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JP2008018301A - Coating film removing method and coating film removing apparatus - Google Patents

Coating film removing method and coating film removing apparatus Download PDF

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JP2008018301A
JP2008018301A JP2006189970A JP2006189970A JP2008018301A JP 2008018301 A JP2008018301 A JP 2008018301A JP 2006189970 A JP2006189970 A JP 2006189970A JP 2006189970 A JP2006189970 A JP 2006189970A JP 2008018301 A JP2008018301 A JP 2008018301A
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JP
Japan
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coating film
suction
substrate
film
suction port
Prior art date
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Application number
JP2006189970A
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Japanese (ja)
Inventor
Nobuyuki Terauchi
伸行 寺内
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

【課題】 基材に種々の層を多層にして形成した複合基板を多面付けして作製する際に、各面付けの境部の各層の塗膜を除去を、簡単に、且つ、品質面的にも問題なく行える塗膜除去方法と塗膜除去装置とを提供する。
【解決手段】 ウエット状態の塗膜を除去する領域である除去領域内において、吸引部の吸い込み口を、塗膜配設基板に接触させながら、且つ、吸い込み口から吸引しながら、吸い込み口を、前記塗膜配設基板の一面に沿うように、該塗膜配設基板に対して相対的に移動させ、前記除去領域の前記塗膜を除去する。
【選択図】 図1
PROBLEM TO BE SOLVED: To easily remove a coating film of each layer at a boundary part of each imposition and to improve quality in producing a composite substrate formed by multilayering various layers on a base material. The present invention also provides a coating film removing method and a coating film removing apparatus that can be performed without any problem.
SOLUTION: In a removal region that is a region for removing a wet-state coating film, the suction port of the suction unit is brought into contact with the coating-film-provided substrate and suctioned from the suction port. It moves relatively with respect to this coating-film provision board | substrate so that the one surface of the said coating-film provision board | substrate may be followed, and the said coating film of the said removal area | region is removed.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、ウエット状態の塗膜がその一面側に配設された塗膜配設基板に対して、吸引部にて選択的にウエット状態の塗膜を吸引除去して、前記塗膜配設基板の一面側内部にわたり、前記ウエット状態の塗膜の除去を選択的に行う、塗膜除去方法と、それを実施するための塗膜除去装置に関する。
特に、表示パネル形成用の多層からなる、多面付け用の複合基板を形成するための塗膜除去方法と塗膜除去装置に関する。
In the present invention, the wet coating film is selectively removed by suction at the suction portion with respect to the coating film mounting substrate on which the wet coating film is disposed on one side thereof, and the coating film is disposed. The present invention relates to a coating film removing method for selectively removing the wet coating film over one surface side of a substrate and a coating film removing apparatus for carrying out the method.
In particular, the present invention relates to a coating film removing method and a coating film removing apparatus for forming a multi-sided composite substrate composed of multiple layers for forming a display panel.

近年、表示パネル用として、基材に種々の層を多層にして形成した複合基板が表示パネル用基板として作製されているが、中でも、小型のものは、ほとんど、生産性の面から多面付けして作製されている。
従来、多面付けして形成する場合には、スピンコート等により基材の所定の面側に各層の塗膜を形成するが、該塗膜は各面付けの境部にも配設されていた。
しかし、各面付け毎に、封止材により封止を行う場合には、上記各面付けの境部の塗膜が、耐湿性を下げる一因となるとの理由などにより、各面付けの境部の塗膜の除去が望まれていた。
例えば、基板上に、少なくとも第1電極層、厚膜誘電体層、発光層、および第2電極層の各層を順に積層してEL素子を形成しているEL素子パネルを形成するための複合基板を多面付けで作製する場合には、封止の耐湿性の面から、各面付けの境部の塗膜の除去が望まれていた。
In recent years, composite substrates in which various layers are formed in multiple layers on a base material have been produced as display panel substrates for display panels. Among them, small ones are mostly multifaceted in terms of productivity. Are made.
Conventionally, in the case of multi-sided formation, a coating film of each layer is formed on a predetermined surface side of the base material by spin coating or the like, but the coating film is also disposed at the boundary portion of each imposition. .
However, when sealing with a sealing material for each imposition, each imposition boundary is due to the reason that the coating film on each imposition boundary contributes to lowering the moisture resistance. Removal of the coating film on the part was desired.
For example, a composite substrate for forming an EL element panel in which an EL element is formed by sequentially laminating at least a first electrode layer, a thick film dielectric layer, a light emitting layer, and a second electrode layer on a substrate. In the case of producing multi-faces, it has been desired to remove the coating film at the border of each face from the aspect of moisture resistance of sealing.

