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JP2008008990A - 波長板、画像投射装置、及び光ピックアップ装置 - Google Patents

波長板、画像投射装置、及び光ピックアップ装置 Download PDF

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JP2008008990A JP2006177044A JP2006177044A JP2008008990A JP 2008008990 A JP2008008990 A JP 2008008990A JP 2006177044 A JP2006177044 A JP 2006177044A JP 2006177044 A JP2006177044 A JP 2006177044A JP 2008008990 A JP2008008990 A JP 2008008990A
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Hideaki Hirai
秀明 平井
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Ricoh Co Ltd
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Abstract

【課題】所望の位相差確保のために高屈折率薄膜を該基板の表面に設けるものの、透過率改善のための低屈折率薄膜等の補助層をさらに用いることなく、所望の位相差及び透過率を好適に確保できる波長板を提供する。
【解決手段】透光性の基板を透過して互いに偏光面を直交する2つの直線偏光に位相差を生じさせる波長板において、基板1の材料の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率材料からなる薄膜2が基板1上に形成され、薄膜2は、微細凹凸構造が一方向に配列された周期構造を有する。例えば、微細凹凸構造は、断面三角形状であってもよく、断面台形状であってもよい。また、微細凹凸構造は、その陥没部に基板1と平行な面の平坦部を有してもよい。さらに、基板1の表裏両面に薄膜2a及び薄膜2bを設けてもよく、また、片面に薄膜2を施し残りの面に反射防止膜3を設けてもよい。
【選択図】図1

Description

本発明は、波長板、画像投射装置、及び光ピックアップ装置に関し、特に、微細凹凸状の周期構造を有する高屈折率薄膜を基板表面に設けることにより、透過率改善のための低屈折率薄膜等の補助層をさらに用いることなく、所望の位相差及び透過率を好適に確保できる波長板等に関するものである。
光学素子の一種として知られる波長板は、互いに直交する偏光成分間に位相差を与える光学機能を有しており、種々の光学装置に用いられている。従来、波長板は、人造又は天然のルチル、方解石、水晶等、複屈折性を示す一軸異方性結晶を用いたものが知られているが、人造のものは結晶を均一に成長させることが難しく、天然の結晶は光学的に均一で大きな形状のものが入手困難で高価である。
一方、透過光の波長よりも短い周期構造(サブ波長構造)を持つ波長板、より具体的には、基板表面に透過光の波長よりも短い周期ピッチにて格子パターンが形成された波長板等が提案されている。こうした波長板は、上記格子パターンに基づく光学異方性(複屈折性)を示すため、互いに偏光面を直交する2つの直線偏光に対して位相差を生じさせることができる。
ところで、波長板において特に重要となる性質に、透過率と位相差がある。そして波長板としては、高い透過率を有して、かつ、上記した互いに偏光面を直交する2つの直線偏光に対して所望とされる位相差を生じさせることのできるものが望ましい。 より具体的には、上記位相差は、基板の材料の屈折率や該基板に形成される格子パターンの溝の深さ等についての関数で示される。そして、基板の材料の屈折率が大きいほど、また格子パターンの溝が深いほど、大きな位相差を生じさせることができる。ところが、後者のごとく深溝を有する格子パターンを成形等で製作することは非常に困難であり、特に、量産性を考慮した場合には歩留まりの低下は避けられないものとなっている。
これに対し、例えば特許文献1では、上記基板の屈折率に比べて十分大きい屈折率を有する誘電体媒質を上記基板に形成された格子パターン上に被覆あるいは充填して、上記格子パターンと等しい周期ピッチの格子パターンを形成するようにした波長板が提案されている。こうした波長板では、上記基板の屈折率に比べて十分大きい屈折率を有する誘電体媒質が、基板に形成された格子パターンと等しい周期ピッチにて格子パターンを形成するため、より大きな位相差を生じさせることができるようになる。すなわち、上記基板に形成される格子パターンの溝の深さをより小さく設定することができ、ひいては当該波長板の製作がより容易なものなるとされる。
確かに、特許文献1で提案された波長板によれば、該波長板によって生じさせることのできる位相差については確かにこれを大きく確保することができる。しかし、上記基板の屈折率に比べて十分大きい屈折率を有する誘電体媒質を、基板に形成された格子パターン上に被覆あるいは充填したことによって、当該波長板に光が入射する際に上記誘電体媒質の表面にて反射される光の量が多くなり、透過率は逆に低下することとなる。 つまり、特許文献1による波長板では、上記誘電体媒質を設けたことで、位相差についてはその改善が図られているものの、該誘電体媒質による透過率の低下が避けられないものとなってしまう。
他方、例えば特許文献2では以下のような波長板が開示されている。すなわち、一定の周期ピッチで格子状のパターンが形成された透光性を有する基板の表面に、同基板の材料の屈折率よりも高い屈折率を有する膜材からなる高屈折率膜を形成し、かつ、該高屈折率膜の表面に、高屈折率膜の膜材よりも低い屈折率を有する膜材からなる低屈折率膜をさらに形成する。そして、これにより所望とされる位相差の確保のために基板の表面に同基板よりも高い屈折率を有する膜材を設けていながら、透過率についてもこれを好適に改善することのできる波長板を実現している。
上記のとおり、特許文献2による波長板では、所望の位相差を確保するために、基板よりも高い屈折率を有する膜材を該基板の表面に設けることで高透過率な波長板を実現している。しかし、低屈折率膜をさらに形成するという工程増加し、矩形形状を形成する基板・高屈折率膜・低屈折率膜の3層を考慮した設計をする必要があるとともに、工程管理の面からも煩雑性を伴うことになる。
