JP2008009346A - 位相差フィルム、および、位相差フィルムの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】シクロオレフィン系樹脂からなる透明基板が用いられた、正のＣプレートとしての性質を有する位相差フィルムであって、透明基板と他の層との密着性に優れた位相差フィルムを提供する。
【解決手段】シクロオレフィン系樹脂からなる透明基板と、上記透明基板上に接するように形成され、重合性モノマーの重合物およびホメオトロピック配向性を有する液晶材料とを含有し、面内方向において互いに直行する任意のｘ方向、ｙ方向の屈折率ｎｘおよびｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間にｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する密着性位相差層とを有する位相差フィルムであって、上記重合性モノマーを構成する炭素数Ｎを、上記重合性モノマーを構成する炭素および水素以外の元素数Ｍで除した値（Ｎ／Ｍ）が３以上であることを特徴とする位相差フィルム。
【選択図】なし

Description

本発明は、液晶表示装置等に用いられる位相差フィルム、および、その製造方法に関するものであり、より詳しくはシクロオレフィン系樹脂からなる透明基板が用いられた位相差フィルム、および、その製造方法に関するものである。

液晶表示装置は、その省電力、軽量、薄型等といった特徴を有することから、従来のＣＲＴディスプレイに替わり、近年急速に普及している。一般的な液晶表示装置としては、図３に示すように、入射側の偏光板１０２Ａと、出射側の偏光板１０２Ｂと、液晶セル１０４とを有するものを挙げることができる。偏光板１０２Ａおよび１０２Ｂは、所定の振動方向の振動面を有する直線偏光（図中、矢印で模式的に図示）のみを選択的に透過させるように構成されたものであり、それぞれの振動方向が相互に直角の関係になるようにクロスニコル状態で対向して配置されている。また、液晶セル１０４は画素に対応する多数のセルを含むものであり、偏光板１０２Ａと１０２Ｂとの間に配置されている。

このような液晶表示装置は、上記液晶セルに用いられる液晶材料の配列形態により種々の駆動方式を用いたものが知られており、今日、普及している液晶表示装置の主たるものは、ＴＮ、ＳＴＮ、ＭＶＡ、ＩＰＳおよびＯＣＢ等に分類される。なかでも今日においては、上記ＭＶＡおよびＩＰＳの駆動方式を有するものが広く普及するに至っている。

一方、液晶表示装置は、その特有の問題点として、液晶セルの屈折率異方性に起因する視野角依存性の問題点がある。この視野角依存性の問題は、液晶表示装置を正面から見た場合と、斜め方向から見た場合とで、視認される画像の色味やコントラストが変化してしまう問題である。このような視野角特性の問題は、近年の液晶表示装置の大画面化に伴って、さらにその問題の重大性が増している。

このような視野角依存性の問題を改善するため、現在までに様々な技術が開発されており、その代表的な方法として位相差フィルムを用いる方法がある。このような位相差フィルムを用いる方法は、図３に示すように所定の光学特性を有する位相差フィルム３０を、液晶セル１０４と偏光板１０２Ｂとの間に配置することにより、視野角依存性の問題を改善する方法である。この方法は位相差フィルム３０を液晶表示装置に組み込むことのみで上記視野角依存性の問題点を改善できることから、簡便に視野角特性に優れた液晶表示装置を得ることが可能な方法として広く用いられるに至っている。
ここで、上記位相差フィルムとしては、例えば、透明基板上に、規則的に配列した液晶材料を含有する位相差層が形成された構成を有するものや、延伸フィルムからなるものが一般的に知られている。
なかでも、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式の液晶表示装置には、液晶材料がホメオトロピック配向することにより、正のＣプレートとしての性質を有する位相差層を有する位相差フィルムが用いられている。

このような位相差フィルムを構成する透明基板としては従来セルローストリアセテートからなるフィルムが広く用いられてきた。セルローストリアセテートは複屈折性が小さく、光学的等方性に優れる材料であることから光学特性の設計が容易であり、また、天然材料であるセルロースを原材料とするものであるため、工業的に安価で入手可能である点において有用性が高いことがその主たる理由となっている。しかしながら、上記のような液晶表示装置等に用いられる位相差フィルムは、各種液晶表示装置の表示方式等に応じて、所望の複屈折性を備えることが求められるところ、上記セルローストリアセテートは耐熱性が低く、また、吸水性が高いため熱変形や吸湿変形しやすいという問題点があった。また、吸湿に伴う複屈折性の変動が大きいという問題点もあった。

このような問題点に対し、特許文献１および特許文献２には上記セルローストリアセテートの替わりに、シクロオレフィン系樹脂を用いた位相差フィルムが開示されている。シクロオレフィン系樹脂は、分子設計によりガラス転移点や、吸湿率を好ましい範囲制御することが可能であり、良好な耐熱性と適度な吸水性を実現することができるという利点を有する。このため、シクロオレフィン系樹脂を用いることにより、吸水による光学特性変化や寸法変化が少ない位相差フィルムを得ることが可能である。

このようなシクロオレフィン系樹脂の利点を活かし、特許文献３には、シクロオレフィン系樹脂からなる基板上に、液晶材料がホメオトロピック配向した位相差層が形成され、ＩＰＳ方式の液晶表示装置に好適に用いられる正のＣプレートとしての性質を有する位相差フィルムが開示されている。このような位相差フィルムは、シクロオレフィン系樹脂からなる透明基板を用いることで、従来トリアセチルセルロースからなるフィルムが用いられていた際に問題となっていた吸湿変形等を改善できるという利点がある。
しかしながら、上記シクロオレフィン系樹脂は、一般的に上記位相差層に用いられる液晶材料との接着性が低いため、特許文献３に記載されたような位相差フィルムは、位相差層と透明基板との密着性が低く、実用性に乏しいという問題点があった。
この点、特許文献４には、アクリル系樹脂等からなる粘着剤を用いて、ホメオトロピック配向した位相差層と、シクロオレフィン系樹脂からなる透明基板とを接着させる思想が開示されているが、このような粘着剤を用いてもなお位相差層と透明基板との接着性を十分なものとすることは困難であった。

このようなことから、シクロオレフィン系樹脂が用いられた位相差フィルムは上述したような利点を有するものの、実用性に欠けるという問題点があった。

特開２００５−８６９８号公報 特開２００４−３０９９７９号公報 特開２００２−１７４７２５号公報 特開２００３−１２１８５３号公報

本発明はこのような問題点に鑑みてなされたものであり、シクロオレフィン系樹脂からなる透明基板が用いられた、正のＣプレートとしての性質を有する位相差フィルムであって、透明基板と他の層との密着性に優れた位相差フィルムを提供することを主目的とするものである。

上記課題を解決するために本発明は、シクロオレフィン系樹脂からなる透明基板と、上記透明基板上に接するように形成され、重合性モノマーの重合物およびホメオトロピック配向性を有する液晶材料とを含有し、面内方向において互いに直行する任意のｘ方向、ｙ方向の屈折率ｎｘおよびｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間にｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する密着性位相差層とを有する位相差フィルムであって、上記重合性モノマーが、下記式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、および、（Ｖ）からなる群から選択される少なくとも１つの重合性官能基を有するものであり、かつ、上記重合性モノマーを構成する炭素数Ｎを、上記重合性モノマーを構成する炭素および水素以外の元素数Ｍで除した値（Ｎ／Ｍ）が３以上であることを特徴とする位相差フィルムを提供する。

ここで、上記式においてＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３は、メチル基または水素を表す。また、Ｒ⁴は、水素、メチル基またはエチル基を表す。

本発明によれば、上記密着性位相差層に上記式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、および、（Ｖ）からなる群から選択される少なくとも１つの重合性官能基を有し、かつ、上記重合性モノマーを構成する炭素数Ｎを、上記重合性モノマーを構成する炭素および水素以外の元素数Ｍで除した値（Ｎ／Ｍ）（以下、単に「炭素含有比」と称する場合がある。）が３以上である重合性モノマーの重合物が含まれることにより、上記密着性位相差層と、上記シクロオレフィン系樹脂からなる透明基板との密着性を向上することができる。このため、本発明によればシクロオレフィン系樹脂からなる透明基板が用いられた位相差フィルムであって、上記密着性位相差層と上記透明基板との密着性に優れた位相差フィルムを得ることができる。
また、上記密着性位相差層が面内方向において互いに直行する任意のｘ方向、ｙ方向の屈折率ｎｘおよびｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間に、ｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚの関係が成立するものであることにより、本発明の位相差フィルムに正のＣプレートとしての性質を付与することができる。
このようなことから、本発明によればシクロオレフィン系樹脂からなる透明基板が用いられた正のＣプレートとしての性質を有する位相差フィルムであって、密着性位相差層と、透明基板との密着性に優れた位相差フィルムを得ることができる。

また、本発明の位相差フィルムは、上記密着性位相差層が上記透明基板との密着性を向上する密着機能と、本発明の位相差フィルムに位相差性を付与する位相差性付与機能とを有するため、例えば、上記密着機能を有する層と、上記位相差性付与機能を有する層とを別個に有する位相差フィルムと比較して、製造工程を簡略化できるという利点も有する。