基材に配設された塗膜の外周部を除去する方法は、多く知られているが、内部の塗膜を除去する方法は少なくその使用も限定されている。
例えば、特開2003−236438号公報(特許文献1)には、プラズマディスプレイパネル用の複合基板を対象として、シート状のワイパーにより除去を行う、塗布液除去装置、塗布液除去方法が記載されているげ、ここに記載のものは、ワイパーを消耗品として、機械的除去で、その使用が難しく、メンテナンスも手間がかかるものである。
また、例えば、特開2003−203765号公報(特許文献2)には、EL表示パネル用の複合基板に対して、マイクロブラストと呼ばれるブラスト工法により塗膜を除去する方法が記載されている。
この方法は、細いノズルから砥粒を圧縮乾燥気体とともに吹き付け微細加工するものであるが、砥粒の材質、粒径、形状、ノズルの選択他の処理条件や装置の管理に手間がかかるという問題があり、その使用にも品質面で限界ある。
特開2003−236438号公報 特開2003−203765号公報
Many methods for removing the outer peripheral portion of the coating film disposed on the substrate are known, but there are few methods for removing the inner coating film, and their use is also limited.
For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-236438 (Patent Document 1) describes a coating solution removing apparatus and a coating solution removing method for removing a sheet-shaped wiper for a composite substrate for a plasma display panel. However, the one described here is difficult to use by mechanical removal with a wiper as a consumable item, and maintenance is troublesome.
Further, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-203765 (Patent Document 2) describes a method of removing a coating film from a composite substrate for an EL display panel by a blasting method called microblasting.
In this method, abrasive grains are sprayed from a thin nozzle together with a compressed dry gas for fine processing. However, it takes time to manage abrasive materials, grain size, shape, nozzle selection and other processing conditions and equipment. There is a limit to the quality of its use.
JP 2003-236438 A JP 2003-203765 A

このように、近年、表示パネル用として、基材に種々の層を多層にして形成した複合基板が表示パネル用基板として作製され、生産性の面から多面付けして作製されているが、多面付けして作製する場合には、種々の理由により、各面付けの境部の各層の塗膜を除去を、簡単に、且つ、品質面的にも問題なく行える方法求められていた。
本発明はこれらに対応するもので、基材に種々の層を多層にして形成した複合基板を多面付けして作製する際に、各面付けの境部の各層の塗膜を除去を、簡単に、且つ、品質面的にも問題なく行える塗膜除去方法と塗膜除去装置とを提供しようとするものである。
Thus, in recent years, for display panels, composite substrates in which various layers are formed in multiple layers on a base material have been produced as display panel substrates, and have been produced from multiple aspects in terms of productivity. In the case of manufacturing by attaching, there has been a demand for a method capable of removing the coating film of each layer at the border of each imposition easily and without any problem in terms of quality for various reasons.
The present invention corresponds to these, and when a multi-sided composite substrate formed with various layers on a base material is prepared, it is easy to remove the coating film of each layer at the border of each imposition. In addition, an object of the present invention is to provide a coating film removing method and a coating film removing apparatus which can be performed without problems in terms of quality.

本発明の塗膜除去方法は、ウエット状態の塗膜がその一面側に配設された塗膜配設基板に対して、吸引部(吸引ヘッドとも言う)にて選択的にウエット状態の塗膜を吸引除去して、前記塗膜配設基板の一面側内部にわたり、前記ウエット状態の塗膜の除去を選択的に行う、塗膜除去方法であって、前記ウエット状態の塗膜を除去する領域である除去領域内において、吸引部の吸い込み口を、前記塗膜配設基板に接触させながら、且つ、吸い込み口から吸引しながら、吸い込み口を、前記塗膜配設基板の一面に沿うように、該塗膜配設基板に対して相対的に移動させ、前記除去領域の前記塗膜を除去することを特徴とするものである。
そして、上記の塗膜除去方法であって、前記吸引部の吸い込み口は、スリット状の開口形状であることを特徴とするものである。
そしてまた、上記いずれかの塗膜除去方法であって、前記塗膜配設基板は多面付け用で、各面付け間の塗膜を除去するものであることを特徴とするものである。
また、上記いずれかの塗膜除去方法であって、前記塗膜配設基板は、表示パネル形成用の多層からなる複合基板を形成するための基板であることを特徴とするものである。
また、上記いずれかの塗膜除去方法であって、吸引部の吸い込み口による塗膜の吸引に際し、予め、塗膜に所定の液によりウエット状態を促進しておくことを特徴とするものである。
The method for removing a coating film of the present invention is a method in which a wet coating film is selectively applied by a suction part (also referred to as a suction head) to a coating film-mounted substrate on which a wet coating film is disposed on one side. Is a coating film removal method for selectively removing the wet coating film over the one surface side of the coating film-disposed substrate, wherein the wet coating film is removed. In the removal area, the suction port of the suction part is in contact with the coating film-provided substrate and while being sucked from the suction port, so that the suction port is along one surface of the coating film-arranged substrate. The coating film is moved relative to the coated substrate, and the coating film in the removal region is removed.
And it is said coating-film removal method, Comprising: The suction inlet of the said suction part is a slit-shaped opening shape, It is characterized by the above-mentioned.
Moreover, in any one of the coating film removing methods described above, the coating film-providing substrate is for multi-surface imposition, and is characterized by removing the film between the respective impositions.
In any one of the methods for removing a coating film, the coating film-disposed substrate is a substrate for forming a composite substrate having a multilayer for forming a display panel.
Further, in any one of the above-described coating film removing methods, when the coating film is sucked by the suction port of the suction portion, the wet state is previously promoted to the coating film with a predetermined liquid. .

