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JP2008034440A - 固体電解コンデンサの製造方法 - Google Patents

固体電解コンデンサの製造方法 Download PDF

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知之 長田
Akihiro Matsuda
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Abstract

【課題】固体電解コンデンサの漏れ電流の増加を抑制する。
【解決手段】表面に陽極酸化皮膜が形成された陽極体を有するコンデンサ素子を形成し(エッチング〜切り口化成・炭化処理)、該コンデンサ素子を酸化剤溶液に浸漬することによって、該コンデンサ素子に酸化剤を含浸させ(酸化剤含浸)、その後、該コンデンサ素子をモノマー溶液に浸漬することによって、該コンデンサ素子にモノマーを含浸させる(モノマー含浸)。このとき、酸化剤溶液またはモノマー溶液の少なくとも一方に、芳香族ジカルボン酸または芳香族ジカルボン酸塩が添加されている。続いて、該コンデンサ素子に含浸させた酸化剤とモノマーとを化学重合させることによって、酸化皮膜上に導電性高分子からなる固体電解質を形成する(固体電解質形成)。
【選択図】図3

Description

本発明は、固体電解コンデンサの製造方法に関し、特に、導電性高分子からなる固体電解質を有する固体電解コンデンサの製造方法に関する。
電解コンデンサのコンデンサ素子は、アルミニウム、タンタル、または、ニオブ等の弁作用金属からなり、表面に多数のエッチングピットや微細孔が形成された陽極体(陽極箔または焼結体)を有する。さらに、陽極体の表面には誘電体となる酸化皮膜が形成されており、酸化皮膜からは電極が引き出されている。
酸化皮膜には電解質が接触しており、この電解質が、酸化皮膜からの電極の引き出しを行う真の陰極として機能する。
ここで、この真の陰極としての電解質は、電解コンデンサの電気特性に大きな影響を及ぼすことから、従来から、様々な種類の電解質が採用された電解コンデンサが提案されている。
その中でも、固体電解コンデンサは、導電性を有する固体の電解質が用いられている電解コンデンサであり、電解質が液状であるものに比べて高周波領域におけるインピーダンス特性に優れている。また、固体電解質としては、導電性高分子であるポリエチレンジオキシチオフェン(PEDT)等が広く用いられている。
この固体電解質においては、コンデンサ素子を酸化剤溶液とモノマー溶液との混合溶液に浸漬することによって、コンデンサ素子に酸化剤およびモノマーを含浸させて、コンデンサ素子における酸化皮膜上において、酸化剤とモノマーとの重合反応を促進して固体電解質を形成する方法が知られている。
このとき、混合溶液にフタル酸またはフタル酸塩を添加する方法が知られている。この方法により、コンデンサ素子の自己修復性を高めて漏れ電流を減少させることができる(例えば、特許文献1参照)。
特開平5−243098号公報
上述した技術において、酸化剤溶液とモノマー溶液との混合溶液にフタル酸またはフタル酸塩を添加すると、酸化剤溶液とモノマー溶液とを混合した時点から重合反応が開始され、このときに、添加したフタル酸またはフタル酸塩が重合反応に使用されてしまう。従って、コンデンサ素子を混合溶液に浸漬した時点では、フタル酸またはフタル酸塩の量は減少しており、コンデンサ素子の自己修復性を十分に高めることができない。このため、漏れ電流の増加を十分に抑制することが難しい。
本発明の目的は、自己修復性を高めて、漏れ電流の増加を抑制した固体電解コンデンサの製造方法を提供することである。
本発明である固体電解コンデンサの製造方法は、表面に酸化皮膜が形成された陽極体を有するコンデンサ素子を形成するコンデンサ素子形成工程と、前記コンデンサ素子を酸化剤溶液に浸漬することによって、前記コンデンサ素子に酸化剤を含浸させる酸化剤含浸工程と、前記酸化剤含浸工程の後、前記コンデンサ素子をモノマー溶液に浸漬することによって、前記コンデンサ素子にモノマーを含浸させるモノマー含浸工程と、
前記コンデンサ素子に含浸させた前記酸化剤と前記モノマーとを化学重合させることによって、前記酸化皮膜上に導電性高分子からなる固体電解質を形成する固体電解質形成工程とを備えており、前記酸化剤溶液または前記モノマー溶液の少なくとも一方に、芳香族ジカルボン酸または芳香族ジカルボン酸塩が添加されていることを特徴とするものである。
このとき、前記酸化剤溶液または前記モノマー溶液の少なくとも一方に添加される前記芳香族ジカルボン酸または前記芳香族ジカルボン酸塩の濃度が、0.01〜0.9wt%の範囲にあることが好ましい。
また本発明においては、前記酸化剤が、p−トルエンスルホン酸、メトキシベンゼンスルホン酸およびドデシルベンゼンスルホン酸の何れか1種を含んでいてもよい。
加えて、前記モノマーが、アニリン、ピロール、チオフェンおよびこれらの誘電体の何れか1種を含んでいてもよい。
また、前記芳香族ジカルボン酸が、フタル酸、テレフタル酸およびイソフタル酸の何れか1種を含んでいてもよい。
さらに、前記芳香族ジカルボン酸塩が、アンモニウム塩、三級アミン塩、二級アミン塩および一級アミン塩の何れか1種を含んでいてもよい。