本発明においては、上記密着性位相差層に界面活性剤が含まれていることが好ましい。これにより、上記密着性位相差層における上記液晶材料のホメオトロピック配向をより規則性の高いものとすることができるため、本発明における密着性位相差層を位相差性の発現性に優れたものにすることができるからである。

また、上記課題を解決するために本発明は、シクロオレフィン系樹脂からなる透明基板を用い、少なくとも重合性モノマーおよびホメオトロピック配向性を有する液晶材料が溶媒に溶解されてなる密着性位相差層形成用塗工液を上記透明基板上に接するように塗工することにより、密着性位相差層形成用層を形成する密着性位相差層形成用層形成工程と、上記密着性位相差層形成用層中に含有される重合性モノマーを重合することにより密着性位相差層を形成する硬化処理工程とを有し、上記透明基板上に、面内方向において互いに直行する任意のｘ方向、ｙ方向の屈折率ｎｘおよびｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間に、ｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する密着性位相差層が形成された位相差フィルムを製造する位相差フィルムの製造方法であって、上記重合性モノマーが、下記式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、および、（Ｖ）からなる群から選択される少なくとも１つの重合性官能基を有するものであり、かつ、上記重合性モノマーを構成する炭素数Ｎを、上記重合性モノマーを構成する炭素および水素以外の元素数Ｍで除した値（Ｎ／Ｍ）が３以上であることを特徴とする、位相差フィルムの製造方法を提供する。

ここで、上記式においてＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３は、メチル基または水素を表す。また、Ｒ⁴は、水素、メチル基、または、エチル基を表す。

本発明によれば、上記密着性位相差層形成用塗工液に上記式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、および、（Ｖ）からなる群から選択される少なくとも１つの重合性官能基を有し、かつ、炭素含有比が３以上である重合性モノマーの重合物が含まれることにより、本発明により製造される位相差フィルムにおいて上記密着性位相差層と、上記シクロオレフィン系樹脂からなる透明基板との密着性を向上することができる。このため、本発明によればシクロオレフィン系樹脂からなる透明基板が用いられた位相差フィルムであって、上記密着性位相差層と上記透明基板との密着性に優れた位相差フィルムを製造することができる。
また、本発明により製造される位相差フィルムが、面内方向において互いに直行する任意のｘ方向、ｙ方向の屈折率ｎｘおよびｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間に、ｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する密着性位相差層を有するものであることにより、本発明によって正のＣプレートとしての性質を有する位相差フィルムを製造することができる。
このようなことから、本発明によればシクロオレフィン系樹脂からなる透明基板が用いられた正のＣプレートとしての性質を有する位相差フィルムであって、密着性位相差層と、透明基板との密着性に優れた位相差フィルムを製造することができる。

本発明は、シクロオレフィン系樹脂からなる透明基板が用いられた正のＣプレートとしての性質を有する位相差フィルムであって、密着性位相差層と、透明基板との密着性に優れた位相差フィルムを得ることができるという効果を奏する。

以下、本発明の位相差フィルム、および、位相差フィルムの製造方法について順に説明する。

Ａ．位相差フィルム
まず、本発明の位相差フィルムについて説明する。本発明の位相差フィルムは、シクロオレフィン系樹脂からなる透明基板と、上記透明基板上に接するように形成され、重合性モノマーの重合物およびホメオトロピック配向性を有する液晶材料とを含有し、面内方向において互いに直行する任意のｘ方向、ｙ方向の屈折率ｎｘおよびｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間にｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する密着性位相差層とを有するものであって、上記重合性モノマーが、上記式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、および、（Ｖ）からなる群から選択される少なくとも１つの重合性官能基を有するものであり、かつ、上記重合性モノマーを構成する炭素数Ｎを、上記重合性モノマーを構成する炭素および水素以外の元素数Ｍで除した値（Ｎ／Ｍ）が３以上であることを特徴とするものである。

このような本発明の位相差フィルムについて図を参照しながら説明する。図１は本発明の位相差フィルムの一例を示す概略図である。図１に例示するように本発明の位相差フィルム１０は、シクロオレフィン系樹脂からなる透明基板１と、上記透明基板１上に形成され、面内方向において互いに直行する任意のｘ方向、ｙ方向の屈折率ｎｘおよびｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間に、ｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する密着性位相差層２と、を有するものである。
このような例において本発明の位相差フィルム１０は、上記密着性位相差層２に、上記式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、および、（Ｖ）からなる群から選択される少なくとも１つの重合性官能基を有し、かつ、炭素含有比が３以上である重合性モノマーの重合物と、ホメオトロピック配向性を有する液晶材料が含まれることを特徴とするものである。
なお、本発明の位相差フィルム１０においては、上記密着性位相差層２に含有される液晶材料が垂直配向膜を使用しなくてもホメオトロピック配向を形成する性質を有するホメオトロピック配向性を有するものであることから、上記密着性位相差層２に含有される液晶材料は、通常、ホメオトロピック配向を形成しているものとなる。

本発明によれば、上記密着性位相差層に上記式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、および、（Ｖ）からなる群から選択される少なくとも１つの重合性官能基を有し、かつ、炭素含有比が３以上である重合性モノマーの重合物が含まれることにより、上記密着性位相差層と、上記シクロオレフィン系樹脂からなる透明基板との密着性を向上することができる。このため、本発明によればシクロオレフィン系樹脂からなる透明基板が用いられた位相差フィルムであって、上記密着性位相差層と上記透明基板との密着性に優れた位相差フィルムを得ることができる。
ここで、上記密着性位相差層に上記構造を有する重合性モノマーの重合物が含有されることにより、上記透明基板と上記密着性位相差層との密着性を向上できるのは次のような理由に基づくと考えられる。
すなわち、シクロオレフィン系樹脂は一般的に位相差フィルム等に用いられる液晶材料等とは接着性が悪いという問題があったが、これはシクロオレフィン系樹脂が位相差フィルム用の透明基板に広く用いられてきたセルローストリアセテートよりも、分子の極性が低いことが主たる原因であったと考えられる。
この点、本発明の位相差フィルムにおいては上記密着性位相差層に含有される重合性モノマーの重合物を構成する重合性モノマーが、上記式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）および、（Ｖ）からなる群から選択される少なくとも１つの重合性官能基を有するものであり、かつ、炭素含有比が３以上であるものであることにより、上記重合性モノマーの極性を上記シクロオレフィン系樹脂の極性に近似させることができる。このため、本発明に用いられる上記重合性モノマーの重合物は、シクロオレフィン系樹脂との密着性に優れたものとなるため、上記密着性位相差層と上記透明基板との密着性を向上することができると考えられる。

また、上記密着性位相差層が面内方向において互いに直行する任意のｘ方向、ｙ方向の屈折率ｎｘおよびｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間に、ｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚの関係が成立するものであることにより、本発明の位相差フィルムに正のＣプレートとしての性質を付与することができる。
なお、本発明においては、上記密着性位相差層に含まれる液晶材料が、垂直配向膜を用いなくてもホメオトロピック配向を形成できるホメオトロピック配向性を有するものであることから、上記密着性位相差層に含有される液晶材料は、通常、ホメオトロピック配向を形成したものとなる。このため、本発明においては、このようなホメオトロピック配向を形成した液晶材料の複屈折性の寄与により、当然に上記密着性位相差層を上記ｎｘ，ｎｙ，ｎｚに上記関係が成立するものにすることができるのである。
このようなことから、本発明によればシクロオレフィン系樹脂からなる透明基板が用いられた正のＣプレートとしての性質を有する位相差フィルムであって、密着性位相差層と、透明基板との密着性に優れた位相差フィルムを得ることができる。

また、本発明の位相差フィルムは、上記密着性位相差層が上記透明基板との密着性を向上する密着機能と、本発明の位相差フィルムに位相差性を付与する位相差性付与機能とを有するため、例えば、上記密着機能を有する層と、上記位相差性付与機能を有する層とを別個に有する位相差フィルムと比較して、製造工程を簡略化できるという利点も有する。

本発明の位相差フィルムは、少なくとも、透明基板および密着性位相差層を有するものである。
以下、本発明の位相差フィルムに用いられる各構成について順に説明する。

１．密着性位相差層
まず、本発明に用いられる密着性位相差層について説明する。本発明に用いられる密着性位相差層は、上記式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、および、（Ｖ）からなる群から選択される少なくとも１つの重合性官能基を有し、かつ、炭素含有比が３以上である重合性モノマーの重合物と、ホメオトロピック配向性を有する液晶材料とを含むものであり、面内方向において互いに直行する任意のｘ方向、ｙ方向の屈折率ｎｘおよびｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間に、ｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚの関係が成立するものである。
そして、本発明に用いられる密着性位相差層は、本発明の位相差フィルムに正のＣプレートとしての性質を付与する機能を有するものである。

なお、上述したように本発明においては、密着性位相差層に上記構造を有する重合性モノマーの重合物が含有されることにより、密着性位相差層と透明基板との密着性に優れた位相差フィルムを得ることができるのである。