本発明の塗膜除去装置は、ウエット状態の塗膜がその一面側に配設された塗膜配設基板に対して、吸引部(吸引ヘッドとも言う)にて選択的にウエット状態の塗膜を吸引除去して、前記塗膜配設基板の一面側内部にわたり、前記ウエット状態の塗膜の除去を選択的に行う、塗膜除去装置であって、前記塗膜配設基板を水平に搭載して保持するステージと、その吸い込み口をステージ側にして、ステージ上側に配され、前記ウエット状態の塗膜を吸引除去する吸引部と、該吸引部に管にて接続して、その吸い込み口にて吸引した塗膜を、更に吸引して貯える低圧のタンクと、吸引部の吸い込み口の鉛直方向の位置を制御する、吸い込み口位置制御部を備えたもので、前記吸引部の吸い込み口は、前記ステージに対して相対的に移動できるもので、該吸い込み口の先端を、前記塗膜が配設された塗膜配設基板に接触させながら、且つ、該吸い込み口の先端から吸引しながら、該吸い込み口を、前記塗膜配設基板の一面に沿うように、該塗膜配設基板に対して相対的に移動させ、前記除去領域の前記塗膜を除去するものであることを特徴とするものである。
そして、上記の塗膜除去装置であって、前記吸引部の吸い込み口は、スリット状の開口を有し、且つ、そのスリット状の開口の長手方向の中心を支点として、塗膜配設基板の面状態に沿い回転可能であることを特徴とするものである。
そしてまた、上記いずれかの塗膜除去装置であって、前記吸引部の吸い込み口は樹脂からできていることを特徴とするものである。
The coating film removing apparatus of the present invention is a wet coating film selectively selected by a suction part (also referred to as a suction head) with respect to a coating film-mounted substrate on which a wet coating film is disposed on one side. Is a coating film removing apparatus that selectively removes the wet coating film over the inside of one surface side of the coating film provided substrate, wherein the coating film provided substrate is mounted horizontally. The suction stage is arranged on the upper side of the stage, and the suction port is connected to the suction unit by a pipe, and the suction port is connected to the suction unit by a pipe. The low-pressure tank for further sucking and storing the film sucked in and the suction port position control unit for controlling the vertical position of the suction port of the suction unit, the suction port of the suction unit is , Which can move relative to the stage While bringing the tip of the suction port into contact with the coating film provided substrate on which the coating film is provided and sucking from the tip of the suction port, the suction port is placed on one surface of the coating film provided substrate. The coating film is moved relative to the coating-coated substrate so as to remove the coating film in the removal region.
And it is said coating-film removal apparatus, Comprising: The suction inlet of the said suction part has a slit-shaped opening, and uses the center of the longitudinal direction of the slit-shaped opening as a fulcrum, and is a coating-film arrangement | positioning board | substrate. It is characterized by being rotatable along the surface state.
In any one of the coating film removing apparatuses, the suction port of the suction part is made of resin.

(作用)
本発明の塗膜除去方法は、このような構成にすることにより、基材に種々の層を多層にして形成した複合基板を多面付けして作製する際に、各面付けの境部の各層の塗膜を除去を、簡単に、且つ、品質面的にも問題なく行える塗膜除去方法の提供を可能としている。 具体的には、ウエット状態の塗膜を除去する領域である除去領域内において、吸引部の吸い込み口を、塗膜配設基板に接触させながら、且つ、吸い込み口から吸引しながら、吸い込み口を、前記塗膜配設基板の一面に沿うように、該塗膜配設基板に対して相対的に移動させ、前記除去領域の前記塗膜を除去することより、これを達成している。
前記吸引部の吸い込み口としては、スリット状の開口形状が挙げられるが、これに限定はされない。
特に、塗膜配設基板は多面付け用で、各面付け間の塗膜を除去するものである場合には、有効である。
また、塗膜配設基板としては、表示パネル形成用の多層からなる複合基板を形成するための基板が挙げられる。
また、引部の吸い込み口による塗膜の吸引に際し、予め、塗膜に所定の液によりウエット状態を促進しておく、請求項5の発明の形態とすることにより、確実に塗膜の除去を可能とする。
(Function)
When the coating film removing method of the present invention has such a configuration, each layer at the border of each imposition is produced when a composite substrate formed by forming various layers on the base material is multilayered. It is possible to provide a method of removing a coating film that can be removed easily and without problems in terms of quality. Specifically, in the removal region, which is a region where the wet-state coating film is removed, the suction port of the suction part is brought into contact with the coating film-disposed substrate and the suction port is suctioned from the suction port. This is achieved by moving relative to the coating-coated substrate along one surface of the coating-coated substrate and removing the coating film in the removal region.
Examples of the suction port of the suction unit include a slit-like opening shape, but are not limited thereto.
In particular, the coating-coated substrate is effective when it is used for multi-surface imposition and removes the coating film between each imposition.
Moreover, as a coating-film provision board | substrate, the board | substrate for forming the composite substrate which consists of a multilayer for display panel formation is mentioned.
In addition, when the coating film is sucked by the suction port of the drawing portion, the wet state is promoted to the coating film with a predetermined liquid in advance, so that the coating film can be surely removed. Make it possible.

