ、厚みムラのピッチａ＝１．１ｍｍ、厚みムラ率ｄ＝０．１％、伸縮周波数１７．５（１／ｓ）、流延リボンの伸縮率ｅ＝０．１％であった。

この実施例は、図１において曲線ｂより下の領域に入リ、また、図２において曲線ｄより下の領域に入り、塗工ムラは見えなかった。

＜反射防止膜＞
上記条件にて製造したセルローストリアセテートフィルムを使って塗工による反射防止膜を下記の手順により作製した。

（防眩層用塗布液Ａの調製）
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートと、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（日本化薬（株）製，『ＤＰＨＡ』）１２５ｇ、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド（住友精化（株）製，『ＭＰＳＭＡ』）１２５ｇを、４３９ｇのメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０質量％の混合溶媒に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（チバガイギー社製，『イルガキュア ９０７』）５．０ｇ及び光増感剤（日本化薬（株）製，『カヤキュアー ＤＥＴＸ』）３．０ｇを４９ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加えた。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６０であった。

さらに、この溶液に平均粒径２μｍの架橋ポリスチレン粒子（綜研化学（株）製，商品名『ＳＸ−２００Ｈ』）１０ｇを添加して、高速ディスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌、分散した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して防眩層の塗布液を調製した。

（ハードコート層用塗布液Ｄの調製）
紫外線硬化性ハードコート組成物（ＪＳＲ（株），『デソライト ＫＺ−７６８９』７２質量％）２５０ｇを６２ｇのメチルエチルケトン及び８８ｇのシクロヘキサノンに溶解した溶液を加えた。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５３であった。

さらに、この溶液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層の塗布液を調製した。

（低屈折率層用塗布液Ｅの調製）
屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＳＲ（株）製，『ＴＮ−０４９』）２００ ９３ｇにＭＥＫ−ＳＴ（平均粒径１０〜２０ｎｍ、固形分濃度３０質量％のＳｉＯ_２ゾルのＭＥＫ分散物、日産化学（株）製）８ｇ、及びメチルエチルケトン１００ｇを添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、低屈折率層用塗布液を調製した。

上記８０μｍの厚さのセルローストリアセテートフィルムに、上記のハードコート層用塗布液Ｄをバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ２．５μｍのハードコート層を形成した。

その上に、上記防眩層用塗布液Ａをバーコーターを用いて塗布し、上記ハードコート層と同条件にて乾燥、紫外線硬化して、厚さ約１．５μｍの防眩層を形成した。さらに、その上に、上記低屈折率層用塗布液Ｅをバーコーターを用いて塗布し、８０℃で乾燥の後、さらに１２０℃で１０分間熱架橋し、厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成した。

［比較例３］
実施例１１と同様なセルローストリアセテート溶液を用いて比較例１と同様な流延条件で流延した。

その結果、流延リボンの平均長さはｌ＝１４．５ｍｍ、流延リボンを含む雰囲気の静圧変動幅ΔＰ＝２．５Ｐａ、厚みムラのピッチａ＝１６ｍｍ、厚みムラ率ｄ＝２．５％、伸縮周波数５３（１／ｓ）、流延リボンの伸縮率ｅ＝２．５％であった。

この比較例は、図１において曲線ｂより上の領域に入リ、また、図２において曲線ｄより上の領域に入り、塗工ムラは強く見えた。
また、実施例１１と同様の方法で、反射防止膜を作製した。

［反射防止膜の評価］
実施例１１及び比較例３により得られたセルローストリアセテートフィルムを用いた反射防止膜について、以下の項目の評価を行った。

（１） 鏡面反射率及び色味
分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプター ＡＲＶ−４７４を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における出射角−５度の鏡面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出した。この反射率により、反射防止性を評価した。
さらに、測定された反射スペクトルから、ＣＩＥ標準光源Ｄ６５の５度入射光に対する正反射光の色味を表すＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間のＬ＊値、ａ＊値、ｂ＊値を算出し、反射光の色味を評価した。

(２) 積分反射率
分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプター ＩＬＶ−４７１を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における積分反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出した。この反射率により、反射防止性を評価した。

(３) ヘイズ
ヘイズメーター ＭＯＤＥＬ １００１ＤＰ（日本電色工業（株）製）を用いて測定した。

(４) 鉛筆硬度評価
耐傷性の指標としてＪＩＳ Ｋ ５４００に記載の鉛筆硬度評価を行った。反射防止膜を温度２５℃、湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、ＪＩＳ Ｓ ６００６に規定する３Ｈの試験用鉛筆を用いて（荷重：１ｋｇ）、以下の基準で評価した。
ｎ＝５の評価において傷が全く認められない：○
ｎ＝５の評価において傷が１又は２つ ：△
ｎ＝５の評価において傷が３つ以上 ：×

(５) 接触角
温度２５℃、湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、水に対する接触角を測定し、指紋付着性の指標とした。この指紋付着性は、表面の耐汚染性の指標として用いられる。