以下、このような密着性位相差層について詳細に説明する。

（１）重合性モノマーの重合物
まず、本発明に用いられる重合性モノマーの重合物について説明する。本発明に用いられる重合性モノマーの重合物は、上記式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、および、（Ｖ）からなる群から選択される少なくとも１つの重合性官能基を有し、かつ、炭素含有比が３以上である重合性モノマーが重合されてなるものである。

（重合性モノマー）
本発明に用いられる重合性モノマーは、上記式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）および、（Ｖ）からなる群から選択される少なくとも１つの重合性官能基を有するものであり、かつ、上記炭素含有比が３以上であるものである。本発明に用いられる重合性モノマーは炭素含有比が上記範囲であることにより、上記重合性モノマーの極性を、後述する透明基板を構成するシクロオレフィン系樹脂の極性に近似させることができるため、密着性位相差層と後述する透明基板との密着性を向上することができるのである。

本発明に用いられる重合性モノマーの炭素含有比は、本発明で規定する範囲内であれば特に限定されるものではなく、後述する透明基板を構成するシクロオレフィン系樹脂の種類等に応じて任意に決定することができる。なかでも本発明に用いられる重合性モノマーは、炭素含有比が３〜１０の範囲内であるものが好ましく、特に３〜７の範囲内であるものが好ましく、さらには３〜５の範囲内であるものが好ましい。炭素含有比は、その値が大きいほど上記重合性モノマーの極性が小さいことを示すものであるため、炭素含有比が上記範囲よりも小さいと、重合性モノマーの極性が大きくなりすぎ、後述する透明基板を構成するシクロオレフィン系樹脂の極性との差が拡がる結果、後述する透明基板と密着性位相差層との密着性が不十分となってしまう可能性があるからである。また、上記範囲よりも大きいと、重合性モノマーに含有される重合性官能基の割合が小さくなりすぎ、密着性位相差層の耐溶剤性が損なわれてしまう場合があるからである。

ここで、上述したように炭素含有比は、上記重合性モノマーを構成する炭素数Ｎを、上記重合性モノマーを構成する炭素および水素以外の元素数Ｍで除した値（Ｎ／Ｍ）であるが、上記「重合性モノマーを構成する炭素数Ｎ」とは、上記重合性モノマーを分子式で示した際に、表記される炭素の数を意味するものである。また、上記「重合性モノマーを構成する炭素および水素以外の元素数Ｍ」とは、上記重合性モノマーを分子式で示した際に、表記される炭素および水素以外の元素の数の総和を意味するものである。したがって、例えば、分子式がＣ_１２Ｈ_１８Ｏ_４である１，６−ヘキサンジオールジアクリレートの場合、上記重合性モノマーを構成する炭素数Ｎは１２となり、上記重合性モノマーを構成する炭素および水素以外の元素数Ｍは４となるため、上記Ｎ／Ｍは３ということになる。また、分子式がＣ_７Ｈ_１１ＮＯ_２であるアクリロイルモルホリンの場合、上記重合性モノマーを構成する炭素数Ｎは７となり、上記重合性モノマーを構成する炭素および水素以外の元素数Ｍは３（窒素＋酸素）となるため、上記Ｎ／Ｍは２．３ということになる。

本発明に用いられる重合性モノマーは、分子中に上記重合性官能基を１つ含有するものであっても良く、または、複数の重合性官能基を含有するものであっても良い。なかでも本発明においては、複数の重合性官能基を含有する重合性モノマーを用いることが好ましい。これにより、密着性位相差層における重合性モノマーの重合物の架橋密度を密にできるため、耐溶剤性に優れた密着性位相差層を得ることができるからである。

なお、本発明に用いられる重合性モノマーが上記重合性官能基が複数結合してなるものである場合、上記重合性官能基はすべて同一であっても良く、または、それぞれ異なっていても良い。

また、本発明に用いられる重合性モノマーは、脂肪族炭化水素を有するものであることが好ましい。このような脂肪族炭化水素を有することにより、炭素含有比を本発明で規定する範囲内とし、本発明に用いられる重合性モノマーの極性を、シクロオレフィン系樹脂の極性に近いものとすることが容易になるからである。

本発明に用いられる上記脂肪族炭化水素としては、直鎖状のものであっても良く、分岐鎖状のものであっても良く、さらには、環状のものであっても良いが、なかでも直鎖状または環状のものであることが好ましい。上記炭化水素鎖が直鎖状または環状のものであることにより、上記重合性モノマーの分子構造を、後述するシクロオレフィン系樹脂の分子構造により近似させることができるため、両者の極性をより近いものにすることが可能になる結果、より透明基板と密着性位相差層との密着性に優れた位相差フィルムを得ることができるからである。

また、本発明に用いられる重合性モノマーは、水酸基価が１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、なかでも５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、特に５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましい。また、本発明に用いられる重合性モノマーは、酸価が１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、なかでも５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、特に５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましい。
本発明に用いられる重合性モノマーが極性の大きい水酸基、酸性基（カルボン酸、リン酸、スルホン酸等）を有し、水酸基価および酸価のいずれかが１５０ｍｇＫＯＨ／ｇより高いと、炭素含有比を本発明で規定する範囲内にしても、上記重合性モノマーの極性を後述するシクロオレフィン系樹脂の極性に近似されることが困難となり、密着性位相差層と透明基板との密着性が低下する場合も想定されるからである。
ここで、上記水酸基価はＪＩＳ Ｋ００７０に準拠した方法により測定することができる。また、上記酸価は、ＪＩＳ Ｋ２５０１に準拠した方法により測定することができる。

本発明に用いられる重合性モノマーの具体例としては、例えば、下記式（ＶＩ）、（ＶＩＩ）で表される重合性モノマーを例示することができる。

上記式において、Ｘ^１、Ｘ^２、および、Ｘ^３はそれぞれ独立して上記式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）および、（Ｖ）のいずれかの重合性官能基を表す。また、Ｙ^１は、‐Ｃ_ｍＨ_２ｍ＋１（ｍは４〜１７の整数）で表される直鎖状または分岐鎖状の炭化水素、シクロヘキシル基、イソボルニル基、未置換またはアルキル基で置換されたフェニル基、または、ビフェニル基を表す。ｒ^１、ｒ^２、ｒ^３およびｒ^４は、それぞれ独立して０または１である。
さらに、Ｙ^２は、‐Ｃ_ｎＨ_２ｎ‐（ｎは１〜３４の整数）で表される直鎖状、または、分岐鎖状の炭化水素、シクロヘキシル基、トリシクロデカンジメチル基、フェニル基、または、ビフェニル基を表す。

本発明においては上記式（ＶＩ）、（ＶＩＩ）で表される上記重合性モノマーのなかでも次のような重合性モノマーを用いることが好適に用いられる（以下、＜ ＞内の数値は、各化合物の炭素含有比を示す。）。

上記式（Ｉ）で表される重合性官能基を有する重合性モノマー；シクロヘキシルアクリレート＜４．５＞、イソボルニルアクリレート＜６．５＞、１,６−ヘキサンジオールジアクリレート＜３＞、１,９−ノナンジオールジアクリレート＜３．７５＞、２−メチル−１,８−オクタンジオールジアクリレート＜３．７５＞、２−ブチル−２−エチル−１,４−プロパンジオールジアクリレート＜３．７５＞、１,１０−デカンジオールジアクリレート＜３．７５＞、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート＜４．５＞。
上記式（ＩＩ）で表される重合性官能基を有する重合性モノマー；１,６−ヘキサンジオールジビニルエーテル＜５＞、シクロヘキサンジオールジビニルエーテル＜５＞、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル＜６＞、ノナンジオールジビニルエーテル＜６．５＞、トリメチルプロパントリビニルエーテル＜４＞。
上記式（ＩＩＩ）で表される重合性官能基を有する重合性モノマー；エチルヘキシルグリシジルエーテル＜５．５＞。
上記式（ＩＩＩ）および（ＩＶ）で表される重合性官能基を有する重合性モノマー；ジペンテンジオキシド＜５＞。
上記式（Ｖ）で表される重合性官能基を有する重合性モノマー；３−エチル−３−（２−エチルヘキシロキシメチル）オキセタン＜７＞、ジ［１−エチル（３−オキセタニル）]メチルエーテル＜４＞。
上記式（Ｉ）および（Ｖ）で表される重合性官能基を有する重合性モノマー；３−エチル−３−オキセタニルメチルアクリレート＜３＞。

なお、本発明における密着性位相差層に上記重合性モノマーの重合物が含まれることは、例えば、ＮＭＲ解析により明らかにすることができる。

（重合性モノマーの重合物）
次に、本発明に用いられる重合性モノマーの重合物について説明する。本発明に用いられる重合性モノマーの重合物は、上述した重合性モノマーが重合されてなるものである。

本発明に用いられる重合性モノマーの重合物としては、上述した重合性モノマーを重合することにより得られるものであれば特に限定されるものではない。このような重合性モノマーの重合物の態様としては、同一の重合性モノマーのみ重合されてなる態様と、２種類以上の重合性モノマーが重合されてなる態様とを挙げることができる。本発明においてはいずれの態様の重合性モノマーの重合物であっても好適に用いることができるが、なかでも、同一の重合性モノマーのみ重合されてなる態様の重合性モノマーの重合物を用いることが好ましい。