本発明の塗膜除去装置は、このような構成にすることにより、基材に種々の層を多層にして形成した複合基板を多面付けして作製する際に、各面付けの境部の各層の塗膜を除去を、簡単に、且つ、品質面的にも問題なく行える塗膜除去装置の提供を可能としている。 特に、吸引部の吸い込み口は、スリット状の開口を有し、且つ、そのスリット状の開口の長手方向の中心を支点として、塗膜配設基板の面状態に沿い回転可能である、請求項7の発明の形態とすることにより、スリット状の開口の長手方向全体にわたり、容易に、塗膜配設基板と吸い込み口とを接触できるようにしている。
また、吸引部の吸い込み口は樹脂からできている、請求項8の発明の形態とすることにより、除去する塗膜以外の吸い込み口が接する部分の損傷をないものとしている。
When the coating film removing apparatus of the present invention has such a configuration, each layer at the border of each imposition is produced when a composite substrate formed by forming various layers on the base material in multiple layers is produced. It is possible to provide a coating film removing apparatus that can remove the coating film easily and without problems in terms of quality. In particular, the suction port of the suction portion has a slit-shaped opening, and is rotatable along the surface state of the coating film-disposed substrate with the longitudinal center of the slit-shaped opening as a fulcrum. According to the seventh aspect of the present invention, the coating film-equipped substrate and the suction port can be easily contacted over the entire longitudinal direction of the slit-shaped opening.
Further, the suction port of the suction part is made of resin. By adopting the form of the invention of claim 8, the portion that is in contact with the suction port other than the coating film to be removed is not damaged.

本発明は、上記のように、基材に種々の層を多層にして形成した複合基板を多面付けして作製する際に、各面付けの境部の各層の塗膜を除去を、簡単に、且つ、品質面的にも問題なく行える塗膜除去方法と、それを実施するための塗膜除去装置の提供を可能とした。   As described above, the present invention can easily remove the coating film of each layer at the border of each imposition when producing a composite substrate formed of various layers on a base material in multiple layers as described above. In addition, the present invention makes it possible to provide a coating film removing method that can be performed without problems in terms of quality and a coating film removing apparatus for carrying out the method.

本発明の塗膜除去方法の実施の形態の1例を図に基づいて説明する。
図1(a)は本発明の塗膜除去方法の実施の形態の1例を示した概略図で、図1(b)は図1(a)のA1側から見た吸引部の吸引状態を示した図で、図2(a)は吸引部の回転を説明するための概略図で、図2(b)は図2(a)のB1側からみた図で、図3はウェット状態促進方法を説明するための図、図4(a)は多面付け用の基板における塗膜除去処理前の状態を示した図で、図4(b)は塗膜除去処理後の状態を示した図である。
尚、図1(a)において、点線矢印は塗膜の吸引方向を示し、実線矢印は減圧排気の方向を示しており、図1(b)において、矢印はステージの移動方向を示している。
また、図2において、太点線両矢印は回転方向を示しており、図3における太点線矢印はウェット状態促進のための液供給を示しており、図4(b)における点線は、各面付けの境部を示している。
図1〜図4において、10、10aは吸引部、15、15aは吸い込み口、16はスリット状の開口、20はXYステージ、30はタンク、31、32は管、35は制御弁、40はシリンダー、41は排気配管、41Aは制御弁、42は圧縮空気供給配管、42Aは制御弁、45はシリンダー軸、47は支持部、50は支持部、51は(シリンダーの)固定部、70はノズル、75はウェット状態促進液、80は塗膜配設基板、80aは(塗膜除去後の)処理済基板、85は(ウェット状態の)塗膜、86は単位の面付け、87は(面付けの)境部である。
An example of an embodiment of the coating film removing method of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1A is a schematic view showing an example of an embodiment of the method for removing a coating film of the present invention, and FIG. 1B shows the suction state of the suction portion viewed from the A1 side in FIG. 2A is a schematic diagram for explaining the rotation of the suction portion, FIG. 2B is a diagram viewed from the B1 side of FIG. 2A, and FIG. 3 is a wet state promoting method. FIG. 4A is a diagram showing a state before the coating film removing process on the multi-sided substrate, and FIG. 4B is a diagram showing a state after the coating film removing process. is there.
In FIG. 1 (a), the dotted line arrow indicates the suction direction of the coating film, the solid line arrow indicates the direction of reduced pressure exhaust, and in FIG. 1 (b), the arrow indicates the moving direction of the stage.
In FIG. 2, the thick dotted double arrow indicates the rotation direction, the thick dotted arrow in FIG. 3 indicates the liquid supply for promoting the wet state, and the dotted line in FIG. Shows the border.
1-4, 10, 10a is a suction part, 15, 15a is a suction port, 16 is a slit-like opening, 20 is an XY stage, 30 is a tank, 31 and 32 are pipes, 35 is a control valve, 40 is Cylinder, 41 exhaust pipe, 41A control valve, 42 compressed air supply pipe, 42A control valve, 45 cylinder shaft, 47 support part, 50 support part, 51 (cylinder) fixing part, 70 Nozzle 75, wet state accelerating liquid, 80 is a coated substrate, 80a is a processed substrate (after removal of the coated film), 85 is a coated film (in a wet state), 86 is unit imposition, 87 is ( This is the border of imposition.