特開平7−99402号公報 特開2005−099099号公報
本発明は、上述した実情に鑑みてなされたものであり、所望の位相差確保のために高屈折率薄膜を該基板の表面に設けるものの、透過率改善のための低屈折率薄膜等の補助層をさらに用いることなく、所望の位相差及び透過率を好適に確保できる波長板を提供することを目的とする。
かかる目的を達成するために、請求項1記載の発明は、透光性の基板を透過して互いに偏光面を直交する2つの直線偏光に位相差を生じさせる波長板において、前記基板の材料の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率材料からなる高屈折率薄膜が前記基板上に形成され、前記高屈折率薄膜は、微細凹凸構造が一方向に配列された周期構造をサブ波長構造として有することを特徴とする。
上記の微細凹凸構造とは、具体的にはピッチが使用波長(波長板として用いられるときの光の波長)より小さいことを意味する。また、上記の基板は、両面が平行な平行平板ガラスでよいことはもちろんのこと、断面が楔状の平板でもよい。
また、請求項2記載の発明は、請求項1に記載の波長板において、前記微細凹凸構造は、断面三角形状であることを特徴とする。
一般に、光の反射は屈折率の急激な変化により生じる。そのため、屈折の変化を緩やかにすることで、反射率を低下させて透過率を向上させることができるようになる。この点、波長板としての上記三角構造によれば、屈折率がほぼ1である空気中から波長板に入射してくる光は、その断面形状が三角形状であることから屈折率の変化は緩やかになり、ひいては互いに偏光面を直交する2つの直線偏光の透過率を向上させることが可能となる。
なお、基板(ガラス平板等)と高屈折率材料の屈折率差が大きい場合、ここでも反射が起こり、透過率低下が発生してしまう。この場合、反射防止コートがあらかじめ施されたガラス基板上に上記高屈折率材料の薄膜を形成する構成としてもよい。
また、請求項3記載の発明は、請求項1に記載の波長板において、前記微細凹凸構造は、断面台形状であることを特徴とする。
また、請求項4記載の発明は、請求項2又は3に記載の波長板において、前記高屈折率薄膜は、前記微細凹凸構造の陥没部分に前記基板と平行な面を有する平坦部が形成されたことを特徴とする。
また、請求項5記載の発明は、請求項1から4のいずれか1項に記載の波長板において、前記高屈折率薄膜は、波長板に入射する光の波長をλとしたとき、前記微細凹凸構造のピッチ:P/λ及び溝深さ:H/λが条件、(1)0<P/λ<0.4、(2)H/λ>0.5を満たすように設定されて形成されたことを特徴とする。
図20は、屈折率n=1.5の基板上に、図19に示すような、ピッチP/λ=0.32で、ランドとスペースが1:1の比率で形成された矩形状の微細周期構造における、溝深さH/λ(横軸)と0次透過率(縦軸)の関係を示している。
また、図21は、屈折率n=2.3の基板上に、図19に示すような、ピッチP/λ=0.32で、ランドとスペースが1:1の比率で形成された矩形状の微細周期構造における、溝深さH/λ(横軸)と0次透過率(縦軸)の関係を示している。図21では、図20と比べて透過率低下が著しく発生していることがわかる。
詳細は後述するが、請求項5に記した関係を満足することにより、補助層等を設けることなく図20の断面矩形形状の透過率(90%)より高い透過率を得ることが可能となる。
また、請求項6記載の発明は、請求項1から4のいずれか1項に記載の波長板において、前記高屈折率薄膜は、波長板に入射する光の波長をλとしたとき、前記微細凹凸構造のピッチ:P/λ及び溝深さ:H/λが条件、(1)0<P/λ<0.5、(2)1.0<H/λ<1.5を満たすように設定されて形成されたことを特徴とする。
詳細は後述するが、請求項6に記した関係を満足することにより、図20の断面矩形形状の透過率(90%)より高い透過率を得ることが可能となる。
また、請求項7記載の発明は、請求項5又は6に記載の波長板において、前記高屈折率薄膜は、前記基板の表裏両面に形成されたことを特徴とする。
また、請求項8記載の発明は、請求項1から6のいずれか1項に記載の波長板において、前記基板の一方の面に前記高屈折率薄膜が形成され、他方の面に反射防止膜が形成されたことを特徴とする。
また、請求項9記載の発明は、光源からの光束を液晶表示素子に導光し、前記液晶表示素子の表示画像を投射レンズで表示面上に投射する画像投射装置において、前記光源と前記投射レンズの間に、請求項1から8のいずれか1項に記載の波長板が配置されたことを特徴とする。
また、請求項10記載の発明によれば、光源からの光束を光記録媒体へ対物レンズを介して集光照射し、情報の記録又は/及び再生を行う光ピックアップ装置において、前記光源と前記対物レンズの間に、請求項1から8のいずれか1項に記載の波長板が配置されたことを特徴とする。
本発明によれば、所望の位相差確保のため基板よりも高い屈折率を有する高屈折率薄膜を該基板の表面に設けるものの、透過率改善のために低屈折率薄膜等の補助層を用いることなく、所望の位相差及び透過率を好適に確保できる波長板等が実現される。
以下、本発明の実施形態について説明する。実施の形態を、波長板、画像投射装置、光ピックアップ装置の3つに分類し、波長板は実施形態1〜4、画像投射装置は実施形態5〜8、光ピックアップ装置は実施形態9において述べる。
[実施形態1]
図1は、本発明の第1の実施形態の波長板を説明するための図である。図1(a)は本実施形態の波長板の構成を示した斜視図で、該波長板は、平行平板状のガラス平板1(例えば石英基板:屈折率1.5)の両面に薄膜2が形成された構成となっている。薄膜2は屈折率:1.6以上の材料により形成され、その表面形状として「断面三角形状の微細凹凸構造」がサブ波長構造として形成されている。
図1(b)及び図1(c)は、該波長板の薄膜の構造を説明するための図である。また、後述するが、図1(d)及び図1(e)は該波長板の素子構成の変形例を示した図である。微細凹凸構造の凹凸は断面形状が三角形状であり、このような三角形状の凹凸がY軸方向へ均一な断面形状で形成されている。断面三角形状の微細凹凸構造のピッチをP、溝深さをHとする。アスペクト比はH/Pであり、アスペクト比が大きいほどピッチPに対する溝深さHが大きいことになる。アスペクト比は、微細凹凸構造形成の容易さの観点からは小さいほどよい。