また、本発明における密着性位相差層に含有される重合性モノマーの重合物の含有量としては、密着性位相差層と後述する透明基板との密着性を所望の範囲にすることができる範囲であれば特に限定されない。なかでも本発明においては、ホメオトロピック配向を形成する液晶材料に対して０．０１質量％〜３０質量％の範囲内であることが好ましく、特に１質量％〜２０質量％の範囲であることが好ましい。
含有量が上記範囲よりも多いと、本発明の位相差フィルムに所望の位相差性を付与することが困難となる可能性があり、一方、上記範囲よりも少ないと密着性位相差層と透明基板との密着力を所望の範囲とすることができない恐れがあるからである。

（２）液晶材料
次に、本発明に用いられる液晶材料について説明する。本発明に用いられる液晶材料は、ホメオトロピック配向性を有するものである。

ここで、本発明においては、液晶材料がホメオトロピック配向性を有するものであることから、密着性位相差層における液晶材料は、通常、ホメオトロピック配向を形成していることになる。そして、このような液晶材料のホメオトロピック配向により、本発明における密着性位相差層は上記ｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚの関係が成立するものになるのである。
したがって、本発明に用いられる密着性位相差層が上記ｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚの関係を有することは、密着性位相差層において上記液晶材料がホメオトロピック配向を形成していることと同意であるといえる。

なお、本発明における「ホメオトロピック配向性」とは、垂直配向膜を使用することなく、ホメオトロピック配向を形成できる性質を意味するものとする。

本発明に用いられる液晶材料はホメオトロピック配向性を有するものであれば特に限定されるものではないが、重合性官能基を有するものであることが好ましい。このような液晶材料を用いることにより、重合性官能基を介して互いに重合させることができるため、本発明における密着性位相差層の機械強度を向上することができるからである。また、密着性位相差層中における液晶材料の配向安定性も向上させることができるからである。

上記重合性官能基としては、紫外線、電子線等の電離放射線、或いは熱の作用によって重合する各種重合性官能基が用いられる。これら重合性官能基の代表例としては、ラジカル重合性官能基、或いはカチオン重合性官能基等が挙げられる。さらにラジカル重合性官能基の代表例としては、少なくとも一つの付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が挙げられ、具体例としては、置換基を有するもしくは有さないビニル基、アクリレート基（アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基を包含する総称）等が挙げられる。又、カチオン重合性官能基の具体例としては、エポキシ基等が挙げられる。その他、重合性官能基としては、例えば、イソシアネート基、不飽和３重結合等が挙げられる。本発明においては、これらの重合性官能基のなかでもプロセス上の点から、エチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が好適に用いられる。

なお、本発明に用いられる液晶材料は、上記重合性官能基を複数有するものであっても良く、または、１つのみを有するものであっても良い。

このような液晶材料の具体例としては、例えば、正の屈折率異方性を有する液晶性フラグメント側鎖を含有するモノマーユニットと、非液晶性フラグメント側鎖を含有するモノマーユニットとを含有する側鎖型液晶ポリマーや、上記液晶性フラグメント側鎖を含有するモノマーユニットと脂環族環状構造を有する液晶性フラグメント側鎖を含有するモノマーユニットとを含有する側鎖型液晶ポリマー等の液晶ポリマーを挙げることができる。このような液晶ポリマーとしては、例えば、特開２００３−１２１８５３号公報、特開２００２−１７４７２５号公報、および、特開２００５−７００９８号公報に記載されているような化合物を挙げることができる。

本発明に用いられる液晶材料は１種類でも良く、または、２種類以上であっても良い。また、２種類以上の液晶材料を用いる場合、ホメオトロピック配向性を有する液晶材料と、ホメオトロピック配向性を有さない液晶材料とを混合して用いても良い。
ここで、上記「ホメオトロピック配向性を有さない液晶材料」とは、単独ではホメオトロピック配向を形成することができないが、垂直配向膜を使用することによりホメオトロピック配向を形成できる液晶材料を意味するものである。

本発明に用いられるホメオトロピック配向性を有さない液晶材料は、特に限定されるものではないが、上述した重合性官能基を有するものであることが好ましい。このような液晶材料を用いることにより、重合性官能基を介してホメオトロピック配向性を有する液晶材料と重合させることができるため、本発明における密着性位相差層の機械強度を向上することができるからである。また、密着性位相差層中における液晶材料の配向安定性も向上させることができるからである。

なお、本発明に用いられるホメオトロピック配向性を有さない液晶材料は、上記重合性官能基を複数有するものであっても良く、または、１つのみを有するものであっても良いが、なかでも本発明においては複数の重合性官能基を有するものを用いることが好ましい。その理由は次の通りである。
すなわち、上記ホメオトロピック配向性を有する液晶材料は、一般的に、分子内に重合性官能基を１つのみ有する構造を有するものが多いため、このような液晶材料のみでは、機械強度に優れた密着性位相差層を形成すること難しい場合がある。しかしながら、複数の重合性官能基を有するホメオトロピック配向性を有さない液晶材料と混合して用いることにより、上記ホメオトロピック配向性を有する液晶材料と、上記ホメオトロピック配向性を有さない液晶材料との重合を促すことができるため、容易に機械強度に優れた密着性位相差層を形成できるからである。

このようなホメオトロピック配向性を有さない液晶材料の具体例としては、例えば、特開平７−２５８６３８号公報や特表平１０−５０８８８２号公報、特開２００３−２８７６２３号公報に記載されているような化合物を挙げることができる。なかでも本発明においては、以下の化学式で表される化合物を好適に用いることができる。

また、ホメオトロピック配向性を有さない液晶材料の具体例としては、例えば、特開平１０−３１９４０８号公報に記載されているような化合物も挙げることができる。なかでも本発明においては、以下の化学式で表される化合物を好適に用いることができる。

上記式において、ｘは１〜１２であり、Ｚは１，４−フェニレン基または１，４−シクロヘキシレン基であり、Ｒ^５はハロゲンまたはシアノであるか、あるいは炭素原子１〜１２個を有するアルキル基またはアルコキシ基であり、そしてＬは、Ｈ、ハロゲンまたはＣＮであるか、あるいは炭素原子１〜７個を有するアルキル基、アルコキシ基またはアシル基である。

また、本発明に用いられる液晶材料は、上述した重合性モノマーが有する重合性官能基と、同一の重合性官能基を有するものであることが好ましい。このような液晶材料を用いることにより、本発明の位相差フィルムを製造する工程において、上記重合性モノマーと上記液晶材料とを同時に重合させることができるため、本発明の位相差フィルムをより生産性の高いものとすることができるからである。

なお、上記液晶材料として重合性官能基を有する化合物を用いた場合、本発明における密着性位相差層に含有される液晶材料は、上記重合性官能基を介して重合された重合物となる。

（３）その他の化合物
本発明における密着性位相差層には、上記重合性モノマーの重合物および上記液晶材料以外の他の化合物が含まれていても良い。本発明に用いられる上記他の化合物としては、本発明の位相差フィルムの用途等に応じて、上記密着性位相差層に所望の機能性を付与できるものであれば特に限定されるものではない。なかでも本発明に好適に用いられる上記他の化合物としては、例えば、密着性位相差層において上記液晶材料のホメオトロピック配向形成を補助する配向制御化合物を挙げることができる。

本発明に用いられる配向制御化合物としては、上記密着性配向層に含有されることにより、上記液晶材料のホメオトロピック配向形成を補助し、本発明の位相差フィルムに所望の位相差性を付与できるものであれば特に限定されない。なかでも本発明に用いられる配向制御化合物としては、界面活性剤を好適に用いることができる。界面活性剤は密着性位相差層において空気界面に存在して配列することができるため、上記液晶材料のホメオトロピック配向形成の補助に好適だからである。

上記界面活性剤としては、例えば、スルホネート界面活性剤を挙げることができ、特に、フッ化スルホネート界面活性剤が好適に用いられる。

上記フッ化スルホネート界面活性剤の具体例としては、例えば、商品名 ＦＣ−４４３０、ＦＣ−４４３２（いずれも３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙ製）を挙げることができる。

上記密着性位相差層中における上記配向制御化合物の含有量としては、上記配向制御化合物の種類等に応じて、本発明の位相差フィルムに所望の位相差性を付与できるものであれば特に限定されない。なかでも本発明における上記配向制御化合物の含有量は、液晶材料に対して０．０１質量％〜１０質量％の範囲内であることが好ましく、特に０．０１質量〜３質量％の範囲内であることが好ましい。

また、上記以外に本発明に用いられる上記他の化合物としては、例えば、重合開始剤、重合禁止剤、可塑剤、界面活性剤、および、シランカップリング剤等を挙げることができる。特に上記液晶材料として上記重合性液晶材料を用いる場合、上記他の化合物として重合開始剤または重合禁止剤を用いることが好ましい。