はじめに、本発明の塗膜除去方法の実施の形態の1例を、図1に基づいて説明する。
本例の塗膜除去方法は、ウエット状態の塗膜85がその一面側に配設された塗膜配設基板80に対して、吸引部(吸引ヘッドとも言う)10にて選択的にウエット状態の塗膜85を吸引除去して、前記塗膜配設基板80の一面側内部にわたり、前記ウエット状態の塗膜85の除去を選択的に行う、塗膜除去方法であり、図1(a)に示すように、ステージ20に塗膜配設基板80を水平に搭載して保持した状態で、塗膜85を除去する領域である除去領域内において、吸引部10の吸い込み口15を、塗膜85が配設された塗膜配設基板80に接触させながら、且つ、吸い込み口15から吸引しながら、吸い込み口15を、塗膜配設基板80の一面に沿うように、該塗膜配設基板80に対して相対的に移動させ、前記除去領域の塗膜85を除去するものである。
本例は、図1(a)に示す、XYステージ20、吸引部10、シリンダー40等を備えた塗膜除去装置にて、塗膜の除去を行うものである。
First, an example of an embodiment of the coating film removing method of the present invention will be described with reference to FIG.
In the coating film removing method of this example, the wet state is selectively applied by the suction unit (also referred to as a suction head) 10 with respect to the coated film substrate 80 on which the wet coated film 85 is disposed on one side. 1 is a method of removing the wet film 85 by suction and removing the wet paint film 85 selectively over the inside of one surface of the paint-coated substrate 80, as shown in FIG. As shown in FIG. 2, the suction port 15 of the suction unit 10 is connected to the coating film 85 in the removal region, which is a region where the coating film 85 is removed, with the coating film-disposed substrate 80 mounted horizontally on the stage 20. The coating film is disposed so that the suction port 15 extends along one surface of the coating film disposed substrate 80 while being in contact with the coating film disposed substrate 80 on which 85 is disposed and sucking from the suction port 15. Move relative to the substrate 80 to remove the coating film 85 in the removal region. It is intended to.
In this example, the coating film is removed by the coating film removing apparatus including the XY stage 20, the suction unit 10, the cylinder 40, and the like shown in FIG.

図1(a)に示す塗膜除去装置は、塗膜配設基板80を水平に搭載して保持するXYステージ20と、その吸い込み口15をステージ20側にして、ステージ20上側に配され、前記ウエット状態の塗膜を吸引除去する吸引部10と、該吸引部10に管にて接続して、その吸い込み口15にて吸引した塗膜を、更に吸引して貯える低圧のタンク30と、吸引部10の吸い込み口15の鉛直方向の位置を制御する、シリンダー40を吸い込み口位置制御部として備えたものであり、吸引部10の吸い込み口15は、XYステージ20のXY移動により該XYステージ20に対して相対的に移動できるもので、該吸い込み口15の先端を、前記塗膜が配設された塗膜配設基板に接触させながら、且つ、該吸い込み口15の先端から吸引しながら、該吸い込み口15を、塗膜配設基板80の一面に沿うように、塗膜配設基板80に対して相対的に移動させ、除去領域の塗膜85を除去するものである。
ここでは、吸引部10に管32にて接続して、その吸い込み口15にて吸引した塗膜85を、更に吸引して減圧されて低圧のタンク30に貯える。
吸引部10はここでは、シリンダー40の駆動により、そのシリンダー軸45の移動位置で位置制御されており、シリンダー40が、吸引部10の吸い込み口15の鉛直方向の位置を制御する、吸い込み口位置制御部に相当する。
尚、図1には明示していないが、ここでは、制御弁41A、42Aの開閉は、制御されて行われて、シリンダー軸45の移動が制御される。
また、吸引用の管31を介しての吸引動作は、制御弁35にて制御されて行われる。
The coating film removing apparatus shown in FIG. 1A is arranged on the upper side of the stage 20 with the XY stage 20 that horizontally mounts and holds the coating film arranging substrate 80 and the suction port 15 on the stage 20 side, A suction part 10 for sucking and removing the wet paint film, a low-pressure tank 30 connected to the suction part 10 by a pipe, and further sucking and storing the paint film sucked at the suction port 15; The suction port 15 of the suction unit 10 is provided with a cylinder 40 that controls the vertical position of the suction port 15 of the suction unit 10 as a suction port position control unit. The suction port 15 of the suction unit 10 is moved to the XY stage 20 by XY movement. 20 while moving the tip of the suction port 15 in contact with the coating-film-provided substrate on which the coating film is disposed and sucking from the tip of the suction port 15 , The suction port 15, along the one surface of the coating film distribution 設基 plate 80, in which is moved relative to the coating film distribution 設基 plate 80, removing the coating film 85 of the removal region.
Here, the coating film 85 connected to the suction unit 10 via the pipe 32 and sucked at the suction port 15 is further sucked and decompressed and stored in the low-pressure tank 30.
Here, the position of the suction unit 10 is controlled at the moving position of the cylinder shaft 45 by driving the cylinder 40, and the cylinder 40 controls the position of the suction port 15 of the suction unit 10 in the vertical direction. It corresponds to the control unit.
Although not explicitly shown in FIG. 1, the opening and closing of the control valves 41 </ b> A and 42 </ b> A is controlled here to control the movement of the cylinder shaft 45.
The suction operation via the suction pipe 31 is controlled by the control valve 35.