よく知られたように、微細凹凸構造がサブ波長構造であると、入射光に対して複屈折性を示す。すなわち、図1(c)に示すように、微細凹凸構造へ空気領域から入射する入射光において、微細凹凸構造の周期方向(図の左右方向)に平行に振動する偏光成分TM、Y軸方向(図面に直交する方向)に平行に振動する偏光成分TEに対し、微細凹凸構造は屈折率が異なる媒質のように作用する。このため、透過光における偏光成分TMに対し、偏光成分TEは位相がδだけ遅れることになる。
つまり、溝深さHを用いると、微細凹凸構造の光学的厚さは、偏光成分TMに対してH×n(TM)、偏光成分TEに対してH×n(TE)であるので、これら光学的厚さの差である、H×{n(TE)−n(TM)}に応じて位相遅れδが生ずる。この位相遅れδがリタデーションである。光学的厚さの差である、H×{n(TE)−n(TM)}をDとし、波長をλとすると、δ=2πD/λである。
薄膜を形成する高屈折率材料としては、基板材料としてよく使われる石英(n=1.5)や、HOYA社製BK7(n=1.5)よりも高屈折率(例えば1.6以上)の材料を選べばよい。TiO、Nb、Ta、ZrO、ITO(SnO+In)等の無機材料や、TiO、ZrO、Sb、ITO、Al等の元素を材料中に結合させたゾル・ゲル材料、さらには、SiOを骨格とするゾル・ゲル材料中に上記無機材料の微粒子(5nm以上100nm以下)を分散させた混合材料、あるいは、光硬化型樹脂や熱硬化型樹脂で屈折率が1.6以上のもの等が利用可能である。上記混合材料は、特性に応じて混合・ブレンドが可能である。光硬化型樹脂や熱硬化型樹脂は、例えば、光透過型接着剤をはじめとする光学特性に優れたものが用いられる。
上記無機材料は、スパッタリングや蒸着等の成膜技術で薄層を形成する。ゾル・ゲル材料や混合材料、光硬化型樹脂や熱硬化型樹脂は、ガラス平板上にスピンコート等で薄層を形成する。無機材料による薄層は、200℃以上の耐熱性があり、高温環境で使用する波長板や光学素子の薄層として適している。
なお、微細凹凸構造は、例えば、薄層の上に電子ビームの走査により潜像の形成されるレジスト層を形成し、このレジストに微細凹凸構造に対応するパターンを電子ビームにより描画して潜像を形成し、これを現像して微細凹凸構造に対応するレジストパターンを得て、このレジストパターンをマスクとしてRIE(反応性イオンエッチング)等のエッチングで薄層を所望の溝深さにエッチングすることによって形成することができる。また、薄層を熱硬化性樹脂で構成した場合は、熱式ナノインプリント方法で形成することもできる。
図2は、本実施形態の波長板の光学特性を示した図で、屈折率n=2.3の薄層に波長λの光を入射させてピッチP/λをパラメータとしたときの、溝深さ:H/λ(横軸)と0次透過率(縦軸)の関係を表したものである。図2(a)は図1(a)のY軸方向に相当するTE方向成分の透過率を示し、図2(b)は図1(a)のY軸方向に相当するTE方向成分の透過率を示す。
図20に示すように、断面矩形形状の透過率(90%)より高い透過率を得るには、ピッチP/λ、溝深さH/λの範囲として、
0<P/λ<0.4
H/λ>0.5
が好適である(図2(a)、図2(b)において破線で囲った範囲A )。
また、図20のように、断面矩形形状の透過率(90%)より高い透過率を得るには、上記の範囲に限定されるものでなく、ピッチ:P/λ、溝深さ:H/λの範囲として、
0<P/λ<0.5
1.0<H/λ<1.5
でもよい(図2(a)、図2(b)において破線で囲った範囲B )。
図3は、本実施形態の波長板の光学特性を示した図で、屈折率n=2.3、ピッチP/λ=0.32のときの、溝深さH/λ(横軸)とリタデーション(縦軸:波長単位)の関係を表したものである。溝深さH/λの増大とともにリタデーションが線形に増加することがわかる。これは、微細凹凸構造の光学的厚さの、偏光成分TM及び偏光成分TEに対する差である、H×{n(TE)−n(TM)}が溝深さHの1次関数であることによる。上記の高透過率を満足する範囲で、所望の位相差が確保できるようにすればよい。例えば、1/4波長板を実現するためには、リタデーションは0.25λとなればよく、そのためには溝深さ:H/λとして0.72を選択すればよい。
さらに、1/2波長板を実現するためには、リタデーションは0.5λとなればよく、1/4波長板の溝深さH/λの2倍を選択すればよいが、他の方法として、図1(d)に示すように、ガラス平板1の両面に高屈折率の薄膜2a及び薄膜2bを形成し、その各面に断面三角形状を形成する構成し、各々1/4波長板相当の溝深さH/λが0.72を選択してもよい。片面のみの構造で1/2波長板を形成する場合に比べ、アスペクトを低減することが可能である。
また、図1(a)のような片面のみで波長板を構成した場合、ガラス平板1のもう一方の平面において、図1(e)のように反射防止膜3を形成してもよい。この場合、反射防止膜3は、例えば従来から知られるような、高屈折率層と低反射率層とを交互に積層した4層構成の反射防止膜等を蒸着してやればよい。これにより、素子としての波長板の透過率が確保できる。なお、図1(d)のような両面構造にした場合は、本工程が不要となるため、高リタデーションの波長板を形成する場合は、両面構造にすることが望ましい。
[実施形態2]
図4は、本発明の第2の実施形態の波長板を説明するための図である。図4(a)は本実施形態の波長板の構成を示した断面図、図4(b)は該波長板の薄膜の構造を説明するための図である。素子構成としては、実施形態1のような断面三角形状が一方向に連続したものに限られるものでなく、図4(a)に示すように、隣り合う三角形の間に一定のスペースを介するものであってもよい。
図5は、本実施形態の波長板の光学特性を示した図で、屈折率n=2.3の薄層上に形成された構成において、波長λの光を入射させピッチP/λをパラメータとしたときの、溝深さH/λ(横軸)と0次透過率(縦軸)、±1次回折光効率(縦軸)の関係を表したものである。なお、図4(b)に示すように、スペースなしで三角形状が連続的に配列した場合を想定し、そのときの三角形高さをH’、実際の三角形の高さをHとしたときに、図5(a)〜(d)はH/H’=1のときの0次透過率や±1次回折効率を示し、図5(e)〜(h)はH/H’=0.9のときの0次透過率や±1次回折効率を示し、図5(i)〜(l)はH/H’=0.8のときの0次透過率や±1次回折効率を示し、図5(m)〜(p)はH/H’=0.7のときの0次透過率や±1次回折効率を示している。