加えて、前記芳香族ジカルボン酸塩が、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジメチルエチルアミン、ジエチルメチルアミン、ジメチルアミン、メチルエチルアミン、ジエチルアミン、メチルアミン、エチルアミンおよびプロピルアミンの何れか1種を含んでいてもよい。
本発明によれば、酸化剤溶液またはモノマー溶液の少なくとも一方に芳香族ジカルボン酸または芳香族ジカルボン酸塩が添加されていることによって、芳香族ジカルボン酸または芳香族ジカルボン酸塩が、酸化剤溶液とモノマー溶液との重合反応に使用される前に、コンデンサ素子の自己修復性を高めるために使用される。これにより、漏れ電流の増加を抑制することができる。
また、本発明の発明者らは、酸化剤溶液またはモノマー溶液の少なくとも一方に添加する芳香族ジカルボン酸または芳香族ジカルボン酸塩の濃度が、0.01〜0.9wt%の範囲にあるとき、固体電解コンデンサの漏れ電流の増加を効率よく抑制することができることを見出した。
本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
まず、図1に示すように、本実施形態の製造方法により製造した固体電解コンデンサ1のコンデンサ素子10は、陽極箔2と陰極箔3とを備えており、これら陽極箔2と陰極箔3とがセパレータ4を介して巻回された構造を有する。
陽極箔2は、アルミニウム等の弁作用金属で形成されている。図2に示すように、この陽極箔2の表面はエッチング処理により粗面化(エッチングピット形成)されるとともに陽極酸化(化成)による陽極酸化皮膜2aが形成されている。
また、陰極箔3も陽極箔2と同様にアルミニウム等で形成されており、その表面は粗面化(エッチングピット形成)されるとともに自然酸化皮膜3aが形成されている。
また、セパレータ4の両面には導電性高分子からなる固体電解質5が保持されている。つまり、陽極箔2および陰極箔3とセパレータ4との間に固体電解質5が狭持されている。固体電解質5を構成する導電性高分子としては、ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン、または、ポリエチレンジオキシチオフェン(PEDT)等を使用でき、これらは酸化剤とモノマーとの化学重合により生成される。
図1に示すように、陽極箔2と陰極箔3とからはそれぞれリードタブが接続され、リードタブを介して陽極箔2と陰極箔3とからリード線6がそれぞれ引き出されている。
次に、固体電解コンデンサ1の製造方法について、図3をさらに参照して説明する。
まず、電極の実効表面積を大きくするために、陽極箔2および陰極箔3の表面にエッチング処理を施して粗面化する。さらに、粗面化された陽極箔2の表面に化成処理を施して陽極酸化皮膜2aを形成し、陰極箔3は、耐水性処理および/または熱処理にて自然酸化皮膜3aを形成する。
そして、陽極酸化皮膜2a、自然酸化皮膜3aが形成された陽極箔2と陰極箔3とを所定の寸法に裁断後、それぞれにリードタブを介してリード線6を接続するとともに、これら陽極箔2と陰極箔3とをセパレータ4を介して巻回させ、さらに、切り口化成・セパレータの炭化処理を経て、円筒形のコンデンサ素子10を作製する。
次に、この円筒形のコンデンサ素子10を、酸化剤溶液に浸漬することによって、酸化剤を含浸させた後、乾燥させる(酸化剤含浸工程)。その後、コンデンサ素子10を、芳香族ジカルボン酸が添加されたモノマー溶液に浸漬することによって、モノマーを含浸させる(モノマー含浸工程)。
続いて、重合槽内で所定の温度で一定時間加熱することで、含浸した酸化剤とモノマーとを化学重合させて、陽極箔2および陰極箔3とセパレータ4との間に、導電性高分子からなる固体電解質5を形成する(固体電解質形成工程)。
ここで、モノマー溶液に芳香族ジカルボン酸が添加されることによって、コンデンサ素子10の自己修復性を高めることができる。これにより、漏れ電流の増加を抑制することができる。
続いて、固体電解コンデンサ1の組立を行う。即ち、前述した工程により得られた円筒形のコンデンサ素子10を有底筒状の外装ケースに収納し、開口部を封口ゴム等により密封する。最後にエージングを行って製造工程を完了する。
次に、本発明のより具体的な実施例1を比較例1と合わせて説明する。なお、以下に説明する実施例1と比較例1では、固体電解質を形成する工程(図3に示す酸化剤含浸、モノマー含浸、固体電解質形成)が異なっているものの、その他の工程は全て同じである。
以下、固体電解質を形成するための工程についてのみ説明する。なお、各固体電解コンデンサの定格は全て4.0V−560μFである。
[実施例1]
実施例1においては、コンデンサ素子10を、p−トルエンスルホン酸鉄溶液に浸漬することによって、p−トルエンスルホン酸鉄(酸化剤)を含浸(酸化剤含浸工程)させた後、80℃で30分間加熱し、乾燥させた。その後、コンデンサ素子10を、フタル酸の濃度が0.1wt%の3,4−エチレンジオキシチオフェン溶液に浸漬することによって、3,4−エチレンジオキシチオフェン(モノマー)を含浸(モノマー含浸工程)させる。