吸引部10としては、除去する幅やウェット状態の塗膜85の特性や、吸引の仕方に応じて、種々のサイズ、形状のものが用いられる。
図1に示す、吸引部10の吸い込み口15は、ノズル状であるが、これに限定はされない。
例えば、図2に示す、吸引部10aは、除去する幅が広い場合で、図2(b)に示すように、ここでは、吸引部10の吸い込み口15aは、スリット状の開口16を有している。
そして、除去を行う際、スリット状の開口16の長手方向全体が、塗膜配設基板(図1の80に相当)に容易に均一に接するように、図2(a)に示すように、吸引部10aの吸い込み口15aは、そのスリット状の開口16の長手方向の中心を支点として、塗膜配設基板80の面状態に沿い回転可能としている。
ここでは、支持部47により、吸引部10aが、回転可能にして、シリンダー軸45に接合されている。
As the suction unit 10, various sizes and shapes are used depending on the width to be removed, the characteristics of the wet coating film 85, and the suction method.
Although the suction inlet 15 of the suction part 10 shown in FIG. 1 is nozzle-shaped, it is not limited to this.
For example, the suction portion 10a shown in FIG. 2 has a wide width to be removed. As shown in FIG. 2B, the suction port 15a of the suction portion 10 has a slit-like opening 16 here. ing.
And, when performing the removal, as shown in FIG. 2 (a), the entire longitudinal direction of the slit-shaped opening 16 is easily and uniformly in contact with the coating film-arranged substrate (equivalent to 80 in FIG. 1). The suction port 15a of the suction part 10a is rotatable along the surface state of the coating film-disposing substrate 80 with the longitudinal center of the slit-shaped opening 16 as a fulcrum.
Here, the suction portion 10 a is rotatable by the support portion 47 and joined to the cylinder shaft 45.

簡単に、本例の塗膜除去方法の処理フローの1例を説明しておく。
先ず、予め、ウエット状態の塗膜がその一面側に配設された塗膜配設基板を用意しておき、該塗膜配設基板をステージ20上に載置して保持させる。
例えば、透明な基板の一面側上に、液状物質を塗工して、ウエット状態の塗膜を配設して塗膜配設基板を用意しておく。
次いで、XYステージ20を移動して、吸引部10の吸い込み口15を塗膜85を除去する領域である除去領域内の所定位置とする。
次いで、シリンダー40を駆動して、そのシリンダー軸45の先端に接続した吸引部10を位置移動して、吸引部10の吸い込み口15を、塗膜85が配設された塗膜配設基板80に接触させた状態とする。
この状態で吸い込み口15から吸引するようになっている。
そして、吸い込み口15を、塗膜配設基板80の一面に沿うように、除去領域内を、塗膜配設基板80に対して相対的に移動させる。
このようにして、所望の領域全体の塗膜85を選択的に除去する。
例えば、図4(a)に示す、塗膜除去処理前の塗膜配設基板80aは、塗膜除去処理後には、図4(b)のように、各面付けの間の塗膜は除去される。
Briefly, one example of the processing flow of the coating film removing method of this example will be described.
First, a coating film-disposed substrate having a wet-coated film disposed on one side thereof is prepared in advance, and the coating film-disposed substrate is placed on the stage 20 and held.
For example, a liquid material is applied on one side of a transparent substrate, and a wet coating film is provided to prepare a coating film-providing substrate.
Next, the XY stage 20 is moved so that the suction port 15 of the suction unit 10 is set to a predetermined position in the removal region that is a region where the coating film 85 is removed.
Next, the cylinder 40 is driven to move the position of the suction unit 10 connected to the tip of the cylinder shaft 45, and the suction port 15 of the suction unit 10 is moved to the coating film-disposed substrate 80 on which the coating film 85 is disposed. In contact with
In this state, suction is performed from the suction port 15.
Then, the suction port 15 is moved relative to the coating film providing substrate 80 in the removal region so as to be along one surface of the coating film providing substrate 80.
In this way, the coating film 85 in the entire desired area is selectively removed.
For example, as shown in FIG. 4 (a), the coated substrate 80a before the coating removal process is removed after the coating removal process as shown in FIG. 4 (b). Is done.