実施形態1でも述べたように、図20に示す断面矩形形状の透過率(90%)より高い透過率を得るピッチP/λ及び溝深さH/λの範囲としては、
0<P/λ<0.4
H/λ>0.5
が好適であるが、上記の範囲に限定されるものでなく、
0<P/λ<0.5
1.0<H/λ<1.5
でもよい。
なお、例えば図5(o)と図5(c)を比較した場合に、H/H’が小さくなればなるほど、溝深さH/λが大きくなっても±1次回折光が残留するため、透過率の観点からはH/H’が大きい方が望ましい。
図6は、本実施形態の波長板の光学特性を示した図で、屈折率n=2.3、ピッチP/λ=0.32のときのH/H’をパラメータとして、溝深さH/λ(横軸)とリタデーション(縦軸:波長単位)との関係を表したものである。溝深さH/λの増大とともにリタデーションが線形に増加する点は実施形態1と同様である。上記の高透過率を満足する範囲で、所望の位相差が確保できるようにすればよいわけだが、H/H’が0.25〜0.75の範囲ではリタデーションは一定であるため、透過率確保の点からH/H‘が大きい方が望ましい。例えば、1/4波長板を実現するためには、リタデーションが0.25λとなればよく、溝深さH/λとして0.63を選択すればよい。
[実施形態3]
図7は、本発明の第3の実施形態の波長板を説明するための図である。図7(a)は本実施形態の波長板の構成を示した断面図、図7(b)は該波長板の薄膜の構造を説明するための図である。素子構成としては、実施形態1のような断面三角形状が一方向に連続したものに限られるものでなく、図7(a)に示すように、断面台形状が一方向に連続したものであってもよい。
図8は、本実施形態の波長板の光学特性を示した図で、屈折率n=2.3の薄層上に形成された構成において、波長λの光を入射させピッチP/λをパラメータとしたときの、溝深さH/λ(横軸)と0次透過率(縦軸)、±1次回折光効率(縦軸)の関係を表したものである。なお、図7(b)に示すように、スペースなしで三角形状が連続的に配列した場合を想定し、そのときの三角形高さをH’、台形の高さをHとしたときに、図8(a)〜(d)はH/H’=1のときの0次透過率や±1次回折効率を示し、図8(e)〜(h)はH/H’=0.9のときの0次透過率や±1次回折効率を示し、図8(i)〜(l)はH/H’=0.8のときの0次透過率や±1次回折効率を示し、図8(m)〜(p)はH/H’=0.7のときの0次透過率や±1次回折効率を示している。
また、図20に示すような、断面矩形形状の透過率(90%)より高い透過率を得るピッチP/λ及び溝深さH/λの範囲については、実施形態1及び2と同様である。
なお、例えば図8(o)と図8(c)を比較した場合に、H/H’が小さくなるほど、溝深さH/λが大きくなっても±1次回折光が残留するため、H/H’は透過率の観点からは大きい方が望ましい。また、実施形態2の場合(図5)と比較すると、±1次回折効率が小さいことから、実施形態2の構造より本実施形態の構造がより望ましいといえる。また、実施形態1及び2が三角形状で凸部先端が鋭く尖った構造をしているのに対し、本実施形態では、先端部がフラットなため接触による破損、事故等の恐れがなくなる。そして、機械的強度が高くなるという意味で工程管理が簡素化できる。
図9は、本実施形態の波長板の光学特性を示した図で、屈折率n=2.3、ピッチP/λ=0.32のときのH/H’をパラメータとして、溝深さH/λ(横軸)とリタデーション(縦軸:波長単位)との関係を表したものである。溝深さH/λの増大とともにリタデーションが線形に増加する点は実施形態1と同様である。上記の高透過率を満足する範囲で、所望の位相差が確保できるようにすればよい。例えば、1/4波長板を実現するためには、リタデーションが0.25λとなればよく、H/H’が0.75の場合は、溝深さH/λとして0.63を選択すればよい。
[実施形態4]
図10は、本発明の第4の実施形態の波長板を説明するための図である。図10(a)は本実施形態の波長板の構成を示した断面図、図10(b)は該波長板の薄膜の構造を説明するための図である。素子構成としては、実施形態1のような断面三角形状が一方向に連続したものに限られるものでなく、図10(a)に示すように、隣り合う台形の間に一定のスペースを介するものであってもよい。
図11は、本実施形態の波長板の光学特性を示した図で、屈折率n=2.3の薄層上に形成された構成において、波長λの光を入射させピッチP/λをパラメータとしたときの、溝深さH/λ(横軸)と0次透過率(縦軸)、±1次回折光効率(縦軸)の関係を表したものである。なお、図10(b)に示すように、スペースなしで三角形状が連続的に配列した場合を想定し、そのときの三角形高さをH’、台形の高さをHとしたときに、図11(a)〜(d)はH/H’=1のときの0次透過率や±1次回折効率を示し、図11(e)〜(h)はH/H’=0.9のときの0次透過率や±1次回折効率を示し、図11(i)〜(l)はH/H’=0.8のときの0次透過率や±1次回折効率を示し、図11(m)〜(p)はH/H’=0.7のときの0次透過率や±1次回折効率を示している。
また、図20に示すような、断面矩形形状の透過率(90%)より高い透過率を得るピッチP/λ及び溝深さH/λの範囲については、実施形態1〜3と同様である。
なお、例えば図11(o)と図11(c)を比較した場合に、H/H’が小さくなるほど、溝深さH/λが大きくなっても±1次回折光が残留するため、H/H’は透過率の観点からは大きい方が望ましい。
図12は、本実施形態の波長板の光学特性を示した図で、屈折率n=2.3、ピッチP/λ=0.32のときのH/H’をパラメータとして、溝深さH/λ(横軸)とリタデーション(縦軸:波長単位)との関係を表したものである。溝深さH/λの増大とともにリタデーションが線形に増加する点は実施形態1と同様である。また、H/H’が増加するほどリタデーションは増える傾向にある。例えば、1/4波長板を実現するためには、リタデーションが0.25λとなればよく、H/H’が0.75の場合は、溝深さH/λとして0.58を選択すればよい。
[実施形態5]