さらに、コンデンサ素子10を180℃で30分間加熱し、p−トルエンスルホン酸鉄と3,4−エチレンジオキシチオフェンとの化学重合により導電性高分子であるPEDTを生成し、固体電解質5を形成した(固体電解質形成工程)。
(比較例1)
比較例1においては、コンデンサ素子10を、フタル酸の濃度が0.1wt%のp−トルエンスルホン酸鉄と3,4−エチレンジオキシチオフェンとをあらかじめ混合しておいた混合溶液に浸漬することによって、p−トルエンスルホン酸鉄と3,4−エチレンジオキシチオフェンとを含浸させる。
さらに、コンデンサ素子10を180℃で30分間加熱し、p−トルエンスルホン酸鉄と3,4−エチレンジオキシチオフェンとの化学重合により導電性高分子であるPEDTを生成し、固体電解質5を形成した。
以上、実施例1と比較例1の製造方法によってそれぞれ得られた固体電解コンデンサの電気特性(静電容量、tanδ、等価直列抵抗および漏れ電流)を測定した。その結果を表1に示す。
Figure 2008034440
表1に示すように、実施例1と比較例1の製造方法によって製造された固体電解コンデンサの静電容量、tanδおよび等価直列抵抗は同等の値であるが、実施例1の製造方法によって製造された固体電解コンデンサの漏れ電流は、比較例1の製造方法によって製造された固体電解コンデンサの漏れ電流より小さくなっている。
このように、コンデンサ素子10を酸化剤溶液に浸漬することによって、酸化剤を含浸させた後に、フタル酸が添加されたモノマー溶液に浸漬することによって、コンデンサ素子10の漏れ電流の増加を抑制できることが確認された。
[実施例2〜4]、(比較例2〜5)
実施例2〜4、および、比較例2〜5においては、モノマー溶液におけるフタル酸の濃度のみが異なっており、他の条件は実施例1と同様である。
具体的には、実施例2においては、モノマー溶液におけるフタル酸の濃度を0.01wt%とした。
実施例3においては、モノマー溶液におけるフタル酸の濃度を0.05wt%とした。実施例4においては、モノマー溶液におけるフタル酸の濃度を0.9wt%とした。
比較例2においては、モノマー溶液におけるフタル酸の濃度を0wt%とした。すなわち、フタル酸をモノマー溶液に添加していない。比較例3においては、モノマー溶液におけるフタル酸の濃度を0.005wt%とした。
比較例4においては、モノマー溶液におけるフタル酸の濃度を1.0wt%とした。比較例5においては、モノマー溶液におけるフタル酸の濃度を2.0wt%とした。
以上の実施例1〜4、比較例2〜5の製造方法によってそれぞれ得られた固体電解コンデンサの電気特性(静電容量、tanδ、等価直列抵抗および漏れ電流)を測定した。その結果を表2に示す。
Figure 2008034440
表2に示すように、実施例1〜4、比較例2〜5の製造方法によって製造された固体電解コンデンサの静電容量、tanδおよび等価直列抵抗は同等の値であった。また、実施例1〜4の製造方法によって製造された固体電解コンデンサの漏れ電流は、比較例2〜5の製造方法によって製造された固体電解コンデンサの漏れ電流より小さくなっている。
このように、モノマー溶液におけるフタル酸の濃度は、0.01〜0.9wt%の範囲が好適であることが確認された。
なお、以上説明した実施例においてはフタル酸をモノマー溶液に添加していたが、フタル酸をモノマー溶液ではなく、酸化剤溶液もしくは酸化剤溶液およびモノマー溶液に添加した場合にも同様の効果が得られることが確認された。
また、実施例では、PEDTを固体電解質として用いたが、PEDT以外の公知の導電性高分子(例えば、ポリアニリン、ポリピロールおよびポリチオフェン)を固体電解質として用いてもよい。
また、実施例では、p−トルエンスルホン酸鉄を酸化剤として用いたが、p−トルエンスルホン酸鉄以外の公知の有機スルホン酸系金属塩(例えば、メトキシベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸)を酸化剤として用いてもよい。
さらに、実施例では、3,4−エチレンジオキシチオフェンをモノマーとして用いたが、3,4−エチレンジオキシチオフェン以外の公知の物質(例えば、アニリンやピロールおよびこれらの誘電体)をモノマーとして用いてもよい。
また、実施例では、フタル酸をモノマー溶液に添加していたが、フタル酸ではなく、テレフタル酸およびイソフタル酸を用いてもよい。
さらには、フタル酸、テレフタル酸およびイソフタル酸に限らず、アンモニウム塩、三級アミン塩であるトリメチルアミン、トリエチルアミン、ジメチルエチルアミンおよびジエチルメチルアミン、二級アミン塩であるジメチルアミン、メチルエチルアミンおよびジエチルアミン、一級アミン塩であるエチルアミンおよびプロピルアミンを用いてもよい。
さらに、実施例では、巻回型のコンデンサ素子を有する固体電解コンデンサについて説明したが、本発明は、アルミニウム箔の積層型のコンデンサ素子、タンタルやニオブの焼結体を有する固体電解コンデンサについても適用可能である。
本発明によるコンデンサ素子の分解斜視図である。 固体電解コンデンサの積層構造を概略的に示す図である。 固体電解コンデンサの製造工程を示す図である。
符号の説明
1 固体電解コンデンサ
2 陽極箔
2a 陽極酸化皮膜
3 陰極箔
3a 自然酸化皮膜
4 セパレータ
5 固体電解質
6 リード線
10 コンデンサ素子