上記重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミン）ベンゾフェノン、α−アミノ・アセトフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンアントロン、４−アジドベンジルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノン、アデカ社製Ｎ１７１７、四臭化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、エオシン、メチレンブルー等の光還元性色素とアスコルビン酸やトリエタノールアミンのような還元剤との組み合わせ等を例示できる。本発明では、これらの光重合開始剤を１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。

さらに、上記光重合開始剤を用いる場合には、光重合開始助剤を併用することができる。このような光重合開始助剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等の３級アミン類や、２−ジメチルアミノエチル安息香酸、４−ジメチルアミド安息香酸エチル等の安息香酸誘導体を例示することができるが、これらに限られるものではない。

上記重合禁止剤としては、例えば、ジフェニルピクリルヒドラジド、トリ−ｐ−ニトロフェニルメチル，ｐ−ベンゾキノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、ピクリン酸、塩化銅、メチルハイドロキノン、メトキノン、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロキノン等の反応の重合禁止剤を用いることができるが、なかでも保存安定性の点からハイドロキノン系重合禁止剤が好ましく、メチルハイドロキノンを用いるのが特に好ましい。

さらに、本発明における密着性位相差層には、本発明の目的を損なわない範囲内で、下記に示すような化合物を添加することができる。添加できる化合物としては、例えば、多価アルコールと１塩基酸または多塩基酸を縮合して得られるポリエステルプレポリマーに、（メタ）アクリル酸を反応させて得られるポリエステル（メタ）アクリレート；ポリオール基と２個のイソシアネート基を持つ化合物を互いに反応させた後、その反応生成物に（メタ）アクリル酸を反応させて得られるポリウレタン（メタ）アクリレート；ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸ポリグリシジルエステル、ポリオールポリグリシジルエーテル、脂肪族または脂環式エポキシ樹脂、アミノ基エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と、（メタ）アクリル酸を反応させて得られるエポキシ（メタ）アクリレート等の光重合性化合物；アクリル基やメタクリル基を有する光重合性の液晶性化合物等が挙げられる。

（４）密着性位相差層
本発明に用いられる密着性位相差層の厚みとしては、上記重合性モノマーや上記液晶材料の種類に応じて、所望の位相差性を発現できる範囲内であれば特に限定されるものではない。なかでも本発明においては、０．１μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましく、特に０．１μｍ〜５μｍの範囲内であることが好ましい。

本発明における密着性位相差層は位相差性を示すものであるが、このような位相差性は、本発明の位相差フィルムの用途等に応じて任意に調整することができる。なかでも本発明における密着性位相差層は、厚さ方向のレターデーション（Ｒｔｈ）が、−１０００ｎｍ〜０ｎｍの範囲内であることが好ましく、特に−３００ｎｍ〜０ｎｍの範囲内であることが好ましい。
ここで、上記厚さ方向レターデーション（以下、単に「Ｒｔｈ」と称する場合がある。）とは、面内方向において互いに直行する任意のｘ方向、ｙ方向の屈折率をそれぞれ、ｎｘ、ｎｙ、厚み方向の屈折率をｎｚ、および厚みをｄとしたときに、Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄで表される量である。また、上記厚さ方向レターデーションは、例えば、王子計測機器株式会社製 ＫＯＢＲＡ−ＷＲを用い、平行ニコル回転法によって測定することができる。

２．透明基板
次に、本発明に用いられる透明基板について説明する。本発明に用いられる透明基板はシクロオレフィン系樹脂からなるものである。

ここで、本発明におけるシクロオレフィン系樹脂とは、環状オレフィン（シクロオレフィン）からなるモノマーのユニットを有する樹脂を意味するものである。また、上記環状オレフィンからなるモノマーとしては、例えば、ノルボルネンや多環ノルボルネン系モノマー等を挙げることができる。

本発明に用いられるシクロオレフィン系樹脂は上記環状オレフィンからなるモノマーの単独重合体であっても良く、または、共重合体であっても良い。

本発明に用いられるシクロオレフィン系樹脂としては、所望の透明性を備える透明基板を得ることができるものであれば特に限定されるものではない。なかでも本発明に用いられるシクロオレフィン系樹脂は、２３℃における飽和吸水率が１質量％以下であるもの好ましく、なかでも０．１質量％〜０．７質量％の範囲内であるものが好ましい。このようなシクロオレフィン系樹脂を用いることにより、本発明の位相差フィルムを吸水による光学特性の変化や寸法の変化がより生じにくいものとすることができるからである。
ここで、上記飽和吸水率は、上記吸水率は、ＡＳＴＭＤ５７０に準拠し２３℃の水中で１週間浸漬して増加重量を測定することにより求められる。

また、本発明に用いられるシクロオレフィン系樹脂は、ガラス転移点が１００℃〜２００℃の範囲内であるものが好ましく、特に１００℃〜１８０℃の範囲内であるものが好ましく、なかでも１００℃〜１５０℃の範囲内であるものが好ましい。ガラス転移点が上記範囲内であることにより、本発明の位相差フィルムを耐熱性および加工適性により優れたものにできるからである。

このようなシクロオレフィン系樹脂としては、例えば、下記式（ａ）、または、下記式（ｂ）で表される構成単位を有するものを挙げることができる。

ここで、上記式（ａ）において、ｔおよびｕはそれぞれ独立に０または正の整数を表すが、ｔおよびｕが同時に０である場合は除く。また、Ａはエチレン基またはビニレン基を示し、Ｒ^１１〜Ｒ^１４は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数が１〜３０の炭化水素基、または、−（ＣＨ_２）ｎ−ＣＯＯＲ（ｎは０〜５、Ｒは炭素数１〜１２のアルキル基を示す。）を示す。
ここで、上記Ｒ^１１またはＲ^１２と、Ｒ^１３またはＲ^１４とは相互に結合して炭素環または複素環を形成しても良い。さらに、上記炭素環または複素環は単環構造であっても良く、または、多環構造であっても良い。

また、上記式（ｂ）において、Ｂはエチレン基またはビニレン基を示す。Ｒ^１５〜Ｒ^１８は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数が１〜３０の炭化水素基を示す。さらに、Ｒ^１５およびＲ^１６、または、Ｒ^１７およびＲ^１８は一体化して２価の炭化水素基を形成しても良い。

本発明に用いられる透明基板には上記シクロオレフィン系樹脂が１種類のみ用いられていても良く、または、２種類以上用いられていても良い。

本発明に用いられる透明基板の透明度は、本発明の位相差フィルムの用途等に応じて任意に決定すればよいが、通常、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。透過率が上記範囲であることにより、例えば、本発明の位相差フィルムを液晶表示装置の視野角補償フィルムに用いた場合に、液晶表示装置の表示輝度が低下すること等を防止することができるからである。
ここで、透明基板の透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１（プラスチックー透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。

本発明に用いられる透明基板の厚みは、所望の自己支持性を備えることができる範囲内であれば特に限定されない。なかでも本発明においては２５μｍ〜１０００μｍの範囲内であること好ましく、特に３０μｍ〜１００μｍの範囲内であることが好ましい。透明基板の厚みが上記の範囲よりも薄いと、本発明の透明基板に必要な自己支持性を付与することができない場合があるからである。また、厚みが上記の範囲よりも厚いと、例えば、本本発明の位相差フィルムを裁断加工する際に、加工屑が増加したり、裁断刃の磨耗が早くなってしまう場合があるからである。

本発明における透明基板の構成は、単一の層からなる構成に限られるものではなく、複数の層が積層された構成を有してもよい。複数の層が積層された構成を有する場合は、同一組成の層が積層されてもよく、また、異なった組成を有する複数の層が積層されても良い。

本発明に用いられる透明基板は位相差性を示すものであっても良い。このような位相差性としては、本発明の位相差フィルムの用途等に応じて、位相差フィルムに所望の屈折率異方性を付与できる範囲であれば特に限定されない。なかでも本発明に用いられる透明基板は、面内レターデーションが０ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内であるものが好ましく、特に０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲内であるものが好ましい。
ここで、上記の面内レターデーション（以下、単に「Ｒｅ」と称する場合がある。）とは、透明基板の面内の遅相軸方向の屈折率をｎｘ、面内の進相軸方向の屈折率をｎｙ、および、透明基板の厚みをｄとした場合に、Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで表されるものである。また、上記Ｒｅは、例えば、王子計測機器株式会社製 ＫＯＢＲＡ−ＷＲを用い、平行ニコル回転法によって測定することができる。

本発明に用いられるシクロオレフィン系樹脂からなる透明基板の具体例としては、例えば、Ｔｉｃｏｎａ社製 Ｔｏｐａｓ、ジェイエスアール社製 アートン、日本ゼオン社製 ＺＥＯＮＯＲ、日本ゼオン社製 ＺＥＯＮＥＸ、三井化学社製 アペル等を挙げることができる。