本例の変形例としては、図3に示すように、吸引部10の吸い込み口15による塗膜85の吸引に際し、予め、ノズル70により、塗膜85に所定のウェット状態促進液75をかけて、ウエット状態を促進しておく方法も挙げられる。
塗膜配設基板80としては、特に限定されない。
透明基板面に直接ウェット状態の塗膜を配設したものの他、透明基板面に設けられた固化した層の上にウェット状態の塗膜を配設したものでも良い。
具体的には、塗膜配設基板80として、表示パネル形成用の多層からなる複合基板が挙げられる。
また、別の形態としては、ステージを固定のものとして、吸引部を制御してXY移動させることにより、相対的に、吸引部を除去領域内において移動させる形態も挙げられる。
As a modification of this example, as shown in FIG. 3, when the coating film 85 is sucked by the suction port 15 of the suction unit 10, a predetermined wet state promoting liquid 75 is previously applied to the coating film 85 by the nozzle 70. A method of promoting the wet state is also mentioned.
The coated film substrate 80 is not particularly limited.
In addition to those in which a wet coating film is directly disposed on the transparent substrate surface, a wet coating film may be disposed on a solidified layer provided on the transparent substrate surface.
Specifically, as the coating film-arranged substrate 80, a composite substrate composed of a multilayer for forming a display panel can be mentioned.
Further, as another form, there is a form in which the suction part is relatively moved in the removal region by controlling the suction part and performing XY movement with the stage being fixed.

図1(a)は本発明の塗膜除去方法の実施の形態の1例を示した概略図で、図1(b)は図1(a)のA1側から見た吸引部の吸引状態を示した図である。FIG. 1A is a schematic view showing an example of an embodiment of the method for removing a coating film of the present invention, and FIG. 1B shows the suction state of the suction portion viewed from the A1 side in FIG. FIG. 図2(a)は吸引部の回転を説明するための概略図で、図2(b)は図2(a)のB1側からみた図である。FIG. 2A is a schematic view for explaining the rotation of the suction portion, and FIG. 2B is a view as seen from the B1 side of FIG. ウェット状態促進方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the wet state promotion method. 図4(a)は多面付け用の基板における塗膜除去処理前の状態を示した図で、図4(b)は塗膜除去処理後の状態を示した図である。FIG. 4A is a diagram showing a state before the coating film removing process on the multi-sided substrate, and FIG. 4B is a diagram showing a state after the coating film removing process.

符号の説明Explanation of symbols

10、10a 吸引部
15、15a 吸い込み口
16 スリット状の開口
20 XYステージ
30 タンク
31、32 管
35 制御弁
40 シリンダー
41 排気配管
41A 制御弁
42 圧縮空気供給配管
42A 制御弁
45 シリンダー軸
47 支持部
50 支持部
51 (シリンダーの)固定部
70 ノズル
75 ウェット状態促進液
80 塗膜配設基板
80a (塗膜除去後の)処理済基板
85 (ウェット状態の)塗膜
86 単位の面付け
87 (面付けの)境部


10, 10a Suction unit 15, 15a Suction port 16 Slit-shaped opening 20 XY stage 30 Tank 31, 32 Pipe 35 Control valve 40 Cylinder 41 Exhaust pipe 41A Control valve 42 Compressed air supply pipe 42A Control valve 45 Cylinder shaft 47 Support part 50 Support portion 51 (Cylinder) fixing portion 70 Nozzle 75 Wet state promoting liquid 80 Coating substrate 80a Treated substrate 85 (after removal of coating) 85 (Wet state) Coating 86 Unit imposition 87 (Imposition) No)


Claims (8)