Claims (7)

  1. 表面に酸化皮膜が形成された陽極体を有するコンデンサ素子を形成するコンデンサ素子形成工程と、
    前記コンデンサ素子を酸化剤溶液に浸漬することによって、前記コンデンサ素子に酸化剤を含浸させる酸化剤含浸工程と、
    前記酸化剤含浸工程の後、前記コンデンサ素子をモノマー溶液に浸漬することによって、前記コンデンサ素子にモノマーを含浸させるモノマー含浸工程と、
    前記コンデンサ素子に含浸させた前記酸化剤と前記モノマーとを化学重合させることによって、前記酸化皮膜上に導電性高分子からなる固体電解質を形成する固体電解質形成工程とを備えており、
    前記酸化剤溶液または前記モノマー溶液の少なくとも一方に、芳香族ジカルボン酸または芳香族ジカルボン酸塩が添加されていることを特徴とする固体電解コンデンサの製造方法。
  2. 前記酸化剤溶液または前記モノマー溶液の少なくとも一方に添加される前記芳香族ジカルボン酸または前記芳香族ジカルボン酸塩の濃度が、0.01〜0.9wt%の範囲にあることを特徴とする請求項1に記載の固体電解コンデンサの製造方法。
  3. 前記酸化剤が、p−トルエンスルホン酸、メトキシベンゼンスルホン酸およびドデシルベンゼンスルホン酸の何れか1種を含んでいることを特徴とする請求項1または2に記載の固体電解コンデンサの製造方法。
  4. 前記モノマーが、アニリン、ピロール、チオフェンおよびこれらの誘電体の何れか1種を含んでいることを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の固体電解コンデンサの製造方法。
  5. 前記芳香族ジカルボン酸が、フタル酸、テレフタル酸およびイソフタル酸の何れか1種を含んでいることを特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載の固体電解コンデンサの製造方法。
  6. 前記芳香族ジカルボン酸塩が、アンモニウム塩、三級アミン塩、二級アミン塩および一級アミン塩の何れか1種を含んでいることを特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載の固体電解コンデンサの製造方法。
  7. 前記芳香族ジカルボン酸塩が、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジメチルエチルアミン、ジエチルメチルアミン、ジメチルアミン、メチルエチルアミン、ジエチルアミン、メチルアミン、エチルアミンおよびプロピルアミンの何れか1種を含んでいることを特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載の固体電解コンデンサの製造方法。
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