３．位相差フィルム
本発明の位相差フィルムが示す位相差性は、本発明の位相差フィルムの用途等に応じて適宜決定することができるが、なかでも本発明の位相差フィルムは、Ｎｚファクターが
１．０以下であることが好ましく、特に−１．５≦Ｎｚ＜１．０の範囲内であることが好ましい。
ここで、上記Ｎｚファクターは屈折率楕円体の形状を規定するパラメーターであり、面内方向において互いに直行する任意のｘ方向、ｙ方向の屈折率ｎｘおよびｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとにより、以下の式で表されるものである。
Ｎｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）
なお、上記Ｎｚファクターは、例えば、王子計測機器株式会社製 ＫＯＢＲＡ−ＷＲを用い、平行ニコル回転法によって上記ｎｘ、ｎｙ、および、ｎｚを測定した後、上記式にしたがって算出することにより求めることができる。

また、本発明の位相差フィルムのＲｅの波長分散は、波長が短くなるほどＲｅ値が小さくなる逆分散型であっても良く、波長が短くなるほどＲｅ値が大きくなる正分散型であっても良く、または、Ｒｅ値に波長依存性を有さないフラット型であっても良い。

本発明の位相差フィルムの形態は特に限定されるものではなく、例えば、本発明の位相差フィルムを用いる液晶表示装置の画面サイズに合致したシート状であっても良く、または、長尺状であっても良い。

４．位相差フィルムの用途
本発明の位相差フィルムは、液晶表示装置に用いられる視野角補償フィルム、楕円偏光板、輝度向上フィルム等として用いることができる。

本発明の位相差フィルムを液晶表示装置の視野角補償フィルムとして用いる場合においては、本発明の位相差フィルムを単体で用いることも可能であり、また、本発明の位相差フィルムと他の光学機能フィルムと積層して用いることも可能である。さらに、本発明の位相差フィルムに用いられる透明基板の上記密着性位相差層が形成された側とは反対面上に、他の密着性位相差層を直接積層して用いることも可能である。

本発明の位相差フィルムと、他の光学機能フィルムとを積層して用いる例としては、例えば、本発明の位相差フィルム上に、コレステリック配列した液晶分子を含有する液晶層を積層することにより、液晶表示装置用の輝度向上フィルムとして用いる例を挙げることができる。

また、本発明の位相差フイルムは、偏光子と貼り合わせることにより、偏光板としての用途にも用いることができる。すなわち、偏光板は、通常、偏光子とその両表面に形成された偏光板保護フイルムとからなるものであるが、本発明においては、例えば、その一方の偏光板保護フイルムとして本発明の位相差フイルムを用いることにより、液晶表示装置の視野角補償機能を備える偏光板として用いることができる。

５．位相差フィルムの製造方法
本発明の位相差フィルムの製造方法としては、上記構成を有する位相差フィルムを製造できる方法であれば特に限定されるものではない。このような方法としては、例えば、後述する「Ｂ．位相差フィルムの製造方法」の項において説明する製造方法を用いることができる。

Ｂ．位相差フィルムの製造方法
次に、本発明の位相差フィルムの製造方法について説明する。本発明の位相差フィルムの製造方法は、シクロオレフィン系樹脂からなる透明基板を用い、少なくとも重合性モノマーおよびホメオトロピック配向性を有する液晶材料が溶媒に溶解されてなる密着性位相差層形成用塗工液を上記透明基板上に接するように塗工することにより、密着性位相差層形成用層を形成する密着性位相差層形成用層形成工程と、上記密着性位相差層形成用層中に含有される重合性モノマーを重合することにより密着性位相差層を形成する硬化処理工程とを有し、上記透明基板上に、面内方向において互いに直行する任意のｘ方向、ｙ方向の屈折率ｎｘおよびｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間に、ｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する密着性位相差層が形成された位相差フィルムを製造するものであって、上記重合性モノマーが、下記式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、および、（Ｖ）からなる群から選択される少なくとも１つの重合性官能基を有するものであり、かつ、上記重合性モノマーを構成する炭素数Ｎを、上記重合性モノマーを構成する炭素および水素以外の元素数Ｍで除した値（Ｎ／Ｍ）が３以上であることを特徴とするものである。

ここで、上記式においてＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３は、メチル基または水素を表す。また、Ｒ⁴は、水素、メチル基、または、エチル基を表す。

このような本発明の位相差フィルムの製造方法について図を参照しながら説明する。図２は本発明の位相差フィルムの製造方法の一例を示す概略図である。図２に例示するように本発明の位相差フィルムの製造方法は、シクロオレフィン系樹脂からなる透明基板１を用い（図２（ａ））、少なくとも重合性モノマーおよびホメオトロピック配向性を有する液晶材料が溶媒に溶解されてなる密着性位相差層形成用塗工液を上記透明基板１上に接するように塗工することにより、密着性位相差層形成用層２’を形成する密着性位相差層形成用層形成工程と（図２（ｂ））、上記密着性位相差層形成用層２’中に含有される重合性モノマーを重合する硬化処理工程（図２（ｃ））とを有するものであり、このような工程により、上記透明基板１上に、面内方向において互いに直行する任意のｘ方向、ｙ方向の屈折率ｎｘおよびｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間に、ｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する密着性位相差層２が形成された位相差フィルム１０を製造するものである（図２（ｄ））。
このような例において、本発明の位相差フィルムの製造方法は、上記密着性位相差層形成用塗工液に含有される重合性モノマーが、上記式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、および、（Ｖ）からなる群から選択される少なくとも１つの重合性官能基を有し、かつ、上記重合性モノマーを構成する炭素数Ｎを、上記重合性モノマーを構成する炭素および水素以外の元素数Ｍで除した値（Ｎ／Ｍ）が３以上であることを特徴とするものである。

本発明によれば、上記密着性位相差層形成用塗工液に上記式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、および、（Ｖ）からなる群から選択される少なくとも１つの重合性官能基を有し、かつ、炭素含有比が３以上である重合性モノマーの重合物が含まれることにより、本発明により製造される位相差フィルムにおいて上記密着性位相差層と、上記シクロオレフィン系樹脂からなる透明基板との密着性を向上することができる。このため、本発明によればシクロオレフィン系樹脂からなる透明基板が用いられた位相差フィルムであって、上記密着性位相差層と上記透明基板との密着性に優れた位相差フィルムを製造することができる。
また、本発明により製造される位相差フィルムが、面内方向において互いに直行する任意のｘ方向、ｙ方向の屈折率ｎｘおよびｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間に、ｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する密着性位相差層を有するものであることにより、本発明によって正のＣプレートとしての性質を有する位相差フィルムを製造することができる。
このようなことから、本発明によればシクロオレフィン系樹脂からなる透明基板が用いられた正のＣプレートとしての性質を有する位相差フィルムであって、密着性位相差層と、透明基板との密着性に優れた位相差フィルムを製造することができる。

ここで、本発明において上記構造を有する重合性モノマーを用いることにより、上記密着性位相差層と上記透明基板との密着性に優れた位相差フィルムを製造することができる理由については、上記「Ａ．位相差フィルム」の項において説明した理由と同様であるため、ここでの説明は省略する。

本発明の位相差フィルムの製造方法は、少なくとも上記密着性位相差層形成用層形成工程と、上記硬化処理工程とを有するものであり、必要に応じて他の工程を有しても良いものである。
以下、本発明の位相差フィルムの製造方法に用いられる各工程について順に説明する。

１．密着性位相差層形成用層形成工程
まず、本発明に用いられる密着性位相差層形成用層形成工程について説明する。本工程は、シクロオレフィン系樹脂からなる透明基板を用い、少なくとも重合性モノマーおよびホメオトロピック配向性を有する液晶材料が溶媒に溶解されてなる密着性位相差層形成用塗工液を上記透明基板上に接するように塗工することにより、密着性位相差層形成用層を形成する工程である。
また、本工程は、上記重合性モノマーが、上記式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、および、（Ｖ）からなる群から選択される少なくとも１つの重合性官能基を有し、かつ、炭素含有比が３以上であることを特徴とするものである。

ここで、本発明においては上記重合性モノマーとして上記構造を有する化合物を用いることにより、上記密着性位相差層と上記透明基板との密着性に優れた位相差フィルムを製造することができるのである。

以下、本発明に用いられる密着性位相差層形成用層形成工程について詳細に説明する。

（１）密着性位相差層形成用塗工液
まず、本工程に用いられる密着性位相差層形成用塗工液について説明する。本工程に用いられる密着性位相差層形成用塗工液は、少なくとも重合性モノマーおよびホメオトロピック配向性を有する液晶材料が溶媒に溶解されてなるものである。

（溶媒）
本工程に用いられる溶媒としては、上記重合性モノマーおよび上記液晶材料を所望の濃度で溶解できるものであれば特に限定されるものではない。本工程に用いられる溶媒としては、上記重合性モノマーおよび上記液晶材料に対して溶解性を示し、さらに後述する透明基板を構成するシクロオレフィン系樹脂に対しても溶解性を示すシクロオレフィン可溶性溶媒と、上記重合性モノマーおよび上記液晶材料に対して溶解性を示すが、後述する透明基板を構成するシクロオレフィン系樹脂に対しては溶解性を示さないシクロオレフィン不溶性溶媒とを挙げることができる。