図13は、本発明の実施形態における画像投射装置の構成を示した図である。画像投射装置100は、3原色に対応する各色の映像を個別に形成する3つの液晶表示素子110、111、112と、これら各液晶表示素子から射出した各色の映像光を合成するクロスプリズム113を有し、各液晶表示素子とクロスプリズム113との間の3光路に、先に述べた実施形態における1/2波長板相当の波長板116、117、118を有している。
白色光源101から放射された白色光は、リフレクタ102により反射され、ダイクロイックミラー103に入射する。ダイクロイックミラー103は、青色波長以下の光を透過させ、青色波長より長い波長の光を反射する。したがって、ダイクロイックミラー103に入射する白色光の内、青色成分はダイクロイックミラー103を透過し、緑色成分と赤色成分はダイクロイックミラー103により反射されてダイクロイックミラー104に入射する。
ダイクロイックミラー104は、赤色波長以上の波長の光を透過させ、赤色波長より短い波長の光を反射する。したがって、ダイクロイックミラー104に入射した光のうち、緑色成分はダイクロイックミラー104に反射され、赤色成分はダイクロイックミラー104を透過する。このようにして、ダイクロイックミラー103、104により白色光源101からの白色光が、赤、緑、青の3原色の成分光に色分解される。
ダイクロイックミラー103を透過した青色成分光は、ミラー105により反射され、液晶表示素子110に入射し、ダイクロイックミラー104に反射された緑色成分光は、液晶表示素子111に入射する。また、ダイクロイックミラー104を透過した赤色成分光は、リレーレンズ108、ミラー106、リレーレンズ109、ミラー107により構成される光路を辿って液晶表示素子112に入射する。リレーレンズ108と109とは、赤色成分光の光路長補正を行う。
液晶表示素子110、111、112は、液晶層を1対の偏光子で挟持してなり、液晶層を挟持する1対の偏光子は互いに偏光方向を直交させている。そして、各色成分光は、対応する液晶表示素子の入射側偏光子を透過すると直線偏光となって液晶層に入射する。液晶表示素子110、111、112には、それぞれ、青色画像、緑色画像、赤色画像を表示するように画像信号が印加され、投射すべき映像の画素の位置の液晶層を透過する光は、偏光面が90度旋回し、射出側偏光子と同じ偏光方向になって射出側偏光子を透過する。
このようにして、液晶表示素子110からは、青色画像に応じて2次元的に強度変調された青色成分光(以下、青色映像光という)が射出する。同様に、液晶表示素子111からは、緑色画像に応じて2次元的に強度変調された緑色成分光(以下、緑色映像光という)が射出し、液晶表示素子112からは赤色画像に応じて2次元的に強度変調された赤色成分光(以下、赤色映像光という)が射出する。すなわち、液晶表示素子110、111、112は、3原色(青、緑、青)に対応する映像を個別に形成する。
これら各液晶表示素子から射出した各色映像光は、その偏光方向が図面の面内に平行な方向となっている。そして、液晶表示素子110から射出した青色映像光は波長板116に入射し、液晶表示素子111、112からそれぞれ射出した緑色映像光、赤色映像光は、それぞれ波長板117、118に入射する。
波長板116、117、118は、1/2波長板であって、透過する光の直交2成分に対して1/2波長分の位相差を与える。これら波長板に入射する各色映像光は、上記のように図面に平行な面内に偏光しているため、透過光は、その偏光面が入射時の方向から90度旋回し、図面に直交する方向に偏光した光束となって、それぞれ対応する面からクロスプリズム113に入射する。
クロスプリズム113は、図面に直交する方向からみた断面形状が正方形となる光透過性素材による直方体であり、互いに直交する反射面113a,113bを有している。反射面113aは、青色波長以下の波長の光を反射し、青色波長より長い波長の光を透過するダイクロイックミラーとなっており、反射面113bは、赤色波長以上の波長の光を反射し、赤色波長より短い波長の光を透過するダイクロイックミラーとなっている。
クロスプリズム113に入射する各色映像光のうち、青色映像光は反射面113aに反射され、赤色映像光は反射面113bに反射され、緑色映像光は反射面113a、113bを透過し、いずれも同一の方向となり、色合成されてクロスプリズム113から射出する。射出した光束は、投射レンズ114に入射し、投射レンズ114により表示面であるスクリーン115上に拡大投射されて投射映像を表示する。
さて、ここで反射面113a、113bは、その反射光あるいは透過光の偏光軸について方向性を有する。一般に、一方の偏光方向について、より高透過率を有する。そこで、クロスプリズムへの入射光の偏光方向と反射面の偏光軸の最適化をするため、クロスプリズム前段に1/2波長板を適宜挿入する。なお、図13においては、青、緑、赤のいずれの波長に対しても1/2波長板を挿入した場合を示しているが、入力波長のいずれか1のみについて1/2波長板を挿入する構成であってもよい。
[実施形態6]
図14は、本発明の実施形態における画像投射装置の構成を示した図で、本実施形態は実施形態5の画像投射装置の変形例である。繁雑を避けるため、混同のおそれがないと思われるものについては図13におけると同一の符号を付し、これらについての説明は図13に関する説明を援用する。
本実施形態の画像投射装置は、実施形態5の画像投射装置に対し、白色光源101とダイクロイックミラー103との間に、均一照明手段201(オプチカルインテグレータ)と偏光変換素子202とを付加したものである。
オプチカルインテグレータである均一照明手段201は、液晶表示素子への照射光の光量を略均一にする手段であり、例えばフライアイレンズ、ロッドレンズ、矩形レンズアレイ等からなる公知のものを適宜利用できる。
液晶表示素子110、111、112は、液晶の持つ偏光特性を利用しており、高いコントラストを実現できるが、1対の偏光子で液晶を挟持しているため、実施形態5のように、各液晶表示素子に入射する照射光が自然偏光状態であると、各液晶表示素子の入射側偏光子を透過する際に照明光量の1/2が遮断されてしまうことになり、光の利用効率が悪い。