(６) 動摩擦係数
表面滑り性の指標として動摩擦係数を用いた。動摩擦係数としては、反射防止膜を２５℃、相対湿度６０％で２時間調湿した後、ＨＥＩＤＯＮ−１４動摩擦測定機により５ｍｍφステンレス鋼球、荷重１００ｇ、速度６０ｃｍ／ｍｉｎにて測定した値を用いた。

(７) 防眩性評価
反射防止膜にルーバーなしのむき出し蛍光灯（８０００ｃｄ／ｍ^２）を映し、その反射像のボケの程度を以下の基準で評価した。
蛍光灯の輪郭が全くわからない ：◎
蛍光灯の輪郭がわずかにわかる ：○
蛍光灯はぼけているが、輪郭は識別できる：△
蛍光灯がほとんどぼけない ：×

（８）面状評価
目視により、表面を観察し、塗布ムラの有無により評価した。評価基準は以下の通りである。
反射像が一様に見える ：◎
反射像が段状のムラに見える：×
以上の評価結果を表１に示す。

以上の結果、実施例１１、比較例３とも防眩性、反射防止性に優れ、かつ色味が弱く、また、鉛筆硬度、指紋付着性（接触角）、動摩擦係数のような膜物性を反映する評価の結果も良好であった。

しかしながら、比較例３においては、段状の塗布ムラが目視で確認でき反射防止膜としては使えないレベルであった。

［防眩性反射防止偏光板］
前記実施例１１のセルローストリアセテートフィルムを用いて防眩性反射防止偏光板を作製した。この偏光板を用いて反射防止膜を最表層に配置した液晶表示装置を作製したところ、外光の映り込みがないために優れたコントラストが得られ、防眩性により反射像が目立たず優れた視認性を有し、指紋付も良好であった。

上記偏光板は、延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光素子を作製し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、上記反射防止膜を、その遅相軸が偏光膜の透過軸と平行になるように片側に貼り付けるとともに、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光素子の反対側に貼り付けて作製した。

厚みムラ率と厚みムラピッチとの関係と、塗工ムラの視認率との関係を表す図である。 流延速度及び伸縮周波数と伸縮率との関係と、塗工ムラの視認率との関係を表す図である。 本発明による高分子樹脂フィルムの製造方法に用いることができる溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。 本発明による高分子樹脂フィルムの製造方法に用いることができる溶液製膜装置の模式図である。 本発明による高分子樹脂フィルムの製造方法に用いることができる溶液製膜装置の模式図である。 本発明による高分子樹脂フィルムの製造方法に用いることができる流延ダイの模式断面図である。 本発明による高分子樹脂フィルムの製造方法に用いることができる流延ダイの模式断面図である。 本発明による高分子樹脂フィルムの製造方法に用いることができる流延ダイの模式断面図である。 遮風板を設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。 遮風板を設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。 遮風板を設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。 遮風板を設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。 遮風板を設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。 遮風板を設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。 遮風ブロックを設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。 遮風ブロックを設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。 遮風ブロックを設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。 遮風ブロックを設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。 遮風箱を設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。 遮風箱を設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。 遮風箱を設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。 遮風箱を設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。 遮風フィンを設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。 遮風フィンを設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。 遮風フィンを設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。 遮風フィンを設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。 遮風板を設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。 遮風板を設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。 遮風ブロックを設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。 遮風箱を設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。 遮風箱を設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。 遮風フィンを設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。 遮風フィンを設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。

符号の説明

１…流延ダイ
２…支持体
３…減圧チャンバー
４…リボン
１０…流延ダイ
２０…回転ドラム
３０…流延バンド
４０…減圧チャンバー
５０…吸引ダクト
６０…バッファータンク
７０…ブロワー
８０…流延ドラム
９１…遮風板
９２…遮風ブロック
９３…遮風箱
９４…ブロワ−
９５…遮風フィン

Claims (6)

1. 高分子樹脂を有機溶媒に溶かした溶液が流延される支持体と、該溶液を支持体に流延する流延ダイと、該流延ダイの両側において流延ダイに密着して設けられた遮風ブロックとを有することを特徴とする溶液製膜装置。
2. 高分子樹脂を有機溶媒に溶かした溶液が流延される支持体と、該溶液を支持体に流延する流延ダイと、該流延ダイの両側において流延ダイに密着して設けられた遮風箱とを有することを特徴とする溶液製膜装置。
3. 前記流延ダイのダイリップクリアランスが、０．２〜３ｍｍの範囲であることを特徴とする請求項１又は２記載の溶液製膜装置。
4. 前記流延ダイのダイリップクリアランスが、０．５〜２．５ｍｍの範囲であることを特徴とする請求項３記載の溶液製膜装置。
5. 前記支持体と流延ダイとの距離が、１〜１０ｍｍの範囲であることを特徴とする請求項１、２、３又は４記載の溶液製膜装置。
6. 前記支持体と流延ダイとの距離が、１．５〜６ｍｍの範囲であることを特徴とする請求項５記載の溶液製膜装置。

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