本工程に用いられるシクロオレフィン可溶性溶媒としては、例えば、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、メチルイソブチルケトン、キシレン、トルエン、ジクロロエタン、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−オクタン、エチルエーテル、テトラヒドロフラン等を挙げることができる。

一方、本工程に用いられるシクロオレフィン不溶性溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、ＰＧＭＥＡ、酢酸メチル、酢酸エチル、希硫酸、酢酸、ギ酸等を挙げることができる。

本工程においては、上記シクロオレフィン可溶性溶媒および上記シクロオレフィン不溶性溶媒のいずれであっても好適に用いることができる。したがって、本工程に用いられる溶媒としては、上記シクロオレフィン可溶性溶媒の単体からなるものであっても良く、または、上記シクロオレフィン不溶性溶媒の単体からなるものであっても良い。なかでも本工程においては、上記シクロオレフィン可溶性溶媒と上記シクロオレフィン不溶性溶媒との混合溶媒を用いることが好ましい。その理由は次の通りである。
すなわち、本工程に用いられる溶媒として上記シクロオレフィン可溶性溶媒を用いると、当該溶媒の作用により、本工程において透明基板上に密着性位相差層形成用層を形成する際に、上記透明基板の表面が一部が密着性位相差層形成用層側へ溶出することになる。これにより、本工程において形成される密着性位相差層形成用層は、透明基板との界面近傍において密着性位相差層形成用層と透明基板とが部分的に混合された領域を有するものとなるため、両者の密着力を向上することができる。
しかしながら、上記シクロオレフィン可溶性溶媒を単体で用いる場合、本工程において密着性位相差層を形成する際に、透明基板からシクロオレフィン系樹脂が溶出され過ぎてしまい、結果として上記透明基板の透明性や光学特性が害されてしまう恐れがある。
この点、溶媒として上記シクロオレフィン可溶性溶媒に上記シクロオレフィン不溶性溶媒を混合した混合溶媒を用いることにより、溶媒全体としての上記シクロオレフィン系樹脂に対する溶解性を、上記透明基板の透明性や光学特性等を損なわずに、透明基板と密着性配向層形成用層との密着性を向上できる程度に調整すること可能となる。
このような理由から、本工程においては上記シクロオレフィン可溶性溶媒と上記シクロオレフィン不溶性溶媒との混合溶媒を用いることが好ましいのである。

本工程に用いられる溶媒として、上記シクロオレフィン可溶性溶媒と上記シクロオレフィン不溶性溶媒との混合溶媒を用いる場合、両溶媒の混合比率としては、上記シクロオレフィン可溶性溶媒および上記シクロオレフィン不溶性溶媒の種類や上記シクロオレフィン系樹脂の種類等に応じて、溶媒全体としての上記シクロオレフィン系樹脂に対する溶解性を、上記透明基板の透明性や光学特性等を損なわずに、透明基板と密着性配向層形成用層との密着性を向上できる範囲であれば特に限定されるものではない。なかでも本工程に用いられる上記混合溶媒は、シクロオレフィン不溶性溶媒１００重量部に対するシクロオレフィン可溶性溶媒の混合量が、０重量部〜１００重量部の範囲内であるものが好ましく、特に０重量部〜５０重量部の範囲内であるものが好ましい。

このような混合溶媒の具体例としては、例えば、アセトン：トルエン＝２：１、アセトン：トルエン＝３：１、アセトン：トルエン＝４：１、アセトン：シクロヘキサノン＝２：１、アセトン：シクロヘキサノン＝３：１、アセトン：シクロヘキサノン＝４：１、メチルエチルケトン：トルエン＝２：１、メチルエチルケトン：トルエン＝３：１、メチルエチルケトン：トルエン＝４：１、メチルエチルケトン：シクロヘキサノン＝２：１、メチルエチルケトン：シクロヘキサノン＝３：１、および、メチルエチルケトン：シクロヘキサノン＝４：１の混合溶媒等を挙げることができる。

（重合性モノマー）
次に、本工程に用いられる上記重合性モノマーについて説明する。本工程に用いられる重合性モノマーは、上記式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、および、（Ｖ）からなる群から選択される少なくとも１つの重合性官能基を有し、かつ、炭素含有比が３以上であるものである。

ここで、本工程に用いられる重合性モノマーについては、上記「Ａ．位相差フィルム」の項において説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。

本工程に用いられる重合性モノマーは１種類のみであっても良く、２種類以上であっても良い。

また、本工程に用いられる上記密着性位相差層形成用塗工液中の上記重合性モノマーの含有量としては、本発明により製造される位相差フィルムにおいて、密着性位相差層と透明基板との接着性を所望の範囲にできる範囲内であれば特に限定されるものではない。なかでも本工程においては、上記密着性位相差層形成用塗工液中に含まれる液晶材料に対して０．０１質量％〜３０質量％の範囲内であることが好ましく、特に１質量％〜２０質量％の範囲内であることが好ましい。重合性モノマーの含有量が上記範囲よりも少ないと、本発明により製造される位相差フィルムにおいて、密着性位相差層と透明基板との接着性が損なわれる可能性があるからである。また、上記範囲よりも多いと、上記液晶材料のホメオトロピック配向が阻害され、本発明により製造される位相差フィルムに所望の位相差性を付与することが困難となる恐れがあるからである。

（液晶材料）
次に、本工程に用いられる液晶材料について説明する。本工程に用いられる液晶材料は、ホメオトロピック配向性を有するものである。

ここで、本工程に用いられる液晶材料は、上記「Ａ．位相差フィルム」の項において説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。

本工程に用いられる液晶材料は１種類のみであっても良く、２種類以上であっても良い。

また、本工程に用いられる液晶材料は、上述した重合性モノマーが有する重合性官能基と、同一の重合性官能基を有するものであることが好ましい。このような液晶材料を用いることにより、後述する硬化処理工程において、上記重合性モノマーと上記液晶材料とを同時に重合させることができるため、本発明による位相差フィルムの製造効率を向上することができるからである。

本工程に用いられる密着性位相差層形成用塗工液中の液晶材料の含有量としては、本発明により製造される位相差フィルムに所望の位相差性を付与できる範囲であれば特に限定されるものではない。なかでも本工程においては、５質量％〜６０質量％の範囲内であることが好ましく、特に１０質量％〜４０質量％の範囲内であることが好ましい。

（その他）
本工程に用いられる密着性位相差層形成用塗工液には、重合性モノマーおよび液晶材料以外に他の化合物が含まれていても良い。このような他の化合物としては、本発明により製造される位相差フィルムの用途等に応じて、当該位相差フィルムに所望の機能を付与できる化合物を任意に選択して用いることができる。このような他の化合物としては、例えば、上記「Ａ．位相差フィルム」の項において、密着性位相差層に含有させることができるその他の化合物として説明したものと同様の化合物を用いることができる。

（２）透明基板
次に、本工程に用いられる透明基板について説明する。本工程に用いられる透明基板は、シクロオレフィン系樹脂からなるものである。
ここで、本工程に用いられる透明基板は、上記「Ａ．位相差フィルム」の項において説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。

（３）密着性位相差層形成用層の形成方法
次に、本工程において上記透明基板上に密着性位相差層形成用塗工液を塗工することにより、上記透明基板上に密着性位相差層形成用層を形成する方法について説明する。

本工程において、上記記密着性位相差層形成用塗工液を上記透明基板上に塗布する方法としては、所望の平面性を達成できる密着性位相差層形成用層を形成できる方法であれば特に限定されるものではない。このような塗布方法としては、例えば、グラビアコート法、リバースコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、ロールコート法、プリント法、カーテンコート法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、エクストルージョンコート法、Ｅ型塗布方法等を挙げることができる。

また、上記密着性位相差層形成用塗工液の塗膜の乾燥方法としては、例えば、加熱乾燥方法、減圧乾燥方法、ギャップ乾燥方法等、一般的に用いられる乾燥方法を用いることができる。
なお、本工程に用いられる乾燥方法は、単一の方法に限られず、例えば、塗膜中に残留する溶媒量に応じて順次乾燥方式を変化させる等の態様により、複数の乾燥方式を採用してもよい。

２．硬化処理工程
次に、本発明に用いられる硬化処理工程について説明する。本工程は、上記密着性位相差層形成用層形成工程により、透明基板上に形成された密着性位相差層形成用層中に含有される重合性モノマーを重合することにより、上記密着性位相差層形成用層を密着性位相層とする工程である。

上記硬化処理工程において、上記重合性モノマーを重合する方法としては、上記密着性位相差層形成用層中に含有される重合性モノマーの重合反応を誘起できる方法であれば特に限定されるものではない。このような方法は、上記重合性モノマーの種類に依存するものであるが、一般的には、上記密着性位相差層形成用層に紫外線を照射する方法や、上記密着性位相差層形成用層を加熱する方法等が用いられる。

上記紫外線としては、通常、波長が１５０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内のもの、より好ましくは２５０ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲内のものが用いられる。

なお、上述したように本工程は、上記密着性位相差層形成用層中に含有される重合性モノマーを重合する工程であるが、上記密着性位相差層形成用層中に含有される液晶材料が、重合性官能基を有するものである場合は、本工程において上記重合性モノマーと上記液晶材料とを同時に重合することが好ましい。