偏光変換素子202は、白色光源101からの光を有効に使い、スクリーン上の投射映像を明るくするために液晶表示素子へ入射する光の偏光方向を揃えるのに用いられる。また、偏光変換素子202は、光源側からの照明光の偏光状態を、照明光の光強度を略保存しつつ自然偏光状態から直線偏光状態に変換するものである。このようにして直線偏光化された照明光の偏光方向を、液晶表示素子における入射側偏光子の偏光方向と揃えれば、光源側からの照明光の略100%を投射画像の表示に利用することができる。
図15は、本実施形態の画像投射装置における均一照明手段及び偏光変換素子の構成を示した図で、光源101からの白色光束が均一照明手段201により均一化され、偏光変換手段202により偏光状態を変換される状態を説明するための図である。
光源101側からの白色光束は、1対の集光レンズアレイ(フライアイレンズアレイ)を対向配置して構成した公知の均一照明手段201を透過して、偏光変換手段202に入射する。
偏光変換手段202は、光学基体202Aと、波長板部分202Bとを有している。また、図15(a)に示すように、光学基体202Aの部分は、照明光の光軸に対して45度傾いた偏光分離面2021と反射面2022とを有する。
偏光分離面2021は、入射光を偏光面が互いに直交する反射光S(以下、S成分という)と透過光P(以下、P成分という)に分割する。反射面2022は、S成分を反射してP成分の進行方向と略同一方向に向ける。
また、偏光分離面2021と反射面2022の組み合わせを1ユニットとし、このようなユニットの複数ユニットが照明光の透過領域に渡って設けられ、いわゆる偏光プリズムレンズアレイをなし、アレイを構成する個々の偏光プリズムごとに、透過する照明光をS成分とP成分に分ける。
波長板部分202Bは、光学基体202Aから射出するS成分の偏光面を90度旋回させ、P成分の偏光方向に揃える。このようにして、偏光方向が揃った直線偏光の照明光が得られる。この照明光の偏光方向は、もちろん、各液晶表示素子の入射側偏光子の偏光方向と同じである。
図15(b)に示すように、波長板部分202Bは、ガラス平板202B1の片面に形成された屈折率1.6以上の材料による薄層202B2の表面に、断面矩形波状の微細凹凸構造2021B、2022B、2023B等がサブ波長構造として形成され、各微細凹凸構造2021B等は、1/2波長板としての機能を付与されている。
ガラス平板202B1は、光学基体202Aの、方向の揃った照明光が射出する側の面に一体化され、微細凹凸構造2021B等は、S成分が射出する部分に形成されている。なお、波長板部分202Bと光学基体202Aとの接合は、薄層202B2を光学基体202Aの側としてもよく、このようにすると、微細凹凸構造をガラス平板202B1により良好に保護することができる。また、ガラス平板202B1を用いずに、薄層202B2を光学基体202Aに直接形成してもよい。
[実施形態7]
図16は、本発明の実施形態における画像投射装置の構成を示した図で、本実施形態は実施形態5の画像投射装置の変形例である。本実施形態の画像投射装置は、単板式の液晶画像投射装置であり、図16に示すように、白色光を出射可能な照明装置300と、出射された白色光を変調してカラー画像を形成する液晶表示素子308と、カラー画像を投射する投射レンズ309と、から概略構成されている。
照明装置300は、白色光を出射するLEDチップ301と、LEDチップ301を載置する基板302と、LEDチップ301の出射光の照度分布を均一化するロッドレンズ303と、から概略構成されている。
また、ロッドレンズ303の光出射側端面303bには、先述した実施形態の1/4波長板306、偏光板307aが配置されている。そして、液晶表示装置308の光入射面には、白色光をRGBの各色光に変換するカラーフィルタ308aが配置され、液晶表示装置308の光出射面には、偏光板307が配置されている。
照明装置300は、LEDチップ301に電力が供給されると、LEDチップ301から白色光が出射される。白色光は、充填材304aを伝搬してロッドレンズ303との境界面である凹部304の面に入射する。充填材304aは、ロッドレンズ303よりも屈折率が高いため、白色光は、上記境界面において屈折してロッドレンズ303内に伝搬する。
ロッドレンズ303内を伝搬する白色光は、ロッドレンズ303内で全反射を繰り返すことによりその照度分布を均一化され、光出射側端面303bから出射される。照度分布を均一化された白色光は1/4波長板306に入射するが、LEDチップ301から出射された白色光はランダム偏光であるため、1/4波長板306を透過してもランダム偏光のまま出射される。
そして、白色光は偏光板307aに入射し、p偏光(一方の偏光)はそのまま反射型偏光分離層を透過して液晶表示装置308に向けて出射され、s偏光(他方の偏光)は偏光板307aにより反射される。反射されたs偏光は、1/4波長板306に再入射し、例えば右回りの円偏光に変換されてロッドレンズ303に向けて出射される。
ロッドレンズ303内を伝搬した右回りの円偏光は、ロッドレンズのLED側端面303aに形成された反射層305に入射し、再び偏光板307aに向けて反射される。また、反射層305に反射された際に、右回りの円偏光は左回りの円偏光に変換される。
左回りの円偏光は、ロッドレンズ303を伝搬して1/4波長板306に入射し、p偏光に変換される。p偏光は偏光板307aを透過することができるので、そのまま透過し、液晶表示装置308に向けて出射される。
このようにして、照明装置300から出射された白色光のp偏光は、液晶表示装置308全面に均一な照度分布で入射される。液晶表示装置308に入射される白色光は、まず、カラーフィルタ308aによりRGBの各色光に変換され、その後液晶表示装置308により変調されカラー画像が形成される。合成されたカラー画像は、次に投射レンズ309によってスクリーン310に投射される。
上記によれば、白色光を出射するLEDチップ301を備えた1つの照明装置300、及びカラーフィルタ308aを備えた1つの液晶表示装置308を備えた単板式画像投射装置の構成により、画像投射装置の小型軽量化及び低価格化を図ることができる。
なお、本実施形態では、白色光を出射するLEDチップ301を用いて説明したが、それぞれRGBの色光を出射するLEDチップを配置してもよい。また、LEDチップ301の代わりにそれぞれRGBの色光を出射するLEDチップを配置した場合、本実施形態のようにカラーフィルタ308aを用いて、LEDチップ301を同時に連続発光させてもよいが、カラーフィルタ308aを用いずにRGBのLEDチップ301を交番発光させてもよい。この場合、カラーフィルタ308aを用いる必要がなくなるため、画像投射装置のさらなる低価格化を図ることができる。