ウエット状態の塗膜がその一面側に配設された塗膜配設基板に対して、吸引部(吸引ヘッドとも言う)にて選択的にウエット状態の塗膜を吸引除去して、前記塗膜配設基板の一面側内部にわたり、前記ウエット状態の塗膜の除去を選択的行う、塗膜除去方法であって、前記ウエット状態の塗膜を除去する領域である除去領域内において、吸引部の吸い込み口を、前記塗膜配設基板に接触させながら、且つ、吸い込み口から吸引しながら、吸い込み口を、前記塗膜配設基板の一面に沿うように、該塗膜配設基板に対して相対的に移動させ、前記除去領域の前記塗膜を除去することを特徴とする塗膜除去方法。   The wet coating film is selectively removed by suction with a suction part (also referred to as a suction head) to the coating film-mounted substrate on which the wet coating film is disposed on one side thereof, and the coating film A method of removing a wet film selectively on one side of an arrangement substrate, wherein the suction portion is disposed in a removal area that is an area where the wet film is removed. While bringing the suction port into contact with the coating film-disposed substrate and sucking from the suction port, the suction port is directed to the coating film-disposing substrate so as to be along one surface of the coating film-disposing substrate. A method of removing a coating film, wherein the coating film is moved relatively to remove the coating film in the removal region. 請求項1記載の塗膜除去方法であって、前記吸引部の吸い込み口は、スリット状の開口形状であることを特徴とする塗膜除去方法。   2. The method of removing a coating film according to claim 1, wherein the suction port of the suction part has a slit-like opening shape. 請求項1ないし2のいずれか1項に記載の塗膜除去方法であって、前記塗膜配設基板は多面付け用で、各面付け間の塗膜を除去するものであることを特徴とする塗膜除去方法。   It is a coating-film removal method of any one of Claim 1 thru | or 2, Comprising: The said coating-film arrangement | positioning board | substrate is for multi-surface imposition, The film between each imposition is removed, It is characterized by the above-mentioned. To remove the coating film. 請求項1ないし3のいずれか1項に記載の塗膜除去方法であって、前記塗膜配設基板は、表示パネル形成用の多層からなる複合基板を形成するための基板であることを特徴とする塗膜除去方法。   4. The coating film removing method according to claim 1, wherein the coating film-disposed substrate is a substrate for forming a composite substrate composed of a multilayer for forming a display panel. 5. Coating film removal method. 請求項1ないし4のいずれか1項に記載の塗膜除去方法であって、吸引部の吸い込み口による塗膜の吸引に際し、予め、塗膜に所定の液によりウエット状態を促進しておくことを特徴とする塗膜除去方法。   5. The method for removing a coating film according to claim 1, wherein the wet state of the coating film is promoted in advance by a predetermined liquid when the coating film is sucked by the suction port of the suction portion. A coating film removing method characterized by ウエット状態の塗膜がその一面側に配設された塗膜配設基板に対して、吸引部(吸引ヘッドとも言う)にて選択的にウエット状態の塗膜を吸引除去して、前記塗膜配設基板の一面側内部にわたり、前記ウエット状態の塗膜の除去を選択的に行う、塗膜除去装置であって、前記塗膜配設基板を水平に搭載して保持するステージと、その吸い込み口をステージ側にして、ステージ上側に配され、前記ウエット状態の塗膜を吸引除去する吸引部と、該吸引部に管にて接続して、その吸い込み口にて吸引した塗膜を、更に吸引して貯える低圧のタンクと、吸引部の吸い込み口の鉛直方向の位置を制御する、吸い込み口位置制御部を備えたもので、前記吸引部の吸い込み口は、前記ステージに対して相対的に移動できるもので、該吸い込み口の先端を、前記塗膜が配設された塗膜配設基板に接触させながら、且つ、該吸い込み口の先端から吸引しながら、該吸い込み口を、前記塗膜配設基板の一面に沿うように、該塗膜配設基板に対して相対的に移動させ、前記除去領域の前記塗膜を除去するものであることを特徴とする塗膜除去装置。   The wet coating film is selectively removed by suction with a suction part (also referred to as a suction head) to the coating film-mounted substrate on which the wet coating film is disposed on one side thereof, and the coating film A coating film removing apparatus that selectively removes the wet coating film over one surface side of the arrangement substrate, a stage for horizontally mounting and holding the coating film arrangement substrate, and its suction With the mouth on the stage side, the suction part arranged on the stage upper side for sucking and removing the wet paint film, and the paint film connected to the suction part with a pipe and sucked at the suction mouth, A low-pressure tank that stores by suction and a suction port position control unit that controls the vertical position of the suction port of the suction unit. The suction port of the suction unit is relatively positioned with respect to the stage. The tip of the suction port can be moved, While being in contact with the coating film-provided substrate on which the coating film is disposed and sucking from the tip of the suction port, the suction port extends along one surface of the coating film-disposing substrate. A coating film removing apparatus that moves relative to a film-arranged substrate and removes the coating film in the removal region. 請求項6に記載の塗膜除去装置であって、前記吸引部の吸い込み口は、スリット状の開口を有し、且つ、そのスリット状の開口の長手方向の中心を支点として、塗膜配設基板の面状態に沿い回転可能であることを特徴とする塗膜除去装置。   It is a coating-film removal apparatus of Claim 6, Comprising: The suction inlet of the said suction part has a slit-shaped opening, and coating-film arrangement | positioning uses the center of the longitudinal direction of the slit-shaped opening as a fulcrum. A coating film removing apparatus characterized by being rotatable along the surface state of a substrate. 請求項6ないし7のいずれか1項に記載の塗膜除去装置であって、前記吸引部の吸い込み口は樹脂からできていることを特徴とする塗膜除去装置。

The coating film removing apparatus according to any one of claims 6 to 7, wherein the suction port of the suction part is made of a resin.

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