３．その他の工程
本発明の位相差フィルムの製造方法には、上記密着性位相差層形成用層形成工程および上記硬化処理工程以外の他の工程が用いられても良い。このような他の工程としては、本発明により製造される位相差フィルムに所望の機能を付与できる工程であれば特に限定されるものではない。なかでも本発明に好適に用いられる他の工程としては、上記密着性配向層形成用層形成工程後、上記硬化処理工程前において上記密着性位相差層中に含有される液晶材料をホメオトロピック配向させる配向処理工程を挙げることができる。

本発明において、上記配向処理工程が好適に用いられる理由は次の通りである。すなわち、本発明に用いられる液晶材料は、ホメオトロピック配向性を有するものであるため、通常は、液晶材料をホメオトロピック配向させる特段の工程を実施しなくても、上記液晶材料をホメオトロピック配向させることが可能である場合が多い。しかしながら、上記液晶材料の種類や、上記密着性位相差層形成用層形成工程において密着性位相差層を形成する条件等によっては、上記液晶材料のホメオトロピック配向形成が不十分である場合も有り得る。そのような場合に、上記配向処理工程を用いることにより、上記液晶材料を十分にホメオトロピック配向させることが可能となるからである。

上記配向処理工程において液晶材料をホメオトロピック配向させる方法としては、特に限定されるものではないが、通常、上記液晶層をホメオトロピック液晶相への転移温度以上に加温する方法が用いられる。

４．位相差フィルム
次に、本発明により製造される位相差フィルムについて説明する。本発明により製造される位相差フィルムは、シクロオレフィン系樹脂からなる透明基板と、上記透明基板上に接するように形成され、重合性モノマーの重合物およびホメオトロピック配向性を有する液晶材料とを含有し、面内方向において互いに直行する任意のｘ方向、ｙ方向の屈折率ｎｘおよびｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間にｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する密着性位相差層と、を有するものであって、上記重合性モノマーが、下記式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、および、（Ｖ）からなる群から選択される少なくとも１つの重合性官能基を有するものであり、かつ、上記重合性モノマーを構成する炭素数Ｎを、上記重合性モノマーを構成する炭素および水素以外の元素数Ｍで除した値（Ｎ／Ｍ）が３以上であるものとなる。
このような位相差フィルムについては、上記「Ａ．位相差フィルム」の項において説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。

次に、実施例を示すことにより本発明についてさらに具体的に説明する。

（１）実施例1
下記式Ａに示される側鎖型ポリマー５０質量％と、下記式Ｂに示される光重合性液晶５０質量％の液晶混合物、光重合開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア９０７、光重合性化合物に対して５％）、更に、重合性モノマーとしてトリシクロデカンジメタノールジアクリレート（炭素含有比＝４．５）を上記液晶混合物に対して１０質量％添加した混合物を、アセトン：トルエン＝４：１混合溶液に固形分２０質量％になるように溶解させることにより、密着性位相差層形成用塗工液を得た。

次いで、当該密着性位相差層形成用塗工液をノルボルネン系樹脂からなるＲｅ＝１００ｎｍの透明基板（ジェイエスアール社製 商品名：アートン）上に塗工した後、１００℃で１分間乾燥し、そのまま室温まで冷却することにより、ホメオトロピック配向させた。さらに１００ｍＪ／ｃｍ^２のＵＶにて硬化させ、上記透明基材上に厚み１μｍの密着性位相差層を形成することにより、位相差フィルムを作製した。

（２）実施例２
上記重合性モノマーとして１，９−ノナンジオールジアクリレート（炭素含有比＝３．７５）を用いた以外は、実施例１と同様の方法により位相差フィルムを作製した。

（３）実施例３
下記式Ｃ、ＤおよびＥに示される液晶材料を含有する液晶混合物、光重合開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア９０７、液晶混合物に対して５質量％）、更に、重合性モノマーとしてトリシクロデカンジメタノールジアクリレート（炭素含有比＝４．５）を上記液晶混合物に対して１０質量％、界面活性剤（商品名 ＦＣ−４４３０：３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙ製）を上記液晶混合物に対して０．０５質量％添加した混合物を、アセトン：トルエン＝４：１混合溶液に固形分２０質量％になるように溶解させることにより密着性位相差層形成用塗工液を得た。

次いで、上記密着性位相差層形成用塗工液を、ノルボルネン系樹脂からなるＲｅ＝１００ｎｍの透明基板（ジェイエスアール社製 商品名：アートン）上に塗工した後、６０℃で２分間乾燥し、ホメオトロピック配向させた。さらに１００ｍＪ／ｃｍ^２のＵＶにて硬化させ、上記透明基板上に厚み１μｍの密着性位相差層を形成することにより、位相差フィルムを作製した。

（４）実施例４
上記重合性モノマーとして１，６−ヘキサンジオールアクリレート（炭素含有比＝３．0)を用いた以外は、実施例1と同様の方法により位相差フィルムを作製した。

（５）比較例１
上記重合性モノマーとしてペンタエリスリトールトリアクリレート（炭素含有比＝１．８６）を使用した以外は、実施例1と同様に位相差フィルムを作製した。

（６）比較例２
上記重合性モノマーとしてネオペンチルグリコールジアクリレート（炭素含有比＝１．８６）を使用した以外は、実施例３と同様の方法により位相差フィルムを作製した。

（７）評価
上記実施例および比較例において作製した位相差フィルムについて液晶配向性評価と、密着性評価を行った。上記液晶配向性評価は、自動複屈折測定装置ＫＯＢＲＡを用いて位相差フィルムのｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出し、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙとなっていれば正のＣプレート機能が付与されたと判断した。
その結果、上記実施例および比較例において作製した位相差フィルムのいずれにおいても正のＣプレート機能が付与されたことを確認した。

また、上記密着性評価は、１ｍｍ角の切れ目を碁盤目状に入れ、接着テープ（ニチバン社製、商品名：セロテープ（登録商標））を位相差層の表面に貼り付けて、その後、接着テープを引き剥がし、目視により観察した。このとき、密着性を剥がれなかった部分のマス目数／テープを貼り付けた領域のマス目数で評価した。
その結果を表１に示す

表１に示すように、上記実施例において作製した位相差フィルムは密着性が良好であったが、上記比較例において作製した位相差フィルムは、密着性が実用性に耐え得るものではなかった。

本発明の位相差フィルムの一例を示す概略図である。 本発明の位相差フィルムの製造方法の一例を示す概略図である。 一般的な液晶表示装置の一部を模式的に示す概略図である。

符号の説明

１ … 透明基板
２ … 密着性位相差層
２’ … 密着性位相差層形成用層
１０ … 位相差フィルム

Claims (3)

1. シクロオレフィン系樹脂からなる透明基板と、
   前記透明基板上に接するように形成され、重合性モノマーの重合物およびホメオトロピック配向性を有する液晶材料とを含有し、面内方向において互いに直行する任意のｘ方向、ｙ方向の屈折率ｎｘおよびｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間にｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する密着性位相差層と、を有する位相差フィルムであって、
   前記重合性モノマーが、下記式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、および、（Ｖ）からなる群から選択される少なくとも１つの重合性官能基を有するものであり、かつ、前記重合性モノマーを構成する炭素数Ｎを、前記重合性モノマーを構成する炭素および水素以外の元素数Ｍで除した値（Ｎ／Ｍ）が３以上であることを特徴とする、位相差フィルム。
   

   

   （上記式においてＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３は、メチル基または水素を表す。また、Ｒ⁴は、水素、メチル基またはエチル基を表す。）
2. 前記密着性位相差層に界面活性剤が含まれていることを特徴とする、請求項１に記載の位相差フィルム。
3. シクロオレフィン系樹脂からなる透明基板を用い、少なくとも重合性モノマーおよびホメオトロピック配向性を有する液晶材料が溶媒に溶解されてなる密着性位相差層形成用塗工液を前記透明基板上に接するように塗工することにより、密着性位相差層形成用層を形成する密着性位相差層形成用層形成工程と、前記密着性位相差層形成用層中に含有される重合性モノマーを重合することにより密着性位相差層を形成する硬化処理工程と、を有し、
   前記透明基板上に、面内方向において互いに直行する任意のｘ方向、ｙ方向の屈折率ｎｘおよびｎｙと、厚み方向の屈折率ｎｚとの間にｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚの関係が成立する密着性位相差層が形成された位相差フィルムを製造する、位相差フィルムの製造方法であって、
   前記重合性モノマーが、下記式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、および、（Ｖ）からなる群から選択される少なくとも１つの重合性官能基を有するものであり、かつ、前記重合性モノマーを構成する炭素数Ｎを、前記重合性モノマーを構成する炭素および水素以外の元素数Ｍで除した値（Ｎ／Ｍ）が３以上であることを特徴とする、位相差フィルムの製造方法。
   

   

   （上記式においてＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３は、メチル基または水素を表す。また、Ｒ⁴は、水素、メチル基、または、エチル基を表す。）

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