[実施形態8]
図17は、本発明の実施形態における画像投射装置の構成を示した図で、本実施形態は実施形態5の画像投射装置の変形例である。画像投射装置は、上述した透過型の液晶表示素子を用いたものに限定されるものではなく、例えば、反射型液晶表示素子を用いたものでもよい。
本実施形態の画像投射装置は、白色光を発光し得るLED410から出射される白色光の照度を均一化するためのロッドレンズ411と、ロッドレンズ411から入射される光の偏光変換を行うために配置された前記実施形態の1/4波長板412と、偏光子413とが順次設けられている。
LED410からの白色光は、偏光ビームスプリッタ(PBS)414に入射される。PBS414に入射された光は、その接合面でS波成分のみが反射し、反射型液晶表示素子415に入射される。
反射型液晶表示素子415は、入射光を映像信号に応じて空間変調するとともに、入射光の偏光面に直交する偏光面成分に変換して反射するものであり、本実施形態においては、高速スイッチングが可能なLCOS(Liquid Crystal On Silicon)素子が用いられる。
そして、映像信号に基づいて変調されるとともにP偏光に変換された反射光は、S偏光反射面を透過して投射レンズ416に入射する。このようにして、映像情報を与えられた光は、投射レンズ416を介してスクリーン417上に拡大投射される。
[実施形態9]
図18は、本発明の実施形態における光ピックアップ装置の構成を示した図である。先述した実施形態の波長板は、画像投射装置以外の光学モジュールとして用いてもよく、例えば光ピックアップ装置に用いることも可能である。
光ピックアップ装置501は、光源502、回折格子503、偏光ビームスプリッタ504、1/4波長板505、コリメータレンズ506、対物レンズ507、光記録媒体509、シリンドカルレンズ510、及びフォトディテクタ511とを有している。
また、光ピックアップ装置501は、レーザダイオード等の光源502から出射した光を、それぞれ別体に配設された回折格子503、偏光ビームスプリッタ504、1/4波長板505、コリメータレンズ506、及び対物レンズ507を順次透過させて光記録媒体509に照射し、その反射光を、前記対物レンズ507、前記1/4波長板505を透過させた後、前記偏光ビームスプリッタ504において透過方向に対し直交する方向に反射させるように構成されている。
なお、偏光ビームスプリッタ504において光が反射するのは、光の偏光が1/4波長板505を2回透過する際に変化したためである。例えば、光源502の光がs偏光であれば、1/4波長板505を2回透過した光はp偏光となる。
そして、偏光ビームスプリッタ504において反射した光は、シリンドカルレンズ510によって集光された後に、フォトディテクタ511によって受光されて、読み出しデータ等として用いられるようになっている。
上述した実施形態によれば、ガラス平板の材料の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率材料による高屈折率薄膜がガラス平板上に形成され、該薄膜は、断面三角形状の微細凹凸構造が一方向に配列された周期構造をサブ波長構造として有するため、低屈折率層等の補助層を設けずに、所望の位相差及び透過率を好適に確保することができる。
また、上述した実施形態によれば、ガラス平板の材料の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率材料による高屈折率薄膜がガラス平板上に形成され、該薄膜は、微細凹凸構造の陥没部分に前記ガラス平板と平行な面を有する平坦部が形成されているため、低屈折率層等の補助層を設けずに、所望の位相差及び透過率を好適に確保することができる。
また、上述した実施形態によれば、基板の材料の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率材料による高屈折率薄膜がガラス平板上に形成され、該薄膜は、断面台形状の微細凹凸構造が一方向に配列された周期構造をサブ波長構造として有するため、低屈折率層等の補助層を設けずに、所望の位相差及び透過率を好適に確保することができる。また、三角形状の先端部をフラットにしているため、接触に対する強度も向上する。したがって、製造が容易で機械的強度の高い反射防止構造を有する光学素子が実現される。
また、上述した実施形態によれば、ガラス平板の材料の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率材料による高屈折率薄膜がガラス平板上に形成され、該薄膜は、微細凹凸構造の陥没部分に前記ガラス平板と平行な面を有する平坦部が形成されているため、低屈折率層等の補助層を設けずに、所望の位相差及び透過率を好適に確保することができる。また、三角形状の先端部をフラットにしているため、接触に対する強度も向上する。したがって、製造が容易で機械的強度の高い反射防止構造を有する光学素子が実現される。
また、上述した実施形態によれば、波長板に入射する光の波長をλとしたとき、高屈折率薄膜は、微細凹凸構造のピッチ:P/λ及び溝深さ:H/λの範囲が、条件(1)0<P/λ<0.4、(2)H/λ>0.5を満たすように設定されて形成されているため、高い透過率を確保することができる。
また、上述した実施形態によれば、波長板に入射する光の波長をλとしたとき、高屈折率薄膜は、微細凹凸構造のピッチ:P/λ及び溝深さ:H/λの範囲が、条件(1)0<P/λ<0.5、(2)1.0<H/λ<1.5を満たすように設定されて形成されているため、高い透過率を確保することができる。
また、上述した実施形態によれば、微細凹凸構造を有する高屈折率薄膜がガラス平板の表裏両面に形成されているため、構造の低アスペクト化が可能となる。
また、上述した実施形態によれば、微細凹凸構造を有する高屈折率薄膜がガラス平板の一方の面に形成され、また該薄膜が形成された裏面には反射防止膜が形成されているため、波長板としての透過率ロスをさらに低減することが可能である。
また、上述した実施形態によれば、光源からの光束を液晶表示素子に導光し、該液晶表示素子の表示画像を投射レンズで表示面上に投射する画像投射装置において、光源と投射レンズの間に本発明が適用される波長板が搭載されているので、光学機器の低コスト化を図り、透過率特性及びリタデーション特性を確保することが可能となる。
また、上述した実施形態によれば、光源からの光束を光記録媒体へ対物レンズを介して集光照射し情報の記録再生を行う光ピックアップ装置において、光源と対物レンズの間に本発明が適用される波長板が搭載されているので、光学機器の低コスト化、透過率特性及びリタデーション特性を確保することが可能である。
なお、上述する実施形態は、本発明の好適な実施形態であり、上記実施形態のみに本発明の範囲を限定するものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更を施した形態での実施が可能である。
本発明の実施形態に係る波長板を説明するための図である。 本発明の本実施形態に係る波長板の光学特性を示した図である。 本発明の本実施形態に係る波長板の光学特性を示した図である。 本発明の実施形態に係る波長板を説明するための図である。 本発明の本実施形態に係る波長板の光学特性を示した図である。 本発明の本実施形態に係る波長板の光学特性を示した図である。 本発明の実施形態に係る波長板を説明するための図である。 本発明の本実施形態に係る波長板の光学特性を示した図である。 本発明の本実施形態に係る波長板の光学特性を示した図である。 本発明の実施形態に係る波長板を説明するための図である。 本発明の本実施形態に係る波長板の光学特性を示した図である。 本発明の本実施形態に係る波長板の光学特性を示した図である。 本発明の実施形態に係る画像投射装置の構成を示した図である。 本発明の実施形態に係る画像投射装置の構成を示した図である。 本発明の実施形態に係る画像投射装置における均一照明手段及び偏光変換素子の構成を示した図である。 本発明の実施形態に係る画像投射装置の構成を示した図である。 本発明の実施形態に係る画像投射装置の構成を示した図である。 本発明の実施形態に係る光ピックアップ装置の構成を示した図である。 従来の波長板における微細周期構造を説明するための図である。 従来の波長板の光学特性を示した図である。 従来の波長板の光学特性を示した図である。
符号の説明
1 ガラス平板
2,2a,2b 薄膜
3 反射防止膜
100 画像投射装置
101 白色光源
102 リフレクタ
103,104 ダイクロイックミラー
105,106,107 ミラー
108,109 リレーレンズ
110,111,112,308 液晶表示素子
113 クロスプリズム
113a,113b 反射面
114 投射レンズ
115 スクリーン
116,117,118 波長板
201 均一照明手段
202 偏光変換素子
202A 光学基体
202B 波長板部分
202B1 ガラス平板
202B2 薄層
2021B,2022B,2023B 微細凹凸構造
301,410 LEDチップ(LED)
302 基板
303,411 ロッドレンズ
303a LED側面
303b 光出射側端面
304 凹部
304a 充填剤
305 反射層
306,412,505 1/4波長板
307,307a 偏光板
308a カラーフィルタ
309,416 投射レンズ
310,417 スクリーン
413 偏光子
414,504 偏光ビームスプリッタ(PBS)
415 反射型液晶表示素子
501 光ピックアップ装置
502 光源
503 回折格子
506 コリメータレンズ
507 対物レンズ
509 光記録媒体
510 シリンドカルレンズ
511 フォトディテクタ

Claims (10)

  1. 透光性の基板を透過して互いに偏光面を直交する2つの直線偏光に位相差を生じさせる波長板において、
    前記基板の材料の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率材料からなる高屈折率薄膜が前記基板上に形成され、
    前記高屈折率薄膜は、微細凹凸構造が一方向に配列された周期構造をサブ波長構造として有することを特徴とする波長板。
  2. 前記微細凹凸構造は、断面三角形状であることを特徴とする請求項1に記載の波長板。
  3. 前記微細凹凸構造は、断面台形状であることを特徴とする請求項1に記載の波長板。
  4. 前記高屈折率薄膜は、前記微細凹凸構造の陥没部分に前記基板と平行な面を有する平坦部が形成されたことを特徴とする請求項2又は3に記載の波長板。
  5. 前記高屈折率薄膜は、波長板に入射する光の波長をλとしたとき、前記微細凹凸構造のピッチ:P/λ及び溝深さ:H/λが条件
    (1)0<P/λ<0.4
    (2)H/λ>0.5
    を満たすように設定されて形成されたことを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の波長板。
  6. 前記高屈折率薄膜は、波長板に入射する光の波長をλとしたとき、前記微細凹凸構造のピッチ:P/λ及び溝深さ:H/λが条件
    (1)0<P/λ<0.5
    (2)1.0<H/λ<1.5
    を満たすように設定されて形成されたことを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の波長板。
  7. 前記高屈折率薄膜は、前記基板の表裏両面に形成されたことを特徴とする請求項5又は6に記載の波長板。
  8. 前記基板の一方の面に前記高屈折率薄膜が形成され、他方の面に反射防止膜が形成されたことを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載の波長板。
  9. 光源からの光束を液晶表示素子に導光し、前記液晶表示素子の表示画像を投射レンズで表示面上に投射する画像投射装置において、
    前記光源と前記投射レンズの間に、請求項1から8のいずれか1項に記載の波長板が配置されたことを特徴とする画像投射装置。
  10. 光源からの光束を光記録媒体へ対物レンズを介して集光照射し、情報の記録又は/及び再生を行う光ピックアップ装置において、
    前記光源と前記対物レンズの間に、請求項1から8のいずれか1項に記載の波長板が配置されたことを特徴とする光ピックアップ装置。
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